JPH1015340A - 処理ガス浄化装置 - Google Patents

処理ガス浄化装置

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JPH1015340A
JPH1015340A JP8192760A JP19276096A JPH1015340A JP H1015340 A JPH1015340 A JP H1015340A JP 8192760 A JP8192760 A JP 8192760A JP 19276096 A JP19276096 A JP 19276096A JP H1015340 A JPH1015340 A JP H1015340A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
liquid
piping system
liquid reservoir
parts
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Pending
Application number
JP8192760A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshinori Sato
良宜 佐藤
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SAYAMA KK
Original Assignee
SAYAMA KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明の目的は、製造、加工工程の製造、加工
ラインを停止させないで処理液の交換等のメンテナンス
を実施できる処理ガス浄化装置を提供することを目的と
したものである。 【構成】本発明は、液溜部とガス通過空間部と気液混合
室とを夫々設けた第1と第2浄化装置本体とを並設し、
第1ガス通過空間部へは処理ガス導入配管系を接続さ
せ、第1気液混合室と第2ガス通過空間部とはガス連通
配管系を接続させ、第2気液混合室へは排気配管系を接
続すると共に、第1液溜部と第2液溜部とには給水配管
系を接続させ、第1液溜部と第1気液混合室とは第1循
環配管系を接続させ、第2液溜部と第2気液混合室とは
第2循環配管系を接続させ、第1液溜部と第2液溜部と
は排液配管系を接続させたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、工業製品、食品の製
造、加工工程で発生する有害、異臭ガスを浄化させる装
置に関するものであり、詳細には、これ等の製造、加工
工程の製造、加工ラインを停止させないで処理液の交換
等のメンテナンスを実施できる処理ガス浄化装置に関す
るものである。
【0002】
【従来技術】従来、この種の処理ガス浄化装置は環境を
汚染しないように有害、異臭ガス等の有毒物質、異臭ガ
ス発生物質を排除して大気中に放出するように設備され
ているが、それ等のメンテナンスは処理液の汚れ都合を
見ながら定期的に行われていた。
【0003】
【解決しようとする課題】然し乍、従来の処理ガス浄化
装置のメンテナンスは製造、加工工程の製造、加工ライ
ンを停止して行っているもので、生産効率、加工効率が
低下していた。
【0004】
【課題を解決する手段】本発明は、前述の問題点に鑑
み、研鑽の結果、下方に第1液溜部と第2液溜部とを設
け、第1液溜部と第2液溜部との上方に第1ガス通過空
間部と第2ガス通過空間部とを設け、第1ガス通過空間
部と第2ガス通過空間部との上方へは第1気液混合室と
第2気液混合室とを設けた第1浄化装置本体と第2浄化
装置本体とを並設し、第1ガス通過空間部へは処理ガス
導入配管系を接続させ、第1気液混合室の上方と第2ガ
ス通過空間部の上方とは第1エリミネーターを介装して
ガス連通配管系を接続させ、第2気液混合室の上方へは
排風機に連通し第2エリミネーターを介装した排気配管
系を接続すると共に、第1液溜部と第2液溜部との下方
には給水配管系を接続させ、第1液溜部と第1気液混合
室とは第1循環配管系を接続させ、第2液溜部と第2気
液混合室とは第2循環配管系を接続させ、第1液溜部と
