JPH10221521A

JPH10221521A - カラーフィルターの製造方法

Info

Publication number: JPH10221521A
Application number: JP2768297A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiro Fujii; 和洋藤井
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1997-02-12
Filing date: 1997-02-12
Publication date: 1998-08-21

Abstract

(57)【要約】【課題】地汚れの発生を防止し、基板との密着性の優
れた高画質のカラーフィルターの製造法を提供する。【解決手段】透明基板上に、黒色色素が分散された光
重合性組成物を塗布した後、乾燥、露光、現像及び硬化
処理を行ってブラックマトリックスを形成する工程、次
いで、透明基板のブラックマトリックス形成面に、赤、
緑又は青の色素が分散された光重合性組成物を塗布し、
乾燥、露光、現像及び硬化処理を行って、赤、緑又は青
の画素画像を形成する工程を任意の順序で繰り返して、
各画素画像を順次形成するカラーフィルターの製造方法
において、ブラックマトリックス及び各画素画像を形成
する少なくとも１つの工程の硬化処理に際し、基板上の
ブラックマトリックス画像または各画素画像形成領域の
みを加熱又は紫外線照射することによって、選択的に硬
化処理することを特徴とするカラーフィルターの製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、液
晶表示素子、カメラなどに使用される光学的カラーフィ
ルターの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラーフィルターは、通常、ガラス、プ
ラスチックシート等の透明基板の表面に、赤、緑、青の
３種の異なる色相により、１０〜７０μｍのストライプ
状、モザイク状等の色パターンを、数μｍの精度で形成
して製造される。更に各色パターンの間には、通常、コ
ントラストを向上させる目的で黒色パターン（ブラック
マトリックス）が設けられる。

【０００３】カラーフィルターの代表的な製造方法とし
ては染色法、印刷法、顔料分散法、電着法等があるが、
それぞれ、一長一短があり用途に応じて各方式が使い分
けられている。これらのうち、顔料分散法は、ブラック
マトリックスを設けた透明基板上に色素を分散した光重
合性組成物を塗布し、画像露光、現像、熱硬化を繰り返
すことによって、カラーフィルター画像を形成する方法
であって、カラーフィルター画素の位置、膜厚等の精度
が高く、耐久性があり、ピンホール等の欠陥が少ない方
法であるため広く採用されている。しかし、顔料分散法
は、透明基板上に設けるクロム等のブラックマトリック
スの形成コストが高いという問題がある。

【０００４】これを解決する手段として、透明基板上
に、黒色色素を含有する光重合性組成物を塗布し、フォ
トマスクを介して露光、現像、熱硬化処理を行ってブラ
ックマトリックスを形成後、赤、青又は緑の色素を含有
する光重合性組成物を塗布し、露光、現像、熱硬化処理
を繰り返して、各色の画素を形成する方法が提案されて
いる（特公平２−９０２号）。しかしながら、上記の方
法のように光重合性組成物を使用してブラックマトリッ
クス及び各色の画素画像を形成する方法では、基板の表
面が汚染されやすいという欠点がある。かかる汚染は、
現像後の非画素面に生じ、いわゆる「地汚れ」と称さ
れ、主として残存する光重合性組成物等が原因となって
いる。このような、非画素面の汚れたカラーフィルター
で液晶セルを組み立てると、シール性の低下や、系内の
汚染を惹起し、組立工程の歩留まりを著しく低下させ
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような
「地汚れ」の発生を防止し、基板との密着性の優れた高
画質のカラーフィルターを、高歩留まりで製造する方法
を提供することを目的とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記目的を達
成すべく鋭意検討の結果、画像露光後の硬化方法が、
「地汚れ」に大きく影響していることを知り、硬化方法
の改良につき検討を重ね、本発明を達成した。即ち本発
明の要旨は、透明基板上に、黒色色素が分散された光重
合性組成物を塗布した後、乾燥、露光、現像及び加熱又
は紫外線照射により硬化処理してブラックマトリックス
を形成し、次いで、透明基板のブラックマトリックス形
成面に、赤、緑又は青の色素が分散された光重合性組成
物を塗布し、乾燥、露光、現像及び硬化処理を行って、
赤、緑又は青の画素画像を任意の順序で、順次形成する
カラーフィルターの製造方法であって、ブラックマトリ
ックス及び各画素画像を形成する少なくとも１つの工程
の硬化処理に際し、基板上のブラックマトリックス画像
及び各画素画像形成領域のみを加熱及び、又は紫外線照
射することによって、選択的に硬化処理することを特徴
とするカラーフィルターの製造方法に存する。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明で使用されるカラーフィルターの透明基板として
は、プラスチックシートやガラス板等が使用される。プ
ラスチックシートとしては、ポリエチレンテレフタレー
ト等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等
のポリオレフィン等が挙げられる。透明基板の板厚は通
常、０．０５〜１０ｍｍ、特に０．１〜７ｍｍが好まし
い。このような透明基板には、表面の接着性等の物性を
改良するために、必要に応じて、コロナ放電処理、オゾ
ン処理、シランカップリング剤や、ウレタンポリマー等
の各種薄膜形成処理が施されていてもよい。薄膜形成処
理を行う場合、薄膜の膜厚は、０．０１〜１０μｍ、好
ましくは０．０５〜５μｍ程度である。

