JPH10163257A - 半田リフロー装置および方法 - Google Patents

半田リフロー装置および方法

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JPH10163257A
JPH10163257A JP32028996A JP32028996A JPH10163257A JP H10163257 A JPH10163257 A JP H10163257A JP 32028996 A JP32028996 A JP 32028996A JP 32028996 A JP32028996 A JP 32028996A JP H10163257 A JPH10163257 A JP H10163257A
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solder
optical system
light source
irradiation
irradiation optical
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JP32028996A
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Hideaki Honda
英昭 本田
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Original Assignee
Toshiba Corp
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    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
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    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
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    • H01L2224/75253Means for applying energy, e.g. heating means adapted for localised heating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
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    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K3/3494Heating methods for reflowing of solder

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 BGAパッケージの半田ボールなどを集中的
かつ均一に加熱することができる半田リフロー装置を提
供する。 【解決手段】 電子部品1の電極2上に載置された複数
の半田ボール3をリフローさせる半田リフロー装置であ
って、第1の光源11aを有し、第1の光源からの光を
前記半田ボールを加熱するように第1の方向から前記半
田ボールへ照射する第1の照射光学系11と、第2の光
源12aを有し、第2の光源からの光を前記半田ボール
を加熱するように第1の方向とは異なった第2の方向か
ら半田ボールへ照射する第2の照射光学系12とを具備
する。半田ボール3は、第1の照射光学系11および第
2の照射光学系12によりそのオーバーハング部分も照
射されることにより融点より高い温度に加熱されて半田
層3bが溶融し、溶融後再固化することにより半田ボー
ル3と電子部品1の電極2との電気的、機械的接続が確
立する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半田のリフロー装置
およびその方法に関し、特に光照射加熱方式で行う半田
のリフローおよびその方法に関する。また本発明は特に
BGAパッケージ等の半田ボールのリフローや、搭載部
品による影が生じやすい半田のリフロー装置およびその
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半田リフローは電子部品などの被半田付
け部にあらかじめ仮設された半田を溶融させるものであ
り、例えば半導体素子あるいは半導体パッケージなどの
電極上に載置された半田ボールを溶融させて、半田ボー
ルを電極上に固定するものである。近年では、BGA
(Ball Grid Array)パッケージ等に半
田ボールを形成する際にも多用されている。
【0003】半田リフローには、加熱の熱源や、加熱の
方法によりいくつかの手法がある。赤外線ヒーター又は
熱風を用いて半田を溶融させる半田リフロー炉は、いず
れの場合も熱源となるヒーターが大型となり、また、安
定した炉内温度を保つために炉の周囲を断熱保温する必
要があることから、装置が大型となるという問題があ
る。図32は遠赤外ヒーターを用いた半田リフロー炉の
構成の1例を概略的に示す図である。このような装置で
は大型のヒーターと断熱保温材が必要となるために装置
が大型になるという問題がある。
【0004】金属加熱板を用いた熱板方式の半田リフロ
ー装置は比較的小型であるが、均一なリフローを行うた
めには熱板の平坦性と被半田付け部品の平坦性が必要
で、熱板や被半田付け部品にわずかでも凹凸や反りがあ
ると熱伝導効率が著しく損なわれ、安定性に欠けるとい
う問題がある。図33は熱板方式を用いた半田リフロー
装置の1例を模式的に示す図である。熱板と電子部品を
面で対接させての半田ボールをリフローさせようとする
と、電子部品パッケージなどの反りなどにより、わずか
なスキ間が生じても熱伝導にが大きく影響を受けてしま
うため、均一な条件でのリフローを行うことは困難であ
り、このことは電子部品と半田ボールの接続の信頼性の
低下の大きな原因となる。
【0005】被半田付け部に高温のエア−又はN2 等の
ガスを吹き付けるHOT AIR(HOT GAS)方
式は、被半田付け部品の形状によってエアーの流れが影
響を受けるため、安定した半田のリフローが困難である
という問題がある。装置を大型にすれば安定性は向上す
るが、安定な加熱雰囲気を確保するために断熱保温材な
どを必要とし、この場合大きな設置面積を必要とするた
め生産性が低下するという問題がある。
【0006】ハロゲンランプを光源とし、その光を上方
から照射して加熱する方式は半田ボール自身の影やその
他搭載部品の形状によって影を生じ、影になった部分の
加熱効率が低下するために、安定した半田のリフローが
困難であるという問題がある。光源としてレーザー光を
用いるレーザー光線照射加熱方式も同様の問題点を有す
る。
【0007】図34は光照射方式を用いた半田リフロー
装置の構成の1例を模式的に示す図である。図35は、
照射された半田ボールを拡大して模式的に示す図であ
る。例えば概球形状を有する半田ボール903を光照射
により加熱する場合、光の照射方向が1方向の場合には
影の部分が生じ、この半田ボール自身の影になった半田
ボールのオーバーハング部分は昇温効率が低下すること
になる。さらに電子部品901の電極上に仮設された半
田ボールの垂直上方から光を照射して半田ボールを加熱
した場合、電子部品の電極と半田ボールの接点の部分
は、照射により生じる影の部分の中心になりリフローが
不完全になり接続不良が生じる恐れもある。
【0008】また例えばBGAのように多数の半田ボー
ルをリフローする場合には、このような昇温効率の低下
は、生産性の観点からも大きな問題となる。
【0009】これらの半田リフロー装置、方法では、い
ずれの場合も半田付けする部分のみならず被半田付け部
品全体の温度を上昇させてしまうため、耐熱性の低い電
子部品などは劣化してしまうという問題がある。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような問
題点を解決するためになされたものである。すなわち本
発明は被半田付け部分を集中的かつ均一に加熱すること
ができる半田リフロー装置を提供することを目的とす
る。特に、BGAパッケージの半田ボール形成時など、
影の出やすいリフロー対象についても、その被半田付け
部分を集中的かつ均一に加熱することができる半田リフ
ロー装置を提供することを目的とする。
【0011】また本発明は、被半田付け部分を集中的か
つ均一に加熱することができるとともに、小型で熱効率
のよい半田リフロー装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の半田リフロー装
置は、電子部品の電極上に載置された複数の半田ボール
をリフローさせる半田リフロー装置であって、第1の光
源を有し、第1の光源からの光を前記半田ボールを加熱
するように第1の方向から前記半田ボールへ照射する第
1の照射光学系と、第2の光源を有し、第2の光源から
の光を前記半田ボールを加熱するように第1の方向とは
異なった第2の方向から前記半田ボールへ照射する第2
の照射光学系とを具備したことを特徴とする。光源は点
状の光源を用いるようにしてもよいし、線状の光源を用
いるようにしてもよい。また照射光学系には、照射する
光の焦点を調節する焦点調節手段と、照射する光の方向
を調節する照射方向調節手段とを備えるようにすればよ
い。焦点は点状の領域に限らず、線状の領域に焦点を結
ぶようにしてもよい。また、第2の照射光学系は1個に
限ることなく、第1の照射光学系とは異なる複数の異な
る方向から半田ボールを照射するようにしてもよい。こ
