JPH10188384A - 光磁気ディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＮＡを従来の０．５５から０．６０に変更
し、基板厚を１．２ｍｍから０．６ｍｍとして高密度化
を達成しても、対物レンズは対象とする基板厚に最適と
なるように設計されているので、ＮＡが０．６０の対物
レンズを用いて、従来の１．２ｍｍの基板を有する光磁
気ディスクに対するアクセスは困難になる。 【解決手段】 二軸部１３は、二つの対物レンズ１１及
び１２を切り換え可能に保持して二つの光磁気ディスク
の二軸方向に移動させる。対物レンズ切り換え駆動回路
３６は、二軸部１３が保持する二つの対物レンズ１１及
び１２を切り換える。基板厚検出器３０は、上記二つの
透明基板の厚さを検出する。システムコントローラ２９
は、基板厚検出器３０からの検出出力に応じて対物レン
ズ切り換え駆動回路３６を制御し、二軸部１３上の二つ
の対物レンズを切り替える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気ディスクに
記録用の光を照射して記録層の保磁力を弱め、磁界を与
えて情報信号を記録すると共に、該光磁気ディスクで反
射された再生用の光の偏光面の回転を検出して情報信号
を再生する光磁気ディスク装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光磁気ディスクのような光学記録媒体で
は、光学的に透明な例えばポリカーボネイト等からなる
基板を介して記録層に照射されるレーザ光により、情報
信号が記録及び／又は再生される。この光学記録媒体は
コンピュータの記録装置、オーディオ、ビデオ等のパッ
ケージメディアとして広く普及すると共に高密度化も進
んでいる。

【０００３】高密度化の１つの方法として、対物レンズ
の開口数ＮＡを大きくすることが考えられる。光学記録
媒体上に形成されるビームスポットが小となるため、分
解能が良くなるからである。しかし、ＮＡを大きくとる
と、ディスクの傾きに対して許容範囲が狭くなる。

【０００４】そこで、上記基板を薄くすることが考えら
れるようになった。例えば、径が５．２５インチの光磁
気ディスクの基板は現在１．２ｍｍであるが、これを半
分の０．６ｍｍにすることが考えられる。基板を薄くす
れば、ＮＡを大きくしても、ディスクの傾きに対しての
誤差のマージンがある程度得られる。

【０００５】このため、光磁気ディスクの高密度化に伴
って、上記光磁気ディスクに情報信号を記録及び／又は
再生する光磁気ディスク装置では、光学ヘッドに用いる
対物レンズのＮＡの上記基板厚に対する最適化が望まれ
る。ここでは、システムが成り立つ範囲でＮＡを大きく
する方が高密度化に有利となる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、対物レンズ
のＮＡを例えば従来の０．５５から０．６０に変更し、
基板厚を１．２ｍｍから０．６ｍｍとして高密度化を達
成しても、対物レンズは対象とする基板厚に最適となる
ように設計されているので、ＮＡが０．６０の対物レン
ズを用いた従来の１．２ｍｍの基板を有する光磁気ディ
スクに対してのアクセスが困難になる。

【０００７】すなわち、一個の対物レンズにて複数の基
板厚を有する複数の光磁気ディスクに対して情報信号の
記録及び／又は再生を行おうとすると、そのままでは収
差や、集光能力によりアクセスが困難である。また、開
口の大きさをアパーチャー等により変えて対応しようと
すると光量が減少し、書き換えには不利となった。つま
り、単一の対物レンズでは、高密度化を計り、かつ互換
性を保つのは極めて困難であった。

【０００８】また、上記基板の厚さのみを変えて、上記
開口数を変えないと、トラックピッチに対いてスポット
径を最適化することができない。例えば、トラックピッ
チに対してスポット径が大きすぎると、隣接トラックの
記録済みデータを一部消去してしまう。また、小さすぎ
ると、データ消去の際、消し残りが生じる。

【０００９】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
であり、光磁気ディスクの高密度化と互換性の両方を実
現する光磁気ディスク装置の提供を目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、光磁気ディスクに記録用の光を照射して
記録層の保磁力を弱め、磁界を与えて情報信号を記録す
ると共に、該光磁気ディスクで反射された再生用の光の
偏光面の回転を検出して情報信号を再生する光磁気ディ
スク装置において、制御手段が基板厚検出手段からの検
出出力に応じて対物レンズ切り換え手段を使って複数の
対物レンズを切り換える。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光磁気ディス
ク装置の実施の形態について図面を参照しながら説明す
る。

【００１２】この実施の形態は、図１に示すように、デ
ィスクカートリッジ１内に収納された光磁気ディスク２
の記録層に例えばポリカーボネイトよりなる透明基板を
介して記録用のレーザ光を照射して記録層の保磁力を弱
め、磁界を与えて情報信号を記録すると共に、該光磁気
ディスク２で反射された再生用のレーザ光の偏光面の回
転を検出して情報信号を再生する光磁気ディスク装置で
ある。

