JPH10142781A - フオトレジストフイルム及びプラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 工程が簡略であり、且つセル表面に密着した
均一な蛍光体層を形成することができるフォトレジスト
フイルム、及び該フイルムを用いるＰＤＰ背面板を提供
すること。 【解決手段】 蛍光体、感光性樹脂及び揮発性有機物か
らなる感光性樹脂組成物層をベースフイルムに積層して
なることを特徴とするフォトレジストフイルム、及び該
フイルムを用いるＰＤＰ背面板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）等の蛍光表示体の製造に有用なフ
ォトレジストフイルム、及びＰＤＰの背面板の製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にＰＤＰは、２枚の対向するガラス
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にＮｅ等を主体とするガスを封入した構造になって
いる。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電極周
辺の微小なセル内で放電を発生させることにより、各セ
ルを発光させて表示を行なうようにしている。情報表示
するためには、規則的に並んだセルを選択的に放電発光
させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露出してい
る直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている交流型（Ａ
Ｃ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や駆動方法
の違いによって、更にリフレッシュ駆動方式とメモリー
駆動方式に分類される。

【０００３】図１は、ＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示した
ものである。この図は前面板１と背面板２を離した状態
で示したもので、図示のようにガラスからなる前面板１
と背面板２とが互いに平行に且つ対向して配設されてお
り、背面板２の前面側には、これに立設するバリヤーリ
ブ３が固着され、このバリヤーリブ３により前面板１と
背面板２とが一定間隔で保持されている。そして、前面
板１の背面側には透明電極である維持電極４と金属電極
であるバス電極５とからなる複合電極が互いに平行に形
成され、これを覆って誘電体層６が形成されており、更
にその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されている。

【０００４】又、背面板２の前面側には前記複合電極と
直交するようにバリヤーリブ３の間に位置してアドレス
電極８が互いに平行に形成されており、更にバリヤーリ
ブ３の壁面とセル底面を覆うようにして蛍光体９が設け
られている。このＡＣ型ＰＤＰでは、前面板１上の複合
電極間に交流電源から所定の電圧を印加して電場を形成
することにより、前面板１と背面板２とバリヤーリブ３
とで区画される表示要素として各セル内で放電が行なわ
れる。そしてこの放電により生じる紫外線により蛍光体
９を発光させ、前面板１を透過してくる光を観察者が視
認するようになっている。この蛍光体の塗布方法として
は、蛍光体を含有せしめた感光性樹脂組成物からなるフ
ォトレジストフイルムを使用する方法が提案されている
（例えば、特開平６−２７３９２５号公報、特開平８−
９５２３９号公報、特開平８−９５２５０号公報等参
照）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記提案された方法
は、ＰＤＰの背面板に形成されたセル中に感光性組成物
を圧入し、露光及び現像後に焼成して圧入された感光性
組成物中の有機物を焼失させ、セル表面に蛍光体の層を
形成する方法であるが、焼成後のセル中には十分な放電
空間を確保する必要があるために、感光性樹脂組成物中
の有機物の含有量を大にする、即ち蛍光体の含有量を少
なくすることが必須である。このような事情からして、
焼成には多くの熱エネルギーを要するだけではなく、焼
成時には分解ガスが多量に発生するので焼成炉の管理が
煩雑であるという問題がある。

【０００６】更に重大な問題として、セル内に圧入され
た感光性樹脂組成物には有機物が多量に含まれているた
めに、焼成時間の経過とともに、感光性組成物が収縮
し、最終的に形成されるべき蛍光体層がセル表面から浮
き上がり、蛍光体層がセル表面に密着しないという問題
がある。従って、本発明の目的は上記従来技術の問題点
を解決し、工程が簡略であり、且つセル表面に密着した
均一な蛍光体層を形成することができるフォトレジスト
フイルム、及び該フイルムを用いるＰＤＰ背面板を提供
することである。

【０００７】

【問題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。即ち、本発明は、蛍光体、感光性
樹脂及び揮発性有機物からなる感光性樹脂組成物層をベ
ースフイルムに積層してなることを特徴とするフォトレ
ジストフイルム、及び該フイルムを用いるＰＤＰ背面板
の製造方法である。

