JPH10230381A

JPH10230381A - 加工装置

Info

Publication number: JPH10230381A
Application number: JP9037405A
Authority: JP
Inventors: Tatsuhiro Tsuda; 樹宏津田
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-02-21
Filing date: 1997-02-21
Publication date: 1998-09-02

Abstract

(57)【要約】【課題】加工装置の合焦処理を迅速に実行する。【解決手段】照明光源７ａから射出された照明光は、
合焦用のスリット７ｃと方向判別用のスリット４０とを
介して、投影レンズ７ｄに入射され、所定の倍率で被加
工物３上に投影される。被加工物３上に投影された照明
光は、加工面により反射されて、受光レンズ８ａに入射
され、所定の倍率で受光スリット板８ｂに投影される。
受光スリット板８ｂに投影された反射光は、スリット４
２とスリット８ｃを透過して、方向判別センサ４３と合
焦センサ８ｋに入射される。方向判別センサ４３からの
出力がない場合には、Ｚステージ５を下方に移動させ、
また、方向判別センサ４３から所定の出力がなされてい
る場合には、Ｚステージ５を上方に移動させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、加工装置に関し、
特に、ステージ上に載置された被加工物に対して対物レ
ンズを介して光ビームを照射し、加工を行う加工装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】ステージ上に載置された被加工物に対し
て対物レンズを介して光ビームを照射し、加工を行う加
工装置においては、対物レンズが被加工物の被加工面に
正確にビームを合焦するように制御する必要がある。

【０００３】図１０は、従来の加工装置の構成例を示す
図である。

【０００４】この図において、加工光学系１は、例え
ば、紫外線レーザなどを射出するとともに、ビームの形
状および強度分布が所望の特性となるように調節する。
対物レンズ２は、加工光学系１から射出されたレーザビ
ームを、被加工物３の所定の領域に収束させるようにな
されている。

【０００５】ホルダ４は、被加工物３を把持するように
なされている。Ｚステージ５は、被加工物３を対物レン
ズ２の光軸に平行な方向に移動させるようになされてい
る。また、ＸＹステージ６は、光軸に対して垂直な面内
において被加工物３を移動させるようになされている。

【０００６】オートフォーカス系９は、対物レンズ２を
挟んで配置されており、スリット投影光学系７および受
光光学系８により構成されている。

【０００７】スリット投影光学系７は、例えば、発光ダ
イオードなどが内蔵されている照明光源７ａ、略四角形
のスリット７ｃが形成されている合焦投影スリット板７
ｂ、および、投影レンズ７ｄにより構成されている。

【０００８】受光光学系８は、被加工物３からの反射光
を入射する受光レンズ８ａ、合焦用スリット８ｃと方向
判別スリット８ｄ，８ｅが形成されている受光スリット
板８ｂ、方向判別スリット８ｄ，８ｅを透過した光を入
射する方向判別センサ８ｇ，８ｈ、および、合焦用スリ
ット８ｃを透過した光を入射する合焦センサ８ｋにより
構成されている。なお、合焦用スリット８ｃは、方向判
別スリット８ｄ，８ｅに比較して、その短軸方向の長さ
（即ち、スリットの幅）が短くなるように形成されてい
るが、これは、スリットの幅が狭い程、合焦点を検出す
る精度が向上するためである。一方、方向判別スリット
８ｄ，８ｅの場合では、加工面がどちらの方向（上また
は下の何れかの方向）にずれているのかを検出すればよ
いだけであり、また、その検出の対象となる範囲が広い
程都合がよいので、方向判別センサ８ｇ，８ｈに合わせ
て大きさが決定されている。

【０００９】次に、この例の動作について説明する。

【００１０】照明光源７ａから照射された照明光の一部
は、合焦投影スリット板７ｂに形成されているスリット
（光透過部）７ｃを透過して、投影レンズ７ｄに入射さ
れる。投影レンズ７ｄは、スリット７ｃを透過した照明
光を、被加工物３の対物レンズ２の直下の領域に所定の
倍率で投影する。

【００１１】対物レンズ７ｄより投影された照明光は、
被加工物３の加工面で反射され、受光レンズ８ａに入射
される。受光レンズ８ａは、被加工物３の加工面により
反射された照明光を入射し、受光スリット板８ｂ上に結
像する。

