JPH10186681A - 光硬化パターン剥離用組成物およびそれを用いたブラックマトリックスパターンの形成方法 - Google Patents

光硬化パターン剥離用組成物およびそれを用いたブラックマトリックスパターンの形成方法

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JPH10186681A
JPH10186681A JP35540696A JP35540696A JPH10186681A JP H10186681 A JPH10186681 A JP H10186681A JP 35540696 A JP35540696 A JP 35540696A JP 35540696 A JP35540696 A JP 35540696A JP H10186681 A JPH10186681 A JP H10186681A
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photosensitive resin
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JP35540696A
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Shozo Miyazawa
祥三 宮澤
Hiroshi Takanashi
博 高梨
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】剥離残りやフリンジの形成のない光硬化パター
ン剥離用組成物、および該光硬化パターン剥離用組成物
を使用したブラックマトリックスパターンの形成方法を
提供すること。 【解決手段】感光性樹脂組成物で形成した光硬化パター
ンを剥離するための光硬化パターン剥離用組成物におい
て、前記光硬化パターン剥離用組成物が一般式(1) 【化1】XF (1) (式中、XはH、Na、KまたはNH4を表わす)で表
わされるフッ素化合物の少なくとも1種を含有すること
を特徴とする光硬化パターン剥離用組成物、および感光
性樹脂組成物で形成した光硬化パターンを前記光硬化パ
ターン剥離用組成物で剥離除去するブラックマトリック
スパターンの形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光硬化パターン剥離用
組成物、さらに詳しくは、カラーテレビなどのカラーブ
ラウン管の蛍光面に設けられるブラックマトリックスの
製造工程で形成される光硬化パターンを剥離除去するた
めの光硬化パターン剥離用組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、カラーテレビなどのカラーブラウ
ン管は、ガラスパネル上にシャドウマスクを用いてホト
レジストのドットやストライプを形成し、その上に光吸
収性物質(例えば黒鉛)を塗布したのち、剥離液で前記
光吸収性物質の付着した光硬化レジストパターンを剥離
除去しブラックマトリックスホールまたはストライプを
形成し、そこに赤、青、緑の三原色蛍光体を充填するこ
とで製造されてきた。前記光硬化パターンの剥離工程で
は次亜塩素酸塩、過酸化水素、ペルオキソ硫酸塩、過ヨ
ウ素酸塩、重クロム酸塩などの剥離剤が使用されていた
が、光硬化レジスト層が完全に除去されず剥離残りが生
じ、それが原因で蛍光体形成において混色が起るなどの
欠点があり、特にポリビニルピロリドンと感光性化合物
とを含有する感光性樹脂組成物を用いて形成した光硬化
パターンは、剥離性に問題があった。
【0003】そこで、検討したところは上記欠点は使用
する感光性樹脂組成物に起因することがわかり、ビニル
ピロリドン−ビニルイミダゾール共重合体と感光性アジ
ド化合物とを含有する感光性樹脂組成物を開発し、特願
平7−298903号、特願平8−35555号で提案
した。前記感光性樹脂組成物は光硬化パターンの剥離性
が向上し、しかも高感度で、短い露光時間、すなわち少
ない露光量で効率よく光硬化パターンを形成できる上
