JPH10186676A - 感放射線性組成物用現像液 - Google Patents
感放射線性組成物用現像液Info
- Publication number
- JPH10186676A JPH10186676A JP34865696A JP34865696A JPH10186676A JP H10186676 A JPH10186676 A JP H10186676A JP 34865696 A JP34865696 A JP 34865696A JP 34865696 A JP34865696 A JP 34865696A JP H10186676 A JPH10186676 A JP H10186676A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developer
- sensitive composition
- radiation
- hindered
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 感放射線性組成物から形成される塗膜を良好
に現像することができる感放射線性組成物用現像液を提
供すること。 【解決手段】 本発明の感放射線性組成物用現像液は、
下記〔化１〕の一般式（Ｉ）で表されるヒンダードピペ
リジノール化合物を含有してなることを特徴とする。 【化１】
に現像することができる感放射線性組成物用現像液を提
供すること。 【解決手段】 本発明の感放射線性組成物用現像液は、
下記〔化１〕の一般式（Ｉ）で表されるヒンダードピペ
リジノール化合物を含有してなることを特徴とする。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感放射線性組成物
用現像液、詳しくは、ヒンダードピペリジノール化合物
を含有し、感放射線性組成物から形成される塗膜を良好
に現像することができる感放射線性組成物用現像液に関
するものである。
用現像液、詳しくは、ヒンダードピペリジノール化合物
を含有し、感放射線性組成物から形成される塗膜を良好
に現像することができる感放射線性組成物用現像液に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
集積回路、プリント基板回路、カラーフィルタなどの微
細加工分野において広く利用されているレジスト膜は、
通常、レジスト膜形成用感放射線性組成物を基板上に塗
布して塗膜を形成し、これに放射線を照射し、その後ア
ルカリ性現像液で現像して、不要部分の塗膜を除去して
パターン形状にすることによって製造される。
集積回路、プリント基板回路、カラーフィルタなどの微
細加工分野において広く利用されているレジスト膜は、
通常、レジスト膜形成用感放射線性組成物を基板上に塗
布して塗膜を形成し、これに放射線を照射し、その後ア
ルカリ性現像液で現像して、不要部分の塗膜を除去して
パターン形状にすることによって製造される。
【０００３】このような感放射線性組成物からなる塗膜
の現像は、浸漬現像、揺動現像、ディップ現像、シャワ
ー・スプレー現像、パドル現像などの方法により行なわ
れるが、この現像の際には、アルカリ性現像液が用いら
れる。
の現像は、浸漬現像、揺動現像、ディップ現像、シャワ
ー・スプレー現像、パドル現像などの方法により行なわ
れるが、この現像の際には、アルカリ性現像液が用いら
れる。
【０００４】従来、このような現像液としては、例え
ば、炭酸ナトリウム水溶液、テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド水溶液、アルカノールアミン水溶液などの
アルカリ性水溶液が広く用いられている。
ば、炭酸ナトリウム水溶液、テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド水溶液、アルカノールアミン水溶液などの
アルカリ性水溶液が広く用いられている。
【０００５】しかしながら、このような従来公知の現像
液を用いて、比較的分子量の大きいバインダーポリマー
と、感放射線性化合物とを含み、顔料あるいは微粒子が
分散された感放射線性組成物、例えば、カラーフィルタ
用の感放射線性組成物あるいは層間膜用シリカ分散感放
射線性組成物などからなる塗膜を現像してカラーフィル
タあるいはレジスト膜を形成しようとすると、不要な塗
膜を十分に除去することができないことがあった。すな
わちレジスト膜の非形成部分に粒子あるいは未溶解物が
残存しやすく、スカム、地汚れ、膜残りなどが生じてシ
ャープなパターンエッジを有するレジストパターンある
いは画素を形成することができないという問題点があっ
た。
液を用いて、比較的分子量の大きいバインダーポリマー
と、感放射線性化合物とを含み、顔料あるいは微粒子が
分散された感放射線性組成物、例えば、カラーフィルタ
用の感放射線性組成物あるいは層間膜用シリカ分散感放
射線性組成物などからなる塗膜を現像してカラーフィル
タあるいはレジスト膜を形成しようとすると、不要な塗
膜を十分に除去することができないことがあった。すな
わちレジスト膜の非形成部分に粒子あるいは未溶解物が
残存しやすく、スカム、地汚れ、膜残りなどが生じてシ
ャープなパターンエッジを有するレジストパターンある
いは画素を形成することができないという問題点があっ
た。
【０００６】このため、従来は、現像液のアルカリ濃度
を高めたり、あるいは機械的な刺激を与えながら現像し
たりしているが、このようにすると必要なレジスト膜ま
で剥離することがあり、例えば、カラーフィルタの製造
で画素部分が欠落することがあった。
を高めたり、あるいは機械的な刺激を与えながら現像し
たりしているが、このようにすると必要なレジスト膜ま
で剥離することがあり、例えば、カラーフィルタの製造
で画素部分が欠落することがあった。
【０００７】このため、顔料あるいは微粒子が分散され
た感放射線性組成物から形成された塗膜を現像してレジ
ストパターンあるいはカラーフィルタなどを製造するに
際して、膜はがれを生じることなく不要塗膜を溶解除去
することができるとともに、スカム、地汚れ、膜残りな
どを生じたりすることなく、シャープなパターンエッジ