れらのことについては以下特に述べない場合でも同様で
ある。
【0013】また本発明の半田リフロー装置は、電子部
品の電極上に載置された複数の半田ボールをリフローさ
せる半田リフロー装置であって、第1の光源を有し、第
1の光源からの光を前記半田ボールを加熱するように前
記半田ボールへ照射する第1の照射光学系と、第2の光
源を有し、第1の照射光学系による照射により生じる前
記半田ボールの影の部分が加熱されるように、第2の光
源からの光を前記半田ボールへ照射する第2の照射光学
系とを具備したことを特徴とする。
【0014】また、本発明の半田リフロー装置は、アレ
イ状に形成された電子部品の電極上に載置された複数の
半田ボールをリフローさせる半田リフロー装置であっ
て、第1の光源を有し、複数の前記半田ボールを同時に
加熱するように、第1の光源からの光を複数の前記半田
ボールを含む直線状の領域へ照射する第1の照射光学系
と、第2の光源を有し、第1の照射光学系による照射に
より生じる前記半田ボールの影の部分が加熱されるよう
に、第2の光源からの光を前記直線状の領域へ照射する
第2の照射光学系とを具備したことを特徴とする。例え
ば、線状の焦点を与える照射光学系を用いて、BGAパ
ッケージの電極上に行列状に載置された半田ボールを、
1ライン毎にリフローするようにしてもよい。
【0015】また本発明の半田リフロー装置では、第1
の照射光学系と第2の照射光学系により、同時に同一の
焦点を照射するようにしてもよい。ここで同一の焦点と
は、半田ボールの同一の部分を照射することを必ずしも
意味せず、例えば電子部品の電極とこの電極上に載置さ
れた半田ボールの接点を焦点として照射する場合を含
む。この場合、第1の照射光学系と第2の照射光学系と
の焦点は同じになるが、第1の照射光学系と第2の照射
光学系とにより同一の半田ボールの異なる部分が照射さ
れることになる。
【0016】また本発明の半田リフロー装置において
は、前記電子部品の電極上に載置されたすべての前記半
田ボールがリフローするように前記電子部品を第1の照
射光学系および第2の照射光学系に対して移動する電子
部品移動手段をさらに具備するようにしてもよい。例え
ば半田ボールを1個ずつリフローする場合には、電子部
品上に載置されたすべての半田ボールが第1の照射光学
系と第2の照射光学系とによりリフローされるように、
電子部品と照射光学系との相対的位置関係を変えるよう
にすればよい。照明光学系を固定して、電子部品の位置
を変えるようにしてもよいし、電子部品の位置を固定し
て照明光学系の位置を変えるようにしてもよいが、生産
性の観点からは前者の方がより好適である。
【0017】また、半田ボールを1ラインごとにリフロ
ーする場合にも、電子部品上に載置されたすべての半田
ボールが第1の照射光学系と第2の照射光学系とにより
リフローされるように、電子部品と照射光学系との位置
関係を変えるようにすればよい。
【0018】さらに、本発明の半田リフロー装置におい
ては、第1の照射光学系と第2の照射光学系とにより別
々の焦点を照射して、第1の照射光学系により半田ボー
ルを加熱したあと電子部品を再配置して、この半田ボー
ルを第2の照射光学系により加熱して半田をリフローさ
せるようにしてもよい。すなわち、本発明の半田リフロ
ー装置は、電子部品の電極上に載置された半田ボールを
リフローさせる半田リフロー装置であって、第1の光源
を有し、第1の光源からの光を第1の焦点に照射する第
1の照射光学系と、第2の光源を有し、第2の光源から
の光を第1の焦点とは異なる第2の焦点に照射する第2
の照射光学系と、第1の照射光学系による照射により前
記半田ボールが加熱されるように第1の照明光学系に対
して前記電子部品を配置するとともに、前記半田ボール
の第1の照射光学系による照射により影になった部分が
第2の照射光学系により加熱されるように第2の照射光
学系に対して前記電子部品を再配置する電子部品移動手
段とを具備したことを特徴とする。
【0019】また本発明の半田リフロー装置は、アレイ
状に形成された電子部品の電極上に載置された複数の半
田ボールをリフローさせる半田リフロー装置であって、
第1の光源を有し、第1の光源からの光を直線状の第1
の領域へ照射する第1の照射光学系と、第2の光源を有
し、第2の光源からの光を直線状の第2の領域へ照射す
る第2の照射光学系と、第1の照射光学系による照射に
より直線状に配列した複数の前記半田ボールが同時に加
熱されるように前記電子部品を配置するとともに、前記
複数の半田ボールの第1の照射光学系による照射により
影になった部分が第2の照射光学系により同時に加熱さ
れるように前記電子部品を再配置する電子部品移動手段
とを具備したことを特徴とする。
【0020】本発明の半田リフロー装置の第1の照射光
学系および第2の照射光学系は、前記半田ボールと前記
電極との接点に焦点を結ぶように前記半田ボールを照射
するようにしてもよい 本発明の半田リフロー装置の第1の光源および第2の光
源としては、例えばハロゲンランプを用いるようにして
もよい。また本発明の半田リフロー装置の第1の光源お
よび第2の光源としてはレーザー光源を用いるようにし
てもよい。
【0021】本発明の半田リフロー装置は、第1の照射
光学系および第2の照射光学系による加熱により前記半
田ボールがリフローするまでの時間が短縮されるよう
に、前記半田ボールを予熱する予熱手段をさらに具備す
るようにしてもよい。予熱手段は、第1の照射光学系ま
たは第2の照射光学系により照射する以前に半田がリフ
ローしないような温度で予熱するようにしてもよいし、
第1の照射光学系または第2の照射光学系により半田ボ
ールを照射する際にも予備的な加熱手段として半田ボー
ルを加熱するようにしてもよい。予熱の温度は、電子部
品の機能が劣化したりしないような温度より低い温度に
設定するようにすればよい。
【0022】予熱手段は、例えば加熱したプレート上に
電子部品を載置して予熱するようにしてもよいし、後述
するように加熱したフォーミングガスを導入して半田ボ
ールを予熱するようにしてもよく、さらに複数の予熱手
段を組み合わせ用いるようにしてもよい。
【0023】また、半田ボールを第1の照射光学系、第
2の照射光学系により照射して加熱するとき、あるいは
予熱するときに、電子部品の電極、半田ボールなどが酸
化されないように、前記電子部品の周囲を非酸化雰囲気
または還元性雰囲気に保つためのフォーミングガス導入
手段をさらに具備するようにしてもよい。フォーミング
ガスとしては例えば窒素ガスや希ガスのような不活性な
ガス、また水素ガスのような還元性のガス、あるいはこ
れらの混合ガスを用いるようにすればよい。
【0024】さらに、前述のように、このようなフォー
ミングガスを半田ボールの予熱手段と兼ねるようにして
もよい。すなわち、電子部品の周囲が非酸化雰囲気また
は還元性雰囲気に保たれるように導入するフォーミング
ガスとして、加熱したフォーミングガスを導入するよう
にしてもよい。
【0025】本発明の半田リフロー方法は、電子部品の
電極上に載置された複数の半田ボールをリフローさせる
半田リフロー方法であって、第1の方向から第1の光源
光を照射して前記半田ボールを加熱するとともに、第2
の方向から第2の光源光を照射して、第1の方向から照
射することにより生じる前記半田ボールの影の部分を加
熱することを特徴とする。
【0026】また本発明の半田リフロー方法は、電子部
品の電極上に載置された複数の半田ボールをリフローさ
せる半田リフロー装置であって、第1の方向から第1の
光源光を照射して前記半田ボールを加熱するとともに、
第1の方向とは異なる第2の方向から第2の光源光を照
射することを特徴とする。
【0027】本発明の半田リフロー方法は、アレイ状に
形成された電子部品の電極上に載置された複数の半田ボ
ールをリフローさせる半田リフロー方法であって、第1
の光源からの光を複数の前記半田ボールを含む直線状の
領域へ照射する第1の照射工程と、第1の照射光学系に
よる照射により生じる前記半田ボールの影の部分が加熱
されるように、第2の光源からの光を前記直線状の領域
へ照射する第2の照射工程とを具備したことを特徴とす
る。
【0028】本発明の半田リフロー方法では、第1の照
射工程と第2の照射工程で、同時に同一の焦点を照射す
るようにしてもよい。ここで同一の焦点とは、前述のよ
うに半田ボールの同一の部分を照射することを必ずしも
意味せず、例えば電子部品の電極とこの電極上に載置さ
れた半田ボールの接点を焦点として照射する場合を含
む。この場合、第1の照射光学系と第2の照射光学系と
の焦点は同じになるが、第1の照射光学系と第2の照射
光学系とにより同一の半田ボールの異なる部分が照射さ
れることになる。
【0029】また、前記電子部品の電極上に載置された
すべての前記半田ボールがリフローされるように第1の
照射光学系および第2の照射光学系に対して前記電子部
品を移動する電子部品移動工程をさらに具備するように
してもよい。
【0030】例えば半田ボールを1個ずつリフローする
場合には、電子部品上に載置されたすべての半田ボール
が第1の照射光学系と第2の照射光学系とによりリフロ
ーされるように、電子部品と照射光学系との相対的位置
関係を変えるようにすればよい。照明光学系を固定し
て、電子部品の位置を変えるようにしてもよいし、電子
部品の位置を固定して照明光学系の位置を変えるように
してもよいが、生産性の観点からは前者の方がより好適
である。
【0031】また、半田ボールを1ラインごとにリフロ
ーする場合にも、電子部品上に載置されたすべての半田
ボールが第1の照射光学系と第2の照射光学系とにより
リフローされるように、電子部品と照射光学系との位置
関係を変えるようにすればよい。
【0032】さらに、本発明の半田リフロー装置におい
