JPH1017443A - スルホコハク酸系界面活性剤含有口腔用組成物 - Google Patents
スルホコハク酸系界面活性剤含有口腔用組成物Info
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Abstract
安全に、様々な原因物質によるステイン形成を効果的に
阻害する口腔用組成物を提供する。 【解決手段】 特定のスルホコハク酸系界面活性剤を含
有する口腔用組成物。
Description
界面活性剤を配合した、ステイン形成阻害効果を有する
口腔用組成物に関する。
菌剤、茶などに含まれるタンニン系物質、鉄などの金属
が原因で起こると考えられている歯牙への色素沈着物で
あり、審美上の大きな問題である。これを解決するため
の手段としては、ステインを除去する方法とステインの
形成を阻害する方法とが考えられる。ステインを除去す
るためには、一般に研磨剤や漂白剤が用いられている
が、これらにはそれぞれ歯牙を損傷する、刺激が強いと
いう問題点がある。
ては、特開平1−125315号公報にタンニン系物質
によるステインをポリスチレンスルホン酸が阻害するこ
と、特開平2−56413号公報には非酵素的褐変反応
の進行を阻止してステイン形成を阻害する方法が示され
ているが、これらは特定のステイン物質のみを考えたも
のであり、全てのステインに対して効果を持つものでは
ない。さらに、特開平2−200618号公報、特開平
2−209805号公報、特開平2−223512号公
報に示されたアミノアルキルシリコーンや、特開平3−
38517号公報、特開平5−163126号公報に示
されたフルオロアルキルリン酸エステルは、歯牙の表面
に被膜を形成して、歯の耐酸性を向上し、プラークの形
成を阻害すると共にステインの形成も阻害するとしてい
る。しかし、そのステイン形成阻害効果は充分に満足で
きるものでなく、その改善が望まれている。
剤は、口腔用組成物の成分として用いられており、その
効果としては、特開平4−139119号公報にトリク
ロサンの口腔内滞留性向上、特開平7−267837号
公報にクロルヘキシジン類の安定性向上が示されてい
る。また、特開平5−170632号公報には、タンパ
ク質誘導体、レシチンと共にこれを配合すると、皮膚へ
の刺激性を低下し、オレンジジュース効果も除去するこ
とが開示されている。しかし、これらのスルホコハク酸
系界面活性剤をステイン抑制の目的に用いることについ
ては知られていない。
性に優れ、歯牙を損傷することなく様々なステイン原因
物質によるステイン形成を効果的に阻害する、スルホコ
ハク酸系界面活性剤を配合する口腔用組成物を提供する
ことである。
本発明者らは、様々なステイン原因物質に対して効果を
有し、かつ、安全性に優れたステイン形成阻害物質に関
して鋭意研究を行った結果、スルホコハク酸系界面活性
剤にその優れた効果を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
性剤を配合して、ステイン形成阻害効果を有する口腔用
組成物を提供するものである。本発明によれば、安全性
に優れて刺激が少なく、歯牙を損傷することなく、様々
な原因物質によるステイン形成を阻害する口腔用組成物
が提供できる。
界面活性剤は、一般式(1):
基またはアルケニル基、AOは炭素数2〜3のオキシア
ルキレン基、nは0〜20、Bは−NH−または炭素数
2〜3のモノアルカノールアミン残基、M1およびM
2は、それぞれ同一または異なり、水素、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、アンモニウムまたはアルカノー
ルアミンを表す]で示されるスルホコハク酸モノエステ
ルであればよく、特に限定されるものではない。
いて、R1は天然由来または合成した炭素数8〜22の
直鎖または分岐のアルキル基またはアルケニル基のいず
れであってもよく、例えばラウリル、ココイル、ミリス
チル、ステアリル、C12〜14合成アルキルなどが例示で
きる。M1およびM2は、水素、アルカリ金属、アルカリ
土類金属、アンモニウム、アルカノールアミンから選ば
れる1種であって、それぞれ同一でも、異なっていても
よい。アルカリ金属としては、ナトリウム、カリウムな
どが、アルカリ土類金属としてはマグネシウムなどが、
アルカノールアミンとしては、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが例示
でき、とりわけアルカリ金属、特にナトリウムが好まし
い。また、AO基はオキシエチレン基が好ましく、その
平均付加モル数nは0〜20が好ましく、0〜7がさら
に好ましく、特に0〜2が好ましい。ここに、平均付加
モル数0とは、オキシアルキレンを付加していないスル
ホコハク酸モノエステルを意味する。
ノエステルの例としては、スルホコハク酸ポリオキシエ
チレン(2モル)ラウリル2ナトリウム、スルホコハク
酸ポリオキシエチレン(2モル)ココイル2ナトリウ
ム、スルホコハク酸C12〜14合成アルキル2ナトリウ
ム、スルホコハク酸ポリオキシエチレン(1モル)C12
〜14合成アルキル2ナトリウム、スルホコハク酸ポリオ
キシエチレン(2モル)C12〜14合成アルキル2ナトリ
ウム、スルホコハク酸ポリオキシエチレン(2モル)ラ
ウリル2マグネシウム、スルホコハク酸ポリオキシエチ
