JPH10183010A - ケイ酸を解凝集する方法およびシリコーンゴム混合物中の充填剤としての解凝集されたケイ酸の使用 - Google Patents
ケイ酸を解凝集する方法およびシリコーンゴム混合物中の充填剤としての解凝集されたケイ酸の使用Info
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- C09C1/28—Compounds of silicon
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- Silicon Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 その出発構造から完全に独立した高分散ケイ
酸を使用することができ、シリコーンゴム混合物中の充
填剤として使用される、高分散ケイ酸を粒径100nm
未満まで解凝集する方法。 【解決手段】 高分散の親水性ケイ酸(a)および/ま
たは疎水性ケイ酸(a)と有機ケイ素化合物(b)との
混合物に、デッドスペースが全くなくかつ少なくとも1
つの回転する混合機関を有する密閉形混合装置中で、1
00nm未満の平均粒径が達成されるまで、20〜20
0℃の温度および混合物の全成分が液相中に残留するの
に十分な圧力で、3m/sより大きい回転速度下で機械
的応力を加える。
酸を使用することができ、シリコーンゴム混合物中の充
填剤として使用される、高分散ケイ酸を粒径100nm
未満まで解凝集する方法。 【解決手段】 高分散の親水性ケイ酸(a)および/ま
たは疎水性ケイ酸(a)と有機ケイ素化合物(b)との
混合物に、デッドスペースが全くなくかつ少なくとも1
つの回転する混合機関を有する密閉形混合装置中で、1
00nm未満の平均粒径が達成されるまで、20〜20
0℃の温度および混合物の全成分が液相中に残留するの
に十分な圧力で、3m/sより大きい回転速度下で機械
的応力を加える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高分散ケイ酸を解
凝集する(deaggregating)方法に関し、この場合100
nm未満、有利に50nm未満の平均粒径は、極めて高
い機械的応力への暴露により達成される。解凝集された
ケイ酸は、シリコーンゴム混合物の充填剤として使用さ
れる。
凝集する(deaggregating)方法に関し、この場合100
nm未満、有利に50nm未満の平均粒径は、極めて高
い機械的応力への暴露により達成される。解凝集された
ケイ酸は、シリコーンゴム混合物の充填剤として使用さ
れる。
【0002】
【従来の技術】熱分解法(pyrogenic process)または湿
式化学法により製造される高分散ケイ酸には、多数の使
用可能性が公知である。主な使用分野は、このケイ酸製
品をシリコーンゴム混合物のいわゆる補強性充填剤また
は活性充填剤として使用することである。このシリコー
ンゴム混合物は、本質的に、シリコーンゴム混合物を架
橋作用を有する物質および必要に応じて、触媒を用いて
ゴム弾性状態に変換するために十分な数の反応性基を有
するポリジメチルシロキサンおよび通常少なくとも50
m2/gのBET表面積を有する、言及された熱分解法
ケイ酸からなる。架橋性に応じて、例えば、室温で架橋
する1成分系または2成分系(RTV1、RTV2)お
よび高温で架橋する系(HTV)は区別される。
式化学法により製造される高分散ケイ酸には、多数の使
用可能性が公知である。主な使用分野は、このケイ酸製
品をシリコーンゴム混合物のいわゆる補強性充填剤また
は活性充填剤として使用することである。このシリコー
ンゴム混合物は、本質的に、シリコーンゴム混合物を架
橋作用を有する物質および必要に応じて、触媒を用いて
ゴム弾性状態に変換するために十分な数の反応性基を有
するポリジメチルシロキサンおよび通常少なくとも50
m2/gのBET表面積を有する、言及された熱分解法
ケイ酸からなる。架橋性に応じて、例えば、室温で架橋
する1成分系または2成分系(RTV1、RTV2)お
よび高温で架橋する系(HTV)は区別される。
【0003】また、架橋性にかかわらず、全ての系の製
品特性は、使用されるケイ酸によって明白に決定され
る。ケイ酸の比表面積の大きさに加えて、とりわけその
表面処理およびポリシロキサンマトリックス中のケイ酸
の分布は、この場合に、非架橋シリコーンゴム混合物お
よび完成したエラストマーの双方の製品の特性値のため
に重要である。
品特性は、使用されるケイ酸によって明白に決定され
る。ケイ酸の比表面積の大きさに加えて、とりわけその
表面処理およびポリシロキサンマトリックス中のケイ酸
の分布は、この場合に、非架橋シリコーンゴム混合物お
よび完成したエラストマーの双方の製品の特性値のため
に重要である。
【0004】ケイ酸表面の大きさは、混合物の製造中
に、狭い制限内でのみ変化されうる。これとは異なり、
