JPH10226647A

JPH10226647A - 医薬組成物

Info

Publication number: JPH10226647A
Application number: JP34235197A
Authority: JP
Inventors: Tatsuzo Ukita; 辰三浮田; Ichiro Ikezawa; 一郎池沢; Shinsuke Yamagata; 伸介山縣
Original assignee: Tanabe Seiyaku Co Ltd
Current assignee: Tanabe Seiyaku Co Ltd
Priority date: 1996-12-13
Filing date: 1997-12-12
Publication date: 1998-08-25
Anticipated expiration: 2017-12-12
Also published as: JP3237109B2

Abstract

(57)【要約】【課題】喘息の予防・治療剤として有用であるナフタレ
ン誘導体又はその薬理的に許容しうる塩を有効成分とし
てなる医薬組成物を提供するものである。【解決手段】一般式〔Ｉ〕【化１】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって水素原子又は
保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³及びＲ⁴のい
ずれか一方が、保護されていてもよい水酸基置換メチル
基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されてい
てもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｒ⁵及
びＲ⁶は同一又は異なって、水素原子、置換されていて
もよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル
基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あるい
は互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに置換
されていてもよい複素環式基を形成していることを表
す。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許
容し得る塩を有効成分としてなる医薬組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はホスホジエステラー
ゼＩＶ阻害剤及び／又は喘息の予防・治療薬として有用
な医薬組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】１位に含窒素複素６員環式基を有するナ
フタレン誘導体としては、１−（５−メチル−２（１
Ｈ）−ピリドン−３−イル）ナフタレンが公知であるが
〔ブレチン・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティー・オブ
・ジャパン（ＢＵＬＬＥＴＩＮＯＦＴＨＥＣＨＥＭ
ＩＣＡＬＳＯＣＩＥＴＹＯＦＪＡＰＡＮ），Ｖｏ
ｌ．４１，１６５−１６７（１９６８）〕、この化合物
は薬理活性を含めいかなる用途も知られていない。ま
た、特開平５−２２９９８７号公報には、１−［Ｎ−
（２−メトキシエチル）−２（１Ｈ）−ピリドン−４−
イル］−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−
ジエトキシナフタレン等の化合物に抗喘息作用があるこ
とが記載されているが、本願の目的化合物の如きナフタ
レン骨格の１位置換基上のピリジン環が非置換又は置換
アミノ基で置換された化合物は記載されていない。

【０００３】一方、細胞内セカンドメッセンジャーであ
るｃＡＭＰやｃＧＭＰは、ホスホジエステラーゼ（ＰＤ
Ｅ）により分解され不活性化する。ＰＤＥは生体内の組
織に広く分布し、ＰＤＥ阻害剤は該ＰＤＥを阻害するこ
とにより細胞内のｃＡＭＰやｃＧＭＰの濃度を上昇さ
せ、種々の薬理作用を有することが知られている。

【０００４】例えば、血管平滑筋や気管支平滑筋におい
ては弛緩作用、心臓においては陽性変力及び変時作用を
引き起こす。又、中枢においてはｃＡＭＰ増加に伴う中
枢機能の調整、即ち抗うつ作用、記憶・学習機能を改善
する。その他に血小板においては凝集抑制、炎症細胞に
おいては活性化抑制作用を、又脂肪細胞においては脂肪
分解作用を示す〔トレンズ・イン・ファーマコロジカル
・サイエンシーズ［ＴｒｅｎｄｓｉｎＰｈａｒｍａ
ｃｏｌｏｇｉｃａｌＳｃｉｅｎｃｅｓ］，１２巻，１
９−２７頁，１９９１年〕。

【０００５】従ってＰＤＥを阻害する薬剤は種々の疾
病、即ち、気管支喘息、血栓症、うつ病、脳血管閉塞後
の中枢機能低下症、脳血管痴呆症、アルツハイマー型痴
呆症、各種炎症、肥満症及び心不全などの治療薬として
有効であると考えられている。

【０００６】一方、従来から多数の抗喘息薬が知られて
いるが、既存の薬剤は、気管支収縮の抑制効果が充分で
ない、心臓等に対する副作用との分離が充分でない或い
は気管支収縮抑制作用が十分であっても抗気道炎症作用
が弱い等の難点があり、さらに新たな薬剤の開発が求め
られている。

【０００７】テオフィリンは代表的なＰＤＥ阻害剤とし
て従来より喘息症の治療に用いられてきた。しかし本薬
剤のＰＤＥ阻害作用が非特異的なために、気管支平滑筋
弛緩作用以外に強心作用や中枢作用を有し、その為副作
用が常に問題とされている。そこでＰＤＥのアイソザイ
ムの中でも、特に気管支平滑筋及び炎症細胞に多く存在
するＩＶ型に対して特異的に阻害作用を有する薬剤の開
発が望まれている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、選択的ホス
ホジエステラーゼＩＶ（ＰＤＥＩＶ）阻害作用、優れ
た気管支収縮抑制作用及び／又は抗気道炎症作用を有
し、抗喘息薬として有用な新規ナフタレン誘導体を有効
成分としてなる医薬組成物を提供するものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は一般式〔Ｉ〕

【００１０】

【化３】

【００１１】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって
水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³
及びＲ⁴はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基
置換メチル基であり、他方が水素原子、低級アルキル基
又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であるこ
とを表し、Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なって、水素原
子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されて
いてもよいフェニル基又は保護されていてもよいアミノ
基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接する窒
素原子とともに置換されていてもよい複素環式基を形成
していることを表す。）で示される新規ナフタレン誘導
体及びその薬理的に許容し得る塩を有効成分としてなる
医薬組成物を提供するものである。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の有効成分であるナフタレ
ン誘導体〔Ｉ〕におけるＲ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結
合して隣接する窒素原子とともに形成される複素環式基
としては、当該窒素原子以外にさらに窒素原子、酸素原
子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を含有していて
もよい単環式、双環式又は三環式複素環式基があげられ
る。

【００１３】このような複素環式基としては、ピリジル
基、キノリル基、イソキノリル基、シクロペンタ〔ｂ〕
ピリジル基、ピロ〔２，３−ｂ〕ピリジル基、イミダゾ
〔４，５−ｂ〕ピリジル基、ピリド〔２，３−ｄ〕チア
ゾリル基、ピリド〔２，３−ｄ〕オキサゾリル基、ナフ
チリジニル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キ
ナゾリニル基、インドリル基、ピリダジニル基、アゼピ
ニル基、アゼチジル基、イソインドリル基、ピロリル
基、ベンゾアゼピニル基、フェナントリジニル基、ベン
ゾチアジニル基、ベンゾイミダゾリニル基、ピラジニル
基、モルホリノ基が挙げられ、これらの複素環式基は部
分的もしくは全て水素化されていてもよい。

【００１４】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕におけるＲ⁵及び／又はＲ⁶の低級アルキル基及
びフェニル基上の置換しうる基としては、水酸基、モノ
もしくはジヒドロキシ低級アルキル基等が挙げられる。

【００１５】アミノ基の保護基としてはアミノ基の保護
基となりうるものであればよく、低級アルカノイルアミ
ノ基、フェニル低級アルコキシカルボニル基等が挙げら
れる。

【００１６】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕において、Ｒ¹及び／又はＲ²が保護された水酸
基である場合、当該水酸基の保護基としては、薬理的に
許容し得る水酸基の保護基であればいかなるものであっ
てもよい。例えば、置換基を有していてもよい低級アル
カノイル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置
換基を有していてもよいシクロアルキル基等をあげるこ
とができる。好ましくは、アルキル基とりわけ低級アル
キル基があげられる。

【００１７】また、本発明の有効成分であるナフタレン
誘導体〔Ｉ〕において、Ｒ³及び／又はＲ⁴が保護され
た水酸基置換メチル基である場合、当該水酸基の保護基
としては、薬理的に許容し得る水酸基の保護基であれば
いかなるものであってもよい。この様な保護基の具体例
としては、生体内で加水分解によって分解し、かつ有害
な副生成物を生じないもの、例えば、置換基を有してい
てもよい低級アルカノイル基、置換基を有していてもよ
いアルキル基、置換基を有していてもよい低級アルコキ
シカルボニル基、置換基を有していてもよいシクロアル
キル基等をあげることができる。

【００１８】ここで、置換基を有していてもよい低級ア
ルカノイル基としては、保護されていてもよいアミノ
基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、水
酸基及び低級アルコキシ基から選ばれる１〜２個の基で
置換されていてもよい低級アルカノイル基が挙げられ、
置換基を有していてもよいアルキル基としては、低級ア
ルコキシカルボニル基、低級アルコキシ基、アリール基
及び低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基から
選ばれる基で置換されていてもよいアルキル基が挙げら
れる。ここで、アリール基としては、フェニル基、低級
アルコキシフェニル基、ナフチル基等があげられる。

【００１９】さらに、低級アルカノイル基に置換しうる
保護されたアミノ基における保護基としては、アミノ基
の保護基となりうるものであればよく、例えば、アセチ
ル基、プロピオニル基等の低級アルカノイル基、低級ア
ルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル等
のフェニル低級アルコキシカルボニル基等のアシル基が
挙げられる。

【００２０】一方、上記複素環式基は、置換基を有して
いてもよく、かかる置換基としては、例えば、（１）低
級アルケニル基；（２）低級アルキニル基；（３）低級
アルキルチオ基；（４）シクロアルキル基；（５）トリ
フルオロメチル基；（６）シアノ基；（７）テトラゾリ
ル基；（８）ホルミル基；（９）アミノ基；（１０）モ
ルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリ
ジル基、イミダゾリル基、ピペリジル基もしくはピロリ
ジニル基で低級アルキル基部分が置換されていてもよい
モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；（１１）ピ
リジル基；（１２）モルホリノ基；（１３）低級アルキ
ル基置換トリアゾリル基；（１４）ビス（ヒドロキシ低
級アルキル）アミノカルボニル基；（１５）ビス（トリ
低級アルキルシリルオキシ低級アルキル）アミノカルボ
ニル基；（１６）モルホリノカルボニル基；（１７）低
級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；（１８）
ヒドロキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル
基；（１９）トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキ
ル基置換ピペラジニルカルボニル基；（２０）低級アル
コキシカルボニル基；（２１）カルボキシル基；（２
２）モルホリノ基もしくはピリジル基で置換されていて
もよい低級アルキル基；（２３）ピペリジル基、ピリジ
ル基、水酸基又は低級アルコキシ基で置換されていても
よい低級アルコキシ基；（２４）オキソ基；（２５）水
酸基；（２６）ピリミジニル基；（２７）ジ低級アルキ
ルアミノ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよ
いフェニル基；（２８）ハロゲン原子；（２９）ニトロ
基；（３０）イミダゾリル基；及び（３１）低級アルキ
レンジオキシ基が挙げられる。これらの置換基は同一又
は異なって２個以上複素環式基上に置換していてもよ
い。

【００２１】置換された複素環式基のうちでも、少なく
ともオキソ基、水酸基又はアミノ基で置換された複素環
式基、とりわけ少なくともオキソ基で置換された複素環
式基が薬効上好ましい。少なくともオキソ基で置換され
た複素環式基は、部分構造式

【００２２】

【化４】

【００２３】を有する複素環式基が好ましく、そのよう
な複素環式基の例としては、

【００２４】

【化５】

【００２５】等があげられる。

【００２６】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕の具体例としては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で
結合して隣接する窒素原子とともに複素環式基を形成し
ており、かつ複素環式基が（１）モルホリノ基、モノシ
クロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリ
ル基、ピペリジノ基もしくはピロリジニル基で低級アル
キル基部分が置換されていてもよいモノ−もしくはジ−
低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低
級アルキル基置換トリアゾリル基；ビス（ヒドロキシ低
級アルキル）アミノカルボニル基；ビス（トリ低級アル
キルシリルオキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；
モルホリノカルボニル基；低級アルキル基置換ピペラジ
ニルカルボニル基；ヒドロキシ低級アルキル基置換ピペ
ラジニルカルボニル基；トリ低級アルキルシリルオキシ
低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；低級ア
ルコキシカルボニル基；カルボキシル基；低級アルキル
基；水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていて
もよい低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で
置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置
換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）オ
キソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラ
ヒドロ）キノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低
級アルキル基；ピペリジル基、ピリジル基もしくは低級
アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ
基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよい
オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテト
ラヒドロ）イソキノリル基、（４）ピリジル基で置換さ
れていてもよい低級アルキル基；ピリミジニル基；低級
アルコキシ基；ピリジル基；イミダゾリル基；ジ低級ア
ルキルアミノ基もしくはハロゲン原子で置換されていて
もよいフェニル基；及び水酸基から選ばれる基で置換さ
れていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒ
ドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基、（５）ハロ
ゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ
基、ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置
換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換
ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基、（６）オキ
ソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒ
ドロ）ナフチリジニル基、（７）オキソ基（又はヒドロ
キシ基）置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基
（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロインドリル基、
（９）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又
はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基、（１０）ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（１１）オキ
ソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒ
ドロ）ベンゾチアジニル基、（１２）低級アルキル基及
び／又はオキソ基で置換されていてもよいオキソ基（又
はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キ
ナゾリニル基、（１３）オキソ基（又はヒドロキシ基）
置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オキソ
基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロフェナントリジニ
ル基、（１５）低級アルキル基で置換されていてもよい
オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテト
ラヒドロ）ピロリル基、（１６）ヘキサヒドロキシピラ
ジニル基、（１７）低級アルキレンジオキシ基置換ヘキ
サヒドロピリジル基又は（１８）モルホリノ基である化
合物が挙げられる。

【００２７】オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）キノリル基は具体的には、オキ
ソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基もし
くはヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キ
ノリル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロ
キノリル基、オキソ基置換テトラヒドロキノリル基、ヒ
ドロキシ基置換ジヒドロキノリル基もしくはヒドロキシ
基置換テトラヒドロキノリル基；オキソ基（又はヒドロ
キシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリ
ニル基は具体的には、オキソ基置換ジヒドロ（又はテト
ラヒドロ）キノキサリニル基もしくはヒドロキシ基置換
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基であ
り、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロキノキサリニ
ル基、オキソ基置換テトラヒドロキノキサリニル基、ヒ
ドロキシ基置換ジヒドロキノキサリニル基もしくはヒド
ロキシ基置換テトラヒドロキノキサリニル基；オキソ基
（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）イソキノリル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテ
トラヒドロ）イソキノリル基もしくはヒドロキシ基置換
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基であり、
より具体的にはオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、
オキソ基置換テトラヒドロイソキノリル基、ヒドロキシ
基置換ジヒドロイソキノリル基もしくはヒドロキシ基置
換テトラヒドロイソキノリル基；オキソ基（又はヒドロ
キシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニ
ル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フ
タラジニル基もしくはヒドロキシ基置換ジヒドロ（又は
テトラヒドロ）フタラジニル基であり、より具体的には
オキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、オキソ基置換テ
トラヒドロフタラジニル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロ
フタラジニル基もしくはヒドロキシ基置換テトラヒドロ
フタラジニル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジ
ヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基は、オキソ基置
換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基もしくはヒ
ドロキシ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル
基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロピリジ
ル基、オキソ基置換ヘキサヒドロピリジル基、ヒドロキ
シ基置換ジヒドロピリジル基もしくはヒドロキシ基置換
ヘキサヒドロピリジル基；オキソ基（又はヒドロキシ
基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル
基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフ
チリジニル基もしくはヒドロキシ基置換ジヒドロ（又は
テトラヒドロ）ナフチリジニル基であり、より具体的に
はオキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、オキソ基置
換テトラヒドロナフチリジニル基、ヒドロキシ基置換ジ
ヒドロナフチリジニル基もしくはヒドロキシ基置換テト
ラヒドロナフチリジニル基；オキソ基（又はヒドロキシ
基）置換ヘキサヒドロキノリル基は、オキソ基置換ヘキ
サヒドロキノリル基もしくはヒドロキシ基置換ヘキサヒ
ドロキノリル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジ
ヒドロインドリル基は、オキソ基置換ジヒドロインドリ
ル基もしくはヒドロキシ基置換ジヒドロインドリル基；
オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテト
ラヒドロ）ベンゾアゼピニル基は、オキソ基置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基もしくはヒ
ドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾア
ゼピニル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒド
ロベンゾアゼピニル基、オキソ基置換テトラヒドロベン
ゾアゼピニル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロベンゾアゼ
ピニル基もしくはヒドロキシ基置換テトラヒドロベンゾ
アゼピニル基；ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノ
リル基は、ジヒドロイソキノリル基もしくはテトラヒド
ロイソキノリル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基は、
オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチア
ジニル基もしくはヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテト
ラヒドロ）ベンゾチアジニル基であり、より具体的には
オキソ基置換ジヒドロベンゾチアジニル基、オキソ基置
換テトラヒドロベンゾチアジニル基、ヒドロキシ基置換
ジヒドロベンゾチアジニル基もしくはヒドロキシ基置換
テトラヒドロベンゾチアジニル基；オキソ基（又はヒド
ロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリ
ニル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）
キナゾリニル基もしくはヒドロキシ基置換ジヒドロ（又
はテトラヒドロ）キナゾリニル基であり、より具体的に
はオキソ基置換ジヒドロキナゾリニル基、オキソ基置換
テトラヒドロキナゾリニル基、ヒドロキシ基置換ジヒド
ロキナゾリニル基もしくはヒドロキシ基置換テトラヒド
ロキナゾリニル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換
ジヒドロベンゾイミダゾリニル基は、オキソ基置換ジヒ
ドロベンゾイミダゾリニル基もしくはヒドロキシ基置換
ジヒドロベンゾイミダゾリニル基；オキソ基（又はヒド
ロキシ基）置換ジヒドロフェナントリジニル基は、オキ
ソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基もしくはヒドロ
キシ基置換ジヒドロフェナントリジニル基；オキソ基
（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）ピロリル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラ
ヒドロ）ピロリル基もしくはヒドロキシ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）ピロリル基であり、より具体的に
はオキソ基置換ジヒドロピロリル基、オキソ基置換テト
ラヒドロピロリル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロピロリ
ル基もしくはヒドロキシ基置換テトラヒドロピロリル基
を各々示している。