レン(2モル)ミリスチル2トリエタノールアミン、ス
ルホコハク酸ポリオキシエチレン(1モル)ラウリル2
ナトリウム、スルホコハク酸ポリオキシエチレン(1モ
ル)ミリスチル2ナトリウム、スルホコハク酸ポリオキ
シエチレン(7モル)ラウリル2ナトリウム、スルホコ
ハク酸ポリオキシエチレン(10モル)ステアリル2ナ
トリウム、スルホコハク酸ポリオキシエチレン(20モ
ル)オレイル2ナトリウムなどが挙げられ、一般式
(2)で示される例としては、スルホコハク酸オレイン
酸アミド2ナトリウム、スルホコハク酸ポリオキシエチ
レン(5モル)ラウロイルエタノールアミド2ナトリウ
ム、スルホコハク酸ポリオキシエチレン(2モル)ココ
イルイソプロパノールアミド2ナトリウムなどが例示で
きる。
テルは、R1が炭素数12〜14のアルキル基で、AO
基がオキシエチレン基であって、その平均付加モル数n
が0〜2のナトリウム塩が特に好ましい。これらは、具
体的にはスルホコハク酸ポリオキシエチレン(2モル)
C12〜14合成アルキル2ナトリウム、スルホコハク酸ポ
リオキシエチレン(1モル)C12〜14合成アルキル2ナ
トリウム、スルホコハク酸ポリオキシエチレン(2モ
ル)C12〜14合成アルキル2ナトリウム、スルホコハク
酸ココイル2ナトリウム、スルホコハク酸ポリオキシエ
チレン(1モル)ラウリル2ナトリウム、スルホコハク
酸ポリオキシエチレン(2モル)ラウリル2ナトリウム
などが挙げられる。これらはその1種を単独で用いても
2種以上を併用してもよい。
コハク酸モノエステルは、それぞれ、一般式(3):
基またはアルケニル基、AOは炭素数2〜3のオキシア
ルキレン基、nは0〜20、Bは−NH−または炭素数
2〜3のモノアルカノールアミン残基、M1およびM
2は、それぞれ同一または異なり、水素、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、アンモニウムまたはアルカノー
ルアミンを表す]で示される構造異性体としても存在し
え、本明細書ではこれらの構造異性体も含め、一般式
(1)および(2)で表す。
は、通常、組成物全体に対して0.01〜5重量%が好
ましく、さらに好ましくは0.1〜1重量%である。配
合量が0.01重量%に満たないと十分な効果が得られ
ず、また5重量%を超えると香味を損なう。
物は、常法により粉歯磨、練歯磨、ジェル、パスタ、液
体歯磨、洗口剤、チューイングガム、デンタルフロス、
貼付剤、シーラント、タブレットなどの剤形にできる
が、使用性から歯磨剤、液体歯磨または洗口剤が特に好
ましい。
酸系界面活性剤に加えて、それぞれの剤形に応じて、適
宜、研磨剤、発泡剤、香味剤、甘味剤、粘結剤、pH調
整剤、湿潤剤などの基材、さらに薬効成分などを、発明
の効果を損なわない範囲で配合することができる。
リン酸カルシウム・2水和物および無水和物、リン酸カ
ルシウム、第3リン酸カルシウム、炭酸カルシウム、ピ
ロリン酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、
無水ケイ酸、シリカゲル、ケイ酸アルミニウム、沈降性
シリカ、不溶性メタリン酸ナトリウム、第3リン酸マグ
ネシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ポリメ
タクリル酸メチル、ベントナイト、ケイ酸ジルコニウ
ム、ハイドロキシアパタイト、合成樹脂などを用いるこ
とができる。これらの研磨剤は単独で用いても2種以上
を併用してもよく、その配合量は、通常、組成物全体に
対して5〜90重量%、練歯磨の場合には5〜60重量
%である。
剤とアニオン性界面活性剤(スルホコハク酸系界面活性
剤を除く)が挙げられ、非イオン性界面活性剤として
は、ショ糖脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル
などの糖または糖アルコールの脂肪酸エステル、ポリオ
キシエチレンポリオキシプロピレングリコールエーテ
ル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポ
リオキシエチレンソルビタンモノステアレートなどのポ
リオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル、脂肪酸モノグリセライド、ポリオキシエチレン
高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキ
シプロピレン脂肪酸エステルなどが挙げられる。なお、
これらの非イオン性界面活性剤は単独で用いても2種以
上を併用してもよく、その配合量は、通常、組成物全体
に対して0.01〜40重量%、好ましくは0.05〜1
0重量%である。
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ミリスチル硫酸ナトリ
ウムなどのアルキル基の炭素数が8〜18である高級ア
ルキル硫酸エステル塩、N−長鎖アシルアミノ酸塩、α
−オレフィンスルホネート塩、高級脂肪酸ナトリウムモ
ノグリセライドモノサルフェート、N−パルミトイル−
N−メチル−タウライド塩などを配合することができ、
これらのアニオン性界面活性剤は単独で用いても2種以
上を併用してもよく、その配合量は、通常、組成物全体
に対して0.001〜5重量%、好ましくは0.001〜