【００１３】この光磁気ディスク装置は、磁気ヘッドド
ライバ３３により駆動された上記磁界を発生する磁気ヘ
ッド３４と、上記記録用及び再生用のレーザ光を出射す
る後述するレーザダイオードと、このレーザダイオード
に記録用のレーザ光と再生用のレーザ光とを切り換えて
出射させる発光制御手段となるレーザドライバ３２と、
二つの光磁気ディスクがそれぞれ有する厚さの異なる二
つの透明基板に対応する二つの対物レンズ１１及び１２
と、二つの対物レンズ１１及び１２を切り換え可能に保
持して二つの光磁気ディスクの二軸方向に移動させる二
軸部１３と、この二軸部１３が保持する二つの対物レン
ズ１１及び１２を切り換える対物レンズ切り換え駆動回
路３６と、上記二つの透明基板の厚さを検出する基板厚
検出器３０と、この基板厚検出器３０からの検出出力に
応じて対物レンズ切り換え駆動回路３６を制御するシス
テムコントローラ２９と、光磁気ディスクで反射された
再生用のレーザ光の偏光面を検出する後述する偏光ビー
ムスプリッタとを備えてなる。ここで、上記レーザダイ
オードと上記偏光ビームスプリッタは、光学ヘッド１０
を上記二つの対物レンズ１１及び１２と二軸部１３と共
に構成する固定光学系１５の内部に収納されている。

【００１４】ここで、対物レンズ１１は、開口数ＮＡを
基板厚０．６ｍｍの光磁気ディスクに対応するように
０．６としている。また、対物レンズ１２は、開口数Ｎ
Ａを基板厚１．２ｍｍの光磁気ディスクに対応するよう
に０．５５としている。

【００１５】また、上記二軸部１３は、図２〜図４に示
すように構成される。ここで、図２は二軸部１３の外観
斜視図であり、図３は平面図であり、図４は断面図であ
る。二軸部１３は、二軸ベース４０と、二軸ベース４０
上に垂直に延びる支持軸４１と、この支持軸４１に対し
て軸方向に移動可能、かつ軸の周りに回転可能に支持さ
れた長円形のレンズホルダ４３とから構成される。そし
て、二つの対物レンズ１１及び１２は、レンズホルダ４
３の回転軸を中心に１８０゜対向して、光軸が支持軸４
１に平行となるように保持される。

【００１６】レンズホルダ４３は、下方に取り付けられ
た同心の円筒状に形成されたフォーカス用コイル４４
と、その回転軸４１対して互いに反対側の端面に取り付
けられた一対のトラッキングコイル４５及び４５とを備
えている。

【００１７】これに対して、二軸ベース４０上には、上
記フォーカス用コイル４４に対して、互いに反対側で外
側から対向するように配設された一対のフォーカス用ヨ
ーク４６と、その内側に取り付けられた一対のフォーカ
ス用マグネット４７とが備えられ、上記トラッキング用
コイル４５に対しては、それぞれ外側から対向するよう
に配設されたトラッキング用ヨーク４８と、その内側に
取り付けられた一対のトラッキング用マグネット４９が
備えられる。

【００１８】上記フォーカス用コイル４４は、トラッキ
ング用コイル４５とは別個に、支持軸４１の周面に対し
て比較的近接して配設されるように、小径に形成されて
おり、これに対応して、フォーカス用ヨーク４６及びフ
ォーカス用マグネット４７も支持軸４１に近接してい
る。これにより、フォーカス用コイル４４は、全体に小
型に形成されているとともに、有効導体長を大きくする
ことができる。

【００１９】また、二軸ベース４０上の支持軸４１の周
囲に形成された円筒部上には過回転防止用のストッパ５
０が形成され、止め板５１により止められて、可動部の
回転を１８０゜＋α以内に制限する。ここで、αはトラ
ッキング分である。

【００２０】ディスクカートリッジ１は図５及び図６に
外観を示すように、一方の面（以下、表面とする。）２
_A，他方の面（以下、裏面とする。）２_Bが貼り合わせさ
れた光磁気ディスク２を内部に回転自在に収納してな
る。図５にはこのディスクカートリッジ１の表の面を、
図６には裏の面を示す。表の面に示されている“Ａ”を
見ながら矢印の方向にこのディスクカートリッジを光磁
気ディスク装置の図示しないカートリッジホルダに挿入
すると、シャッタ７が装置の図示しないシャッタ開閉機
構によって開かれ、開口部４_A及び４_Bが露出する。この
シャッタ７が完全に開状態となった段階、すなわちディ
スクカートリッジ１がカートリッジホルダに完全に収納
された段階でディスクカートリッジ１の装置内への装着
が完了する。

