JPH10158249A - キナゾリノン誘導体 - Google Patents
キナゾリノン誘導体Info
- Publication number
- JPH10158249A JPH10158249A JP31634796A JP31634796A JPH10158249A JP H10158249 A JPH10158249 A JP H10158249A JP 31634796 A JP31634796 A JP 31634796A JP 31634796 A JP31634796 A JP 31634796A JP H10158249 A JPH10158249 A JP H10158249A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- reaction
- formula
- lower alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-quinazolin-2-one Chemical class C1=CC=CC2=NC(O)=NC=C21 AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 68
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 claims abstract description 8
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 claims description 6
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims description 6
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 30
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 abstract description 9
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 abstract description 7
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 4
- CBWADHMLVNMXHQ-UHFFFAOYSA-N 3-(7-chloro-3-methyl-4-oxoquinazolin-2-yl)propanoic acid Chemical compound ClC1=CC=C2C(=O)N(C)C(CCC(O)=O)=NC2=C1 CBWADHMLVNMXHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000003472 antidiabetic agent Substances 0.000 abstract description 2
- 206010012601 diabetes mellitus Diseases 0.000 abstract description 2
- 229940126904 hypoglycaemic agent Drugs 0.000 abstract description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 abstract 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 2
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- -1 methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy Chemical group 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEQZFZJWURAYOR-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-chloro-n-methylbenzamide Chemical compound CNC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1N DEQZFZJWURAYOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CC DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- JQWHASGSAFIOCM-UHFFFAOYSA-M sodium periodate Chemical compound [Na+].[O-]I(=O)(=O)=O JQWHASGSAFIOCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRSKAIQECRPSIK-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl-methyl-propylsilicon Chemical compound CCC[Si](C)CCCl HRSKAIQECRPSIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDRMYOQETPMYQX-UHFFFAOYSA-M 4-methoxy-4-oxobutanoate Chemical compound COC(=O)CCC([O-])=O JDRMYOQETPMYQX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005377 adsorption chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- JDRMYOQETPMYQX-UHFFFAOYSA-N butanedioic acid monomethyl ester Natural products COC(=O)CCC(O)=O JDRMYOQETPMYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MXOSTENCGSDMRE-UHFFFAOYSA-N butyl-chloro-dimethylsilane Chemical compound CCCC[Si](C)(C)Cl MXOSTENCGSDMRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- ACTAPAGNZPZLEF-UHFFFAOYSA-N chloro(tripropyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(CCC)CCC ACTAPAGNZPZLEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXVPUKPVLPTVCQ-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(C)Cl HXVPUKPVLPTVCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVDUEHWPPXIAEB-UHFFFAOYSA-N chloro-ethyl-dimethylsilane Chemical compound CC[Si](C)(C)Cl AVDUEHWPPXIAEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- NPOMSUOUAZCMBL-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;ethoxyethane Chemical compound ClCCl.CCOCC NPOMSUOUAZCMBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hexane Chemical compound CCCCCC.CCOC(C)=O OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- YEUAOTZWAWUYBH-UHFFFAOYSA-N hexanethioic s-acid Chemical compound CCCCCC(S)=O YEUAOTZWAWUYBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOVVNMZMNDCXRJ-UHFFFAOYSA-N o-ethyl hexanethioate Chemical compound CCCCCC(=S)OCC NOVVNMZMNDCXRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000012746 preparative thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JSQJUDVTRRCSRU-UHFFFAOYSA-N tributyl(chloro)silane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(CCCC)CCCC JSQJUDVTRRCSRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 医薬、特に血糖降下剤として糖尿病の予防及
び治療に有用なキナゾリノン誘導体を提供する。 【解決手段】一般式 【化1】 〔式中、R1は低級アルキル基を、R2はハロゲン原子
を、R3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロ
キシル基又は置換基としてモルホリノ基を有することの
ある低級アルキルアミノ基を、Xは低級アルキレン基
を、Yは硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基又は
カルボニル基を示す。〕で表わされるキナゾリノン誘導
体。
び治療に有用なキナゾリノン誘導体を提供する。 【解決手段】一般式 【化1】 〔式中、R1は低級アルキル基を、R2はハロゲン原子
を、R3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロ
キシル基又は置換基としてモルホリノ基を有することの
ある低級アルキルアミノ基を、Xは低級アルキレン基
を、Yは硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基又は
カルボニル基を示す。〕で表わされるキナゾリノン誘導
体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なキナゾリノン
誘導体に関する。
誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明誘導体は文献未載の新規化合物で
ある。
ある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は医薬品として
有用な化合物を提供することを目的とする。
有用な化合物を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式(1)で表される新規なキナゾリノン誘導体が提供
される。
般式(1)で表される新規なキナゾリノン誘導体が提供
される。
【0005】一般式(1):
【0006】
【化2】
【0007】〔式中、R1は低級アルキル基を、R2はハ
ロゲン原子を、R3は低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ヒドロキシル基又は置換基としてモルホリノ基を有
することのある低級アルキルアミノ基を、Xは低級アル
キレン基を、Yは硫黄原子、スルフィニル基、スルホニ
ル基又はカルボニル基を示す。〕で表わされるキナゾリ
ノン誘導体。
ロゲン原子を、R3は低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ヒドロキシル基又は置換基としてモルホリノ基を有
することのある低級アルキルアミノ基を、Xは低級アル
キレン基を、Yは硫黄原子、スルフィニル基、スルホニ