1重量%である。
ースなどのセルロース誘導体、アルギン酸ナトリウムな
どのアルカリ金属アルギネート、アルギン酸プロピレン
グリコールエステル、キサンタンガム、トラガカントガ
ム、カラヤガム、アラビアガム、カラギーナンなどのガ
ム類、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウ
ム、カルボキシビニルポリマー、ポリビニルピロリドン
などの合成粘結剤、シリカゲル、アルミニウムシリカゲ
ル、ビーガム、ラポナイトなどの無機粘結剤などを単独
で用いても2種以上を併用してもよく、その配合量は、
通常、組成物全体に対して0.3〜5重量%である。
ル、オイゲノール、サリチル酸メチル、リモネン、オシ
メン、n−デシルアルコール、シトロネロール、α−テ
ルピネオール、メチルアセテート、シトロネリルアセテ
ート、メチルオイゲノール、シオネール、リナロール、
エチルリナロール、ワニリン、チモール、スペアミント
油、ペパーミント油、レモン油、オレンジ油、セージ
油、ローズマリー油、桂皮油、ピメント油、珪藻油、シ
ソ油、冬緑油、丁子油、ユーカリ油などの香味剤を単独
で用いても2種以上を併用してもよく、その配合量は、
通常、組成物全体に対して0.05〜10重量%、好ま
しくは0.1〜5重量%である。
ァームK、ステビオサイド、ネオヘスポリジルジヒドロ
カルコン、グリチルリチン、ペリラルチン、タウマチ
ン、アスパルチルフェニルアラニンメチルエステル、p
−メトキシシンナミックアルデヒドなどの甘味剤を、単
独で用いても2種以上を併用してもよく、その配合量
は、通常、組成物全体に対して0.01〜5重量%であ
る。
は、ソルビット、グリセリン、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、キ
シリット、マルチット、ラクチットなどの湿潤剤を単独
で用いても2種以上を併用してもよく、その配合量は、
通常、組成物全体に対して5〜70重量%である。
クエン酸ナトリウムなどのpH調整剤、グルコン酸クロ
ルヘキシジン、塩化セチルピリジニウム、トリクロサン
などの殺菌剤、デキストラナーゼ、アミラーゼ、プロテ
アーゼ、ムタナーゼ、リゾチーム、溶菌酵素(リテック
エンザイム)などの酵素、モノフルオロリン酸ナトリウ
ム、モノフルオロリン酸カリウムなどのアルカリ金属モ
ノフルオロホスフェート、フッ化ナトリウム、フッ化第
一スズなどのフッ化物、トラネキサム酸およびイプシロ
ンアミノカプロン酸、アルミニウムクロルヒドロキシル
アラントイン、ジヒドロコレステロール、ビタミンE誘
導体、グリチルリチン塩類、グリチルレチン酸、グリセ
ロホスフェート、クロロフィル、塩化ナトリウム、カロ
ペプタイド、水溶性無機リン酸化合物などの有効成分を
単独で用いても併用してもよい。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。また、特に断らない限り、[%]は[重量%]を示
す。
界面活性剤および対照被検成分のステイン阻害効果を色
差(ΔE)および目視にて評価した。
全唾液、0.2%クロルヘキシジングルコネート水溶
液、被検成分の0.5%水溶液、0.3%クエン酸鉄(I
II)アンモニウム水溶液、紅茶に順番に浸漬すること
を10回繰返し、実験前ディスクとの色差を測定する
(ΔEとする)。被検成分の水溶液の代わりに蒸留水を
用いた場合の色差(ΔE0とする)をコントロールと
し、次式によりステイン阻害率を算出した。なお、色差
の測定には色彩色差計CR−241(ミノルタ製)を用
いた。 ステイン阻害率(%)=(ΔE0−ΔE)÷ΔE0×10
0 ステイン阻害率が大きいほど、効果が高いことを表し、
50%以上を有効とした。
目視判定した。 <評価基準> 1・・・非常に着色している 2・・・着色している 3・・・やや着色している 4・・・白い これらの各被検成分の評価結果をあわせて表1に示す。
因物質によって形成されるステインに対し阻害効果を示
した。特に、スルホコハク酸ポリオキシエチレン(2モ
ル)アルキル(炭素数12〜14)2ナトリウム、スル
ホコハク酸オレイン酸アミド2ナトリウム、スルホコハ
ク酸ポリオキシエチレン(1モル)ラウリル2ナトリウ
ムは汎用の界面活性剤と比べても明らかに効果が大きか
った。被膜形成剤であるパーフルオロアルキルリン酸エ
ステル、アミノ変性シリコーンは逆の効果を示した。
のステイン阻害率を検討したところ、77.35%であ
った。
のステイン阻害率を検討したところ、77.58%であ
った。
た。 成分 配合量(%) ポリオキシエチレン(200モル) ポリオキシプロピレン(40モル)グリコール 40.0 グリセリン 10.0 トリクロサン 0.1 スルホコハク酸ポリオキシエチレン(2モル) C12〜14合成アルキル2ナトリウム 0.5 ポリビニルピロリドン 1.0 アセスルファームK 0.1 香料 0.7 水 残部 計 100.0 本品の4倍水希釈スラリーを遠心分離し、得られた上清
のステイン阻害率を検討したところ、79.68%であ
った。
た。 成分 配合量(%) セタノール 10.0 スクワラン 20.0 グリセリン 10.0 ソルビタンモノパルミテート 0.5 ポリオキシエチレン(40モル) ソルビタンモノステアレート 5.0 スルホコハク酸オレイン酸アミド2ナトリウム 0.6 ステビオサイド 0.3 香料 0.5 水 残部 計 100.0 本品の4倍水希釈スラリーを遠心分離し、得られた上清
