JPH105532A - 排出ガスの処理装置およびその方法 - Google Patents
排出ガスの処理装置およびその方法Info
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- JPH105532A JPH105532A JP8315306A JP31530696A JPH105532A JP H105532 A JPH105532 A JP H105532A JP 8315306 A JP8315306 A JP 8315306A JP 31530696 A JP31530696 A JP 31530696A JP H105532 A JPH105532 A JP H105532A
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/002—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by condensation
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 排出ガスの中に含まれている湿気またはヒュ
ームを完全に除去できるよう改善することで、メインダ
クトの腐食を防止し、設備維持が容易であり、さらに環
境汚染の防止に好適な排出ガスの処理装置および方法を
提供する。 【解決手段】 所定の工程を経たガス中に含まれる汚染
物質を除去するスクラッパに湿気およびヒューム等を除
去する除去装置を排気管により連通させ、この除去装置
内に流入された排出ガスの体積を膨脹させ温度を拡散に
より低下させる第１温度低下手段と、この第１温度低下
手段を経て排出されるガスに一定のガスを加速供給し周
囲圧力を下げ温度を再び低下させる第２温度低下手段と
を具備し、この第１、第２温度低下手段によって液化さ
れたガスの湿気、その他の不純物を濾過する集塵台を設
け、この集塵台を経た廃液をドレーンする排水管を備え
た処理装置を設ける。
ームを完全に除去できるよう改善することで、メインダ
クトの腐食を防止し、設備維持が容易であり、さらに環
境汚染の防止に好適な排出ガスの処理装置および方法を
提供する。 【解決手段】 所定の工程を経たガス中に含まれる汚染
物質を除去するスクラッパに湿気およびヒューム等を除
去する除去装置を排気管により連通させ、この除去装置
内に流入された排出ガスの体積を膨脹させ温度を拡散に
より低下させる第１温度低下手段と、この第１温度低下
手段を経て排出されるガスに一定のガスを加速供給し周
囲圧力を下げ温度を再び低下させる第２温度低下手段と
を具備し、この第１、第２温度低下手段によって液化さ
れたガスの湿気、その他の不純物を濾過する集塵台を設
け、この集塵台を経た廃液をドレーンする排水管を備え
た処理装置を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は排出ガスの処理装置
およびその方法に係り、より詳しくはガススクラッパや
液体ソースを使用する装置から排出されるガスの中に含
まれている湿気またはヒューム（Ｆｕｍｅ）を除去する
ことができる排出ガスの処理装置および方法に関する。
およびその方法に係り、より詳しくはガススクラッパや
液体ソースを使用する装置から排出されるガスの中に含
まれている湿気またはヒューム（Ｆｕｍｅ）を除去する
ことができる排出ガスの処理装置および方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体の製造工程、たとえば酸
化、拡散、化学気相蒸着（ＣＶＤ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）の工程等に使用さ
れる各種の化学物質はガス状態で各工程で処理され外部
へ排出されるが、これらは環境の汚染を誘発するため、
浄化して排出することが必要である。この種の装置とし
ては、特開平５−２６１２３２号公報に記載がある。従
来の排出ガスの処理装置の一つとして、図２および図３
に概略的な構造を示している。図２は従来の排出ガスの
処理装置の構成要部を示す構成図であり、また図３は、
図２に示すスクラッパ１０の構造を示す断面図である。
化、拡散、化学気相蒸着（ＣＶＤ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）の工程等に使用さ
れる各種の化学物質はガス状態で各工程で処理され外部
へ排出されるが、これらは環境の汚染を誘発するため、
浄化して排出することが必要である。この種の装置とし
ては、特開平５−２６１２３２号公報に記載がある。従
来の排出ガスの処理装置の一つとして、図２および図３
に概略的な構造を示している。図２は従来の排出ガスの
処理装置の構成要部を示す構成図であり、また図３は、
図２に示すスクラッパ１０の構造を示す断面図である。
