JPH10169792A - 制御弁 - Google Patents
制御弁Info
- Publication number
- JPH10169792A JPH10169792A JP32322396A JP32322396A JPH10169792A JP H10169792 A JPH10169792 A JP H10169792A JP 32322396 A JP32322396 A JP 32322396A JP 32322396 A JP32322396 A JP 32322396A JP H10169792 A JPH10169792 A JP H10169792A
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- Japan
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- valve
- slit
- pressure
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- spool
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- Details Of Valves (AREA)
- Control Of Fluid Pressure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高圧・大流量の気体回路における気体流通騒
音を低減する。 【解決手段】 環状円盤１８と弾性体スペーサ１９を交
互に積層してスリット幅可変の弁１２を形成し、弁１２
のスリット幅をパイロット圧等の調整手段によって制御
する。１次側圧力気体は、弁１２の中心穴ＣＨからスリ
ットＳR を通じ２次側へ排出される。圧力気体はスリッ
トＳR の整流作用により線状断面の層流として弁１２か
ら全周方向へ放射され、流れを攪乱する渦流や乱流の発
生が極めて少なく、気体のバルブ通過騒音が抑制され
る。
音を低減する。 【解決手段】 環状円盤１８と弾性体スペーサ１９を交
互に積層してスリット幅可変の弁１２を形成し、弁１２
のスリット幅をパイロット圧等の調整手段によって制御
する。１次側圧力気体は、弁１２の中心穴ＣＨからスリ
ットＳR を通じ２次側へ排出される。圧力気体はスリッ
トＳR の整流作用により線状断面の層流として弁１２か
ら全周方向へ放射され、流れを攪乱する渦流や乱流の発
生が極めて少なく、気体のバルブ通過騒音が抑制され
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、制御弁に関する
ものであり、特に、気体の流通騒音を低減した制御弁に
関するものである。
ものであり、特に、気体の流通騒音を低減した制御弁に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
空気圧回路やガス供給回路において管路の圧力制御や流
量調節にはポペットバルブ等、種々の形式の制御弁が用
いられているが、いずれの形式の制御弁も、気体が制御
弁の通路を通過する間に乱流や渦流が生じる。
空気圧回路やガス供給回路において管路の圧力制御や流
量調節にはポペットバルブ等、種々の形式の制御弁が用
いられているが、いずれの形式の制御弁も、気体が制御
弁の通路を通過する間に乱流や渦流が生じる。
【０００３】低圧・小流量の回路では乱流や渦流によっ
て生じる騒音は低レベルであるので問題は生じないが、
燃料ガスプラントの如く高圧・大流量の気体を取り扱う
現場では衝撃波による著しい騒音を発生する。したがっ
て、此種の設備では管路にパンチングメタルや吸音材に
よる消音器を設けて騒音の低減を図っているが、減音効
果が充分ではないうえに、高圧・大流量回路においては
消音器も相当の寸法となり、且つ設備コストが上昇する
という問題がある。
て生じる騒音は低レベルであるので問題は生じないが、
燃料ガスプラントの如く高圧・大流量の気体を取り扱う
現場では衝撃波による著しい騒音を発生する。したがっ
て、此種の設備では管路にパンチングメタルや吸音材に
よる消音器を設けて騒音の低減を図っているが、減音効
果が充分ではないうえに、高圧・大流量回路においては