を有するレジストパターンあるいはカラーフィルタを形
成することができるような感放射線性組成物用現像液の
出現が望まれていた。
た感放射線性組成物から形成された塗膜を現像してレジ
ストパターンあるいはカラーフィルタなどを製造するに
際して、膜はがれを生じることなく不要塗膜を溶解除去
することができるとともに、スカム、地汚れ、膜残りな
どを生じたりすることなく、シャープなパターンエッジ
を有するレジストパターンあるいはカラーフィルタを形
成することができるような感放射線性組成物用現像液の
出現が望まれていた。
【０００８】従って、本発明の目的は、感放射線性組成
物から形成される塗膜を良好に現像することができる感
放射線性組成物用現像液を提供することにある。
物から形成される塗膜を良好に現像することができる感
放射線性組成物用現像液を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、種々検討
を重ねた結果、特定のヒンダードピペリジノール化合物
をアルカリ性化合物として使用してなる現像液が、上記
目的を達成し得ることを知見した。
を重ねた結果、特定のヒンダードピペリジノール化合物
をアルカリ性化合物として使用してなる現像液が、上記
目的を達成し得ることを知見した。
【００１０】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
で、下記〔化２〕（前記〔化１〕と同じ）の一般式
（Ｉ）で表されるヒンダードピペリジノール化合物を含
有してなることを特徴とする感放射線性組成物用現像液
を提供するものである。
で、下記〔化２〕（前記〔化１〕と同じ）の一般式
（Ｉ）で表されるヒンダードピペリジノール化合物を含
有してなることを特徴とする感放射線性組成物用現像液
を提供するものである。
【００１１】
【化２】
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の感放射線性組成物
用現像液について詳述する。本発明の感放射線性組成物
用現像液が含有する上記一般式（Ｉ）で表されるヒンダ
ードピペリジノール化合物において、Ｒで示されるアル
キル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、
ブチル、ベンジルなどの基があげられ、Ｒ’で表される
アルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、
プロピレン、ブチレンなどの基があげられる。
用現像液について詳述する。本発明の感放射線性組成物
用現像液が含有する上記一般式（Ｉ）で表されるヒンダ
ードピペリジノール化合物において、Ｒで示されるアル
キル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、
ブチル、ベンジルなどの基があげられ、Ｒ’で表される
アルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、
プロピレン、ブチレンなどの基があげられる。
【００１３】本発明の感放射線性組成物用現像液は、上
記一般式（Ｉ）で表されるヒンダードピペリジノール化
合物を必須成分として含有すること以外は通常の感放射
線性組成物用現像液と同様である。即ち、本発明の現像
液は、上記一般式（Ｉ）で表されるヒンダードピペリジ
ノール化合物及び水を含有するアルカリ性水溶液であ
り、ｐＨが好ましくは９〜１３、より好ましくは１０〜
１２に調整されてなるものである。該ｐＨが９未満で
は、膜残りを発生しやすく、１３を越えると、レジスト
膜を欠落させたり、膜はがれを生じることがあるため好
ましくない。
記一般式（Ｉ）で表されるヒンダードピペリジノール化
合物を必須成分として含有すること以外は通常の感放射
線性組成物用現像液と同様である。即ち、本発明の現像
液は、上記一般式（Ｉ）で表されるヒンダードピペリジ
ノール化合物及び水を含有するアルカリ性水溶液であ
り、ｐＨが好ましくは９〜１３、より好ましくは１０〜
１２に調整されてなるものである。該ｐＨが９未満で
は、膜残りを発生しやすく、１３を越えると、レジスト
膜を欠落させたり、膜はがれを生じることがあるため好
ましくない。
【００１４】上記ヒンダードピペリジノール化合物の使
用量は、水１００重量部に対して好ましくは０．０１〜
２０重量部であり、更に好ましくは０．１〜１０重量部
である。該使用量が０．０１重量部未満では効果が不十
分であり、２０重量部を越えた場合には粘度が上昇する
ことがあるため好ましくない。
用量は、水１００重量部に対して好ましくは０．０１〜
２０重量部であり、更に好ましくは０．１〜１０重量部
である。該使用量が０．０１重量部未満では効果が不十
分であり、２０重量部を越えた場合には粘度が上昇する
ことがあるため好ましくない。
【００１５】本発明の感放射線性組成物用現像液には、
現像速度を調整するために、公知の他のアルカリ性化合
物を使用することができ、例えば、リチウム、カリウ
ム、ナトリウム等のアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、
重炭酸塩、リン酸塩、硼酸塩あるいはアンモニアなどの
無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウ
ムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トエリエタノール
アミン、モノエタノールジメチルアミンなどの有機アル
カリ性化合物などがあげられる。
現像速度を調整するために、公知の他のアルカリ性化合
物を使用することができ、例えば、リチウム、カリウ
ム、ナトリウム等のアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、
重炭酸塩、リン酸塩、硼酸塩あるいはアンモニアなどの
無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウ
ムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トエリエタノール
アミン、モノエタノールジメチルアミンなどの有機アル