【０００３】図２に示すように従来の排出ガスの処理装
置は、外部設備による工程（図示せず）から排出される
ガスを流入管１０ａを介してスクラッパ１０内に流入さ
せた後、スクラッパ１０を通過させてガスに含まれてい
る汚染物等を浄化する。このように浄化された排出ガス
は排出管１０ｂを介してメインダクト２０に集結され外
部に排出される。スクラッパ１０の内部は、図３に示す
ように、１次段階で流入管１０ａを介して流入されたガ
スに含まれている汚染物を吸収する吸収層１３と、２次
段階で吸収層１３を通過して上部に流動されるガスに洗
浄液を噴射し洗浄する多数のノズル１１と、ガスに含有
されている湿気等を濾過するデミスタ１５とを具備して
いる。
置は、外部設備による工程（図示せず）から排出される
ガスを流入管１０ａを介してスクラッパ１０内に流入さ
せた後、スクラッパ１０を通過させてガスに含まれてい
る汚染物等を浄化する。このように浄化された排出ガス
は排出管１０ｂを介してメインダクト２０に集結され外
部に排出される。スクラッパ１０の内部は、図３に示す
ように、１次段階で流入管１０ａを介して流入されたガ
スに含まれている汚染物を吸収する吸収層１３と、２次
段階で吸収層１３を通過して上部に流動されるガスに洗
浄液を噴射し洗浄する多数のノズル１１と、ガスに含有
されている湿気等を濾過するデミスタ１５とを具備して
いる。
【０００４】このような構成によるスクラッパ１０に流
入されたガスは、吸収層１３を通過し、また噴射ノズル
１１から噴射された洗浄液によって洗浄されると、ガス
に含まれている汚染物等はほとんど濾過されれしまう。
その後、デミスタ１５を通過させガス内に含まれている
湿気等を濾過すると、浄化されたガスが排出管１０ｂを
介して排出される。これにより必然的に、下部に沈澱す
る汚染物質は排水管１０ｃを介して外部に設けた排水処
理設備（図示せず）に排出される。このように従来、製
造工程において設備から排出されるガスは、スクラッパ
を介して浄化され汚染物質が濾過されて排出されてい
た。
入されたガスは、吸収層１３を通過し、また噴射ノズル
１１から噴射された洗浄液によって洗浄されると、ガス
に含まれている汚染物等はほとんど濾過されれしまう。
その後、デミスタ１５を通過させガス内に含まれている
湿気等を濾過すると、浄化されたガスが排出管１０ｂを
介して排出される。これにより必然的に、下部に沈澱す
る汚染物質は排水管１０ｃを介して外部に設けた排水処
理設備（図示せず）に排出される。このように従来、製
造工程において設備から排出されるガスは、スクラッパ
を介して浄化され汚染物質が濾過されて排出されてい
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の排出ガ
ス処理装置は、湿気等を除去するデミスタが単純にガス
の熱を下げる方法、即ち露点を低下させる方法を利用し
ているため、湿式スクラッパ等を用いて排出ガスを浄化
する際、ガスの中に含まれている湿気またはヒュームを
充分に除去することが出来ないという不具合があった。
従って、排出ガスが充分に湿気等を除去されないままに
排出されると、メインダクトがすぐに腐食してしまい、
さらに、環境汚染を防止するための効果を発揮できなく
なるという不具合が生じてしまう。このため２年に１回
以上、メインダクトを取り替えなくてはならない不具合
があった。本発明は従来の問題点を解決するために、排
出ガスの中に含まれている湿気またはヒュームを完全に
除去できるよう改善することで、メインダクトの腐食を
防止し、設備維持が容易であり、さらに環境汚染の防止
に好適な排出ガスの処理装置および方法を提供すること
を目的とする。
ス処理装置は、湿気等を除去するデミスタが単純にガス
の熱を下げる方法、即ち露点を低下させる方法を利用し
ているため、湿式スクラッパ等を用いて排出ガスを浄化
する際、ガスの中に含まれている湿気またはヒュームを
充分に除去することが出来ないという不具合があった。
従って、排出ガスが充分に湿気等を除去されないままに
排出されると、メインダクトがすぐに腐食してしまい、
さらに、環境汚染を防止するための効果を発揮できなく
なるという不具合が生じてしまう。このため２年に１回
以上、メインダクトを取り替えなくてはならない不具合
があった。本発明は従来の問題点を解決するために、排
出ガスの中に含まれている湿気またはヒュームを完全に
除去できるよう改善することで、メインダクトの腐食を
防止し、設備維持が容易であり、さらに環境汚染の防止
に好適な排出ガスの処理装置および方法を提供すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を解
決するために、所定の工程を経た後、メイシダクトに排
出されるガスの中に含まれた湿気またはヒューム等を除
去する排出ガスの処理装置において、所定の工程を経た