消音器も相当の寸法となり、且つ設備コストが上昇する
という問題がある。
【０００４】そこで、より効果的な騒音低減手段を提供
するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであ
り、本発明は上記課題を解決することを目的とする。
するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであ
り、本発明は上記課題を解決することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記目的を
達成するために提案するものであり、複数のプレートと
弾性体スペーサを交互に積層して前記プレート間に通気
スリットを形成した弁と、前記弁に圧縮圧力を加えて弾
性体スペーサの圧縮量によりスリット幅を調節する調整
手段とからなり、１次側圧力気体を前記スリットを通じ
て２次側へ供給し、且つ、調整手段により２次圧或いは
流量を制御する制御弁を提供するものである。
達成するために提案するものであり、複数のプレートと
弾性体スペーサを交互に積層して前記プレート間に通気
スリットを形成した弁と、前記弁に圧縮圧力を加えて弾
性体スペーサの圧縮量によりスリット幅を調節する調整
手段とからなり、１次側圧力気体を前記スリットを通じ
て２次側へ供給し、且つ、調整手段により２次圧或いは
流量を制御する制御弁を提供するものである。
【０００６】また、一端を閉鎖した筒形のスプールに内
部空間から外周面へ貫通する周方向の複数のスリットま
たは軸方向のスリットを設け、１次側通路と２次側通路
との隔壁にスプール挿通孔を設けて、前記スプールをス
ライド自在に挿通し、前記スプールのスライド位置によ
りスプールの閉鎖端部と隔壁との間のスリット開口面積
を調節する調整手段を設け、１次側圧力気体を前記スリ
ットを通じて２次側へ供給し、且つ、前記調整手段によ
り２次圧或いは流量を制御する制御弁を提供するもので
ある。
部空間から外周面へ貫通する周方向の複数のスリットま
たは軸方向のスリットを設け、１次側通路と２次側通路
との隔壁にスプール挿通孔を設けて、前記スプールをス
ライド自在に挿通し、前記スプールのスライド位置によ
りスプールの閉鎖端部と隔壁との間のスリット開口面積
を調節する調整手段を設け、１次側圧力気体を前記スリ
ットを通じて２次側へ供給し、且つ、前記調整手段によ
り２次圧或いは流量を制御する制御弁を提供するもので
ある。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態を図に
従って詳述する。図１乃至図６は請求項１記載の制御弁
を示し、図１に示す手動操作制御弁１のバルブハウジン
グ２内に収容した弁３は、中心に円穴ＣＨを開けた環状
円盤４と弾性ゴム等の弾性体スペーサ５を交互に積層
し、最上層に中心穴がない円盤６を載置して周方向のス
リットＳ R を形成したものである。
従って詳述する。図１乃至図６は請求項１記載の制御弁
を示し、図１に示す手動操作制御弁１のバルブハウジン
グ２内に収容した弁３は、中心に円穴ＣＨを開けた環状
円盤４と弾性ゴム等の弾性体スペーサ５を交互に積層
し、最上層に中心穴がない円盤６を載置して周方向のス
リットＳ R を形成したものである。
【０００８】弾性体スペーサ５は、図２に示すように、
円盤４，６の盤面とバルブシート７の周囲に一定角度間
隔で放射状に配列した凹部８に装着される。図１に示す
ように、弁３はバルブシート７上にセットされ、上部円
盤６はバルブハウジング２の上部スリーブ９に嵌合し、
上部スリーブ９のネジ穴にねじ込んだハンドル付調整ネ
ジ１０が上部円盤６のステム６ａに接している。
円盤４，６の盤面とバルブシート７の周囲に一定角度間
隔で放射状に配列した凹部８に装着される。図１に示す
ように、弁３はバルブシート７上にセットされ、上部円
盤６はバルブハウジング２の上部スリーブ９に嵌合し、
上部スリーブ９のネジ穴にねじ込んだハンドル付調整ネ
ジ１０が上部円盤６のステム６ａに接している。
【０００９】１次側管路の圧力気体は、環状円盤４の中
心穴ＣＨから円盤間のスリットＳRを通じて２次側へ排
出されるが、円盤間のスリットＳR を通過する圧力気体
は、スリットＳR の整流作用により断面が線状の薄い層