【００２１】このとき、ディスクカートリッジ１の裏面
側のシャッタ７に覆われていた光磁気ディスク２のＡ面
２_A側のハブ３_Aは、透孔６_Aを介してスピンドルモータ
２８のモータ軸の上端に設けられたマグネット付のター
ンテーブル３１に密着、保持され、光磁気ディスク２は
スピンドルモータ２８に装着されることになる。

【００２２】 この状態で、光磁気ディスク２のＡ面２_A
側に対する、光磁気ディスク装置の記録及び／又は再生
が可能となる。すなわち、図５に示された矢印方向に
“Ａ”を上にしてディスクカートリッジ１をディスクカ
ートリッジホルダに挿入すると、実際には図６に示した
開口部４_A側にＡ面２_Aが露出する。

【００２３】一方、裏の面に示されている“Ｂ”を見な
がら矢印の方向にこのディスクカートリッジ１を光磁気
ディスク装置のカートリッジホルダに挿入すると、シャ
ッタ７がシャッタ開閉機構によって開かれ、開口部４_A
及び４_Bが露出するが、このとき、ディスクカートリッ
ジ１の表面側のシャッタ７に覆われていた光磁気ディス
ク２のＢ面２_B側のハブ３_Bは、透孔６_Bを介してスピン
ドルモータ２８のモータ軸の上端に設けられたマグネッ
ト付のターンテーブル３１に密着、保持され、光磁気デ
ィスク２はスピンドルモータ２８に装着されることにな
る。

【００２４】この状態で、光磁気ディスク２のＢ面２_B
側に対する、光磁気ディスク装置の記録及び／又は再生
が可能となる。すなわち、図６に示された矢印方向に
“Ｂ”を上にしてディスクカートリッジ１をディスクカ
ートリッジホルダに挿入すると、実際には図５に示した
開口部４_B側にＢ面２_Bが露出する。

【００２５】この光磁気ディスク２は、Ａ面２_A及びＢ
面２_Bを図７のように形成している。すなわち、例えば
ポリカーボネイトからなる透明基板６１上にＳｉＮ膜よ
りなる誘電体層６２、ＴｂＦｅＣｏよりなるＭＯ層６
３、誘電体層６４、Ａｌよりなる反射膜６５及びＵＶ樹
脂よりなる保護膜６６を形成してなる。そして、保護膜
６６同士を接着して、貼り合わせディスクとしている。

【００２６】図１に示すように、光磁気ディスク装置の
ディスクカートリッジホルダに対して上述したように
“Ａ”を見ながら矢印方向にディスクカートリッジ１を
挿入した場合、光磁気ディスク２のＡ面２_A側に対して
光学ヘッド１０から開口部４_Aを介してレーザ光が照射
される。

【００２７】光学ヘッド１０は、上述したように、二つ
の対物レンズ１１及び１２と、これら二つの対物レンズ
１１及び１２を切り換え可能に保持する上記二軸部１３
と、ミラー１４と、固定光学系１５を備えてる。

【００２８】対物レンズ１１は、開口数ＮＡを例えば
０．６とし、透明基板６１を０．６ｍｍとしたような光
磁気ディスクに対して最適に情報信号の記録及び／又は
再生を可能とする。一方、対物レンズ１２は、開口数Ｎ
Ａを例えば０．５５とし、透明基板６１を１．２ｍｍと
したような光磁気ディスクに対して最適に情報信号の記
録及び／又は再生を可能とする。

【００２９】固定光学系１５は、図８に示すように、書
き込み用のレーザ光又は再生用のレーザ光を拡散出射す
るレーザダイオード１６と、これらのレーザ光を平行に
するコリメータレンズ１７と、平行とされたレーザ光を
ミラー１４方向に透過すると共に後述する戻り光を反射
するビームスプリッタ１８と、ビームスプリッタ１８の
反射面１８ａで反射された戻り光のカー回転角の変化を
光強度変化に変える偏光ビームスプリッタ１９と、この
偏光ビームスプリッタ１９を透過した一方の戻り光を電
気信号に変換するフォトダイオード２０と、上記偏光ビ
ームスプリッタ１９の反射面１９ａにより反射された他
方の戻り光を電気信号に変換するフォトダイオード２１
とを備えてなる。

【００３０】対物レンズ切り換え駆動回路３６は、トラ
ッキング駆動用の磁気回路及び電気回路を使用して、二
軸部１３上の対物レンズ１１又は１２を切り換える。

【００３１】次に、この光磁気ディスク装置の全体的な
構成を記録時と再生時に分けて説明する。例えば、上記
Ａ面２_A側に情報信号を記録する場合、光学ヘッド１０
の固定光学系１５内のレーザダイオード１６には、シス
テムコントローラ２９がレーザドライバ３２を駆動して
書き込み用のレーザ駆動電流を供給する。このとき、磁
気ヘッドドライバ３３は、電磁石よりなる磁気ヘッド３
４に一定方向の磁化を与える駆動電流を供給する。