ガスが流入および排出されるガス流入管および排気管と
廃液がドレーンされる排水管とを有する筒体と、筒体内
に流入された排出ガスの体積を膨脹させ温度を降下させ
るように排出ガスを拡散させる第１温度低下手段と、第
１温度低下手段を経て排出されるガスの周囲圧力を下げ
温度を再び低下させるとともに所定のガスを加速供給す
る第２温度低下手段と、第１、第２温度低下手段によっ
て液化されたガスに含まれている湿気およびヒューム等
を濾過する集塵台とを備えている。
決するために、所定の工程を経た後、メイシダクトに排
出されるガスの中に含まれた湿気またはヒューム等を除
去する排出ガスの処理装置において、所定の工程を経た
ガスが流入および排出されるガス流入管および排気管と
廃液がドレーンされる排水管とを有する筒体と、筒体内
に流入された排出ガスの体積を膨脹させ温度を降下させ
るように排出ガスを拡散させる第１温度低下手段と、第
１温度低下手段を経て排出されるガスの周囲圧力を下げ
温度を再び低下させるとともに所定のガスを加速供給す
る第２温度低下手段と、第１、第２温度低下手段によっ
て液化されたガスに含まれている湿気およびヒューム等
を濾過する集塵台とを備えている。
【０００７】一方、本発明による排出ガスの処理方法
は、所定の工程を経て排出されるガスに湿気およびヒュ
ーム等を含んだまま筒体の内部に流入される流入段階
と、筒体の内部に流入された排出ガスを拡散室内で拡散
させてガスの体積を膨脹させることによってガスの温度
を下げることができる第１温度低下段階と、第１温度低
下段階を経て拡散室から排出されるガスに一定のガスを
噴射して周囲の圧力を低めることによってガスの温度を
再び下げる第２温度低下段階と、第１、第２温度低下段
階を経て液化される排出ガスに含まれている湿気および
ヒユ‐ムを濾過する集塵段階と、集塵段階を経て濾過さ
れた湿気およびヒュームが廃液となって排水管を介して
ドレーンされ、残りの浄化されたガスが排気管を介して
排気される排出段階とを備えている。
は、所定の工程を経て排出されるガスに湿気およびヒュ
ーム等を含んだまま筒体の内部に流入される流入段階
と、筒体の内部に流入された排出ガスを拡散室内で拡散
させてガスの体積を膨脹させることによってガスの温度
を下げることができる第１温度低下段階と、第１温度低
下段階を経て拡散室から排出されるガスに一定のガスを
噴射して周囲の圧力を低めることによってガスの温度を
再び下げる第２温度低下段階と、第１、第２温度低下段
階を経て液化される排出ガスに含まれている湿気および
ヒユ‐ムを濾過する集塵段階と、集塵段階を経て濾過さ
れた湿気およびヒュームが廃液となって排水管を介して
ドレーンされ、残りの浄化されたガスが排気管を介して
排気される排出段階とを備えている。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図１および図４を参照して
本発明の実施形態による排出ガスの処理装置および方法
を詳細に説明する。図１は本発明の実施形態による排出
ガスの処理装置の要部を示す構成図であり、図４は図１
に示す処理装置において湿気およびヒューム等を除去す
る除去装置の構造を示す断面図である。また図１に示す
本発明の実施形態による排出ガスの処理装置は、図２に
示す従来の排出ガス処理装置のメインダクトとスクラッ
パとは同一の構成要素であるため重複する説明は省略す
る。
本発明の実施形態による排出ガスの処理装置および方法
を詳細に説明する。図１は本発明の実施形態による排出
ガスの処理装置の要部を示す構成図であり、図４は図１
に示す処理装置において湿気およびヒューム等を除去す
る除去装置の構造を示す断面図である。また図１に示す
本発明の実施形態による排出ガスの処理装置は、図２に
示す従来の排出ガス処理装置のメインダクトとスクラッ
パとは同一の構成要素であるため重複する説明は省略す
る。
【０００９】図１に示すように本発明の実施形態による
排出ガスの処理装置は、外部設備（図示せず）の工程か
ら排出されるガスを流入管１２を介して処理装置内に流
入させ浄化するスクラッパ１０と、このスクラッパ１０
の上部に配設した排出管１４により連通された除去装置
３０とを具備している。この除去装置３０内では、排出
管１４から流入するガスに含まれている湿気またはヒュ
ーム等を除去している。ここで除去装置３０の下部側面
には、調節バルブ４２を介し連通し窒素（Ｎ2）等のガ
スを供給するガス供給部４０が配設されている。また、
除去装置３０を通過したガスは排気管１４を介してメイ
ンダクト２０に流入されて外部に排出される。
排出ガスの処理装置は、外部設備（図示せず）の工程か
ら排出されるガスを流入管１２を介して処理装置内に流
入させ浄化するスクラッパ１０と、このスクラッパ１０
の上部に配設した排出管１４により連通された除去装置
３０とを具備している。この除去装置３０内では、排出