【０００８】上記本発明によれば、本発明のフォトレジ
ストフイルムに積層された感光性樹脂組成物層は、比較
的多量の揮発性有機物を含有しているので、該組成物を
ＰＤＰの背面板のセル中に圧入後、適当な温度、例え
ば、１５０〜３００℃の温度で必要であれば減圧して乾
燥又は揮発処理を行うことによって、セル中の感光性樹
脂組成物は、その容積が縮小して、十分な放電空間が形
成され、その後に焼成することにより、焼失されるべき
有機物が少量となっているので、有機物の焼失に使用す
る時間及び熱エネルギーは少なく、又、焼成によって発
生するガスも少ないので焼成炉の管理も容易である。更
に最大の利点は、十分な放電空間が形成されるととも
に、最終的に形成される蛍光体層は、セルの表面に十分
に密着しており、従来技術における如き蛍光体の浮き上
がりや剥離等が生じない。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明で使用する蛍光体として
は、特に限定されないが、希土類オキシハライド等を母
体とし、この母体を付活剤で付活したものが好ましく、
例えば、紫外線励起型蛍光体としては、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、
ＹＶＯ₄：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕ（以上赤
色）、Ｚｎ₂ＧｅＯ₂：Ｍｎ、ＢａＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ、Ｚ
ｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＬａＰＯ₄：Ｔｂ（以上緑色）、Ｓ
ｒ₅（ＰＯ₄）₃Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ
²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₇：Ｅｕ（以上青色）等が挙げら
れ、その他の蛍光体としては、Ｙ₂Ｏ₃Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚ
ｎ₃（ＰＯ₄）₂：Ｍｎ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂
Ｏ₃（以上赤色）、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａ
ｕ，Ｃｕ，Ａｌ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｚｎ
₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ，Ａｓ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃｅ、Ｇｄ₂Ｏ₂
Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ（以上緑
色）、ＺｎＳ：Ａｇ＋赤色顔料、Ｙ₂ＳｉＯ₃：Ｃｅ（以
上青色）等を使用することもでき、勿論これらの蛍光体
は２種類以上を混合して使用することもできる。

【００１０】本発明で使用する感光性樹脂は、ベースポ
リマー（ａ）、エチレン性不飽和化合物（ｂ）及び光重
合開始剤（ｃ）からなり、ベースポリマー（ａ）として
は、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタ
ン系樹脂等が用いられる。これらの中では、（メタ）ア
クリル酸エステルを主成分とし、必要に応じてエチレン
性不飽和カルボン酸や他の共重合可能なモノマーを共重
合したアクリル系共重合体が重要である。アセトアセチ
ル基含有アクリル系共重合体も用いることもできる。

【００１１】ここで（メタ）アクリル酸エステルとして
は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ート等が挙げられる。

【００１２】エチレン性不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン
酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマール
酸、イタコン酸等のジカルボン酸、或いはそれらの無水
物やハーフエステルも用いることができる。これらの中
では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好ましい。得ら
れる感光性樹脂組成物を稀アルカリ現像型とするとき
は、エチレン性不飽和カルボン酸を１５〜３０重量％程
度（酸価で１００〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ程度）共重合
することが必要である。他の共重合可能モノマーとして
は、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチ
レン、酢酸ビニル、アルキルビニルエーテル等が挙げら
れる。

【００１３】エチレン性不飽和化合物（ｂ）としては、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、２，２−ビス
（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス−（４−（メタ）アクリロキシポリ
エトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−
（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジ
ルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリンポリグ
リシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート等の多官能
モノマーが挙げられる。これらの多官能モノマーと共に
単官能モノマーを適当量併用することもできる。

【００１４】単官能モノマーの例としては、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−ク
ロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）ア
クリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル
酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロー
ル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。

【００１５】ベースポリマー（ａ）１００重量部に対す
るエチレン性不飽和化合物（ｂ）の割合は、１０〜２０
０重量部、特に４０〜１００重量部の範囲から選ぶこと
が望ましい。エチレン性不飽和化合物（ｂ）の使用量が
少なすぎると、感光性組成物の硬化不良、膜の可撓性の
低下、膜の現像速度の遅延を招き、エチレン性不飽和化
合物（ｂ）の使用量が多すぎると、組成物の粘着性の増
大、コールドフロー、硬化レジストの剥離速度の低下を
招くので好ましくない。