第2液溜部とは排液配管系を接続させたものである。
【0005】従って、本発明の目的は、処理ガス浄化装
置は処理ガスを浄化させるための処理液が汚れてメンテ
ナンスを必要とする場合、製造、加工工程の製造、加工
ラインを停止させないで処理液の交換等のメンテナンス
を実施できる処理ガス浄化装置に創達し、これを提供す
ることを目的としたものである。
【0006】
【作用】本発明の処理ガス浄化装置の作用は、処理ガス
導入配管系とガス連通配管系と排気配管系とから成る処
理ガス配管系と、第1循環配管系と第2循環配管系から
成る処理液循環系を停止すること無く、給水配管系と排
液配管系を操作することによって、処理ガス浄化装置の
第1液溜部と第2液溜部とに貯溜している処理液の交換
を可能としたものである。
【0007】
【実施例】以下、本発明の処理ガス浄化装置を実施例の
図面によって具体的に説明する。
【0008】図1は本発明の処理ガス浄化装置の実施例
のフローシート図である。
【0009】本発明は、工業製品、食品の製造、加工工
程で発生する有害、異臭ガスを浄化させる装置に関する
ものであり、詳細には、これ等の製造、加工工程の製
造、加工ラインを停止させないで処理液の交換等のメン
テナンスを実施できる処理ガス浄化装置に関するもので
あり、処理ガスを浄化する浄化装置であって、下方に第
1液溜部1aと第2液溜部2aとを夫々設け、該第1液
溜部1aと第2液溜部2aとの上方に第1ガス通過空間
部1bと第2ガス通過空間部2bとを夫々設け、該第1
ガス通過空間部1bと第2ガス通過空間部2bとの上方
へは第1気液混合室1cと第2気液混合室2cとを夫々
設けた第1浄化装置本体1と第2浄化装置本体2とを並
設し、前記第1ガス通過空間部1bへは処理ガス源Aか
ら処理ガスを導入する処理ガス導入配管系3を接続さ
せ、前記第1気液混合室1cの上方と第2ガス通過空間
部2bの上方とは第1エリミネーター4aを介装してガ
ス連通配管系4を接続させ、前記第2気液混合室2cの
上方へは処理済ガスを排気させる排風機Bに連通し第2
エリミネーター5aを介装した排気配管系5を接続する
と共に、前記第1液溜部1aと第2液溜部2aとの夫々
の下方には給水源Cと連通させた給水配管系6を接続さ
せ、前記第1液溜部1aと第1気液混合室1cとは第1
循環ポンプ7aを介装した第1循環配管系7を接続さ
せ、前記第2液溜部2aと第2気液混合室2cとは第2
循環ポンプ8aを介装した第2循環配管系8を接続さ
せ、前記第1液溜部1aと第2液溜部2aとの夫々の下
方には排液部Dと連通させた排液配管系9を接続させた
ものである。
【0010】即ち、本発明の処理ガス浄化装置は工業製
品、食品の製造、加工工場の排気や、これ等の製造、加
工工程の製造、加工ラインが設備されているブロック等
から発生する毒性や、異臭を伴う未処理ガスを浄化させ
る装置において、処理液の交換等のメンテナンスを容易
とする処理ガスの浄化装置である。
【0011】そして、第1浄化装置本体1と第2浄化装
置本体2とは並設されており、図1に図示する実施例で
は対称的に一側面を密接させているものであり、第1浄
化装置本体1と第2浄化装置本体2との夫々の下方には
第1液溜部1aと第2液溜部2aとを設けており、該第
1液溜部1aと第2液溜部2aとには後述する給水配管
系6、及び、第1循環配管系7と第2循環配管系8、排
液配管系9を夫々接続させているものである。
【0012】次いで、第1液溜部1aと第2液溜部2a
との夫々の上方に第1ガス通過空間部1bと第2ガス通
過空間部2bとを設けており、第1ガス通過空間部1b
へは後述する処理ガス導入配管系3を接続させており、
第2ガス通過空間部2bへは後述するガス連通配管系4
を接続させているものである。
【0013】更に、第1ガス通過空間部1bと第2ガス
通過空間部2bとの上方へは連通状態に第1気液混合室
1cと第2気液混合室2cとを夫々設けており、第1気
液混合室1cと第2気液混合室2cとはフィルターを配
し処理ガスを下方から上方に通過させると共に、後述す
る第1循環配管系7と第2循環配管系8とが接続されて
おり、第1循環配管系7と第2循環配管系8とから処理
液が供給され、処理液は第1気液混合室1cと第2気液
混合室2cを通過する処理ガスに噴霧されているもので