ル基又はカルボニル基を示す。〕で表わされるキナゾリ
ノン誘導体。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明キナゾリノン誘導体を表わ
す上記一般式(1)において定義される各置換基につき
詳述すれば、次の通りである。
す上記一般式(1)において定義される各置換基につき
詳述すれば、次の通りである。
【0009】即ち、低級アルキル基としては、例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖
又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖
又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。
【0010】ハロゲン原子としては、弗素原子、臭素原
子及び沃素原子を例示できる。
子及び沃素原子を例示できる。
【0011】低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示でき
る。
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示でき
る。
【0012】置換基としてモルホリノ基を有することの
ある低級アルキルアミノ基としては、例えばメチルアミ
ノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ペ
ンチルアミノ、ヘキシルアミノ、モルホリノメチルアミ
ノ、2−モルホリノエチルアミノ、3−モルホリノプロ
ピルアミノ、4−モルホリノブチルアミノ、5−モルホ
リノペンチルアミノ、6−モルホリノヘキシルアミノ基
等を例示できる。
ある低級アルキルアミノ基としては、例えばメチルアミ
ノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ペ
ンチルアミノ、ヘキシルアミノ、モルホリノメチルアミ
ノ、2−モルホリノエチルアミノ、3−モルホリノプロ
ピルアミノ、4−モルホリノブチルアミノ、5−モルホ
リノペンチルアミノ、6−モルホリノヘキシルアミノ基
等を例示できる。
【0013】低級アルキレン基としては、例えばメチレ
ン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタ
メチレン、ヘキサメチレン基等を例示できる。
ン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタ
メチレン、ヘキサメチレン基等を例示できる。
【0014】本発明に係わるキナゾリノン誘導体は、医
薬として、特に血糖降下剤として、糖尿病の予防及び治
療に有用である。
薬として、特に血糖降下剤として、糖尿病の予防及び治
療に有用である。
【0015】医薬として有用な本発明キナゾリノン誘導
体中、好適なものとしては、上記一般式(1)中、R3
が低級アルキル基で且つYが硫黄原子、スルフィニル基
もしくはスルホニル基である化合物及びR3が低級アル
コキシ基、ヒドロキシル基もしくは置換基としてモルホ
リノ基を有することのある低級アルキルアミノ基で且つ
Yがカルボニル基である化合物から選ばれるものを挙げ
ることができ、その中でもR2の置換位置が7位である
もの及びR1がメチル基であるものは、特に好ましい。
最も好ましい本発明キナゾリノン誘導体は、上記一般式
(1)中、R1がメチル基で、R2が7位に位置するハロ
ゲン原子で、R3が低級アルキル基で且つYが硫黄原
子、スルフィニル基又はスルホニル基であるものを挙げ
ることができる。
体中、好適なものとしては、上記一般式(1)中、R3
が低級アルキル基で且つYが硫黄原子、スルフィニル基
もしくはスルホニル基である化合物及びR3が低級アル
コキシ基、ヒドロキシル基もしくは置換基としてモルホ
リノ基を有することのある低級アルキルアミノ基で且つ
Yがカルボニル基である化合物から選ばれるものを挙げ
ることができ、その中でもR2の置換位置が7位である
もの及びR1がメチル基であるものは、特に好ましい。
最も好ましい本発明キナゾリノン誘導体は、上記一般式
(1)中、R1がメチル基で、R2が7位に位置するハロ
ゲン原子で、R3が低級アルキル基で且つYが硫黄原
子、スルフィニル基又はスルホニル基であるものを挙げ
ることができる。
【0016】本発明キナゾリノン誘導体は、各種の方法
により製造することができる。その一つの具体例を以下
に反応工程式を挙げて詳述する。
により製造することができる。その一つの具体例を以下
に反応工程式を挙げて詳述する。
【0017】
【化3】
【0018】〔式中、R1、R2及びXは前記に同じ。R
3aは低級アルコキシ基を、Zはハロゲン原子をそれぞれ
示す。〕 上記において、化合物(2)と化合物(3)との反応
は、脱酸剤の存在下に実施される。該脱酸剤としては、
ピリジン、ピコリン、ルチジン、トリエチルアミン、
N,N−ジエチルアニリン、4−ジメチルアミノピリジ
ン等のアミン類を好適に用いることができる。之等の脱
酸剤は、溶媒も兼ねるので、通常過剰量用いる。また、
他の不活性溶媒、例えばジクロロメタン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、石油エーテル等を使用してもよい。
化合物(3)は、化合物(2)に対して等モル量〜過剰
量用いるのがよい。反応は、一般に0℃〜室温付近の温
度で、約0.5〜50時間程度を要して行なわれる。
3aは低級アルコキシ基を、Zはハロゲン原子をそれぞれ
示す。〕 上記において、化合物(2)と化合物(3)との反応
は、脱酸剤の存在下に実施される。該脱酸剤としては、
ピリジン、ピコリン、ルチジン、トリエチルアミン、
N,N−ジエチルアニリン、4−ジメチルアミノピリジ
ン等のアミン類を好適に用いることができる。之等の脱
酸剤は、溶媒も兼ねるので、通常過剰量用いる。また、
他の不活性溶媒、例えばジクロロメタン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、石油エーテル等を使用してもよい。
化合物(3)は、化合物(2)に対して等モル量〜過剰
量用いるのがよい。反応は、一般に0℃〜室温付近の温
度で、約0.5〜50時間程度を要して行なわれる。