に、ガラス基板との密着性にすぐれ、薄膜でもパターン
形成能があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、依然、
上記感光性樹脂組成物を用いてブラックマトリックス用
の光硬化パターンを形成しそれを従来の剥離剤で剥離除
去した場合、ブラックマトリックスパターンに若干のフ
リンジ(ギザつき)、剥離残りが生じることがあり、コ
ントラストに優れた三原色ドットまたはストライプの形
成が困難であった。
【0005】こうした現状に鑑み、本発明者等は、鋭意
研究を重ねた結果、特定のフッ素化合物を含有する水溶
液を剥離液として使用することで、さらに剥離性が向上
し、剥離残りやフリンジのないブラックマトリックスパ
ターンが形成できることを見出し、本発明を完成したも
のである。すなわち、
【0006】本発明は、剥離残りやフリンジを形成する
ことのない光硬化パターン剥離用組成物を提供すること
を目的とする。
【0007】また、本発明は、上記光硬化パターン剥離
用組成物を用いたブラックマトリックスパターンの形成
方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、感光性樹脂組成物で形成した光硬化パターンを剥
離するための光硬化パターン剥離用組成物において、前
記光硬化パターン剥離用組成物が一般式(6)
【0009】
【化6】XF (6) (式中、XはH、Na、KまたはNH4を表わす)で表
わされるフッ素化合物の少なくとも1種を含有すること
を特徴とする光硬化パターン剥離用組成物、および該剥
離用組成物を用いたブラックマトリックスパターンの形
成方法に係る。
【0010】本発明の光硬化パターン剥離用組成物は、
上述のとおりフッ素化合物の少なくとも1種を含有する
が、該フッ素化合物としては、具体的にフッ酸、フッ化
ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化アンモニウム、酸
性フッ化アンモニウムなどが挙げられる。前記フッ素化
合物は1種または2種以上を混合して使用することがで
きる。
【0011】上記フッ素化合物の含有量は、光硬化パタ
ーン剥離用組成物中におけるフッ素の含有量が1000
〜2000ppmの範囲になるような量であることが好
ましく、用いるフッ素化合物の種類によって異なるが、
光硬化パターン剥離用組成物の0.1〜1.0重量%、
好ましくは0.2〜0.5重量%の範囲が好適である。
前記含有量が0.1重量%未満では剥離性の向上がみら
れず、また、1.0重量%を越えるとガラス面のエッチ
ングが起り、光吸収性物質の剥離が起り好ましくない。
【0012】上記に加えて、本発明の光硬化パターン剥
離用組成物は、剥離性を向上させるため水溶液中で酸性
を示す無機化合物(以下酸性無機化合物という)を含有
することができる。前記酸性無機化合物としては、具体
的に硫酸、硝酸、塩酸、リン酸、次亜塩素酸、ペルオキ
ソ硫酸、過ヨウ素酸およびスルファミン酸が挙げられる
がこれらに限定されるものではない。特に塩酸、硫酸、
スルファミン酸が好ましい。これらの少なくとも1種を
含有することができる。
【0013】上記酸性無機化合物は本発明の光硬化パタ
ーン剥離用組成物の0.5〜30重量%、好ましくは2
〜15重量%の範囲で含有するのが好ましい。前記酸性
化合物が0.5重量%未満では剥離効果の向上がみられ
ず、また酸性化合物を30重量%を越えて添加しても、
剥離性が更に向上する傾向がみられず、逆に材料コスト
の上昇、強酸水溶液になることによる取扱上の問題が起
こる。
【0014】本発明の光硬化パターン剥離用組成物は、
上述のとおり一般式(6)で表わされるフッ素化合物の
少なくとも1種、さらに酸性無機化合物を含有してもよ
いが、特に好ましくはフッ素化合物と酸性無機化合物を
ともに含有し、かつフッ素化合物の含有量が0.2〜
0.5重量%、酸性無機化合物の含有量が2〜15重量
%のときである。前記組成割合のとき光硬化パターンは
好適に剥離され剥離残りやフリンジなどの発生がない。