【０００８】基板上には先ず、ブラックマトリックスを
形成するため、黒色色素を含有する光重合性組成物が塗
布される。光重合性組成物は、一般に、色素の他、光を
吸収してラジカルを発生する光重合開始系と、このラジ
カルにより重合が誘発される付加重合可能なエチレン性
不飽和２重結合を少なくとも１個有する化合物（以下
「エチレン性化合物」と称す）を含有し、更に好ましく
は、相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性等の光重合性
層の改善のために、結合剤として有機高分子物質を含有
する。ブラックマトリックス或いは各画素形成に使用さ
れる色素としては、カーボンブラック、黒、赤、緑及び
青の各色調の染顔料が用いられるが、必要に応じて金属
粉、白色顔料、蛍光顔料等も用いることができる。

【０００９】具体的には、三菱カーボンブラックＭ１０
００、三菱カーボンブラックＭＡ−１００、三菱カーボ
ンブラック＃４０、ビクトリアピュアブルー（４２５９
５）、オーラミンＯ（４１０００）、カチロンブリリア
ントフラビン（ベーシック１３）、ローダミン６ＧＣＰ
（４５１６０）、ローダミンＢ（４５１７０）、サフラ
ニンＯＫ７０：１００（５０２４０）、エリオグラウシ
ンＸ（４２０８０）、ＮＯ．１２０／リオノールイエロ
ー（２１０９０）、シムラファーストイエロー８ＧＦ
（２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４０
（２１０９５）、シムラファーストレッド４０１５（１
２３５５）、リオノールレッド７Ｂ４４０１（１５８５
０）、ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（７４１６
０）、リオノールブルーＳＭ（２６１５０）、リオノー
ルブルーＥＳ（ピグメントブルー１５：６、ビグメント
ブルー１５３６）、リオノーゲンレッドＧＤ（ピグメン
トレッド１６８、ピグメントレッド１０８）、リオノー
ルグリーン２ＹＳ（ピグメントグリーン３６）等が挙げ
られる。なお、括弧内の数値はカラーインデックス
（Ｃ．Ｉ）を意味する。

【００１０】光重合性組成物中に分散される色素の量
は、全固形分に対し、通常１０〜５０重量％、好ましく
は２０〜４０重量％の範囲である。光重合性組成物は、
かかる高い色素含有率の状態で耐溶剤性、透明基板との
接着性が高く、高画質の画素画像を与える機能が要求さ
れる。光重合性組成物に使用される光重合開始系として
は次の様な化合物が挙げられる。即ち、黒の光重合性層
は、パターンマスクを介して、光重合性層上より画像露
光されるため、黒の光重合性組成物に使用される光重合
開始系としては、紫外光から可視光に感度を有する化合
物が使用される。また、赤、緑、青の各光重合性層にお
いても、各色のパターンマスクを介した露光やその他の
方法により、前記ブラックマトリックス間に、赤、緑、
青の画素画像パターンを形成させるため、ブラックマト
リックスパターンの場合と同様に、光重合開始系として
は紫外光から可視光に感度を有する化合物、好ましくは
４５０ｎｍ以下、より好ましくは４００ｎｍ以下の波長
に分光感度を有する化合物を使用する。