流として全周方向へ放射状に排出され、流れを攪乱する
渦流や乱流の発生が極めて少なく、気体のバルブ通過騒
音は殆ど発生しない。
心穴ＣＨから円盤間のスリットＳRを通じて２次側へ排
出されるが、円盤間のスリットＳR を通過する圧力気体
は、スリットＳR の整流作用により断面が線状の薄い層
流として全周方向へ放射状に排出され、流れを攪乱する
渦流や乱流の発生が極めて少なく、気体のバルブ通過騒
音は殆ど発生しない。
【００１０】ハンドル付調整ネジ１０を時計方向へ回転
すると、上部円盤６が下方へ押圧され、弾性体スペーサ
５を圧縮して各円盤４，６間のスリット幅が縮小し、ス
リット開口面積が減少する。逆に、ハンドル付調整ネジ
１０を反時計方向へ回転すれば、弁３は弾性体スペーサ
５の復元力により伸長して各円盤４，６間のスリット幅
が拡大し、ハンドル操作により流量を調節することがで
きる。
すると、上部円盤６が下方へ押圧され、弾性体スペーサ
５を圧縮して各円盤４，６間のスリット幅が縮小し、ス
リット開口面積が減少する。逆に、ハンドル付調整ネジ
１０を反時計方向へ回転すれば、弁３は弾性体スペーサ
５の復元力により伸長して各円盤４，６間のスリット幅
が拡大し、ハンドル操作により流量を調節することがで
きる。
【００１１】図３は、バネオフセット制御弁１１を示
し、弁１２の構造は図１に示した手動操作制御弁１と同
一であるが、弁１２の上部に水平方向の隔壁１３とその
上部のダイヤフラム１４によって仕切られたパイロット
室１５を設け、ダイヤフラム１４の背面側に設けた圧縮
コイルバネ１６により弁１２の上部円盤１７のステム１
７ａを押圧して環状円盤１８間の弾性体スペーサ１９に
圧力を加え、スリット幅を縮小する方向へ付勢してい
る。
し、弁１２の構造は図１に示した手動操作制御弁１と同
一であるが、弁１２の上部に水平方向の隔壁１３とその
上部のダイヤフラム１４によって仕切られたパイロット
室１５を設け、ダイヤフラム１４の背面側に設けた圧縮
コイルバネ１６により弁１２の上部円盤１７のステム１
７ａを押圧して環状円盤１８間の弾性体スペーサ１９に
圧力を加え、スリット幅を縮小する方向へ付勢してい
る。
【００１２】同図は、制御弁１１を用いたパイロット式
ローディング回路の一例を示し、２次圧がパイロット弁
２０の設定圧以下に低下するとパイロット弁２０が開
き、パイロット弁２０を通じて１次側からより高圧のパ
イロット圧が制御弁１１のパイロット室１５へ供給され
る。そして、ダイヤフラム１４に作用するパイロット圧
が圧縮コイルバネ１６のバネ力を超えると制御弁１１の
弁１２のスリット幅が拡大し、２次圧が設定圧に上昇す
るとパイロット弁２０が閉じ、２次圧が制御される。
ローディング回路の一例を示し、２次圧がパイロット弁
２０の設定圧以下に低下するとパイロット弁２０が開
き、パイロット弁２０を通じて１次側からより高圧のパ
イロット圧が制御弁１１のパイロット室１５へ供給され
る。そして、ダイヤフラム１４に作用するパイロット圧
が圧縮コイルバネ１６のバネ力を超えると制御弁１１の
弁１２のスリット幅が拡大し、２次圧が設定圧に上昇す
るとパイロット弁２０が閉じ、２次圧が制御される。
【００１３】また、図３のパイロット式の回路とは異な
り、制御弁１１のパイロット室１５に直接２次圧を導入
して制御弁単独の制御システムとしてもよい。この制御
システムにおいては、２次圧が圧縮コイルバネ１６に対
向してダイヤフラム１４を押圧することにより、スリッ
トＳR の幅が２次圧と圧縮コイルバネ１６のバネ力との
バランスによって変化し、２次圧の増減に応じて１次側
気体が２次側通路へ減圧して供給される。
り、制御弁１１のパイロット室１５に直接２次圧を導入
して制御弁単独の制御システムとしてもよい。この制御
システムにおいては、２次圧が圧縮コイルバネ１６に対
向してダイヤフラム１４を押圧することにより、スリッ
トＳR の幅が２次圧と圧縮コイルバネ１６のバネ力との
バランスによって変化し、２次圧の増減に応じて１次側
気体が２次側通路へ減圧して供給される。
【００１４】図４は、パイロット操作制御弁２１を示
し、弁２２は図３の制御弁１１と同様に環状円盤２３と
弾性体スペーサ２４、上部円盤２５との積層構造であ
り、上部円盤２５のステム２５ａは、気体通路とパイロ