【００１２】いま、図１１に示すように、被加工物３の
加工面が対物レンズ２の合焦位置と一致している場合に
は、被加工物３により反射された光は、受光レンズ８ａ
を介して受光スリット板８ｂの合焦用スリット８ｃ（中
央部のスリット）を透過し、合焦センサ８ｋに入射され
る。

【００１３】また、図１１に示すように、被加工物３の
加工面が対物レンズ２の合焦位置よりも下にある場合に
は、被加工物３により反射された光は、受光レンズ８ａ
を介して受光スリット板８ｂの方向判別スリット８ｅ
（上部のスリット）を透過し、方向判別センサ８ｈに入
射される。方向判別センサ８ｈは、単一の受光素子によ
り構成されているので、照明光がその受光面の何れかの
部分に入射された場合には所定の検出信号を出力する。
図１２は、以上の場合（加工面が対物レンズ２の合焦位
置よりも下にある場合）において、被加工物３により反
射されたビームが受光スリット板８ｂに入射されたとき
の様子を示している。即ち、被加工物３の加工面が合焦
位置よりも下にある場合、反射ビーム２０は、受光スリ
ット板８ｂの上部に形成されている方向判別スリット８
ｅに入射され、方向判別センサ８ｈにより受光されるこ
とになる。

【００１４】更に、被加工物３の加工面が対物レンズ２
の合焦位置より上にある場合には、被加工物３により反
射された光は、受光レンズ８ａを透過した後、受光スリ
ット板８ｂの方向判別スリット８ｄを透過して方向判別
センサ８ｇに入射される。方向判別センサ８ｇも単一の
受光素子より構成されているので、照明光がその受光面
の一部に入射された場合には所定の信号を出力する。

【００１５】従って、被加工物３がホルダ４上に載置さ
れた場合には、照明光源７ａから照明光を照射し、方向
判別センサ８ｇ，８ｈからの出力を参照して、被加工物
３の加工面の合焦位置からのずれ方向（上または下方
向）を検出し、検出結果に応じてＺステージ５を移動さ
せ、加工面を合焦位置に移動させる処理が実行される。
即ち、方向判別センサ８ｇから信号が出力されている場
合には、Ｚステージ５を下方向（対物レンズ２より離れ
る方向）に移動させ、また、方向判別センサ８ｈから信
号が出力されている場合には、Ｚステージ５を上方向
（対物レンズ２に近づく方向）に移動させるようにす
る。

【００１６】そして、合焦センサ８ｋから信号が出力さ
れた場合には、被加工物３の加工面が合焦位置にあると
してＺステージ５の移動動作を完了する。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１０
に示すように、方向判別センサ８ｇ，８ｈの受光面の周
辺部分には、光を感知することができない不感帯８ｉ，
８ｊが存在しているため、合焦用スリット８ｃと方向判
別スリット８ｄ，８ｅとの間には、スリット像を感知す
ることができない領域が存在することになる。従って、
そのような領域（不感帯）内に、スリット像が結像され
た場合には、被加工物３の位置を検出することができな
くなる。

【００１８】図１３は、Ｚステージ５を移動させること
により、被加工物３を対物レンズ２に最も接近した位置
から最も遠ざかった位置まで移動させた場合における、
合焦センサ８ｋおよび方向判別センサ８ｇ，８ｈからの
出力信号を示した図である。

【００１９】被加工物３が対物レンズ２に最も接近した
状態では、被加工物３の加工面で反射された光は、方向
判別センサ８ｇに入射されることになる。従って、図１
３（Ｂ）に示すような信号が方向判別センサ８から出力
される。

【００２０】そして、Ｚステージ５の下降に伴って、被
加工物３が対物レンズ２から遠ざかるに従って、方向判
別センサ８ｇの出力が減衰し、その後、反射光が全て不
感帯８ｉに入射されるようになると、図１３の領域ａに
示すように、３つのセンサの出力が全て０の状態とな
る。そして、Ｚステージ５が更に移動されて、反射光が
合焦用スリット８ｃに入力されるようになると、図１３
（Ａ）に示すように、合焦用センサ８ｋからの出力が生
ずる。

【００２１】Ｚステージ５が更に移動されると、図１３
の領域ｂに示すように、３つのセンサの出力が全て０の
状態となる。そして、Ｚステージが更に下方に移動され
ると、方向判別センサ８ｈからの出力が発生する。