【００１１】上記の紫外光を吸収してラジカルを発生す
る光重合開始系としては、例えば、ファインケミカル１
９９１年３月１日号、ｖｏｌ−２０、Ｎｏ４、ｐ１６〜
ｐ２６に記載のジアルキルアセトフェノン系、ベンゾイ
ン、チオキサントン誘導体等、その他特開昭５８−４０
３２号公報、特開昭４５−３７３７７号公報に記載のヘ
キサアリールビイミダゾール系、ｓ−ハロメチルトリア
ジン系、あるいは、特開平４−２２１９５８号公報、特
開平４−２１９７５６号公報に記載の、チタノセンとキ
サンテン色素、さらにはアミノ基或いはウレタン基を有
する付加重合可能なエチレン性２重結合含有化合物を組
み合わせた系等が挙げられる。（これらを総称して光重
合開始剤Ｓ−１と称する）。

【００１２】エチレン性化合物としては、単量体又は側
鎖もしくは主鎖にエチレン性２重結合を有する重合体の
何れでもよく、具体的には脂肪族ポリヒドロキシ化合物
と不飽和カルボン酸とのエステル、例えば、エチレング
リコールジアクリレート、ペンタエリスリトールアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
等、又は各種のアクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル等が好適に使用される。光重合性組成物の結合剤と
して使用される有機高分子物質としては、メチル（メ
タ）アクリート、ベンジル（メタ）アクリレート等のア
クリル酸又はメタクリル酸のアルキルエステル等、酢酸
ビニル、アクリロニトリル等の重合体が挙げられる。特
に好ましくは、スチレン、α−メチルスチレン、ベンジ
ル（メタ）アクリレート等のフェニル基を有するモノマ
ーを共重合成分として含有する共重合体、或いはこの重
合体に２〜５０モル％のエポキシ（メタ）アクリレート
が付加された反応物が、得られる塗膜の強度、耐久性、
基板接着性を向上する点から望ましい。

【００１３】上記の各成分の配合量は次の通りである。
色素以外の光重合性組成物の固形分全量に対し、光重合
開始系は、通常０．１〜４０重量％、好ましくは０．２
〜３０重量％、エチレン性化合物は、通常２０〜９０重
量％、好ましくは３０〜８０重量％、有機高分子物質
は、通常１０〜８０重量％、好ましくは２０〜６０重量
％である。光重合性組成物は、上記成分を適当な溶剤を
用いて、塗布液に調液して使用される。溶剤としては、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレングル
コールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、メ
タノール、ブタノール、テトラヒドロフラン等が挙げら
れる。

【００１４】なお、カラーフィルターの製造に当たり、
光重合性層の露光の際、酸素による光重合性層の感度低
下を防止するため、光重合性層の上にポリビニルアルコ
ール層等の酸素遮断層を塗布する場合がある。本発明方
法においては、工程数を減少させるためにこの様な酸素
遮断層を設けることなく光重合性層の露光及び現像処理
を行うこともできる。酸素遮断層を設けない場合は、光
重合性組成物の成分としてヒドロキシフェニル（メタ）
アクリル酸、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミ
ド、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルスルホアミド
等の芳香族水酸基を有するモノマーを共重合モノマー成
分として５〜５０モル％、好ましくは１０〜３０モル％
の割合で含有する有機高分子物質を使用したり、光重合
性組成物中に、特開平４−２１８０４８号公報、特開平
５−１９４５３号公報等に記載されるジアゾ化合物を１
〜２０重量％、好ましくは２〜１９重量％含有させるの
が好ましい。これにより、酸素による感度低下を抑える
ことが出来、酸素遮断層を不要とすることができる。

【００１５】本発明方法によりカラーフィルターを製造
するには、先ず、前述の如く調液された黒色の塗布液
を、透明基板上にスピナー、ワイヤーバー、フローコー
ター、ダイコーター、ロールコーター、スプレー等の塗
布装置により塗布した後、５０〜１５０℃、好ましくは
７０〜１３０℃の温度で１５秒〜１０分間、好ましくは
３０秒〜５分間加熱して乾燥させ、黒色の光重合性層を
形成させる。乾燥後の黒色光重合性層の膜厚は好ましく
は０．５〜３μｍ、より好ましくは１〜２μｍである。

【００１６】次に、黒色の光重合性層上にネガのパター
ンマスクを介して紫外又は可視の光源より画像露光す
る。続いて未露光部分を溶解させる現像液を用いて現像
して、透明基板上にブラックマトリックスパターンを形
成させる。現像液としては、通常アルカリ現像液が使用
される。アルカリ現像液の具体例としては、例えば、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機の
アルカリ剤、或いはジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、水酸化テトラアルキルアンモニウム塩などの
有機のアルカリ剤を含有し、必要に応じ、画質向上、現
像時間の短縮などの目的で、界面活性剤、水溶性の有機
溶剤、水酸基又はカルボン酸基を有する低分子化合物を
含有させた水溶液を使用することが出来る。