ては、第1の照射光学系と第2の照射光学系とにより別
々の焦点を照射して、第1の照射光学系により半田ボー
ルを加熱したあと電子部品を再配置して、この半田ボー
ルを第2の照射光学系により加熱して半田をリフローさ
せるようにしてもよい。
【0033】照射光学系と電子部品との位置関係は、照
射光学系に対して電子部品の位置を同一平面内で平行移
動、回転移動させるだけでなく、電子部品に対する照射
光学系の照射角度が変化するように電子部品ののってい
る平面を回転させるようにしてもよい。
【0034】本発明の半田リフロー方法は、電子部品の
電極上に載置された複数の半田ボールをリフローさせる
半田リフロー方法であって、第1の光源を有し、第1の
光源からの光を第1の焦点に照射する第1の照射光学系
により前記半田ボールが加熱されるように前記電子部品
を配置する工程と、第1の照射光学系により前記複数の
前記半田ボールを加熱する工程と、前記半田ボールの第
1の照射光学系による照射により影になった部分が、第
2の光源を有し、第2の光源からの光を第1の焦点とは
異なる第2の焦点に照射する第2の照射光学系により加
熱されるように前記電子部品を再配置する工程と、第2
の照射光学系により前記複数の前記半田ボールを加熱す
る工程とを具備したことを特徴とする。
【0035】また本発明の半田リフロー方法は、アレイ
状に形成された電子部品の電極上に載置された複数の半
田ボールをリフローさせる半田リフロー方法であって、
第1の光源からの光を直線状の第1の領域へ照射する第
1の照射光学系により、直線状に配列した複数の前記半
田ボールが同時に加熱されるように前記電子部品を配置
する工程と、第1の照射光学系により前記複数の前記半
田ボールを加熱する工程と、前記複数の半田ボールの第
1の照射光学系による照射により影になった部分が、第
2の光源からの光を直線状の第2の領域へ照射する第2
の照射光学系により同時に加熱されるように前記電子部
品を再配置する工程と、第2の照射光学系により前記複
数の前記半田ボールを加熱する工程とを具備したことを
特徴とする。
【0036】また本発明の半田リフロー方法は、電子部
品の電極上に載置された半田ボールをリフローさせる半
田リフロー方法であって、前記半田ボールを予熱する工
程と、第1の方向から第1の光源光を照射して前記半田
ボールを加熱するとともに、第2の方向から第2の光源
光を照射して、第1の方向から照射することにより生じ
る前記半田ボールの影の部分を加熱することを特徴とす
る。
【0037】また本発明の半田リフロー方法は、電子部
品の電極上に載置された半田ボールをリフローさせる半
田リフロー方法であって、前記電子部品の周囲が非酸化
雰囲気または還元性雰囲気に保たれるようにフォーミン
グガスを導入する工程と、前記フォーミングガスを導入
しながら、第1の方向から第1の光源光を照射して前記
半田ボールを加熱するとともに、第2の方向から第2の
光源光を照射して、第1の方向から照射することにより
生じる前記半田ボールの影の部分を加熱することを特徴
とする。
【0038】すなわち本発明の半田リフロー装置は、複
数の照射光学系を有し、複数の異なる方向から半田ボー
ルを照射することにより半田ボールを加熱して半田をリ
フローさせるものである。複数の異なる方向から照射す
ることにより、例えば半田ボールのような概球形状を有
する照射対象物体を照射して加熱する場合でも、影にな
る部分が減少してより均一にかつ効率的に加熱すること
ができる。また、照射光学系により焦点、照射方向を調
節することにより半田ボールが集中的に加熱されるか
ら、加熱炉や熱風などによるリフローに比べて、電子部
品への悪影響を低減することができる。
【0039】半田ボールは、例えばCuなどからなるコ
アの表層に例えばPb/Sn系などの低融点金属層をメ
ッキなどにより形成したものであり、本発明はこの半田
ボールを加熱して半田を溶融させることにより半田のリ
フローを行うものである。コア材はCuに限ることはな
く、また半田もPb/Sn系半田合金に限ることなく、
必要に応じて種々用いることができる。半田としてはA
g、In、Sn、Biなどからなる無鉛半田を用いるよ
うにしてもよい。また半田は合金に限ることなく単一の
低融点金属を用いるようにしてもよい。
【0040】例えば概球形状を有する半田ボールを光照
射により加熱する場合、光の照射方向が1方向である場
合には影の部分が生じ、この半田ボール自身の影になる
半田ボールのオーバーハング部分は昇温効率が低下する
ことになる。また、電子部品の電極上に仮設された半田
ボールの垂直上方から光を照射して半田ボールを加熱し
た場合、電子部品の電極と半田ボールの接点の部分は、
照射により生じる影の部分の中心になりリフローが不完
全になり接続不良が生じる恐れもある。また例えばBG
Aのように多数の半田ボールをリフローする場合には、
このような昇温効率の低下は生産性の点からも大きな問
題となる。
【0041】本発明の半田リフロー装置および方法は、
複数の異なる方向から半田ボールを照射することによ
り、1方向からの照射により生じる半田ボールのその半
田ボール自身により生ずる影の部分も照射することがで
き、半田ボールの昇温効率が向上する。また、半田ボー
ルはより均一に加熱されるのでリフローもより均一なも
のになり、電子部品と半田ボールの接続の信頼性も向上
する。照射光学系による半田ボールの加熱温度、加熱時
間は半田ボールを構成する半田層の融点、半田ボールの
熱容量、半田をリフローして半田ボールを固設する電子
部品の耐熱温度などにより定めるようにすればよい。半
田が溶融する温度よりも50℃程度高い温度まで加熱す
れば、半田を十分にリフローすることができる。 本発
明の半田リフローは、複数の照射光学系を備え、この照
射光学系により半田ボールを複数の異なる方向から照射
することにより加熱してリフローさせるものであるが、
複数の照明光学系により同時に半田ボールを照射して加
熱するようにしてもよいし、複数の照明光学系により多
段階に半田ボールを照射して加熱するようにしてもよ
い。
【0042】また、本発明の半田のリフローは、同時照
射によりリフローさせる場合であっても、複数段階に照
射してリフローさせる場合であっても、第1の照射光学
系と第2の照射光学系とにより電子部品上に仮設された
複数の半田ボールを1個ずつ照射してリフローさせるよ
うにしてもよいし、また、第1の照射光学系と第2の照
射光学系とによりアレイ状に配置された半田ボールを1
ラインずつ照射してリフローさせるようにしてもよい。
【0043】ここではまず、複数の照明光学系により同
時に半田ボールを照射して加熱する場合について説明す
る。
【0044】複数の照明光学系により半田ボールを同時
照射して加熱し、半田をリフローさせる場合には、少な
くとも2個の照明光学系により半田ボールが均一に加熱
されるように照射する。すなわち、第1の光学系と第2
の光学系とにより半田ボールに生じる影の部分が最小に
なるように照射するようにすればよい。第1の照明光学
系と第2の照明光学系とによる照射方向(向きと角度)
は、第1の照射光学系により半田ボールを照射したとき
半田ボールに生じる影の部分が第2の照射光学系により
照射されるように設定するようにすればよい。したがっ
て、最小の照明光学系により半田ボールに生じる影の部
分が最小になるようにするには、複数の照明光学系の照
射方向が半田ボールに対してほぼ対称的になるように配
置することが好適である。例えば照明光学系が2個のと
き(第1の照射光学系と第2の照射光学系は1個ずつの
とき)、第1の光学系により半田ボールを所定の方位か
ら、半田ボールが仮設された平面に対して45°の照射
角度で照射したとすると、第2の光学系による半田ボー
ルの照射方向は、半田ボールを中心に第1の光学系と対
向するような方位で(光軸は実質的に同一平面上にあ
る)、かつ半田ボールが仮設された平面に対して45°
の照射角度で照射するようにしてもよい。
【0045】照明光学系が3個ある場合には照射する半
田ボールを対称中心にして、3個の照射光学系をほぼ3
回対称になるように配置するようにしてもよいし、2個
の照射光学系を上述のようにほぼ2回対称になるように
配置するとともに、照射する半田ボールの真上方向から
も照射するようにしてもよい。1個の半田ボールを同時
に照射して加熱する照射光学系を4個以上用いるように
してもよく、その照射方向は前述同様に、照射される半
田ボールができるだけ均一に加熱されるように設定する
ようにすればよい。
【0046】照射方向すなわち照射の方位および角度
は、半田ボールの大きさ、配設ピッチなどに応じて定め
るようにすればよく、例えば隣接する半田ボールの影が
照射対象の半田ボールにかからないようにすることが好
適である。
【0047】前述のように本発明の半田のリフローは、
アレイ状に配置された複数の半田ボール1ラインずつ照
射してリフローするようにしてもよい。例えば直線上の
焦点を結ぶような照射光学系を用いることにより、BG
Aなどのアレイ状に配設された半田ボールを1ラインず
つリフローさせる場合には、照射方向はリフローさせる
半田ボールが並んだラインに対して垂直な方向から所定
の照射角度で照射するようにすればよい。すなわち、直
線上の焦点を結ぶような第1の光学系と第2の光学系と
を用いて半田ボールを照射加熱する場合してもよいし、
また、リフローさせる半田ボールが並んだラインの垂直
上方からの照射をあわせて用いるようにしてもよい。こ
の場合でも、第1の照射光学系と第2の照射光学系とに
より照射する半田ボールに生じる影の部分が最小になる
ように照射するようにすればよい。
【0048】つぎに、第1の照射光学系と第2の照射光
学系とにより半田ボールを多段階に加熱する場合につい
て説明する。