【0015】なお、本発明の剥離用組成物は、酸性水溶
液であることが好ましく、中性またはアルカリ性では光
吸収性物質が剥離し易くなる。フッ酸、酸性フッ化アン
モニウムなどは水に溶け酸性を示すが、フッ化ナトリウ
ム、フッ化カリウムは水に難溶で、またその液自体も中
性であるため、上記の酸性無機化合物との併用が好まし
い。
【0016】本発明の光硬化パターン剥離用組成物は感
光性樹脂組成物として水現像型感光性組成物であれば、
従来公知の種々のものが使用可能であるが、この中でも
特に(A)ビニルピロリドン−ビニルイミダゾール共重
合体と(B)感光性化合物からなる水溶性感光性樹脂組
成物で形成した光硬化パターンの剥離に特に効果的であ
る。前記ビニルピロリドン−ビニルイミダゾール共重合
体の「ビニルピロリドン」とはN−ビニル−2−ピロリ
ドンを、また「ビニルイミダゾール」とは、N−ビニル
体、2−ビニル体、4−ビニル体のビニルイミダゾール
をいう。
【0017】上記(A)成分中のビニルイミダゾール含
有量は共重合体100モル%に対して5〜90モル%、
好ましくは10〜25モル%の範囲で選ばれる。前記ビ
ニルイミダゾール成分が5モル%未満では剥離処理時の
剥離性が十分でなく剥離残りを生じやすく、またビニル
イミダゾール成分が90モル%を超える共重合体は、高
分子量体の合成が困難である。
【0018】また、上記(A)成分は、K値が30〜1
00、好ましくは50〜100のものが好適に用いられ
る。前記K値は、分子量を表わすパラメータであり、下
記式1で表わされる。
【0019】
【式1】logηr/C = (75K2 0+K0)/(1
+1.5K0C) (式中、Cは共重合体水溶液100mlに含まれる該重
合体のグラム数を示し、 ηrは共重合体の相対
粘度を示す)
【0020】上記水溶性感光性樹脂組成物の(B)成分
としては、一般式(7)
【0021】
【化7】 (式中、YはNa、KまたはNH4を表わす)で表わさ
れる構成単位を有する高分子化合物、一般式(8)
【0022】
【化8】 (式中、YはNa、KまたはNH4を表わす)で表わさ
れる4,4’−ジアジドスチルベン−2,2’ジスルホ
ン酸塩類および一般式(9)
【0023】
【化9】 (式中、YはNa、KまたはNH4を表わす)で表わさ
れる2,5−ビス(4’−アジド−2’−スルホベンジ
リデン)シクロペンタノン塩類から選ばれる少なくとも
1種が用いられる。
【0024】上記一般式(7)で表わされる高分子化合
物は、例えば、ジアセトンアクリルアミドと水溶性モノ
マーを公知の方法で共重合させて得たベースポリマー
に、4−アジドベンズアルデヒド−2−スルホン酸およ
びその塩類から選ばれる少なくとも1種をアルドール縮
合反応させて得た重合体である。前記水溶性モノマーと
しては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ジメチルア
クリルアミド、アクリロイルモルホリンなどが挙げられ
る。また、共重合後加水分解反応でアルコール性水酸基
を生じる酢酸ビニルも使用できる。前記高分子化合物の
共重合反応割合は、ジアセトンアクリルアミド1モルに
対し水溶性モノマー0.5〜10モルの範囲がよく、ま
たベースポリマーの重量平均分子量は10×104〜1
00×104、好ましくは20×104〜50×104
分散度は1〜10、好ましくは1〜3の範囲がよい。前
記高分子化合物の4−アジドベンズアルデヒド−2−ス
ルホン酸またはその塩類の導入量はジアセトンアクリル
アミド100モルに対し5〜95モル%の範囲がよい。
この一般式(7)で表わされる高分子化合物の上記水溶
性感光性樹脂組成物中の配合割合は、(B)成分/
(A)成分=0.01〜0.50、好ましくは0.05
〜0.20の範囲がよい。前記(B)成分が0.01未
満では感度不足になり、また0.50を超えると感度が
高すぎ、露光コントロールが困難となる。
【0025】一般式(8)、(9)で表わされるビスジ
アジド化合物を(B)成分とする場合には、水溶性感光
性樹脂組成物中の配合割合は、(B)成分/(A)成分