【００１７】現像液の界面活性剤としては、ナフタレン
スルホン酸ナトリウム基、ベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム基を有するアニオン性界面活性剤、ポリアルキレンオ
キシ基を有するノニオン性界面活性剤、テトラアルキル
アンモニウム基を有するカチオン性界面活性剤を挙げる
ことができ、また水溶性の有機溶剤としては、エタノー
ル、プロピルアルコール、ブタノール、メチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル等を挙げることができる。また、水酸基又はカルボキ
シ基を有する低分子化合物としては、１−ナフトール、
２−ナフトール、ピロガロール、安息香酸、琥珀酸、グ
ルタル酸等を挙げることが出来る。

【００１８】現像処理は、通常、２０〜４０℃、好まし
くは２２〜３０℃の温度で、浸漬現像、シャワー現像、
ブラシ現像、超音波現像等の方法により行われる。次い
で、硬化処理が行われる。硬化処理は、１５０〜２５０
℃で５〜６０分間熱処理を行うことにより行われる。或
いは、紫外線照射又は熱処理と紫外線照射を組み合わせ
て硬化処理を行うことも出来る。本発明は、かかる硬化
処理に際し、画像形成領域のみを選択的に加熱、或いは
紫外線照射することが必要である。選択的処理の方法と
しては、シャドウマスクを用いて、紫外線又は赤外線を
画像部分のみに照射する方法、画像部分のみの接触加熱
が可能な様に型抜きをしたベーキングプレートを用いて
基板裏面より加熱する方法等が挙げられる。

【００１９】次いで、透明基板のブラックマトリックス
形成面に、赤、緑又は青の画素画像を順次形成するが、
通常、硬化処理後の基板、特にブラックマトリックス形
成後の基板上には「地汚れ」が発生しやすいため、硬化
処理後、塗布前に基板の洗浄処理を行い基板表面の地汚
れや異物を洗浄除去することが好ましい。洗浄方法とし
ては、例えばブラシ洗浄などの物理的力を利用した洗浄
法が好ましく、この場合の洗浄剤としては水でもよい
が、好ましくはｐＨ９以上、更に好ましくは１１以上の
アルカリ性洗浄剤を併用すると極めて効果的である。

【００２０】画素画像の形成工程は、ブラックマトリッ
クスの場合と同様で、赤、緑又は青の１つの色素を分散
した光重合性組成物をブラックマトリックス形成面の全
面に塗布し、乾燥後、画素画像パターンマスクを介して
露光、現像、画素画像部のみの選択的硬化処理を行うこ
とにより実施され、ブラックマトリックス画像の間に１
色目の画素画像が形成される。次いで、必要に応じ、前
記と同様に基板を洗浄した後、２色目の色素を分散した
光重合性組成物を用いて、同様に、塗布、乾燥、露光、
現像、選択的硬化処理を行い２色目の画素画像を形成、
更に同様にして３色目の画素画像を形成する。この様に
して、透明基板上に黒、赤、緑、青からなるカラーフィ
ルター画像を形成させた後、画像表面にＩＴＯの透明電
極を形成して、カラーディスプレーの部品の１部として
使用されるが、表面の平滑性、或いは耐久性を高める目
的でポリアミド、ポリイミド、アクリル系等のトップコ
ート層を設けることも出来る。

【００２１】本発明において画像露光に使用される光源
としては、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングス
テンランプ、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧
水銀灯、低圧水銀灯等のランプ光源、及びアルゴンイオ
ンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、窒素
レーザー等のレーザー光源が挙げられる。これらの光源
は、必要とされる照射光の波長領域に応じて適宜光学フ
ィルターを使用することもできる。本発明方法によれば
地汚れの要因となる硬化時の加熱又は紫外線照射が非画
素部では最小限に留めることができる。本発明方法はブ
ラックマトリックス及び各画素画像形成の少なくとも一
工程で実施することにより、その効果が奏されるが、全
工程の硬化処理で実施するのが更に好ましい。好ましい
一実施態様の工程図を図１に示す。