【0049】すなわち、例えば1個の照射光学系により
1個の半田ボールをリフローさせるときには、第1の照
射光学系により第1の半田ボールを照射加熱し、第2の
照射光学系により第2の半田ボールを照射加熱する。ま
た例えば1個の照射光学系により複数の半田ボールをラ
インごと照射加熱させるときには、第1の照射光学系に
より第1のラインを照射加熱し、第2の照射光学系によ
り第2のラインを照射加熱する。したがって、第1の照
射光学系と第2の照射光学系とにより同一の半田ボール
または同一ライン上の複数の半田ボールを照射加熱して
リフローする場合とは異なり、1個の半田ボールは、第
1の照射光学系と第2の光学系とにより若干の時間差を
おいて異なる部分を照射、加熱されることになる。
【0050】まず、半田ボールは第1の照射光学系によ
り照射されるが、このとき、この半田ボールの影の部分
は十分加熱されない。そして、第2の光学系により第1
の光学系による照射によって生じた半田ボールのそれ自
身の影の部分を照射加熱することにより半田をリフロー
するのである。この場合、第1の照射光学系による加熱
された半田ボールの温度が冷めないうちに第2の照射光
学系により加熱するようにすればよい。第1の照射光学
系による加熱時間、第2の照射光学系による加熱時間、
第1の照射光学系による照射と第2の照射光学系による
照射の間隔は、半田の融点、半田ボールの熱容量などに
より設定するようにすればよい。第1の照射光学系によ
る照射と第2の照射光学系による照射の間隔はできるだ
け短い方が好適である。
【0051】このように第1の照射光学系と第2の照射
光学系とにより同一の半田ボールを多段階に照射加熱し
て最終的に半田をリフローさせるには、第1の照射光学
系の焦点近傍に配置して照射、加熱した半田ボールを、
第2の照射光学系の焦点近傍で照射、加熱されるように
移動して再配置する必要がある。そして、照射光学系と
半田ボールとの相対的位置関係を、電子部品上に載置さ
れたすべての半田ボールがリフローされるように移動す
るようにすればよい。このような照射光学系と半田ボー
ルとの相対的位置関係を変えるには、原則として第1の
照射光学系と第2の照射光学系とを固定して電子部品を
動かすようにしてもよいし、また電子部品を固定して第
1の照射光学系と第2の照射光学系とを動かすようにし
てもよいが、生産性向上の観点からは前者の方が好適で
ある。
【0052】例えば、第1の光源を有する第1の照射光
学系により第1の焦点を照射し、第2の光源を有する第
2の照射光学系により第1の焦点とは異なる第2の焦点
を照射するとともに、まず第1の照射光学系による照射
により半田ボールが加熱されるように第1の照明光学系
に対して電子部品を配置し、ついで、半田ボールの第1
の照射光学系により照射したとき影になった部分が第2
の照射光学系により加熱されるように第2の照射光学系
に対して電子部品を再配置するようにすればよい。
【0053】また、ラインごとに複数の半田ボールを加
熱する場合には、例えば、第1の光源を有する第1の照
射光学系により第1の光源からの光を直線状の第1の領
域へ照射し、第2の光源を有する第2の照射光学系によ
り、第2の光源からの光を直線状の第2の領域へ照射す
るとともに、まず第1の照射光学系による照射により直
線状に配列した複数の半田ボールが同時に加熱されるよ
うに電子部品を配置し、ついで複数の半田ボールの第1
の照射光学系により照射したとき影になった部分が第2
の照射光学系により同時に加熱されるように電子部品を
再配置するようにすればよい。
【0054】このように本発明の半田リフロー装置およ
び方法によれば、第1の照射光学系と第2の照射光学系
とにより異なる方向から照射することにより、被半田付
け部分が集中的かつ均一に加熱される。したがって、温
度ムラの少ない安定した半田のリフローを行うことがで
きる。特に、BGAパッケージの半田ボール形成時な
ど、影の出やすい半田リフロー対象についても、第1の
照射光学系と第2の照射光学系とにより異なる方向から
照射することにより、被半田付け部分が集中的かつ均一
に加熱される。
【0055】半田ボールは複数の照射光学系による照射
により均一に加熱されるから、リフローによる接続の信
頼性が向上する。
【0056】また、照射光学系の焦点を調節することに
よりリフロー対象部分のみが加熱され、したがって電子
部品の温度上昇を抑制することができる。
【0057】また本発明の半田リフロー装置は、照射光
学系により半田ボールの照射を行うので、小型で熱効率
がよく、大型の加熱炉を用いる必要がない。
【0058】
【発明の実施の形態】以下に本発明についてさらに詳細
に説明する。
【0059】(実施形態1)図1は本発明の半田リフロ
ー装置の構成の1例を概略的に示す図であり、図2は照
射される半田ボールの部分を拡大して模式的に示す図で
ある。
【0060】この半田リフロー装置は、電子部品1の電
極2上に載置された複数の半田ボール3をリフローさせ
る半田リフロー装置であって、第1の光源11aを有
し、第1の光源からの光を前記半田ボールを加熱するよ
うに第1の方向から前記半田ボールへ照射する第1の照
射光学系11と、第2の光源12aを有し、第2の光源
からの光を前記半田ボールを加熱するように第1の方向
とは異なった第2の方向から半田ボールへ照射する第2
の照射光学系12とを具備したものである。
【0061】図1に例示した半田リフロー装置では、第
1の光源11aおよび第2の光源12aにはハロゲンラ
ンプを用いており、光源光はリフレクタ11b、12b
によりそれぞれ反射、集光されて所定の半田ボール3を
照射する。第1の照射光学系11および第2の照射光学
系12は図示しない照射光の焦点調節手段、照射方向調
節手段を備えておりまた、図示しない保持手段により保
持されている。
【0062】第2の照射光学系は、半田ボール3が第1
の照射光学系11により照射されたときに生じる半田ボ
ール自身の影の部分を照射するように配設されている。
ここで第1の照射光学系11と第2の照射光学系12
は、半田ボール3が載置された平面から約45°の角度
で半田ボール3を両側から挟み込むように照射するよう
に配設されている。
【0063】図1の例では半田ボール3として、銅から
なるコア3aの周囲に融点が約183℃のPb/Sn系
共晶半田層3bをメッキにより形成したものを用いた。
図3(a)はこの半田ボールの断面構造の1例を概略的
に示した図である。このような形状の半田ボールをその
真上方向から照射した場合、図3(b)に示したような
照射した半田ボール自身の影になる半田ボールのオーバ
ーハング部分は昇温効率が低下することになる。このよ
うな場合、半田の溶融がかなり不均一に生じて電気的接
続、機械的な接続の信頼性が低下することがある。本発
明によれば、半田ボール3は、第1の照射光学系11お
よび第2の照射光学系12によりそのオーバーハング部
分も照射されることにより融点より高い温度に加熱され
て半田層3bが溶融する。そしてこの半田層3bは溶融
後再固化することにより半田ボール3と電子部品1の電
極2との電気的、機械的接続が確立される。3cはリフ
ローにより溶融固化した半田層である。
【0064】そして、第1の照射光学系11および第2
の照射光学系12とにより、電子部品1の電極2上に配
設されたすべての半田ボール3を順次リフローすること
により、例えばBGAパッケージなどの複数の半田ボー
ルが配設された電子部品の半田リフローを行うことがで
きる。図4は電子部品上に配設された複数の半田ボール
を順次リフローする際の半田ボールのリフローの順序を
模式的に示す図である。複数の半田ボール3を順次リフ
ローして行く場合、照射光学系またはその焦点を動かす
ようにしてもよいし、半田ボール3が配設された電子部
品1を動かすようにしてもよい(図4参照)。
【0065】このような構成を採用することにより本発
明の半田リフロー装置は、半田ボール3に温度ムラが生
じないように均一に加熱することができる。したがって
半田層のリフローを均一に行うことができ、半田ボール
3と電子部品1との電気的、機械的な接続の信頼性を向
上することができる。また、半田ボール3を集中的に照
射することができるので、リフローの際に電子部品3に
かかる熱的な負荷を軽減することができる。したがっ
て、例えば半導体素子のような熱的な負荷に弱い電子部
品であっても、その性能を劣化させることなく確実にリ
フローを行うことができる。
【0066】さらに本発明の半田リフロー装置は、照射
光学系により半田ボールを加熱しているため、従来の加
熱炉などと比較して装置を小型化することができる。し
たがって装置の設置面積を小さくすることができ、設置
コストを低減するなど生産性を向上することができる。
【0067】(実施形態2)図1に例示した半田リフロ
ー装置は、2系統の照明光学系により半田ボール3を照
射してリフローさせる構成であるが、本発明の半田リフ
ロー装置の備える照明光学系は2系統に限ることなく、
3系統以上の照明光学系を備えるようにしてもよい。
【0068】図5は、3系統の照明光学系を備えた本発
明の半田リフロー装置の構成の1例を概略的に示す図で
あり、図6は照射される半田ボールの部分を拡大して模
式的に示す図である。
【0069】この半田リフロー装置は、電子部品1の電
極2上に載置された複数の半田ボール3をリフローさせ
る半田リフロー装置であって、第1の光源11aを有
し、第1の光源からの光を前記半田ボールを加熱するよ
うに第1の方向から前記半田ボールへ照射する第1の照
射光学系11と、第2の光源12aを有し、第2の光源
からの光を前記半田ボールを加熱するように第1の方向
とは異なった第2の方向から半田ボールへ照射する第2
の照射光学系12と、第3の光源13aを有し、第3の