ット室２６とを仕切る上部隔壁２７の穴を通じてパイロ
ット室２６内に突出し、ダイヤフラム２８及び調圧用圧
縮コイルバネ２９に接触している。
し、弁２２は図３の制御弁１１と同様に環状円盤２３と
弾性体スペーサ２４、上部円盤２５との積層構造であ
り、上部円盤２５のステム２５ａは、気体通路とパイロ
ット室２６とを仕切る上部隔壁２７の穴を通じてパイロ
ット室２６内に突出し、ダイヤフラム２８及び調圧用圧
縮コイルバネ２９に接触している。
【００１５】弁２２の上部円盤２５には表裏へ貫通する
孔２５ｂを設けて、上部円盤２５の上下両面に１次圧が
作用するように構成し、これにより、図３の制御弁１１
とは異なり、弁２２のスリット幅は１次圧の影響をうけ
ず、パイロット室２６に供給されるパイロット圧のみに
よって制御され、２次圧の制御精度が良好である。
孔２５ｂを設けて、上部円盤２５の上下両面に１次圧が
作用するように構成し、これにより、図３の制御弁１１
とは異なり、弁２２のスリット幅は１次圧の影響をうけ
ず、パイロット室２６に供給されるパイロット圧のみに
よって制御され、２次圧の制御精度が良好である。
【００１６】図５は、パイロット操作制御弁の他の実施
形態を示し、パイロット操作制御弁３１の弁３２は、中
心穴がない円盤３３と弾性体スペーサ３４の積層構造で
あり、バルブハウジング３５内の通路を１次側と２次側
とに仕切るスリーブ３６に弁３２を挿入してある。上部
円盤３３に連結したステム３３ａは、上部隔壁３７の穴
を通じてダイヤフラム３８及び圧縮コイルバネ３９に接
触している。
形態を示し、パイロット操作制御弁３１の弁３２は、中
心穴がない円盤３３と弾性体スペーサ３４の積層構造で
あり、バルブハウジング３５内の通路を１次側と２次側
とに仕切るスリーブ３６に弁３２を挿入してある。上部
円盤３３に連結したステム３３ａは、上部隔壁３７の穴
を通じてダイヤフラム３８及び圧縮コイルバネ３９に接
触している。
【００１７】図５及び図６に示すように、スリーブ３６
には１次側の側面と２次側の側面とに弁３２のスリット
ＳR に対応する水平方向のスリットＳ1 ，Ｓ2 が開設さ
れている。１次側高圧気体は、スリーブ３６の１次側ス
リットＳ1 から弁３２のスリットＳR に流入し、スリー
ブ３６の２次側スリットＳ2 から２次側管路へ排出され
る。圧力制御及び流量制御は、図４の制御弁２１と同様
に、パイロット室４０へ供給するパイロット圧により弁
３２のスリット幅を増減して行う。
には１次側の側面と２次側の側面とに弁３２のスリット
ＳR に対応する水平方向のスリットＳ1 ，Ｓ2 が開設さ
れている。１次側高圧気体は、スリーブ３６の１次側ス
リットＳ1 から弁３２のスリットＳR に流入し、スリー
ブ３６の２次側スリットＳ2 から２次側管路へ排出され
る。圧力制御及び流量制御は、図４の制御弁２１と同様
に、パイロット室４０へ供給するパイロット圧により弁
３２のスリット幅を増減して行う。
【００１８】尚、上述した各制御弁において弾性体スペ
ーサは図示した弾性ゴム製のものに限定するものではな
く、板バネやコイルバネ等を使用してもよく、いずれの
場合であっても上記の実施形態と同一の作用効果を得る
ことができる。
ーサは図示した弾性ゴム製のものに限定するものではな
く、板バネやコイルバネ等を使用してもよく、いずれの
場合であっても上記の実施形態と同一の作用効果を得る
ことができる。
【００１９】図７は、請求項２記載の制御弁４１を示
し、弁４２は上部ピストン部４３の下面に環状円盤４４
と、図８に示す座金形スペーサ４５とを交互に積層して
形成されている。このスリット幅固定のスプール形弁４
２は、バルブハウジング４６の１次側通路と２次側通路
とを仕切る下部隔壁４７のスプール挿通穴に挿入され、
上部ピストン部４３は上部隔壁４８の穴を通じてパイロ
ット室４９へ突出している。
し、弁４２は上部ピストン部４３の下面に環状円盤４４
と、図８に示す座金形スペーサ４５とを交互に積層して
形成されている。このスリット幅固定のスプール形弁４
２は、バルブハウジング４６の１次側通路と２次側通路
とを仕切る下部隔壁４７のスプール挿通穴に挿入され、
上部ピストン部４３は上部隔壁４８の穴を通じてパイロ
ット室４９へ突出している。
【００２０】図７に示すように、弁４２のステム４２ａ