【００２２】以上に示すように、従来の構成において
は、図１３の領域ａ，ｂに示すような、３つのセンサの
出力が全て０の状態となる位置（Ｚステージ５の位置）
が存在するため、Ｚステージ５がこの位置にある場合に
は、例えば、３つのセンサの何れかが出力を生ずるまで
Ｚステージ５を上または下方向に移動させることによ
り、現在位置を検出するようになされていた。

【００２３】従って、不感帯８ｉ，８ｊに対して反射光
が入射されている場合には、処理のステップ数が増加す
るため、対物レンズ２を被加工面に合焦させるための処
理に時間がかかるという課題があった。

【００２４】また、合焦位置の検出精度を向上させるた
めには、被加工物３上に投影される合焦スリット像１０
の幅はできるだけ狭くするほうが望ましい。そこで、合
焦スリット像１０の幅を狭くすると（合焦投影スリット
板７ｂのスリット７ｃの幅を狭くすると）、合焦スリッ
ト像１０の幅に対する不感帯８ｉ，８ｊの相対的な幅が
広くなるため、図１３に示す領域ａ，ｂが更に広くな
り、その結果、前述の場合と同様の理由により、合焦処
理に時間がかかるという課題があった。

【００２５】本発明は、以上のような状況に鑑みてなさ
れたものであり、対物レンズを有する加工装置の合焦処
理を迅速に行うことを可能とするものである。

【００２６】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の加工装
置は、ステージに対して斜め横方向から光を照射する光
照射手段と、光照射手段から射出された光ビームが所定
の断面形状となるように成形する成形手段と、成形手段
を介してステージ上の被加工物に照射され、被加工物の
加工面により反射された光を受光する第１および第２の
受光手段と、第１の受光手段からの出力を参照して、対
物レンズが被加工物の被加工面に合焦しているか否かを
検出する第１の検出手段と、第２の受光手段からの出力
を参照して、被加面が合焦位置からどちらの方向にずれ
ているかを検出する第２の検出手段とを備え、ステージ
を対物レンズの光軸に平行な方向に移動させた場合に、
第１および第２の受光手段の双方に対して光ビームの一
部が同時に入射される領域が少なくとも１カ所存在する
ことを特徴とする。

【００２７】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の加工装置の一実
施の形態の構成例を示す図である。この図において、図
１０と対応する部分には同一の符号が付してあるので、
その説明は適宜省略する。

【００２８】この実施の形態においては、図１０の場合
と比較して、合焦投影スリット板７ｂ（成形手段）に、
方向判別センサ用のスリット４０が新たに形成されてい
る。また、受光スリット板８ｂには方向判別スリット４
２（第２の受光手段）が新たに追加されるとともに、方
向判別スリット８ｄ，８ｅが除外されている。更に、方
向判別スリット４２の後方には、方向判別センサ４３
（第２の検出手段）が配置されている。なお、その他の
構成は図１０の場合と同様である。

【００２９】次に、この実施の形態の動作について説明
する。

【００３０】ホルダ４上に被加工物３が載置されると処
理が開始される。即ち、スリット投影光学系７の、照明
光源７ａ（光照射手段）は、内蔵されている発光ダイオ
ードを点灯させ、照明光を合焦投影スリット板７ｂに入
射する。合焦投影スリット板７ｂに入射された照明光の
一部は、スリット７ｃを透過して、投影レンズ７ｄに入
射される。また、他の一部は、方向判別センサ用のスリ
ット４０を透過して、投影レンズ７ｄに入射される。

【００３１】投影レンズ７ｄは、入射された光を被加工
物３の加工面に所定の倍率で投影する。その結果、被加
工物３の加工面には、合焦スリット像１０と方向判別用
のスリット像４１の２つが投影される。そして、これら
の投影像からの反射光は、受光レンズ８ａに入射され、
所定の倍率で受光スリット板８ｂに投影される。

【００３２】受光レンズ８ａより投影された光のうち、
合焦用スリット８ｃ（第１の受光手段）を透過した光
は、合焦センサ８ｋ（第１の検出手段）に入射され、一
方、方向判別スリット４２を透過した光は、方向判別セ
ンサ４３に入射される。