【００１６】更に、光重合開始剤（ｃ）としては、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、
ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケ
タール、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナ
フトキノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾ
フェノン、ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ジエチルアミノベン
ゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、１，１−ジク
ロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフ
ェノン、ヘキサアリールイミダゾール二量体、２，２’
−ビス（ｏ−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テ
トラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２−クロロ
チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−
ジエチルチオキサントン、２，２’−ジエトキシアセト
フェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、２，２’−ジクロロ−４−フェノキシアセト
フェノン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシ
イソブチルフェノン、ジベゾスパロン、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−プロパノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、トリブロ
モフェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホ
ン等が挙げられる。このときの光重合開始剤（ｃ）の総
配合割合は、ベースポリマー（ａ）とエチレン性不飽和
化合物（ｂ）との合計量１００重量部に対し１〜２０重
量部程度とするのが適当である。

【００１７】本発明で使用する揮発性有機物は、上記の
感光性樹脂と相溶性があり、感光性樹脂の被膜形成性を
損わない有機化合物であり、代表的な例としては、従来
塩化ビニル樹脂等の可塑剤として使用されている可塑剤
が挙げられる。具体的には、例えば、フタル酸エステル
としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、
ジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチ
ルフタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジ
ルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチルフタリ
ルエチルグリコレート、ジメチルイソフタレート、ジシ
クロヘキシルフタレート等が挙げられる。

【００１８】脂肪酸又は芳香族酸（二又は三塩基性）エ
ステルとしては、例えば、ジオクチルアジペート、ジイ
ソブチルアジペート、ジブチルアジペート、ジイソデシ
ルアジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジオ
クチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジオクチルセ
バケート、メチル・アセチルリシノレート、ジエチルマ
レエート、ジブチルマレエート、ジオクチルマレエー
ト、ジブチルフマレート、ジオクチルフマレート、トリ
オクチルトリメリテート、トリオクチルトリメリテート
等が挙げられる。

【００１９】その他の可塑剤としては、例えば、グリセ
ロールトリアセテート、トリメチルホスヘート、トリエ
チルホスヘート、トリブチルホスヘート、トリオクチル
ホスヘート、トリブトキシエチルホスヘート、トリス・
クロロエチルホスヘート、トリス・ジクロロプロピルホ
スヘート、トリフェニルホスヘート、トリクレジルホス
ヘート、トリキシレニルホスヘート、クレジルジフェニ
ルホスヘート、オクチルジフェニルホスヘート、キシレ
ニルジフェニルホスヘート、トリラウリルホスヘート、
トリセチルホスヘート、トリステアリルホスヘート、ト
リオレイルホスヘート、トリフェニルホスファイト、ト
リス・トリデシルホスファイト、ジブチル・ハイドロジ
エンホスファイト、ジブチル・ブチルホスホネート、ジ
（２−エチルヘキシル）２−エチルヘキシルホスホネー
ト、２−エチルヘキシルホスホン酸モノ２−エチルヘキ
シル、メチルアシッドホスフェート、イソプロピルアシ
ッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェート、ジブ
チルアシッドホスフェート、モノブチルアシッドホスフ
ェート、オクチルアシッドホスフェート、ジオクチルホ
スフェート、イソデシルアシッドホスフェート、モノイ
ソデシルホスフェート、デカノールアシッドホスフェー
ト、ジオクチルホスフェート等が挙げられる。

【００２０】その他の揮発性有機物としては、例えば、
グリセリン、トリメチロールプロパン、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
これらの低級アルキルエーテル、低級脂肪酸エステル、
各種高級脂肪酸或いはそれらのエステル、高級脂肪族ア
ルコール或いはそれらのアルキルエステル等が挙げられ
る。以上の如き、揮発性有機物は、前記の感光性樹脂の
種類に応じて、感光性樹脂が被膜形成性を失わない程度
の量で使用する。一般的な使用量は感光性樹脂（Ａ）と
揮発性有機物（Ｂ）との重量比が、Ａ：Ｂ＝１０：９０
〜９０：１０の範囲であり、好ましくはＡ：Ｂ＝３０：
７０〜７０：３０の範囲である。

【００２１】上記感光性樹脂に、蛍光体、揮発性有機物
及びその他の任意成分を含有させる方法としては、特に
限定されず、公知の方法、例えば、上記の感光性樹脂に
所定量の蛍光体及び揮発性有機物等を添加して、十分混
合撹拌して蛍光体を均一に分散させる方法等がある。こ
の場合の蛍光体の含有量は、感光性樹脂組成物中のベー
スポリマーとエチレン性不飽和化合物の総量１００重量
部に対して１〜５０重量部が好ましく、より好ましくは
１０〜３０重量部である。該蛍光体の含有量が、５０重
量部を越えると、ドライフイルム化が困難となり、逆に
１重量部未満では、蛍光体層とした時に輝度が低下する
傾向にあり好ましくない。