【００３２】初期状態では、ＭＯ膜６３の磁化の向きが
例えば下向きになっている。ここに磁気ヘッド３４で外
部から上向きの磁界をかけ、情報信号を記録するタイミ
ングで光学ヘッド１０から書き込み用のレーザ光を照射
する。光磁気ディスク２のＡ面２_A側のＭＯ膜６３の書
き込み用レーザ光があたったポイントの温度が上がり、
キュリー点まで達すると、ＭＯ膜６３の保磁力が減少
し、磁気ヘッド３４による外部磁界の作用で上向きに磁
化反転した部分ができ情報信号が記録される。

【００３３】また、上記光磁気ディスクから情報を再生
する場合、光学ヘッド１０のレーザダイオード１６は、
レーザドライバ３２を介してシステムコントローラ２９
により制御され再生用のレーザ光を出射する。

【００３４】この再生用のレーザ光は、上記ＭＯ層に透
明基板６１を透過して照射される。ＭＯ層６３に入射し
た再生用のレーザ光は偏光面が磁化の向きによって、わ
ずかに０．２〜０．４゜程回転するように反射されて戻
り光となる。この戻り光は対物レンズ１１又は対物レン
ズ１２を透過し、ミラー１４で反射されて固定光学系１
５に戻る。固定光学系１５では、戻り光のカー回転角
（±θ）の変化を偏光ビームスプリッタ１９により光強
度変化に変え、フォトディテクタ２０及び２１に導き、
電気信号として取り出す。

【００３５】固定光学系１５のフォトディテクタ２０及
び２１で検出された電気信号は、マトリクス回路２３に
供給される。このマトリクス回路２３は例えばディジタ
ル信号処理ユニット（ＤＳＰ）により構成され、再生Ｒ
Ｆ信号を生成して出力端子３５に供給する。また、この
マトリクス回路２３は、フォーカスエラー信号及びトラ
ッキングエラー信号からフォーカスサーボ信号及びトラ
ッキングサーボ信号を生成し、フォーカスドライバ２４
及びトラッキングドライバ２５に供給する。また、スレ
ッドサーボ信号及びスピンドルサーボ信号を生成し、ス
レッドドライバ２６及びスピンドルドライバ２７に供給
する。

【００３６】フォーカスドライバ２４は、上記フォーカ
スサーボ信号に応じて二軸部１３のフォーカスコイルに
駆動電流を供給し、対物レンズ１１又は１２をフォーカ
ス方向、すなわち光軸と平行な方向に駆動する。トラッ
キングドライバ２５は、上記トラッキングサーボ信号に
応じて二軸部１３のトラッキングコイルに駆動電流を供
給し、対物レンズ１１又は１２をトラック方向、すなわ
ち光軸と直交する平面方向に駆動する。

【００３７】スレッドドライバ２６は、上記スレッドサ
ーボ信号に応じて二軸部１３を上記光軸と直交する平面
方向に大きく駆動する。スピンドルサーボドライバ２７
は、上記スピンドルサーボ信号に応じてスピンドルモー
タ２８をＣＡＶ又はＣＬＶにて回転駆動する。このよう
な各サーボ処理は、上記再生処理時のみではなく、上記
記録処理時にも行われるのはもちろんである。

【００３８】ディスクカートリッジ１には、図５及び図
６に示すように、Ａ面２_A側に対する誤消去防止孔８と
同じくＡ面２_A側に対するメディア識別孔群９と、Ｂ面
２_B側に対する誤消去防止孔１０と同じくＢ面２_B側に対
するメディア識別孔群１１が設けられている。メディア
識別孔群９は、例えば図９に示すように、４つの孔識別
孔９₁，９₂，５_A及び９₄からなる。現在、規格上、第１
の識別孔９₁はディスクの反射率の高低を識別させるの
に用いられており、クローズのときには低反射率を、オ
ープンのときには高反射率を示している。また、第２の
識別孔９₂はディスクサイドのアクセシブルに用いられ
ている。

【００３９】ここで、第３の識別孔５_Aと第４の識別孔
９₄は現在、未定義であるので、例えば、第３の識別孔
５_Aを上記透明基板の厚さを識別させるように定義す
る。現在、１．２ｍｍの透明基板が主流であるので、ク
ローズであれば透明基板は１．２ｍｍ厚、オープンであ
れば透明基板は０．６ｍｍ厚とする。第４の識別孔９₄
をこのように定義してもよい。