カリ性化合物などがあげられる。
【００１６】これらの他のアルカリ性化合物を併用する
場合において、本発明に係る上記ヒンダードピペリジノ
ール化合物と該他のアルカリ性化合物との使用比率（重
量基準）は特に制限されないが、好ましくは１／１０〜
１０／１の範囲で適宜選択される。
場合において、本発明に係る上記ヒンダードピペリジノ
ール化合物と該他のアルカリ性化合物との使用比率（重
量基準）は特に制限されないが、好ましくは１／１０〜
１０／１の範囲で適宜選択される。
【００１７】また、本発明の感放射線性組成物用現像液
には、必要に応じて、アニオン性界面活性剤、ノニオン
性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性
剤、高分子界面活性剤などの界面活性剤を使用すること
ができる。これらの界面活性剤を用いることで上記ヒン
ダードピペリジノール化合物及び必要に応じ用いられる
上記他のアルカリ性化合物の溶解性あるいは分散性を向
上させ、現像感度も調整することができる。
には、必要に応じて、アニオン性界面活性剤、ノニオン
性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性
剤、高分子界面活性剤などの界面活性剤を使用すること
ができる。これらの界面活性剤を用いることで上記ヒン
ダードピペリジノール化合物及び必要に応じ用いられる
上記他のアルカリ性化合物の溶解性あるいは分散性を向
上させ、現像感度も調整することができる。
【００１８】ここで、上記アニオン性界面活性剤として
は、例えば、ナトリウムドデシルサルフェート、カリウ
ムドデシルサルフェート、アンモニウムドデシルサルフ
ェートなどのアルキルサルフェート；ナトリウムドデシ
ルポリグリコールエーテルサルフェート；ナトリウムス
ルホリシノート；スルホン化パラフィンのアルカリ金属
塩、スルホン化パラフィンのアンモニウム塩などのアル
キルスルホネート；ナトリウムラウレート、トリエタノ
ールアミンオレート、トリエタノールアミンアビエテー
トなどの脂肪酸塩；ナトリウムベンゼンスルホネート、
アルカリフェノールヒドロキシエチレンのアルカリ金属
サルフェートなどのアルキルアリールスルホネート；高
アルキルナフタレンスルホン酸塩；ナフタレンスルホン
酸ホルマリン縮合物；ジアルキルスルホコハク酸塩；ポ
リオキシエチレンアルキルサルフェート塩；ポリオキシ
エチレンアルキルアリールサルフェート塩などがあげら
れる。
は、例えば、ナトリウムドデシルサルフェート、カリウ
ムドデシルサルフェート、アンモニウムドデシルサルフ
ェートなどのアルキルサルフェート；ナトリウムドデシ
ルポリグリコールエーテルサルフェート；ナトリウムス
ルホリシノート；スルホン化パラフィンのアルカリ金属
塩、スルホン化パラフィンのアンモニウム塩などのアル
キルスルホネート；ナトリウムラウレート、トリエタノ
ールアミンオレート、トリエタノールアミンアビエテー
トなどの脂肪酸塩；ナトリウムベンゼンスルホネート、
アルカリフェノールヒドロキシエチレンのアルカリ金属
サルフェートなどのアルキルアリールスルホネート；高
アルキルナフタレンスルホン酸塩；ナフタレンスルホン
酸ホルマリン縮合物；ジアルキルスルホコハク酸塩；ポ
リオキシエチレンアルキルサルフェート塩；ポリオキシ
エチレンアルキルアリールサルフェート塩などがあげら
れる。
【００１９】また、上記ノニオン性界面活性剤として
は、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル；ポ
リオキシエチレンアルキルアリールエーテル；ソルビタ
ン脂肪酸エステル；ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル；脂肪酸モノグリセライド；トリメチロール
プロパン脂肪酸エステル；ポリオキシエチレンオキシプ
ロピレン共重合体；エチレンオキサイドの脂肪酸アミ
ン、アミドまたは酸との縮合生成物などがあげられる。
は、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル；ポ
リオキシエチレンアルキルアリールエーテル；ソルビタ
ン脂肪酸エステル；ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル；脂肪酸モノグリセライド；トリメチロール
プロパン脂肪酸エステル；ポリオキシエチレンオキシプ
ロピレン共重合体；エチレンオキサイドの脂肪酸アミ
ン、アミドまたは酸との縮合生成物などがあげられる。
【００２０】また、上記カチオン性界面活性剤として
は、例えば、第１〜３級アミン塩；ピリジニウム塩；第
４級アンモニウム塩などがあげられる。
は、例えば、第１〜３級アミン塩；ピリジニウム塩；第
４級アンモニウム塩などがあげられる。
【００２１】また、上記高分子界面活性剤としては、例
えば、ポリビニルアルコール；ポリ（メタ）アクリル酸
ナトリウム、ポリ（メタ）アクリル酸カリウム、ポリ
（メタ）アクリル酸アンモニウム、ポリヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート；ポリヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート；またこれらの重合体構成単位である
重合性単量体の２種以上の共重合体または他の単量体と
の共重合体などがあげられる。また、クラウンエーテル
類などの相関移動触媒と称されるものも界面活性を示す
ものとして有用である。
えば、ポリビニルアルコール；ポリ（メタ）アクリル酸
ナトリウム、ポリ（メタ）アクリル酸カリウム、ポリ
（メタ）アクリル酸アンモニウム、ポリヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート；ポリヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート；またこれらの重合体構成単位である
重合性単量体の２種以上の共重合体または他の単量体と
の共重合体などがあげられる。また、クラウンエーテル
類などの相関移動触媒と称されるものも界面活性を示す