【0019】次に、得られる化合物(4)を環化反応さ
せることにより化合物(1a)を収得できる。該環化反
応は、化合物(4)に不活性溶媒中、塩基の存在下、ハ
ロゲン化トリアルキルシランを作用させることにより行
なわれる。ここで、不活性溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、石油エーテル等の芳香族炭化水素乃
至脂肪族炭化水素類やジエチルエーテル等のエーテル
類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,
2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類を使用で
きる。塩基としては、トリエチルアミン、N,N−ジメ
チルアニリン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−
ジメチルアミノピリジン等の3級アミンを好ましく使用
し得る。また、ハロゲン化トリアルキルシランとして
は、例えばクロロトリメチルシラン、クロロトリエチル
シラン、クロロエチルジメチルシラン、クロロジメチル
プロピルシラン、ブチルクロロジメチルシラン、クロロ
トリプロピルシラン、トリブチルクロロシラン、クロロ
エチルメチルプロピルシラン等のクロロトリアルキルシ
ランを好適に使用できる。上記ハロゲン化トリアルキル
シラン及び塩基の使用量は、特に限定されないが、一般
に1〜過剰当量、好ましくは3〜20当量程度とするの
がよく、反応は通常0〜100℃で、約0.5〜20時
間程度で完了する。
せることにより化合物(1a)を収得できる。該環化反
応は、化合物(4)に不活性溶媒中、塩基の存在下、ハ
ロゲン化トリアルキルシランを作用させることにより行
なわれる。ここで、不活性溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、石油エーテル等の芳香族炭化水素乃
至脂肪族炭化水素類やジエチルエーテル等のエーテル
類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,
2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類を使用で
きる。塩基としては、トリエチルアミン、N,N−ジメ
チルアニリン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−
ジメチルアミノピリジン等の3級アミンを好ましく使用
し得る。また、ハロゲン化トリアルキルシランとして
は、例えばクロロトリメチルシラン、クロロトリエチル
シラン、クロロエチルジメチルシラン、クロロジメチル
プロピルシラン、ブチルクロロジメチルシラン、クロロ
トリプロピルシラン、トリブチルクロロシラン、クロロ
エチルメチルプロピルシラン等のクロロトリアルキルシ
ランを好適に使用できる。上記ハロゲン化トリアルキル
シラン及び塩基の使用量は、特に限定されないが、一般
に1〜過剰当量、好ましくは3〜20当量程度とするの
がよく、反応は通常0〜100℃で、約0.5〜20時
間程度で完了する。
【0020】また、本環化反応は、メタノール、エタノ
ール、プロパノール等の不活性溶媒中、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリで処理することによって
も実施できる。この場合、通常過剰量のアルカリを用
い、還流温度付近にて約4〜12時間を要して行なわれ
る。
ール、プロパノール等の不活性溶媒中、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリで処理することによって
も実施できる。この場合、通常過剰量のアルカリを用
い、還流温度付近にて約4〜12時間を要して行なわれ
る。
【0021】
【化4】
【0022】〔式中、R1、R2、R3a及びXは前記に同
じ。〕 化合物(1a)は、加水分解反応により化合物(1b)
に変換される。該反応は、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、ジクロロメタン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン(THF)等の不活性溶媒中、水酸化ナトリウ
ム水溶液、水酸化カリウム水溶液等のアルカリ金属水酸
化物水溶液で処理することにより実施される。反応は0
℃〜室温の温度条件で、約1〜20時間を要して行なわ
れる。
じ。〕 化合物(1a)は、加水分解反応により化合物(1b)
に変換される。該反応は、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、ジクロロメタン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン(THF)等の不活性溶媒中、水酸化ナトリウ
ム水溶液、水酸化カリウム水溶液等のアルカリ金属水酸
化物水溶液で処理することにより実施される。反応は0
℃〜室温の温度条件で、約1〜20時間を要して行なわ
れる。
【0023】
【化5】
【0024】〔式中、R1、R2、R3a及びXは前記に同
じ。R3bは置換基としてモルホリノ基を有することのあ
る低級アルキルアミノ基を示す。〕 上記化合物(1a)の化合物(1c)への変換反応は、
メタノール、ジクロロメタン、エタノール、1,2−ジ
クロロエタン等の不活性溶媒中、過剰量のアミン(5)
と、還流温度付近の温度条件で、約2〜12時間処理す
ることにより実施される。
じ。R3bは置換基としてモルホリノ基を有することのあ
る低級アルキルアミノ基を示す。〕 上記化合物(1a)の化合物(1c)への変換反応は、
メタノール、ジクロロメタン、エタノール、1,2−ジ
クロロエタン等の不活性溶媒中、過剰量のアミン(5)
と、還流温度付近の温度条件で、約2〜12時間処理す
ることにより実施される。
【0025】
【化6】
【0026】〔式中、R1、R2、X及びZは前記に同
じ。R3cは低級アルキル基基を、Eはハロゲン原子をそ
れぞれ示す。〕 上記反応工程式−4において、化合物(2)と化合物
(6)との反応は、反応工程式−1における化合物