ケイ酸の表面処理は、ポリシロキサン中へのその練り込
み中および練り込み後の双方に、様々な強さで実施され
ることができる。この処理中に、とにかくシリコーンゴ
ム混合物を剛化する効果を有する、ケイ酸と結合するS
i−OH基は、化学的に遮断される。いわゆる原位置で
の疎水化は、反応性有機ケイ素化合物、通常ヘキサメチ
ルジシラザンで実施される。
に、狭い制限内でのみ変化されうる。これとは異なり、
ケイ酸の表面処理は、ポリシロキサン中へのその練り込
み中および練り込み後の双方に、様々な強さで実施され
ることができる。この処理中に、とにかくシリコーンゴ
ム混合物を剛化する効果を有する、ケイ酸と結合するS
i−OH基は、化学的に遮断される。いわゆる原位置で
の疎水化は、反応性有機ケイ素化合物、通常ヘキサメチ
ルジシラザンで実施される。
【0005】付加的に、ケイ酸の分布は、大いに影響を
与えうる。高分散ケイ酸は、特定の構造を有する(デグ
ッサ社(Degussa):Schriftenreihe Pigmente NR. 11[Pi
gment Publication Series No.11]、26頁、1993年)。
7nm〜40nmの大きさを有する一次粒子、いわゆる
一次グレインは、より大きな凝集物中に凝塊形成され、
再び一緒に結合して、更により大きな構造体の凝集塊を
形成する。
与えうる。高分散ケイ酸は、特定の構造を有する(デグ
ッサ社(Degussa):Schriftenreihe Pigmente NR. 11[Pi
gment Publication Series No.11]、26頁、1993年)。
7nm〜40nmの大きさを有する一次粒子、いわゆる
一次グレインは、より大きな凝集物中に凝塊形成され、
再び一緒に結合して、更により大きな構造体の凝集塊を
形成する。
【0006】例えば、型押用材料(impression materia
l)として使用される2成分系で必要とされるような、非
架橋シリコーンゴムのできるだけ良好な流動性および同
時に架橋シリコーンゴムの高い機械的強度の組合せを表
わす製品特性を達成するために、ケイ酸構造は、可能な
限り破壊されなければならず、即ちゴム中での小さい粒
径、可能な限り一次粒子にすることが目的となる。公知
のように、より大きな構造は、剪断エネルギーを導入す
ることにより、ポリシロキサンとケイ酸の混合物に多少
の機械的応力を加えることにより破壊される。
l)として使用される2成分系で必要とされるような、非
架橋シリコーンゴムのできるだけ良好な流動性および同
時に架橋シリコーンゴムの高い機械的強度の組合せを表
わす製品特性を達成するために、ケイ酸構造は、可能な
限り破壊されなければならず、即ちゴム中での小さい粒
径、可能な限り一次粒子にすることが目的となる。公知
のように、より大きな構造は、剪断エネルギーを導入す
ることにより、ポリシロキサンとケイ酸の混合物に多少
の機械的応力を加えることにより破壊される。
【0007】ドイツ連邦共和国特許第2535334号
明細書には、ポリシロキサン中に高分散充填剤を均一に
分布させる方法が記載されている。該方法では、充填剤
は、ポリマーへの混合中に原位置で疎水化され、次にこ
の混合物は機械的処理にかけられる。該方法により製造
されたシリコーンゴム混合物は貯蔵安定性を有するけれ
ども、凝塊形成されたケイ酸粒子の不十分な破壊のため
に、型押用材料に要求される性質を有していない。
明細書には、ポリシロキサン中に高分散充填剤を均一に
分布させる方法が記載されている。該方法では、充填剤
は、ポリマーへの混合中に原位置で疎水化され、次にこ
の混合物は機械的処理にかけられる。該方法により製造
されたシリコーンゴム混合物は貯蔵安定性を有するけれ
ども、凝塊形成されたケイ酸粒子の不十分な破壊のため
に、型押用材料に要求される性質を有していない。
【0008】最小限の間隙幅を有するドライス(Drais)
ミキサーは、剪断エネルギーの有効な導入のための特殊
混合装置としてドイツ連邦共和国特許第1950787
8号明細書に記載されている。達成されうる平均粒径
は、100〜200nmである。また、該方法では、充
填剤は原位置で疎水化される。
ミキサーは、剪断エネルギーの有効な導入のための特殊
混合装置としてドイツ連邦共和国特許第1950787
8号明細書に記載されている。達成されうる平均粒径
は、100〜200nmである。また、該方法では、充
填剤は原位置で疎水化される。
【0009】ポリマーおよび充填剤を含有する押出可能
な材料は、ドイツ連邦共和国特許第4442871号明
細書に記載されている。該材料のために、33重量%〜
約65重量%の充填剤は、相対的に高剪断作用の条件下
でポリマーと組合わされ、次に高剪断力を維持しながら
この成分は混合される。100〜200nmの粒径は得
られる。
な材料は、ドイツ連邦共和国特許第4442871号明
細書に記載されている。該材料のために、33重量%〜