光源からの光を前記半田ボールを加熱するように第1の
方向および第2の方向とは異なった第3の方向から半田
ボールへ照射する第3の照射光学系13とを具備したも
のである。
【0070】図5に例示した半田リフロー装置では、第
1の光源11a、第2の光源12aおよび第3の光源1
3aとしてはハロゲンランプを用いており、光源光はリ
フレクタ11b、12b、13bによりそれぞれ反射、
集光されて所定の半田ボール3を照射する。第1の照射
光学系11、第2の照射光学系12および第3の照射光
学系13は図示しない照射光の焦点調節手段、照射方向
調節手段を備えておりまた、図示しない保持手段により
保持されている。
【0071】それぞれの照射光学系は、半田ボール3が
第1の照射光学系により照射されたときに生じる半田ボ
ール自身の影の部分を照射するように配設されている。
ここで、第1の照射光学系11は照射する半田ボール3
の真上から半田ボール3を照射し、第2の照射光学系1
2および第3の照射光学系13は、半田ボール3が載置
された平面から45°の角度で半田ボール3を両側から
挟み込むように照射するように配設されている。
【0072】図5の例では半田ボール3として、銅から
なるコア3aの周囲に融点が約183℃のPb/Sn系
共晶半田層3bをメッキにより形成したものを用いた
(図3参照)。
【0073】半田ボール3は、第1の照射光学系11、
第2の照射光学系12および第3の照射光学系13によ
り照射されることにより融点より高い温度に加熱されて
半田層3bが溶融する。そしてこの半田層3bは溶融後
再固化することにより半田ボール3と電子部品1の電極
2との電気的、機械的接続が確立される。3cはリフロ
ーにより生じた半田層である。
【0074】このような構成を採用することにより本発
明の半田リフロー装置は、半田ボール3に温度ムラが生
じないように均一に加熱することができる。したがって
半田層のリフローを均一に行うことができ、半田ボール
3と電子部品1との電気的、機械的な接続の信頼性を向
上することができる。また、半田ボール3を集中的に照
射することができるので、リフローの際に電子部品3に
かかる熱的な負荷を軽減することができる。したがっ
て、例えば半導体素子のような熱的な負荷に弱い電子部
品であっても、その性能を劣化させることなく確実にリ
フローを行うことができる。
【0075】さらに本発明の半田リフロー装置は、照射
光学系により半田ボールを加熱しているため、従来の加
熱炉などと比較して装置を小型化することができる。し
たがって装置の設置面積を小さくすることができ、設置
コストを低減するなど生産性を向上することができる。
【0076】(実施形態3)本発明の半田リフロー装置
の照明光学系による半田ボールの照射方向は実施形態
1、実施形態2に例示した方向に限ることなく、半田ボ
ール3の配設ピッチや大きさなどに応じて変えるように
すればよい。図7は複数の半田ボールがアレイ状に配設
された電子部品の1例を概略的に示す図であり、図8、
図9、図10、図11、図12は電子部品1上にアレイ
状に配設された半田ボール3の配置と、照射光学系によ
る半田ボールの照射方位を模式的に示す図である。
【0077】図8は半田ボール3を2方向から照射する
場合の照射方位の1例を示しており、図9は半田ボール
3を4方向から照射する場合の照射方位の1例を示して
いる。また、図10は半田ボール3を2方向から照射す
る場合の照射方位の別の1例を示しており、図11は半
田ボール3を4方向から照射する場合の照射方位の別の
1例を示している。また図12は半田ボール3を3方向
から照射する場合の照射方位の1例を示している。図
8、図9に例示した照射方位と比較して、図10、図1
1、図12に例示した照射方位では隣接する半田ボール
との間隔dを大きくとることができる。すなわち、照明
光学系による半田ボール3の照射角度をより低くとるこ
とができ、上方からの照射では加熱しにくい半田ボール
3のオーバーハング部分をより効果的に照射・加熱する
ことができる。したがって半田ボール3の配設ピッチが
小さい場合や、半田ボール3のサイズが大きく、半田ボ
ール3のオーバーハング部分を照射するときに最近接の
半田ボール3の影がかかるような場合でも、半田ボール
3を効果的に加熱することができる。
【0078】(実施形態4)図13は、本発明の半田リ
フロー装置の構成の別の1例を概略的に示す図であり、
図14はその光源部分の断面構造を模式的に示す図であ
る。この半田リフロー装置は2つの光源部41を備えて
おり、これらの光源部41は支持アーム42に照射角度
を可変に取り付けられている。そして、電子部品1上に
配設された半田ボール3を複数の照射方向から、照射に
より生じる影の部分が最小になるように照射して、半田
をリフローさせるものである。光源部41は、ハロゲン
ランプからなる光源41aと、光源側の表面部分41b
にリフレクタが形成されたハウジング41cとからなっ
ており、ハウジング41c内部には加熱を防ぐための冷
却水を通水する冷却管41dが形成されている。
【0079】このように照射方位、照射角度を調節する
機構は照射光学系自体に備えるようにしてもよいし、ま
た図13の例のように光源部とこの光源部を動かすこと
により照射方位、照射角度を調節するようにしてもよ
い。
【0080】(実施形態5)図15は本発明の半田リフ
ロー装置の構成の別の1例を概略的に示す図である。こ
の半田リフロー装置も2系統の照射光学系51を備えて
おり、これら複数系統の照射光学系51により電子部品
1上に配設された半田ボール3を複数の照射方向から、
照射により生じる影の部分が最小になるように照射し
て、半田をリフローさせるものである。照射光学系51
は光源52、リフレクタ53、レンズアレイ54を備え
ており、光源光の照射方位、照射角度、焦点等を調節で
きるようになっている。55は絞りである。このように
本発明の半田リフロー装置の照射光学系は、照射対象物
体を複数の異なる方向から、照射により生じる影の部分
ができるだけ小さくなるように、すなわち照射により処
理対象物体が均一に加熱されて温度ムラを生じないよう
に照射することができればよい。したがって、その具体
的構成は必要に応じて設計するようにすればよい。例え
ば照明光学系に照明光学系にはホログラフィック光学素
子などを用いるようにしてもよい。また光源はハロゲン
ランプに限ることはなくレーザー光源を用いるようにし
てもよく、この場合光学系の構成は、例えばフィールド
アパチャーを備えるなど当然ハロゲンランプを用いる場
合とは異なったものになる。
【0081】(実施形態6)図16は本発明の半田リフ
ロー装置の構成の別の1例を概略的に示す図である。こ
の半田リフロー装置では、光源からの光を光学系により
分割して、半田ボールを複数方向から照射する構成を採
用している。つまりここでは第1の光源と第2の光源は
同一の光源を兼用しているのである。すなわち、光源5
1からの光源光はリフレクタ52により集光されながら
所定の方向に出射されるが、ミラーを備えた光学系56
により2系統の照射光に分割されて電子部品1上に配設
された半田ボール3を複数の照射方向から、照射により
生じる影の部分が最小になるように照射するようにして
半田をリフローさせるものである。
【0082】このように本発明の半田リフロー装置の照
射光学系は、照射対象物体を複数の異なる方向から、照
射により生じる影の部分ができるだけ小さくなるよう
に、すなわち照射により処理対象物体が均一に加熱され
て温度ムラを生じないように照射することができればよ
い。したがって、その具体的構成は必要に応じて設計す
るようにすればよい。
【0083】(実施形態7)実施形態1乃至実施形態6
においては、1個の半田ボールを複数の異なる方向から
照射してリフローさせる例について説明したが、本発明
はこれに限ることなく複数の半田ボールを同時にリフロ
ーさせるようにしてもよい。
【0084】すなわち、第1の照射光学系および第2の
照射光学系として線状の焦点を与えるような照射光学系
を採用し、例えば半田ボールがアレイ状に配設されたB
GAパッケージなどの半田ボールをラインごとにリフロ
ーするようにしてもよい。このような概直線上の領域に
配設された複数の半田ボールのリフローを同時に行う場
合でも、装置の基本的な構成は実施形態1乃至実施形態
6に例示した本発明の半田リフロー装置と同様の装置を
用いることができる。ただし、このような場合には照射
光学系として直線上の焦点を与えるような照射光学系を
備える必要がある。
【0085】図17は直線上の焦点を与える照射光学系
を備えた本発明の半田リフロー装置の構成の1例を模式
的に示す図である。また図18は図17に例示した本発
明の半田リフロー装置の複数系統の照明光学系により与
えられる直線状の焦点と照射される半田ボールがアレイ
状に配設された電子部品との関係を模式的に示す図であ
る。この半田リフロー装置はライン状の焦点を与えるよ
うな3系統の照明光学系を備えており図17では簡単の
ため光源71a、71b、71cのみを示した。照明光
学系の構成は前述同様に必要に応じて設計するようにす
ればよい。例えば光源光の照射方向、焦点位置等を調節
するための機構を配設するようにすればよい(実施形態
1〜実施形態6参照)。そしてライン状の焦点を与える
ような3系統の照明光学系により、3つの異なる方向か
ら同一直線上の領域72に配列している複数の半田ボー
ル3を同時に照射して加熱する。図18に示すように、
ライン状の焦点を与えるような3系統の照明光学系によ
り電子部品の電極上に配設された半田ボールアレイの所
定の列が照射される。ここで図18(a)は照射光学系
により概直線上の領域に結ばれる照射領域73を示して
おり、図18(b)は、このときに加熱される半田ボー
ルを示している。