は、図４及び図５の制御弁と同様にダイヤフラム５０及
び圧縮コイルバネ５１に連結され、１次側高圧気体は、
弁４２の中心孔ＣＨから周方向のスリットＳR を通じて
２次側通路へ供給される。弁４２は、パイロット室４９
へ供給されるパイロット圧と圧縮コイルバネ５１のバネ
力とのバランスに応じて昇降し、下部隔壁４７から２次
側通路に露出する弁４２のスリット開口面積をパイロッ
ト圧により増減して２次圧を制御する。
は、図４及び図５の制御弁と同様にダイヤフラム５０及
び圧縮コイルバネ５１に連結され、１次側高圧気体は、
弁４２の中心孔ＣＨから周方向のスリットＳR を通じて
２次側通路へ供給される。弁４２は、パイロット室４９
へ供給されるパイロット圧と圧縮コイルバネ５１のバネ
力とのバランスに応じて昇降し、下部隔壁４７から２次
側通路に露出する弁４２のスリット開口面積をパイロッ
ト圧により増減して２次圧を制御する。
【００２１】図９及び図１０は請求項２記載の制御弁の
他の実施形態を示し、この制御弁６１の弁６２は、底部
から上下中間部に達する中心穴ＣＨから外周面へ貫通す
る軸方向の縦スリットＳA を放射状に配列してある。弁
６２は、図７の制御弁４１と同様に、バルブハウジング
６３の下部隔壁６４のスプール挿通穴に挿入され、パイ
ロット室６５の圧力に応じて弁６２が上下にスライド
し、下部隔壁６４から２次側通路に露出する弁６２のス
リット面積を増減して２次圧を制御する。
他の実施形態を示し、この制御弁６１の弁６２は、底部
から上下中間部に達する中心穴ＣＨから外周面へ貫通す
る軸方向の縦スリットＳA を放射状に配列してある。弁
６２は、図７の制御弁４１と同様に、バルブハウジング
６３の下部隔壁６４のスプール挿通穴に挿入され、パイ
ロット室６５の圧力に応じて弁６２が上下にスライド
し、下部隔壁６４から２次側通路に露出する弁６２のス
リット面積を増減して２次圧を制御する。
【００２２】図１１は更に他の実施形態を示し、制御弁
７１の弁７２は、環状傾斜円盤７３とスペーサ７４を積
層したものであり、弁７２の軸心に対してスリットＳD
が傾斜しており、弁７２のスライドに伴って２次側通路
に露出するスリット面積が無段階に増減するので、２次
圧制御の円滑性が向上する利点がある。
７１の弁７２は、環状傾斜円盤７３とスペーサ７４を積
層したものであり、弁７２の軸心に対してスリットＳD
が傾斜しており、弁７２のスライドに伴って２次側通路
に露出するスリット面積が無段階に増減するので、２次
圧制御の円滑性が向上する利点がある。
【００２３】また、図示は省略するが、環状円盤を波形
に形成して波形スリットの弁を形成してもよく、波形ス
リット弁も図１１の制御弁７１と同様にスリット面積を
無段階に変化させることができる。
に形成して波形スリットの弁を形成してもよく、波形ス
リット弁も図１１の制御弁７１と同様にスリット面積を
無段階に変化させることができる。
【００２４】尚、この発明は上記の実施形態に限定する
ものではなく、例えば、弁を電磁式或いは空気圧アクチ
ュエータ等によって直接駆動するなど、この発明の技術
的範囲内において種々の改変が可能であり、この発明が
それらの改変されたものに及ぶことは当然である。
ものではなく、例えば、弁を電磁式或いは空気圧アクチ
ュエータ等によって直接駆動するなど、この発明の技術
的範囲内において種々の改変が可能であり、この発明が
それらの改変されたものに及ぶことは当然である。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の制御弁
は、１次側高圧気体を弁のスリットを通じて２次側流路
へ層流状態で排出するので、乱流や渦流の発生が抑制さ
れ、高圧空気やガス等の気体回路で生じる騒音を著しく
低減することができる。
は、１次側高圧気体を弁のスリットを通じて２次側流路
へ層流状態で排出するので、乱流や渦流の発生が抑制さ
れ、高圧空気やガス等の気体回路で生じる騒音を著しく
低減することができる。
【図１】請求項１記載の発明の実施形態を示し、手動操
作制御弁の断面図。
作制御弁の断面図。
【図２】図１の弁の水平断面図。
【図３】請求項１記載の発明の実施形態を示し、バネオ
フセット制御弁を用いたパイロット式圧力制御回路図。
フセット制御弁を用いたパイロット式圧力制御回路図。