【００２２】本発明における上記感光性樹脂組成物に
は、そのほか、染料（着色、発色）、密着性付与剤、酸
化防止剤、熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質材、安定
剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤等の添加剤を適宜添加
することができる。特にシラン系、アルミ系又はチタネ
ート系のカップリング剤を含有させることによって、最
終的にＰＤＰ背面板のセル中に形成される蛍光体層のセ
ル表面に対する密着性を向上させることができる。又、
これらのカップリング剤は、予めＰＤＰの背面板のセル
表面に塗布しておいてもよい。

【００２３】シラン系カップリング剤としては、例え
ば、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメト
キシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジル
アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、アミノシラン、γ−メルカプトプロピルトリメト
キシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−クロ
ロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザ
ン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシ
ルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］ア
ンモニウムクロライド、γ−クロロプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキ
シシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロ
シラン、トリメチルクロロシラン等が挙げられる。

【００２４】チタネート系カップリング剤としては、例
えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、
イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネー
ト、イソプロピルトリス（ジオクチルパイロホスフェー
ト）チタネート、テトライソプロピルビス（ジオクチル
ホスファイト）チタネート、テトラオクチルビス（ジト
リデシルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２−
ジアリルオキシメチル）ビス（ジトリデシル）ホスファ
イトチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェー
ト）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチルパ
イロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピル
トリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリ
ルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステ
アロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ（ジ
オクチルホスフェート）チタネート、イソプロピルトリ
クミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−ア
ミドエチル・アミノエチル）チタネート、ジクミルフェ
ニルオキシアセテートチタネート、ジイソステアロイル
エチレンチタネート等が挙げられる。アルミニウム系カ
ップリング剤としては、例えば、アセトアルコキシアル
ミニウムジイソプロピレート等がある。

【００２５】次に本発明で使用する前記感光性樹脂組成
物を用いたフォトレジストフイルムの製造及びそれを用
いた蛍光体のパターン形成方法について説明する。先
ず、上記の感光性樹脂組成物を、ポリエステルフイル
ム、ポリプロピレンフイルム、ポリスチレンフイルム等
のベースフイルム面に塗工して感光性樹脂組成物層を形
成する。この際必要であればその塗工層面の上からポリ
エチレンフイルム、ポリビニルアルコール系フイルム等
の保護フイルムを被覆して積層体とすることができる。
この時の感光性樹脂組成物の膜厚は、蛍光体及び揮発性
有機物の含有量や、製造すべきＰＤＰ等の構造によって
も異なり一概に言えないが、通常は１０〜１００μｍの
中から好適に選択される。

【００２６】本発明のフォトレジストフイルムを用いて
予めガラス隔壁によってセルが形成されたＰＤＰ用背面
基板に蛍光体を固定すること（反射型パネル）ができ
る。例えば、該ＰＤＰ用背面基板上に本発明のフォトレ
ジストフイルムを積層し、上部よりセルの凹形状に合致
する凸形状を有していてもよい金型やロール等で押圧し
てセル内に圧入させることができる。この時は、該フォ
トレジストフイルムに柔軟性が要求されるために、ベー
スフイルム或いは保護フイルムも柔軟性に富んだポリビ
ニルアルコール、ナイロン、セルロース等のフイルムを
用いることが好ましい。又、フォトレジストフイルムに
よって、基板上に所望のパターンを形成させるには、感
光性樹脂組成物層の側を、例えば、透過型パネルを用い
たＰＤＰの場合であれば、前面ガラスの陽極固定面に貼
り付ける。

【００２７】次に、乾燥により組成物中に含まれている
揮発性有機化合物の除去を行う。尚、この乾燥工程は露
光及び現像の後であっても構わない。又、乾燥は揮発性
有機物の揮発温度以上に加熱してもよいし、減圧しなが
ら揮発温度を下げて加熱して行ってもよい。その後、ベ
ースフイルム上にパターンマスクを密着させて露光す
る。この時必要に応じて、該フォトレジストフイルムを
２枚以上積層することも可能である。露光は、通常紫外
線照射により行い、その際の光源としては、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メ
タルハライドランプ、ケミカルランプ等が挙げられる。
紫外線照射後は、必要に応じ加熱を行って、パターンの
硬化の完全を図ることもできる。