【００２８】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕の具体例のうち、薬効上好ましい化合物として
は、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素
原子とともに形成される複素環式基が、（１）オキソ基
置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基もしくは
ヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリ
ル基、（２）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）キノキサリニル基、（３）オキソ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（４）オキソ基
置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基、
（５）オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリ
ジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）ナフチリジニル基、（７）オキソ基置換ヘキサヒド
ロキノリル基、（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル
基、（９）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）
ベンゾアゼピニル基、（１０）ジヒドロ（又はテトラヒ
ドロ）イソキノリル基、（１１）オキソ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基、（１２）オ
キソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル
基、（１３）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニ
ル基、（１４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニ
ル基、（１５）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）ピロリル基、（１６）ヘキサヒドロキシピラジニル
基、（１７）低級アルキレンジオキシ基置換ヘキサヒド
ロピリジル基又は（１８）モルホリノ基である化合物が
挙げられる。

【００２９】特に薬効上好ましい例としてはＲ⁵及びＲ
⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形
成される複素環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）キノリル基もしくはヒドロキシ基
置換テトラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒ
ドロキノキサリニル基、（３）オキソ基置換ジヒドロイ
ソキノリル基、（４）オキソ基置換ジヒドロフタラジニ
ル基、（５）オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒド
ロ）ピリジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリ
ジニル基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル
基、（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）
オキソ基置換ジヒドロベンゾアゼピニル基、（１０）テ
トラヒドロイソキノリル基、（１１）オキソ基置換テト
ラヒドロベンゾチアジニル基、（１２）オキソ基置換ジ
ヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）
オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１
４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１
５）オキソ基置換テトラヒドロピロリル基、（１６）ヘ
キサヒドロキシピラジニル基、（１７）低級アルキレン
ジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モ
ルホリノ基である化合物が挙げられる。

【００３０】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕のうち、薬効上好ましい化合物としては、Ｒ⁵及
びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素原子ととも
に形成される置換されていてもよい複素環式基が、
（１）モルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ
基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジノ基もしく
はピロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されてい
るモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル
基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル
基；低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；低
級アルコキシカルボニル基；低級アルキル基；水酸基；
及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていて
もよい低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されてい
てもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キ
ノリル基もしくはヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリ
ル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、
（３）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジル
基、ピリジル基もしくは低級アルコキシ基で置換されて
いてもよい低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる
基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキ
ノリル基、（４）ピリジル基置換低級アルキル基；ピリ
ミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；イミダゾ
リル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基か
ら選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒ
ドロフタラジニル基、（５）低級アルキル基；低級アル
コキシ基；ピリジル基；及びイミダゾリル基から選ばれ
る基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル
基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、
（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オ
キソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換
テトラヒドロベンゾチアジニル基、（１０）低級アルキ
ル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１
１）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基又は
（１２）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基で
ある化合物が挙げられる。

【００３１】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕のうち、より薬効上好ましい化合物としては、Ｒ
⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素原子と
ともに形成される複素環式基が、（１）モルホリノ基、
ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジノ基もしくはピ
ロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されているモ
ノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；
モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；低
級アルキル基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で
置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基
で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテ
トラヒドロ）キノリル基もしくはヒドロキシ基置換テト
ラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノ
キサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル
基；ピペリジル基もしくは低級アルコキシ基で置換され
ている低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で
置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリ
ル基、（４）ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジ
ニル基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキ
シ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置
換ジヒドロフタラジニル基、（５）低級アルキル基、低
級アルコキシ基、ピリジル基及びイミダゾリル基から選
ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジ
ル基、（６）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニ
ル基又は（７）低級アルキル基及びオキソ基で置換され
ていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）キナゾリニル基である化合物が挙げられる。

【００３２】このうち、薬効上さらに好ましい化合物と
しては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する
窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モル
ホリノ基、ピリジル基、イミダゾリル基もしくはピペリ
ジノ基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−も
しくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホ
リノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；及び低級
アルコキシ基もしくは水酸基で置換されている低級アル
コキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ
基置換ジヒドロキノリル基もしくはヒドロキシ基置換テ
トラヒドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換低級ア
ルキル基；ピペリジノ基もしくは低級アルコキシ基で置
換されている低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれ
る基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソ
キノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基、ピ
リミジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級ア
ルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキ
ソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（４）低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ピリジル基及びイミダゾリル基
から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロ
ピリジル基又は（５）低級アルキル基及びオキソ基で置
換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラ
ヒドロ）キナゾリニル基である化合物が挙げられる。

【００３３】このうち、薬効上とりわけ好ましい化合物
としては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接す
る窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モ
ルホリノ基、ピリジル基、イミダゾリル基もしくはピペ
リジノ基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−
もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モル
ホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；及び低
級アルコキシ基もしくは水酸基で置換されている低級ア
ルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキ
ソ基置換ジヒドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換
低級アルキル基及びピペリジル基置換低級アルコキシ基
から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アル
キル基、ピリミジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基
及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていて
もよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基又は（４）
低級アルキル基、低級アルコキシ基及びイミダゾリル基
から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロ
ピリジル基である化合物が挙げられる。

【００３４】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕のうち、他の薬効上好ましい化合物としては、Ｒ
⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素原子と
ともに形成される複素環式基が、（１）モルホリノ基、
モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミ
ダゾリル基もしくはピペリジノ基で低級アルキル基部分
が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミ
ノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換
ピペラジニルカルボニル基；低級アルコキシカルボニル
基；低級アルキル基；水酸基；及び水酸基もしくは低級
アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基
から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基もしくはヒドロ
キシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）モルホリノ
基置換低級アルキル基；ピペリジノ基、ピリジル基もし
くは低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ
基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換
ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級ア
ルキル基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジ
ル基；イミダゾリル基；及びジ低級アルキルアミノ基置
換フェニル基から選ばれる基で置換されていてもよいオ
キソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（４）ピリジル基
で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基、
（５）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、（６）
オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（７）オキソ基
置換ジヒドロインドリル基、（８）オキソ基置換テトラ
ヒドロベンゾチアジニル基、（９）低級アルキル基及び
オキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１０）オキソ
基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基又は（１１）オ
キソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基である化合物
が挙げられる。

【００３５】このうち、薬効上より好ましい化合物とし
ては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒
素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モルホ
リノ基、イミダゾリル基もしくはピリジル基で低級アル
キル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級ア
ルキルアミノ基；モルホリノ基；及び低級アルキル基か
ら選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒ
ドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）モルホリ
ノ基置換低級アルキル基；ピリジル基もしくは低級アル
コキシ基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれ
る基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソ
キノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低
級アルコキシ基；ピリジル基；及びジ低級アルキルアミ
ノ基置換フェニル基から選ばれる基で置換されているオ
キソ基置換ジヒドロフタラジニル基又は（４）オキソ基
置換ジヒドロフェナントリジニル基である化合物が挙げ
られる。

【００３６】このうち、薬効上とりわけ好ましい化合物
としては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接す
る窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）ピ
リジル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−
もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；及
び低級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよ
いオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル
基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピリジル
基もしくは低級アルコキシ基で置換されている低級アル
コキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ
基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換
低級アルキル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；及び
ジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基
で置換されているオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基
又は（４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基
である化合物が挙げられる。

【００３７】また、他の薬効上好ましい化合物として
は、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素
原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式
基が、（１）モルホリノ基、イミダゾリル基もしくはピ
リジル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−
もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；及
び低級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよ
いオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル
基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；及び低級
アルコキシ基置換低級アルコキシ基から選ばれる基で置
換されているオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、
（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級アルコキシ
基；及びピリジル基から選ばれる基で置換されているオ
キソ基置換ジヒドロフタラジニル基である化合物が挙げ
られる。

【００３８】更に、他の薬効上好ましい化合物として
は、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素
原子と共に形成される複素環式基が、式

【００３９】

【化６】

【００４０】（但し、Ｒ⁹¹、Ｒ⁹²及びＲ⁹³は同一又は異
なって水素原子、水酸基、低級アルコキシ基、ピリジル
基で置換されていてもよい低級アルキル基、ジ低級アル
キルアミノ基もしくはハロゲン原子で置換されていても
よいフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基又はイミ
ダゾリル基を表す。）で示される基である化合物（以
下、化合物〔Ｉ−ａ〕と称する）が挙げられる。

【００４１】このうち、薬効上好ましい化合物として
は、Ｒ⁹¹、Ｒ⁹²及びＲ⁹³は同一又は異なって水素原子、
低級アルコキシ基、ピリジル基置換低級アルキル基、ジ
低級アルキルアミノ基置換フェニル基又はピリジル基で
ある化合物が挙げられる。

【００４２】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕のこれら薬効上好ましい例のうち、Ｒ¹及びＲ²
が同一又は異なって低級アルコキシ基、Ｒ³及びＲ⁴が
水酸基置換メチル基である化合物が好ましい。

【００４３】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕には、不斉炭素に基づく光学活性体が存在しうる
が、本発明の有効成分であるナフタレン誘導体はこれら
の光学異性体及びその混合物のいずれをも含むものであ
る。

【００４４】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕は、遊離の形でも、また、薬理的に許容し得る塩
の形でも医薬用途に使用することができる。かかる薬理
的に許容し得る塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩又は
臭化水素酸塩の如き無機酸塩、酢酸塩、フマル酸塩、シ
ュウ酸塩、メタンスルホン酸塩又はマレイン酸塩の如き
有機酸塩などがあげられる。また、カルボキシル基等の
置換基を有する場合には塩基性塩（例えばナトリウム
塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩又はカルシウム塩の
如きアルカリ土類金属塩）としても用いることができ
る。

【００４５】また、ナフタレン誘導体〔Ｉ〕及びその塩
は、その分子内塩、付加物や、それらの溶媒和物あるい
は水和物等をいずれも含むものと解釈されるべきであ
る。

【００４６】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕もしくはその塩は経口的にも非経口的（例えば、
静脈内、筋肉内、皮下など）にも投与することができ、
また、常法により例えば、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、
散剤、注射剤、吸入剤のような適宜の医薬製剤として用
いることができる。

【００４７】本発明の目的化合物〔Ｉ〕又はその薬理的
に許容し得る塩の投与量は、投与方法、患者の年令、体
重、状態によっても異なるが、通常、１日当り約０．０
０１〜１０ｍｇ／ｋｇ、とりわけ約０．００３〜３ｍｇ
／ｋｇ程度とするのが好ましい。

【００４８】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕及びその薬理的に許容し得る塩は、ＰＤＥのアイ
ソザイムの中でも特に気管支平滑筋及び炎症細胞に多く
存在するＰＤＥＩＶに対し高い選択性と強い阻害活性
を示す。

【００４９】このため、本発明の有効成分であるナフタ
レン誘導体〔Ｉ〕及びその薬理的に許容し得る塩は、気
道炎症に関与する炎症細胞（単核球、好中球、好酸球
等）の活性化を抑制する。例えば、抗原により誘発され
る気道炎症において炎症細胞の浸潤を効果的に抑制す
る。さらに、本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕及びその薬理的に許容し得る塩は、テオフィリン
よりも強い気管支収縮抑制作用を有する。例えば、ヒス
タミンや抗原により誘発される気管支収縮を効果的に抑
制する。

【００５０】このように、本発明の有効成分であるナフ
タレン誘導体〔Ｉ〕及びその薬理的に許容し得る塩は、
優れた抗気道炎症作用及び気管支収縮抑制作用を有して
おり、抗喘息薬として極めて有用である。

【００５１】また、テオフィリンの場合、血圧低下、心
悸亢進等、心臓への副作用が知られているが、本発明の
有効成分であるナフタレン誘導体〔Ｉ〕及びその薬理的
に許容し得る塩は、このような副作用をほとんど示さず
に気管支収縮抑制作用及び抗気道炎症作用を示すという
特徴を有する。

【００５２】さらにまた、本発明の有効成分であるナフ
タレン誘導体〔Ｉ〕及びその薬理的に許容し得る塩は、
毒性が低く、医薬として高い安全性を有する。例えば、
１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタ
ラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
・塩酸塩、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２
Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキ
シナフタレン及びその塩酸塩をそれぞれ、マウスに１０
００ｍｇ／ｋｇ、１日間皮下投与しても死亡例は認めら
れなかった。

【００５３】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕は、下記〔Ａ法〕〜〔Ｃ法〕によって製造するこ
とができる。

【００５４】〔Ａ法〕本発明の有効成分であるナフタレ
ン誘導体は、一般式〔ＩＩ〕

【００５５】

【化７】

【００５６】（但し、Ｒ¹¹及びＲ²¹は同一又は異なって
水素原子又は保護されていてもよい水酸基、Ｒ³¹及びＲ
⁴¹はいずれか一方が、保護されていてもよい水酸基置換
メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護さ
れていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、
Ｘはハロゲン原子を表す。）で示される化合物と一般式
〔ＩＩＩ〕

【００５７】

【化８】

【００５８】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される含窒素化合物とを塩基（例えば、水酸
化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属等）及び銅触媒（例
えば、ヨウ化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、銅粉（０）、酸
化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）等）の存在下、適当な溶媒
（ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルアセトアミド、トルエン、キシレン等）中、８０℃
〜１６０℃（とりわけ１２０℃〜１５０℃）で反応さ
せ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基であり、Ｒ
³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基であ
る場合は、所望により当該水酸基の保護基の種類に応
じ、常法に従って、加水分解、酸処理、還元等の方法に
より、全てあるいは選択的に当該保護基を除去し、要す
れば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位
及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を常法に従っ
て、各生成物と基Ｒ¹及びＲ²、基Ｒ³及びＲ⁴の保護
基に対応する低級アルカン酸又はシクロアルカン酸の酸
無水物、酸ハライド又は低級アルコキシカルボニル基で
置換されていてもよい低級アルキルハライド又は保護さ
れていてもよいカルボキシル基置換低級アルキルスルホ
ネート等とを、塩基（トリエチルアミン、ピリジン、ジ
メチルアミノピリジン、水素化ナトリウム、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミド等）の存在下、適当な溶媒
（塩化メチレン、テトラヒドロフラン等）中又は無溶媒
中、又は、保護されていてもよいアミノ基置換低級アル
キルカルボン酸等とを、縮合剤（ジシクロヘキシルカル
ボジイミド、水溶性カルボジイミド誘導体等）の存在
下、適当な溶媒（ジメチルホルムアミド、塩化メチレ
ン、クロロホルム等）中で反応して再び保護し、さらに
要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシメチ
ル部位を保護して製造することができる。

【００５９】〔Ｂ法〕本発明の有効成分であるナフタレ
ン誘導体のうち、一般式

【００６０】

【化９】

【００６１】（但し、Ｒ⁵¹及びＲ⁶¹は互いに末端で結合
して隣接する窒素原子とともに少なくともオキソ基で置
換された複素環式基を形成していることを表し、他の記
号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物は、
一般式〔ＩＶ〕