ものとして有用である。
【００２２】これらの界面活性剤の使用量は、水１００
重量部に対し、好ましくは０．００１〜１０重量部であ
る。
重量部に対し、好ましくは０．００１〜１０重量部であ
る。
【００２３】また、上記ヒンダードピペリジノール化合
物及び必要に応じて用いられる他のアルカリ性化合物の
溶解性あるいは分散性を向上させ、現像感度も調整する
ために有機溶剤を使用することもでき、該有機溶剤とし
ては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキ
ルエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコー
ルジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキ
レンエーテル類；メチルセルソルブアセテート、エチル
セルソルブアセテート等のエチレングリコールアルキル
アセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエー
テルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキル
エーテルアセテート類；ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素；メチルエチルケトン、アセトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類；エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノ
ール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリ
セリン等のアルコール類等があげられる。
物及び必要に応じて用いられる他のアルカリ性化合物の
溶解性あるいは分散性を向上させ、現像感度も調整する
ために有機溶剤を使用することもでき、該有機溶剤とし
ては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキ
ルエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコー
ルジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキ
レンエーテル類；メチルセルソルブアセテート、エチル
セルソルブアセテート等のエチレングリコールアルキル
アセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエー
テルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキル
エーテルアセテート類；ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素；メチルエチルケトン、アセトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類；エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノ
ール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリ
セリン等のアルコール類等があげられる。
【００２４】本発明の感放射線性組成物用現像液の好ま
しい組成は、水１００重量部及び上記ヒンダードピペリ
ジノール化合物０．０１〜２０重量部（特に好ましくは
０．１〜１０重量部）を含有してなる組成である。ま
た、本発明の感放射線性組成物用現像液の更に好ましい
組成は、水１００重量部及び上記ヒンダードピペリジノ
ール化合物０．０１〜２０重量部（特に好ましくは０．
１〜１０重量部）、並びに界面活性剤０．００１〜１０
重量部及び／又は他のアルカリ性化合物を該ヒンダード
ピペリジノール化合物１重量部に対して０．１〜１０重
量部を含有してなる組成である。
しい組成は、水１００重量部及び上記ヒンダードピペリ
ジノール化合物０．０１〜２０重量部（特に好ましくは
０．１〜１０重量部）を含有してなる組成である。ま
た、本発明の感放射線性組成物用現像液の更に好ましい
組成は、水１００重量部及び上記ヒンダードピペリジノ
ール化合物０．０１〜２０重量部（特に好ましくは０．
１〜１０重量部）、並びに界面活性剤０．００１〜１０
重量部及び／又は他のアルカリ性化合物を該ヒンダード
ピペリジノール化合物１重量部に対して０．１〜１０重
量部を含有してなる組成である。
【００２５】本発明の感放射線性組成物用現像液は、集
積回路、プリント基板回路、カラーフィルタなどの微細
加工分野において広く利用されているレジスト膜の現像
に好適に使用することができる。尚、本発明において、
「放射線」とは、例えば、紫外線、電子線、Ｘ線などを
いう。
積回路、プリント基板回路、カラーフィルタなどの微細
加工分野において広く利用されているレジスト膜の現像
に好適に使用することができる。尚、本発明において、
「放射線」とは、例えば、紫外線、電子線、Ｘ線などを
いう。
【００２６】本発明の感放射線性組成物用現像液を用い
ることで、シリカ粒子、顔料などの微粒子が分散された
感放射線性組成物の塗膜を現像した場合においても微粒
子あるいは未溶解物が残存することなく、また、画素が
欠落したり、レジスト膜の膜はがれなどを生じることが
ない。
ることで、シリカ粒子、顔料などの微粒子が分散された
感放射線性組成物の塗膜を現像した場合においても微粒
子あるいは未溶解物が残存することなく、また、画素が
欠落したり、レジスト膜の膜はがれなどを生じることが
ない。
【００２７】本発明の感放射線性組成物用現像液は、例
えば、カラーフィルタ用感放射線性組成物からカラーフ
ィルタを形成する際、あるいはレジスト膜形成用感放射
線性組成物からレジスト膜を形成する際に特に好適に用
いることができる。
えば、カラーフィルタ用感放射線性組成物からカラーフ
ィルタを形成する際、あるいはレジスト膜形成用感放射
線性組成物からレジスト膜を形成する際に特に好適に用
いることができる。
【００２８】このようなカラーフィルタ用感放射線性組