【００２８】本発明のフォトレジストフイルムの感光性
樹脂組成物が稀アルカリ現像型である場合には、露光後
の現像は、炭酸ソーダ、炭酸カリウム等のアルカリ１〜
２重量％程度の稀薄水溶液を用いて行う。上記現像処理
後にセル形成基板を５００〜５５０℃で焼成を行い、セ
ル内部に蛍光体を固定する。このようにして、ガラス基
板上に蛍光体を固定することができる。フルカラーのＰ
ＤＰを形成するためには、赤色、青色、緑色のそれぞれ
の蛍光体を含有するフォトレジストフイルムを用いて上
記の転写工程、露光工程から焼成工程までを繰り返し行
う。

【００２９】

【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。尚、実施例中「％」又は「部」とあるのは、特
に断りのない限り重量基準である。 実施例１感光性樹脂組成物の調製 下記のベースポリマー２３部、下記のエチレン性不飽和
化合物２７部、下記処方の光重量開始剤４部、下記の蛍
光体２６部及び揮発性有機物５７部を混合して感光性樹
脂組成物を調製した。 （ベースポリマー）メチルメタクリレート／ｎ−ブチル
メタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／メ
タクリル酸の共重合割合が、重量基準で５５／８／１５
／２２である共重合体（酸価１４３．３、ガラス転移点
６６．３℃、重量平均分子量８万）

【００３０】（エチレン性不飽和化合物）トリメチロー
ルプロパントリアクリレート／ポリエチレングリコール
（６００）ジメタクリレート／エチレンオキサイド変性
フタル酸アクリレート（共栄社油脂工業株式会社製）の
重量比２０／１０／６の混合物 （光重合開始剤）ベンゾフェノン／ｐ，ｐ’−ジエチル
アミノベンゾフェノン／２，２−ビス（ｏ−クロロフェ
ニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾールの重量比８／０．１５／１の混合物 （蛍光体） （Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕ／Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ／Ｂａ
ＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ²⁺＝３３／５０／１７（重量比）
の混合物（平均粒径；４±２μｍ）

【００３１】（揮発性有機物）ジオクチルフタレート
（沸点３９０℃ ａｔ ７６０ｍｍＨｇ、２２５〜 ２
３０℃ ａｔ ４ｍｍＨｇ）ドライフイルムの作製 上記の感光性組成物を、ギャップ４ミルのアプリケータ
ーを用いて厚さ２０μｍのポリエステルフイルム上に塗
工し、室温で１分３０秒間放置した後、６０℃、９０
℃、１１０℃のオーブンでそれぞれ３分間ずつ乾燥し
て、膜厚２０μｍの本発明のドライフイルムとした（但
し保護フイルムは設けていない）。ガラス基板へのラミネート このドライフイルムを、オーブンで６０℃に予熱したガ
ラス基板（厚みが０．１〜０．２μｍ程度の導電性回路
が表面に形成されたＩＴＯ膜基板、２００ｍｍ×２００
ｍｍ×２ｍｍ）上に、ラミネートロール温度１００℃、
同ロール圧３ｋｇ／ｃｍ^２、ラミネート速度１．５ｍ／
ｓｅｃにてラミネートした。

【００３２】露光、現像 ラミネート後、全面に２００μｍ角上下左右２６０μｍ
ピッチの露光部分が形成されるようにパターンマスクを
レジスト表面に重ねて、オーク製作所製の露光機ＨＭＷ
−５３２Ｄにて３ｋｗ超高圧水銀灯で４０ｍＪの露光を
行った。露光後１５分間のホールドタイムを取った後、
ポリエステルフイルムを剥離し、２０℃において１％炭
酸ソーダ水溶液を用いて、最少現像時間の１．５倍の時
間で現像した。乾燥 上記現像後に全体を２５０℃、４ｍｍＨｇの乾燥炉中で
１０分間乾燥させ、レジスト膜中に含まれているジオク
チルフタレートを蒸発乾燥させた。 （焼成）乾燥後に焼成炉内で、室温から５５０℃まで１
時間で上昇させ、レジスト膜内の樹脂分を焼失させて蛍
光体層を形成した。

【００３３】実施例２〜７ 表１に示す如く、実施例１の感光性組成物における成分
量と、揮発性有機物の種類と含有量とを変化させて、実
施例１と同様にして感光性樹脂組成物を得、これを用い
て実施例１と同様にしてフオトレジストフイルムを得
た。