【００６２】

【化１０】

【００６３】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物と一般式〔Ｖ〕

【００６４】

【化１１】

【００６５】（但し、Ｒ⁵²及びＲ⁶²は互いに末端で結合
して隣接する窒素原子とともに少なくともハロゲン原子
で置換された複素環式基を形成していることを表す。）
で示されるハロゲノ含窒素化合物とを酸触媒（例えば、
臭化水素、酢酸等）の存在下もしくは非存在下、適当な
溶媒（ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
トルエン等）中、８０℃〜１６０℃（とりわけ１１０℃
〜１５０℃）で反応させ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護さ
れた水酸基であり、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水
酸基置換メチル基である場合は、所望により当該水酸基
の保護基の種類に応じ、常法に従って、加水分解、酸処
理、還元等の方法により、全てあるいは選択的に当該保
護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒドロキ
シ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメチル
部位を常法に従って、各生成物と基Ｒ¹及びＲ²、基Ｒ
³及びＲ⁴の保護基に対応する低級アルカン酸又はシク
ロアルカン酸の酸無水物、酸ハライド又は低級アルコキ
シカルボニル基で置換されていてもよい低級アルキルハ
ライド又は保護されていてもよいカルボキシル基置換低
級アルキルスルホネート等とを、塩基（トリエチルアミ
ン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、水素化ナトリ
ウム、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等）の存在
下、適当な溶媒（塩化メチレン、テトラヒドロフラン
等）中もしくは無溶媒中、又は、保護されていてもよい
アミノ基置換低級アルキルカルボン酸等とを、縮合剤
（ジシクロヘキシルカルボジイミド、水溶性カルボジイ
ミド誘導体等）の存在下、適当な溶媒（ジメチルホルム
アミド、塩化メチレン、クロロホルム等）中で反応して
再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位ある
いはヒドロキシメチル部位を保護して製造することがで
きる。

【００６６】〔Ｃ法〕本発明の有効成分であるナフタレ
ン誘導体のうち、一般式

【００６７】

【化１２】

【００６８】（但し、Ｒ⁵³及びＲ⁶³は同一又は異なっ
て、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換
されていてもよいフェニル基又は保護されていてもよい
アミノ基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接
する窒素原子とともに還元反応に安定な置換されていて
もよい複素環式基を形成していることを表し、他の記号
は前記と同一意味を有する。）で示される化合物は、一
般式〔ＶＩ〕

【００６９】

【化１３】

【００７０】（但し、Ｒ⁷及びＲ⁸のいずれか一方が遊
離の又はエステル化されたカルボキシル基、他方が水素
原子、低級アルキル基、あるいは遊離の又はエステル化
されたカルボキシル基を表し、他の記号は前記と同一意
味を有する。）で示される化合物又はその分子内酸無水
物を適当な還元剤（例えば、Ｒ⁷及びＲ^８が、エステル
化されたカルボキシル基である場合には、水素化ホウ素
ナトリウム等、Ｒ^７及び／又はＲ⁸が遊離のカルボキシ
ル基である場合には、水素化リチウムアルミニウム等）
の存在下、適当な溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、
エーテル等）中、冷却下〜加熱下で還元反応に付し、Ｒ
¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基である場合は、所
望により当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は
７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒ
ドロキシメチル部位を常法に従って、各生成物と基Ｒ¹
及びＲ²、基Ｒ³及びＲ⁴の保護基に対応する低級アル
カン酸又はシクロアルカン酸の酸無水物、酸ハライド又
は低級アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい
低級アルキルハライド又は保護されていてもよいカルボ
キシル基置換低級アルキルスルホネート等とを、塩基
（トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジ
ン、水素化ナトリウム、ヘキサメチルホスホリックトリ
アミド等）の存在下、適当な溶媒（塩化メチレン、テト
ラヒドロフラン等）中もしくは無溶媒中、又は、保護さ
れていてもよいアミノ基置換低級アルキルカルボン酸等
とを、縮合剤（ジシクロヘキシルカルボジイミド、水溶
性カルボジイミド誘導体等）の存在下、適当な溶媒（ジ
メチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルム等）
中で反応して再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロ
キシ部位あるいはヒドロキシメチル部位を保護して製造
することができる。

【００７１】本発明の有効成分であるナフタレン誘導体
〔Ｉ〕は、上記の如くして得られるナフタレン誘導体を
他のナフタレン誘導体へ相互変換することによっても製
造することができる。このようなナフタレン誘導体間の
相互変換反応としては、その化合物が有する置換基の種
類に応じ、適宜選択すればよいが、例えば次の如く実施
することができる。

【００７２】化合物〔Ｉ−ａ〕は、一般式〔Ｉ〕におい
て、対応するＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がアミノ基で
ある化合物（以下、化合物〔Ｉ−ｂ〕と称する）又はそ
の塩と一般式〔ＶＩＩ〕

【００７３】

【化１４】

【００７４】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるカルボン酸誘導体又はその塩と反応さ
せることにより製造することができる。

【００７５】更に、一般式〔Ｉ−ａ〕においてＲ⁹¹が水
酸基である化合物〔Ｉ−ａ’〕は化合物〔Ｉ−ｂ〕又は
その塩と一般式〔ＶＩＩＩ〕

【００７６】

【化１５】

【００７７】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される酸無水物化合物と反応させることによ
り製造することができる。

【００７８】これら反応は適当な溶媒（例えば、低級ア
ルカノール、エチレングリコール、ジオキサン、トルエ
ン等）中で、実施することができ、１００〜１４０℃で
好適に進行する。

【００７９】なお、本発明の有効成分であるナフタレン
誘導体の原料化合物〔ＩＩ〕は、例えば、一般式〔Ｉ
Ｘ〕

【００８０】

【化１６】

【００８１】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンズアルデヒド化合物を、ハロゲン
（臭素等）で処理し、得られる６−ハロゲノベンズアル
デヒド化合物を、酸触媒（例えば、強酸性樹脂等）の存
在下オルトギ酸メチルと反応させ、次いで塩基（ｎ−ブ
チルリチウム等）の存在下一般式〔Ｘ〕

【００８２】

【化１７】

【００８３】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるアルデヒド化合物と反応させ、さらに
生成物を一般式〔ＸＩ〕

【００８４】

【化１８】

【００８５】（但し、Ｒ⁷¹及びＲ⁸¹はいずれか一方がエ
ステル化されたカルボキシル基、他方が水素原子、低級
アルキル基又はエステル化されたカルボキシル基である
ことを表す。）で示されるオレフィン化合物と縮合反応
させて一般式〔ＸＩＩ〕

【００８６】

【化１９】

【００８７】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、これを還元剤（水素化ホ
ウ素アルカリ金属、水素化ビス（メトキシエトキシ）ア
ルミニウムナトリウム等）で還元して製造することがで
きる。

【００８８】また、原料化合物〔ＩＩ〕は、化合物
〔Ｘ〕に代えて一般式〔ＸＩＩＩ〕

【００８９】

【化２０】

【００９０】で示される化合物を用いて上記と同様にし
て化合物〔ＸＩＩ〕に対応する一般式〔ＸＩＶ〕

【００９１】

【化２１】

【００９２】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、これを酸化剤（メタクロ
ロ過安息香酸、カリウムパーオキシスルフェート（２Ｋ
ＨＳＯ₅・ＫＨＳＯ₄・Ｋ₂ＳＯ₄）、過酸化水素等）で酸
化して一般式〔ＸＶ〕

【００９３】

【化２２】

【００９４】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、これをハロゲン化剤（オ
キシ塩化リン、オキシ臭化リン等）で処理して化合物
〔ＸＩＩ〕とし、さらに還元剤（水素化ホウ素アルカリ
金属、水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナ
トリウム等）で還元して製造することもできる。

【００９５】また、一般式〔ＸＩＶ〕においてＲ⁷¹が
エステル化されたカルボキシル基であり、Ｒ⁸¹が水素
原子である化合物は、一般式〔ＸＩＩＩ〕で示される化
合物と、カルボキシル基が常用の保護基（例えば、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、ベンジル基等）で保護されたアクリル
酸とを反応させ、更に生成物のカルボキシル基の保護基
を慣用の方法により、脱保護して得られる一般式

【００９６】

【化２３】

【００９７】で示される化合物を、更に一般式〔ＩＸ〕
で示されるベンズアルデヒド化合物を無水酢酸及び酢酸
ナトリウム、あるいは三酸化硫黄及びＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミドと反応させ、一般式〔ＸＶＩ〕

【００９８】

【化２４】

【００９９】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、これを酸触媒（例えば、
酢酸−塩酸混液、塩化アルミニウム等）で処理してナフ
タレン化合物に変換した後、ナフタレン環３位のカルボ
キシル基を慣用の方法によりエステル化して製造するこ
とができる。

【０１００】本発明の原料化合物〔ＩＶ〕は、例えば、
化合物〔ＸＩＶ〕を還元剤（例えば水素化ビス（メトキ
シエトキシ）アルミニウムナトリウム）で還元し、得ら
れた２，３−ビス（ヒドロキシメチル）化合物の水酸基
を保護したのちに酸化剤（例えばメタクロロ過安息香
酸）で酸化し、さらに所望により生成物から水酸基の保
護基を除去して製造することができる。

【０１０１】さらに、化合物〔ＶＩ〕は、例えば化合物
〔ＸＩＩ〕と含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを、化合物〔Ｉ
Ｉ〕と含窒素化合物〔ＩＩＩ〕との反応と同様の条件下
に反応させることにより製造することができる。また、
化合物〔ＶＩ〕は、化合物〔ＸＶ〕とハロゲノ含窒素化
合物〔Ｖ〕とを、化合物〔ＩＶ〕とハロゲノ含窒素化合
物〔Ｖ〕との反応と同様の条件下に反応させることによ
り製造することもできる。

【０１０２】なお、本明細書において、アルキル基とし
ては、炭素数１〜１６、とりわけ炭素数１〜８の直鎖状
又は分岐鎖状のものが挙げられ、低級アルキル基及び低
級アルコキシ基としては炭素数１〜６、とりわけ１〜４
のものが挙げられる。又、低級アルケニル基、低級アル
キニル基、低級アルキレンジオキシ基、低級アルカノイ
ル基としては炭素数２〜７、とりわけ２〜５の直鎖状又
は分岐鎖状のものが挙げられる。更に、シクロアルキル
基としては炭素数３〜８、とりわけ３〜６のものが挙げ
られる。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、フッ素又
はヨウ素が挙げられる。

【０１０３】

【実験例】

実験例１（抗原誘発気管支収縮抑制作用）ハートレイ（Ｈａｒｔｌｅｙ）系雄性モルモットをウサ
ギ抗卵白アルブミン抗血清を静脈内投与することにより
受動感作した。翌日、α−クロラロース（１２０ｍｇ／
ｋｇ，ｉ．ｖ．）で麻酔し、気管カニューレ挿入後、人
工呼吸下で、ガラミントリエチオダイド（５ｍｇ／ｋ
ｇ，ｉ．ｖ．）により不動化した。気管に及ぼす作用
は、Ｋｏｎｚｅｔｔ−Ｒｏｅｓｓｌｅｒ法〔ナウニン−
シュミーデベルグス・アルヒーフ・ヒュアー・エクスペ
リメンテレ・パソロジー・ウント・ファーマコロジー
（Ｎａｕｎｙｎ−Ｓｃｈｍｅｉｄｅｂｅｒｇ’ｓＡｒ
ｃｈｉｖｆｕｒＥｘｐｅｒｉｍｅｎｔｅｌｌｅＰ
ａｔｈｏｌｏｇｉｅｕｎｄＰｈａｒｍａｋｏｌｏｇｉ
ｅ）、１９５巻、７１頁、１９４０年〕により、測定し
た。検体化合物（後記製造例で得た化合物）（１ｍｇ／
ｋｇ）は、抗原（卵白アルブミン；３０μｇ／ｋｇ，
ｉ．ｖ．）投与の２分前に静脈投与した。

【０１０４】結果は下記第１表の通りである。

【０１０５】

【表１】

【０１０６】実験例２（ヒスタミン誘発気管支収縮抑制
作用）ハートレイ（Ｈａｒｔｌｅｙ）系雄性モルモットをα−
クロラロース（１２０ｍｇ／ｋｇ，ｉ．ｖ．）で麻酔
し、気管カニューレ挿入後、人工呼吸下で、ガラミン
トリエチオダイド（５ｍｇ／ｋｇ，ｉ．ｖ．）により不
動化した。人工呼吸の容量は、気管内圧がピーク時、約
１０ｃｍＨ₂Ｏになるように調節した。気管内圧は、気
管カニューレの側管より圧トランスデューサ（商品名：
ＴＰ−２００Ｔ、日本光電社製）を介し、圧ひずみ計
（商品名：ＡＰ−６２１Ｇ、日本光電社製）にて測定
し、リニアコーダ（ＷＲ３７０１、グラフテック社
製）上に記録した。検体化合物（後記製造例で得た化合
物）の気管支拡張作用は、ヒスタミン２塩酸（Ｈｉｓ
ｔ）による気管内圧の増加（気管支収縮）が一定になっ
た後、検体化合物を投与し、検体化合物投与前の反応に
対する抑制率から求めた。Ｈｉｓｔは１０分間隔で投与
し、検体化合物はＨｉｓｔ投与の５分前に１ｍｇ／ｋｇ
となるように十二指腸内へ投与した。

【０１０７】結果は下記第２表の通りである。

【０１０８】

【表２】

【０１０９】実験例３〔抗気道炎症作用〕１週間間隔で２回、１％卵白アルブミン（ＯＡ）溶液
（２０ｍｌ）を超音波ネブライザーにより１０分間吸入
させることにより感作したハートレイ（Ｈａｒｔｌｅ
ｙ）系雄性モルモットを最終感作から１週間後実験に用
いた。実験は、３０分前にピリラミン（１０ｍｇ／ｋ
ｇ）を腹腔内投与し、さらに１０％ジメチルスルフォキ
シド及び４０％エタノール含有生理食塩水に溶解した１
−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラ
ジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン
・塩酸塩を超音波ネブライザーにより１０分間吸入した
後、抗原（１％ＯＡ）を５分間吸入させ、２４時間後に
気管支肺胞洗浄を行い、洗浄液中の総白血球数及び好酸
球の百分率を求めた。検体化合物は炎症細胞浸潤抑制作
用を示し、ＥＣ３０は１．３ｍｇ／ｍｌであった。

【０１１０】実験例４〔ホスホジエステラーゼＩＶ阻
害作用〕（ホスホジエステラーゼＩＶ部分精製標品の調製）ハー
トレイ（Ｈａｒｔｌｅｙ）系雄性モルモットより摘出し
た肺のホモジネートを遠心分離して得られた上清を陰イ
オン交換カラムクロマトグラフィーにて分画し、以下
１．〜４．の条件を満たす画分を混合して、ホスホジエ
ステラーゼＩＶの部分精製標品とした。

【０１１１】１．ｃＡＭＰを選択的に水解すること２．そのｃＡＭＰ水解活性がｃＧＭＰによる影響を受け
ないこと３．ホスホジエステラーゼＩＩＩ選択的阻害薬であるＣ
Ｉ−９３０で阻害されないこと４．ホスホジエステラーゼＩＶ選択的阻害薬であるロリ
プラム（Ｒｏｌｉｐｒａｍ）により強く阻害されるこ
と。

【０１１２】（ホスホジエステラーゼＩＶ活性の測定）
トンプソンらの方法（アドバンス・イン・サイクリック
・ヌクレオチド・リサーチ〔Ａｄｖａｎｃｅｓｉｎ
ＣｙｃｌｉｃＮｕｃｌｅｏｔｉｄｅＲｅｓｅａｒｃ
ｈ〕、１０巻、ラベン・プレス、ニューヨーク、６９〜
９２頁、１９７９年）を一部改変して行った。すなわ
ち、５０ｍＭＴｒｉｓ−ＨＣｌ、ｐＨ８．０で全基質
の約１０％を水解するように希釈したホスホジエステラ
ーゼＩＶ部分精製標品１００μｌをガラス製試験管に加
えた。反応用緩衝溶液（５０ｍＭＴｒｉｓ−ＨＣｌ、ｐ
Ｈ８．０、１２．５ｍＭＭｇＣｌ₂、１０ｍＭ２
−メルカプトエタノール）を２００μｌ加えた後、ジメ
チルスルフォキサイドに溶解した検体化合物（後記製造
例で得た化合物）（１００倍濃度）を５μｌ加えた。３
０℃で５分間プレインキュベートした後、２．５μＭ
［³Ｈ］ｃＡＭＰ（３．７ｋＢｑ／２００μｌ）を２０
０μｌ加え、反応を開始した（終濃度５０ｍＭＴｒｉ
ｓ−ＨＣｌ、ｐＨ８．０、５ｍＭＭｇＣｌ₂、４ｍ
Ｍ２−メルカプトエタノール）。３０℃で３０分間の
反応後、試験管を沸騰水浴中に移し、反応を停止した。
９０秒後、試験管を氷水浴中に移し、反応液の温度を下
げた。３０℃、５分間のプレインキュベートの後、１ｍ
ｇ／ｍｌヘビ毒水溶液１００μｌを添加し、３０℃で３
０分間反応させた。メタノール５００μｌを添加するこ
とにより反応を停止させた後、ダウエックス樹脂（商品
名：Ｄｏｗｅｘ１ｘ８、シグマ社製）２００μｌを予
め加えておいたカラムに反応液１ｍｌを供した。続いて
メタノール１ｍｌを加えることにより、ダウエックス樹
脂を洗浄した。反応液のカラム通過液と洗浄液とを合
し、その放射活性を測定した。