(2)と化合物(3)との反応と同様にして実施でき
る。
じ。R3cは低級アルキル基基を、Eはハロゲン原子をそ
れぞれ示す。〕 上記反応工程式−4において、化合物(2)と化合物
(6)との反応は、反応工程式−1における化合物
(2)と化合物(3)との反応と同様にして実施でき
る。
【0027】次に、得られる化合物(7)とチオール
(8)との反応は、N,N−ジメチルホルムアミド(D
MF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ジクロロ
メタン、ジエチルエーテル等の不活性溶媒中、化合物
(7)とチオール(8)とを炭酸カリウム、炭酸ナトリ
ウム等のアルカリの存在下に反応させるか、あるいはチ
オール(8)を水酸化ナトリウム水溶液で処理してチオ
ラートとし、これに化合物(7)を反応させることによ
り実施される。前者の場合、チオール(8)及びアルカ
リの使用量は、それぞれ化合物(7)に対し等モル〜少
過剰モル量とするのがよく、また後者の場合も、チオー
ル(8)の使用量は、化合物(7)に対し等モル〜少過
剰モル量とするのがよい。反応は、いずれの場合も0℃
〜室温付近の温度にて約1〜20時間で完了し、かくし
て化合物(9)が得られる。
(8)との反応は、N,N−ジメチルホルムアミド(D
MF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ジクロロ
メタン、ジエチルエーテル等の不活性溶媒中、化合物
(7)とチオール(8)とを炭酸カリウム、炭酸ナトリ
ウム等のアルカリの存在下に反応させるか、あるいはチ
オール(8)を水酸化ナトリウム水溶液で処理してチオ
ラートとし、これに化合物(7)を反応させることによ
り実施される。前者の場合、チオール(8)及びアルカ
リの使用量は、それぞれ化合物(7)に対し等モル〜少
過剰モル量とするのがよく、また後者の場合も、チオー
ル(8)の使用量は、化合物(7)に対し等モル〜少過
剰モル量とするのがよい。反応は、いずれの場合も0℃
〜室温付近の温度にて約1〜20時間で完了し、かくし
て化合物(9)が得られる。
【0028】尚、化合物(9)は、化合物(2)と化合
物(10)とを反応させることによっても製造すること
ができる。該反応も、反応工程式−1における化合物
(2)と化合物(3)との反応と同様にして実施でき
る。
物(10)とを反応させることによっても製造すること
ができる。該反応も、反応工程式−1における化合物
(2)と化合物(3)との反応と同様にして実施でき
る。
【0029】上記で得られる化合物(9)は、これを環
化反応させることによって、化合物(1d)に変換でき
る。該環化反応は、上記反応式−1における環化反応と
同様にして行ない得る。
化反応させることによって、化合物(1d)に変換でき
る。該環化反応は、上記反応式−1における環化反応と
同様にして行ない得る。
【0030】
【化7】
【0031】〔式中、R1、R2、R3c及びXは前記に同
じ。pは1又は2を示す。〕 化合物(1d)の酸化反応は、酢酸、ジクロロメタン、
四塩化炭素等の不活性溶媒中、酸化剤として過酸化水素
水、m−クロロ過安息香酸、過沃素酸ナトリウム等を用
いて行なわれる。
じ。pは1又は2を示す。〕 化合物(1d)の酸化反応は、酢酸、ジクロロメタン、
四塩化炭素等の不活性溶媒中、酸化剤として過酸化水素
水、m−クロロ過安息香酸、過沃素酸ナトリウム等を用
いて行なわれる。
【0032】ここで、p=1の化合物を製造する場合、
上記酸化剤の使用量は1〜少過剰当量とし、0℃〜室温
程度の温度にて約15分〜2時間反応させればよい。
上記酸化剤の使用量は1〜少過剰当量とし、0℃〜室温
程度の温度にて約15分〜2時間反応させればよい。
【0033】一方、p=2の化合物を製造する場合、上
記酸化剤の使用量は2〜過剰当量とし、更に必要に応じ
てタングステン酸ナトリウム等の触媒を添加して、室温
〜還流温度程度にて約15分〜2時間反応を行なうのが
よい。尚、p=2の化合物は、上記p=1の化合物を再
度酸化することによっても製造することができる。その
場合の反応条件は、上記した2通りの条件のいずれでも
よい。
記酸化剤の使用量は2〜過剰当量とし、更に必要に応じ
てタングステン酸ナトリウム等の触媒を添加して、室温
〜還流温度程度にて約15分〜2時間反応を行なうのが
よい。尚、p=2の化合物は、上記p=1の化合物を再
度酸化することによっても製造することができる。その
場合の反応条件は、上記した2通りの条件のいずれでも
よい。
【0034】本発明誘導体は、これに常法に従って適当
な酸性化合物を付加反応させることにより、医薬的に許
容される酸付加塩とすることができ、之等は遊離形態の
本発明誘導体と同様の薬理活性を有し、同様の医薬用途
に有用であり、従って本発明は之等の塩をも包含する。
上記酸付加塩を形成し得る酸性化合物としては、例えば
塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸、シュウ酸、フマル
酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、p−トルエンスル
ホン酸等の有機酸を例示できる。
な酸性化合物を付加反応させることにより、医薬的に許
容される酸付加塩とすることができ、之等は遊離形態の
本発明誘導体と同様の薬理活性を有し、同様の医薬用途
に有用であり、従って本発明は之等の塩をも包含する。
上記酸付加塩を形成し得る酸性化合物としては、例えば
塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸、シュウ酸、フマル
酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、p−トルエンスル
ホン酸等の有機酸を例示できる。
【0035】また、本発明誘導体の内、カルボキシル基
を有するもの(Yがカルボニル基で且つR3がヒドロキ
シル基である化合物)は、これを常法に従いアルカリ金
属塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩等、アルカリ土
類金属塩、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等、そ