=0.01〜0.35、好ましくは0.03〜0.20
の範囲で使用する。
【0026】また、上記(A)成分および(B)成分を
含有する水溶性感光性樹脂組成物は、塗布性などの点か
ら固形分濃度1〜12重量%の範囲を含有する水溶液が
好ましい。
【0027】カラーブラウン管はその製造においてブラ
ックマトリックスパターンを形成するため光吸収性物質
塗布液を使用するが、該光吸収性物質塗布液としては例
えば黒鉛粒子を水に分散させたスラリー液(分散液)な
どが用いられる。前記黒鉛粒子としては、球状、立方形
状などの3次元的形状を有する粒子や平面に近いうろこ
状の2次元的形状を有する粒子が挙げられるが、ガラス
基板に対する接着性、光硬化パターンの剥離後のブラッ
クマトリックスパターンのホールまたはストライプ形状
の良さから2次元的形状の黒鉛粒子が好ましい。前記2
次元的形状の黒鉛粒子としては、具体的にヒタゾルGA
−66S、ヒタゾルGA−66M、(日立粉末冶金社
製)などを挙げることができる。
【0028】次に、本発明の光硬化パターン剥離用組成
物を用いたブラックマトリックスパターンの形成方法を
示す。すなわち、(i)ガラスなどのガラスパネル上に
感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥する工程、(ii)シ
ャドウマスクを装着し、回転光源露光法で赤、青、緑の
三色相当の三回露光を行う工程、(iii)シャドウマ
スクを外し、現像してパネル上に光硬化レジストのドッ
トやストライプなどのパターンを残す工程、(iv)前
記ドットやストライプをも含めたパネル全面に光吸収性
物質(例えば黒鉛)塗布液を塗布、乾燥する工程、
(v)光硬化パターン剥離用組成物で前記光吸収性物質
の付着した光硬化パターンを剥離除去してマトリックス
ホールまたはストライプを形成する工程および(vi)
前記マトリックスホールまたはストライプに赤、青、緑
の三原色蛍光体スラリーを塗布することにより充填し三
原色ドットまたはストライプを形成する工程からなる形
成方法である。
【0029】
【発明の実施の態様】次に、実施例により本発明をさら
に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなん
ら限定されるものではない。
【0030】〈水溶性感光性樹脂組成物1の調製例〉 1)感光性化合物の合成 濃度5重量%のベースポリマー〔ジアセトンアクリルア
ミド単位:ジメチルアクリルアミド単位=40:60
(モル比)、Mw=250000〕水溶液100gに4
−アジドベンズアルデヒド−2−スルホン酸ナトリウム
4g(0.016モル)を添加溶解し、次いで10%カ
セイソーダ水溶液2mlを加え、室温(25℃)にて7
時間反応を行った。その後希塩酸にて中和し、純水で希
釈し、固形分7重量%の一般式(10)で表わされる構
成単位を有する感光性化合物の水溶液を得た。
【0031】
【化10】
【0032】2)水溶性感光性樹脂組成物1の調製 ビニルピロリドン−ビニルイミダゾール共重合体(ビニ
ルピロリドン:ビニルイミダゾール=90:10(モル
比)、K値=90)7gを純水100gに溶解してビニ
ルピロリドン−ビニルイミダゾール共重合体水溶液を調
合した。この水溶液に1)の一般式(10)で表わされ
る感光性化合物水溶液10gを添加溶解し純水で希釈
し、固形分濃度3.3重量%の水溶性感光性樹脂組成物
1を調製した。
【0033】〈水溶性感光性樹脂組成物2の調製例〉 一般式(11)
【0034】
【化11】 で表わされる4,4’−ジアジドスチルベン−2,2’
ジスルホン酸ナトリウム0.7gを上記2)のビニルピ
ロリドン−ビニルイミダゾール共重合体水溶液107g
に添加溶解し純水で希釈し、固形分濃度3.6重量%の
水溶性感光性樹脂組成物2を調製した。
【0035】〈水溶性感光性樹脂組成物3の調製例〉 一般式(12)
【0036】
【化12】 で表わされる2,5−ビス(4’−アジド−2’−スル
ホベンジリデン)シクロペンタノンのナトリウム塩0.