のステイン阻害率を検討したところ、78.55%であ
った。
した。 成分 配合量(%) 乳糖 95.0 ポリビニルピロリドン 2.0 スルホコハク酸ポリオキシエチレン(1モル) ラウリル2ナトリウム 1.0 ポリオキシエチレン(60モル) モノステアレート 0.3 サッカリンナトリウム 0.2 香料 0.05 ヒドロキシエチルセルロース 残部 計 100.0 本品の4倍水希釈スラリーを遠心分離し、得られた上清
のステイン阻害率を検討したところ、70.24%であ
った。
れ、かつ様々な原因物質によるステイン形成を効果的に
阻害し、よって審美的に優れた歯牙を維持できる口腔用
組成物が提供できる。
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式(1): 【化1】 、および(2): 【化2】 [式1および式2中、R1は炭素数8〜22のアルキル
基またはアルケニル基、AOは炭素数2〜3のオキシア
ルキレン基、平均付加モル数nは0〜20、Bは−NH
−または炭素数2〜3のモノアルカノールアミン残基、
M1およびM2は、それぞれ同一または異なり、水素、ア
ルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウムまたはア
ルカノールアミンを表す]で示されるスルホコハク酸系
界面活性剤を、1種または2種以上配合することを特徴
とするステイン形成阻害用口腔用組成物。 - 【請求項2】 スルホコハク酸系界面活性剤のAO基の
平均付加モル数nが0〜7である請求項1または2いず
れか1項記載のステイン形成阻害用口腔用組成物。 - 【請求項3】 スルホコハク酸系界面活性剤のアルキル
基またはアルケニル基の炭素数が10〜14である請求
項1または2いずれか1項記載のステイン形成阻害用口
腔用組成物。 - 【請求項4】 スルホコハク酸系界面活性剤のM1およ
びM2がナトリウムである請求項1〜3いずれか1項記
載のステイン形成阻害用口腔用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17644696A JP3578560B2 (ja) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | スルホコハク酸系界面活性剤含有口腔用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17644696A JP3578560B2 (ja) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | スルホコハク酸系界面活性剤含有口腔用組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1017443A true JPH1017443A (ja) | 1998-01-20 |
JP3578560B2 JP3578560B2 (ja) | 2004-10-20 |
Family
ID=16013855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17644696A Expired - Lifetime JP3578560B2 (ja) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | スルホコハク酸系界面活性剤含有口腔用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3578560B2 (ja) |
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-
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JP3578560B2 (ja) | 2004-10-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020312 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040428 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040713 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080723 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090723 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100723 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120723 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120723 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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