【図４】請求項１記載の発明の実施形態を示し、パイロ
ット操作制御弁の断面図。
ット操作制御弁の断面図。
【図５】請求項１記載の発明の実施形態を示し、パイロ
ット操作制御弁の断面図。
ット操作制御弁の断面図。
【図６】図５の弁の水平断面図。
【図７】請求項２記載の発明の実施形態を示し、パイロ
ット操作制御弁の断面図。
ット操作制御弁の断面図。
【図８】図７の弁の水平断面図。
【図９】請求項２記載の発明の他の実施形態を示し、パ
イロット操作制御弁の断面図。
イロット操作制御弁の断面図。
【図１０】図９の弁の底面図。
【図１１】請求項２記載の発明の実施形態を示し、パイ
ロット操作制御弁の断面図。
ロット操作制御弁の断面図。
１ 手動操作制御弁 ３ 弁 ４ 環状円盤 ５ 弾性体スペーサ ６ 上部円盤 １１ バネオフセット制御弁 １２ 弁 １７ 上部円盤 １８ 環状円盤 １９ 弾性体スペーサ ２１ パイロット操作制御弁 ２２ 弁 ２３ 環状円盤 ２４ 弾性体スペーサ ２５ 上部円盤 ３１ パイロット操作制御弁 ３２ 弁 ３３ 円盤 ３４ 弾性体スペーサ ４１ パイロット操作制御弁 ４２ 弁 ４３ 上部ピストン部 ４４ 環状円盤 ４５ 弾性体スペーサ ４７ 下部隔壁 ６１ パイロット操作制御弁 ６２ 弁 ６４ 下部隔壁 ７１ パイロット操作制御弁 ７２ 弁 ７３ 傾斜円盤 ＳR 周方向スリット ＳA 軸方向スリット ＳD 傾斜スリット
フロントページの続き (72)発明者 村山 勝彦 東京都中央区日本橋箱崎町６番６号 マッ クス株式会社内 (72)発明者 内藤 恭裕 東京都中央区日本橋箱崎町６番６号 マッ クス株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 複数のプレートと弾性体スペーサを交互
に積層して前記プレート間に通気スリットを形成した弁
と、前記弁に圧縮圧力を加えて弾性体スペーサの圧縮量
によりスリット幅を調節する調整手段とからなり、１次
側圧力気体を前記スリットを通じて２次側へ供給し、且
つ、調整手段により２次圧或いは流量を制御する制御
弁。 - 【請求項２】 一端を閉鎖した筒形のスプールに内部空
間から外周面へ貫通する周方向の複数のスリットまたは
軸方向のスリットを設け、１次側通路と２次側通路との
隔壁にスプール挿通孔を設けて、前記スプールをスライ
ド自在に挿通し、前記スプールのスライド位置によりス
プールの閉鎖端部と隔壁との間のスリット開口面積を調
節する調整手段を設け、１次側圧力気体を前記スリット
を通じて２次側へ供給し、且つ、前記調整手段により２
次圧或いは流量を制御する制御弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32322396A JP3573581B2 (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | 制御弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32322396A JP3573581B2 (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | 制御弁 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10169792A true JPH10169792A (ja) | 1998-06-26 |
| JP3573581B2 JP3573581B2 (ja) | 2004-10-06 |
Family
ID=18152403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32322396A Expired - Lifetime JP3573581B2 (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | 制御弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3573581B2 (ja) |
Cited By (8)
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