【0086】照射方向、焦点は必要に応じて設定するよ
うにすればよいが、ここでは個々の半田ボール3を真上
と斜め上方向(左右)から照射することにより、半田ボ
ールのオーバーハング部分も効率的に照射、加熱するこ
とができる(図6参照)。このような構成を採用するこ
とにより本発明の半田リフロー装置は複数の半田ボール
を同時にリフローすることができるので、個々の半田ボ
ールを均一に温度ムラを生じないように加熱することが
できると同時に、特にBGAパッケージのように多数の
半田ボールがアレイ状に配設されているような場合であ
っても、効率的に半田のリフローを行うことができる。
【0087】なお、BGAパッケージは例えば図7や図
17、図18に例示したようなパッケージに限らず、例
えば図19(a)に例示したような半田ボールの構成で
もよい。また、例えば図19(b)、図19(c)に例
示したように半導体チップ75やチップコンデンサ76
などの半田リフローも本発明の半田リフロー装置および
方法により行うようにしてもよい。
【0088】(実施形態8)実施形態1乃至実施形態7
においては、1個の半田ボールあるいは1列の半田ボー
ルを、複数の照射光学系により複数の異なる方向から同
時に照射する例について説明したが、本発明は1個の半
田ボールあるいは1列の半田ボールを、複数の照射光学
系により複数の異なる方向から多段階に照射するように
してもよい。すなわち、まず第1の照射光学系により半
田ボールを照射、加熱し、つぎに第2の照射光学系によ
り第1の照射光学系による照射により影になった半田ボ
ールの部分を照射することによりリフローを行うのであ
る。例えば第1の焦点を照射する第1の照射光学系と、
第1の焦点とは異なる第2の焦点を照射する第2の照射
光学系とを備え、まず電極状に半田ボールが配設された
電子部品を、所望の半田ボールが第1の照射光学系によ
り照射、加熱されるように配置し、つぎに、この半田ボ
ールが第2の照射光学系により、第1の照射光学系によ
る照射により影になった半田ボールの部分が照射、加熱
されるように再配置してリフローするようにすればよ
い。
【0089】また、第1の照射光学系の焦点と、第2の
照射光学系の焦点とを固定しておき、半田ボールが配設
された電子部品を順次移動させて、電子部品に配設され
たすべての半田ボールをリフローするようにしてもよ
い。同様に、第1の照射光学系および第2の照射光学系
の電子部品に対する位置を移動していくようにしてもよ
い。
【0090】図20は、本発明の半田リフロー装置の構
成の1例を模式的に示す図である。ここでは図17に例
示したような、直線上の焦点を与えるような照射光学系
を備えたタイプの本発明の半田リフロー装置について示
している。また、図21は図20に例示した本発明の半
田リフロー装置の複数系統の照明光学系の直線状の焦点
領域を模式的に示した図であり、図22は照射されてい
る半田ボールの部分を拡大して示す図である。
【0091】この半田リフロー装置はライン状の焦点を
与えるような2系統の照明光学系を備えており図20で
は簡単のため光源91a、光源91bのみを示した。照
明光学系の構成は前述同様に必要に応じて設計するよう
にすればよい。例えば光源光の照射方向、焦点位置等を
調節するための機構を配設するようにすればよい(実施
形態1〜実施形態6参照)。そしてライン状の焦点を与
えるような2系統の照明光学系により、2つの異なる方
向から、2つの隣接する照射領域92a、照射領域92
bに配列している複数の半田ボール列をそれぞれ照射し
て加熱する。図21に示すように、隣接する半田ボール
列にライン状の焦点を与えるような2系統の照明光学系
により電子部品の電極上に配設された半田ボールアレイ
の所定の2列が照射される。
【0092】照射方向、焦点は必要に応じて設定するよ
うにすればよいが、ここでは半田ボール3を斜め方向
(左右)から多段階に照射することにより、半田ボール
3のオーバーハング部分も効率的に照射、加熱すること
ができる(図22参照)。このような構成を採用するこ
とにより本発明の半田リフロー装置は複数の半田ボール
を段階的に照射することにより半田をリフローすること
ができる。また個々の半田ボールを均一に温度ムラを生
じないように加熱することができると同時に、特にBG
Aパッケージのように多数の半田ボールがアレイ状に配
設されているような場合であっても、効率的に半田のリ
フローを行うことができる。
【0093】(実施形態10)図23、図24は図20
に例示した構成の本発明の半田リフロー装置により、B
GAパッケージにアレイ状に配設された複数の半田ボー
ルをリフローする様子を模式的に示す図である。図23
(a)では光源91aを有する照射光学系の照射領域9
2aにより1列の半田ボールが照射されている様子を示
しており、図23(b)はこのときのBGAパッケージ
を照射領域92a、92bと平行な方向から見た様子を
模式的に示している。この段階では半田ボール103a
の属する列の半田ボールは2系統の照射光学系のうち一
方の照射光学系にしか照射されておらずリフローしてい
ない。また半田ボール103bの属する列の半田ボール
は未だ照射されていない。図24(a)では光源91a
を有する照射光学系の照射領域92aにより半田ボール
103bの属する列の半田ボールが照射されており、光
源91bを有する照射光学系の照射領域92bにより半
田ボール103aの属する列の半田ボールが照射されて
いる様子を示している。図24(b)はこのときのBG
Aパッケージを照射領域92a、92bと平行な方向か
ら見た様子を模式的に示している。図24に示した段階
では、半田ボール103aの属する列の半田ボールは、
光源91aを備える照射光学系により照射されたとき影
になった部分が、光源91bを備える照射光学系により
照射されることにより均一に加熱されて半田はリフロー
する。また、光源91aを有する照射光学系により半田
ボール103bの属する列、すなわち照射領域92aに
ある半田ボールが照射されているが、この列の半田ボー
ルは未だ一方の照射光学系にしか照射されていないか
ら、リフローに十分な加熱がなされておらずリフローし
ていない。半田ボール103cの属する列の半田ボール
はどちらの照射光学系によっても照射されていないから
未だ照射光学系によっては加熱されていない。
【0094】このように照射領域92a、照射領域92
bに対して電子部品1に配設された半田ボールを順次移
動していくことにより、電子部品1上にアレイ上に配設
されたすべての半田ボールをリフローすることができ
る。半田ボールは1段階目の照射で影になった部分を2
段階目に照射、加熱されるので半田ボール内の温度ムラ
が小さくなり、リフローによる半田ボールと電極2との
接続の信頼性が向上する。また、多数の半田ボールを列
ごとに順次加熱してリフローすることができ、生産性も
向上する。
【0095】(実施形態11)なおこの実施形態では、
複数の半田ボールを列ごとに段階加熱してリフローさせ
る例について説明したが、例えば実施形態1乃至実施形
態6で説明したように半田ボールを1個ずつ照射し、か
つ実施例10で説明したように多段階に照射してリフロ
ーさせるようにしてもよい。
【0096】図25は複数の照射光学系により異なる領
域を照射し、半田ボールを段階加熱する本発明の半田リ
フロー装置の構成の1例を概略的に示す図である。
【0097】図25に示した本発明の半田リフロー装置
は2つの光源部141a、光源部141bを備えてお
り、これらの光源部141は支持アーム142に照射角
度を可変に取り付けられている。光源部141aを含む
照射光学系と光源部141bを含む照射光学系は、図1
3に示した例とは異なり、それぞれ異なる領域を照射、
加熱するように配設されている。そして、電子部品1上
に配設された半田ボール143を段階的に、複数の照射
方向から照射することにより半田をリフローさせるもの
である。すなわち、光源部141aを含む照射光学系に
より半田ボール143を照射したとき影になった部分を
光源部141bを含む照射光学系により照射して加熱す
る構成となっている。
【0098】例えば図25に示した例では、光源部14
1aを含む照射光学系と光源部141bを含む照射光学
系に対して電子部品に載置された半田ボールを順次移動
してリフローしている様子を示しているが、半田ボール
143cは光源部141aを含む照射光学系により照射
されたとき影になった部分を、光源部141bを含む照
射光学系により照射されることになる。したがって半田
ボール143aはリフローした半田ボールを示し、半田
ボール143bは光源部141aを含む照射光学系によ
り照射されたとき影になった部分を、光源部141bを
含む照射光学系により2回目の照射を受けている半田ボ
ールを示し、半田ボール143cは光源部141aを含
む照射光学系により1回目の照射を受けている半田ボー
ルを示し、半田ボール143dは照射光学系によっては
未だ加熱されていない半田ボールを示している。
【0099】図26、図27も複数の照射光学系により
異なる領域を照射し、半田ボールを段階加熱する本発明
の半田リフロー装置の構成の別の1例を概略的に示す図
であり、それぞれ図15、図16に例示した本発明の半
田リフロー装置に対応している。このように、例えば実
施形態1乃至実施形態6で説明したように半田ボールを
1個ずつ照射し、かつ実施例10で説明したように多段
階に照射してリフローさせるようにしてもよい。
【0100】(実施形態12)実施形態1乃至実施形態
11においては、半田ボールの加熱は照射光学系による
光の照射により行った例について説明したが、本発明は
これに限定されることなく、例えば、半田を加熱するた
めの予備的な加熱手段を備えるようにしてもよい。
【0101】すなわち、半田ボールを照射光学系により