成物は、通常、無機または有機顔料、アルカリ可溶性の
バインダーポリマーおよび感放射線性化合物が、必要に
応じて分散剤（界面活性剤）を用いて有機溶剤に溶解ま
たは分散されたものである。
成物は、通常、無機または有機顔料、アルカリ可溶性の
バインダーポリマーおよび感放射線性化合物が、必要に
応じて分散剤（界面活性剤）を用いて有機溶剤に溶解ま
たは分散されたものである。
【００２９】上記無機顔料としては、例えば、硫酸バリ
ウム、硫酸ビスマス、亜鉛華、硫酸鉛、酸化チタン、黄
色鉛、ベンガラ、群青、紺青、酸化クロム、カーボンブ
ラックなどがあげられ、また、上記有機顔料としては、
黄色、オレンジ、赤、青、紫、緑、黒等各種顔料があげ
らる。
ウム、硫酸ビスマス、亜鉛華、硫酸鉛、酸化チタン、黄
色鉛、ベンガラ、群青、紺青、酸化クロム、カーボンブ
ラックなどがあげられ、また、上記有機顔料としては、
黄色、オレンジ、赤、青、紫、緑、黒等各種顔料があげ
らる。
【００３０】また、上記のアルカリ可溶性のバインダー
ポリマーとしては、例えば、メチルメタクリレート／ビ
ニルフェノール／スチレン／メタクリル酸共重合体、ベ
ンジルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合
体、メチルメタクリレート／メタクリル酸／ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体、メチルメタクリレート／メ
タクリル酸／ポリスチレンマクロモノマー共重合体など
が挙げられ、また、例えば、特開平７−１０４４６９号
公報、特開平７−１２０９２０号公報、特開平７−１９
１４６２号公報、特開平７−２５３６６５号公報などに
記載されている樹脂成分などがあげられる。このような
バインダーポリマーの分子量は、通常５０００〜２００
０００であり、好ましくは２００００〜８００００であ
る。
ポリマーとしては、例えば、メチルメタクリレート／ビ
ニルフェノール／スチレン／メタクリル酸共重合体、ベ
ンジルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合
体、メチルメタクリレート／メタクリル酸／ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体、メチルメタクリレート／メ
タクリル酸／ポリスチレンマクロモノマー共重合体など
が挙げられ、また、例えば、特開平７−１０４４６９号
公報、特開平７−１２０９２０号公報、特開平７−１９
１４６２号公報、特開平７−２５３６６５号公報などに
記載されている樹脂成分などがあげられる。このような
バインダーポリマーの分子量は、通常５０００〜２００
０００であり、好ましくは２００００〜８００００であ
る。
【００３１】また、上記感放射線性化合物はカルベン、
ナイトレンなどのように紫外線等の放射線が照射される
とラジカルを生じて反応し、バインダーポリマーに三次
元架橋構造を形成させる化合物であり、例えば、４，
４’−ジアジドスチルベン−２，２’−ジスルホン酸ナ
トリウム、４，４’−ジアジドスチルベン−２，２’−
ジ〔Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）〕スルホンアミド
等のアジド化合物、ｐ−ジアゾジフェニルアミン−ホル
ムアルデヒド縮合物、２，５−ジメトキシ−４−モルホ
リノベンゼンジアゾニウム−アルデヒド縮合物等のジア
ゾ化合物などの光架橋剤；２−（２，３−ジクロロフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（２，３−ジクロロフェニル）−４，５−ビス（３−メ
トキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（２，３−
ジクロロフェニル）４，５−ビス（４−メトキシフェニ
ル）イミダゾール二量体、２−（２，３−ジクロロフェ
ニル）−４，５−ビス（２−フリル）イミダゾール二量
体、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，５，
４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾー
ル等のイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ア
クリジン系化合物、キノン系化合物、ケトン系化合物、
チオキサントン系化合物などの光重合開始剤；１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコール
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート等の光重合性モノマー、光重合性オリゴマーあるい
は光重合性ポリマーなどがあげられる。
ナイトレンなどのように紫外線等の放射線が照射される
とラジカルを生じて反応し、バインダーポリマーに三次
元架橋構造を形成させる化合物であり、例えば、４，
４’−ジアジドスチルベン−２，２’−ジスルホン酸ナ
トリウム、４，４’−ジアジドスチルベン−２，２’−
ジ〔Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）〕スルホンアミド
等のアジド化合物、ｐ−ジアゾジフェニルアミン−ホル
ムアルデヒド縮合物、２，５−ジメトキシ−４−モルホ
リノベンゼンジアゾニウム−アルデヒド縮合物等のジア
ゾ化合物などの光架橋剤；２−（２，３−ジクロロフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（２，３−ジクロロフェニル）−４，５−ビス（３−メ
トキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（２，３−
ジクロロフェニル）４，５−ビス（４−メトキシフェニ
ル）イミダゾール二量体、２−（２，３−ジクロロフェ
ニル）−４，５−ビス（２−フリル）イミダゾール二量
体、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，５，
