JPH10140234A - 熱処理炉 - Google Patents
熱処理炉Info
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- JPH10140234A JPH10140234A JP30070996A JP30070996A JPH10140234A JP H10140234 A JPH10140234 A JP H10140234A JP 30070996 A JP30070996 A JP 30070996A JP 30070996 A JP30070996 A JP 30070996A JP H10140234 A JPH10140234 A JP H10140234A
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- space
- gas
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Abstract
(57)【要約】
【課題】炉内汚染を防止するための保護ガスを用いた差
圧フロー構造と、処理空間への処理ガスの有効な導入状
態とを両立させる。 【解決手段】炉１内に内箱２を配置してこの内箱２内を
内排気系３により直接排気すると共に、外側の炉内空間
Ｓ２から外入ガスＸを導入してこの外入ガスＸを内側の
処理空間Ｓ１へ差圧フローさせるようにし、さらに処理
空間Ｓ１に炉１外から各種処理ガスＹを直接導入して脱
脂処理等の実効を図る構成を採用するものにおいて、炉
内空間Ｓ２への外入ガスＸの導入が過多になった場合
に、差圧設定機構８を作動させて炉内空間Ｓ２と内排気
系３とを直接連通させ、炉内空間Ｓ２に存在する外入ガ
スＸを処理物Ｗに接触させることなく排出するようにし
たので、炉内汚染を確実に防止する作用と、処理空間Ｓ
１内における処理ガスＹの有効な濃度の下での化学的作
用とを両立させることができる。
圧フロー構造と、処理空間への処理ガスの有効な導入状
態とを両立させる。 【解決手段】炉１内に内箱２を配置してこの内箱２内を
内排気系３により直接排気すると共に、外側の炉内空間
Ｓ２から外入ガスＸを導入してこの外入ガスＸを内側の
処理空間Ｓ１へ差圧フローさせるようにし、さらに処理
空間Ｓ１に炉１外から各種処理ガスＹを直接導入して脱
脂処理等の実効を図る構成を採用するものにおいて、炉
内空間Ｓ２への外入ガスＸの導入が過多になった場合
に、差圧設定機構８を作動させて炉内空間Ｓ２と内排気
系３とを直接連通させ、炉内空間Ｓ２に存在する外入ガ
スＸを処理物Ｗに接触させることなく排出するようにし
たので、炉内汚染を確実に防止する作用と、処理空間Ｓ
１内における処理ガスＹの有効な濃度の下での化学的作
用とを両立させることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空焼結炉や純化
処理炉、ＣＶＤ装置等として利用可能な熱処理炉に関す
るものである。
処理炉、ＣＶＤ装置等として利用可能な熱処理炉に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、熱処理の一つに真空脱脂焼結が
ある。この真空脱脂焼結は、主として処理物を低温加熱
することにより該処理物からバインダを除去する脱脂工
程と、脱脂後の処理物を高温加熱して処理物を焼成する
焼結工程とから成るが、近時の脱脂焼結はこれらを単一
炉内で一貫して行うために、炉に内箱を内装し、炉内を
内箱の内側の処理空間と外側の炉内空間に区成するとと
もに、炉内空間にガスを導入する外導入系と、前記処理
空間を直接炉外に排気する内排気系とを設けてなるもの
が知られている。このものは、炉内空間に外入ガスを導
入し、処理空間側から排気を行いつつ脱脂処理を行うこ
とで、炉内空間から処理空間へ向かう定常的なガスの流
れを形成し、処理空間で処理物から発生したワックスベ
ーパ等のガスをその外入ガスの流れに沿って炉内空間側