【００３３】いま、図２に示すように、被加工物３の加
工面が合焦位置よりも低い位置にある場合、被加工物３
の加工面で反射された照明光は、方向判別センサ４３の
みに入力される。即ち、反射ビーム５０は、受光スリッ
ト板８ｂの遮光部に入射され、また、反射ビーム５１は
方向判別スリット４２に入射される。従って、その場合
（方向判別センサ４３のみが出力を生じている場合）
は、合焦用スリット８ｃを透過した光が合焦センサ８ｋ
に入射されるまで、Ｚステージ４を上方に移動させる。

【００３４】また、図２に示すように、被加工物３の加
工面が合焦位置よりも高い位置にある場合には、受光レ
ンズ８ａを透過した光は、方向判別センサ４３と合焦セ
ンサ８ｋの何れにも入射されない状態となる。従って、
そのような場合（方向判別センサ４３と合焦センサ８ｋ
の双方が出力を生じていない場合）には、被加工物３が
合焦位置よりも上側にあると判定して、これら２つのセ
ンサの何れかが出力を生ずるまでＺステージ５を下方向
に移動させる。

【００３５】以上のような制御の結果、図４に示すよう
に、反射ビーム５０は合焦用スリット８ｃに入射され、
また、反射ビーム５１は方向判別スリット４２に入射さ
れた状態となる。

【００３６】図５は以上のような構成において、Ｚステ
ージ５を対物レンズ２に最も遠い位置から最も近い位置
まで移動させた場合に、合焦センサ８ｋと方向判別セン
サ４３から出力される信号を示す図である。

【００３７】この図に示すように、Ｚステージ５が対物
レンズ２から最も遠い位置にある場合には、方向判別セ
ンサ４３のみから出力がなされる（図３に示す状態）。
そして、Ｚステージ５が対物レンズ２に接近する方向に
移動されると、方向判別センサ４３の出力は徐々に減衰
する一方で、合焦センサ８ｋの出力が増加する。そし
て、被加工物３の加工面が合焦位置と一致すると合焦セ
ンサ８ｋの出力がピークを迎えることになる。Ｚステー
ジ５が更に移動されると、図４に示す状態（合焦状態）
から、反射ビーム５０，５１が下方に移動されるので、
合焦センサ８ｋと方向判別センサ４３の出力の双方が０
の状態となる。

【００３８】従って、図１３に示す従来例に示す不感帯
に対応する領域ａ，ｂが無くなるので、不感帯に対する
処理を省略することができ、その結果、合焦処理の速度
を向上させることが可能となる。

【００３９】なお、図５において、方向判別センサ４３
と合焦センサ８ｋの双方が出力を生じる領域ｃの距離
は、合焦センサ８ｋが出力を生じる領域ｄの距離の１／
４程度に設定されているが、この距離ｃは、点ｐを越え
ない（点ｐより右側に行かない）範囲で任意に設定する
ことが可能である。

【００４０】図６は、図１に示す合焦投影スリット板７
ｂの他の構成の一例を示す図である。この実施の形態で
は、１つのスリット６０のみが合焦投影スリット板７ｂ
に形成されている。即ち、図１の実施の形態では、合焦
センサ用のスリット７ｃと、方向判別センサ用のスリッ
ト４０とが別々の構成とされていたが、この実施の形態
では、これらが１つづきの構成とされている。

【００４１】このような構成によれば、合焦投影スリッ
ト板７ｂに対して２つのスリットを形成する必要がなく
なるので、合焦投影スリット板７ｂの加工を簡略化する
ことが可能となる。なお、このように合焦用と方向判別
センサ用のスリットを１つにまとめた場合においても、
被加工物３からの反射光は、合焦用スリット８ｃと方向
判別スリット４２にそれぞれ入力されるので、前述の場
合と同様に合焦処理を実行することが可能となる。

【００４２】続いて、図７は、図１に示す合焦投影スリ
ット板７ｂの更に他の構成例を示す図である。この例で
は、合焦投影スリット板７ｂの中央部に合焦用のスリッ
ト７０が形成されており、また、合焦用のスリット７０
の左側には方向判別用のスリット７１が形成されてい
る。