４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾー
ル等のイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ア
クリジン系化合物、キノン系化合物、ケトン系化合物、
チオキサントン系化合物などの光重合開始剤；１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコール
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート等の光重合性モノマー、光重合性オリゴマーあるい
は光重合性ポリマーなどがあげられる。
【００３２】また、上記カラーフィルター用感放射線性
組成物において用いられる界面活性剤および有機溶剤と
しては、例えば、前記に例示されたものなどがあげられ
る。
組成物において用いられる界面活性剤および有機溶剤と
しては、例えば、前記に例示されたものなどがあげられ
る。
【００３３】
【実施例】以下の実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明は下記の実施例によって制限を受け
るものではない。
説明するが、本発明は下記の実施例によって制限を受け
るものではない。
【００３４】実施例１ 表面にナトリウムイオンの溶出を防止するＳｉＯ2 膜が
形成された５ｃｍ四方のソーダガラス基板表面上に、２
０μｍ×２０μｍのパターン形状の遮光層を形成し、下
記配合を有するカラーフィルタ用顔料分散レジストをス
ピンコーターにより１．５μｍに塗布した後、得られた
塗膜を８０℃で１０分間プレベークして乾燥塗膜を得
た。次いで、該乾燥塗膜をフォトマスクを通して、高圧
水銀ランプによって１００ｍｊ／ｃｍ2 の紫外線で露光
した。
形成された５ｃｍ四方のソーダガラス基板表面上に、２
０μｍ×２０μｍのパターン形状の遮光層を形成し、下
記配合を有するカラーフィルタ用顔料分散レジストをス
ピンコーターにより１．５μｍに塗布した後、得られた
塗膜を８０℃で１０分間プレベークして乾燥塗膜を得
た。次いで、該乾燥塗膜をフォトマスクを通して、高圧
水銀ランプによって１００ｍｊ／ｃｍ2 の紫外線で露光
した。
【００３５】 （配合） 重量部 顔料# ６０ メチルメタクリレート／ビニルフェノール／スチレン ４０ ／メタクリル酸共重合体 （重量比50/15/15/20,重量平均分子量30,000） トリメチロールプロパントリアクリレート ４０ １−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン １０ ３−エトキシプロピオン酸エチル ８５０ ＃：実施例１−１〜１−３，比較例１−１および１−２
（下記〔表１〕と対応）では、下記顔料を使用した。リ
オトゲンレッドＧＤ（東洋インキ製造（株）製 Ｃ．
Ｉ．ピグメントレッド１６８）とリオノーゲンオレンジ
（同 Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６８）の３／１混合
物 実施例１−４〜１−６，比較例１−３および１−４（下
記〔表２〕と対応）では、下記顔料を使用した。リオノ
ールグリーン２ＹＳ（同 Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン
３６）とリオノーゲンイエロー３Ｇ（同 Ｃ．Ｉ．ピグ
メントオレンジ１５４）の３／１混合物実施例１−７〜
１−９，比較例１−５および１−６（下記〔表３〕と対
応）では、下記顔料を使用した。リオノールブルーＥＳ
（同 Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５４）とリオノーゲ
ンバイオレット２３（同 Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレ
ット２３）の３／１混合物
（下記〔表１〕と対応）では、下記顔料を使用した。リ
オトゲンレッドＧＤ（東洋インキ製造（株）製 Ｃ．
Ｉ．ピグメントレッド１６８）とリオノーゲンオレンジ
（同 Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６８）の３／１混合
物 実施例１−４〜１−６，比較例１−３および１−４（下
記〔表２〕と対応）では、下記顔料を使用した。リオノ
ールグリーン２ＹＳ（同 Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン
３６）とリオノーゲンイエロー３Ｇ（同 Ｃ．Ｉ．ピグ
メントオレンジ１５４）の３／１混合物実施例１−７〜
１−９，比較例１−５および１−６（下記〔表３〕と対
応）では、下記顔料を使用した。リオノールブルーＥＳ
（同 Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５４）とリオノーゲ
ンバイオレット２３（同 Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレ
ット２３）の３／１混合物
【００３６】一方、下記〔表１〕〜〔表３〕に示す組成
（組成単位；重量部）にて現像液を調製し、該現像液２
００ｇを用いて、上記にて得られた塗膜を有する基板１
枚を緩やかに揺動させながらディップして現像した。現
像後、基板を純水でリンスし、基板上に形成された画素
を顕微鏡で非露光部の膜残りの有無、露光部の画像の欠
落の有無を確認し、膜残り、欠落がなく明瞭な画像が得
られたものを良好と評価した。その結果をそれぞれ下記
〔表１〕〜〔表３〕に示す。
（組成単位；重量部）にて現像液を調製し、該現像液２
００ｇを用いて、上記にて得られた塗膜を有する基板１
枚を緩やかに揺動させながらディップして現像した。現
像後、基板を純水でリンスし、基板上に形成された画素
を顕微鏡で非露光部の膜残りの有無、露光部の画像の欠
落の有無を確認し、膜残り、欠落がなく明瞭な画像が得
られたものを良好と評価した。その結果をそれぞれ下記
〔表１〕〜〔表３〕に示す。
【００３７】
【表１】
【００３８】
【表２】
【００３９】
【表３】
【００４０】実施例２ 実施例１と同様に下記配合を有するカラーフィルター用