あり、第1気液混合室1cの上方には後述するガス連通
配管系4が接続され、第2気液混合室2cの上方へは後
述する排気配管系5が接続されているものである。
【0014】そして、第1ガス通過空間部1bへ接続さ
せている処理ガス導入配管系3は、工場、又は、製造、
加工ライン等の処理ガス源Aから未処理の処理ガスを導
入するもので、差圧スイッチPS、サーモスイッチTS
を付設していものである。
【0015】次に、ガス連通配管系4は第1気液混合室
1cの上方と第2ガス通過空間部2bの上方と接続させ
ているもので、通過する処理ガスに処理液をミスト状に
噴霧させる第1エリミネーター4aを介装しているもの
である。
【0016】更に、排気配管系5は第2気液混合室2c
の上方と処理済ガスを排気させる排風機Bとを接続させ
ているもので、通過する処理ガスに処理液をミスト状に
噴霧させる第2エリミネーター5aを介装しているもの
である。
【0017】つまり、未処理の処理ガスは処理ガス源A
から排気配管系5に連通させた排風機Bの吸引によっ
て、処理ガス導入配管系3を経て、第1浄化装置本体1
の第1ガス通過空間部1bに導入され、第1気液混合室
1cを通過する際に浄化され、第1気液混合室1cの上
方から第1エリミネーター4aを介装したガス連通配管
系4を経て、該第1エリミネーター4aで浄化され第2
浄化装置本体2の第2ガス通過空間部2bに導入され、
第2気液混合室2cを通過する際に再度浄化され、第2
気液混合室2cの上方から第2エリミネーター5aを介
装しており、該第2エリミネーター5aで更に浄化され
排風機Bに連通された排気配管系5を経て有害物質、異
臭物質等を除去した処理済ガスを排気として放出するも
のである。
【0018】一方、処理液の給水、或いは、補水を行う
ための給水配管系6は水道又は貯水槽等の給水源Cと第
1液溜部1a及び第2液溜部2aの夫々の下方と接続さ
せており、該給水配管系6に介装された開閉弁V、電磁
弁SGを操作し、流量計FIで流量をチェックすること
によって適量の処理液を第1液溜部1aと第2液溜部2
aとに給水するものである。
【0019】そして、第1循環配管系7は第1液溜部1
aと第1気液混合室1cとを第1循環ポンプ7aを介装
させて接続しており、第2循環配管系8は第2液溜部2
aと第2気液混合室2cとを第2循環ポンプ8aを介装
させて接続しているもので、第1循環ポンプ7aと第2
循環ポンプ8aとの駆動によって第1気液混合室1cと
第2気液混合室2cとで通過する処理ガスに処理液を噴
霧して浄化をするもので、噴霧後の処理液は第1液溜部
1a及び第2液溜部2aに夫々落下して貯溜するもので
ある。
【0020】更に、第1循環配管系7、及び、第2循環
配管系8へは夫々両側に開閉弁Vを配したストレーナー
STを介装すると共に、該ストレーナーSTをバイパス
させたバイパス配管系を開閉弁Vを介して設けており、
ストレーナーSTを点検することによって、第1循環配
管系7、及び、第2循環配管系8のメンテナンスを行う
ものである。
【0021】加えて、第1循環配管系7、及び、第2循
環配管系8へは夫々電磁弁SV及びフローチェッカーF
Iを介装しており、第1循環配管系7と第2循環配管系
8の流量を管理しているものであり、更には、第1循環
配管系7へは第1気液混合室1cの下方を洗浄するため
の第1気液混合室下方洗浄配管系を開閉弁Vを介して配
しているものである。
【0022】更に、排液配管系9は第1液溜部1aと第
2液溜部2aとの夫々の下方と下水或いは処理液槽等の
排液部Dと接続させているもので、夫々開閉弁Vを介装
した配管と、電磁弁SVを介装した配管とを並設してい
るものであり、夫々の配管の第1液溜部1aと第2液溜
部2aとの底面を貫通させた端部は底面より若干の高さ
を有して突出させているものである。
【0023】更には、第1液溜部1aと第2液溜部2a
とには夫々オーバーフロー装置10を付設しており、夫
々の貯溜される処理液を一定量のハイレベルより増加し
ないようにしており、夫々のオーバーフロー装置10か
らの処理液はオーバーフロー排液配管系として前記排液
配管系9へ接続させているものである。
【0024】更に、第1液溜部1aと第2液溜部2aと