へ逆流させることなく直接炉外に排出して、炉内空間を
汚染から保護しているものである。
ある。この真空脱脂焼結は、主として処理物を低温加熱
することにより該処理物からバインダを除去する脱脂工
程と、脱脂後の処理物を高温加熱して処理物を焼成する
焼結工程とから成るが、近時の脱脂焼結はこれらを単一
炉内で一貫して行うために、炉に内箱を内装し、炉内を
内箱の内側の処理空間と外側の炉内空間に区成するとと
もに、炉内空間にガスを導入する外導入系と、前記処理
空間を直接炉外に排気する内排気系とを設けてなるもの
が知られている。このものは、炉内空間に外入ガスを導
入し、処理空間側から排気を行いつつ脱脂処理を行うこ
とで、炉内空間から処理空間へ向かう定常的なガスの流
れを形成し、処理空間で処理物から発生したワックスベ
ーパ等のガスをその外入ガスの流れに沿って炉内空間側
へ逆流させることなく直接炉外に排出して、炉内空間を
汚染から保護しているものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記炉内に
は、触媒的な作用を営ませる目的等で各種の処理ガスを
炉外から導入する場合がある。この時、処理効果を上げ
るため、炉に内導入系を設けて直接処理ガスを内箱に導
入している例が少なくない。このような状況の下で、前
述した外入ガスを必要以上に過多に導入すると、処理空
間内の処理ガスが希釈され、所期の作用が半減されるば
かりか、内箱に過大な内外差圧が掛かって爆縮事故を引
き起こす場合がある。逆に、外入ガスが不足すると、処
理空間から炉内空間に向かってバインダを始め有害な処
理ガスが漏出し、炉内汚染を惹起する恐れがある。した
がって、炉内汚染を惹起せず、且つ処理空間における処
理を高い効率で進行させるためには、導入する外入ガス
を処理ガスやバインダ蒸発量等との関係において適切に
規定することが不可欠となるが、従来においてはこのよ
うな調整を手探りで行うほかなかった。
は、触媒的な作用を営ませる目的等で各種の処理ガスを
炉外から導入する場合がある。この時、処理効果を上げ
るため、炉に内導入系を設けて直接処理ガスを内箱に導
入している例が少なくない。このような状況の下で、前
述した外入ガスを必要以上に過多に導入すると、処理空
間内の処理ガスが希釈され、所期の作用が半減されるば
かりか、内箱に過大な内外差圧が掛かって爆縮事故を引
き起こす場合がある。逆に、外入ガスが不足すると、処
理空間から炉内空間に向かってバインダを始め有害な処
理ガスが漏出し、炉内汚染を惹起する恐れがある。した
がって、炉内汚染を惹起せず、且つ処理空間における処
理を高い効率で進行させるためには、導入する外入ガス
を処理ガスやバインダ蒸発量等との関係において適切に
規定することが不可欠となるが、従来においてはこのよ
うな調整を手探りで行うほかなかった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明は、炉内に配置されて内側に処理空間を
閉成する内箱と、前記処理空間を直接炉外に排気する内
排気系と、前記内箱の外側に位置する炉内空間に炉外か
ら外入ガスを導入する外導入系と、前記処理空間に炉外
から直接内箱に導通する内導入系とを具備してなるもの
において、前記内排気系の一部と前記炉内空間とを連通
する位置に、差圧力設定機構を有するバイパス通路を設
け、炉内空間が処理空間に対して相対的に差圧力設定機
構で設定した差圧以上に昇圧したときに、炉内空間に存
在する外入ガスを処理空間を経ることなくバイパス通路
を通じて直接内排気系に排出するように構成してなるこ
とを特徴とする。
ために、本発明は、炉内に配置されて内側に処理空間を
閉成する内箱と、前記処理空間を直接炉外に排気する内
排気系と、前記内箱の外側に位置する炉内空間に炉外か
ら外入ガスを導入する外導入系と、前記処理空間に炉外
から直接内箱に導通する内導入系とを具備してなるもの
において、前記内排気系の一部と前記炉内空間とを連通
する位置に、差圧力設定機構を有するバイパス通路を設