顔料分散レジストを用いて塗膜形成して、下記〔表４〕
に示す組成（組成単位；重量部）の現像液にて現像し、
画素を観察した。その結果を下記〔表４〕に示す。
顔料分散レジストを用いて塗膜形成して、下記〔表４〕
に示す組成（組成単位；重量部）の現像液にて現像し、
画素を観察した。その結果を下記〔表４〕に示す。
【００４１】 （配合） 重量部 ジアントラキノニルレッド ２７ メチルメタクリレート／ブチルメタクリレート／ヒドロキシ ３０ エチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （重量比50/15/15/20,重量平均分子量30,000） トリメチロールトリプロパンアクリレート １５ ４，４’−ジアジドスチルベン−２，２’−ジスルホン酸 ３ ナトリウム ２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，５，４’，５’ ３ −テトラフェニル１，２’−ビイミダゾール 銅フタロシアニン−ステアリルアミノスルホン酸誘導体 ３ エチルセルソルブ ２７０
【００４２】
【表４】
【００４３】実施例３ 下記配合〔Ａ〕を有する感光性塗布液にて１ｍｍ厚のガ
ラス基板上に乾燥膜厚２μｍとなるように均一に塗布
し、乾燥して感光性膜を形成した。さらに下記配合
〔Ｂ〕からなる塗布液を上記感光性膜の上に乾燥膜厚
１．５μｍとなるように塗布し、乾燥して乾燥塗膜を形
成した。次いで、該乾燥塗膜をフォトマスクを通して、
高圧水銀ランプによって５０ｍｊ／ｃｍ2 の紫外線で露
光した。
ラス基板上に乾燥膜厚２μｍとなるように均一に塗布
し、乾燥して感光性膜を形成した。さらに下記配合
〔Ｂ〕からなる塗布液を上記感光性膜の上に乾燥膜厚
１．５μｍとなるように塗布し、乾燥して乾燥塗膜を形
成した。次いで、該乾燥塗膜をフォトマスクを通して、
高圧水銀ランプによって５０ｍｊ／ｃｍ2 の紫外線で露
光した。
【００４４】一方、下記〔表５〕に示す組成にて現像液
を調整し、該現像液２００ｇを用いて、上記にて得られ
た塗膜を有する基板１枚を緩やかに揺動させながらディ
ップして現像した。現像後、基板を純水でリンスし、基
板上に形成された画素を顕微鏡で観察した。その結果を
下記〔表５〕に示す。
を調整し、該現像液２００ｇを用いて、上記にて得られ
た塗膜を有する基板１枚を緩やかに揺動させながらディ
ップして現像した。現像後、基板を純水でリンスし、基
板上に形成された画素を顕微鏡で観察した。その結果を
下記〔表５〕に示す。
【００４５】 （配合〔Ａ〕） 重量部 ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ６０ （重量比70/30,粘度0.12) ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４５ ミヒラーズケトン ２．５ ２−（２−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル ２．５ イミダゾール二量体 エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート ５６０ メチルエチルケトン ２８０
【００４６】 （配合〔Ｂ〕） 重量部 ポリビニルアルコール １３０ ポリビニルピロリドン ６０ フッ素系界面活性剤 １０ （旭硝子（株）製；サーフロンＳ−１３１） 水 ３３５０
【００４７】
【表５】
【００４８】以上の結果から明らかなように、テトラメ
チルアンモニムヒドロキシド、ジメチルモノエタノール
アミンなどの公知のアルカリ性化合物を含有してなる現
像液（比較例参照）を使用した場合においては、現像が
不十分となったり、膜の欠落を生じて良好なレジスト膜
を形成することができない。
チルアンモニムヒドロキシド、ジメチルモノエタノール
アミンなどの公知のアルカリ性化合物を含有してなる現
像液（比較例参照）を使用した場合においては、現像が
不十分となったり、膜の欠落を生じて良好なレジスト膜
を形成することができない。
【００４９】これに対して、前記一般式（Ｉ）で表され
るヒンダードピペリジンノール化合物を含有してなる本
発明の現像液（実施例参照）を用いた場合には良好なレ
ジスト膜を形成することができる。
るヒンダードピペリジンノール化合物を含有してなる本
発明の現像液（実施例参照）を用いた場合には良好なレ
ジスト膜を形成することができる。
【００５０】
【発明の効果】本発明の感放射線性組成物用現像液は、
感放射線性組成物から形成される塗膜、特に、集積回
路、プリント基板回路、カラーフィルタなどのレジスト
膜の現像に好適に使用することが可能である。
感放射線性組成物から形成される塗膜、特に、集積回
路、プリント基板回路、カラーフィルタなどのレジスト
膜の現像に好適に使用することが可能である。
フロントページの続き (72)発明者 島田 好恵 埼玉県浦和市白幡５丁目２番13号 旭電化 工業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 下記〔化１〕の一般式（Ｉ）で表される
ヒンダードピペリジノール化合物を含有してなることを
特徴とする感放射線性組成物用現像液。 【化１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34865696A JP3744630B2 (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | 感放射線性組成物用現像液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34865696A JP3744630B2 (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | 感放射線性組成物用現像液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10186676A true JPH10186676A (ja) | 1998-07-14 |
| JP3744630B2 JP3744630B2 (ja) | 2006-02-15 |
