JPH10186642A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPH10186642A
JPH10186642A JP8348526A JP34852696A JPH10186642A JP H10186642 A JPH10186642 A JP H10186642A JP 8348526 A JP8348526 A JP 8348526A JP 34852696 A JP34852696 A JP 34852696A JP H10186642 A JPH10186642 A JP H10186642A
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hydrogen atom
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浩一 川村
Noriaki Watanabe
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 感度を低下させることなく、硬調な画像形成
性を示し、かつ、焼きぼけ、白灯安全性、および現像許
容性の広い満足するべき、ポジ型感光性組成物を提供す
る。 【解決手段】 少なくとも(1)水素原子がフッ素原子
で置換されているフルオロ脂肪族基を側鎖に有する付加
重合可能なモノマー、(2)9個以上の炭素原子を有す
る脂肪族基または2個以上の炭素原子を有する脂肪族基
で置換された芳香族基を側鎖に有するアクリレート、メ
タクリレート、アクリルアミドもしくはメタアクリルア
ミド、(3)特定の、フェノール水酸基を有するモノマ
ーを共重合成分として有する高分子化合物を含有するこ
とを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版、IC回
路やホトマスク製造に適するポジ感光性組成物に関し、
とくに高感度で硬調な画像形成性を与え、焼きぼけ、白
灯安全性および現像許容性に優れるポジ感光性組成物に
関するものである。さらに詳しくは、従来公知の方法で
高感度化したポジ型感光性組成物に、特定の化合物を添
加して、感度を低下させることなく、硬調な画像形成性
を示し、かつ、焼きぼけ、白灯安全性、および現像許容
性を広くしたポジ型感光性組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】o−キノンジアジド化合物を含有してな
る感光性組成物は、非常に優れたポジ型感光性組成物と
して平版印刷版の製造やフォトレジストとして工業的に
用いられてきた。従来このo−キノンジアジド系のポジ
型感光性組成物の感度を高める方法について種々の提案
がなされてきたが、感度を低下させることなく、硬調な
画像形成性を示し、かつ、焼きぼけ、白灯安全性、およ
び現像許容性の広い、満足するべき物は得られていな
い。例えば、o−キノンジアジド化合物の量を少なくす
ると,当然感度は上昇するが、それに伴って画像は軟調
になり、焼きぼけ、白灯安全性および現像許容性が劣化
するという問題を有していた。またo−キノンジアジド
化合物にアルカリ溶解性の大きいバインダーを組み合わ
せると、前記と同様感度は上昇するが、それに伴って画
像は軟調になり、焼きぼけ、白灯安全性および現像許容
性が劣化するという問題を有していた。
【0003】一方、o−キノンジアジド化合物よりも高
感度を示す系として、米国特許第4491628号、欧
州特許第249139号などに記載されているようなア
ルカリ可溶性基を酸分解基で保護した化学増幅系の感光
物が提案され広く用いられている。しかしこのものにお
いても、硬調な画像形成性を示し、かつ現像許容性の広
い満足すべきものが得られていないのが実状である。こ
こで、画像が軟調であるとはステップウエッジを通して
露光し現像したときに画像が残存し始める段数と完全に
膜が残存している段数との差が大きいことを意味する。
また逆に画像が硬調であるとは画像が残存し始める段数
と完全に膜が残存している段数との差が小さいことを意
味する。また焼きぼけとはキノンジアジドの分解により
生じた窒素によりリスフィルムが浮き上がり完全な密着
露光ができなくなるために生じるものであり、一般的に
クリアー感度を同一にしたとき、画像が硬調であるほど
焼きぼけを解消しやすい。
【0004】また、白灯安全性とは印刷版を蛍光灯など
の白灯下に曝したときに画像の感度の安定性を示すもの
であり、画像が硬調なものほど白灯安全性が良い。これ
はキノンジアジドが白灯により一部分解することに起因
するもので、画像が硬調なものはキノンジアジドが少量
分解しても画像が溶出することがないため白灯下に曝さ
なかったのと同じような画像となる。なおステップウエ
ッジとは一段ごとに濃度が0.15ずつ変化する短冊形
のフィルムであり、露光量と露光後現像した後の感光層
残膜量との関係を得る際に用いられる。またクリアー感
度とは露光現像後に画像ができ始めるときの感度を意味
する。また現像許容性とは現像液の濃度が変化したとき
に、露光し現像した後の画像感度がどれだけ変動するか
をみるものであり、感度の変動が小さいものほど現像許
容性が良いという。
【0005】従来から、o−キノンジアジド化合物を含
む感光性組成物に非感光性の化合物を添加して、感度を
上昇させる技術が提案されているが、種々の欠点を有し
ているのが現状である。例えば、感度を上昇させるため
特開昭52−80022号公報には環状酸無水物の添加
が提案されている。しかしこの方法は、感度上昇の効果
は認められるが、大きな感度上昇が認められる程度に酸
無水物を添加すると画像が軟調となり、白灯安全性、現
像許容性が大きく劣化した。また特開昭55-73045号公報
には感度を上昇させるためヒドロキシベンゾフェノンと
ホルムアルデヒドとの縮合生成物の添加が提案されてい
る。この場合も先の特開昭52−80022号公報と同
様、感度上昇の効果は認められるが、大きな感度上昇が
認められる程度添加すると画像が軟調となり、白灯安全
性、現像許容性が大きく劣化する問題点があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】これらの問題点を解決
するために界面活性剤を添加する方法がいくつか提示さ
れてきた。例えば特開昭59−121044号公報には
高感度化したポジ型感光性組成物に両性界面活性剤およ
び有機ホウ素系活性剤を添加することにより現像許容性
を広くする方法が示されている。また特開昭62−25
1740号公報には高感度化したポジ型感光性組成物に
非イオン性界面活性剤を添加することにより現像許容性
を広くする方法が示されている。しかしながら、いずれ
の方法もある程度の現像許容性改善の効果はあったが十
分なものではなく、十分な効果を得ようとすると感度低
下を招いた。また焼きぼけ、白灯安全性に関しては効果
が得られなかった。また、特開昭62−226143、
特開平3−172849、特開平8−15858号公報
には界面活性剤としてフルオロ脂肪族基、およびポリオ
キシアルキレン基を有するフッ素系ポリマーが記載され
ている。しかし、これらのポリマーを用いても焼きぼ
け、白灯安全性に関しては効果が得られなかった。本発
明は、従来の技術の上記問題点を解決し、感度を低下さ
せることなく、硬調な画像形成性を示し、かつ、焼きぼ
け、白灯安全性、および現像許容性の広い満足するべ
き、ポジ型感光性組成物を提供しようとするものであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を進めた結果、ポジ型感光性組成物にある特定の酸性水
素原子基を有する含フッ素ポリマーを添加することによ
り、上記目的が達成されることを見いだした。すなわち
本発明は含フッ素ポリマーとして次のような共重合体を
感光性組成物に添加すると感度を低下させることなく、
硬調な画像形成性を示し、かつ、焼きぼけ、白灯安全
性、および現像許容性を広くしたポジ型感光性組成物が
得られることを見いだした。またこの方法は、従来公知
の方法で高感度化したポジ型感光性組成物の硬調化に特
に有効であり、本発明による含フッ素ポリマーを添加す
ることで軟調であった画像が硬調化し、焼きぼけ、白灯
安全性、および現像許容性が改善されることを見いだし
た。
【0008】本発明による含フッ素ポリマーとはつぎの
構成からなるポリマーである。すなわち、少なくとも下
記(1)で示される構成成分、(2)で示される構成成
分および(3)で示される構成成分を共重合成分として
有することを特徴とする含フッ素ポリマーである。 (1)炭素原子上の水素原子がフッ素化されているフル
オロ脂肪族基を有する付加重合可能なモノマー (2)9個以上の炭素原子を有する脂肪族基または2個
以上の炭素原子を有する脂肪族基で置換された芳香族基
を有するアクリレート、メタクリレート、アクリルアミ
ドもしくはメタアクリルアミド (3)下記一般式〔l〕、〔2〕または〔3〕で示され
るフェノール水酸基を有するモノマー
【0009】
【化2】
【0010】(式中、Aは水素原子、ハロゲン原子また
は炭素数1〜4のアルキル基を表す。R1は水素原子、
炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリー
ル基を表す。Y、Zは同一であっても良くまた異なって
いても良く、炭素数6〜20のアリーレン基を表す。X
は連結基であり、炭素、窒素、酸素、硫黄、ハロゲン、
水素原子から選ばれる原子からなる2価の有機基を表
す。mは0から1の整数を、nは1から3の整数を表
す。)
【0011】本発明の作用効果の発現する機構は明らか
ではないが、(1)成分に由来するフルオロ脂肪族基に
より本発明の高分子が感光層表面に浮き、(2)成分に
由来する親油性基が感光層表面での現像液浸透性を低下
させ、さらに(3)成分に由来する特定の基が露光前は
感光性化合物、例えばo−キノンジアジドと相互作用し
て酸として働かないが、露光によって相互作用が消失
し、酸として働き感光層表面の性質を変えるためと推定
している。
【0012】
【発明の実施の形態】以下本発明の特徴をなす各成分
(1)、(2)、(3)について説明する。成分(1)
である、炭素原子上の水素原子がフッ素化されているフ
ルオロ脂肪族基とは、通常飽和されかつ一般に1価、2