【０１１３】酵素標品を加えずに緩衝溶液のみを加えた
ものをブランク、酵素標品を加えるが検体溶液の代わり
にジメチルスルフォキシドのみを加えたものをコントロ
ールとし、各検体のコントロールに対する阻害率を計算
した。各検体のＩＣ５０値の計算は、３点以上の濃度に
おける阻害率を求め、４−パラメータロジスティックエ
クエイション（４−ｐａｒａｍｅｔｅｒｌｏｇｉｓｔ
ｉｃｅｑｕａｔｉｏｎ）に回帰することにより行っ
た。

【０１１４】結果は下記第３表の通りである。

【０１１５】

【表３】

【０１１６】

【製造例】上記例示の方法で合成されるナフタレン誘導
体、並びに同様の製法による本発明の有効成分である一
般式〔Ｉ〕のナフタレン誘導体をまとめて下記第４〜１
７表に具体的に示す。

【０１１７】

【表４】

【０１１８】

【表５】

【０１１９】

【表６】

【０１２０】

【表７】

【０１２１】

【表８】

【０１２２】

【表９】

【０１２３】

【表１０】

【０１２４】

【表１１】

【０１２５】

【表１２】

【０１２６】

【表１３】

【０１２７】

【表１４】

【０１２８】

【表１５】

【０１２９】

【表１６】

【０１３０】

【表１７】

【０１３１】

【表１８】

【０１３２】

【表１９】

【０１３３】

【表２０】

【０１３４】

【表２１】

【０１３５】

【表２２】

【０１３６】

【表２３】

【０１３７】

【表２４】

【０１３８】

【表２５】

【０１３９】

【表２６】

【０１４０】

【表２７】

【０１４１】

【表２８】

【０１４２】製造例１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジエトキシナフタレンのＮ−オキシド
３．５ｇ及び１−クロロイソキノリン１．２６ｇのメシ
チレン３０ｍｌ懸濁液を１５０〜１６０℃で加熱撹拌す
る。反応後溶媒を留去し、残渣に塩化メチレン及び炭酸
水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取す
る。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロ
ホルム：アセトン＝３０：１）で精製して第４表記載の
１−〔２−（１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリ
ン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセ
トキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン１．８
５ｇを得る。

【０１４３】ｍ．ｐ．９０−９３℃ 製造例２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
２．１３ｇ及び２−クロロキノリン１．６４ｇのジメチ
ルホルムアミド５ｍｌ懸濁液に塩化水素−ジオキサン溶
液を数滴注ぎ、１２０〜１３０℃で加熱撹拌する。反応
後溶媒を留去し、残渣に塩化メチレン及び炭酸水素ナト
リウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取する。得ら
れた塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し残渣を
得た。得られた残渣に、氷冷下にてピリジン５ｍｌ及び
無水酢酸１．０ｍｌを加え、室温にて２時間撹拌する。
反応後溶媒を留去し、残渣に酢酸エチル及び水を加え、
酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝５：１）で精製
して第４表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジ
ヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３
−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレン１．２０ｇを得る。

【０１４４】ｍ．ｐ．１８１−１８４℃ 製造例３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
３．５ｇ及び２−クロロ−５−ニトロピリジン１３．０
ｇのキシレン３０ｍｌ懸濁液に、臭化水素−酢酸溶液を
数滴注ぎ、１４０〜１５０℃で加熱撹拌する。反応後溶
媒を留去し、残渣にクロロホルム及び炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加え、クロロホルム層を分取する。クロロホ
ルム層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセ
トン＝５０：１）で精製して第４表記載の１−〔２−
（２−オキソ−１，２−ジヒドロ−５−ニトロピリジン
−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセト
キシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．８３
ｇを得る。

【０１４５】ｍ．ｐ．８１−８４℃ 製造例４１−〔２−（１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリ
ン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセ
トキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン１．８
４ｇのメタノール５０ｍｌ溶液に、氷冷下にナトリウム
メトキシド０．５２ｇを加える。室温で２時間半撹拌
し、さらに氷冷下にナトリウムメトキシド０．１７ｇを
加え、室温で１時間撹拌する。反応混合物に氷冷下に酢
酸０．７４ｍｌを加え、溶媒を留去する。残渣に塩化メ
チレン及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチ
レン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶媒；クロロホルム：エタノール＝２５：１）で精製
して第４表記載の１−〔２−（１−オキソ−１，２−ジ
ヒドロイソキノリン−２−イル）−４−ピリジル〕−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキ
シナフタレン０．９５ｇを得る。

【０１４６】ｍ．ｐ．１３１−１３４℃ 製造例５１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロ−５−ニト
ロピリジン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビ
ス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ン１．８３ｇのメタノール５０ｍｌ溶液に、氷冷下にナ
トリウムメトキシド０．７２ｇを加える。室温で１時間
撹拌する。反応混合物に氷冷下に酢酸０．８ｍｌを加
え、溶媒を留去する。残渣にクロロホルム及び炭酸水素
ナトリウム水溶液を加え、クロロホルム層を分取する。
クロロホルム層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホル
ム：アセトン＝３：１）で精製後、酢酸エチルにて結晶
化し第４表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジ
ヒドロ−５−ニトロピリジン−１−イル）−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン０．８１ｇを得る。

【０１４７】ｍ．ｐ．２４８−２５１℃（分解）製造例６（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レン１５．０ｇのテトラヒドロフラン１５０ｍｌ懸濁液
に水素化ホウ素ナトリウム６．１６ｇを加え加熱還流す
る。該加熱還流下の混合物にメタノール６０ｍｌ及びテ
トラヒドロフラン６０ｍｌの混液を５時間かけて滴下す
る。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に塩化メチレン及
び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を
分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去
し、残渣をイソプロピルエーテルで結晶化して１−（２
−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシ
メチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１１．８６ｇ
を得る。

【０１４８】ｍ．ｐ．１７７−１７９℃ （２）２−ヒドロキシキノキサリン２．９２ｇのジメチ
ルホルムアミド２０ｍｌ溶液を窒素雰囲気下氷冷し、６
０％水素化ナトリウム０．７８ｇを加え、室温で１５分
間撹拌する。ついで該混合物にヨウ化銅（Ｉ）４．１９
ｇを加え、１２０℃で１５分間撹拌する。該混合物を室
温に戻し、１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレン２．０２ｇを加え、１２０℃で５時間撹拌する。
反応終了後酢酸エチル及びアンモニア水を加え、酢酸エ
チル層を分取する。酢酸エチル層をろ過後、洗浄、乾燥
し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２０：
１）で精製して第５表記載の１−〔２−（２−オキソ−
１，２−ジヒドロキノキサリン−１−イル）−４−ピリ
ジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−
ジメトキシナフタレン４５０ｍｇを得る。

【０１４９】ｍ．ｐ．１５８−１６５℃（分解）製造例７２−ヒドロキシ−４−〔２−（１−ピペリジノ）エチ
ル〕アミノキノリン３．２６ｇのジメチルホルムアミド
１０ｍｌ溶液を窒素雰囲気下氷冷し、６０％水素化ナト
リウム０．４８ｇを加え、室温で１５分間撹拌する。つ
いで該混合物にヨウ化銅（Ｉ）２．２９ｇを加え、１２
０℃で３０分間撹拌する。該混合物を室温に戻し、１−
（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン２．４３
ｇを加え、１２０℃で５時間撹拌する。反応終了後酢酸
エチル及びアンモニア水を加え、酢酸エチル層を分取す
る。酢酸エチル層をろ過後、洗浄、乾燥し、溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：メタノール＝６：１）で精製後、塩
化水素−ジオキサン溶液を数滴注ぎ、結晶化させ、さら
に洗浄後乾燥させ、第５表記載の１−｛２−〔２−オキ
ソ−４−〔２−（１−ピペリジノ）エチル〕アミノ−
１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン・塩酸塩２１０ｍｇを得る。

【０１５０】ｍ．ｐ．＞２２０℃ 製造例８〜５７１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと対
応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを製造例６−（２）もしく
は製造例７と同様に処理して第５表記載の化合物を得
る。

【０１５１】製造例５８（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキ
シナフタレンを製造例６−（１）と同様に処理して１−
（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレン
を得る。

【０１５２】ｍ．ｐ．１５６−１５７℃ （２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを製造例７
と同様に処理して第６表記載の１−｛２−〔４−（３−
ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕ピ
リジン−４−イル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩
を得る。

【０１５３】ｍ．ｐ．２１５−２１８℃（分解）（３）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕ピリジン−４−イル｝−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−エトキシ−７
−メトキシナフタレン・硫酸塩ｍ．ｐ．＞２５０℃ （４）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕ピリジン−４−イル｝−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−エトキシ−７
−メトキシナフタレン・メタンスルホン酸塩ｍ．ｐ．２０５−２１５℃（分解）製造例５９〜６０（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）ナフタレンを製造例６−
（１）と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジ
ル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）ナフタレンを
得る。

【０１５４】ｍ．ｐ．１０８−１０９℃ （２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを製造例６
−（２）もしくは製造例７と同様に処理して第６表記載
の化合物を得る。

【０１５５】製造例６１〜６２（１）１−（２−ブロモ−５−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンを製造例６−（１）と同様に処理して１−（２−ブ
ロモ−５−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１５６】ｍ．ｐ．１８５−１８６℃（分解）（２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを製造例６
−（２）もしくは製造例７と同様に処理して第７表記載
の化合物を得る。

【０１５７】製造例６３（１）１−（２−ブロモ−６−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レン７１５ｍｇのテトラヒドロフラン２０ｍｌ懸濁液に
水素化ホウ素リチウム１７４ｍｇを加え加熱還流する。
該加熱還流下の混合物にメタノール２．２ｍｌ及びテト
ラヒドロフラン１０ｍｌの混液を２時間かけて滴下す
る。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に酢酸エチル及び
水を加え、酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層を洗
浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝１
５：１）で精製して１−（２−ブロモ−６−ピリジル）
−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメト
キシナフタレン５０５ｍｇを得る。

【０１５８】ｍ．ｐ．１０７−１０８℃ （２）１−（２−ブロモ−６−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンと対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを製造例６−（２）
と同様に処理して第８表記載の１−〔２−（２−オキソ
−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）ピリジン−６
−イル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７
−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１５９】ｍ．ｐ．１４２−１４３℃ 製造例６４１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンとフ
タルイミドのカリウム塩とを製造例６−（２）と同様に
処理して１−（２−フタルイミド−４−ピリジル）−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキ
シナフタレンの加水分解物である第９表記載の１−（２
−アミノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシ
メチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１６０】ｍ．ｐ．９９−１０３℃ 製造例６５１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと２
−オキソベンゾオキサゾリジンとを製造例６−（２）と
同様に処理して１−〔２−（２−オキソベンゾオキサゾ
リジン−３−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
の加水分解物である第９表記載の１−〔２−（２−ヒド
ロキシフェニル）アミノ−４−ピリジル〕−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンを得る。

【０１６１】ｍ．ｐ．９０−９３℃ 製造例６６（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オ
キシド１．９９ｇのトルエン１０ｍｌ懸濁液に２−クロ
ロキノリン３．２７ｇを加える。ついで３０％臭化水素
−酢酸溶液５滴を加え１５時間加熱還流する。溶媒留去
後、残渣に水及び塩化メチレンを加え、ついで炭酸水素
ナトリウム水溶液を加えてｐＨ８に調整する。塩化メチ
レンで抽出後、洗浄、乾燥し、溶媒を留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホ
ルム：アセトン＝４：１）で精製して１−〔２−（２−
オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−
ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−
６，７−ジメトキシナフタレン２．６０ｇを得る。

【０１６２】ｍ．ｐ．＞２３０℃ （２）１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノ
リン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メ
トキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン２
００ｍｇのテトラヒドロフラン懸濁液に、水素化ホウ素
ナトリウム３６ｍｇを加え加熱還流する。該加熱還流下
の混合物にメタノール０．３ｍｌを１時間かけて滴下す
る。該混合物を室温に戻し、水素化ホウ素ナトリウム３
６ｍｇを加え、加熱還流下にメタノール０．３ｍｌを１
時間かけて滴下する。反応終了後、反応混合物に塩化メ
チレン及び希塩酸を加え、塩化メチレン層を分取する。
塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホル
ム：メタノール＝２０：１）で精製して第９表記載の１
−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１
−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシ
メチル）−６，７−ジメトキシナフタレン９０ｍｇを得
る。

【０１６３】ｍ．ｐ．＞２３０℃（酢酸エチルから再
結晶）製造例６７（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オ
キシドと４−〔３−（１−イミダゾリル）プロピル〕ア
ミノ−２−クロロキノリンとを製造例６６−（１）と同
様に処理して下記第１８表記載の１−｛２−〔２−オキ
ソ−４−〔３−（１−イミダゾリル）プロピル〕アミノ
−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−
ジメトキシナフタレンを得る。

【０１６４】ｍ．ｐ．１４２−１４８℃ （２）本品２．２ｇのテトラヒドロフラン懸濁液に、水
素化ホウ素ナトリウム６４０ｍｇを加え加熱還流する。
該加熱還流下の混合物にメタノール５．４ｍｌ及びテト
ラヒドロフラン６ｍｌの混液を２時間かけて滴下する。
該混合物を室温に戻し、水素化ホウ素ナトリウム４００
ｍｇを加え、加熱還流下にメタノール３．４ｍｌを０．
５時間かけて滴下する。反応終了後、反応混合物に氷冷
下、水酸化ナトリウム水溶液及び塩化メチレンを加え、
塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾
燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２：１）
で精製後、ジオキサン／メタノール溶液に溶解し、塩化
水素−ジオキサン溶液を０．２９ｍｌ加えて結晶化さ
せ、さらに洗浄後乾燥させ、第９表記載の１−｛２−
〔２−オキソ−４−〔３−（１−イミダゾリル）プロピ
ル〕アミノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−
４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩９０ｍｇを得
る。

【０１６５】ｍ．ｐ．＞２２０℃ 製造例６８〜７２（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６，７−ジメトキシ（又はジエトキシ）
ナフタレンのＮ−オキシドと対応ハロゲノ含窒素化合物
〔Ｖ〕とを製造例６６−（１）と同様に処理して下記第
１８表記載の化合物を得る。

【０１６６】

【表２９】

【０１６７】（２）上記（１）で得られた生成物を製造
例６６−（２）と同様に処理して第９表記載の化合物を
得る。

【０１６８】製造例７３（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オ
キシドと２−クロロ−４−ベンジルオキシカルボニルメ
トキシキノリンとを製造例６６−（１）と同様に処理し
て１−〔２−（２−オキソ−４−ベンジルオキシカルボ
ニルメトキシ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）
−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１６９】ｍ．ｐ．１８６−１８９℃ （２）上記（１）で得られた生成物を製造例６６−
（２）と同様に処理して第９表記載の１−｛２−〔２−
オキソ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）−１，２−ジ
ヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレンを得る。

【０１７０】ｍ．ｐ．１００−１１０℃（分解）製造例７４（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オ
キシドと２−クロロ−４−モルホリノカルボニルキノリ
ンとを製造例６６−（１）と同様に処理して１−〔２−
（２−オキソ−４−モルホリノカルボニル−１，２−ジ
ヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３
−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナ
フタレンを得る。

【０１７１】ｍ．ｐ．２４７−２４９℃ （２）上記（１）で得られた生成物を製造例６６−
（２）と同様に処理して第９表記載の１−｛２−〔２−
（１−ヒドロキシメチル−３−ヒドロキシプロピル）フ
ェニルアミノ〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒド
ロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得
る。

【０１７２】ｍ．ｐ．２０４−２０７℃ 製造例７５〜８１（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンと対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを製造例６−
（２）と同様に処理して下記第１９表記載の化合物を得
る。

【０１７３】

【表３０】

【０１７４】（２）上記（１）で得られた生成物を製造
例６６−（２）と同様に処理して第９〜１０表記載の化
合物を得る。

【０１７５】製造例８２（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンと４−ヒドロキシキノリンとを製造例６−（２）と
同様に処理して１−〔２−（４−オキソ−１，４−ジヒ
ドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−
ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフ
タレンを得る。

【０１７６】ｍ．ｐ．２６４−２６６℃（分解）（２）上記（１）で得られた生成物を製造例６６−
（２）と同様に処理して第１０表記載の１−〔２−（４
−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン
−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１７７】ｍ．ｐ．９０−９４℃ 製造例８３（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンと５−メチル−２−オキソピロリジンとを製造例６
−（２）と同様に処理して１−〔２−（５−メチル−２
−オキソピロリジン−１−イル）−４−ピリジル〕−
２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメト
キシナフタレンを得る。