管１４から流入するガスに含まれている湿気またはヒュ
ーム等を除去している。ここで除去装置３０の下部側面
には、調節バルブ４２を介し連通し窒素（Ｎ2）等のガ
スを供給するガス供給部４０が配設されている。また、
除去装置３０を通過したガスは排気管１４を介してメイ
ンダクト２０に流入されて外部に排出される。
【００１０】図４に示すように除去装置３０には、略円
筒形の筒体３１と、この筒体３１の上面中央に所定の工
程を経た排出ガスが流入されるガス流入管３２とを設け
ている。筒体３１の上部側面にはガス排気管３３を備え
ている。また、筒体３１の底面には湿気およびヒューム
等が廃液となってドレーン（排出）される排出管３４を
具備している。筒体３１内側の上面には、流入ガスの温
度を低下させる第１温度低下手段として円筒形の拡散室
３６がガス流入管３２と締結され連通している。この拡
散室３６の底面および底面の周囲には複数の通気孔３６
ａが一定の間隔で貫設されている。また、拡散室３６の
底面中央には上部へ垂直に支持体３８が設けられてお
り、この支持体３８の上部先端にはガス流入管３２の開
口部と対向するように円錐形の拡散カップ３５が連設さ
れる。ここで、拡散カップ３６の開口の面積は流入ガス
が拡散カップ３６の内側に衝突し外部へ拡散するよう
に、流入管３２の断面積よりも広く設けてある。
筒形の筒体３１と、この筒体３１の上面中央に所定の工
程を経た排出ガスが流入されるガス流入管３２とを設け
ている。筒体３１の上部側面にはガス排気管３３を備え
ている。また、筒体３１の底面には湿気およびヒューム
等が廃液となってドレーン（排出）される排出管３４を
具備している。筒体３１内側の上面には、流入ガスの温
度を低下させる第１温度低下手段として円筒形の拡散室
３６がガス流入管３２と締結され連通している。この拡
散室３６の底面および底面の周囲には複数の通気孔３６
ａが一定の間隔で貫設されている。また、拡散室３６の
底面中央には上部へ垂直に支持体３８が設けられてお
り、この支持体３８の上部先端にはガス流入管３２の開
口部と対向するように円錐形の拡散カップ３５が連設さ
れる。ここで、拡散カップ３６の開口の面積は流入ガス
が拡散カップ３６の内側に衝突し外部へ拡散するよう
に、流入管３２の断面積よりも広く設けてある。
【００１１】このような構成の排出ガス処理装置がより
著しい効果を得るために、拡散室３６の下部に複数設け
た通気孔３６ａの面積の和（ｎＡ）が、ガス流入管３２
の断面積（Ａ1 ）または、ガス排気管３３の断面積（Ａ
2 ）とほぼ同じに設けることが好ましい。これはガスの
流れを円滑にするためである。また、拡散室３６の直径
Ｄは流入管３２の直径Ｄ1 のほぼ３倍であり、拡散室３
６の高さＨは拡散室３６の直径Ｄのほぼ１．５倍であ
る。一方、筒体３１の下部の側面、または拡散室３６の
下側には窒素（Ｎ2 ）ガスを高圧に噴射する複数の噴射
ノズル４４が装着される。この噴射ノズル４４は、通気
孔３６ａを介して排出されるガスと、噴射ノズル４４か
ら噴射される噴射ガスとが直接衝突して逆圧を発生させ
ガスの流れを妨げないように所定の角度に下向きの傾斜
を設けている。好ましくは、噴射ノズル４４の傾斜角は
６°にし、窒素ガスの加速力を増大できるようにジェッ
ト噴射方式を採用することにより著しい効果がえられ
る。
著しい効果を得るために、拡散室３６の下部に複数設け
た通気孔３６ａの面積の和（ｎＡ）が、ガス流入管３２
の断面積（Ａ1 ）または、ガス排気管３３の断面積（Ａ
2 ）とほぼ同じに設けることが好ましい。これはガスの
流れを円滑にするためである。また、拡散室３６の直径
Ｄは流入管３２の直径Ｄ1 のほぼ３倍であり、拡散室３
６の高さＨは拡散室３６の直径Ｄのほぼ１．５倍であ
る。一方、筒体３１の下部の側面、または拡散室３６の
下側には窒素（Ｎ2 ）ガスを高圧に噴射する複数の噴射
ノズル４４が装着される。この噴射ノズル４４は、通気
孔３６ａを介して排出されるガスと、噴射ノズル４４か
ら噴射される噴射ガスとが直接衝突して逆圧を発生させ
ガスの流れを妨げないように所定の角度に下向きの傾斜
を設けている。好ましくは、噴射ノズル４４の傾斜角は
６°にし、窒素ガスの加速力を増大できるようにジェッ
ト噴射方式を採用することにより著しい効果がえられ
る。
【００１２】また、筒体３１の下部には拡散室３６およ
び噴射ノズル４４の作用によって液化されたガスに含ま
れている湿気、ヒューム、化学成分、その他不純物が濾
過できる板状の集塵台３７が設けられる。筒体３１の底
面に設けられた排出管３４は、逆圧の生成を抑制すると
ともに廃液を停滞することなく自然排水させるため略Ｕ
型に形成されている。したがって自然排出させるために
は、排出管３４の高さＬはガスの入出の差圧（ΔＰ＝Ｐ
2−Ｐ2 ）よりも大きな圧力が加わるように略Ｕ型の高
さ（水の高さ、水頭）を高く設けなければならない。