【００４０】図１には第３の識別孔５_Aを透明基板の厚
さの識別用に使う例を示している。同様にＢ面２_B側の
メディア識別孔群１１についても第３の識別孔５_Bを透
明基板厚識別用に用いる。図１には第３の識別孔５
_Aと、検出部３０ａ及び接触子３０ｂよりなる厚さ検出
器３０のみを示したが、実施には、図９に示すように他
の３つの識別孔９₁，９₂及び９₄も設けられている。各
孔の開閉を検出し、それぞれメディアの識別を検出する
検出器７０，７１及び７２も、それぞれ検出部７０ａ，
７１ａ及び７２ａと接触子７０ｂ，７１ｂ及び７２ｂを
伴って各識別孔の設けられる位置に対応するように装置
側に配設されている。ここで、各接触子は、各識別孔に
向かって例えば弾性体により突き出るように構成されて
いる。そして、各検出器７０，７１，３０及び７２の検
出結果は、システムコントローラ２９に供給される。

【００４１】図１に示した第３の識別孔５_Aは、開放さ
れているので、厚さ検出器３０の接触子３０ｂは上方に
突き出して、識別孔５_A内に侵入する。このとき、検出
部３０_Aは、オン信号（高レベルの信号）を出力し、シ
ステムコントローラ２９に供給する。

【００４２】システムコントローラ２９は、厚さ検出器
３０からの検出結果がオン信号であるので、光磁気ディ
スクのＡ面２_Aの透明基板の厚さが０．６ｍｍであるこ
とを判別し、透明基板厚０．６ｍｍの光磁気ディスクに
適する開口数ＮＡ（＝０．６）を備える上記対物レンズ
１１を選択し、二軸部１３上にセットする。

【００４３】厚さ検出器３０からの検出結果がオフ信号
であれば、システムコントローラ２９は、光磁気ディス
クのＡ面２_Aの透明基板の厚さが０．６ｍｍではなく、
例えば１．２ｍｍであることを判別し、透明基板厚１．
２ｍｍの光磁気ディスクに適する開口数ＮＡ（＝０．５
５）を備える上記対物レンズ１２を選択し二軸部１３上
にセットする。

【００４４】ここで、厚さ検出器３０は、その検出部３
０ａ及び接触子３０ｂを図１０のように構成している。
接触子３０ｂが上記第３の識別孔５_Aに突き出すと、発
光ダイオード７５からの光は遮断されずに受光部７６で
受光されて、出力信号（高レベルの信号）がシステムコ
ントローラ２９に供給される。

【００４５】また、検出スイッチ３０は、図１１に示す
ように、検出部３０ａ及び接触子３０ｂを構成してもよ
い。接触子３０ｂが上記識別孔５_Aに突き出すと、可動
接触部７８が固定接触部７９から離れて、出力信号（こ
の場合には低レベルの信号）がシステムコントローラ２
９に供給される。システムコントローラ２９は、低レベ
ルのときに透明基板厚が０．６ｍｍであると判別するよ
うに設定が変更されている。

【００４６】さらにまた、検出スイッチ３０は、図１２
に示すように構成されてもよい。検出部８１は、発光部
８２と受光部８３を備えるが、発光部８２からの光を直
接に受光部８３が受光できない構成をとる。透明基板の
厚さが０．６ｍｍである場合、ディスクカートリッジ１
上の上記メディア識別孔群９及び１１とは異なる位置に
反射シール８０を貼るようにすれば、検出部８１は反射
シール８０で反射された発光部８２からの光を受光部８
３に受光させることができるので、システムコントロー
ラ２９に出力信号（高レベルの信号）を供給できる。透
明基板の厚さが１．２ｍｍである場合、ディスクカート
リッジ１上には反射シール８０が貼られていないので、
検出部８１は高レベルの出力信号をシステムコントロー
ラ２９に供給することができない。

【００４７】次に、システムコントローラ２９で行われ
る制御を図１３のフローチャートに示し、この光磁気デ
ィスク装置の動作について図１３を参照しながら説明す
る。

【００４８】先ず、ステップＳ１でディスクカートリッ
ジ１が装置内のディスクカートリッジホルダに挿入され
ると、ステップＳ２では厚さ検出器３０からの検出結果
に応じて上記透明基板厚ｔが０．６ｍｍであるか否かを
判別する。

【００４９】上記透明基板厚が０．６ｍｍであれば、ス
テップＳ３に進み、透明基板の厚さｔ＝０．６ｍｍ用の
開口数ＮＡ（＝０．６）を持つ対物レンズ１１を対物レ
ンズ切り換え駆動回路３６を用いて選択して上記二軸部
１３にセットして光路上へセットする。

【００５０】そして、ステップＳ４でスピンドルモータ
２８をオン、レーザーダイオード１６をオン、フォーカ
スドライバ２４をオンにし、ステップＳ５で光磁気ディ
スク２の例えば外周側又は内周側に書き込まれているＳ
ＦＰ（Standared FormattedPart）を読み取り、ステッ
プＳ６で透明基板厚ｔ＝０．６ｍｍの光磁気ディスクに
合わせて、例えば変調方式、セクタ長、回転数、反射
率、読み取りレーザパワー、ＡＧＣ、書き込みレーザパ
ワー等の処理状態を設定する。