【００４３】ところで、被加工物３の加工面には、数乃
至数百ミクロンオーダーの凹凸がある場合が多いので、
図１に示すように細長い（または、面積の広い）合焦用
のスリット７ｃを使用した場合には、加工面上の合焦の
対象となる領域（合焦スリット像１０が射影されている
領域）の高さが必ずしも一定とはならないことになる。
そのような場合には、合焦位置が一カ所に定まりにくい
ため、合焦処理が困難となる。従って、合焦用スリット
７ｃの面積はできるだけ小さく設定することが望まし
い。一方、方向判別用のスリット４０の場合では、被加
工物３のずれの方向のみを検出すればよく、また、その
出力信号はできる限り大きい方がノイズに対する耐性が
向上する。

【００４４】従って、図７の実施の形態では、合焦用の
スリット７０を、加工用のレーザビームとほぼ同じ大き
さの小さな円形形状としてある。また、方向判別用のス
リット７１も同様に円形であるが、合焦用のスリット７
０に比べて大きな円としてある。

【００４５】このような構成によれば、加工用のレーザ
ビームが照射される領域（即ちレーザビームと同一の大
きさの領域）の加工面の高さが検出されることになるの
で、加工面に凹凸がある場合においても、被加工物３の
加工面の高さを正確に制御することが可能となる。ま
た、図１の場合に比較して、大きな位置判別用のスリッ
ト７１を設けたので、方向判別センサ４３の出力を増加
させることができ、その結果、ノイズに対しても安定な
制御を行うことが可能となる。

【００４６】更に、以上のような構成では、２つのスリ
ット間の距離を大きく設定することが可能となるので、
例えば、方向判別用のスリット７１を透過した光が加工
面の凹凸により乱反射され、合焦用スリット８ｃを透過
して合焦センサ８ｋに入射されることを防止できるので
（換言すれば、それぞれのスリットを透過した光が相互
に干渉することを防止できるので）、合焦処理の精度を
更に向上させることが可能となる。

【００４７】なお、図６の構成例では、幅が一定のスリ
ット６を設けたが、方向判別センサ４３に対応する部分
のみ大きな円形の孔を設け、例えば、鍵穴型のスリット
としてもよい。

【００４８】また、合焦投影スリット板７ｂおよび受光
スリット板８ｂを透明な部材（例えばガラス板）などで
形成し、スリット以外の部分には不透明な塗料などを塗
布するようにしてもよい。

【００４９】図８は、本発明の加工装置の更に他の構成
例を示す図である。この図において、図１の場合と対応
する部分には同一の符号を付してあるので、その説明は
適宜省略する。

【００５０】この実施の形態では、図１の場合と比較し
て、合焦投影スリット板７ｂに方向判別用のスリット９
０が新たに形成されている。また、受光スリット板８ｂ
には、スリット９０に対応する方向判別用スリット９２
（第３の受光手段）が新たに形成されており、その背後
には方向判別センサ９３（第３の検出手段）が追加され
ている。その他の構成は、図１に示す場合と同様であ
る。

【００５１】以上の実施の形態の動作を図９を参照して
説明する。図９は、以上の実施の形態において、Ｚステ
ージ５を対物レンズ２から最も離れた位置から、最も接
近する位置まで移動した場合における合焦センサ８ｋお
よび方向判別センサ４３，９３の出力信号を示してい
る。

【００５２】Ｚステージ５が対物レンズ２から最も離れ
た位置にある場合には、方向判別用のスリット４０を介
して照射された光が、方向判別センサ４３に入力されて
図９（Ｂ）に示す所定の出力を生ずる。

【００５３】Ｚステージ５が上方に移動されると、ある
位置を境として、方向判別センサ４３の出力が減衰する
とともに、合焦センサ８ｋの出力が増加しはじめる。Ｚ
ステージ５が更に移動されると、方向判別センサ４３の
出力は０の状態となり、一方、合焦センサ８ｋの出力は
更に増加を続ける。そして、ある位置（合焦位置）を境
として、合焦センサ８ｋの出力は減少を始める。

【００５４】そして、合焦センサ８ｋの出力が減少し始
めて暫くすると、方向判別センサ９３の出力が増加し始
めることになる。

【００５５】従って、方向判別センサ４３、方向判別セ
ンサ９３、および、合焦センサ８ｋの出力に応じてＺス
テージ５の位置を制御することにより、被加工物３の加
工面を合焦位置に正確に移動させることが可能となる。