7gを上記2)のビニルピロリドン−ビニルイミダゾー
ル共重合体水溶液107gに添加溶解し純水で希釈し、
固形分濃度3.6重量%の水溶性感光性樹脂組成物3を
調製した。
【0037】〈水溶性感光性樹脂組成物4の調製例〉ビ
ニルピロリドン−ビニルイミダゾール共重合体粉末(ビ
ニルピロリドン:ビニルイミダゾール=90:10(モ
ル比)、K値=90)を純水に溶解し樹脂濃度6%の水
溶液1kgに調合し、上記一般式(11)で表わされる
4,4’−ジアジドスチルベン−2,2’ジスルホン酸
ナトリウム6gを添加溶解し、ろ過を行い、水溶性感光
性樹脂組成物4を調製した。
【0038】〈比較水溶性感光性樹脂組成物〉ポリビニ
ルピロリドン粉末(K値=90)を純水に溶解して樹脂
濃度6%の水溶液1kgを調合した。これに一般式(1
1)で表わされる4,4’−ジアジドスチルベン−2,
2’ジスルホン酸ナトリウム6gを添加溶解し、ろ過を
行い、比較水溶性感光性樹脂組成物を調製した。
【0039】〈塗布液1〜3の調製例〉水溶性感光性樹
脂組成物1〜3の各々100gにノニオン系界面活性剤
(「LT−221」;日本油脂社製)の10%水溶液1
g、シリコンカップリング剤(「KBM603」;信越
シリコン社製)の10%エタノール溶液2gを混合し
て、塗布液1〜3を調製した。
【0040】〈塗布液4の調製例〉水溶性感光性樹脂組
成物4を純水で2倍に希釈した。該水溶液を100g取
り、塗布液1〜3の調製例で用いたノニオン系界面活性
剤の10%水溶液1g、シリコンカップリング剤の10
%エタノール溶液2gを混合し、ろ過して塗布液4を調
製した。
【0041】〈比較塗布液の調製例〉塗布液4の調製例
において水溶性感光性樹脂組成物4を比較水溶性感光性
樹脂組成物に代えた以外は塗布液4の調製例と同様にし
て比較塗布液を調製した。
【0042】〈剥離液1の調合例〉フッ酸0.4g、濃
硫酸(濃度98重量%)10gを純水に溶解して、全量
を100gに調製した剥離液1を調合した。
【0043】〈剥離液2の調合例〉フッ化ナトリウム
0.4g、濃硫酸(濃度98重量%)10gを純水に溶
解して、全量を100gに調製し剥離液2を調合した。
【0044】〈剥離液3の調合例〉フッ化アンモニウ
ム、0.4g、濃硫酸(濃度98重量%)10gを純水
に溶解して、全量を100gに調製し剥離液3を調合し
た。
【0045】〈剥離液4の調合例〉フッ酸添加量を0.
4gから0.2gに代えた以外剥離液の調合例1と同様
にして剥離液4を調合した。
【0046】〈剥離液5の調合例〉フッ酸添加量を0.
4gから0.8gに代えた以外剥離液の調合例1と同様
にして、剥離液5を調合した。
【0047】〈剥離液6の調合例〉フッ酸とフッ化アン
モニウムの1:1混合物である酸性フッ化アンモニウム
0.4gを純水に溶解して、全量を100gに調製し剥
離液6を調合した。
【0048】〈剥離液7の調合例〉フッ化アンモニウム
0.2g、塩酸水溶液(濃度35重量%)8.6g(H
Cl含有量3g)を純水に溶解して、全量を100gに
調製した剥離液7を調合した。
【0049】〈剥離液8の調合例〉フッ化アンモニウム
0.2g、濃硫酸(濃度98重量%)3gを純水に溶解
して、全量を100gに調製し剥離液8を調合した。
【0050】〈比較剥離液の調合例〉濃硫酸(濃度98
重量%)10gを純水に溶解して、全量を100gに調
製し比較剥離液を調合した。
【0051】
【実施例】
実施例1 洗浄したガラス板(125φmm)を基板として用い、
この基板上に塗布液1を300rpmにて回転塗布し、
50℃にて15分間乾燥を行い、感光性層(膜厚0.8
μm)を形成した。この感光性層上に、ギャップ10m
mにて、所定のドットパターンの透孔を有するシャドウ
マスクを介して、超高圧水銀灯にて照度0.10mW/
cm2の光量、波長350nmセンサー使用で25秒間
点光源露光を行った。露光後、水現像して未露光部分を
除去した後、50℃にて10分間熱風乾燥して光硬化レ
ジストパターンを得た。前記光硬化レジストパターンが
形成されたガラス基板全面に、黒鉛スラリー(「ヒタゾ
ルGA−66S」;日本粉末治金社製)の2倍希釈液を
300rpmにて回転塗布し、50℃にて30分間乾燥
を行った。次いで、これを剥離液1に25℃にて1分間
浸漬した後、4kg/cm2圧のスプレー水で洗い流し
た。その結果、剥離残りやフリンジのないブラックマト