の他銅塩等とすることができ、之等の塩もまた本発明の
範疇に含まれる。
を有するもの(Yがカルボニル基で且つR3がヒドロキ
シル基である化合物)は、これを常法に従いアルカリ金
属塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩等、アルカリ土
類金属塩、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等、そ
の他銅塩等とすることができ、之等の塩もまた本発明の
範疇に含まれる。
【0036】上記それぞれの工程により得られる目的化
合物は、通常の分離、精製手段により容易に単離、精製
することができる。該手段としては、一般に用いられる
各種の手段、例えば吸着クロマトグラフィー、プレパラ
ティブ薄層クロマトグラフィー、再結晶、溶媒抽出等を
例示できる。
合物は、通常の分離、精製手段により容易に単離、精製
することができる。該手段としては、一般に用いられる
各種の手段、例えば吸着クロマトグラフィー、プレパラ
ティブ薄層クロマトグラフィー、再結晶、溶媒抽出等を
例示できる。
【0037】尚、本発明誘導体中、Yがスルフィニル基
のものは、硫黄原子を中心とする光学異性体が存在し、
この場合、本発明は、光学活性体及びラセミ体の両者を
包含する。
のものは、硫黄原子を中心とする光学異性体が存在し、
この場合、本発明は、光学活性体及びラセミ体の両者を
包含する。
【0038】
【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため、本
発明誘導体の製造例を実施例として挙げる。
発明誘導体の製造例を実施例として挙げる。
【0039】
【実施例1】 メチル 3−〔7−クロロ−3−メチル
−4(3H)−キナゾリノン−2−イル〕プロピオネー
トの製造 コハク酸モノメチル13.21gをジクロロメタン50
mlに溶かし、DMF5ml及び塩化チオニル11.8
9gを加え、1時間還流した。この反応液を2−(N−
メチルカルバモイル)−5−クロロアニリン18.46
gのジクロロメタン150ml及びピリジン50ml溶
液中に氷冷下に滴下し、室温で3時間撹拌した。反応終
了後、塩酸を加えて酸性とし、ジクロロメタンで抽出し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
し、残渣をジクロロメタン−ジエチルエーテルより再結
晶して、無色結晶19.4gを得た。
−4(3H)−キナゾリノン−2−イル〕プロピオネー
トの製造 コハク酸モノメチル13.21gをジクロロメタン50
mlに溶かし、DMF5ml及び塩化チオニル11.8
9gを加え、1時間還流した。この反応液を2−(N−
メチルカルバモイル)−5−クロロアニリン18.46
gのジクロロメタン150ml及びピリジン50ml溶
液中に氷冷下に滴下し、室温で3時間撹拌した。反応終
了後、塩酸を加えて酸性とし、ジクロロメタンで抽出し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
し、残渣をジクロロメタン−ジエチルエーテルより再結
晶して、無色結晶19.4gを得た。
【0040】上記で得られた結晶17.92gをジクロ
ロメタン200ml及びトリエチルアミン72.86g
に溶かし、クロロトリメチルシラン28.68gを加
え、9時間還流した。反応混合液を氷冷1N塩酸中に加
え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、更にシリカゲルで脱色後、濾過した。
濾液を減圧濃縮し、ジクロロメタン−ジエチルエーテル
−n−ヘキサンより再結晶して、目的化合物の無色結晶
14.36gを得た。得られた化合物の構造及び融点を
第1表に記載する。
ロメタン200ml及びトリエチルアミン72.86g
に溶かし、クロロトリメチルシラン28.68gを加
え、9時間還流した。反応混合液を氷冷1N塩酸中に加
え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、更にシリカゲルで脱色後、濾過した。
濾液を減圧濃縮し、ジクロロメタン−ジエチルエーテル
−n−ヘキサンより再結晶して、目的化合物の無色結晶
14.36gを得た。得られた化合物の構造及び融点を
第1表に記載する。
【0041】
【実施例2及び3】実施例1と同様にして、第1表に示
す各化合物を得た。
す各化合物を得た。
【0042】
【実施例4】 3−〔7−クロロ−3−メチル−4(3
H)−キナゾリノン−2−イル〕プロピオン酸の製造 実施例1で得られた化合物2.81gをメタノール30
ml及びジクロロメタン20mlに溶かし、2N水酸化
ナトリウム水溶液5mlを加え、室温で15.5時間撹
拌した。反応液に3N塩酸5mlを加え、析出した結晶
を濾取し、水及びメタノールで順次洗浄して、目的化合
物の無色結晶2.30gを得た。得られた化合物の構造
及び融点を第1表に記載する。
H)−キナゾリノン−2−イル〕プロピオン酸の製造 実施例1で得られた化合物2.81gをメタノール30
ml及びジクロロメタン20mlに溶かし、2N水酸化
ナトリウム水溶液5mlを加え、室温で15.5時間撹
拌した。反応液に3N塩酸5mlを加え、析出した結晶
を濾取し、水及びメタノールで順次洗浄して、目的化合
物の無色結晶2.30gを得た。得られた化合物の構造
及び融点を第1表に記載する。
【0043】
【実施例5】 N−エチル−3−〔7−クロロ−3−メ
チル−4(3H)−キナゾリノン−2−イル〕プロピオ
ンアミドの製造 実施例1で得られた化合物2.81gをメタノール50
mlに溶かし、70%エチルアミン8mlを30分間を
要して滴下し、40℃で1時間攪拌し、更に70%エチ
ルアミン32mlを滴下し、50℃で6時間攪拌した。
反応液を放冷し、析出物を濾取し、メタノール及びジエ
チルエーテルで順次洗浄して、目的化合物の無色結晶
1.47gを得た。得られた化合物の構造及び融点を第
1表に記載する。
チル−4(3H)−キナゾリノン−2−イル〕プロピオ
ンアミドの製造 実施例1で得られた化合物2.81gをメタノール50
mlに溶かし、70%エチルアミン8mlを30分間を
要して滴下し、40℃で1時間攪拌し、更に70%エチ