約65重量%の充填剤は、相対的に高剪断作用の条件下
でポリマーと組合わされ、次に高剪断力を維持しながら
この成分は混合される。100〜200nmの粒径は得
られる。
【0010】小さなケイ酸粒子を達成するための別の可
能性は、欧州特許第622334号明細書に記載されて
いる。この場合には、直ちに、40〜200nmの粒径
を有する熱分解法ケイ酸は、酸素、水素および必要に応
じて窒素の混合物中でのクロロシランの燃焼による特殊
な方法で得られる。次に得られたケイ酸は、その構造を
更に変化させることなくシリコーンゴム混合物の製造に
使用され、原位置で疎水化される(欧州特許第6224
21号明細書)。
能性は、欧州特許第622334号明細書に記載されて
いる。この場合には、直ちに、40〜200nmの粒径
を有する熱分解法ケイ酸は、酸素、水素および必要に応
じて窒素の混合物中でのクロロシランの燃焼による特殊
な方法で得られる。次に得られたケイ酸は、その構造を
更に変化させることなくシリコーンゴム混合物の製造に
使用され、原位置で疎水化される(欧州特許第6224
21号明細書)。
【0011】最終的に混合物中のケイ酸が一次グレイン
までの100nm未満の平均粒径を有する、シリコーン
ゴム混合物中の凝集および凝塊形成された高分散ケイ酸
を解凝集する方法は、全く記載されていない。
までの100nm未満の平均粒径を有する、シリコーン
ゴム混合物中の凝集および凝塊形成された高分散ケイ酸
を解凝集する方法は、全く記載されていない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、その
出発構造から完全に独立した高分散ケイ酸を使用するこ
とができ、このために粒径100nm未満まで解凝集す
ることができ、かつシリコーンゴム混合物のための充填
剤として使用することができる方法を見出すことであっ
た。
出発構造から完全に独立した高分散ケイ酸を使用するこ
とができ、このために粒径100nm未満まで解凝集す
ることができ、かつシリコーンゴム混合物のための充填
剤として使用することができる方法を見出すことであっ
た。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、凝集および凝
塊形成された高分散ケイ酸を解凝集する方法に関する。
塊形成された高分散ケイ酸を解凝集する方法に関する。
【0014】また、本発明は、ポリシロキサンおよび1
00nm未満、有利に50nm未満の粒径を有する解凝
集されたケイ酸からなるシリコーンゴム混合物に関す
る。
00nm未満、有利に50nm未満の粒径を有する解凝
集されたケイ酸からなるシリコーンゴム混合物に関す
る。
【0015】更に、本発明によれば、シリコーンゴム混
合物は、ポリシロキサンおよび解凝集されたケイ酸に加
えて、公知および常用の成分、例えば架橋剤、可塑剤、
触媒、定着剤、顔料、補強作用を有する化合物、例えば
MQシリコーン樹脂および他の活性または不活性充填剤
を含有していてよい。
合物は、ポリシロキサンおよび解凝集されたケイ酸に加
えて、公知および常用の成分、例えば架橋剤、可塑剤、
触媒、定着剤、顔料、補強作用を有する化合物、例えば
MQシリコーン樹脂および他の活性または不活性充填剤
を含有していてよい。
【0016】ケイ酸を解凝集するために、本発明によれ
ば、高分散の親水性ケイ酸(a)および/または疎水性
ケイ酸(a)と、標準条件下で液体でありかつ高分散ケ
イ酸に関連して反応性および/または非反応性である少
なくとも1つの有機ケイ素化合物(b)との混合物に、
デッドスペースが全くなくかつ少なくとも1つの回転す
る混合機関を有する密閉形混合装置で、100nm未満
の平均粒径が達成されるまで、20〜200℃の範囲内
の温度および混合物の全成分が液相中に残留するのに十
分な圧力で、3m/sより大きく、有利に5m/sより
大きい回転速度下で機械的応力を加える。
ば、高分散の親水性ケイ酸(a)および/または疎水性
ケイ酸(a)と、標準条件下で液体でありかつ高分散ケ
イ酸に関連して反応性および/または非反応性である少
なくとも1つの有機ケイ素化合物(b)との混合物に、
デッドスペースが全くなくかつ少なくとも1つの回転す
る混合機関を有する密閉形混合装置で、100nm未満
の平均粒径が達成されるまで、20〜200℃の範囲内
の温度および混合物の全成分が液相中に残留するのに十
分な圧力で、3m/sより大きく、有利に5m/sより
大きい回転速度下で機械的応力を加える。
【0017】ケイ酸(a)は、好ましくは、(a)と
(b)の全混合物中に少なくとも50重量%の程度まで
含有される。
(b)の全混合物中に少なくとも50重量%の程度まで
含有される。
【0018】また、場合によっては水を含有していてよ
い、全ての公知の商業的に入手可能な親水性および/ま
たは疎水性の熱分解法ケイ酸および/または沈降ケイ酸