び噴射ノズル４４の作用によって液化されたガスに含ま
れている湿気、ヒューム、化学成分、その他不純物が濾
過できる板状の集塵台３７が設けられる。筒体３１の底
面に設けられた排出管３４は、逆圧の生成を抑制すると
ともに廃液を停滞することなく自然排水させるため略Ｕ
型に形成されている。したがって自然排出させるために
は、排出管３４の高さＬはガスの入出の差圧（ΔＰ＝Ｐ
2−Ｐ2 ）よりも大きな圧力が加わるように略Ｕ型の高
さ（水の高さ、水頭）を高く設けなければならない。
【００１３】このように構成された本発明の実施形態に
よる排出ガスの処理装置を使用する場合、外部に設けた
工程設備（図示せず）で処理し排出されたガスは、スク
ラッパ１０を経て除去装置３０に流入される。従って、
筒体３１の流入管３２を介して流入されたガスは拡散室
３６内で拡散カップ３５に衝突して拡散する。この衝突
したガスは、体積が膨脹して露点が下がる。このように
１次段階でガスの温度低下によりガスの中に含まれてい
る湿気およびヒューム等を分離し液化させる役割をす
る。次に、拡散室３６の通気孔３６ａを通して排出され
るガスに供給部４０（図１参照）から供給された窒素
（Ｎ2 ）ガスを噴射ノズル４４によって高圧に噴射する
と、その排出されるガスの周囲の圧力が低下することに
よりガスの露点も人為的に低下する。これにより必然的
に、窒素ガスが排出ガスを希釋する作用も同時に行なえ
る。したがって、２次段階ではガスの温度降下によりガ
スに含まれている湿気等を完全に液化させることができ
る。
よる排出ガスの処理装置を使用する場合、外部に設けた
工程設備（図示せず）で処理し排出されたガスは、スク
ラッパ１０を経て除去装置３０に流入される。従って、
筒体３１の流入管３２を介して流入されたガスは拡散室
３６内で拡散カップ３５に衝突して拡散する。この衝突
したガスは、体積が膨脹して露点が下がる。このように
１次段階でガスの温度低下によりガスの中に含まれてい
る湿気およびヒューム等を分離し液化させる役割をす
る。次に、拡散室３６の通気孔３６ａを通して排出され
るガスに供給部４０（図１参照）から供給された窒素
（Ｎ2 ）ガスを噴射ノズル４４によって高圧に噴射する
と、その排出されるガスの周囲の圧力が低下することに
よりガスの露点も人為的に低下する。これにより必然的
に、窒素ガスが排出ガスを希釋する作用も同時に行なえ
る。したがって、２次段階ではガスの温度降下によりガ
スに含まれている湿気等を完全に液化させることができ
る。
【００１４】このように１次段階および、２次段階の温
度低下段階を経て液化された湿気、ヒューム、その他不
純物等の廃液が集塵台３７に一部吸着されるか、あるい
は筒体３１の下部に流れて排出管３４を介して外部ヘド
レーン（排出）される。しかし、混気等が濾過されて浄
化されたガスはガス排気管３３を介してメインダクト２
０に集められる。このとき、拡散室３６の直径Ｄよりガ
ス排気管３３の直径Ｄ2 が狭いため、ガス排気管３３を
通して排出されるガスの流速は増加するようになり、ガ
スの露点が更に高くなる。したがって、除去装置３０で
浄水されたガスは、ガス排気管３３を介して排出される
際に、ガスの流速が増加し露点が更に高くなるため、ガ
スに含まれている微量の湿気は再び除去される。このた
め排出管１４やメインダクト２０を腐食させる現象を防
ぐことができる。
度低下段階を経て液化された湿気、ヒューム、その他不
純物等の廃液が集塵台３７に一部吸着されるか、あるい
は筒体３１の下部に流れて排出管３４を介して外部ヘド
レーン（排出）される。しかし、混気等が濾過されて浄
化されたガスはガス排気管３３を介してメインダクト２
０に集められる。このとき、拡散室３６の直径Ｄよりガ
ス排気管３３の直径Ｄ2 が狭いため、ガス排気管３３を
通して排出されるガスの流速は増加するようになり、ガ
スの露点が更に高くなる。したがって、除去装置３０で
浄水されたガスは、ガス排気管３３を介して排出される
際に、ガスの流速が増加し露点が更に高くなるため、ガ
スに含まれている微量の湿気は再び除去される。このた
め排出管１４やメインダクト２０を腐食させる現象を防
ぐことができる。
【００１５】
【発明の効果】このように本発明の排出ガスの処理装置
および方法によれば、従来のスクラッパ装置に加えガス
の湿気およびヒューム等を除去する除去装置を配設し数
段階処理して濾過することにより、排出ガスの中に含ま
れている湿気およびヒューム等を完全に除去することが
できる。また、排出ガス中の湿気およびヒューム等が完
全に除去することでメインダクト内の腐食を同時に防ぐ
ことができる。さらに、メインダクトの腐食を防止でき
ることにより設備の損傷が少なくなり、これにより設備
の維持費を節減することができる。また、常に排出ガス
中の湿気およびヒューム等が除去され、メインダクト内
が腐食せず維持されるため、この装置から排出された廃