照射して加熱するとき、またはそれ以前に半田が溶融せ
ず、かつ電子部品に悪影響を与えないような温度まで予
備的に加熱し、この加熱と照射光学系による加熱を組み
合わせて半田をリフローさせるようにしてもよい。この
ような余熱手段としては例えば電子部品をヒーターなど
を備えた載置台上に載置して熱伝導により半田ボールを
予熱、あるいは予備的な加熱を行うようにしてもよい
し、熱風を半田ボールに吹き付けることにより半田ボー
ルを予熱、あるいは予備的な加熱を行うようにしてもよ
い。
【0102】一方、リフロー時の半田の酸化を防止する
ために、照射光学系による半田ボールの照射、加熱時、
あるいは溶融後冷却するまでの間電子部品の周囲に例え
ばフォーミングガスを導入するなどして非酸化雰囲気ま
たは還元性雰囲気に保つようにしてもよい。さらに加熱
したフォーミングガスにより半田ボールの予熱、予備的
な加熱を行うようにしてもよい。
【0103】図28は、複数の照射光学系により同一の
半田ボールを同時照射したときの半田ボールの温度変化
のプロファイルの1例を模式的に示す図である。例えば
実施形態1乃至実施形態6で説明したような場合、半田
ボールの温度変化のプロファイルは図28のようなもの
になり、半田の溶融温度(例えば半田層に共晶半田合金
を用いた半田ボールの場合には共晶温度)以上に加熱す
ることにより半田層はリフローして、電子部品との電気
的、機械的接続を確立することができる。プロファイル
のピークの高さ、鋭さなどは照射光学系の光源の強さ、
焦点の鋭さ、照射時間などにより変化するが、このよう
なパラメータは用いる半田、コア、電極等の材質、熱容
量あるいは電子部品の耐熱温度などに応じて設定するよ
うにすればよい。
【0104】図29は照射光学系による照射加熱以前
に、熱板、加熱したフォーミングガスなどにより半田ボ
ールの予熱を行った場合の半田ボールの温度変化のプロ
ファイルの1例を模式的に示す図である。
【0105】図30は、複数の照射光学系により半田ボ
ールを段階加熱したときの半田ボールの温度変化のプロ
ファイルの1例を模式的に示す図である。この例では1
段階目の照射ではでは半田の溶融温度まで達せず、2段
階目の照射によりリフローした例を示したが、1段階目
の照射により半田層の一部が部分的に溶融してもよい。
図30のようなプロファイルの場合には1段階目の照射
は予備的な加熱と考えることもできる。
【0106】図31は、複数の照射光学系による半田ボ
ールの段階加熱に加えて、熱板、加熱したフォーミング
ガスなどにより半田ボールの予熱を行った場合の半田ボ
ールの温度変化のプロファイルの1例を模式的に示す図
である。
【0107】このように本発明においては、照射光学系
による照射、加熱とともに、熱板、加熱したフォーミン
グガスなどによる半田ボールの予熱とを組合わせて半田
をリフローするようにしてもよい。予熱を行うことによ
り照射による加熱時間が短縮すると同時に、電子部品に
対する熱的負荷を低減することができる。
【0108】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半田リフ
ロー装置および方法によれば、複数の照射光学系により
複数方向から被半田付け部分を照射・加熱することによ
り、被半田付け部分を集中的かつ均一に加熱することが
できる。特に、BGAパッケージの半田ボール形成時な
ど、影の出やすいリフロー対象についても、その被半田
付け部分を集中的かつ均一に加熱することができる。し
たがってリフロー部分の温度ムラが低減され、半田ボー
ルと電子部品の電極との電気的、機械的接続の信頼性を
向上することができる。また照射光の焦点を半田付けす
べき領域に集中させることで少ないエネルギーで最大の
熱効率が得ることができる。
【0109】また複数の照射光学系による照射領域を半
田付けすべき部分のみが局部的に温度上昇するようにそ
の焦点を調整することにより、その被半田付け部分を集
中的かつ均一に加熱することができると同時に、電子部
品の温度上昇を抑制することができる。したがって、耐
熱性の低い電子部品でもその性能を劣化することなく半
田のリフローを行うことができる。
【0110】さらに本発明の半田リフロー装置によれ
ば、照射光学系によりリフロー対象部分のみを高い効率
で部分加熱することができる。したがって、半田リフロ
ー装置の大幅な小型化を図ることができるとともに、装
置の設置面積を低減し生産性を向上することができる。
【0111】またフォーミングガス等の予熱手段と照射
光学系による照射加熱を組合わせることにより、リフロ
ーに要する時間を短縮し、生産性を向上することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半田リフロー装置の構成の1例を概略
的に示す図。
【図2】照射される半田ボールの部分を拡大して模式的
に示す図。
【図3】半田ボールの断面構造の1例を概略的に示した
図。
【図4】電子部品上に配設された複数の半田ボールを順
次リフローする際の半田ボールのリフローの順序を模式
的に示す図。
【図5】3系統の照明光学系を備えた本発明の半田リフ
ロー装置の構成の1例を概略的に示す図。
【図6】照射される半田ボールの部分を拡大して模式的
に示す図。
【図7】複数の半田ボールがアレイ状に配設された電子
部品の1例を概略的に示す図。
【図8】電子部品上にアレイ状に配設された半田ボール
の配置と照射光学系による半田ボールの照射方位を模式
的に示す図。
【図9】電子部品上にアレイ状に配設された半田ボール
の配置と照射光学系による半田ボールの照射方位を模式
的に示す図。
【図10】電子部品上にアレイ状に配設された半田ボー
ルの配置と照射光学系による半田ボールの照射方位を模
式的に示す図。
【図11】電子部品上にアレイ状に配設された半田ボー
ルの配置と照射光学系による半田ボールの照射方位を模
式的に示す図。
【図12】電子部品上にアレイ状に配設された半田ボー
ルの配置と照射光学系による半田ボールの照射方位を模
式的に示す図。
【図13】本発明の半田リフロー装置の構成の別の1例
を概略的に示す図。
【図14】図13に例示した半田リフロー装置の光源部
分の断面構造の1例を模式的に示す図。
【図15】本発明の半田リフロー装置の構成の別の1例
を概略的に示す図。
【図16】本発明の半田リフロー装置の構成の別の1例
を概略的に示す図。
【図17】直線上の焦点を与える照射光学系を備えた本
発明の半田リフロー装置の構成の1例を模式的に示す
図。
【図18】複数系統の照明光学系により与えられる直線
状の焦点と照射される半田ボールがアレイ状に配設され
た電子部品との関係を模式的に示す図。
【図19】BGAパッケージの別の1例を概略的に示す
図。
【図20】本発明の半田リフロー装置の構成の1例を模
式的に示す図。
【図21】図20に例示した本発明の半田リフロー装置
の複数系統の照明光学系の直線状の焦点領域を模式的に
示した図。
【図22】照射されている半田ボールの部分を拡大して
示す図。
【図23】BGAパッケージにアレイ状に配設された複
数の半田ボールをリフローする様子を模式的に示す図。
【図24】BGAパッケージにアレイ状に配設された複
数の半田ボールをリフローする様子を模式的に示す図。
【図25】本発明の半田リフロー装置の構成の1例を概
略的に示す図。
【図26】本発明の半田リフロー装置の構成の別の1例
を概略的に示す図。
【図27】本発明の半田リフロー装置の構成の別の1例
を概略的に示す図。
【図28】半田ボールの温度変化のプロファイルの1例
を模式的に示す図。
【図29】半田ボールの温度変化のプロファイルの1例
を模式的に示す図。
【図30】半田ボールの温度変化のプロファイルの1例
を模式的に示す図。
【図31】半田ボールの温度変化のプロファイルの1例
を模式的に示す図。
【図32】遠赤外ヒーターを用いた従来の半田リフロー
装置の構成の1例を概略的に示す図。
【図33】熱板方式を用いた半田リフロー装置の1例を
模式的に示す図。
【図34】光照射方式を用いた半田リフロー装置の構成
の1例を模式的に示す図。
【図35】照射された半田ボールを拡大して模式的に示
す図。
【符号の説明】
1……電子部品、 2……電極 3……半田ボール、 3a……コア 3b…半田層 3c……リフローによる半田の溶融固化層 11……第1の照射光学系、 11a……第1の
光源 11b……リフレクタ、 12……第2の照
射光学系 12a……第2の光源、 12b……リフレ
クタ 13……第3の照射光学系、 13a……第3の
光源 13b……リフレクタ、 41……光源部 41a……光源、 41b……リフレ
クタ 41c……ハウジング 41d……冷却管 42……支持アーム、 51……照射光学
系 52……光源、 53……リフレク
タ 54……レンズアレイ、 55……絞り 71a,71b,71c……光源 75……半導体素子、 76……チップコ
ンデンサ、91a,……光源、 92
a,92b……照射領域 141a,141b……光源部、 142……支持
アーム 143a,143b,143c,143d……半田ボー

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子部品の電極上に載置された複数の半
    田ボールをリフローさせる半田リフロー装置であって、 第1の光源を有し、第1の光源からの光を前記半田ボー
    ルを加熱するように第1の方向から前記半田ボールへ照
    射する第1の照射光学系と、 第2の光源を有し、第2の光源からの光を前記半田ボー
    ルを加熱するように第1の方向とは異なった第2の方向
    から前記半田ボールへ照射する第2の照射光学系とを具
    備したことを特徴とする半田リフロー装置。