ルアミン32mlを滴下し、50℃で6時間攪拌した。
反応液を放冷し、析出物を濾取し、メタノール及びジエ
チルエーテルで順次洗浄して、目的化合物の無色結晶
1.47gを得た。得られた化合物の構造及び融点を第
1表に記載する。
【0044】
【実施例6〜10】実施例5と同様にして、第1表に示
す各化合物を得た。
す各化合物を得た。
【0045】
【実施例11】 7−クロロ−(3−メチル−2−(3
−エチルチオプロピル)−4(3H)−キナゾリノンの
製造 4−ブロモ酪酸エチル19.5gをDMF100mlに
溶かし、エタンチオール6.8g及び無水炭酸カリウム
13.8gを加え、室温で6時間撹拌した。反応混合液
に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を集めて水、
5%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮して、淡黄色油状の4−エチ
ルチオ酪酸エチル17gを得た。
−エチルチオプロピル)−4(3H)−キナゾリノンの
製造 4−ブロモ酪酸エチル19.5gをDMF100mlに
溶かし、エタンチオール6.8g及び無水炭酸カリウム
13.8gを加え、室温で6時間撹拌した。反応混合液
に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を集めて水、
5%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮して、淡黄色油状の4−エチ
ルチオ酪酸エチル17gを得た。
【0046】上記で得られた化合物17gをメタノール
50mlに溶かし、1N水酸化ナトリウム水溶液200
mlを加え、室温で1晩撹拌した。氷冷下、反応液に濃
塩酸を加えて酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層
を集めて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮して、無色油状の4−エチルチオ酪酸
12.8gを得た。
50mlに溶かし、1N水酸化ナトリウム水溶液200
mlを加え、室温で1晩撹拌した。氷冷下、反応液に濃
塩酸を加えて酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層
を集めて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮して、無色油状の4−エチルチオ酪酸
12.8gを得た。
【0047】上記で得られた化合物12.8gをジクロ
ロメタン100mlに溶かし、DMF2g及び塩化チオ
ニル10.2gを加え、1時間還流した。この反応液
を、2−(N−メチルカルバモイル)−5−クロロアニ
リン15.9gのジクロロメタン100ml及びピリジ
ン50ml溶液中に、氷冷下に1時間を要して滴下し、
室温で2時間撹拌した。反応終了後、氷水を加え、ジク
ロロメタンで抽出した。有機層を水、5%塩酸及び飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮し、残渣の粗結晶をジイソプロピルエーテルで
洗浄して、無色結晶23gを得た。
ロメタン100mlに溶かし、DMF2g及び塩化チオ
ニル10.2gを加え、1時間還流した。この反応液
を、2−(N−メチルカルバモイル)−5−クロロアニ
リン15.9gのジクロロメタン100ml及びピリジ
ン50ml溶液中に、氷冷下に1時間を要して滴下し、
室温で2時間撹拌した。反応終了後、氷水を加え、ジク
ロロメタンで抽出した。有機層を水、5%塩酸及び飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮し、残渣の粗結晶をジイソプロピルエーテルで
洗浄して、無色結晶23gを得た。
【0048】上記で得られた結晶23gをジクロロメタ
ン350ml及びトリエチルアミン88gに溶かし、ク
ロロトリメチルシラン31gを加え、1晩還流した。反
応混合液を氷水中に注ぎ込み、ジクロロメタンで抽出
し、有機層を水、5%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液・・・
n−ヘキサン−酢酸エチル=2:1)で精製し、更にn
−ヘキサンより再結晶して、目的化合物の無色結晶1
7.8gを得た。得られた化合物の構造及び融点を第1
表に記載する。
ン350ml及びトリエチルアミン88gに溶かし、ク
ロロトリメチルシラン31gを加え、1晩還流した。反
応混合液を氷水中に注ぎ込み、ジクロロメタンで抽出
し、有機層を水、5%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液・・・
n−ヘキサン−酢酸エチル=2:1)で精製し、更にn
−ヘキサンより再結晶して、目的化合物の無色結晶1
7.8gを得た。得られた化合物の構造及び融点を第1
表に記載する。
【0049】
【実施例12〜18】実施例11と同様にして、第1表
に示す構造及び融点の各化合物を得た。
に示す構造及び融点の各化合物を得た。
【0050】
【実施例19】 7−クロロ−3−メチル−2−(3−
エチルスルフィニルプロピル)−4(3H)−キナゾリ
ノンの製造 実施例11で得られた化合物2.5gの酢酸30ml溶
液中に、30%過酸化水素水1.0gを室温で滴下し、
室温で6時間撹拌した。反応終了後、混合物を水で希釈
し、ジクロロメタンで抽出した。有機層を集め、炭酸水
素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をジエチ
ルエーテルより再結晶して、目的化合物の無色結晶2.
4gを得た。得られた化合物の構造及び融点を第1表に
記載する。
エチルスルフィニルプロピル)−4(3H)−キナゾリ
ノンの製造 実施例11で得られた化合物2.5gの酢酸30ml溶
液中に、30%過酸化水素水1.0gを室温で滴下し、
室温で6時間撹拌した。反応終了後、混合物を水で希釈
し、ジクロロメタンで抽出した。有機層を集め、炭酸水
素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をジエチ
ルエーテルより再結晶して、目的化合物の無色結晶2.