は、ケイ酸として使用されてよい。50m2/gより大
きいBET表面積を有する親水性の熱分解法ケイ酸は好
ましい。
い、全ての公知の商業的に入手可能な親水性および/ま
たは疎水性の熱分解法ケイ酸および/または沈降ケイ酸
は、ケイ酸として使用されてよい。50m2/gより大
きいBET表面積を有する親水性の熱分解法ケイ酸は好
ましい。
【0019】機械的応力を受ける前に、(a)と(b)
の混合物は、易流動性ではないが依然として可塑性であ
るような粘稠度を有していてよい。混合物の粘度は、使
用される有機ケイ素化合物の量および粘度ならびにケイ
酸の割合に依存する。また、500Pas未満の粘度
で、より長期間および/または相当に高い回転速度は、
通常、解凝集のために満足なものではない。少なくとも
ケイ酸粒子が湿潤されるような量の有機ケイ素化合物
(b)を使用することは有利である。
の混合物は、易流動性ではないが依然として可塑性であ
るような粘稠度を有していてよい。混合物の粘度は、使
用される有機ケイ素化合物の量および粘度ならびにケイ
酸の割合に依存する。また、500Pas未満の粘度
で、より長期間および/または相当に高い回転速度は、
通常、解凝集のために満足なものではない。少なくとも
ケイ酸粒子が湿潤されるような量の有機ケイ素化合物
(b)を使用することは有利である。
【0020】標準条件下で液体である有機ケイ素化合物
(b)は、通常Si原子1〜10000個、有利にSi
原子1〜5000個を有し、かつ高分散ケイ酸に対する
その反応性に関連して区別される。
(b)は、通常Si原子1〜10000個、有利にSi
原子1〜5000個を有し、かつ高分散ケイ酸に対する
その反応性に関連して区別される。
【0021】ケイ酸に関連して反応性である化合物は、
ケイ酸表面に存在するOH基と結合することができるの
で、処理剤または疎水化剤と呼称される。Si原子1〜
2個を有する有機ケイ素化合物、例えばシラザン、例え
ばヘキサメチルジシラザンまたはトリアルキルシラノー
ル、例えばトリメチルシラノールは有利に使用される。
シラザンが使用される場合には、ケイ酸に付着する水分
が十分ではない場合に水の存在下で処理するのは通例で
ある。シラノールが使用される場合には、シラザンまた
はNH3−水混合物を添加することが好ましい。更に、
10個までのSi原子を有し、かつアルコキシ、アセト
キシ、塩素および/またはヒドロキシル基を有する短鎖
のシロキサンは、反応性化合物として使用されてよい。
親水性ケイ酸が特別に使用される場合には、機械的応力
への暴露の間に処理剤を使用することは有利である。
ケイ酸表面に存在するOH基と結合することができるの
で、処理剤または疎水化剤と呼称される。Si原子1〜
2個を有する有機ケイ素化合物、例えばシラザン、例え
ばヘキサメチルジシラザンまたはトリアルキルシラノー
ル、例えばトリメチルシラノールは有利に使用される。
シラザンが使用される場合には、ケイ酸に付着する水分
が十分ではない場合に水の存在下で処理するのは通例で
ある。シラノールが使用される場合には、シラザンまた
はNH3−水混合物を添加することが好ましい。更に、
10個までのSi原子を有し、かつアルコキシ、アセト
キシ、塩素および/またはヒドロキシル基を有する短鎖
のシロキサンは、反応性化合物として使用されてよい。
親水性ケイ酸が特別に使用される場合には、機械的応力
への暴露の間に処理剤を使用することは有利である。
【0022】ケイ酸に関連して非反応性である有機ケイ
素化合物は、シリコーンゴム系の架橋反応に関与するこ
とができるその化合物の能力に関連して区別されうる。
シリコーンゴム系の製造のために常用の架橋系で使用さ
れる有機ケイ素化合物は、オルガノ基の5モル%までが
架橋性基であり、かつ有利に50個より多いSi原子を
有し、かつ1〜100Pasの粘度を有する、線状ポリ
オルガノシロキサンおよび/または分枝鎖状ポリオルガ
ノシロキサンである。架橋作用を有する基の例は、縮合
−架橋系のジメチルヒドロキシシロキシ末端基およびジ
アルコキシメチルシロキシ末端基、付加−架橋系のジメ
チルビニルシロキシ末端基および/または水素末端基お
よび/または水素側基および/またはビニル側基または
主として架橋系のビニル基である。とりわけ、メチル、
フェニルおよび/またはトリフルオロプロピル基は、架
橋作用を有していない別の基として結合されていてよ
い。二官能価および一官能価のシロキシ単位に加えて、
三官能価および四官能価の単位を含有する液体シロキサ
ンは、分枝鎖状ポリオルガノシロキサンとして使用され
る。三官能価および四官能価基と一官能価基との比は、
通常、ポリマーが液体であるように選択される。このシ
ロキサンは、例えば、エラストマーの特定の流動性を達
成することを目的に使用される。また、種々のポリオル
ガノシロキサンの混合物は使用されてよい。
素化合物は、シリコーンゴム系の架橋反応に関与するこ