価の脂肪族基である。これは直鎖、分岐鎖、または環式
のものを含む。フルオロ脂肪族基は本発明の目的におい
て十分な効果を発揮するためには、3〜20、好ましく
は6〜12の炭素原子を有し、かつ40重量%以上の好
ましくは50重量%以上の、炭素原子に結合したフッ素
を有するものである。好適なフルオロ脂肪族基は、Cn
2n+1−(nは1以上好ましくは3以上の整数)のよう
に実質上完全にまたは十分にフッ素化されたパーフルオ
ロ脂肪族基(以下、Rf基とも略す)である。
【0013】成分(2)において、9個以上の炭素原子
を有する脂肪族基または2個以上の炭素原子を有する脂
肪族基で置換された芳香族基は、感光性組成物、特に印
刷版の低露光部における現像抑制効果をもたらし、よっ
て本発明の効果である硬調化効果を増大させるのに有効
な働きを成すものである。これらの効果を増すために
は、9個以上の炭素原子を有する脂肪族基が有効である
が、特に12個以上の炭素原子を有する脂肪族基が有効
である。成分(2)において、9個以上の炭素原子を有
する脂肪族基とは、1価、2価の脂肪族基を含む。また
9個以上の炭素原子を有する脂肪族基としては、直鎖、
分岐鎖、または環式のものを含む。これらの脂肪族基が
本発明の目的において十分な効果を発揮するためには、
12〜30、好ましくは12〜25の炭素原子を有して
いることが好ましい。具体的には、ドデシル基、トリデ
シル基、テトラデシル基、オクタデシル基、などを挙げ
ることができる。
【0014】また2個以上の炭素原子を有する脂肪族基
で置換された芳香族基における芳香族基の炭素原子数と
しては6〜30、好ましくは6〜20である。置換基と
して用いる2個以上の炭素原子を有する脂肪族基として
は2〜20,より好ましくは4〜18までの直鎖、分岐
鎖、または環式の脂肪族基が望ましい。また、これらの
9個以上の炭素原子を有する脂肪族基、または2個以上
の炭素原子を有する脂肪族基で置換された芳香族基は、
置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原
子基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、芳香族基、などを挙
げることができる。
【0015】成分(3)である、前記一般式〔l〕、
〔2〕または〔3〕で示されるフェノール水酸基を有す
るモノマーとしては、特公昭52−28401、特公平
6−58531、特開昭63−303343、特開昭6
4−21440、特開昭64−52139、特公平1−
116537の他、欧州特許第167777号、欧州特
許第212439号、米国特許第4822719号、米
国特許第4853448号、米国特許第5068163
号、また特開昭64−35436、特開昭51−347
11、特開昭51−36129などの各明細書記載のモ
ノマーを挙げることができる。
【0016】以下本発明の特徴をなす各成分(1)、
(2)、(3)のビニル単量体についてさらに詳しく説
明する。成分(1)として示される炭素原子上の水素原
子がフッ素化されているフルオロ脂肪族基を有する付加
重合可能なモノマーにおける付加重合性モノマー部とし
てはラジカル重合可能な不飽和基を持つビニル単量体が
用いられる。これらのビニル単量体のうち好ましいもの
としてはアクリレート、メタクリレート、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、スチレン系、ビニル系である。
フルオロ脂肪族基が結合したアクリレート,メタクリレ
ートの具体例としては、例えば、Rf−R′−OOC−
C(R″)=CH2(ここでR′は、例えば、単結合、
アルキレン、スルホンアミドアルキレン、またはカルボ
ンアミドアルキレンであり、R″は水素原子、メチル
基、ハロゲン原子、またはパーフルオロ脂肪族基)で表
される化合物が挙げられる。
【0017】これらの具体例としては例えば米国特許第
2803615号、同第2642416号、同第282
6564号、同第3102103号、同第328290
5号、及び同第3304278号、特開平6−2562
89号、特開昭62−1116号、特開昭62−487
72号、特開昭63−77574号、特開昭62−36
657号に記載のもの及び日本化学会誌1985(No.
10)1884〜1888頁記載のものを挙げることが
できる。またこれらのフルオロ脂肪族基結合モノマーの
ほかにも、Reports Res. Lab.Asahi Glass Co. Ltd.,
34巻1984年27〜34頁記載のフルオロ脂肪族基
結合マクロマーを優位に用いることができる。またフル
オロ脂肪族基結合モノマーとしては、下記構造式の様な
パーフルオロアルキル基の長さの異なる混合物であって
も用いることができる。
【0018】
【化3】
【0019】本発明で用いられる含フッ素共重合ポリマ
ー中に用いられるこれらのフルオロ脂肪族基含有ビニル
単量体の量は、該共重合ポリマーの重量に基づいて3〜
70重量%であり、好ましくは7〜40重量%の範囲で
ある。
【0020】成分(2)で示される、9個以上の炭素原
子を有する脂肪族基、または2個以上の炭素原子を有す
る脂肪族基で置換された芳香族基を有する重合性基とし
ては、アクリレート、メタリレート、アクリルアミドま
たはメタクリルアミドが良い。N−ラウリルマレイミド
等のマレイミド基は、生成したポリマーの有機溶剤性を
低下させ、またステアリン酸アリルのようなアリルエス
テルはモノマーの重合性が悪い他、生成したポリマーの
性能も良くないという欠点がある。成分(2)として示
される、9個以上の炭素原子を有する脂肪族基、または
2個以上の炭素原子を有する脂肪族基で置換された芳香
族基を有するアクリレート、メタクリレート、アクリル
アミドもしくはメタアクリルアミドの具体例としては、
下記のモノマーを挙げることができる。
【0021】例えばアクリル酸ノニル、アクリル酸デシ
ル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アク
リル酸ベヘニル、アクリル酸エチルベンジル、アクリル
酸n−プロピルベンジル、アクリル酸iso−プロピル
ベンジル、アクリル酸n−ブチルベンジル、アクリル酸
iso−ブチルベンジル、アクリル酸tert−ブチル
ベンジル、アクリル酸エチルフェニル、アクリル酸n−
プロピルフェニル、アクリル酸iso−プロピルフェニ
ル、アクリル酸n−ブチルフェニル、アクリル酸iso
−ブチルフェニル、アクリル酸tert−ブチルフェニ
ルである。好ましくはアクリル酸ラウリル、アクリル酸
ステアリル、アクリル酸ベヘニル、アクリル酸tert
−ブチルベンジル、アクリル酸tert−ブチルフェニ
ルである。
【0022】更にメタクリル酸エステル類をあげること
ができる。例えばメタクリル酸ノニル、メタクリル酸デ
シル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ステアリ
ル、メタクリル酸ベヘニル、メタクリル酸エチルベンジ
ル、メタクリル酸n−プロピルベンジル、メタクリル酸
iso−プロピルベンジル、メタクリル酸n−ブチルベ
ンジル、メタクリル酸iso−ブチルベンシル、メタク
リル酸tert−ブチルベンジル、メタクリル酸エチル
フェニル、メタクリル酸n−プロピルフェニル、メタク
リル酸iso−プロピルフェニル、メタクリル酸n−ブ
チルフェニル、メタクリル酸iso−ブチルフェニル、
メタクリル酸tert−ブチルフェニルである。好まし
くはメタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ステアリル、
メタクリル酸ベヘニル、メタクリル酸tert−ブチル
ベンジル、メタクリル酸tert−ブチルフェニルであ
る。
【0023】さらにつぎのようなアクリルアミド類、メ
タアクリルアミド類を例として挙げることができる。N
−ノニルアクリルアミド、N−デシルアクリルアミド、
N−ラウリルアクリルアミド、N−ステアリルアクリル
アミド、N−ノニルメタアクリルアミド、N−デシルメ
タアクリルアミド、N−ラウリルメタアクリルアミド、
N−ステアリルメタアクリルアミド、など。また、これ
ら9個以上の炭素原子を有する脂肪族基、もしくは2個
以上の炭素原子を有する脂肪族基で置換された芳香族基
を有するアクリレート、メタクリレート、アクリルアミ
ドまたはメタクリルアミドのうちより好ましいものとし
ては、9個以上の炭素原子を有する脂肪族基を有するア
クリレート、メタクリレート、アクリルアミドまたはメ
タクリルアミドを挙げることができる。本発明で用いら
れる含フッ素共重合ポリマー中に用いられるこれらの9
個以上の炭素原子を有する脂肪族基もしくは2個以上の
炭素原子を有する脂肪族基で置換された芳香族基に結合
したビニル単量体の量は、該共重合ポリマーの重量に基
づいて5〜70重量%であり、好ましくは10〜50重
量%の範囲である。
【0024】成分(3)としての、下記一般式〔1〕、
〔2〕または〔3〕
【0025】
【化4】
【0026】(式中、Aは水素原子、ハロゲン原子また
は炭素数1〜4のアルキル基を表す。R1は水素原子、
炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリー
ル基を表す。Y、Zは同一であっても良くまた異なって
いても良く、炭素数6〜20のアリーレン基を表す。X
は連結基であり、炭素、窒素、酸素、硫黄、ハロゲン、
水素原子から選ばれる原子からなる2価の有機基を表
す。mは0から1の整数を、nは1から3の整数を表
す。)で示されるフェノール水酸基を有するモノマーに
おいて、Aは水素原子、ハロゲン原子またはメチル基、
エチル基などが好ましく、より好ましいものは水素原
子、メチル基である。R1は水素原子、メチル基、エチ
ル基などのアルキル基が好ましく、特に水素原子が好ま
しい。Y、Zは置換基を有していても良いフェニレンや
ナフチレンであり、フェニレンが特に好ましい。置換基
としてはメチル、エチルなどのアルキル基、塩素などの
ハロゲン原子、メトキシ基などのアルコキシ基が有利に
用いられる。Xはアルキレン、エステル結合、アミド結
合、スルホンアミド結合の他、−OCO−、−OCON
−、およびそれらの組み合わせなどが好ましく、mは0
から1の整数を、nは1から2の整数が好ましい。