液による環境汚染の問題を更に効果的に予防することが
できる。
および方法によれば、従来のスクラッパ装置に加えガス
の湿気およびヒューム等を除去する除去装置を配設し数
段階処理して濾過することにより、排出ガスの中に含ま
れている湿気およびヒューム等を完全に除去することが
できる。また、排出ガス中の湿気およびヒューム等が完
全に除去することでメインダクト内の腐食を同時に防ぐ
ことができる。さらに、メインダクトの腐食を防止でき
ることにより設備の損傷が少なくなり、これにより設備
の維持費を節減することができる。また、常に排出ガス
中の湿気およびヒューム等が除去され、メインダクト内
が腐食せず維持されるため、この装置から排出された廃
液による環境汚染の問題を更に効果的に予防することが
できる。
【図１】本発明の実施形態による排出ガスの処理装置の
構成要部を示す構成図。
構成要部を示す構成図。
【図２】従来の排出ガスの処理装置の構成要部を示す構
成図。
成図。
【図３】図２に示すスクラッパの構造を示す断面図。
【図４】図１に示す処理装置において湿気およびヒュー
ム等を除去する除去装置の構造を示す断面図。
ム等を除去する除去装置の構造を示す断面図。
１０ スクラッバ １２ 流入管 １４ 排出管 ２０ メインダクト ３０ 除去装置 ４０ ガス供給部 ４２ 調節バルブ
Claims (12)
- 【請求項１】 所定の工程を経てメインダクトに排出さ
れるガスの中に含まれている湿気またはヒューム等を除
去する排出ガスの処理装置において、 前記所定の工程を経たガスが流入および排出されるガス
流入管および排気管と廃液がドレーンされる排水管とを
有する筒体と、 前記筒体内に流入された排出ガスの体積を膨脹させて温
度を低下させるとともに前記排出ガスを拡散させる第１
温度低下手段と、 前記第１温度低下手段を経て排出されるガスの周囲圧力
を下げることにより温度を再び低下させるとともに所定
のガスを加速供給する第２温度低下手段と、 前記第１、第２温度低下手段によって液化されたガスに
含まれている湿気および、その他の不純物を濾過する集
塵台とを具備したことを特徴とする排出ガスの処理装
置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の排出ガスの処理装置に
おいて、 前記第１温度低下手段は、 排出ガスを衝突させて拡散するようにガス流入管の断面
積より広い開口面を有する円錐形の拡散カップと、 前記拡散カップが上面入口に配設され、この上面入口に
前記ガス流入管が連設されるとともに、このガス流入管
を介し前記拡散カップに流入し拡散されるガスを排出す
る複数の通気孔が底面および底面の周囲にそれぞれ配設
された拡散室とからなることを特徴とする排出ガスの処
理装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載の排出ガスの処理装置に
おいて、 前記拡散室に複数設けた通気孔の断面積の和と、前記ガ
ス流入管の断面積または排気管の断面績とが、ほぼ同じ
になるように設けられていることを特徴とする排出ガス
の処理装置。 - 【請求項４】 請求項２に記載の排出ガスの処理装置に
おいて、 前記拡散室の直径は流入管の直径のほぼ３倍であること
を特徴とする排出ガスの処理装置。 - 【請求項５】 請求項２に記載の排出ガスの処理装置に
おいて、 前記拡散室の高さは拡散室の直径のほぼ１．５倍である
ことを特徴とする排出ガスの処理装置。 - 【請求項６】 請求項１に記載の排出ガスの処理装置に
おいて、 前記第２温度低下手段は、前記筒体の外側面の周囲に一
定の間隔で配設され一定量のガスを高圧噴射する複数の
噴射ノズルを備えていることを特徴とする排出ガスの処
理装置。 - 【請求項７】 請求項６に記載の排出ガスの処理装置に
おいて、 前記噴射ノズルは、ノズルから噴射される噴射ガスと、
前記通気孔を介して排出されるガスとが直接衝突し逆圧
を発生させガスの流れを妨げないように所定の角度で下
向きに傾斜を設けていることを特徴とする排出ガスの処
理装置。 - 【請求項８】 請求項６に記載の排出ガスの処理装置に
おいて、 前記噴射ノズルを介して噴射されるガスは窒素ガスであ
ることを特徴とする排出ガスの処理装置。 - 【請求項９】 請求項１に記載の排出ガスの処理装置に
おいて、 前記排水管は逆圧の生成を抑制するとともに廃液が停滞
することなく自然排水可能な略Ｕ型を有する管からなる
ことを特徴とする排出ガスの処理装置。 - 【請求項１０】 請求項９に記載の排出ガスの処理装置
において、 前記略Ｕ型を有する排水管の高さは、自然排水のため前
記排出ガスの入出の差圧より高い圧力が前記排水管に加
わるように略Ｕ型の高さを高く設けたことを特徴とする
排出ガスの処理装置。 - 【請求項１１】 所定の工程の過程を経て排出されるガ
スに湿気およびヒューム等を含んだままで筒体の内部に