【００３４】表１（括弧内は使用部数である）

【００３５】これらのフオトレジストフイルムを用いて
ＰＤＰの背面板を作製した。ＰＤＰの背面基板における
リブは高さが１２０μｍであり、リブの間隔は２００μ
ｍであり、溝状のセルの深さは１２０μｍ、その溝幅は
８０μｍに形成されている。上記セル面にフトレジスト
フイルムの感光性樹脂層を対向させて重ね合せ、この重
ね合わせたものをラミネート用のゴムロール間に通し
て、セル中に感光性樹脂層を圧入させた後、ポリエステ
ルフイルムを剥離した。剥離後にセルと、蛍光体の発色
光と同色の画素パターンを有するフォトマスクを介して
実施例１と同様にして露光及び現像した。その後、実施
例と同様にして乾燥及び焼成して蛍光体層を形成してＰ
ＤＰの背面板（但し１色のみ）とした。上記ＰＤＰ背面
板における蛍光体層の密着性を目視観察で調べた。尚、
輝度に関しては、基本的に実施例と比較例とでは変化は
認められなかった。

【００３６】表２ ○−−−基板からの蛍光体の浮きは全く認められない。 ×−−−蛍光体が基板から剥離して基板上に蛍光体が殆
ど残らない。

【００３７】

【発明の効果】上記本発明によれば、本発明のフォトレ
ジストフイルムに積層された感光性樹脂組成物層は、比
較的多量の揮発性有機物を含有しているので、該組成物
をＰＤＰの背面板のセル中に圧入後、適当な温度で乾燥
又は揮発処理を行うことによって、セル中の感光性樹脂
組成物は、その容積が縮小して、十分な放電空間が形成
され、その後に焼成することにより、焼失されるべき有
機物が少量となっているので、有機物の焼失に使用する
時間及び熱エネルギーは少なく、又、焼成によって発生
するガスも少ないので焼成炉の管理も容易である。更に
最大の利点は、十分な放電空間が形成されるとともに、
最終的に形成される蛍光体層は、セルの表面に十分に密
着しており、従来技術における如き蛍光体の浮き上がり
や剥離等が生じない。

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【手続補正書】

【提出日】平成８年１２月２４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】追加

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図１】 ＡＣ型のＰＤＰの一構成例を示した図。

【符号の説明】 １：前面板 ２：背面板 ３：バリヤーリブ ４：維持電極 ５：バス電極 ６：誘電体層 ７：保護層 ８：アドレス電極 ９：蛍光体

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 蛍光体、感光性樹脂及び揮発性有機物か
   らなる感光性樹脂組成物層をベースフイルムに積層して
   なることを特徴とするフォトレジストフイルム。
2. 【請求項２】 揮発性有機物が、１５０〜３００℃で揮
   発性である請求項１に記載のフォトレジストフイルム。
3. 【請求項３】 蛍光体の含有量が、感光性樹脂組成物中
   において１〜５０重量％を占める請求項１に記載のフォ
   トレジストフイルム。
4. 【請求項４】 感光性樹脂（Ａ）と揮発性有機物（Ｂ）
   との重量比が、Ａ：Ｂ＝１０：９０〜９０：１０の範囲
   である請求項１に記載のフォトレジストフイルム。
5. 【請求項５】 揮発性有機物が、可塑剤又は有機溶剤で
   ある請求項１に記載のフォトレジストフイルム。
6. 【請求項６】 更にシラン系、アルミ系又はチタネート
   系のカップリング剤を含有する請求項１に記載のフォト
   レジストフイルム。
7. 【請求項７】 基板上に請求項１〜６に記載のフォトレ
   ジストフイルムの感光性樹脂組成物層を転写して乾燥す
   るか若しくは乾燥せずに、その表面をパターン露光し、
   前記乾燥しない場合に露光後若しくは現像後に乾燥し、
   現像及び焼成することを特徴とする蛍光体パターンの形
   成方法。
8. 【請求項８】 プラズマディスプレイパネルの背面板に
   形成されたセル中に請求項１〜６に記載のフォトレジス
   トフイルムの感光性樹脂組成物層を圧入する工程、圧入
   された感光性樹脂組成物から揮発性有機物を蒸発乾燥さ
   せる工程、パターン露光する工程、現像する工程及び焼
   成して有機物を焼失させる工程を有することを特徴とす
   るプラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法。
9. 【請求項９】 プラズマディスプレイパネルの背面板の
   セル表面に、予めシラン系、アルミ系又はチタネート系
   のカップリング剤が塗布されている請求項７に記載のプ
   ラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法。