【0027】なお、前記一般式〔1〕〜〔3〕におい
て、〔1〕及び〔2〕のモノマーがより好ましい。本発
明で用いられる含フッ素共重合ポリマー中に用いられる
前記一般式〔1〕〜〔3〕で示されるフェノール水酸基
を有するモノマーの量は、該共重合ポリマーの重量に基
づいて5〜80重量%であり、好ましくは10〜70重
量%の範囲である。次に本発明に用いられる前記一般式
〔1〕〜〔3〕で示されるフェノール水酸基を有するモ
ノマーの具体的な構造の例を以下に示す。
【0028】
【化5】
【0029】
【化6】
【0030】
【化7】
【0031】本発明の含フッ素ポリマーは公知慣用の方
法で製造することができる。例えばフルオロ脂肪族基を
有する(メタ)アクリレート、脂肪族基もしくは芳香族
基を有する(メタ)アクリレートおよび酸性水素原子が
窒素原子に結合した酸性基含有ビニル単量体とを、有機
溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、熱重合さ
せることにより製造できる。もしくは場合によりその他
の付加重合性不飽和化合物とを、添加して上記と同じ方
法にて製造することができる。
【0032】また場合により用いられるその他の付加重
合不飽和化合物としては、PolymerHandbook 2nd ed.,
J.Brandrup, Wiley Interscience (1975) Chapter 2 Pa
ge 1〜483記載のものを用いることが出来る。これらの
例としてはたとえば、メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、2−クロロエチル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、グリシジル(メタ)アクリレート、などの(メ
タ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド、N−エ
チル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)ア
クリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミ
ド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−(p−ヒ
ドロキシフェニル)−メタ−アクリルアミドなどの(メ
タ)アクリルアミド類、酢酸アリル、カプロン酸アリ
ル、アリルオキシエタノール等のアリル化合物;エチル
ビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニ
ルエーテル、オクチルビニルエーテル、メトトキシエチ
ルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、2
−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニ
ルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフ
ルフリルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、ト
リルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエー
テル等のビニルエーテル類;ビニルアセテート、ビニル
ブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテ
ート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセ
テート、ビニルアセトアセテート、安息香酸ビニル、ク
ロル安息香酸ビニル等のビニルエステル類;スチレン、
α−メチルスチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレ
ン、クロルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、
ヒドロキシスチレン、クロルスチレン、ブロムスチレン
等のスチレン類;メチルビニルケトン、エチルビニルケ
トン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等
のビニルケトン類;イソブチレン、ブタジエン、イソプ
レン等のオレフィン類;その他、クロトン酸ブチル、イ
タコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、マレイン酸ジ
メチル、フマル酸ジエチル、N−ビニルピロリドン、N
−ビニルピリジン、アクリロニトリル等が挙げられる。
【0033】またこれらのモノマーの他、特開昭62−
226143号、特開平3−172849号公報記載の
ポリオキシアルキレン(メタ)アクリレートを用いるこ
とができる。また、その他にもメタアクリル酸、N−
(p−アミノスルホニルフェニル)メタアクリルアミド
などの特開平8−15859号公報記載の酸性基を有す
るモノマーを用いることができる。以下、本発明による
含フッ素ポリマーの具体的な構造の例を示す。なお式中
の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。
【0034】
【化8】
【0035】
【化9】
【0036】
【化10】
【0037】本発明で用いる含フッ素系ポリマーの分子
量の範囲は平均分子量として3000〜200,000
までのものであり、好ましくは6,000〜100,0
00までのものを用いることができる。また本発明で用
いるフッ素系ポリマーの添加量は、溶媒を除く全組成分
に対して、0.001〜10重量%の範囲であり、より
好ましくは0.01〜5重量%の範囲である。
【0038】次に本発明によるポジ型感光性組成物を調
製するに際して必要となる他の成分について説明する。
ポジ型感光性組成物としては、露光の前後で現像液に対
する溶解性または膨潤性が変化するものならば使用でき
るが、好ましいものとしては、o−キノンジアジド化合
物が挙げられる。例えば、アルカリ可溶性樹脂とo−キ
ノンジアジド化合物とを含有するポジ型感光性組成物の
他、米国特許第4491628号、欧州特許第2491
39号に記載されている化学増幅系の感光物がある。o
−キノンジアジド化合物としては、種々の構造のものが
知られており、例えば、J.KOSAR著「Light-Sensitive S
ystems」(John Wiley & Sons, Inc, 1965年発行)P.336
〜P.352に詳細に記載されている。ポジ型感光性組成物
としては、特に種々のヒドロキシル化合物とo−ベンゾ
キノンジアジドあるいはo−ナフトキノンジアジドのス
ルホン酸エステルが好適である。
【0039】上記のようなo−キノンジアジド化合物と
しては、例えば、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド
−5−スルホニルクロライドとフェノール・ホルムアル
デヒド樹脂またはクレゾール・ホルムアルデヒド樹脂と
のエステル;米国特許第3,635,709号明細書に
記載されている1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−
5−スルホニルクロライドとピロガロール・アセトン樹
脂とのエステル;特公昭63−13,528号公報に記
載されている1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホニルクロライドとレゾルシン−ベンズアルデヒ
ド樹脂とのエステル;特公昭62−44,257号公報
に記載されている1,2−ナフトキノン−2−ジアジド
−5−スルホニルクロライドとレゾルシン−ピロガロー
ル・アセトン共縮合樹脂とのエステル;特公昭56−4
5,127号公報に記載されている末端にヒドロキシル
基を有するポリエステルに1,2−ナフトキノン−2−
ジアジド−5−スルホニルクロライドをエステル化させ
たもの;特公昭50−24,641号公報に記載されて
いるN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド
のホモポリマーまたは他の共重合しうるモノマーとの共
重合体に1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−ス
ルホニルクロライドをエステル化させたもの;特公昭5
4−29,922号公報に記載されている1,2−ナフ
トキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロライドと
ビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂とのエステル;
特公昭52−36,043号公報に記載されているp−
ヒドロキシスチレンのホモポリマーまたは他の共重合し
うるモノマーとの共重合体に1,2−ナフトキノン−2
−ジアジド−5−スルホニルクロライドをエステル化さ
せたもの;1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−
スルホニルクロライドとポリヒドロキシベンゾフェノン
とのエステルがある。
【0040】その他、本発明に使用できる公知のo−キ
ノンジアジド化合物としては、特開昭63−80,25
4号、特開昭58−5,737号、特開昭57−11
1,530号、特開昭57−111,531号、特開昭
57−114,138号、特開昭57−142,635
号、特開昭51−36,129号、特公昭62−3,4
11号、特公昭62−51,459号、特公昭51−4
83号などの各明細書中に記載されているものなどを上
げることができる。前記のo−キノンジアジド化合物の
含有量は、感光性組成物の全固形分に対して、通常5〜
60重量%で、より好ましくは10〜40重量%であ
る。o−キノンジアジド以外の感光性組成物としてはア
ルカリ可溶性基を酸分解基で保護した化合物と光酸発生
剤との組み合わせからなる化学増幅系の感光物を用いる
ことができる。化学増幅系で用いられる光酸発生剤とし
ては、公知のものを用いることができる。
【0041】たとえば S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.E