リックスパターンが得られた。
【0052】実施例2 塗布液1を塗布液2に代えた以外は実施例1と同様にし
てブラックマトリックスパターンを形成した。その結
果、剥離残りやフリンジのないブラックマトリックスパ
ターンが得られた。
【0053】実施例3 塗布液1を塗布液3に代えた以外は実施例1と同様にし
てブラックマトリックスパターンを形成した。その結
果、剥離残りやフリンジのないブラックマトリックスパ
ターンが得られた。
【0054】実施例4〜9 剥離液1を剥離液2〜6に代えた以外は実施例1と同様
にしてブラックマトリックスパターンを形成した。その
結果、剥離液6を用いた場合のみ、フリンジの発生が見
られたがそれ以外のいずれの剥離液を用いた場合も、剥
離残りやフリンジのないブラックマトリックスパターン
が得られた。
【0055】比較例1 剥離液1を比較剥離液に代えた以外は実施例1と同様に
してブラックマトリックスパターンを形成した。その結
果、かすかな剥離残りが生じ、また若干のフリンジの発
生がみられた。
【0056】実施例10 塗布液1を塗布液4に代えた以外は実施例1と同様にし
て感光性層(膜厚0.8μm)を形成した。この感光性
層上に、ギャップ10mmにて、所定のドットパターン
の透孔を有するシャドウマスクを介して、超高圧水銀灯
にて照度0.12mW/cm2の光量、波長350nm
センサー使用で20秒間点光源露光を行った以外は実施
例1と同様にして露光を行い、現像し、光硬化レジスト
パターンを形成した。この光硬化レジストパターンが形
成されたガラス基板全面に、黒鉛スラリー(「ヒタゾル
GA−66M」;日本粉末治金社製)の2倍希釈液を3
00rpmにて回転塗布し、50℃にて30分間乾燥を
行った。次いで、剥離液7に25℃にて1分間浸漬した
のち、4kg/cm2圧のスプレー水で洗い流したとこ
ろ、剥離残りやフリンジのないブラックマトリックスパ
ターンが得られた。その結果を図1に示す。
【0057】実施例11 剥離液7を剥離液8に代えた以外は実施例10と同様に
してブラックマトリックスパターンを形成した。実施例
10と同様に良好な形状のブラックマトリックスパター
ンが形成された。その結果を図2に示す。
【0058】比較例2 塗布液4を比較塗布液に代えた以外は実施例10と同様
にしてブラックマトリックスパターンの形成を試みた
が、光硬化レジストパターンが形成されていた部分以外
の領域で黒鉛膜の剥離が生じてしまった。また、僅かに
形成されたホールにはフリンジの発生が確認された。そ
の結果を図3で示す。
【0059】比較例3 剥離液7を剥離液8に代えた以外は比較例2と同様にし
てブラックマトリックスパターンの形成を試みたが、光
硬化レジストパターンが形成されていた部分以外の領域
で黒鉛膜の剥離が生じてしまった。また、ホールの形成
は確認できなかった。その結果を図4に示す。
【0060】
【発明の効果】本発明の光硬化パターン剥離用組成物
は、光硬化レジストパターンを良好に剥離でき剥離残り
やフリンジの形成がない。該光硬化パターン剥離用組成
物を用いることで、コントラストの優れたカラーテレビ
ブラウン管が製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ビニルピロリドン−ビニルイミダゾール共重合
体と感光性化合物を含有する水溶性感光性樹脂組成物で
形成した光硬化レジストパターンをフッ化アンモニウム
0.2g、塩酸水溶液(濃度35重量%)8.6g(H
Cl含有量3g)からなる光硬化パターン剥離用組成物
で剥離したときのブラックマトリックスドットの状態を
示す。
【図2】フッ化アンモニウム0.2gと濃硫酸(濃度9
8重量%)3gを含有する本発明の光硬化パターン剥離
用組成物を用いたときのブラックマトリックスドットの
状態を示す。
【図3】ポリビニルピロリドンを含有する水溶性感光性
樹脂組成物で形成した光硬化パターンをフッ化アンモニ
ウム0.2g、塩酸水溶液(濃度35重量%)8.6g
(HCl含有量3g)からなる光硬化パターン剥離用組
成物で剥離したときのブラックマトリックスドットの状
態を示す。
【図4】ポリビニルピロリドンを含有する水溶性感光性
樹脂組成物で形成した光硬化パターンをフッ化アンモニ
ウム0.2g、濃硫酸(濃度98重量%)3gからなる
剥離用組成物で剥離したときのブラックマトリックスド