【００５１】以上により透明基板厚ｔ＝０．６ｍｍ用の
記録及び／再生モードの設定を終了すると、システムコ
ントローラ２９は、図１に示した各部を制御して、ステ
ップＳ１１で記録及び／又は再生を開始する。

【００５２】一方、ステップＳ２で厚さ検出器３０から
の検出結果から透明基板の厚さｔ＝０．６ｍｍでないと
判別した場合には、ｔ＝１．２ｍｍの光磁気ディスクが
装着されたと判断し、ステップＳ７でｔ＝１．２ｍｍ用
の対物レンズ１２を対物レンズ切り換え駆動回路３６を
用いて選択し、光路上へセットする。

【００５３】そして、ステップＳ８でスピンドルモータ
２８をオン、レーザーダイオード１６をオン、フォーカ
スドライバ２４をオンにし、ステップＳ９で上記ＳＦＰ
を読み取り、ステップＳ１０で透明基板厚ｔ＝１．２ｍ
ｍの光磁気ディスクに合わせて、例えば変調方式、セク
タ長、回転数、反射率、読み取りレーザパワー、ＡＧ
Ｃ、書き込みレーザパワー等の処理状態を設定する。

【００５４】以上により透明基板厚ｔ＝１．２ｍｍ用の
記録及び／再生モードの設定を終了すると、システムコ
ントローラ２９は、図１に示した各部を制御して、記録
及び／又は再生を開始する。

【００５５】なお、透明基板厚の識別用の物理的マーク
としては、カートリッジ表面に突起部を設けてもよい。
さらに、厚さ検出の手段としては、上記図９〜図１１に
示した具体例に限定されるものではない。

【００５６】また、上記基板厚を検出する手段として
は、ディスクカートリッジ１上に設けられた物理的マー
クを検出するだけではなく、光磁気ディスクの記録層に
予めプリピットとして書き込まれたマークパターンを光
学ピックアップ１０で読み取って、システムコントロー
ラ２９で判別してもよい。

【００５７】この場合、上記光学ピックアップ１０が光
磁気ディスク２のＡ面２_A及びＢ面２_Bから読み出すマー
クパターンは、基板厚ｔ＝０．６ｍｍの光磁気ディスク
の図１４に示すような記録層上のフォーマットの外周領
域９１又は内周領域１００内のＳＦＰ（Standared Form
atted Part）ゾーン９４又は１０２や、内周領域１００
内のＰＦＰ（Phase Encoded Part）ゾーン１０３に予め
書き込まれている。基板厚ｔ＝１．２ｍｍの光磁気ディ
スクは、既に市場に出ているので、新たに作成されるｔ
＝０．６ｍｍの光磁気ディスクに設けるのが望ましい。

【００５８】光磁気ディスク２のＡ面２_A及びＢ面２
_Bは、記録層のフォーマットを図１４に示すように構成
している。この光磁気ディスク２は、記録容量を例えば
２．６ＧＢとするので、外周部９０側からリードインさ
せる。

【００５９】最外周領域となるゾーン９２の内側には、
リードインゾーン９３が形成され、その内側にはコント
ロールトラックであるＳＦＰゾーン９４が形成され、そ
の内側には媒体製造者ゾーン９５が形成され、そしてユ
ーザ記録ゾーン９６が形成される。ここで、ＳＦＰに
は、詳細な記録条件、ＭＣＶＡ方式、トラックピッチ可
変方式等が書き込まれており、装置側に識別させる。

【００６０】また、内周部側には領域１００に示すよう
に、ユーザゾーン９６の内側に媒体製造者ゾーン１０１
が形成され、その内側にＳＦＰゾーン１０２が形成さ
れ、その内側にコントロールトラックであるＰＦＰゾー
ン１０３が形成され、さらに、反射率調整ゾーン１０
４、クリアランスゾーン１０５が形成されている。ここ
で、ＰＦＰゾーン１０３には、媒体の種類、変調方式、
回転モード、ＥＣＣモード、再生レーザパワー、記録位
置等が予め記録されている。

【００６１】さらにクリアランスゾーン１０５の内側に
は、クランピングゾーン１０６、ハブ１０７、磁性金属
１０８が形成されている。磁性金属１０８の中央部には
スピンドルモータからの軸を受ける軸受け孔１０９が形
成されている。