とができるその化合物の能力に関連して区別されうる。
シリコーンゴム系の製造のために常用の架橋系で使用さ
れる有機ケイ素化合物は、オルガノ基の5モル%までが
架橋性基であり、かつ有利に50個より多いSi原子を
有し、かつ1〜100Pasの粘度を有する、線状ポリ
オルガノシロキサンおよび/または分枝鎖状ポリオルガ
ノシロキサンである。架橋作用を有する基の例は、縮合
−架橋系のジメチルヒドロキシシロキシ末端基およびジ
アルコキシメチルシロキシ末端基、付加−架橋系のジメ
チルビニルシロキシ末端基および/または水素末端基お
よび/または水素側基および/またはビニル側基または
主として架橋系のビニル基である。とりわけ、メチル、
フェニルおよび/またはトリフルオロプロピル基は、架
橋作用を有していない別の基として結合されていてよ
い。二官能価および一官能価のシロキシ単位に加えて、
三官能価および四官能価の単位を含有する液体シロキサ
ンは、分枝鎖状ポリオルガノシロキサンとして使用され
る。三官能価および四官能価基と一官能価基との比は、
通常、ポリマーが液体であるように選択される。このシ
ロキサンは、例えば、エラストマーの特定の流動性を達
成することを目的に使用される。また、種々のポリオル
ガノシロキサンの混合物は使用されてよい。
【0023】架橋性基、特に加水分解基を全く含有せ
ず、それゆえケイ酸表面に関連して反応的に作用しない
基を含有し、使用されることができる有機ケイ素化合物
(b)は、例えばヘキサアルキルジシロキサン、Si原
子3〜6個を有する環状ジアルキルシロキサンまたは
0.05〜1Pasの粘度を有する線状シロキサン、有
利にトリメチルシリル末端基を含有するポリジメチルシ
ロキサンである。
ず、それゆえケイ酸表面に関連して反応的に作用しない
基を含有し、使用されることができる有機ケイ素化合物
(b)は、例えばヘキサアルキルジシロキサン、Si原
子3〜6個を有する環状ジアルキルシロキサンまたは
0.05〜1Pasの粘度を有する線状シロキサン、有
利にトリメチルシリル末端基を含有するポリジメチルシ
ロキサンである。
【0024】種々の有機ケイ素化合物の混合物は、高分
散ケイ酸の解凝集のために使用され、親水性ケイ酸が使
用される場合には、反応性有機ケイ素化合物を使用する
ことは有利である。こうして、例えばヘキサメチルジシ
ラザンと、ヒドロキシル末端基を含有しかつ粘度約10
Pasを有するポリジメチルシロキサンまたはビニル末
端基を含有しかつ例えば約1Pasまたは65Pasの
粘度を有するポリジメチルシロキサンまたはトリメチル
シリル末端基を含有しかつ粘度約0.1Pasを有する
ポリジメチルシロキサンまたはビニル側基を有する高粘
度ポリジメチルシロキサンとの混合物ならびにヘキサメ
チルジシロキサンと最も多様なポリジメチルシロキサン
との混合物が使用されてよい。
散ケイ酸の解凝集のために使用され、親水性ケイ酸が使
用される場合には、反応性有機ケイ素化合物を使用する
ことは有利である。こうして、例えばヘキサメチルジシ
ラザンと、ヒドロキシル末端基を含有しかつ粘度約10
Pasを有するポリジメチルシロキサンまたはビニル末
端基を含有しかつ例えば約1Pasまたは65Pasの
粘度を有するポリジメチルシロキサンまたはトリメチル
シリル末端基を含有しかつ粘度約0.1Pasを有する
ポリジメチルシロキサンまたはビニル側基を有する高粘
度ポリジメチルシロキサンとの混合物ならびにヘキサメ
チルジシロキサンと最も多様なポリジメチルシロキサン
との混合物が使用されてよい。
【0025】ケイ酸の解凝集は、例えば、オルガノ基の
5モル%までが架橋性基である、少なくとも1つの線状
ポリオルガノシロキサンおよび/または分枝鎖状ポリオ
ルガノシロキサン100重量部および高分散ケイ酸10
0〜300重量部に、デッドスペースが全くなくかつ少
なくとも1つの回転する混合機関を有する密閉形混合装
置中で、100nm、有利に20nm未満の平均粒径が
達成されるまで、20〜200℃、有利に100〜15
0℃の範囲内の温度で1バールより大きく、有利に5〜
8バールの圧力下で、3m/sより大きく、有利に5m
/sより大きい回転速度下で極めて高い機械的応力を加
える方法により実施されることができる。親水性ケイ酸
が使用される場合には、ケイ酸に関連して非反応性であ
る有機ケイ素化合物およびケイ酸に関連して反応性であ
る有機ケイ素化合物および必要に応じて、水の全重量部
が100である場合に、ケイ酸の表面処理に好適な反応
性化合物、例えばジシラザン0.1〜75重量部および
必要に応じて、ケイ酸の練り混み前に水が添加される。
5モル%までが架橋性基である、少なくとも1つの線状
ポリオルガノシロキサンおよび/または分枝鎖状ポリオ
ルガノシロキサン100重量部および高分散ケイ酸10
0〜300重量部に、デッドスペースが全くなくかつ少
なくとも1つの回転する混合機関を有する密閉形混合装
置中で、100nm、有利に20nm未満の平均粒径が