Family
ID=18398479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34865696A Expired - Fee Related JP3744630B2 (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | 感放射線性組成物用現像液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3744630B2 (ja) |
-
1996
- 1996-12-26 JP JP34865696A patent/JP3744630B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3744630B2 (ja) | 2006-02-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4666108B2 (ja) | 液浸用上層膜形成組成物およびフォトレジストパターン形成方法 | |
| US7467632B2 (en) | Method for forming a photoresist pattern | |
| DE4445820A1 (de) | Verfahren zum Entwickeln bestrahlter, strahlungsempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien | |
| US7150960B2 (en) | Developer composition | |
| JP2003246935A (ja) | 着色組成物及び感光性着色組成物並びにカラーフィルタ | |
| US8043792B2 (en) | Composition for formation of antireflection film and pattern formation method using the same | |
| JP2000035670A (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
| JPH04258956A (ja) | アルカリ現像性感光性樹脂組成物 | |
| US6503694B1 (en) | Developer solution and edge bead remover composition | |
| JP4259714B2 (ja) | 感放射線性組成物用現像液 | |
| JP4786636B2 (ja) | 反射防止膜形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | |
| JPH07120935A (ja) | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 | |
| JP2001142221A (ja) | 反射防止コーティング用組成物 | |
| JPH11249322A (ja) | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 | |
| JP3744630B2 (ja) | 感放射線性組成物用現像液 | |
| JPH11258790A (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
| KR102572713B1 (ko) | 포토레지스트 혼합물 세정액 조성물 | |
| JPH0527451A (ja) | 画像形成方法 | |
| JPH0943839A (ja) | 反射防止膜形成用組成物 | |
| JP2003302515A (ja) | 放射線性組成物、カラーフィルタ、ブラックマトリクスおよび液晶表示素子 | |
| JP4058816B2 (ja) | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 | |
| JPH063826A (ja) | レジスト組成物 | |
| JPH09171261A (ja) | アルカリ現像液 | |
| JP2001117241A (ja) | リソグラフィー用リンス液 | |
| JP2000162785A (ja) | 感光性樹脂現像液、樹脂ブラックマトリクスの製造方法、及びカラーフィルターの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050624 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050628 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051115 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051115 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081202 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091202 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091202 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101202 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111202 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111202 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121202 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131202 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |