JPH10147863A5 - - Google Patents

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WO2005116288A1 (ja) * 2004-05-31 2005-12-08 Tdy Inc. 多層薄膜連続形成用超高真空スパッタリング装置及び多層薄膜連続形成用超高真空スパッタリング方法
JP4667057B2 (ja) * 2005-02-08 2011-04-06 キヤノン株式会社 成膜装置および成膜方法
JP4734020B2 (ja) * 2005-05-02 2011-07-27 株式会社アルバック 成膜装置
KR101253257B1 (ko) 2007-10-04 2013-04-10 가부시키가이샤 알박 필름 형성 장치 및 필름 형성 방법
JP4633816B2 (ja) * 2008-03-31 2011-02-16 株式会社フェローテック ターゲット交換式プラズマ発生装置
JP5443181B2 (ja) * 2010-01-16 2014-03-19 独立行政法人国立高等専門学校機構 マルチターゲットスパッタ装置
CN104233192A (zh) * 2014-08-27 2014-12-24 宁波英飞迈材料科技有限公司 一种换靶装置及其使用方法
WO2019021519A1 (ja) * 2017-07-25 2019-01-31 株式会社アルバック スパッタリング装置用のカソードユニット
JP7825393B2 (ja) * 2020-09-30 2026-03-06 芝浦メカトロニクス株式会社 成膜装置
CN112647039A (zh) * 2020-12-08 2021-04-13 长春金工表面工程技术有限公司 用于大型模具表面处理的全自动氮化处理系统
JP7662351B2 (ja) * 2021-02-18 2025-04-15 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、電子デバイスの製造方法及び成膜源のメンテナンス方法

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