ng.,18,387(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(198
0)等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056号、特開平3-140,140号等に記載のアン
モニウム塩、D.C.Necker etal,Macromolecules,17,2468
(1984)、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASI
A,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同
4,069,056号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello
etal,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.Ne
ws,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許
第339,049号、同第410,201号、特開平2-150,848号、特
開平2-296,514号等に記載のヨードニウム塩、J.V.Crive
llo etal,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello eta
l.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt etal,J.Polym
er Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivel
lo etal,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello e
tal,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello
etal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(197
9)、欧州特許第370,693 号、米国特許3,902,114 号,欧
州特許第233,567号、同297,443号、同297,442号、米国
特許第4,933,377号、同410,201号、同339,049号、同4,7
60,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、獨国特許第
2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号等に記載
のスルホ ニウム塩、J.V.Crivello etal,Macromorecule
s,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello etal,J.PolymerSc
i.,Polymer Chem.Ed., 17,1047(1979)等に記載のセレノ
ニウム塩、C.S.Wenetal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASI
A,p478 Tokyo,Oct(1988)等 に記載のアルソニウム塩等
のオニウム塩、米国特許第3,905,815号、特公昭46-4605
号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開昭60-2
39736号、特開昭61-169835号、特開昭61-169837号、特
開昭62-58241号、特開昭62-212401号、特開昭63-70243
号、特開昭63-298339号等に記載の有機ハロゲン化合
物、K.Meier etal,J.Rad.Curing,13(4),26(1986)、T.P.
Gill etal,Inorg.Chem.,19,3007(1980) 、D.Astruc,Ac
c.Chem.Res.,19(12),377(1896)、特開平2-161445号等に
記載の有機金属/有機ハロゲン化物、S.Hayase etal,
J.Polymer Sci.,25,753(1987)、E.Reichmanis etal,J.Ph
olymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,23,1(1985)、Q.Q.Zhu et
al,J.Photochem.,36,85,39,317(1987)、B.Amit etal,Tet
rahedron Lett.,(24)2205(1973)、D.H.R.Barton etal,J.
Chem Soc.,3571(1965)、P.M.Collins etal,J.Chem.SoC.,
Perkin I,1695(1975)、M.Rudinstein etal,Tetrahedron
Lett.,(17),1445(1975)、J.W.Walker etalJ.Am.Chem.So
c.,110,7170(1988)、S.C.Busman etal,J.Imaging Techno
l.,11(4),191(1985)、H.M.Houlihan etal,Macormolecule
s,21,2001(1988)、P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Chem.
Commun.,532(1972)、S.Hayase etal,Macromolecules,18,
1799(1985)、E.Reichmanis etal,J.Electrochem.Soc.,So
lid State Sci.Technol.,130(6)、F.M.Houlihan etal,Ma
cromolcules,21,2001(1988)、 欧州特許 第0290,750号、
同046,083号、同156,535号、同271,851号、同0,388,343
号、 米国特許第3,901,710号、同4,181,531号、特開昭60
-198538号、特開昭53-133022号等に記載の0−ニトロベ
ンジル型保護基を有する光酸発生剤、M.TUNOOKチ etal,
Polymer Preprints Japan,35(8)、G.Berner etal,J.Rad.
Curing,13(4)、W.J.Mijs etal,Coating Technol.,55(69
7),45(1983),Akzo、H.Adachi etal,Polymer Preprints,
Japan,37(3)、欧州特許第0199,672号、同84515号、同19
9,672号、同044,115号、同0101,122号、米国特許第4,61
8,564号、同4,371,605号、同4,431,774号、特開昭64-18
143 号、特開平2-245756号、特願平3-140109号等に記載
のイミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスル
ホン酸を発生する化合物、特開昭61-166544号等に記載
のジスルホン化合物を挙げることができる。
【0042】上記活性光線または放射線の照射により分
解して酸を発生する化合物の中で、特に有効に用いられ
るものについて以下に説明する。 (1)トリハロメチル基が置換した下記一般式(PAG
1)で表されるオキサゾール誘導体または一般式(PA
G2)で表されるS−トリアジン誘導体。
【0043】
【化11】
【0044】式中、R1は置換もしくは未置換のアリー
ル基、アルケニル基、R2は置換もしくは未置換のアリ
ール基、アルケニル基、アルキル基、−CY3をしめ
す。Yは塩素原子または臭素原子を示す。具体的には以
下の化合物を挙げることができるがこれらに限定される
ものではない。
【0045】
【化12】
【0046】
【化13】
【0047】(2)下記の一般式(PAG3)で表され
るヨードニウム塩、または一般式(PAG4)で表され
るスルホニウム塩、もしくはジアソニウム塩。
【0048】
【化14】
【0049】ここで式Ar1、Ar2は各々独立に置換も
しくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基とし
ては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカ
プト基およびハロゲン原子が挙げられる。
【0050】R3、R4、R5は各々独立に、置換もしく
は未置換のアルキル基、アリール基を示す。好ましくは
炭素数6〜14のアリール基、炭素数1〜8のアルキル
基およびそれらの置換誘導体である。好ましい置換基と
しては、アリール基に対しては炭素数1〜8のアルコキ
シ基、炭素数1〜8のアルキル基、ニトロ基、カルボキ
シル基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子であり、アル
キル基に対しては炭素数1〜8のアルコキシ基、カルボ
キシル基、アルコキシカルボニル基である。
【0051】Z-は対アニオンを示し、例えば BF4 -、As
F6 -、PF6 -、SbF6 -、SiF6 2-、ClO4 -、CF3SO3 -等のパーフ
ルオロアルカンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロベ
ンゼンスルホン酸アニオン、ナフタレン−1−スルホン
酸アニオン等の結合多核芳香族スルホン酸アニオン、ア
ントラキノンスルホン酸アニオン、スルホン酸基含有染
料等を挙げることができるがこれらに限定されるもので
はない。
【0052】またR3、R4、R5のうちの2つおよびA
1、Ar2はそれぞれの単結合または置換基を介して結
合してもよい。
【0053】具体例としては以下に示す化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。
【0054】
【化15】
【0055】
【化16】
【0056】一般式(PAG3)、(PAG4)で示さ
れる上記オニウム塩は公知であり、たとえばJ. W. Knap
czyk etal, J. Am. Chem. Soc., 91, 145(1969)、A. L.