達成されるまで、20〜200℃、有利に100〜15
0℃の範囲内の温度で1バールより大きく、有利に5〜
8バールの圧力下で、3m/sより大きく、有利に5m
/sより大きい回転速度下で極めて高い機械的応力を加
える方法により実施されることができる。親水性ケイ酸
が使用される場合には、ケイ酸に関連して非反応性であ
る有機ケイ素化合物およびケイ酸に関連して反応性であ
る有機ケイ素化合物および必要に応じて、水の全重量部
が100である場合に、ケイ酸の表面処理に好適な反応
性化合物、例えばジシラザン0.1〜75重量部および
必要に応じて、ケイ酸の練り混み前に水が添加される。
【0026】本発明による方法は、少なくとも1つの回
転する混合機関を備えた混合装置の機械的な操作を用い
て実施され、この場合有機ケイ素化合物(b)の存在下
でのケイ酸(a)の解凝集は、全混合室が充填されてお
り、この混合室中の圧力が大気圧を越え、有利に1〜1
5バール、特に5〜8バールであることを意味し、か
つ、また、標準条件下で易揮発性の混合物の全成分が高
められた温度で液相中に残留するように計算された、デ
ッドスペースがない、いわゆる押込み(positive)混合系
中で高められた温度で、実施され、3m/sより高く、
有利に5m/sより高い回転速度で回転する混合機関は
作動する。解凝集に必要とされる期間は、数分〜数時
間、通常5分から6時間であり、混合物成分、その混合
比、混合機関の回転速度および/または目標とされる粒
径に依存する。不連続的な方法の場合には、通常30〜
90分間は必要とされ、連続的な解凝集には1〜15分
間は必要とされる。
転する混合機関を備えた混合装置の機械的な操作を用い
て実施され、この場合有機ケイ素化合物(b)の存在下
でのケイ酸(a)の解凝集は、全混合室が充填されてお
り、この混合室中の圧力が大気圧を越え、有利に1〜1
5バール、特に5〜8バールであることを意味し、か
つ、また、標準条件下で易揮発性の混合物の全成分が高
められた温度で液相中に残留するように計算された、デ
ッドスペースがない、いわゆる押込み(positive)混合系
中で高められた温度で、実施され、3m/sより高く、
有利に5m/sより高い回転速度で回転する混合機関は
作動する。解凝集に必要とされる期間は、数分〜数時
間、通常5分から6時間であり、混合物成分、その混合
比、混合機関の回転速度および/または目標とされる粒
径に依存する。不連続的な方法の場合には、通常30〜
90分間は必要とされ、連続的な解凝集には1〜15分
間は必要とされる。
【0027】混合物中への分散エネルギーの極めて高い
導入は、有機ケイ素化合物中のケイ酸の成果の上がる解
凝集のために本質的なことである。本発明によれば、完
全に充填された(デッドスペースが全くない)混合室中
で、高められた温度および高められた圧力下で混合機関
の高い回転速度で実施される場合に、この極めて大きい
応力は、全く意外であることに、混合機関を機械的に操
作することを伴う混合装置で実現されることができる。
いわゆる押込み混合系および高速混合機関の生じた、同
時利用の結果として、100nm未満、有利に50nm
未満の粒径が達成されうるようなケイ酸粒子を解凝集す
ることができる。
導入は、有機ケイ素化合物中のケイ酸の成果の上がる解
凝集のために本質的なことである。本発明によれば、完
全に充填された(デッドスペースが全くない)混合室中
で、高められた温度および高められた圧力下で混合機関
の高い回転速度で実施される場合に、この極めて大きい
応力は、全く意外であることに、混合機関を機械的に操
作することを伴う混合装置で実現されることができる。
いわゆる押込み混合系および高速混合機関の生じた、同
時利用の結果として、100nm未満、有利に50nm
未満の粒径が達成されうるようなケイ酸粒子を解凝集す
ることができる。
【0028】混合羽根および可動底板を備えた圧縮混合
は、本発明による方法のための好ましい混合装置として
使用される。しかしながら、また、混合がデッドスペー
スがなく実施されることができ、かつ極めて高い機械的
応力の導入が確実にされる全ての別の混合装置も適当で
ある。本発明による方法は、例えば二軸スクリュー押出
機のような混合装置で連続的に実施されてよい。
は、本発明による方法のための好ましい混合装置として
使用される。しかしながら、また、混合がデッドスペー
スがなく実施されることができ、かつ極めて高い機械的
応力の導入が確実にされる全ての別の混合装置も適当で
ある。本発明による方法は、例えば二軸スクリュー押出
機のような混合装置で連続的に実施されてよい。
【0029】所望の粒径に達した場合に、存在するかま
たは反応により形成された易揮発性の成分を混合物から
除去することは有利である。後の意図される使用目的に
応じて、本発明による方法により得られる高い充填剤含
量を有する混合物は、ポリオルガノシロキサンで希釈さ