  2. 【請求項2】 電子部品の電極上に載置された複数の半
    田ボールをリフローさせる半田リフロー装置であって、 第1の光源を有し、第1の光源からの光を前記半田ボー
    ルを加熱するように前記半田ボールへ照射する第1の照
    射光学系と、 第2の光源を有し、第1の照射光学系による照射により
    生じる前記半田ボールの影の部分が加熱されるように、
    第2の光源からの光を前記半田ボールへ照射する第2の
    照射光学系とを具備したことを特徴とする半田リフロー
    装置。
  3. 【請求項3】 アレイ状に形成された電子部品の電極上
    に載置された複数の半田ボールをリフローさせる半田リ
    フロー装置であって、 第1の光源を有し、複数の前記半田ボールを同時に加熱
    するように、第1の光源からの光を複数の前記半田ボー
    ルを含む直線状の領域へ照射する第1の照射光学系と、 第2の光源を有し、第1の照射光学系による照射により
    生じる前記半田ボールの影の部分が加熱されるように、
    第2の光源からの光を前記直線状の領域へ照射する第2
    の照射光学系とを具備したことを特徴とする半田リフロ
    ー装置。
  4. 【請求項4】 第1の照射光学系と第2の照射光学系
    は、同時に同一の焦点を照射することを特徴とする請求
    項1乃至請求項3のいずれかに記載の半田リフロー装
    置。
  5. 【請求項5】 前記電子部品上に載置されたすべての前
    記半田ボールがリフローされるように、第1の照射光学
    系および第2の照射光学系に対して前記電子部品を移動
    する電子部品移動手段をさらに具備したことを特徴とす
    る請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の半田リフロ
    ー装置。
  6. 【請求項6】 電子部品の電極上に載置された半田ボー
    ルをリフローさせる半田リフロー装置であって、 第1の光源を有し、第1の光源からの光を第1の焦点に
    照射する第1の照射光学系と、 第2の光源を有し、第2の光源からの光を第1の焦点と
    は異なる第2の焦点に照射する第2の照射光学系と、 第1の照射光学系による照射により前記半田ボールが加
    熱されるように第1の照明光学系に対して前記電子部品
    を配置するとともに、前記半田ボールの第1の照射光学
    系による照射により影になった部分が第2の照射光学系
    により加熱されるように第2の照射光学系に対して前記
    電子部品を再配置する電子部品移動手段とを具備したこ
    とを特徴とする半田リフロー装置。
  7. 【請求項7】 アレイ状に形成された電子部品の電極上
    に載置された複数の半田ボールをリフローさせる半田リ
    フロー装置であって、 第1の光源を有し、第1の光源からの光を直線状の第1
    の領域へ照射する第1の照射光学系と、 第2の光源を有し、第2の光源からの光を直線状の第2
    の領域へ照射する第2の照射光学系と、 第1の照射光学系による照射により直線状に配列した複
    数の前記半田ボールが同時に加熱されるように前記電子
    部品を配置するとともに、前記複数の半田ボールの第1
    の照射光学系による照射により影になった部分が第2の
    照射光学系により同時に加熱されるように前記電子部品
    を再配置する電子部品移動手段とを具備したことを特徴
    とする半田リフロー装置。
  8. 【請求項8】 第1の照射光学系および第2の照射光学
    系は、前記半田ボールと前記電極との接点に焦点を結ぶ
    ように前記半田ボールを照射することを特徴とする請求
    項1乃至請求項7のいずれかに記載の半田リフロー装
    置。
  9. 【請求項9】 第1の光源および第2の光源はハロゲン
    ランプであることを特徴とする請求項1乃至請求項8の
    いずれかに記載の半田リフロー装置。
  10. 【請求項10】 第1の光源および第2の光源はレーザ
    ー光源であることを特徴とする請求項1乃至請求項8の
    いずれかに記載の半田リフロー装置。
  11. 【請求項11】 第1の照射光学系および第2の照射光
    学系による加熱により前記半田ボールがリフローするま
    での時間が短縮されるように、前記半田ボールを予熱す
    る予熱手段をさらに具備したことを特徴とする請求項1
    乃至請求項10のいずれかに記載の半田リフロー装置。
  12. 【請求項12】 前記電子部品の周囲を非酸化雰囲気ま
    たは還元性雰囲気に保つためのフォーミングガス導入手
    段をさらに具備したことを特徴とする請求項11のいず
    れかに記載の半田リフロー装置。
  13. 【請求項13】 前記予熱手段は加熱したフォーミング
    ガスにより前記半田ボールを予熱することを特徴とする
    請求項1乃至請求項11に記載の半田リフロー装置。
  14. 【請求項14】 電子部品の電極上に載置された複数の
    半田ボールをリフローさせる半田リフロー方法であっ
    て、 第1の方向から第1の光源光を照射して前記半田ボール
    を加熱するとともに、第2の方向から第2の光源光を照
    射して、第1の方向から照射することにより生じる前記
    半田ボールの影の部分を加熱することを特徴とする半田
    リフロー方法。
  15. 【請求項15】 アレイ状に形成された電子部品の電極
    上に載置された複数の半田ボールをリフローさせる半田
    リフロー方法であって、 第1の光源からの光を複数の前記半田ボールを含む直線
    状の領域へ照射する第1の照射工程と、 第1の照射光学系による照射により生じる前記半田ボー
    ルの影の部分が加熱されるように、第2の光源からの光
    を前記直線状の領域へ照射する第2の照射工程とを具備
    したことを特徴とする半田リフロー方法。
  16. 【請求項16】 第1の照射工程と第2の照射工程は、
    同時に同一の焦点を照射することを特徴とする請求項1
    5に記載の半田リフロー方法。
  17. 【請求項17】 前記電子部品の電極上に載置されたす
    べての前記半田ボールがリフローされるように第1の照
    射光学系および第2の照射光学系に対して前記電子部品
    を移動する電子部品移動工程をさらに具備したことを特
    徴とする請求項14乃至請求項16のいずれかに記載の
    半田リフロー方法。
  18. 【請求項18】 電子部品の電極上に載置された複数の
    半田ボールをリフローさせる半田リフロー方法であっ
    て、 第1の光源を有し、第1の光源からの光を第1の焦点に
    照射する第1の照射光学系により前記半田ボールが加熱
    されるように前記電子部品を配置する工程と、 第1の照射光学系により前記複数の前記半田ボールを加
    熱する工程と、 前記半田ボールの第1の照射光学系による照射により影
    になった部分が、第2の光源を有し、第2の光源からの
    光を第1の焦点とは異なる第2の焦点に照射する第2の
    照射光学系により加熱されるように前記電子部品を再配
    置する工程と、 第2の照射光学系により前記複数の前記半田ボールを加
    熱する工程と、を具備したことを特徴とする半田リフロ
    ー方法。
  19. 【請求項19】 アレイ状に形成された電子部品の電極
    上に載置された複数の半田ボールをリフローさせる半田
    リフロー方法であって、 第1の光源からの光を直線状の第1の領域へ照射する第
    1の照射光学系により、直線状に配列した複数の前記半
    田ボールが同時に加熱されるように前記電子部品を配置
    する工程と、 第1の照射光学系により前記複数の前記半田ボールを加
    熱する工程と、 前記複数の半田ボールの第1の照射光学系による照射に
    より影になった部分が、第2の光源からの光を直線状の
    第2の領域へ照射する第2の照射光学系により同時に加
    熱されるように前記電子部品を再配置する工程と、 第2の照射光学系により前記複数の前記半田ボールを加
    熱する工程と、を具備したことを特徴とする半田リフロ
    ー方法。
  20. 【請求項20】 電子部品の電極上に載置された半田ボ
    ールをリフローさせる半田リフロー方法であって、 前記半田ボールを予熱する工程と、 第1の方向から第1の光源光を照射して前記半田ボール
    を加熱するとともに、第2の方向から第2の光源光を照
    射して、第1の方向から照射することにより生じる前記
    半田ボールの影の部分を加熱することを特徴とする半田
    リフロー方法。
  21. 【請求項21】 電子部品の電極上に載置された半田ボ
    ールをリフローさせる半田リフロー方法であって、 前記電子部品の周囲が非酸化雰囲気または還元性雰囲気
    に保たれるようにフォーミングガスを導入する工程と、 前記フォーミングガスを導入しながら、第1の方向から
    第1の光源光を照射して前記半田ボールを加熱するとと
    もに、第2の方向から第2の光源光を照射して、第1の
    方向から照射することにより生じる前記半田ボールの影
    の部分を加熱することを特徴とする半田リフロー方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116682774A (zh) * 2023-07-27 2023-09-01 深圳市立可自动化设备有限公司 一种bga植球上下球板的光学自动对位校正系统
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