Maycok etal, J. Org. Chem., 35, 2532, (1970)、B.
Goethas etal, Bull. Soc.Chem. Belg., 73, 546, (19
64)、H. M. Leicester, J. Ame. Chem. Soc., 51, 3587
(1929)、J. V. Crivello etal, J. Polym. Chem. Ed.,
18, 2677(1980)、米国特許第2,807,648号およ
び同4,247,473号、特開昭53−101,33
1号等に記載の方法により合成することができる。
【0057】(3)下記一般式(PAG5)で表される
ジスルホン誘導体または一般式(PAG6)で表される
イミノスルホネート誘導体。
【0058】
【化17】
【0059】式中Ar3、Ar4は各々独立に置換もしく
は未置換のアリール基を示す。R6は置換もしくは未置
換のアルキル基、アリール基を示す。Aは置換もしくは
未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基
を示す。具体例としては以下に示す化合物が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。
【0060】
【化18】
【0061】
【化19】
【0062】これらの活性光線または放射線の照射によ
り分解して酸を発生する化合物の添加量は、感光性組成
物の全重量(塗布溶媒を除く)を基準として通常0.0
01〜40重量%の範囲で用いられ、好ましくは0.0
1〜20重量%、更に好ましくは0.1〜5重量%の範
囲で使用される。これらの光酸発生剤の含有量は、感光
性組成物の全固形分に対して通常0.1〜30重量%よ
り好ましくは1〜10重量%である。
【0063】またアルカリ可溶基を酸分解基で保護した
化合物としては−C−O−C−または−C−O−Si−
結合を有する化合物であり以下の例をあげることができ
る。 a)少なくとも1つのオルトカルボン酸エステルおよび
/またはカルボン酸アミドアセタール群を含み、その化
合物が重合性を有することができ、上記の群が主鎖中の
架橋要素として、または側方置換基として生じ得る様な
化合物、 b)主鎖中に反復アセタールおよび/またはケタール群
を含むオリゴマー性または重合体化合物、 c)少なくとも一種のエノールエステルまたはN−アシ
ルアミノカーボネート群を含む化合物、 d)β−ケトエステルまたはβ−ケトアミドの環状アセ
タールまたはケタール、
【0064】e)シリルエーテル群を含む化合物、 f)シリルエノールエーテル群を含む化合物、 g)アルデヒドまたはケトン成分が、現像剤に対して、
0.1〜100g/リットルの溶解性を有するモノアセ
タールまたはモノケタール、 h)第三級アルコール系のエーテル、および i)第三級アリル位またはベンジル位アルコールのカル
ボン酸エステルおよび炭酸エステル。
【0065】照射感応性混合物の成分として酸により開
裂し得る種類(a)の化合物は、ドイツ特許公開第2,
610,842号および同第2,928,636号に記
載されている。種類(b)の化合物を含む混合物は、ド
イツ特許第2,306,248号および同第2,71
8,254号に記載されている。種類(c)の化合物
は、ヨーロッパ特許公開第0,006,626号および
同第0,006,627号に記載されている。種類
(d)の化合物は、ヨーロッパ特許公開第0,202,
196号に記載されており、種類(e)として使用する
化合物は、ドイツ特許公開第3,544,165号およ
び同第3,601,264号に記載されている。種類
(f)の化合物は、ドイツ特許公開第3,730,78
5号および同第3,730,783号に記載されてお
り、種類(g)の化合物は、ドイツ特許公開第3,73
0,783号に記載されている。種類(h)の化合物
は、例えば米国特許第4,603,101号に記載され
ており、種類(i)の化合物は、例えば米国特許第4,
491,628号およびJ. M. Frechetらの論文(J. Im
aging Sci.30,59−64(1986))にも記載されている。こ
れらの酸分解性基で保護された化合物の含有量は感光性
組成物の全固形分に対して通常1〜60重量%でより好
ましくは5〜40重量%である。
【0066】水不溶でアルカリ性水溶液に可溶の合成樹
脂(以下、アルカリ可溶性樹脂という)としては、例え
ばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、フェノール・クレゾール・ホルム
アルデヒド共縮合樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、
ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシス
チレン、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミドの共重合体、ハイドロキノンモノメタクリレート共
重合体の他、特開平7−28244号公報記載のスルホ
ニルイミド系ポリマー、特開平7−36184号公報記
載のカルボキシル基含有ポリマーなどが挙げられる。そ
の他特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、特
開平2−866号に記載のスルホンアミド基を有するア
クリル系樹脂や、ウレタン系の樹脂、等種々のアルカリ
可溶性の高分子化合物も用いることができる。これらの
アルカリ可溶性高分子化合物は、重量平均分子量が50
0〜20,000で数平均分子量が200〜60,00
0のものが好ましい。
【0067】かかるアルカリ可溶性の高分子化合物は1
種類あるいは2種類以上を組合せて使用してもよく、全
組成物の80重量%以下の添加量で用いられる。更に、
米国特許第4,123,279号明細書に記載されてい
るように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹
脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のよう
な、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフ
ェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用すること
は画像の感脂性を向上させる上で好ましい。かかるアル
カリ可溶性樹脂は、通常、組成物全重量の90重量%以
下の添加量で用いられる。感光性組成物中には、更に必
要に応じて、感度を高めるための環状酸無水物、露光後
直ちに可視像を得るための焼き出し剤、画像着色剤とし
ての染料、その他のフィラーなどを加えることができ
る。
【0068】本発明における感光性組成物中には、感度
を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸
類を添加することが好ましい。環状酸無水物としては米
国特許第4,115,128号明細書に記載されている
ように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4
テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル
酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェ
ニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット
酸等がある。フェノール類としては、ビスフェノール
A、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒド
ロキシベンゾフェノン、2,4,4′−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、4,4,4″−トリヒドロキシ−トリ
フェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロ
キシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニル
メタンなどが挙げられる。
【0069】有機酸類としては、特開昭60−8894
2号公報、特開平2−96755号公報などに記載され
ている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル
類、カルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トル
エンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、
フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェ
ニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トル
イル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレ
フタル酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アス
コルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物類、
フェノール類、有機酸類の感光性組成物中に占める割合
は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましく
は、0.1〜5重量%である。露光後、直ちに可視像を
得るための焼き出し剤としては、露光によって酸を放出
する感光性化合物と、酸と塩を形成して色調を変える有
機染料との組み合わせを挙げることができる。
【0070】露光によって酸を放出する感光性化合物と
しては、例えば、特開昭50−36,209号公報に記
載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸ハロゲニド;特開昭53−36,223号公報に記載
されているトリハロメチル−2−ビロンやトリハロメチ
ル−s−トリアジン;特開昭55−62,444号公報
に記載されている種々のo−ナフトキノンジアジド化合
物;特開昭55−77,742号公報に記載されている
2−トリハロメチル−5−アリール−1,3,4−オキ
サジアゾール化合物;ジアゾニウム塩などを挙げること
ができる。これらの化合物は、単独または混合して使用
することができ、その添加量は、組成物全重量に対し、
0.3〜15重量%の範囲が好ましい。
【0071】本発明における、感光性組成物中には、光
分解して酸性物質を発生する化合物の光分解生成物と相
互作用することによってその色調を変える有機染料が少
なくとも一種類以上用いられる。このような有機染料と
しては、ジフェニルメタン系、トリアリールメタン系、
チアジン系、オキサジン系、フェナジン系、キサンテン
系、アントラキノン系、イミノナフトキノン系、アゾメ
チン系の色素を用いることができる。具体的には次のよ
うなものである。ブリリアントグリーン、エオシン、エ
チルバイオレット、エリスロシンB、メチルグリーン、
クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノ
ールフタレイン、1,3−ジフェニルトリアジン、アリ
ザリンレッドS、チモールフタレイン、メチルバイオレ
ット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、チモー
ルスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレ
ンジ、オレンジIV、ジフェニルチオカルバゾン、2,7
−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴ
ーレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッ
ド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、フエナセタリ
ン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフ
クシン、オイルブルー#603〔オリエント化学工業
(株)製〕、オイルピンク#312〔オリエント化学工
業(株)製〕、オイルレッド5B〔オリエント化学工業
(株)製〕、オイルスカーレット#308〔オリエント
化学工業(株)製〕、オイルレッドOG〔オリエント化
学工業(株)製〕、オイルレッドRR〔オリエント化学
工業(株)製〕、オイルグリーン#502〔オリエント
化学工業(株)製〕、スピロンレッドBEHスペシャル
〔保土谷化学工業(株)製〕、ビクトリアピュアーブル
ーBOH〔保土谷化学工業(株)製〕、パテントピュア