【０１７８】ｍ．ｐ．１８４−１８６℃ （２）上記（１）で得られた生成物を製造例６６−
（２）と同様に処理して第１０表記載の１−〔２−（１
−メチル−４−ヒドロキシブチル）アミノ−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレンを得る。

【０１７９】ｍ．ｐ．５７−６１℃ 製造例８４（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンと２−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノ
リンとを製造例６−（２）と同様に処理して１−〔２−
（２−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン
−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得
る。

【０１８０】ｍ．ｐ．２２９−２３３℃ （２）上記（１）で得られた生成物を製造例６６−
（２）と同様に処理して第１０表記載の１−｛２−〔２
−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル〕アミノ−４−
ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，
７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１８１】ｍ．ｐ．１５６−１５８℃ 製造例８５１−〔２−（２−オキソ−４−メトキシメトキシ−１，
２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキ
シナフタレン１．３９ｇをジオキサン１０ｍｌ及びメタ
ノール５ｍｌの混液に溶解し、該溶液に２Ｎ塩酸２ｍｌ
を加える。この溶液を５０℃に加温し、７時間撹拌後、
溶媒を留去する。残渣にクロロホルム及び水を加え、ク
ロロホルム層を分取し、洗浄、乾燥後溶媒を留去する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；ク
ロロホルム：メタノール＝１０：１）で精製して第１０
表記載の１−〔２−（２−オキソ−４−ヒドロキシ−
１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン０．７９ｇを得る。

【０１８２】ｍ．ｐ．１６０−１７０℃ 製造例８６１−〔２−（１−オキソ−５−メトキシメトキシ−１，
２−ジヒドロイソキノリン−２−イル）−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレンを製造例８５と同様に処理して第１
０表記載の１−〔２−（１−オキソ−５−ヒドロキシ−
１，２−ジヒドロキノリン−２−イル）−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレンを得る。

【０１８３】ｍ．ｐ．１３８−１４０℃ 製造例８７１−〔２−（２−オキソ−４−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−
ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，
７−ジメトキシナフタレン０．９６ｇを氷冷下に４Ｎの
塩化水素−ジオキサン溶液２５ｍｌに加え、室温で１晩
撹拌する。溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール：酢酸
＝９０：１０：３）で精製し、酢酸エチルで結晶化して
第１０表記載の１−〔２−（２−オキソ−４−カルボキ
シ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリ
ジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−
ジメトキシナフタレン０．４１ｇを得る。

【０１８４】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 製造例８８１−｛２−〔２−オキソ−４−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）アミノカルボニル−
１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン１．９ｇのテトラヒドロフラン２０
ｍｌ溶液に、氷冷下にフッ化テトラブチルアンモニウム
のテトラヒドロフラン溶液（１．０Ｍ）２．８ｍｌを加
え、室温で１時間撹拌する。反応終了後、溶媒を留去
し、塩化メチレン及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加
え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗
浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝１
０：１〜５：１）で精製し、エーテルで粉末化して第１
０表記載の１−｛２−〔２−オキソ−４−ビス（２−ヒ
ドロキシエチル）アミノカルボニル−１，２−ジヒドロ
キノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
０．６８ｇを得る。

【０１８５】ｍ．ｐ．６５−６８℃ 製造例８９１−｛２−〔２−オキソ−４−〔４−（２−ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチル）ピペラジン−１−
イル〕カルボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イ
ル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを製造例８８と同
様に処理して第１０表記載の１−｛２−〔２−オキソ−
４−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン−１−
イル〕カルボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イ
ル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレン得る。

【０１８６】ｍ．ｐ．１５０−１５３℃ 製造例９０〜９２１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン３．１ｇの
ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液を、ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニルグリシン２．１ｇ及びカルボニルジイミ
ダゾール２．１４ｇのジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液
を３０分間撹拌したものに加え、室温で一晩撹拌する。
残渣に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分取す
る。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホ
ルム：メタノール＝２０：１）で精製して第１１表記載
の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン
−１−イル）−４−ピリジル〕−２−（ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）
−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレ
ン０．８ｇ（製造例９０）、１−〔２−（２−オキソ−
１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジ
ル〕−２−ヒドロキシメチル−３−（ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン１．２ｇ（製造例９１）
及び１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリ
ン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニルオキ
シメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン０．４７ｇ
（製造例９２）を得る。

【０１８７】（製造例９０）ｍ．ｐ．１２０−１２２℃ （製造例９１）ｍ．ｐ．１３６−１３８℃ （製造例９２）油状物製造例９３１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−
３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカル
ボニルオキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
７００ｍｇにトリフルオロ酢酸５ｍｌを加えて溶解し室
温にて１時間撹拌する。反応終了後、溶媒を留去し、メ
タノール及び１５％塩化水素−メタノール溶液２０ｍｌ
を加えた。溶媒を留去し、残渣をエーテルで粉末化して
第１１表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒ
ドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒド
ロキシメチル−３−アミノメチルカルボニルオキシメチ
ル−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩５１０ｍｇ
を得る。

【０１８８】ｍ．ｐ．１２６−１２８℃（分解）製造例９４１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２−（ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−
３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン
を製造例９３と同様に処理して第１１表記載の１−〔２
−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イ
ル）−４−ピリジル〕−２−アミノメチルカルボニルオ
キシメチル−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキ
シナフタレン・塩酸塩を得る。

【０１８９】ｍ．ｐ．１４６−１４９℃（分解）製造例９５１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメ
チル）−６，７−ジメトキシナフタレンを製造例９３と
同様に処理して第１１表記載の１−〔２−（２−オキソ
−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（アミノメチルカルボニルオキシメ
チル）−６，７−ジメトキシナフタレン・２塩酸塩を得
る。

【０１９０】ｍ．ｐ．１６５−１６８℃（分解）製造例９６〜９７１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン４６８ｍｇ
のジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液に、水素化ナトリウ
ム６０ｍｇを加え３０分間撹拌する。該溶液を氷冷下に
付し、エチルブロモアセテート０．１７ｍｌを滴下し一
晩撹拌する。残渣に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチ
ル層を分取する。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：アセトン＝５：１）で精製して第１
１表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロ
キノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−エトキシ
カルボニルメトキシメチル−３−ヒドロキシメチル−
６，７−ジメトキシナフタレン７０ｍｇ（製造例９
６）、１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノ
リン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメ
チル−３−エトキシカルボニルメトキシメチル−６，７
−ジメトキシナフタレン１２０ｍｇ（製造例９７）を得
る。

【０１９１】（製造例９６）ｍ．ｐ．１９０−１９２℃ （製造例９７）ｍ．ｐ．１２４−１２６℃ 製造例９８１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−
３−エトキシカルボニルメトキシメチル−６，７−ジメ
トキシナフタレン２００ｍｇのテトラヒドロフラン５ｍ
ｌ溶液に１規定水酸化ナトリウム溶液０．３６ｍｌを加
え撹拌する。該溶液に更にメタノール５ｍｌを加え２０
分間加熱還流する。反応液を室温まで冷却し１規定塩酸
０．３６ｍｌを加えｐＨ約４にする。反応液にクロロホ
ルムを加え、クロロホルム層を分取する。クロロホルム
層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、精製することなく残渣
に塩化メチレン５ｍｌを加えジシクロヘキシルカルボジ
イミド８３ｍｇ及び１−ハイドロキシベンゾトリアゾー
ル６１ｍｇを加え室温にて３０分間撹拌する。該溶液に
１−メチルピペラジン５０ｍｇを加え一晩撹拌する。反
応液を水洗後、溶媒を留去しシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝１０：
１）で精製して第１１表記載の１−〔２−（２−オキソ
−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジ
ル〕−２−ヒドロキシメチル−３−（４−メチルピペラ
ジン−１−イル）カルボニルメトキシメチル−６，７−
ジメトキシナフタレン１５０ｍｇを得る。

【０１９２】ｍ．ｐ．１００−１０２℃ 製造例９９（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンを製造例６−（１）と同様に処理して１−（２−ク
ロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１９３】（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）
−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメト
キシナフタレン２．０ｇ及びピペラジンの混合物を１３
０℃で９０分間撹拌する。該混合物を室温に戻し、反応
終了後塩化メチレン及び水を加え、塩化メチレン層を分
取する。溶媒を留去し、残渣をエタノールに溶解後、４
規定塩化水素−ジオキサン溶液２．８ｍｌを加え塩酸塩
とし、溶媒留去後、エタノールで結晶化し、第１１表記
載の１−〔２−（１−ピペラジニル）−４−ピリジル〕
−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメト
キシナフタレン・２塩酸塩１．５７ｇを得る。

【０１９４】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 製造例１００〜１０１１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと対
応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを製造例９９（２）と同様
に処理して第１２表記載の化合物を得る。

【０１９５】製造例１０２１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．
８ｇ及び１，４−ジオキサ−８−アザスピロ［４，５］
デカンの混合物を１４０℃で１８時間撹拌する。該混合
物を室温に戻し、反応終了後クロロホルム及び水を加
え、クロロホルム層を分取する。溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホ
ルム：アセトン＝５：１）で精製し、第１２表記載の１
−〔２−（１，４−ジオキサ−８−アザスピロ［４，
５］デシ−８−イル）ピリジン−４−イル〕−２，３−
ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタ
レン１．５４ｇ（収率；６２％）を得る。

【０１９６】ｍ．ｐ．１００−１０３℃ 製造例１０３１−［２−（１，４−ジオキサ−８−アザスピロ［４，
５］デカ−８−イル）ピリジン−４−イル］−２，３−
ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタ
レン１．４０ｇと７０％過塩素酸３．６２ｍｌ、テトラ
ヒドロフラン１５ｍｌ及び水１０ｍｌの混合物を室温に
て３日間撹拌する。反応終了後、クロロホルム及び水を
加え、クロロホルム層を分取する。溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロ
ホルム：アセトン＝２：１）で精製後、クロロホルムに
溶解し、４規定塩化水素−ジオキサン溶液を加え溶媒留
去して第１２表記載の１−〔２−（４−オキソ−１−ピ
ペリジニル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩
８２８ｍｇを得る。

【０１９７】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 製造例１０４（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−７−エトキ
シナフタレンを製造例６−（１）と同様に処理して１−
（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレン
を得る。

【０１９８】ｍ．ｐ．１２３−１２６℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシ
ナフタレン１６．０ｇのヒドラジン水和物５０ｍｌ懸濁
液を４時間加熱還流する。該加熱還流下の混合物を室温
まで戻し、水を加え結晶を濾過する。結晶を水にて洗
浄、乾燥して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７
−エトキシナフタレン１４．５ｇを得る。

【０１９９】ｍ．ｐ．１９７−２００℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エト
キシナフタレン２．０ｇ、（２−カルボキシフェニル）
−（３−ピリジル）ケトン１．３５ｇ及びエチレングリ
コール５ｍｌの混合物を２時間加熱還流する。該加熱還
流下の混合物を室温まで戻し、塩化メチレン及び水を加
え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗
浄、乾燥後溶媒を留去し、クロロホルムにて結晶化す
る。析出物をクロロホルム−メタノール混液にて溶解
し、その後、４規定塩化水素−ジオキサン溶液０．６７
ｍｌを加え第１３表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリ
ジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−
ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−
メトキシ−７−エトキシナフタレン・塩酸塩１．４３ｇ
を得る。

【０２００】ｍ．ｐ．２１１−２１５℃（分解）製造例１０５（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタ
レンを製造例６−（１）と同様に処理して１−（２−ク
ロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジエトキシナフタレンを得る。

【０２０１】ｍ．ｐ．１４８−１５０℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレ
ンを製造例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−
ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンを得る。

【０２０２】ｍ．ｐ．２２５−２３０℃（分解）（３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフ
タレンを製造例１０４−（３）と同様に処理して第１３
表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２
Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキ
シナフタレン・塩酸塩を得る。

【０２０３】ｍ．ｐ．２０７−２１１℃（分解）製造例１０６〜１０７（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンを製造例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−
ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２０４】ｍ．ｐ．２１４−２２０℃ （２）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレンと対応カルボン酸誘導体〔ＶＩＩ〕を製造例１０
４−（３）と同様に処理して第１３表記載の化合物を得
る。

【０２０５】製造例１０８１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
２．０ｇ、無水フタル酸０．９２ｇ及びエチレングリコ
ール１０ｍｌの混合物を１３０℃で２時間加熱撹拌す
る。該加熱下の混合物を室温まで戻し、塩化メチレン及
び水を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン
層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、エタノールにて結晶化
する。このことにより、第１３表記載の１−〔２−（４
−ヒドロキシ−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル）
−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）
−６，７−ジメトキシナフタレン１．６８ｇ（収率；６
１％）を得る。

【０２０６】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 製造例１０９１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
２．０ｇ及び酢酸２０ｍｌの混合物を室温で９６時間撹
拌する。反応終了後塩化メチレン及び炭酸カリウム水溶
液を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層
から溶媒を留去し、クロロホルムで結晶化し、第１３表
記載の１−〔２−（２−アセチルヒドラジノ）ピリジン
−４−イル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン０．８４ｇを得る。

【０２０７】ｍ．ｐ．１５４−１５６℃ 製造例１１０〜１１１（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２−メトキ
シカルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタ
レンを製造例６−（１）と同様に処理して１−（２−ブ
ロモ−４−ピリジル）−２−ヒドロキシメチル−３−メ
チル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２０８】ｍ．ｐ．１０６−１０８℃ （２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを製造例６
−（２）と同様に処理して第１４表記載の化合物を得
る。

【０２０９】製造例１１２〜１１４（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２−メトキ
シカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを製造例
６−（１）と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピ
リジル）−２−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシ
ナフタレンを得る。

【０２１０】ｍ．ｐ．１５０−１５３℃ （２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを製造例６
−（２）もしくは製造例７と同様に処理して第１４表記
載の化合物を得る。

【０２１１】製造例１１５（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−
メトキシナフタレンを製造例６−（１）と同様に処理し
て１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メト
キシナフタレンを得る。

【０２１２】ｍ．ｐ．２１５−２１７℃（分解）（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メ
トキシナフタレンを製造例１０４−（２）と同様に処理
して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−
ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−
メトキシナフタレンを得る。

【０２１３】ｍ．ｐ．１５５−１５７℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７
−メトキシナフタレンを製造例１０４−（３）と同様に
処理して第１５表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベ
ンジルオキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得
る。

【０２１４】ｍ．ｐ．２１９−２２１℃（分解）製造例１１６１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタ
ラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メト
キシナフタレン０．７３ｇのジクロロメタン（１０ｍ
ｌ）溶液に、氷冷下、無水酢酸０．７ｍｌ及びトリエチ
ルアミン１．３ｍｌを滴下して室温にて終夜撹拌する。
ジクロロメタンで希釈し、水洗、乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣の酢酸（５０ｍｌ）溶液に１０％パラジウム−
カーボン（Ｐｄ−Ｃ）０．１ｇを加え、Ｐａｒｒ還元装
置を用いて室温で終夜中圧接触還元する。触媒をろ去
後、ろ液を減圧濃縮し、得られる残渣をメタノール（１
０ｍｌ）に溶解する。得られたメタノール溶液に、氷冷
下、ナトリウムメトキシド０．２ｇを加える。室温で３
時間撹拌後、反応混合物に氷冷下、希塩酸を加え、溶媒
を減圧留去する。残渣に水を加え、ジクロロメタン抽出
する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を酢
酸エチルにて結晶化後、４規定塩化水素−酢酸エチル溶
液を加えて、第１５表記載の１−｛２−〔４−（３−ピ
リジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４
−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６
−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩０．１
５ｇ（収率２５％）を得る。

【０２１５】ｍ．ｐ．＞２７０℃ 製造例１１７（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−
メトキシナフタレン６．６ｇの酢酸−ジオキサン（１：
１）１０００ｍｌ混合懸濁液に１０％パラジウム−カー
ボン（Ｐｄ−Ｃ）２ｇを加え、Ｐａｒｒ還元装置を用い
て室温で終夜中圧接触還元する。更に、酢酸−ジオキサ
ン混液（１０００ｍｌ）加え、１０％パラジウム−カー
ボン（Ｐｄ−Ｃ）２ｇを加え、同様にＰａｒｒ還元装置
を用いて室温で約１８時間中圧接触還元する。触媒をろ
去後、ろ液を減圧濃縮し、得られる残渣をエタノールで
結晶化することにより、１−（２−クロロ−４−ピリジ
ル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ヒド
ロキシ−７−メトキシナフタレン３．３５ｇ（収率６２
％）を得る。

