JPH10221040A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4744665B2 (ja) * 2000-03-15 2011-08-10 オリンパス株式会社 基板検査装置及び基板検査システム
JP4733820B2 (ja) * 2000-09-05 2011-07-27 Sumco Techxiv株式会社 不良ウエハの判定装置及び判定方法
JP4733252B2 (ja) * 2000-09-05 2011-07-27 Sumco Techxiv株式会社 ウエハの表面検査装置及び検査方法
TW513772B (en) * 2000-09-05 2002-12-11 Komatsu Denshi Kinzoku Kk Apparatus for inspecting wafer surface, method for inspecting wafer surface, apparatus for judging defective wafer, method for judging defective wafer and information treatment apparatus of wafer surface
JP4659961B2 (ja) * 2000-09-29 2011-03-30 Sumco Techxiv株式会社 ウエハ表面情報処理装置
JP4623809B2 (ja) * 2000-09-29 2011-02-02 Sumco Techxiv株式会社 ウエハ表面検査装置及びウエハ表面検査方法
JP2003100599A (ja) * 2001-09-25 2003-04-04 Nikon Corp 露光装置の調整方法及び露光システム
GB2422202A (en) * 2005-01-10 2006-07-19 Univ East Anglia A device for determining dust accumulation
JP2012184988A (ja) * 2011-03-04 2012-09-27 Toray Eng Co Ltd 膜厚むらの検査装置および検査方法
KR20120129020A (ko) * 2011-05-18 2012-11-28 동우 화인켐 주식회사 필름 결함 모니터링 장치 및 방법
JP2013008903A (ja) * 2011-06-27 2013-01-10 Kyocera Corp 太陽電池素子の検査装置および検査方法
JP5862422B2 (ja) * 2012-03-30 2016-02-16 大日本印刷株式会社 画像処理装置、画像処理プログラム及び画像処理方法
JP5764592B2 (ja) * 2013-02-22 2015-08-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理装置の監視装置及び基板処理装置の監視方法
JP7021886B2 (ja) * 2017-09-19 2022-02-17 株式会社Screenホールディングス 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法

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