4gを得た。得られた化合物の構造及び融点を第1表に
記載する。
【0051】
【実施例20〜26】実施例19と同様にして、第1表
に示す構造及び融点の各化合物を得た。
に示す構造及び融点の各化合物を得た。
【0052】
【実施例27】 7−クロロ−3−メチル−2−(3−
エチルスルホニルプロピル)−4(3H)−キナゾリノ
ンの製造 実施例11で得られた化合物2.5gの酢酸30ml溶
液中に、30%過酸化水素水2.3gを室温で滴下し、
タングステン酸ナトリウムを微量加え、室温で7時間撹
拌した。反応後、析出した結晶を濾取して水洗し、ジク
ロロメタンに溶かした。この溶液を水及び飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
した。残渣をジエチルエーテルより再結晶して、目的化
合物の淡黄色結晶2.5gを得た。得られた化合物の構
造及び融点を第1表に記載する。
エチルスルホニルプロピル)−4(3H)−キナゾリノ
ンの製造 実施例11で得られた化合物2.5gの酢酸30ml溶
液中に、30%過酸化水素水2.3gを室温で滴下し、
タングステン酸ナトリウムを微量加え、室温で7時間撹
拌した。反応後、析出した結晶を濾取して水洗し、ジク
ロロメタンに溶かした。この溶液を水及び飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
した。残渣をジエチルエーテルより再結晶して、目的化
合物の淡黄色結晶2.5gを得た。得られた化合物の構
造及び融点を第1表に記載する。
【0053】
【実施例28〜34】実施例27と同様にして、第1表
に示す構造及び融点の化合物を得た。
に示す構造及び融点の化合物を得た。
【0054】
【表1】
【0055】
【表2】
【0056】
【表3】
Claims (5)
- 【請求項1】一般式 【化1】 〔式中、R1は低級アルキル基を、R2はハロゲン原子
を、R3は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロ
キシル基又は置換基としてモルホリノ基を有することの
ある低級アルキルアミノ基を、Xは低級アルキレン基
を、Yは硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基又は
カルボニル基を示す。〕で表わされるキナゾリノン誘導
体。 - 【請求項2】請求項1に記載の一般式中、R3が低級ア
ルキル基で且つYが硫黄原子、スルフィニル基もしくは
スルホニル基である化合物及びR3が低級アルコキシ
基、ヒドロキシル基もしくは置換基としてモルホリノ基
を有することのある低級アルキルアミノ基で且つYがカ
ルボニル基である化合物から選ばれる請求項1に記載の
キナゾリノン誘導体。 - 【請求項3】R2の置換位置が7位である請求項2に記
載のキナゾリノン誘導体。 - 【請求項4】R1がメチル基である請求項3に記載のキ
ナゾリノン誘導体。 - 【請求項5】R3が低級アルキル基で且つYが硫黄原
子、スルフィニル基又はスルホニル基である請求項4に
記載のキナゾリノン誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31634796A JPH10158249A (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | キナゾリノン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31634796A JPH10158249A (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | キナゾリノン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10158249A true JPH10158249A (ja) | 1998-06-16 |
Family
ID=18076105
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31634796A Pending JPH10158249A (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | キナゾリノン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10158249A (ja) |
-
1996
- 1996-11-27 JP JP31634796A patent/JPH10158249A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2611244B2 (ja) | チアゾリジンジオン誘導体の製造法 | |
EP0274379A2 (en) | Process for preparing pyridine-2,3-dicarboxylic acid compounds | |
JPS62234069A (ja) | 2―ピラゾリン―5―オン類の製造法 | |
KR20030060901A (ko) | 팬토프라졸 및 그 중간체의 제조방법 | |
JPH10158249A (ja) | キナゾリノン誘導体 | |
JPH07215952A (ja) | カテコール誘導体 | |
US4927970A (en) | Substituted 3-cyclobutene-1,2-dione intermediates | |
JP3531943B2 (ja) | 4−メチルスルホニル安息香酸誘導体および中間体の改良された調製方法および中間体 | |
EP0146102B1 (en) | Process for preparing benzothiazine compounds | |
JPH10139768A (ja) | ナフタレン誘導体の製造方法 | |
JP4449211B2 (ja) | 6−(1−フルオロエチル)−5−ヨード−4−ピリミドン及びその製法 | |
JP4886948B2 (ja) | ビフェニルエチルアミン誘導体およびその製造方法 | |
JP3982645B2 (ja) | N−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体の製造中間体 | |
JPWO2006083010A1 (ja) | 4−アセチルピリミジン化合物の製造方法およびその結晶 | |
JP3646225B2 (ja) | 芳香族エステル誘導体及びその中間体並びにそれらの製造方法 | |
JP4110633B2 (ja) | 3−アミノ−4−フルオロ−2−不飽和カルボン酸エステル及びその製法 | |
JP3527255B2 (ja) | 6−n−置換アミノピコリン酸誘導体及びその製造法 | |
JP4055246B2 (ja) | 5−クロロ−6−(α−フルオロアルキル)−4−ピリミドン及びその製法 | |
JP3953225B2 (ja) | キノリン誘導体の製造方法 | |
KR810000293B1 (ko) | 치환아미노 퀴나졸린 유도체의 제조방법 | |
JPH0812658A (ja) | シドノン類の製造法 | |
JPH0825970B2 (ja) | テトラヒドロフタルイミド系化合物の製造法、その中間体および該中間体の製造法 | |
JPH0317075A (ja) | 6―フルオロクロモン―2―カルボン酸誘導体の製造法 | |
JPH0250117B2 (ja) | ||
JP2006515322A (ja) | ベンゾ[d]イソキサゾール−3−イル−メタンスルホン酸およびその中間体の製造方法 |