【００６２】ここで、上述したように、基板厚を示すマ
ークパターンは、例えばＳＦＰゾーン、又はＰＦＰゾー
ンにプリピットとして予め書き込まれている。

【００６３】このマークパターンとしては、異なった対
物レンズのＭＴＦ（Modulation Transfer Function）を
カバーできるような周波数があまり高くない、かつトラ
ッキングサーボをかけなくとも良い程多くのトラック
（例えばトラック幅１００μｍ以上の範囲）にまたがっ
て書き込まれていることが望まれる。これは、ディスク
の偏芯量が最大で５０μｍ程であることからもいえる。
よって、５００μｍの幅を持つＰＦＰゾーンに書き込む
のが最も望ましい。

【００６４】光学ヘッド１０は、二軸部１３によりフォ
ーカスのみをオンとして、回転駆動されている上記ディ
スクの記録層から上記マークパターンを読み取ろうとす
る。そして、上記マークパターンを読み取ると、システ
ムコントローラ２９にマトリクス回路２３を介して読み
取り出力を供給する。システムコントローラ２９は、例
えば透明基板厚ｔ＝０．６ｍｍの光磁気ディスクが装着
されたことを判断して、対物レンズ１１を対物レンズ切
り換駆動回路３６を用いて二軸部１３に選択し、光路上
にセットする。

【００６５】そして、システムコントローラ２９は、透
明基板厚ｔに適した開口数ＮＡを備える対物レンズを用
いて、光磁気ディスクに対して情報信号の記録及び／又
は再生を行う。

【００６６】このシステムコントローラ２９で行われる
制御を図１５のフローチャートに示し、この光磁気ディ
スク装置の詳細な動作について図１５を参照しながら説
明する。

【００６７】先ず、ステップＳ２１で二軸部１３に基板
厚ｔ＝０．６ｍｍ用の対物レンズ１１をセットしてい
る。ステップＳ２２で光磁気ディスク２を収納したディ
スクカートリッジ１が装置のディスクカートリッジホル
ダに挿入されると、システムコントローラ２９は、スピ
ンドルモータ２８をオン、レーザーダイオード１６をオ
ン、フォーカスドライバ２４をオンにする。

【００６８】そして、システムコントローラ２９は、光
学ヘッド１０がマークパターンを読み込んだか否かをス
テップＳ２４で判断し、読み込めていればステップＳ２
５に進み、ＳＦＰを読み取り、ステップＳ２６で透明基
板厚ｔ＝０．６ｍｍの光磁気ディスクに合わせて、例え
ば変調方式、セクタ長、回転数、反射率、読み取りレー
ザパワー、ＡＧＣ、書き込みレーザパワー等の処理状態
を設定する。

【００６９】以上により透明基板厚ｔ＝０．６ｍｍ用の
記録及び／再生モードの設定を終了すると、システムコ
ントローラ２９は、図１に示した各部を制御して、ステ
ップＳ２７で記録及び／又は再生を開始する。

【００７０】一方、ステップＳ２４で光学ヘッド１０が
マークパターンを読み込めなかったと判断すると、シス
テムコントローラ２９はステップＳ２８に進み、フォー
カスをオフする。そして、ステップＳ２９で基板厚ｔ＝
１．２ｍｍ用の対物レンズ１２を光路上にセットするよ
うに対物レンズ切換駆動回路３６で切り換えて二軸部１
３にセットしてからフォーカスをオンにする。この後、
ステップＳ３０でＳＦＰを読み取り、ステップＳ３１で
透明基板厚ｔ＝１．２ｍｍの光磁気ディスクに合わせ
て、例えば変調方式、セクタ長、回転数、反射率、読み
取りレーザパワー、ＡＧＣ、書き込みレーザパワー等の
処理状態を設定する。

【００７１】以上により透明基板厚ｔ＝１．２ｍｍ用の
記録及び／再生モードの設定を終了すると、システムコ
ントローラ２９は、図１に示した各部を制御して、ステ
ップＳ３１で記録及び／又は再生を開始する。

【００７２】このように、光磁気ディスク装置は、光磁
気ディスクに予め書き込まれたマークパターンを光学ヘ
ッド１０で読み出すことにより、基板の厚さを判別し、
それぞれの厚さに適する対物レンズを選択し、複数のデ
ィスクに対応させることもできる。このため、高密度化
と互換性を両立させることが可能になる。

【００７３】また、対物レンズ１１及び１２は、支持軸
４１を中心に１８０゜の位置に二軸ベース４０上に配設
され、対称位置となるので、バランスを保てる。また、
どちらのレンズを使用しても、駆動方式は等しく回路、
機構上の変更の必要がない。

【００７４】さらに、対物レンズの回転をソフト的に行
うことにより、１つのレンズのデバイスと同等の回路で
済み、外形的に変更を必要としない。

【００７５】さらにまた、スポット径をトラックピッチ
に対して最適化できるので、従来のように、スポット径
が大きすぎて、隣接トラックの記録済みデータを一部消
去することがない。同様に、スポット径が小さすぎて、
データ消去の際、消し残りを生じさせない。