【０２１６】ｍ．ｐ．２３１−２３３℃（分解）（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−ヒドロキシ−７−メト
キシナフタレン３．３４ｇのジメチルホルムアミド１５
０ｍｌ溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム０．４ｇを加
え室温で３０分間撹拌する。該溶液に臭化シクロペンタ
ン１．８ｍｌを滴下し、８０℃で一晩撹拌する。更に１
３０℃に昇温し２時間撹拌後、残渣にクロロホルム及び
水を加え、クロロホルム層を分取する。クロロホルム層
を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をエタノールで結
晶化することにより、１−（２−クロロ−４−ピリジ
ル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−シク
ロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレン１．２４ｇ
（収率３２％）を得る。

【０２１７】ｍ．ｐ．１７９−１８１℃ （３）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−シクロペンチルオキシ
−７−メトキシナフタレンを製造例６−（１）と同様に
処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−
ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキシ
−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２１８】ｍ．ｐ．２００−２０１℃ （４）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキシ−
７−メトキシナフタレンを製造例１０４−（２）と同様
に処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチ
ルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２１９】ｍ．ｐ．１２７−１３０℃ （５）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキ
シ−７−メトキシナフタレンを製造例１０４−（３）と
同様に処理して第１５表記載の１−｛２−〔４−（３−
ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−
４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６−シクロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレン・
塩酸塩を得る。

【０２２０】ｍ．ｐ．２１５−２１７℃（分解）製造例１１８（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−イソプロピルオキシ−
７−メトキシナフタレンを製造例６−（１）と同様に処
理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ−７
−メトキシナフタレンを得る。

【０２２１】ｍ．ｐ．１２９−１３１℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ−７
−メトキシナフタレンを製造例１０４−（２）と同様に
処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，
３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキ
シ−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２２２】ｍ．ｐ．１２８−１３１℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ
−７−メトキシナフタレンを製造例１０４−（３）と同
様に処理して第１５表記載の１−｛２−〔４−（３−ピ
リジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４
−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６
−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸
塩を得る。

【０２２３】ｍ．ｐ．２０３−２０６℃（分解）製造例１１９（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−ブトキシ−７−メトキ
シナフタレンを製造例６−（１）と同様に処理して１−
（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレン
を得る。

【０２２４】ｍ．ｐ．９３−９７℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシ
ナフタレンを製造例１０４−（２）と同様に処理して１
−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシナ
フタレンを得る。

【０２２５】ｍ．ｐ．９３−９７℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メト
キシナフタレンを製造例１０４−（３）と同様に処理し
て第１５表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−
１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキ
シ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得る。

【０２２６】ｍ．ｐ．１９８−２０１℃（分解）製造例１２０（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−オクチルオキシ−７−
メトキシナフタレンを製造例６−（１）と同様に処理し
て１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−メト
キシナフタレンを得る。

【０２２７】ｍ．ｐ．９８−１０２℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−メ
トキシナフタレンを製造例１０４−（２）と同様に処理
して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−
ビス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−
メトキシナフタレンを得る。

【０２２８】ｍ．ｐ．９８−１０２℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７
−メトキシナフタレンを製造例１０４−（３）と同様に
処理して第１５表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−オ
クチルオキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得
る。

【０２２９】ｍ．ｐ．１９０−１９３℃（分解）製造例１２１（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンを製造例１０４−（２）と同様に処理して、１−（２
−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得た
後、本品と対応原料化合物〔ＶＩＩ〕とを製造例１０４
−（３）と同様に処理して、１−｛２−〔４−（３−ピ
リジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４
−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレンの粗精製物（７５．５
ｇ）を得る。当該粗精製物のクロロホルム−メタノール
（３：１）（７００ｍｌ）溶液を活性炭３．７ｇにて活
性炭処理後、クロロホルム−メタノール（３：１）（３
００ｍｌ）で洗浄する。当該溶液に２規定塩酸６９ｍｌ
を加えた後、溶媒留去し、エタノール（１５０ｍｌ）に
て２回共沸し、溶媒を留去する。析出物をろ取、エタノ
ール（２００ｍｌ）にて洗浄後、５０℃にて終夜送風乾
燥し、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレン・塩酸塩８４ｇを得る。本品のクロロホルム−メ
タノール（３：１）（１０００ｍｌ）溶液に炭酸カリウ
ム水溶液（水３００ｍｌ中炭酸カリウム２３ｇ）を加え
て洗浄し、有機層を乾燥後、溶媒を結晶物が析出しない
程度留去する。エタノール３００ｍｌ加え、更にクロロ
ホルム及びメタノールを留去する。再度、エタノール
（３００ｍｌ）を加え、溶媒を一部留去する。析出物を
ろ取しエタノール（３００ｍｌ）で洗浄、５０℃で終夜
送風乾燥し、第１５表記載の１−｛２−〔４−（３−ピ
リジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４
−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン６６．６ｇ（収率８５
％）を得る。

【０２３０】ｍ．ｐ．２６９−２７０℃ （２）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレン・硫酸塩ｍ．ｐ．＞２６０℃ 製造例１２２（１）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフ
タレンと対応原料化合物〔ＶＩＩ〕とを製造例１０４−
（３）と同様に処理して、１−｛２−〔４−（３−ピリ
ジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−
ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，
７−ジエトキシナフタレンの粗生成物（６．５ｇ）を得
る。本品に室温下、エタノール−水（３３ｍｌ−１３ｍ
ｌ）混液を加え懸濁化する。当該懸濁液に３５％塩酸
（２．２ｍｌ）を滴下し溶解後、５０〜５５℃に昇温
し、活性炭（１．３ｇ）にて処理後、活性炭をろ別し、
エタノール−水（１３ｍｌ−７ｍｌ）で洗浄する。当該
溶液を４５〜５０℃まで加温し、水酸化ナトリウム水溶
液（水１３ｍｌ中水酸化ナトリウム１ｇ）を滴下し５５
〜６０℃で３時間撹拌後、室温にて終夜撹拌した後氷冷
し、析出物をろ取、５０％エタノール（１３ｍｌ）で洗
浄、５０℃にて終夜送風乾燥することにより、第１５表
記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフ
タレン５．６ｇ（収率８６％）を得た。

【０２３１】ｍ．ｐ．２２２℃ （２）製造例１２２−（１）で得られた生成物を製造例
１０４−（３）同様にして、塩化水素の代わりに硫酸で
処理して、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２
Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキ
シナフタレン・硫酸塩を得た。

【０２３２】ｍ．ｐ．＞２２０℃ （３）製造例１２２−（１）で得られた生成物を製造例
１０４−（３）同様にして、塩化水素の代わりにメタン
スルホン酸で処理して、１−｛２−〔４−（３−ピリジ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７
−ジエトキシナフタレン・メタンスルホン酸塩を得た。

【０２３３】ｍ．ｐ．１６０−１６３℃（分解）製造例１２３１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン
を製造例１０４−（３）と同様に処理して、１−｛２−
〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−
２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンの粗精製物
（７．０ｇ）を得た後、エタノール−水（３５ｍｌ−１
４ｍｌ）混液を加え、室温下懸濁化する。当該懸濁液に
３５％塩酸（２．３ｍｌ）を滴下し溶解後、５０〜５５
℃に昇温し、活性炭（１．４ｇ）にて活性炭処理後、エ
タノール−水（１４ｍｌ−７ｍｌ）で洗浄する。当該溶
液を３５℃まで加温し、水酸化ナトリウム水溶液（水１
４ｍｌ中水酸化ナトリウム１．１ｇ）を滴下し、二水和
物を接種する。氷冷下１時間撹拌した後、析出物をろ
取、５０％エタノール（１４ｍｌ）で洗浄、５０℃にて
終夜送風乾燥することにより、第１５表記載の１−｛２
−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン
−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン・二水和
物６．４ｇ（収率８６％）を得る。

【０２３４】ｍ．ｐ．１４１℃（１４１℃で融解し、
昇温することにより無水物化し結晶析出。２２２−２２
３℃で再度融解）製造例１２４（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−メトキ
シカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを製造例
６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピ
リジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシ
ナフタレンを得る。

【０２３５】ｍ．ｐ．１１５−１１８℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−ヒドロ
キシメチル−６，７−ジメトキシナフタレンを製造例１
０４−（２）と同様に処理して１−（２−ヒドラジノ−
４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメ
トキシナフタレンを得る。

【０２３６】ｍ．ｐ．１３９−１４４℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒ
ドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレンを製造
例１０４−（３）と同様に処理して第１６表記載の１−
｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジ
ノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−３−ヒドロキシメ
チル−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩を得る。

【０２３７】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 製造例１２５（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−カルボ
キシ−６，７−ジエトキシナフタレンのテトラヒドロフ
ラン５０ｍｌ懸濁液に窒素雰囲気下、５℃以下で水素化
ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム２
９．４ｍｌ（７０％トルエン溶液）とテトラヒドロフラ
ン２０ｍｌ混合溶液を滴下し、同温で１時間反応する。
反応終了後、メタノール１２ｍｌを加え、次いで６．２
５規定水酸化ナトリウム水溶液４８ｍｌを加え、５０℃
で１時間撹拌した。テトラヒドロフラン層を分取した
後、水層に塩化メチレンを加え、抽出した後、塩化メチ
レン層を分取する。有機層を合わせた後、溶媒を留去
し、再び塩化メチレンで抽出し、洗浄、乾燥後溶媒を留
去し、残査をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒；ク
ロロホルム：酢酸エチル＝４：１）で精製後、ジエチル
エーテルで結晶化し、１−（２−クロロ−４−ピリジ
ル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフ
タレン３．９４ｇを得る。

【０２３８】ｍ．ｐ．１３５−１３７℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−ヒドロ
キシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン３．９０ｇ
のヒドラジン水和物１７．８ｍｌ懸濁液を９時間加熱還
流する。該加熱還流下の混合物を室温で１０分間撹拌
し、氷冷下で１０分間撹拌し、塩化メチレン及び水を加
え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗
浄、乾燥後溶媒を留去し、残査をエタノール２０ｍｌに
加温溶解後、一夜放冷撹拌して１−（２−ヒドラジノ−
４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエ
トキシナフタレン３．１９ｇを得る。

【０２３９】ｍ．ｐ．１４７−１４９℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒ
ドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１．０
６ｇを製造例１０４−（３）と同様に処理して、第１７
表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２
Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−３
−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン・
塩酸塩１．４５ｇを得る。

【０２４０】ｍ．ｐ．１９７−２０１℃（分解）製造例１２６１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキ
シメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１７７ｍｇ、
１−カルボキシ−２−フェニルカルボニルベンゼン１９
１ｍｇ及びエチレングリコール１ｍｌを用いて、製造例
１０４−（３）と同様の操作により、第１７表記載の１
−〔２−（４−フェニル−１（２Ｈ）−フタラジノン−
２−イル）−４−ピリジル〕−３−ヒドロキシメチル−
６，７−ジエトキシナフタレン２０６ｍｇを得る。

【０２４１】ｍ．ｐ．２０３−２０４℃ 製造例１２７１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキ
シメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１７７ｍｇ、
１−カルボキシ−２−（４−クロロフェニルカルボニ
ル）ベンゼン１３７ｍｇ及びエチレングリコール１ｍｌ
を用いて、製造例１０４−（３）と同様の操作により、
第１７表記載の１−｛２−〔４−（４−クロロフェニ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシ
ナフタレン２４７ｍｇを得る。

【０２４２】ｍ．ｐ．２２３−２２５℃ 製造例１２８１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキ
シメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１７７ｍｇ、
１−カルボキシ−２−メチルカルボニルベンゼン８６ｍ
ｇ及びエチレングリコール１ｍｌを用いて、製造例１０
４−（３）と同様の操作により、第１７表記載の１−
〔２−（４−メチル−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−
イル）−４−ピリジル〕−３−ヒドロキシメチル−６，
７−ジエトキシナフタレン２１１ｍｇを得る。

【０２４３】ｍ．ｐ．２２０−２２１℃ 参考例１（１）３，４−ジメトキシベンズアルデヒド３９８．８
ｇを酢酸１．８リットルに溶解し室温で臭素１３６ｍｌ
を４時間かけて滴下する。終夜撹拌した後再び臭素６０
ｍｌをゆっくり滴下し終夜撹拌する。反応液を水７リッ
トルに加え、析出晶をろ取し、水洗して得られた結晶を
クロロホルム２リットルに溶解する。該クロロホルム溶
液を洗浄、乾燥後濃縮し、ジイソプロピルエーテルで結
晶化して６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデ
ヒド４７０ｇを無色結晶として得る。

【０２４４】ｍ．ｐ．１４４−１４６℃ （２）６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒ
ド４７０ｇをメタノール６００ｍｌに懸濁させ、オルト
ギ酸メチル１０２５ｍｌとＩＲＡ−１２０（Ｈ＋型）１
０ｇを加え１時間加熱還流する。室温に戻し不溶物をろ
別してろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をエーテルに溶
解する。洗浄、乾燥し、エーテルを留去後減圧蒸留して
主留（１３３−１３８℃／１Ｔｏｒｒ）として６−ブロ
モ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメチルアセ
タール５２２ｇを得る。

【０２４５】参考例２３，４−ジエトキシベンズアルデヒドを参考例１と同様
に処理して６−ブロモ−３，４−ジエトキシベンズアル
デヒドジメチルアセタールを得る。

【０２４６】ｂ．ｐ．１４５−１５０℃／１Ｔｏｒｒ参考例３３−メトキシ−４−エトキシベンズアルデヒドを参考例
１と同様に処理して６−ブロモ−３ーメトキシ−４−エ
トキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。

【０２４７】ｂ．ｐ．１６０−１６２℃／２Ｔｏｒｒ参考例４ベンズアルデヒドを参考例１と同様に処理して２−ブロ
モベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。

【０２４８】ｂ．ｐ．９０−１００℃／１Ｔｏｒｒ参考例５３−エトキシ−４−メトキシベンズアルデヒドを参考例
１と同様に処理して６−ブロモ−３−エトキシ−４−メ
トキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。

【０２４９】ｂ．ｐ．１７０−１７５℃／３Ｔｏｒｒ参考例６６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタール２０ｇのテトラヒドロフラン１００ｍｌ
溶液を−６０℃に冷却し窒素雰囲気下でｎ−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ）４５．１ｍｌを２０分
間で滴下する。同温で３０分間反応させた後４−ホルミ
ルピリジン７．３６ｇのテトラヒドロフラン５０ｍｌ溶
液を２０分間で滴下する。１時間反応させた後反応液に
水、酢酸エチル２００ｍｌを加えて酢酸エチル層を分取
し、洗浄、乾燥後、酢酸エチルを留去して３，４−ジメ
トキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズ
アルデヒドジメチルアセタール１５．４ｇを得る。

【０２５０】ｍ．ｐ．１３０−１３３℃ 参考例７６−ブロモ−３，４−ジエトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタールを参考例６と同様に処理して３，４−ジ
エトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベン
ズアルデヒドジメチルアセタールを得る。

【０２５１】ｍ．ｐ．１０８−１０９℃ 参考例８６−ブロモ−３−メトキシ−４−エトキシベンズアルデ
ヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理して３
−メトキシ−４−エトキシ−６−（４−ピリジル）ヒド
ロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを得
る。

【０２５２】ｍ．ｐ．１２５−１２７℃ 参考例９２−ブロモベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考
例６と同様に処理して６−（４−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。

【０２５３】ｍ．ｐ．１１５−１１６℃ 参考例１０６−ブロモ−３−エトキシ−４−メトキシベンズアルデ
ヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理して３
−エトキシ−４−メトキシ−６−（４−ピリジル）ヒド
ロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを得
る。

【０２５４】ｍ．ｐ．１１４−１１５℃ 参考例１１６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタールと２−ブロモ−４−ホルミルピリジンを
参考例６と同様に処理して３，４−ジメトキシ−６−
（２−ブロモ−４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズ
アルデヒドジメチルアセタールを油状物として得る。

【０２５５】参考例１２６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタールと２−ホルミルピリジンを参考例６と同
様に処理して３，４−ジメトキシ−６−（２−ピリジ
ル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタ
ールを油状物として得る。

【０２５６】参考例１３６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタールと３−ホルミルピリジンを参考例６と同
様に処理して３，４−ジメトキシ−６−（３−ピリジ
ル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタ
ールを油状物として得る。

【０２５７】参考例１４３，４−ジメトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタール１８．４ｇ
の酢酸５０ｍｌ−トルエン５０ｍｌ溶液にマレイン酸ジ
メチル８．６４ｍｌを加え１時間加熱還流する。メタン
スルホン酸９．３３ｍｌを加えディーン・スターク装置
を用いて生成する水を除去しながら８時間加熱還流す
る。室温にもどし反応液を濃縮し、得られた残渣をクロ
ロホルムに溶解し、炭酸カリウム水溶液を加えてｐＨ８
に調整する。該溶液をクロロホルム抽出し、洗浄、乾燥
後濃縮して得られた残渣をエーテルから結晶化して１−
（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレン１３．５ｇを得
る。