−ブルー〔住友三国化学工業(株)製〕、スーダンブル
ーII〔BASF社製〕、m−クレゾールパープル、クレ
ゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、ファー
ストアッシドバイオレットR、スルホローダミンB、オ
ーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフ
トキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチル
アミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボステア
リルアミノ−4−p−ジヒドロオキシエチル−アミノ−
フェニルイミノナフトキノン、p−メトキシベンゾイル
−p′−ジエチルアミノ−o′−メチルフェニルイミノ
アセトアニリド、シアノ−p−ジエチルアミノフェニル
イミノアセトアニリド、1−フェニル−3−メチル−4
−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロ
ン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニ
ルイミノ−5−ピラゾロン等。
【0072】特に好ましい有機染料は、トリアリールメ
タン系染料である。トリアリールメタン系染料では、特
開昭62−2932471号公報、特願平4−1128
44号明細書に示されているような対アニオンとしてス
ルホン酸化合物を有するものが特に有用である。これら
の染料は単独又は混合して使用することができ、添加量
は感光性組成物の総重量に対して0.3〜15重量%が
好ましい。また必要に応じて他の染料、顔料と併用で
き、その使用量は染料及び顔料の総重量に対して70重
量%以下、より好ましくは50重量%以下である。
【0073】その他本発明の組成物中には、画像のイン
キ着肉性を向上させるための、疎水基を有する各種樹
脂、例えばオクチルフェノール・ホルムアルデヒド樹
脂、t−ブチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、t
−ブチルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジン変
性ノボラック樹脂、及びこれら変性ノボラック樹脂のo
−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル等;塗膜の
可撓性を改良するための可塑剤、例えばフタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジオクチル、ブチルグリコレート、リン酸
トリクレジル、アジピン酸ジオクチル等、種々の目的に
応じて各種添加剤を加えることができる。これらの添加
量は組成物全重量に対して、0.01〜30重量%の範
囲が好ましい。更にこれらの組成物中には、皮膜の耐摩
耗性を更に向上させるための公知の樹脂を添加できる。
これらの樹脂としては、例えばポリビニルアセタール樹
脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹
脂、ナイロン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等があ
り、単独または混合して使用することができる。添加量
は組成物全重量に対して、2〜40重量%の範囲が好ま
しい。
【0074】また、本発明における感光性組成物中に
は、現像のラチチュードを広げるために、特開昭62−
251740号公報や、特開平4−68355号公報に
記載されているような非イオン性界面活性剤、特開昭5
9−121044号公報、特開平4−13149号公報
に記載されているような両性界面活性剤を添加すること
ができる。非イオン性界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げら
れ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(ア
ミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリ
シン塩酸塩、アモーゲンK(商品名、第一工業(株)
製、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型)、2−ア
ルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタイン、レボン15(商品名、三洋
化成(株)製、アルキルイミダゾリン系)などが挙げら
れる。上記非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤の感
光性組成物中に占める割合は0.05〜15重量%が好
ましく、より好ましくは、0.1〜5重量%である。
【0075】塗布面質の向上;本発明における感光性組
成物中には、塗布面質を向上するための界面活性剤、例
えば、特開昭62−170950号公報に記載されてい
るようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
好ましい添加量は、全感光性組成物の0.001〜1.
0重量%であり、更に好ましくは0.005〜0.5重
量%である。また、本発明における感光性組成物中に
は、以下の黄色系染料を添加することができる。 e)一般式〔I〕、〔II〕あるいは〔III〕で表わさ
れ、417nmの吸光度が436nmの吸光度の70%
以上である黄色系染料
【0076】
【化20】
【0077】式〔I〕中、R1及びR2はそれぞれ独立に
水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アリール基又
はアルケニル基を示す。またR1 とR2 は環を形成して
もよい。R3 、R4 、R5 はそれぞれ独立に水素原子、
炭素数1〜10のアルキル基を示す。G1 、G2 はそれ
ぞれ独立にアルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基又はフルオロアルキルスルホニル基
を示す。またG1 とG2 は環を形成してもよい。さらに
1 、R2 、R 3 、R4 、R5 、G1 、G2 のうち1つ
以上に1つ以上のスルホン酸基、カルボキシル基、スル
ホンアミド基、イミド基、N−スルホニルアミド基、フ
ェノール性水酸基、スルホンイミド基、又はその金属
塩、無機又は有機アンモニウム塩を有する。YはO、
S、NR(Rは水素原子もしくはアルキル基又はアリー
ル基)、Se、−C(CH3 2 −、−CH=CH−よ
り選ばれる2価原子団を示し、n1 は0、1を示す。
【0078】
【化21】
【0079】〔式中、R6及びR7はそれぞれ独立に水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、ヘテロ環基、置換ヘテロ環基、アリル基又
は置換アリル基を表わし、また、R6とR7とは共にそれ
が結合している炭素原子と共に環を形成しても良い。n
2は、0、1又は2を表わす。G3 及びG4 はそれぞれ
独立に、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル
基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、アシル
基、置換アシル基、アリールカルボニル基、置換アリー
ルカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、フルオロ
アルキルスルホニル基を表わす。ただし、G 3 とG4
同時に水素原子となることはない。また、G3とG4とは
それが結合している炭素原子と共に非金属原子から成る
環を形成しても良い。〕 さらにR6、R7、G3、G4のうち1つ以上に1つ以上の
スルホン酸基、カルボキシル基、スルホンアミド基、イ
ミド基、N−スルホニルアミド基、フェノール性水酸
基、スルホンイミド基、又はその金属塩、無機又は有機
アンモニウム塩を有する。
【0080】
【化22】
【0081】R8、R9、R10、R11、R12、R13はそれ
ぞれ同じでも異なっていてもよく水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ア
ルコキシル基、ヒドロキシル基、アシル基、シアノ基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、ニトロ基、カルボキシル基、クロル基、ブロモ基を
表わす。本発明のフッ素系界面活性剤を含んだ感光性組
成物から平版印刷版用感光材料を得る場合には、まずそ
れが適当な支持体上に設けられる。本発明のフッ素系界
面活性剤を含んだ感光性組成物は、下記の有機溶剤の単
独あるいは混合したものに溶解または分散され、支持体
に塗布され乾燥される。有機溶剤としては、公知慣用の
ものがいずれも使用できるが、沸点40℃〜200℃、
特に60℃〜160℃の範囲のものが、乾燥の際におけ
る有利さから選択される。勿論、本発明の界面活性剤が
溶解するものを選択するのが良い。
【0082】有機溶剤としては、例えばメチルアルコー
ル、エチルアルコール、n−またはイソ−プロピルアル
コール、n−またはイソ−ブチルアルコール、ジアセト
ンアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケト
ン、メチルアミルケトン、メチルヘキシルケトン、ジエ
チルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
メチルシクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、
メトキシベンゼン等の炭化水素類、エチルアセテート、
n−またはイソ−プロピルアセテート、n−またはイソ
−ブチルアセテート、エチルブチルアセテート、ヘキシ
ルアセテート等の酢酸エステル類、メチレンジクロライ
ド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼン等のハ
ロゲン化物、イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテ
ル、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類、エチレングリコール、メチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブ、ジエチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、メトキシ
メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレン
グリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノブチルエーテル、3−メチル−3−メトキシブタノ
ール等の多価アルコールとその誘導体、ジメチルスルホ
キシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の特殊溶剤な
どが単独あるいは混合して好適に使用される。そして、
塗布する組成物中の固形分の濃度は、2〜50重量%と
するのが適当である。
【0083】本発明の組成物の塗布方法としては、例え
ばロールコーティング、ディップコーティング、エアナ
イフコーティング、グラビアコーティング、グラビアオ
フセットコーティング、ホッパーコーティング、ブレー
ドコーティング、ワイヤドクターコーティング、スプレ
ーコーティング等の方法が用いられ、乾燥後の重量にし
て0.3〜4.0g/m2が好ましい。塗布量が小さくな
るにつれて画像を得るための露光量は小さくて済むが、
膜強度は低下する。塗布量が大きくなるにつれ、露光量
を必要とするが感光膜は強くなり、例えば、印刷版とし
て用いた場合、印刷可能枚数の高い(高耐刷の)印刷版
が得られる。支持体上に塗布された感光性組成物の乾燥
は、通常加熱された空気によって行われる。加熱は30
℃〜200℃特に、40℃〜140℃の範囲が好適であ
る。乾燥の温度は乾燥中一定に保たれる方法だけでなく
段階的に上昇させる方法も実施し得る。また、乾燥風は
除湿することによって好結果が得られる場合もある。加
熱された空気は、塗布面に対し0.1m/秒〜30m/
秒、特に0.5m/秒〜20m/秒の割合で供給するの
が好適である。
【0084】マット層;上記のようにして設けられた感
光層の表面には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真
空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マッ
ト層を設けることが好ましい。具体的には、特開昭50
−125805号、特公昭57−6582号、同61−