の夫々の中には夫々の貯溜する処理液を一定量のローレ
ベルを検知するためのフロートレススイッチFLSを夫
々備えており、処理液のレベルが一定のローレベルに達
した時、警報を出したり、自動的に給水配管系6の電磁
弁SVを開くようにしているものである。
【0025】そして、図示する実施例では、第1ガス通
過空間部1bと給水配管系6とを開閉弁Vを介装して洗
浄用給水配管系11を接続させており、未処理の処理ガ
スが最初に導入される第1ガス通過空間部1の洗浄を可
能とするものである。
【0026】なお、前記第1エリミネーター4aと第2
エリミネーター5aとへは処理液を通過する処理ガスに
ミスト状に供給する第1エリミネーター給水系と第2エ
リミネーター給水系とを前記給水配管系6と開閉弁Vを
介して図示しないaとaとを接続させており、更に、第
1エリミネーター排水系と第2エリミネーター排水系と
は第1ガス通過空間部1bと第2ガス通過空間部2bと
の上方に接続され、第1液溜部1aと第2液溜部2aと
へ貯溜するものである。
【0027】
【発明の効果】本発明の処理ガスの浄化装置は、前述の
構成によって、絶えず、処理ガスの導入を行っていて
も、処理液の噴霧は第1循環配管系の第1循環ポンプと
第2循環配管系の第2循環ポンプとを駆動させておくこ
とで常時処理ガスは浄化は可能なものであり、一方、処
理液の交換は処理ガスの浄化を止めること無く、給水配
管系及び給水配管系を操作することが可能なものであ
り、実用性の高い極めて有意義な効果を奏するものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の処理ガス浄化装置の実施例のフ
ローシート図である。
【符号の説明】
1 第1浄化装置本体 1a 第1液溜部 1b 第1ガス通過空間部 1c 第1気液混合室 2 第2浄化装置本体 2a 第2液溜部 2b 第2ガス通過空間部 2c 第2気液混合室 3 処理ガス導入配管系 4 ガス連通配管系 4a 第1エリミネーター 5 排気配管系 5a 第2エリミネーター 6 給水配管系 7 第1循環配管系 7a 第1循環ポンプ 8 第2循環配管系 8a 第2循環ポンプ 9 排液配管系 10 オーバーフロー装置 11 洗浄用給水配管系 A 処理ガス源 B 排風機 C 給水源 D 排液部 PS 差圧スイッチ TS サーモスイッチ V 開閉弁 SV 電磁弁 FI 流量計 ST ストレーナー FLS フロートレススイッチ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】処理ガスを浄化する浄化装置であって、下
    方に第1液溜部と第2液溜部とを夫々設け、該第1液溜
    部と第2液溜部との上方に第1ガス通過空間部と第2ガ
    ス通過空間部とを夫々設け、該第1ガス通過空間部と第
    2ガス通過空間部との上方へは第1気液混合室と第2気
    液混合室とを夫々設けた第1浄化装置本体と第2浄化装
    置本体とを並設し、前記第1ガス通過空間部へは処理ガ
    ス源から処理ガスを導入する処理ガス導入配管系を接続
    させ、前記第1気液混合室の上方と第2ガス通過空間部
    の上方とは第1エリミネーターを介装してガス連通配管
    系を接続させ、前記第2気液混合室の上方へは処理済ガ
    スを排気させる排風機に連通し第2エリミネーターを介
    装した排気配管系を接続すると共に、前記第1液溜部と
    第2液溜部との夫々の下方には給水源と連通させた給水
    配管系を接続させ、前記第1液溜部と第1気液混合室と
    は第1循環ポンプを介装した第1循環配管系を接続さ
    せ、前記第2液溜部と第2気液混合室とは第2循環ポン
    プを介装した第2循環配管系を接続させ、前記第1液溜
    部と第2液溜部との夫々の下方には排液部と連通させた
    排液配管系を接続させたことを特徴とする処理ガス浄化
    装置。
JP8192760A 1996-07-04 1996-07-04 処理ガス浄化装置 Pending JPH1015340A (ja)

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