【００２２】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に
制約されるものではない。なお、以下の実施例、比較例
で用いた光重合性組成物は、以下の成分を表−１の割合
で用い、全量に対して３．６重量倍のジルコニアビーズ
（直径０．５ｍｍ）を収容したペイントシェーカーを使
用して７時間分散処理したものである。（１）光重合開始系ミヒラーズケトン、光重合開始剤Ｓ−１、ｐ−ジメチル
安息香酸メチル

【００２３】（２）有機高分子物質

【化１】

【００２４】（３）エチレン性化合物

【化２】

【００２５】（４）溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート

【表１】表−１成分配合量（重量部）ミヒラーズケトン２Ｓ−１２ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル２有機高分子物質５０エチレン性化合物（ｉ）２０エチレン性化合物（ii）８塗布溶剤５００色素５６（固形分に対し４０％）

【００２６】実施例１黒色色素としてカーボンブラック（三菱化学社製ＭＡ
−７）を使用して上記処方により調液した黒色の光重合
性組成物塗布液を、ガラス基板（旭ガラス社製ＡＮ−６
３５）に乾燥膜厚が０．７μｍになるようにスピンコー
ターで塗布した。その後１１０℃で２分間加熱乾燥し、
更にポリビニルアルコール水溶液を乾燥膜厚が１．５μ
ｍになるように塗布、乾燥した。次に幅２５μｍ、縦３
３０μｍ、横１１０μｍのピッチで繰り返すブラックマ
トリックス用ネガフォトマスクを用いて、２ＫＷ高圧水
銀灯により３００ｍｊ／ｃｍ²の露光量で露光した。次
いで、ポリエチレンオキシ−β−ナフチルエーテル（日
本乳化剤社製ＮｅｗｃｏｌＢ−１０）２％と炭酸カ
リウム０．５％が配合された水溶液からなる現像液に２
５℃で３０秒間浸漬し、３ｋｇ／ｃｍ²の水圧で３０秒
間スプレー水洗して現像処理を行った後、画像部分のみ
に熱線が当たるように作製されたシャドウマスクを介し
て２００℃、７分間熱処理して硬化させた。この様にし
て黒色パターンが形成された基板を、界面活性剤（サン
ウオッシュＴＬ−７０、ライオン社製）を含む０．５
％水酸化カリ水溶液（ｐＨ１２）を使用してブラシ洗浄
した後、１ｋｇ／ｃｍ²の水圧で３０秒間スプレー水洗
し、１００℃で５分間乾燥させブラックマトリックスを
形成させた。形成されたブラックマトリックスにつき、
後述する方法で画像の評価及び「地汚れ」評価を行い、
結果を、以下の比較例、実施例の結果と併せて表−２に
示した。

【００２７】比較例１−１現像後、熱硬化処理の際、シャドウマスクを使用せず、
２００℃で７分間ガラス全面に熱線を照射した以外は実
施例１と同様の方法でガラス基板上にブラックマトリッ
クスを形成させた。比較例１−２比較例１−１と同じ熱硬化処理を行い、更にブラシ洗浄
を省略した以外は実施例１と同様の方法でガラス基板上
にブラックマトリックスを形成させた。

【００２８】実施例２実施例１で用いた黒色原料の代わりに下記の赤色の顔料
を下記の割合で配合して添加し、露光量を５００ｍｊ／
ｃｍ²で実施した以外は実施例１と全く同様の方法でガ
ラス基板上に赤色パターンを形成させた。赤色顔料：リオノーゲンレッドＧＤ（東洋インキ製造社
製）／リオノーゲンオレンジＲ（東洋インキ製造社製）
＝１３／３（重量比）顔料濃度＝顔料重量／全固形分重量＝４０％

【００２９】比較例２−１現像後の熱硬化処理の際シャドウマスクを使用せずガラ
ス全面に２００℃で７分間熱線を照射した以外は実施例
２と同様の方法でガラス基板上に赤色パターンを形成さ
せた。比較例２−２比較例２−１においてブラシ洗浄を省略した以外は比較
例２−１と同様の方法でガラス基板上に赤色パターンを
形成させた。

【００３０】実施例３実施例２で用いた赤色の顔料の代わりに下記の緑色顔料
を使用したこと以外は実施例２と同様にしてガラス基板
上に緑色パターンを形成させた。緑色顔料：リオノールグリーン２ＹＳ（東洋インキ製造
社製）／リオノーゲンイエロー３Ｇ（東洋インキ製造社
製）＝９／１７（重量比）