ットを形成したときの状態を示す。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】感光性樹脂組成物で形成した光硬化パター
    ンを剥離するための光硬化パターン剥離用組成物におい
    て、前記光硬化パターン剥離用組成物が一般式(1) 【化1】XF (1) (式中、XはH、Na、KまたはNH4を表わす)で表
    わされるフッ素化合物の少なくとも1種を含有すること
    を特徴とする光硬化パターン剥離用組成物。
  2. 【請求項2】フッ素化合物の含有量が0.1〜1.0重
    量%であることを特徴とする請求項1記載の光硬化パタ
    ーン剥離用組成物。
  3. 【請求項3】請求項1記載の光硬化パターン剥離用組成
    物がさらに水溶液中で酸性を示す無機化合物を含有する
    ことを特徴とする光硬化パターン剥離用組成物。
  4. 【請求項4】フッ素化合物の含有量が0.1〜1.0重
    量%、水溶液中で酸性を示す無機化合物の含有量が0.
    5〜30重量%であることを特徴とする請求項3記載の
    光硬化パターン剥離用組成物。
  5. 【請求項5】感光性樹脂組成物が水現像型感光性樹脂組
    成物であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれ
    か1記載の光硬化パターン剥離用組成物。
  6. 【請求項6】感光性樹脂組成物が(A)ビニルピロリド
    ン−ビニルイミダゾール共重合体と(B)感光性化合物
    からなる水溶性感光性樹脂組成物であることを特徴とす
    る請求項1ないし5のいずれか1記載の光硬化パターン
    剥離用組成物。
  7. 【請求項7】(B)成分が一般式(2) (式中、YはNa、KまたはNH4を表わす)で表わさ
    れる構成単位を有する高分子化合物であることを特徴と
    する請求項6記載の光硬化パターン剥離用組成物。
  8. 【請求項8】(B)成分が一般式(3) 【化3】 (式中、YはNa、KまたはNH4を表わす)で表わさ
    れる4,4’−ジアジドスチルベン−2,2’ジスルホ
    ン酸塩類および 【化4】 (式中、YはNa、KまたはNH4を表わす)で表わさ
    れる2,5−ビス(4’−アジド−2’−スルホベンジ
    リデン)シクロペンタノン塩類から選ばれる少なくとも
    1種であることを特徴とする請求項6記載の光硬化パタ
    ーン剥離用組成物。
  9. 【請求項9】感光性樹脂組成物を用いてガラス基板上に
    ドットまたはストライプの光硬化パターンを形成したの
    ちガラス基板全面に光吸収性物質塗布液を塗布、乾燥
    し、前記光硬化パターンを一般式(5) 【化5】XF (5) (式中、XはH、Na、KまたはNH4を表わす)で表
    わされるフッ素化合物の少なくとも1種を含有する光硬
    化パターン剥離用組成物で剥離除去し3原色蛍光体用マ
    トリックスホール又はストライプを形成することを特徴
    とするブラックマトリックスパターンの形成方法。
  10. 【請求項10】光硬化パターン剥離用組成物がさらに水
    溶液中で酸性を示す無機化合物を含有することを特徴と
    する請求項9記載のブラックマトリックスパターンの形
    成方法。
  11. 【請求項11】光吸収性物質塗布液が2次元的形状を有
    する黒鉛粒子を水に分散した分散液であることを特徴と
    する請求項9記載のブラックマトリックスパターンの形
    成方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006059392A1 (ja) * 2004-12-03 2006-06-08 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 化学増幅型ホトレジスト組成物、ホトレジスト層積層体、ホトレジスト組成物製造方法、ホトレジストパターンの製造方法及び接続端子の製造方法
KR101191895B1 (ko) * 2003-12-09 2012-10-16 가부시끼가이샤 도시바 포토레지스트 잔사 제거용 액상 조성물과 상기 조성물을사용한 반도체 회로 소자 제조공정

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