れてもよいしおよび/またはシリコーンゴム混合物とし
て貯蔵されてもよいし、または必要に応じて別の常用の
混合物成分の添加後に、容易に硬化するエラストマーに
加工されてもよい。
たは反応により形成された易揮発性の成分を混合物から
除去することは有利である。後の意図される使用目的に
応じて、本発明による方法により得られる高い充填剤含
量を有する混合物は、ポリオルガノシロキサンで希釈さ
れてもよいしおよび/またはシリコーンゴム混合物とし
て貯蔵されてもよいし、または必要に応じて別の常用の
混合物成分の添加後に、容易に硬化するエラストマーに
加工されてもよい。
【0030】本発明により製造される解凝集されたケイ
酸を含有するシリコーンゴム混合物は、例外的に貯蔵安
定性を有し、かつ良好な流動性および高い充填剤含量を
有する混合物としても製造されることができるという、
常用の混合物を越えた顕著な利点を有する。更に、全て
の高分散ケイ酸は、その製造および前処理にかかわら
ず、本発明による方法に使用されることができる。
酸を含有するシリコーンゴム混合物は、例外的に貯蔵安
定性を有し、かつ良好な流動性および高い充填剤含量を
有する混合物としても製造されることができるという、
常用の混合物を越えた顕著な利点を有する。更に、全て
の高分散ケイ酸は、その製造および前処理にかかわら
ず、本発明による方法に使用されることができる。
【0031】
【実施例】全粘度データは、25℃を基礎としている。
【0032】例1〜7 ポリジメチルシロキサン(PDMS)、水およびヘキサ
メチルジシラザンを、室温で、全容量10 lを有しか
つ還流凝縮器を備えた実験室用圧縮ミキサーで相互に混
合した。この混合物中に、商業的に入手可能な、例1〜
6の未処理の熱分解法ケイ酸またはBET表面積300
m2/gを有する、例7のヘキサメチルジシラザンで処
理したケイ酸を、徐々に混合した。混合器具の回転速度
を800min−1(回転速度10ms−1)に高める
ことによって、混合されるべき製品の温度を上昇させ
た。同時に、アンモニアの発生が開始した。混合室内の
圧力が9バール絶対を越えた場合に、還流凝縮器を用い
てアンモニアガスを放圧し、次に蒸発した成分、例えば
水およびヘキサメチルジシラザンならびにその開裂化合
物を沈澱させ、混合物中に戻して再利用した。操作のこ
のモードは、100〜140℃の温度で、120分間維
持された。その後、全揮発成分を10ミリバール絶対の
圧力下で混合物から除去した。透明なプラスチック製品
が得られ、これは必要に応じてポリシロキサンまたは他
の添加剤と段階的に混合してよい。
メチルジシラザンを、室温で、全容量10 lを有しか
つ還流凝縮器を備えた実験室用圧縮ミキサーで相互に混
合した。この混合物中に、商業的に入手可能な、例1〜
6の未処理の熱分解法ケイ酸またはBET表面積300
m2/gを有する、例7のヘキサメチルジシラザンで処
理したケイ酸を、徐々に混合した。混合器具の回転速度
を800min−1(回転速度10ms−1)に高める
ことによって、混合されるべき製品の温度を上昇させ
た。同時に、アンモニアの発生が開始した。混合室内の
圧力が9バール絶対を越えた場合に、還流凝縮器を用い
てアンモニアガスを放圧し、次に蒸発した成分、例えば
水およびヘキサメチルジシラザンならびにその開裂化合
物を沈澱させ、混合物中に戻して再利用した。操作のこ
のモードは、100〜140℃の温度で、120分間維
持された。その後、全揮発成分を10ミリバール絶対の
圧力下で混合物から除去した。透明なプラスチック製品
が得られ、これは必要に応じてポリシロキサンまたは他
の添加剤と段階的に混合してよい。
【0033】使用される有機ケイ素化合物、ケイ酸およ
び疎水化剤ならびに使用される量および達成される粒径
は、表1に包含されている。
び疎水化剤ならびに使用される量および達成される粒径
は、表1に包含されている。
【0034】例8 BET表面積260m2/gを有する、既に疎水化され
た熱分解法ケイ酸を使用し、かつポリシロキサンに混合
したことを除いて、本方法を例1〜7と同様に実施し
た。混合されるべき製品の温度が上昇した場合であって
も、アンモニアが全く生じなかったので、アンモニアの
放圧の処理段階を省略することができた。結果は表1に
包含されている。
た熱分解法ケイ酸を使用し、かつポリシロキサンに混合
したことを除いて、本方法を例1〜7と同様に実施し
た。混合されるべき製品の温度が上昇した場合であって
も、アンモニアが全く生じなかったので、アンモニアの
放圧の処理段階を省略することができた。結果は表1に
包含されている。
【0035】例9 タイプCRP 6の二軸式(twin-shaft)混合および混練
反応器を混合装置として使用し、この場合に本方法を例
1〜7と同様に実施した。混合器具を回転速度4.5m
s−1で回転させた。結果は表1に包含されている。
反応器を混合装置として使用し、この場合に本方法を例