【００７６】なお、本発明に係る実施の形態となる光磁
気ディスク装置では、５．２５インチの光磁気ディスク
を２枚貼り合わせて回転自在に収納したディスクカート
リッジ１に対して情報信号の記録及び／又は再生を行っ
たが、３．５インチ又は５．２５インチ等の光磁気ディ
スクを１枚のみ回転自在に収納したディスクカートリッ
ジに対して情報信号の記録及び／又は再生を行っても良
い。また、ディスクカートリッジに収納されていない光
磁気ディスクを用いることもできる。

【００７７】また、マークパターンは、フォーカスオン
のみで読み込め、かつ余り高い周波数でなければ、他の
ゾーンに予め書き込んでもよい。

【００７８】

【発明の効果】本発明に係る光磁気ディスク装置は、基
板厚検出手段からの検出出力に応じて制御手段が対物レ
ンズ切り換え手段を使って複数の対物レンズを切り換え
るので、光磁気ディスクの高密度化と互換性の両方を実
現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光磁気ディスク装置の実施の形態のブ
ロック図である。

【図２】上記実施の形態に用いる二軸部の外観斜視図で
ある。

【図３】上記二軸部の平面図である。

【図４】上記二軸部の断面図である。

【図５】上記実施の形態がアクセスする光磁気ディスク
を収納するディスクカートリッジの一方の面側の外観図
である。

【図６】上記ディスクカートリッジの他方の面側の外観
図である。

【図７】上記ディスクカートリッジに収納される光磁気
ディスクの断面図である。

【図８】上記実施の形態に用いられる固定光学系の詳細
な構成図である。

【図９】上記ディスクカートリッジの一方の面側に設け
られたセンサ識別孔群の断面図である。

【図１０】上記実施の形態に用いられる厚さ検出器の第
１の具体例を示す図である。

【図１１】上記厚さ検出器の第２の具体例を示す図であ
る。

【図１２】上記厚さ検出器の第３の具体例を示す図であ
る。

【図１３】上記厚さ検出器を用いた場合の実施の形態の
動作を説明するためのフローチャートである。

【図１４】上記光磁気ディスクの記録層に予め書き込ま
れたマークパターンを読み込んで基板厚さを判別する例
を説明するための光磁気ディスクの記録層のフォーマッ
ト図である。

【図１５】上記光磁気ディスクの記録層に予め書き込ま
れたマークパターンを読み込んで基板厚さを判別する場
合の上記光磁気ディスク装置の動作を説明するためのフ
ォローチャートである。

【符号の説明】

２ 光磁気ディスク、１０ 光学ヘッド、１１ 開口数
０．６の対物レンズ、１２ 開口数０．５５の対物レン
ズ、１３ 二軸部、１５ 固定光学系、２３マトリクス
回路、２９ システムコントローラ、３６ 対物レンズ
切換駆動回路

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光磁気ディスクに記録用の光を照射して
   記録層の保磁力を弱め、磁界を与えて情報信号を記録す
   ると共に、該光磁気ディスクで反射された再生用の光の
   偏光面の回転を検出して情報信号を再生する光磁気ディ
   スク装置において、 上記磁界を与える磁界発生手段と、 上記記録用及び再生用の光を出射する光源と、 上記光源に記録用の光と再生用の光とを出射させる発光
   制御手段と、 複数の上記光磁気ディスクがそれぞれ有する厚さの異な
   る複数の透明基板に対応する複数の対物レンズと、 上記複数の対物レンズを切り換え可能に保持してその内
   の一を上記光磁気ディスクの二軸方向に移動させる二軸
   手段と、 上記二軸手段が保持する複数の対物レンズを切り換える
   対物レンズ切り換え手段と、 上記複数の透明基板の厚さを検出する基板厚検出手段
   と、 上記基板厚検出手段からの検出出力に応じて上記対物レ
   ンズ切り換え手段を制御する制御手段と、 上記光磁気ディスクで反射された再生用の光の偏光面を
   検出する光偏光検出手段とを備えることを特徴とする光
   磁気ディスク装置。
2. 【請求項２】 上記複数の対物レンズは開口数を異なら
   せた二つの対物レンズであり、回転軸を中心に１８０゜
   対向して、上記二軸手段に保持されることを特徴とする
   請求項１記載の光磁気ディスク装置。
3. 【請求項３】 上記複数の対物レンズは、上記透明基板
   の厚さに応じて開口数を最適化していることを特徴とす
   る請求項１載の光磁気ディスク装置。
4. 【請求項４】 上記制御手段は、上記基板厚検出手段か
   らの検出出力に応じて上記対物レンズ切り換え手段を制
   御し、上記二軸手段が保持している開口数０．５５と
   ０．６０の対物レンズを切り換えることを特徴とする請
   求項１記載の光磁気ディスク装置。