28986号の各公報に記載されているようなマット層
を設ける方法、特公昭62−62337号公報に記載さ
れているような固体粉末を熱融着させる方法などが挙げ
られる。
【0085】感光性平版印刷版等に使用される支持体
は、寸度的に安定な板状物であり、これ迄印刷版の支持
体として使用されたものが含まれ、好適に使用すること
ができる。かかる支持体としては、紙、プラスチックス
(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン
など)がラミネートされた紙、例えばアルミニウム(ア
ルミニウム合金も含む)、亜鉛、鉄、銅などのような金
属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプ
ラスチックスのフイルム、上記のような金属がラミネー
トもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム
などが含まれるが、特にアルミニウム板が好ましい。ア
ルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム合
金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属
とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物
は、いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し得
る程度の量の不純物をも含むものである。
【0086】支持体は、必要に応じて表面処理される。
例えば感光性平版印刷版の場合には、支持体の表面に、
親水化処理が施される。また金属、特にアルミニウムの
表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソ
ーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液
への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理が
なされていることが好ましい。また、米国特許第2,7
14,066号明細書に記載されているように、砂目立
てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミ
ニウム板、米国特許第3,181,461号明細書に記
載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理を行
った後にアルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したも
のも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例えば、
燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚
酸、スルファミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶
液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解
液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことによ
り実施される。
【0087】また、米国特許第3,658,662号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とす
る為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成
物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上
させる為に施されるものである。アルミニウム板を砂目
立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去
すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるために
その表面の前処理を施しても良い。前者のためには、ト
リクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又
後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
アルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われてい
る。
【0088】砂目立て方法としては、機械的、化学的お
よび電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽
石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで
擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭54−31187号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸また
はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する
方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開
昭55−137993号公報に記載されているような機
械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板
の表面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.0μと
なるような範囲で施されることが好ましい。このように
して砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗
および化学的にエッチングされる。
【0089】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、ク
ロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面
に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これ等の
エッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用
するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間1
分あたり0.3グラムから40g/m2になる様に行なわ
れるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回る
ものであっても差支えない。
【0090】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が0.5
〜10g/m2の範囲となるように処理されることが好ま
しい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速度
が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望
ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デス
マット処理される。デスマット処理に使用される酸は、
硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふっ酸、ほうふつ化水
素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミニウ
ム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化
は、この分野で従来より行なわれている方法で行なうこ
とができる。具体的には、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚
酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそ
れらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中で
アルミニウムに直流または交流の電流を流すと、アルミ
ニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させることがで
きる。
【0091】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが一般
的には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70
℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜10
0V、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。こ
れらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1,4
12,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で陽極酸化する方法および米国特許第3,511,
661号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽
極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化され、
さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて
親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国特
許第2,714,066号及び同第3,181,461
号に開示されているようなアルカリ金属シリケート、例
えば珪酸ナトリウム水溶液または特公昭36−2206
3号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウム
および米国特許第4,153,461号明細書に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法が
ある。
【0092】有機下塗層;本発明の感光性平版印刷版に
は感光層を塗設する前に有機下塗層を設けることが非画
像部の感光層残りを減らす上で好ましい。かかる有機下
塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキ
シメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2
−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホス
ホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、
ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホ
スホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホス
ホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフ
ェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸および
グリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよ
いフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アル
キルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有
機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ
酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒド
ロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれる
が、二種以上混合して用いてもよい。
【0093】その他ポリ(p−ビニル安息香酸)など下
記一般式〔IV〕で示される構造単位を分子中に有する高
分子化合物群の中から選ばれる少なくとも1種の化合物
を用いることができる。
【0094】
【化23】
【0095】前記一般式〔IV〕において、R1は水素原
子、ハロゲン原子またはアルキル基を表すが、好ましく
は、水素原子、塩素原子、または炭素数1〜4個のアル