流入する流入段階と、 前記筒体の内部に流入された排出ガスを拡散室内で拡散
させてガスの体積を膨脹させることによってガスの温度
を下げる第１温度低下段階と、 前記第１温度低下段階を経て拡散室から排出されるガス
に所定のガスを噴射して周囲の圧力を低減させることに
よりガスの温度を再び低下させる第２温度低下段階と、 前記第１、第２温度低下段階を経て液化される排出ガス
に含まれている湿気およびヒュームを濾過する集塵段階
と、 前記集塵段階を経て湿気およびヒュームが濾過されたガ
スが廃液となって排水管を通してドレーンされる段階
と、 ガスが浄化され排気管を介して排気される排出段階とか
らなることを特徴とする排出ガスの処理方法。 - 【請求項１２】 請求項１１に記載の排出ガスの処理方
法において、 前記排出段階は浄化されたガスが排気管を通過するとき
排水されなかった微量の湿気を再び除去することができ
るようにガスの流速差によってガスの温度を上昇させる
段階を具備していることを特徴とする排出ガスの処理方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1996P-24194 | 1996-06-26 | ||
| KR1019960024194A KR0164529B1 (ko) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | 배출가스 처리장치 및 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH105532A true JPH105532A (ja) | 1998-01-13 |
| JP3668345B2 JP3668345B2 (ja) | 2005-07-06 |
Family
ID=19463677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31530696A Expired - Fee Related JP3668345B2 (ja) | 1996-06-26 | 1996-11-26 | 排出ガスの処理装置およびその方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5820658A (ja) |
| JP (1) | JP3668345B2 (ja) |
| KR (1) | KR0164529B1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100784190B1 (ko) * | 2001-12-17 | 2007-12-11 | 주식회사 포스코 | 전기도금공정 용액제조탱크의 배출흄 제거장치 |
| KR100948910B1 (ko) * | 2002-09-18 | 2010-03-24 | 주식회사 포스코 | 전기도금공정 용액제조탱크의 배출흄 응축장치 |
| KR101829755B1 (ko) * | 2017-12-20 | 2018-02-19 | 김은수 | 공기의 균일한 유동 분포를 가지는 변압기 설치용 에어 드라이어 및 이를 이용한 변압기의 설치 및 점검 방법 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100242956B1 (ko) * | 1997-06-03 | 2000-02-01 | 윤종용 | 가스 배기 시스템의 잔류물 제거 및 차단장치 |
| KR20010086942A (ko) * | 2000-03-04 | 2001-09-15 | 안길홍 | 피-엔 타입 산화티타늄 광촉매 코팅제조 방법과 이에전류를 이용한 기상중 환경오염물질 제거장치 |
| KR100621804B1 (ko) * | 2004-09-22 | 2006-09-19 | 삼성전자주식회사 | 디퓨저 및 그를 구비한 반도체 제조설비 |
| EP1825130A1 (de) * | 2004-10-25 | 2007-08-29 | Behr GmbH & Co. KG | Kondensatabscheider in einer turboladeranordnung und verfahren zum betrieben einer solchen anordnung |
| US9643217B2 (en) * | 2013-10-18 | 2017-05-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | In situ clean apparatus and method thereof |
| KR102259902B1 (ko) * | 2019-09-02 | 2021-06-03 | 한국에너지기술연구원 | SOx-NOx 동시 저감을 위한 임펠러 회전형 스크러버 |