【０２５８】ｍ．ｐ．２０４−２０６℃ 参考例１５３，４−ジエトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１
４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタ
レンを得る。

【０２５９】ｍ．ｐ．１４９−１５０℃ 参考例１６３−メトキシ−４−エトキシ−６−（４−ピリジル）ヒ
ドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを
参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−
２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−
７−エトキシナフタレンを得る。

【０２６０】ｍ．ｐ．１９５−１９７℃ 参考例１７６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒ
ドジメチルアセタールを参考例１４と同様に処理して１
−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）ナフタレンを得る。

【０２６１】ｍ．ｐ．１９７−１９８℃ 参考例１８３−エトキシ−４−メトキシ−６−（４−ピリジル）ヒ
ドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを
参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−
２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−
７−メトキシナフタレンを得る。

【０２６２】ｍ．ｐ．１８８−１８９℃ 参考例１９３，４−ジメトキシ−６−（２−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１
４と同様に処理して１−（２−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンを得る。

【０２６３】ｍ．ｐ．１６３−１６５℃ 参考例２０３，４−ジメトキシ−６−（３−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１
４と同様に処理して１−（３−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンを得る。

【０２６４】ｍ．ｐ．９５−９６℃ 参考例２１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレン５ｇの塩化メチ
レン溶液３００ｍｌに氷冷下メタクロロ過安息香酸８．
１ｇを加え、室温に戻し終夜撹拌する。反応液を洗浄、
乾燥後濃縮して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス
（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンのＮ−オキシド１５．０ｇを結晶として得る。

【０２６５】ｍ．ｐ．２３７−２３９℃ 参考例２２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジエトキシナフタレンを参考例２１と
同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス
（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタレ
ンのＮ−オキシドを得る。

【０２６６】ｍ．ｐ．１７７−１７８℃ 参考例２３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンを参考
例２１と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３
−ビス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−７−エ
トキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。

【０２６７】ｍ．ｐ．＞２２０℃ 参考例２４１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）ナフタレンを参考例２１と同様に処理して１−
（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）ナフタレンのＮ−オキシドを得る。

【０２６８】ｍ．ｐ．２１５−２１８℃ 参考例２５１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを参考
例２１と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３
−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メ
トキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。

【０２６９】ｍ．ｐ．２３０−２３１℃ 参考例２６１−（２−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と
同様に処理して１−（２−ピリジル）−２，３−ビス
（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンのＮ−オキシドを得る。

【０２７０】ｍ．ｐ．１７３−１７５℃ 参考例２７１−（３−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と
同様に処理して１−（３−ピリジル）−２，３−ビス
（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンのＮ−オキシドを得る。

【０２７１】ｍ．ｐ．１８５−１８６℃（分解）参考例２８テトラヒドロフラン２５ｍｌに水素化ビス（メトキシエ
トキシ）アルミニウムナトリウムのトルエン溶液（３．
４Ｍ）１８．０ｍｌを加え、−１０℃に冷却する。そこ
へ１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカル
ボニル）−６，７−ジエトキシナフタレン１０．０ｇの
テトラヒドロフラン懸濁液２５ｍｌを１５分間で滴下す
る。反応液を昇温し、氷冷下で１．５時間撹拌した後、
１５％水酸化ナトリウム水溶液３．７ｍｌを加える。反
応混合物に水及び塩化メチレンを加え、不溶物をろ去す
る。ろ液を塩化メチレン抽出し、抽出液を洗浄、乾燥
後、濃縮して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン７．
８９ｇを得る。

【０２７２】ｍ．ｐ．１５９−１６１℃ 参考例２９１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２８と
同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
を得る。

【０２７３】ｍ．ｐ．１３５−１３８℃ 参考例３０１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジエトキシナフタレン２０．０ｇを塩化
メチレン２００ｍｌに溶解し、氷冷下に無水酢酸４６．
６ｇ及びトリエチルアミン５７．４ｇを滴下して室温で
終夜撹拌する。塩化メチレンで希釈後水洗し、乾燥後濃
縮して残渣を酢酸エチル−ヘキサン混液より再結晶して
１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジエトキシナフタレン２２．４ｇを得
る。

【０２７４】ｍ．ｐ．１１５−１１６℃ 参考例３１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例３０と同
様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ア
セトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得
る。

【０２７５】ｍ．ｐ．１６５−１６７℃ 参考例３２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジエトキシナフタレン２２．４ｇの塩化
メチレン１００ｍｌ溶液に室温でメタクロロ過安息香酸
１９．０ｇを加え終夜撹拌する。反応液を洗浄、乾燥後
濃縮し、残渣をエーテルより結晶化して１−（４−ピリ
ジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−
ジエトキシナフタレンのＮ−オキシド２０．８ｇを得
る。

【０２７６】ｍ．ｐ．１５８−１５９℃ 参考例３３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例３２と同
様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ア
セトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ
−オキシドを得る。

【０２７７】ｍ．ｐ．１８２−１８５℃ 参考例３４１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
３０ｇ及びオキシ塩化リン１５０ｍｌの混合物を２時間
加熱還流する。オキシ塩化リンを留去し、塩化メチレン
及び炭酸カリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取
する。溶媒留去後メタノールで結晶化して１−（２−ク
ロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレン２６ｇを得る。

【０２７８】ｍ．ｐ．２０１−２０３℃ 参考例３５１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンのＮ−
オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ
−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンを得る。

【０２７９】ｍ．ｐ．１９６−１９８℃ 参考例３６１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）ナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に
処理し１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）ナフタレンを得る。

【０２８０】ｍ．ｐ．１７４−１７８℃ 参考例３７１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−
オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ
−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２８１】ｍ．ｐ．２０５−２０８℃ 参考例３８１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジエトキシナフタレンのＮ−オキシド
を参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−４−ピ
リジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，
７−ジエトキシナフタレンを得る。

【０２８２】ｍ．ｐ．１５４−１５６℃ 参考例３９１−（２−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
を参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−６−ピ
リジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，
７−ジメトキシナフタレン及び１−（４−クロロ−２−
ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−
６，７−ジメトキシナフタレンの混合物を得る。

【０２８３】ＭＳ；４１５（Ｍ⁺）参考例４０１−（３−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
を参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−５−ピ
リジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，
７−ジメトキシナフタレン及び１−（２−クロロ−３−
ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−
６，７−ジメトキシナフタレンの混合物を得る。

【０２８４】ＭＳ；４１５（Ｍ⁺）参考例４１１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メ
トキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン２
２．７ｇ、三臭化リン５２ｍｌ及び１，１，２，２−テ
トラクロロエタン１００ｍｌの混合物を１００℃で１０
時間撹拌する。反応後溶媒を留去し、塩化メチレン及び
炭酸カリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取す
る。溶媒留去後メタノールで結晶化して１−（２−ブロ
モ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレン１７．１ｇを得
る。

【０２８５】ｍ．ｐ．１９２−１９４℃ 参考例４２１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メ
トキシカルボニル）ナフタレンを参考例４１と同様に処
理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）ナフタレンを得る。

【０２８６】ｍ．ｐ．１６２−１６３℃ 参考例４３１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メ
トキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフ
タレンを参考例４１と同様に処理して１−（２−ブロモ
−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２８７】ｍ．ｐ．２０３−２０４℃ 参考例４４参考例３９で得た混合物を参考例４１と同様に処理し、
さらにシリカゲル精製して、１−（２−ブロモ−６−ピ
リジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，
７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２８８】ｍ．ｐ．１９９−２００℃ 参考例４５参考例４０で得た混合物を参考例４１と同様に処理し、
さらにシリカゲル精製して、１−（２−ブロモ−５−ピ
リジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，
７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２８９】ｍ．ｐ．１８２−１８４℃ 参考例４６１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
１０６．４ｇの１，２−ジクロロエタン５００ｍｌ懸濁
液にオキシ臭化リン１００ｇを加え、５時間加熱還流す
る。反応終了後溶媒等を留去し、酢酸エチルを加える。
該酢酸エチル溶液を氷水に加え、析出晶をろ取して１−
（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン３８．
９ｇを得る。

【０２９０】ｍ．ｐ．１９２−１９４℃ 参考例４７３，４−ジメトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールとクロトン
酸メチルを参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリ
ジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，７
−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２９１】ｍ．ｐ．１５２−１５４℃ 参考例４８３，４−ジメトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールとアクリル
酸メチルを参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリ
ジル）−２−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシ
ナフタレンを得る。

【０２９２】ｍ．ｐ．１５２−１５４℃ 参考例４９１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−
メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と
同様に処理して１−（４−ピリジル）−２−メトキシカ
ルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレン
のＮ−オキシドを得る。

【０２９３】ｍ．ｐ．２３０−２３２℃ 参考例５０１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，
７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理し
て１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−
６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。

【０２９４】ｍ．ｐ．２２２−２２４℃ 参考例５１１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−
メチル−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
を参考例３４と同様に処理して１−（２−クロロ−４−
ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−
６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２９５】ｍ．ｐ．１３３−１３６℃ 参考例５２１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，
７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４
と同様に処理し１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２
−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレン
を得る。

【０２９６】ｍ．ｐ．１４２−１４５℃ 参考例５３１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２−メトキシカル
ボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを
参考例４１と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピ
リジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，
７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２９７】ｍ．ｐ．１４８−１５０℃ 参考例５４１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２−メトキシカル
ボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例４１と
同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２
−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレン
を得る。

【０２９８】ｍ．ｐ．１４６−１４８℃ 参考例５５イソバニリン２００ｇのジメチルホルムアミド５００ｍ
ｌ溶液に、氷冷下、炭酸カリウム２３６ｇを加えた後、
臭化ベンジル２０３ｍｌを滴下し、終夜撹拌する。反応
残渣の不溶物を濾過し、アセトンにて洗浄、溶媒を留去
し、残渣にエーテル及び水を加えて、再度洗浄、溶媒を
留去することにより、３−ベンジルオキシ−４−メトキ
シベンズアルデヒド（油状物質）を得る。

【０２９９】参考例５６（１）３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンズアルデ
ヒドを酢酸−酢酸ナトリウム共存下、参考例１−（１）
と同様に処理して、６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−
４−メトキシベンズアルデヒド得る。

【０３００】ｍ．ｐ．１４０−１４１℃ （２）６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−４−メトキシ
ベンズアルデヒドを参考例１−（２）と同様に処理し
て、６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−４−メトキシベ
ンズアルデヒドジメチルアセタール（油状物質）を得
る。

【０３０１】参考例５７６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンズ
アルデヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理
して、３−ベンジルオキシ−４−メトキシ−６−（４−
ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチル
アセタール（油状物質）を得る。

【０３０２】参考例５８３−ベンジルオキシ−４−メトキシ−６−（４−ピリジ
ル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタ
ールを３日間室温下、参考例１４と同様に処理して、１
−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを
得る。

【０３０３】ｍ．ｐ．２４０−２４２℃（分解）参考例５９１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレン
を参考例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジル）
−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ベンジル
オキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得
る。

【０３０４】ｍ．ｐ．２５４−２５７℃（分解）参考例６０１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレン
のＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して、１−
（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナ
フタレンを得る。

【０３０５】ｍ．ｐ．２６０−２６１℃（分解）参考例６１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレン
を製造例１１７−（１）と同様に処理して、１−（４−
ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６
−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンを得る。

【０３０６】ｍ．ｐ．２２５−２３０℃（分解）参考例６２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンとヨ
ウ化イソプロピルを製造例１１７−（２）と同様に処理
して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシ
ナフタレンを得る。

【０３０７】ｍ．ｐ．２１０−２１２℃ 参考例６３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンとヨ
ウ化ブチルを製造例１１７−（２）と同様に処理して、
１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを得
る。

【０３０８】ｍ．ｐ．１４９−１５１℃ 参考例６４１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンと臭
化オクチルを製造例１１７−（２）と同様に処理して、
１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレン
を得る。

【０３０９】ｍ．ｐ．１２４−１２６℃ 参考例６５１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタ
レンを参考例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジ
ル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−イソ
プロピルオキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシ
ドを得る。

【０３１０】ｍ．ｐ．１９５−２００℃（分解）参考例６６１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを参考
例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，
３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ブトキシ−７−
メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。

【０３１１】ｍ．ｐ．１７０−１７３℃ 参考例６７１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレン
を参考例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジル）
−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−オクチル
オキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得
る。

【０３１２】ｍ．ｐ．１４３−１４６℃ 参考例６８１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタ
レンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して、１
−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メト
キシカルボニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メト
キシナフタレン得る。

【０３１３】ｍ．ｐ．１９５−２００℃（分解）参考例６９１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−
オキシドを参考例３４と同様に処理して、１−（２−ク
ロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレン得る。

【０３１４】ｍ．ｐ．１４３−１４７℃ 参考例７０１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレン
のＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して、１−
（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナ
フタレン得る。

【０３１５】ｍ．ｐ．９３−９７℃ 参考例７１４−カルボキシ−２−クロロピリジン７８．７ｇを窒素
雰囲気下、水素化ホウ素ナトリウム２８．４ｇのテトラ
ヒドロフラン７５０ｍｌの懸濁液に徐々に加え、次いで
三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩１２３ｍｌを滴
下した後、室温で６時間反応する。反応終了液に、６規
定塩酸９６０ｍｌを滴下し、有機溶媒を留去後、水酸化
ナトリウムでアルカリ性にし、クロロホルムで抽出し
た。クロロホルム層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄し、乾燥後溶媒を留去し、２−クロロ−４−ヒドロ
キシメチルピリジン６２．２ｇを得る。

【０３１６】ｍ．ｐ．６３−６５℃ 参考例７２（１）オキザリルクロライド４２．２ｍｌの塩化メチレ
ン溶液（１１００ｍｌ）に−６０℃〜−５０℃でジメチ
ルスルフォキサイド６８．７ｍｌの塩化メチレン溶液
（２２０ｍｌ）を滴下し、同温で２−クロロ−４−ヒド
ロキシメチルピリジン６３．２ｇの塩化メチレン溶液４
４０ｍｌを滴下した後、１５分間撹拌する。次いで、同
温でトリエチルアミン３０６．６ｍｌを滴下し、５分間
撹拌後、室温にする。反応終了液に、水２．２ｌを加
え、塩化メチレン層を分取し、水層を再び塩化メチレン
２．２ｌで抽出し、先の塩化メチレン層と合す。合わせ
た塩化メチレン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄し、乾燥後溶媒を留去し、２−クロロピリジン−４−
カルバルデヒドを得る。

【０３１７】（２）２−クロロピリジン−４−カルバル
デヒドのジメチルホルムアミド溶液（１５０ｍｌ）をシ
アン化ナトリウム５．２ｇのジメチルホルムアミド懸濁
液２００ｍｌに５分間で滴下し、５分間撹拌後、アクリ
ル酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル６１．４ｍｌのジメチル
ホルムアミド溶液（３５０ｍｌ）を１０分間で滴下し、
一夜撹拌する。反応終了液に、酢酸エチルと水を加え、
酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
し、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精
製後、４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オ
キソ−ブチル酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（油状物質）
８２．８ｇを得る。

【０３１８】参考例７３４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−
ブチル酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル８２．８ｇに氷冷
下、トリフルオロ酢酸１１８ｍｌを加え、１５分間撹拌
した後、室温で１時間反応する。更に、トリフルオロ酢
酸２４ｍｌを加え、室温で２時間反応する。トリフルオ
ロ酢酸を留去し、トルエンでトリフルオロ酢酸を共沸し
た後、ジエチルエーテルで結晶化し、４−（２−クロロ
ピリジン−４−イル）−４−オキソ−ブチル酸５３．８
ｇを得る。

【０３１９】ｍ．ｐ．１１８−１２０℃ 参考例７４４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−
ブチル酸２．１４ｇ、３，４−ジメトキシベンズアルデ
ヒド１．６６ｇ、酢酸ナトリウム０．８２ｇ及び無水酢
酸５．６６ｍｌの混合物を８０℃で２時間撹拌する。酢
酸及び濃塩酸５０ｍｌを滴下し、２時間加熱還流する。
反応液をエーテルで洗浄、水酸化ナトリウムでｐＨ＝４
に調整し、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を有機溶媒（ク
ロロホルム：メタノール＝９：１）で抽出し、１−（２
−クロロ−４−ピリジル）−３−カルボキシ−６，７−
ジメトキシナフタレン（収率；６７％）を得る。