キル基を表す。特に好ましくは水素原子またはメチル基
を表す。R2とR3は各々独立して、水素原子、水酸基、
ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、芳香族
基、置換芳香族基、−R4、−COOR5、−CONHR
6、−COR7もしくは−CNを表すか、またはR2とR3
が結合して環を形成しても良い。ここでR4〜R7は各々
アルキル基または芳香族基を表す。より好ましいR2
3は、各々独立して、水素原子、水酸基、塩素原子、
炭素数1〜4個のアルキル基、フェニル基、−R4、−
COOR5、−CONHR6、−COR7、−CNであ
り、ここでR4〜R7は炭素数1〜4個のアルキル基また
はフェニル基である。特に好ましいR2とR3は、各々独
立して、水素原子、水酸基、メチル基またはメトキシ基
である。
【0096】Xは水素原子、金属原子、NR8910
11を表し、ここで、R8〜R11は、各々独立して、水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、芳香族基、置換芳
香族基を表すか、またはR8とR9が結合して環を形成し
ても良い。より好ましいXは、水素原子、一価の金属原
子、NR891011であり、ここで、R8〜R11は、
各々独立して、水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基
またはフェニル基である。特に好ましいXは、水素原
子、ナトリウム、カリウムまたはNR8910 11を表
し、ここで、R8〜R11は、各々独立して、水素原子、
メチル基、エチル基を表す。nは1〜3の整数を表す
が、好ましくは1または2を表し、より好ましくは1を
表す。
【0097】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機
化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾
燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の濃度
の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などい
ずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶
液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05
〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましく
は25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、
好ましくは2秒〜1分である。
【0098】これに用いる溶液は、アンモニア、トリエ
チルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1
〜12の範囲で使用することもできる。また、感光性平
版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加する
こともできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜2
00mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2
である。上記の被覆量が2mg/m2より少ないと十分な耐
刷性能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。
【0099】バックコート;支持体の裏面には、必要に
応じてバックコートが設けられる。かかるバックコート
としては特開平5−45885号公報記載の有機高分子
化合物および特開平6−35174号公報記載の有機ま
たは無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得ら
れる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Si(OCH3)4、Si(OC25)
4、Si(OC37)4、Si(OC49)4、などの珪素のア
ルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる
金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好まし
い。
【0100】
【実施例】以下本発明を合成例および実施例に基づいて
更に説明する。ただし本発明はこれらの実施例によって
限定されるものではない。 合成例1 2−(パーフルオロオクチル)エチルアクリレート16
3.2g、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド74.5g、ラウリルメタアクリレート80.1gお
よびテトラヒドロフラン600gを2000mlの3口フ
ラスコに取り窒素気流下攪拌しながら65℃に保った。
2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)を13.05g加え攪拌を続けた。4時間後68℃
まで昇温し1時間保った。反応終了後、室温にまで冷却
し、反応液を3.8リットルの水中に注いだ。折出した
固体をろ取し、乾燥することにより、ポリマーP−1を
得た。収率174g、GPCによりこの固体は重量平均
分子量1.5万の高分子化合物であった。 合成例2〜5 合成例1と同様の方法にして第1表に示したポリマーを
合成した。また比較例の化合物(ポリマー)も同様の方
法にて合成した。なお、比較例の化合物(ポリマー)の
構造を下記に示す。
【0101】
【表1】
【0102】
【化24】
【0103】
【化25】
【0104】〔実施例1〜4、比較例1〜7〕(下記実
施例におけるパーセントは、他に指定のない限り、すべ
て重量%である。) 厚さ0.24mmのJIS A 1050アルミニウム板
を、平均粒径約2.1μmのパミストンと水の懸濁液を
アルミニウム表面に供給しながら、以下に示す回転ナイ
ロンブラシにより、ブラシグレイニング処理した。第1
ブラシは毛長100mm、毛径0.95mm、植毛密度70
本/cm2であり、第2ブラシは毛長80mm、毛径0.29
5mm、植毛密度670本/cm2であった。ブラシロールの
回転はいずれも250rpmであった。ブラシグレイニン
グにひき続きよく水洗した後、10%水酸化ナトリウム
に60℃で25秒間浸漬してエッチングし、さらに流水
で水洗後20%硝酸で中和洗浄、水洗した。これらを、
A=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用
いて、1%硝酸水溶液中で160クローン/dm2の陽極時
電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定
したところ、0.79μm(Ra表示)であった。引き
続いて、1%水酸化ナトリウム水溶液に40℃、30秒
間浸漬後、30%の硫酸水溶液中に浸漬し、60℃で4
0秒間デスマット処理した後、20%硫酸水溶液中、電
流密度2A/dm2において1.6g/m2の酸化皮膜重量に
なるように直流で陽極酸化し、基板を調整した。
【0105】このように処理された基板の表面に下記組
成の下塗り液(A)を塗布し80℃、30秒間乾燥し
た。乾燥後の被覆量は10/m2であった。 下塗り液(A) β−アラニン 0.10 g メタノール 40 g 純 水 60 g このようにして基板(I)を作製した。次にこの基板
(I)上に次の第2表に示す感光液をロッドコーティン
グで12ml/m2塗設し、100℃で1分間乾燥してポジ
型感光性平版印刷版を得た。乾燥後の塗布量は1.10
g/m2であった。さらに真空密着時間を短縮させるた
め、特公昭61−28986号公報記載のようにしてマ
ット層を形成させた。
【0106】
【表2】
【0107】なお、比較例6においては、含フッ素ポリ
マーR−3が上記の溶剤に不溶であるため溶剤をジメチ
ルアセトアミド(DMAc)/1−メトキシ−2−プロ
パノール(MFG)=5g/20gに変更して用いた。
このようにして作製した感光性平版印刷版を以下の方法
で評価した。感度は、富士写真フィルム(株)製ステッ
プウエッジ(各段の濃度差が0.15)を通して、1m
の距離から3kWのメタルハライドランプにより1分間
露光を行ったのち、富士写真フィルム(株)製PSプロ
ッセッサー900Uを用いて、30℃12秒間、SiO
2/K2Oのモル比が1.16、SiO2濃度が1.4%
の水溶液で現像し、クリアーの段数で表わした。段数が
高い程感度が高いことを示す。階調は、上述の感度評価
したサンプルのクリアー段数とベタ段差の差を表わし
た。この値が低い程硬調であることを示す。現像許容性
は、上述の現像液を基準にして、pHを上下に0.2増
減させた液を用いた以外は上述の感度と同一な露光、現
像を行い、pHによるベタ段数の変化を表わした。この
値が小さい程現像許容性は良好であることを示す。これ
らの結果を第3表に示す。
【0108】
【表3】
【0109】第3表からも分かるように、実施例1〜4
は、感度を低下させることなく、硬調化し、かつ現像許
容性も良好である。 〔実施例5〜8、比較例8〜9〕実施例1〜4と同じ基
板(I)に次の第4表に示す感光液をロッドコーティン
グで25ml/m2塗布し、100℃で1分間乾燥してポジ
型感光性平版印刷版を得た。乾燥後の塗布量は1.50
g/m2であった。さらに、真空密着時間を短縮させるた
め、特公昭61−28986号公報記載のようにしてマ
ット層を形成させた。
【0110】
【表4】
【0111】構造式(A)の染料
【0112】
【化26】
【0113】このようにして作成した感光性平版印刷版
を実施例1〜4と同一の方法で、感度、階調、現像許容
性を評価した。その結果を第5表に示す。
【0114】
【表5】
【0115】第5表からも分かるように、実施例5〜8
においても本発明の感光性組成物は、その感度を低下さ
せることなく、硬調化し、かつ現像許容性も良好であ
る。
【0116】
【発明の効果】本発明のポジ型感光性組成物は、特定の
含フッ素ポリマーを含有することにより、その感度が低
下することなく、硬調な画像形成性を示し、かつ、焼き
ぼけ、白灯安全性、および現像許容性の広い満足するべ
きものとなった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも下記(1)で示される構成成
    分、(2)で示される構成成分および(3)で示される
    構成成分を共重合成分として有する高分子化合物を含有
    することを特徴とするポジ型感光性組成物。 (1)水素原子がフッ素原子で置換されているフルオロ
    脂肪族基を側鎖に有する付加重合可能なモノマー (2)9個以上の炭素原子を有する脂肪族基または2個
    以上の炭素原子を有する脂肪族基で置換された芳香族基
    を側鎖に有するアクリレート、メタクリレート、アクリ
    ルアミドもしくはメタアクリルアミド (3)下記一般式〔l〕、〔2〕または〔3〕で示され
    るフェノール水酸基を有するモノマー 【化1】 (式中、Aは水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜
    4のアルキル基を表す。R1は水素原子、炭素数1〜2
    0のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基を表す。
    Y、Zは同一であっても良くまた異なっていても良く、
    炭素数6〜20のアリーレン基を表す。Xは連結基であ
    り、炭素、窒素、酸素、硫黄、ハロゲン、水素原子から
    選ばれる原子からなる2価の有機基を表す。mは0から
    1の整数を、nは1から3の整数を表す。)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010015079A (ja) * 2008-07-07 2010-01-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型レジスト組成物
JP2020201389A (ja) * 2019-06-10 2020-12-17 Jsr株式会社 感放射線性組成物、重合体及びパターン形成方法
BE1027801A1 (fr) 2019-12-18 2021-06-22 Sumitomo Chemical Co Resine, composition de photoresist et procede de production de motif de photoresist et compose

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