| JP7394605B2 (ja) * | 2019-11-29 | 2023-12-08 | 株式会社ジャパンエンジンコーポレーション | Ｅｇｒシステム |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2910136A (en) * | 1956-07-20 | 1959-10-27 | Black Sivalls & Bryson Inc | Apparatus for separating fluids |
| US3687630A (en) * | 1968-07-24 | 1972-08-29 | John P Tailor | Gas cleaning process |
| US3596440A (en) * | 1969-05-14 | 1971-08-03 | Air Inc Van | Gas scrubber |
| US3605386A (en) * | 1970-06-16 | 1971-09-20 | Air Pollution Research & Devel | Furnace exhaust pollution eliminator |
| US3592122A (en) * | 1971-06-26 | 1971-07-13 | Texaco Inc | Gas dispersal unit |
| AT323311B (de) * | 1972-07-14 | 1975-07-10 | Bauer Heinz | Vorrichtung zum abstransport von öl aus ölabscheiderpatronen |
| FR2275240A1 (fr) * | 1974-06-21 | 1976-01-16 | Stein Industrie | Dispositif de pre-separation des gouttes d'eau d'un ecoulement biphasique |
| US4325716A (en) * | 1980-05-28 | 1982-04-20 | Livemore Gerald S V | Mixing chamber in combination with a dust cyclone separator |
| US4479809A (en) * | 1982-12-13 | 1984-10-30 | Texaco Inc. | Apparatus for gasifying coal including a slag trap |
| US4529423A (en) * | 1984-08-20 | 1985-07-16 | Johnson Ronald L | Trap for vapors from plastic extruders |
| JPH06510229A (ja) * | 1991-09-03 | 1994-11-17 | ラグサ，ギセツペ | 空気濾過器 |
-
1996
- 1996-06-26 KR KR1019960024194A patent/KR0164529B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-11-26 JP JP31530696A patent/JP3668345B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-31 US US08/775,768 patent/US5820658A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100784190B1 (ko) * | 2001-12-17 | 2007-12-11 | 주식회사 포스코 | 전기도금공정 용액제조탱크의 배출흄 제거장치 |
| KR100948910B1 (ko) * | 2002-09-18 | 2010-03-24 | 주식회사 포스코 | 전기도금공정 용액제조탱크의 배출흄 응축장치 |
| KR101829755B1 (ko) * | 2017-12-20 | 2018-02-19 | 김은수 | 공기의 균일한 유동 분포를 가지는 변압기 설치용 에어 드라이어 및 이를 이용한 변압기의 설치 및 점검 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3668345B2 (ja) | 2005-07-06 |
| KR980000543A (ko) | 1998-03-30 |
| US5820658A (en) | 1998-10-13 |
| KR0164529B1 (ko) | 1998-12-15 |
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