1〜7と同様に実施した。混合器具を回転速度4.5m
s−1で回転させた。結果は表1に包含されている。
【0036】例10(比較例) 混合装置として遊星形溶解機を使用した。2つの回転器
具の周速度は10ms−1であった。最初にポリシロキ
サンの全量を導入し、ヘキサメチルジシラザンおよび水
を混合し、ケイ酸をその中に混合した。本方法は、例1
〜7と同一の方法に従うが、しかしながらデッドスペー
スがない混合室は、ここでは全く利用不可能であった。
具の周速度は10ms−1であった。最初にポリシロキ
サンの全量を導入し、ヘキサメチルジシラザンおよび水
を混合し、ケイ酸をその中に混合した。本方法は、例1
〜7と同一の方法に従うが、しかしながらデッドスペー
スがない混合室は、ここでは全く利用不可能であった。
【0037】
【表1】
【0038】表から判明しうるように、100nm未満
のケイ酸粒子の製造は、混合がデッドスペースのない混
合装置で、加圧下で実施され、かつ混合器具の回転速度
が3ms−1より高い場合のみ達成される。
のケイ酸粒子の製造は、混合がデッドスペースのない混
合装置で、加圧下で実施され、かつ混合器具の回転速度
が3ms−1より高い場合のみ達成される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハラルト シックマン ドイツ連邦共和国 マイセン オーバーシ ュパーラー シュトラーセ 6
Claims (14)
- 【請求項1】 ケイ酸を解凝集する方法において、高分
散の親水性ケイ酸(a)および/または疎水性ケイ酸
(a)と、標準条件下で液体でありかつ高分散ケイ酸に
関連して反応性および/または非反応性である少なくと
も1つの有機ケイ素化合物(b)との混合物に、デッド
スペースが全くなくかつ少なくとも1つの回転する混合
機関を有する密閉形混合装置中で、100nm未満の平
均粒径が達成されるまで、20〜200℃の範囲内の温
度および混合物の全成分が液相中に残留するのに十分な
圧力で、3m/sより大きい回転速度下で機械的応力を
加えることを特徴とする、ケイ酸を解凝集する方法。 - 【請求項2】 50nm未満の平均粒径が達成されるま
で、混合物に機械的応力を加える、請求項1記載の方
法。 - 【請求項3】 ケイ酸(a)は、少なくとも50重量%
の程度まで(a)と(b)の混合物を含有する、請求項
1記載の方法。 - 【請求項4】 有機ケイ素化合物(b)は、Si原子1
〜10000個を含有する、請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 ジシラザンおよび/またはトリアルキル
シラノールを、反応性有機ケイ素化合物(b)として使
用する、請求項1記載の方法。 - 【請求項6】 使用される反応性有機ケイ素化合物
(b)は、10個までのSi原子を有し、かつアルコキ
シ、アセトキシ、塩素および/またはヒドロキシル基を
有するものである、請求項1記載の方法。 - 【請求項7】 オルガノ基の5モル%までが架橋性基で
ある、線状ポリオルガノシロキサンおよび/または分枝
鎖状ポリオルガノシロキサンを、非反応性有機ケイ素化
合物(b)として使用する、請求項1記載の方法。 - 【請求項8】 1〜100Pasの粘度を有するポリオ
ルガノシロキサンを使用する、請求項7記載の方法。 - 【請求項9】 ジメチルヒドロキシシロキシ末端基、ジ
アルコキシメチルシロキシ末端基、ジメチル水素シロキ
シ末端基および/またはジメチルビニルシロキシ末端基
および/または水素および/またはビニル側基を有する
線状ポリオルガノシロキサンを使用する、請求項7記載
の方法。 - 【請求項10】 架橋性基を有しない線状有機ケイ素化
合物および/または環状有機ケイ素化合物を、非反応性
有機ケイ素化合物(b)として使用する、請求項1記載
の方法。 - 【請求項11】 ヘキサアルキルジシロキサン、オクタ
アルキルトリシロキサンおよび/またはSi原子3〜6
個を有する1つまたはそれ以上の環状ジアルキルシロキ
サンを、非反応性有機ケイ素化合物(b)として使用す
る、請求項10記載の方法。 - 【請求項12】 使用される非反応性有機ケイ素化合物
(b)は、0.05〜1.00Pasの粘度を有するも
のである、請求項10記載の方法。 - 【請求項13】 50m2/gより大きいBET表面積
を有する、疎水性および/または親水性の熱分解法ケイ
酸および/または沈降ケイ酸を、高分散ケイ酸(b)と
して使用する、請求項10記載の方法。 - 【請求項14】 シリコーンゴム混合物中の充填剤とし
ての請求項1記載の解凝集されたケイ酸の使用。
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Cited By (1)
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