【００５６】以上のような実施の形態によれば、図１３
の場合と比較して、不感帯の部分をなくすことが可能と
なるので、この部分に対する処理を省略することが可能
となり、その結果、合焦処理を迅速に実行することが可
能となる。

【００５７】

【発明の効果】請求項１に記載の加工装置によれば、ス
テージに対して斜め横方向から光照射手段が光を照射
し、光照射手段から射出された光ビームが所定の断面形
状となるように成形手段が成形し、成形手段を介してス
テージ上の被加工物に照射され、被加工物の加工面によ
り反射された光を第１および第２の受光手段が受光し、
第１の受光手段からの出力を参照して、対物レンズが被
加工物の被加工面に合焦しているか否かを第１の検出手
段が検出し、第２の受光手段からの出力を参照して、被
加面が合焦位置からどちらの方向にずれているかを第２
の検出手段が検出し、ステージを対物レンズの光軸に平
行な方向に移動させた場合に、第１および第２の受光手
段の双方に対して光ビームの一部が同時に入射される領
域が少なくとも１カ所存在するようにしたので、合焦処
理を迅速に実行することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の加工装置の一実施の形態の構成例を示
す図である。

【図２】図１の実施の形態を横方向から眺めた場合の図
である。

【図３】被加工物が合焦位置よりも下にある場合に受光
スリット板に入射される反射光を示す図である。

【図４】被加工物が合焦位置にある場合に受光スリット
板に入射される反射光を示す図である。

【図５】Ｚステージを移動した場合の合焦センサと方向
判別センサからの出力信号を示す図である。

【図６】図１に示すスリット板の他の構成例を示す図で
ある。

【図７】図１に示すスリット板の更に他の構成例を示す
図である。

【図８】本発明の加工装置の他の実施の形態の構成例を
示す図である。

【図９】図８に示す実施の形態のＺステージを移動させ
た場合の合焦センサと方向判別センサからの出力信号を
示す図である。

【図１０】従来の加工装置の構成例を示す図である。

【図１１】図１０に示す従来例を横方向から眺めた場合
の図である。

【図１２】被加工物が合焦位置よりも下にある場合に受
光スリット板に入射される反射光を示す図である。

【図１３】図１０に示す従来例のＺテーブルを移動させ
た場合において、合焦センサと方向判別センサから出力
される信号を示す図である。

【符号の説明】

７ａ照明光源（光照射手段）７ｂ合焦投影スリット板（成形手段）８ｃ合焦用スリット（第１の受光手段）８ｋ合焦センサ（第１の検出手段）４２方向判別スリット（第２の受光手段）４３方向判別センサ（第２の検出手段）９２方向判別スリット（第３の受光手段）９３方向判別センサ（第３の検出手段）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ステージ上に載置された被加工物に対し
て対物レンズを介して光ビームを照射し、加工を行う加
工装置において、前記ステージに対して斜め横方向から光を照射する光照
射手段と、前記光照射手段から射出された光ビームが所定の断面形
状となるように成形する成形手段と、前記成形手段を介して前記ステージ上の前記被加工物に
照射され、前記被加工物の加工面により反射された光を
受光する第１および第２の受光手段と、前記第１の受光手段からの出力を参照して、前記対物レ
ンズが前記被加工物の被加工面に合焦しているか否かを
検出する第１の検出手段と、前記第２の受光手段からの出力を参照して、前記被加面
が合焦位置からどちらの方向にずれているかを検出する
第２の検出手段とを備え、前記ステージを前記対物レンズの光軸に平行な方向に移
動させた場合に、前記第１および第２の受光手段の双方
に対して光ビームの一部が同時に入射される領域が少な
くとも１カ所存在することを特徴とする加工装置。
【請求項２】前記成形手段には、前記第１および第２
の受光手段のそれぞれに対応する少なくとも２つ以上の
光透過部が形成されていることを特徴とする請求項１に
記載の加工装置。
【請求項３】第３の受光手段と、前記第３の受光手段からの出力を参照して、前記被加工
面が前記合焦位置からどちらの方向にずれているかを検
出する第３の検出手段とを更に備え、前記ステージを前記対物レンズの光軸に平行な方向に移
動させた場合に、前記第１および第３の受光手段の双方
に対して光ビームの一部が入射される第２の領域が少な
くとも１カ所存在することを特徴とする請求項１に記載
の加工装置。