【００３１】比較例３−１現像後の熱硬化処理の際シャドウマスクを使用せずガラ
ス全面に２００℃で７分間熱線を照射した以外は実施例
３と同様の方法でガラス基板上に緑色パターンを形成さ
せた。比較例３−２比較例３−１においてブラシ洗浄を省略した以外は比較
例３−１と同様の方法でガラス基板上に緑色パターンを
形成させた。

【００３２】実施例４実施例２で用いた赤色の顔料の代わりに下記の青色顔料
を使用したこと以外は実施例２と同様にしてガラス基板
上に青色パターンを形成させた。青色顔料：リオノール
ブルーＥＳ（東洋インキ製造社製）／リオノーゲンバイ
オレットＲＬ（東洋インキ製造社製）＝１３．５／３．
５（重量比）

【００３３】比較例４−１実施例４において、現像後、熱硬化処理をシャドウマス
クを使用せず、ガラス全面に２００℃で７分間実施した
以外は実施例４と同様の方法でガラス基板上に青色パタ
ーンを形成させた。比較例４−２比較例４−１において、ブラシ洗浄を省略した以外は比
較例４−１と同様の方法でガラス基板上に青色パターン
を形成させた。

【００３４】画像の評価以上実施例１〜４、比較例１−１〜４−２で得られたパ
ターン画像を、４００倍の顕微鏡で観察したところ、何
れも再現性の良い、良質な画質を示しているのを確認し
た。

【００３５】地汚れの評価−１パターンを形成した基板の非画素部をスポットライト
（モリテックス社製ハロゲン光源ＭＨＦ−１５０Ｌ）を
使用して、基板に対し４５度の方向より光を当て、表面
の反射状態を観察することにより目視で地汚れの評価を
行い、下記の基準で地汚れを評価した。Ａ：透明、皮膜の反射は見られないＢ：一部に不透明な皮膜部分が観察されるが、このよう
な部分は１０％以下Ｃ：ガラスの１０〜５０％の部分に不透明な皮膜が観察
されるＤ：ガラスの５０％以上の部分に不透明な皮膜が観察さ
れる地汚れの評価−２パターンを形成した基板の非画素部の水の接触角を接触
角計（協和界面科学社製ＣＡ−Ｘ）を使用して測定し、
表面の皮膜形成状況を測定した。

【００３６】

【表２】

【００３７】

【発明の効果】本発明方法によれば、色素を分散した光
重合性組成物による画素画像形成工程の硬化時に、画素
画像形成部のみを加熱、或いは紫外線照射するという簡
単な手段により地汚れの少ない品質良好なカラーフィル
ターを製造することが出来るため、光重合性組成物の性
能に見合った硬化条件を選択する自由度が拡大されると
共に、製品の歩留まりを大幅に向上させることが出来
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明方法のカラーフィルターの製造方法の実
施態様の１例を示す工程図である。

【符号の説明】

イ．透明基板ロ．光重合性組成物層ハ．シャドウマスクニ．露光光ホ．パターンマスク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板上に、黒色色素が分散された光
重合性組成物を塗布した後、乾燥、露光、現像及び硬化
処理を行ってブラックマトリックスを形成する工程、次
いで、透明基板のブラックマトリックス形成面に、赤、
緑又は青の色素が分散された光重合性組成物を塗布し、
乾燥、露光、現像及び硬化処理を行って、赤、緑又は青
の画素画像を形成する工程を任意の順序で繰り返して、
各画素画像を順次形成するカラーフィルターの製造方法
において、ブラックマトリックス及び各画素画像を形成
する少なくとも１つの工程の硬化処理に際し、基板上の
ブラックマトリックス画像または各画素画像形成領域の
みを加熱及び、又は紫外線照射することによって、選択
的に硬化処理することを特徴とするカラーフィルターの
製造方法。
【請求項２】ブラックマトリックス画像及び、又は各
画素画像形成領域のみに、シャドウマスクを介して熱線
又は紫外線を照射するか、又は、基板裏面より接触加熱
することにより硬化処理を実施することを特徴とする請
求項１記載のカラーフィルターの製造方法。
【請求項３】硬化処理終了後、物理的力を利用して基
板を洗浄することを特徴とする請求項１又は２記載のカ
ラーフィルターの製造方法。
【請求項４】硬化後の基板洗浄の際、洗浄剤として、
水又はアルカリ性水溶液を使用することを特徴とする請
求項３記載のカラーフィルターの製造方法。