【０３２０】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 参考例７５１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−カルボキシ−
６，７−ジメトキシナフタレン２．３ｇのテトラヒドロ
フラン（ＴＨＦ）（６０ｍｌ）溶液に、−１０℃にて水
素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム
２．３６ｍｌ（７０％トルエン溶液）のＴＨＦ溶液を滴
下し、室温にて１時間撹拌する。更に水素化ビス（メト
キシエトキシ）アルミニウムナトリウム１．５７ｍｌ
（７０％トルエン溶液）のＴＨＦ溶液（５ｍｌ）を滴下
し、更に４０℃で１時間加熱撹拌する。反応液にメタノ
ールを加えた後、水酸化ナトリウム水溶液（水２０ｍｌ
中水酸化ナトリウム１．６ｇ）を加え、５０℃にて３０
分間撹拌する。

【０３２１】反応残渣を酢酸エチル抽出し、更にジクロ
ロメタン抽出する。有機層を水洗、乾燥後、溶媒を留去
し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：アセトン＝１９：１）で処理し、エ
ーテルで結晶化させることにより、１−（２−クロロ−
４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメ
トキシナフタレン５３１ｍｇ（収率２４％）を得る。

【０３２２】ｍ．ｐ．１１５−１１８℃ 参考例７６３，４−ジエトキシベンズアルデヒド５４．２ｇ、４−
（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−ブチ
ル酸５９．６ｇ、酢酸ナトリウム２２．９ｇ及び無水酢
酸１５８ｍｌの混合物を窒素雰囲気下、８０℃で２時間
撹拌する。３０分間放冷後、酢酸１．４ｌ及び濃塩酸
１．４ｌを加え、２時間加熱還流する。該加熱還流下の
混合物を氷冷し、水酸化ナトリウムを６７２ｇ加えた
後、水１．４ｌ、クロロホルム２．５ｌ、メタノール
０．３ｌを加える。クロロホルム層を乾燥後溶媒を留去
して、ジエチルエーテルで結晶化し、１−（２−クロロ
−４−ピリジル）−３−カルボキシ−６，７−ジエトキ
シナフタレン７０．４ｇを得る。

【０３２３】ｍ．ｐ．＞２５０℃

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０７Ｄ 401/04 ２０７Ｃ０７Ｄ 401/04 ２０７２１１２１１２１３２１３２３５２３５２３７２３７２３９２３９２４１２４１ 401/14 ２１３ 401/14 ２１３２３３２３３２３７２３７２４９２４９ 417/04 ２１３ 417/04 ２１３

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式〔Ｉ〕【化１】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって水素原子又は
保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³及びＲ⁴はい
ずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基
であり、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護され
ていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｒ
⁵及びＲ⁶は同一又は異なって、水素原子、置換されて
いてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェ
ニル基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あ
るいは互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに
置換されていてもよい複素環式基を形成していることを
表す。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に
許容し得る塩を有効成分としてなる医薬組成物。
【請求項２】Ｒ¹及びＲ²が同一又は異なって水素原
子又は低級アルコキシ基である請求項１記載の医薬組成
物。
【請求項３】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、当該
窒素原子以外にさらに窒素原子、酸素原子及び硫黄原子
から選ばれるヘテロ原子を含有していてもよい単環式、
双環式又は三環式複素環式基である請求項１又は２記載
の医薬組成物。
【請求項４】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、ピリ
ジル基、キノリル基、イソキノリル基、シクロペンタ
〔ｂ〕ピリジル基、ピロ〔２，３−ｂ〕ピリジル基、イ
ミダゾ〔４，５−ｂ〕ピリジル基、ピリド〔２，３−
ｄ〕チアゾリル基、ピリド〔２，３−ｄ〕オキサゾリル
基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、フタラジニ
ル基、キナゾリニル基、インドリル基、ピリダジニル
基、アゼピニル基、アゼチジル基、イソインドリル基、
ピロリル基、ベンゾアゼピニル基、フェナントリジニル
基、ベンゾチアジニル基、ベンゾイミダゾリニル基、ピ
ラジニル基又はモルホリノ基（これらの複素環式基は部
分的もしくは全て水素化されていてもよい）である請求
項３記載の医薬組成物。
【請求項５】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される複素環式基に置換し
うる基が、（１）低級アルケニル基；（２）低級アルキ
ニル基；（３）低級アルキルチオ基；（４）シクロアル
キル基；（５）トリフルオロメチル基；（６）シアノ
基；（７）テトラゾリル基；（８）ホルミル基；（９）
アミノ基；（１０）モルホリノ基、モノシクロアルキル
基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリ
ジル基もしくはピロリジニル基で低級アルキル基部分が
置換されていてもよいモノ−もしくはジ−低級アルキル
アミノ基；（１１）ピリジル基；（１２）モルホリノ
基；（１３）低級アルキル基置換トリアゾリル基；（１
４）ビス（ヒドロキシ低級アルキル）アミノカルボニル
基；（１５）ビス（トリ低級アルキルシリルオキシ低級
アルキル）アミノカルボニル基；（１６）モルホリノカ
ルボニル基；（１７）低級アルキル基置換ピペラジニル
カルボニル基；（１８）ヒドロキシ低級アルキル基置換
ピペラジニルカルボニル基；（１９）トリ低級アルキル
シリルオキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニ
ル基；（２０）低級アルコキシカルボニル基；（２１）
カルボキシル基；（２２）モルホリノ基もしくはピリジ
ル基で置換されていてもよい低級アルキル基；（２３）
ピペリジル基、ピリジル基、水酸基もしくは低級アルコ
キシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；（２
４）オキソ基；（２５）水酸基；（２６）ピリミジニル
基；（２７）ジ低級アルキルアミノ基もしくはハロゲン
原子で置換されていてもよいフェニル基；（２８）ハロ
ゲン原子；（２９）ニトロ基；（３０）イミダゾリル
基；及び（３１）低級アルキレンジオキシ基から選ばれ
る１個又は２個以上の同一もしくは異なる基である請求
項１〜４のいずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項６】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、少な
くともオキソ基で置換された複素環式基である請求項５
記載の医薬組成物。
【請求項７】少なくともオキソ基で置換された複素環
式基が部分構造式【化２】を有する複素環式基である請求項６記載の医薬組成物。
【請求項８】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよ
い複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロアル
キル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピ
ペリジノ基もしくはピロリジニル基で低級アルキル基部
分が置換されていてもよいモノ−もしくはジ−低級アル
キルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキ
ル基置換トリアゾリル基；ビス（ヒドロキシ低級アルキ
ル）アミノカルボニル基；ビス（トリ低級アルキルシリ
ルオキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；モルホリ
ノカルボニル基；低級アルキル基置換ピペラジニルカル
ボニル基；ヒドロキシ低級アルキル基置換ピペラジニル
カルボニル基；トリ低級アルキルシリルオキシ低級アル
キル基置換ピペラジニルカルボニル基；低級アルコキシ
カルボニル基；カルボキシル基；低級アルキル基；水酸
基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低
級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換され
ていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）オキソ基
（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）キノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級ア
ルキル基；ピペリジル基、ピリジル基もしくは低級アル
コキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；及
び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ
基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）イソキノリル基、（４）ピリジル基で置換されてい
てもよい低級アルキル基；ピリミジニル基；低級アルコ
キシ基；ピリジル基；イミダゾリル基；ジ低級アルキル
アミノ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基；及び水酸基から選ばれる基で置換されてい
てもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）フタラジニル基、（５）ハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、
ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換さ
れていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒ
ドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基
（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）ナフチリジニル基、（７）オキソ基（又はヒドロキ
シ基）置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基
（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロインドリル基、
（９）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又
はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基、（１０）ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（１１）オキ
ソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒ
ドロ）ベンゾチアジニル基、（１２）低級アルキル基及
び／又はオキソ基で置換されていてもよいオキソ基（又
はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キ
ナゾリニル基、（１３）オキソ基（又はヒドロキシ基）
置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オキソ
基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロフェナントリジニ
ル基、（１５）低級アルキル基で置換されていてもよい
オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテト
ラヒドロ）ピロリル基、（１６）ヘキサヒドロキシピラ
ジニル基、（１７）低級アルキレンジオキシ基置換ヘキ
サヒドロピリジル基又は（１８）モルホリノ基である請
求項５記載の医薬組成物。
【請求項９】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよ
い複素環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテ
トラヒドロ）キノリル基もしくはヒドロキシ基置換ジヒ
ドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）オキソ基
置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基、
（３）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソ
キノリル基、（４）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラ
ヒドロ）フタラジニル基、（５）オキソ基置換ジヒドロ
（又はヘキサヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基置換
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基、
（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オ
キソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基、
（１０）ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル
基、（１１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）ベンゾチアジニル基、（１２）オキソ基置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキ
ソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オ
キソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）オ
キソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基、
（１６）ヘキサヒドロキシピラジニル基、（１７）低級
アルキレンジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は
（１８）モルホリノ基である請求項８記載の医薬組成
物。
【請求項１０】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ（又は
テトラヒドロ）キノリル基もしくはヒドロキシ基置換テ
トラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキ
ノキサリニル基、（３）オキソ基置換ジヒドロイソキノ
リル基、（４）オキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、
（５）オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリ
ジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル
基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、
（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキ
ソ基置換ジヒドロベンゾアゼピニル基、（１０）テトラ
ヒドロイソキノリル基、（１１）オキソ基置換テトラヒ
ドロベンゾチアジニル基、（１２）オキソ基置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキ
ソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オ
キソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）オ
キソ基置換テトラヒドロピロリル基、（１６）ヘキサヒ
ドロキシピペラジニル基、（１７）低級アルキレンジオ
キシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モルホ
リノ基である請求項９記載の医薬組成物。
【請求項１１】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロア
ルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、
ピペリジノ基もしくはピロリジニル基で低級アルキル基
部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキル
アミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基
置換トリアゾリル基；低級アルキル基置換ピペラジニル
カルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；低級アル
キル基；水酸基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる
基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又は
テトラヒドロ）キノリル基もしくはヒドロキシ基置換テ
トラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキ
ノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル
基；ピペリジル基、ピリジル基もしくは低級アルコキシ
基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；及び水酸
基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換
ジヒドロイソキノリル基、（４）ピリジル基置換低級ア
ルキル基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジ
ル基；イミダゾリル基；及びジ低級アルキルアミノ基置
換フェニル基から選ばれる基で置換されていてもよいオ
キソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（５）低級アルキ
ル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；及びイミダゾリ
ル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒ
ドロピリジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリ
ジニル基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル
基、（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）
オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基、（１
０）低級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよ
いオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリ
ニル基、（１１）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾ
リニル基又は（１２）オキソ基置換ジヒドロフェナント
リジニル基である請求項１０記載の医薬組成物。
【請求項１２】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、
イミダゾリル基、ピペリジノ基もしくはピロリジニル基
で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくは
ジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ
基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；低級アルキル
基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されて
いてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基で置換され
ていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）キノリル基もしくはヒドロキシ基置換テトラヒドロ
キノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサリニ
ル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリ
ジル基もしくは低級アルコキシ基で置換されている低級
アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されて
いてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、
（４）ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル
基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基
から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロフタラジニル基、（５）低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれ
る基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル
基、（６）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル
基又は（７）低級アルキル基及びオキソ基で置換されて
いてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）
キナゾリニル基である請求項１０記載の医薬組成物。
【請求項１３】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、
イミダゾリル基もしくはピペリジノ基で低級アルキル基
部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキル
アミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基
置換トリアゾリル基；及び低級アルコキシ基もしくは水
酸基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基
で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロキノリル
基もしくはヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、
（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジノ基
もしくは低級アルコキシ基で置換されている低級アルコ
キシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていても
よいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリ
ジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル基、ピリジル
基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基から選ばれる
基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラ
ジニル基、（４）低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換さ
れているオキソ基置換ジヒドロピリジル基又は（５）低
級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキ
ソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基
である請求項１２記載の医薬組成物。
【請求項１４】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、
イミダゾリル基もしくはピペリジノ基で低級アルキル基
部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキル
アミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基
置換トリアゾリル基；及び低級アルコキシ基もしくは水
酸基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基
で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロキノリル
基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基及びピペリ
ジル基置換低級アルコキシ基から選ばれる基で置換され
ていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、
（３）ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル
基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基
から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロフタラジニル基又は（４）低級アルキル基、低級
アルコキシ基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換
されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基である請求
項１３記載の医薬組成物。
【請求項１５】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロア
ルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基も
しくはピペリジノ基で低級アルキル基部分が置換されて
いるモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジ
ル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換ピペラジニル
カルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；低級アル
キル基；水酸基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる
基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又は
テトラヒドロ）キノリル基もしくはヒドロキシ基置換テ
トラヒドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換低級ア
ルキル基；ピペリジノ基、ピリジル基もしくは低級アル
コキシ基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれ
る基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソ
キノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；ピ
リミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；イミダ
ゾリル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基
から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロフタラジニル基、（４）ピリジル基で置換されて
いるオキソ基置換ジヒドロピリジル基、（５）オキソ基
置換ジヒドロナフチリジニル基、（６）オキソ基置換ヘ
キサヒドロキノリル基、（７）オキソ基置換ジヒドロイ
ンドリル基、（８）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチ
アジニル基、（９）低級アルキル基及びオキソ基で置換
されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒ
ドロ）キナゾリニル基、（１０）オキソ基置換ジヒドロ
ベンゾイミダゾリニル基又は（１１）オキソ基置換ジヒ
ドロフェナントリジニル基である請求項１１記載の医薬
組成物。
【請求項１６】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、イミダゾリル
基もしくはピリジル基で低級アルキル基部分が置換され
ているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モル
ホリノ基；及び低級アルキル基から選ばれる基で置換さ
れていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）キノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル
基；ピリジル基もしくは低級アルコキシ基で置換されて
いる低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていて
もよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピ
リジル基置換低級アルキル基；低級アルコキシ基；ピリ
ジル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基か
ら選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロフ
タラジニル基又は（４）オキソ基置換ジヒドロフェナン
トリジニル基である請求項１５記載の医薬組成物。
【請求項１７】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）ピリジル基で低級アルキル基
部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキル
アミノ基；モルホリノ基；及び低級アルキル基から選ば
れる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）モルホリノ基
置換低級アルキル基；ピリジル基もしくは低級アルコキ
シ基で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基
で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノ
リル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級ア
ルコキシ基；ピリジル基；及びジ低級アルキルアミノ基
置換フェニル基から選ばれる基で置換されているオキソ
基置換ジヒドロフタラジニル基又は（４）オキソ基置換
ジヒドロフェナントリジニル基である請求項１６記載の
医薬組成物。
【請求項１８】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、イミダゾリル
基もしくはピリジル基で低級アルキル基部分が置換され
ているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モル
ホリノ基；及び低級アルキル基から選ばれる基で置換さ
れていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）キノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル
基；及び低級アルコキシ基置換低級アルコキシ基から選
ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロイソキ
ノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級
アルコキシ基；及びピリジル基から選ばれる基で置換さ
れているオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基である請
求項１０記載の医薬組成物。
【請求項１９】Ｒ¹及びＲ²が同一又は異なって保護
された水酸基、Ｒ³及びＲ⁴が水酸基置換メチル基であ
る請求項１、３、４、５、６、７、１１、１５、１６、
１７又は１８のいずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項２０】保護された水酸基が低級アルキル基で
保護された水酸基である請求項１９記載の医薬組成物。
【請求項２１】１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジ
ヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレン、１−｛２−〔２−オキソ−４−（２−ピペリジ
ノエチル）アミノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イ
ル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔２
−オキソ−４−（４−ピリジル）−１，２−ジヒドロキ
ノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ン、１−〔２−（２−オキソ−３−モルホリノ−１，２
−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキ
シナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１
（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝
−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメト
キシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジルメチ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７
−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔６，７−ジメト
キシ−４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノ
ン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒド
ロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−
｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジ
ノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンもし
くは１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−
フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−
ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキ
シナフタレン又はそれらの薬理的に許容しうる塩を有効
成分としてなる医薬組成物。
【請求項２２】１−〔２−（２−オキソ−３−モルホ
リノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピ
リジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７
−ジメトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる塩
を有効成分としてなる医薬組成物。
【請求項２３】１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−
１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる塩を有
効成分としてなる医薬組成物。
【請求項２４】１−｛２−〔４−（３−ピリジルメチ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７
−ジメトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる塩
を有効成分としてなる医薬組成物。
【請求項２５】１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−
１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
エトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる塩を有
効成分としてなる医薬組成物。
【請求項２６】ホスホジエステラーゼＩＶ阻害剤であ
る請求項１〜２５のいずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項２７】抗喘息薬である請求項１〜２５のいず
れか１項記載の医薬組成物。
【請求項２８】気管支収縮抑制剤である請求項１〜２
５のいずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項２９】抗気道炎症剤である請求項１〜２５の
いずれか１項記載の医薬組成物。