け、炉内空間が処理空間に対して相対的に差圧力設定機
構で設定した差圧以上に昇圧したときに、炉内空間に存
在する外入ガスを処理空間を経ることなくバイパス通路
を通じて直接内排気系に排出するように構成してなるこ
とを特徴とする。
【０００５】このような構成において、外導入系を通じ
て炉内空間に少なくとも逆流を確実に防止できる程度に
比較的多めの外入ガスを導入するようにした場合、導入
量が過多であれば差圧力設定機構が働いて一部が処理空
間を経ることなくバイパス通路を介して内排気系より直
接排出され、処理空間にはあくまで適度な量の外入ガス
が炉内空間から流れ込むことになる。したがって、逆流
による炉内汚染を確実に防止する作用と、処理空間内へ
の外入ガスの導入量を規制して処理ガスにより処理効率
を向上させる作用とを有効に両立させることが容易とな
る。しかも、このようなバイパス通路を設けておけば、
内箱に過大な内外差圧が作用することがないため、内外
差圧に起因した内箱の爆縮も未然に回避することが可能
となる。
て炉内空間に少なくとも逆流を確実に防止できる程度に
比較的多めの外入ガスを導入するようにした場合、導入
量が過多であれば差圧力設定機構が働いて一部が処理空
間を経ることなくバイパス通路を介して内排気系より直
接排出され、処理空間にはあくまで適度な量の外入ガス
が炉内空間から流れ込むことになる。したがって、逆流
による炉内汚染を確実に防止する作用と、処理空間内へ
の外入ガスの導入量を規制して処理ガスにより処理効率
を向上させる作用とを有効に両立させることが容易とな
る。しかも、このようなバイパス通路を設けておけば、
内箱に過大な内外差圧が作用することがないため、内外
差圧に起因した内箱の爆縮も未然に回避することが可能
となる。
【０００６】
【実施例】以下、本発明の一実施例を、図１及び図２を
参照して説明する。この実施例の熱処理炉は、例えば射
出成形品を製造する際の一工程である脱脂・焼結工程に
用いられるもので、炉１内に配置されて内側に処理空間
Ｓ１を閉成する内箱２と、前記処理空間Ｓ１を直接炉１
外に排気する内排気系３と、この内箱２の外側に位置す
る炉内空間Ｓ２に炉１外から外入ガスＸを導入する外導
入系４と、前記処理空間Ｓ１に炉１外から直接処理ガス
Ｙを導入する内導入系５とを具備してなる。
参照して説明する。この実施例の熱処理炉は、例えば射
出成形品を製造する際の一工程である脱脂・焼結工程に
用いられるもので、炉１内に配置されて内側に処理空間
Ｓ１を閉成する内箱２と、前記処理空間Ｓ１を直接炉１
外に排気する内排気系３と、この内箱２の外側に位置す
る炉内空間Ｓ２に炉１外から外入ガスＸを導入する外導
入系４と、前記処理空間Ｓ１に炉１外から直接処理ガス
Ｙを導入する内導入系５とを具備してなる。
【０００７】詳述すると、炉１は、炉胴１１の内部に断
熱材１２によって包囲される加熱室１３を有し、この加
熱室１３にヒータ１４を内設してなるもので、炉胴１１
の一部を構成する蓋１１ａを断熱材１２の一部を構成す
る蓋１２ａと共に開閉することによって処理物Ｗの出し
入れを可能にしている。この炉１には、処理物Ｗを収容
した後に蓋１１ａ、１２ａを閉めて炉内空間Ｓ２を真空
排気するために、一端が炉胴１１を貫通して炉内空間Ｓ
２に接続され他端がバルブ６１を介して真空ポンプＰに
接続された外排気系６が設けてある。
熱材１２によって包囲される加熱室１３を有し、この加
熱室１３にヒータ１４を内設してなるもので、炉胴１１
の一部を構成する蓋１１ａを断熱材１２の一部を構成す
る蓋１２ａと共に開閉することによって処理物Ｗの出し
入れを可能にしている。この炉１には、処理物Ｗを収容
した後に蓋１１ａ、１２ａを閉めて炉内空間Ｓ２を真空
排気するために、一端が炉胴１１を貫通して炉内空間Ｓ
２に接続され他端がバルブ６１を介して真空ポンプＰに
接続された外排気系６が設けてある。
【０００８】内箱２は、前記加熱室１３に配置されるグ
ラファイト製のもので、筒状の箱本体２１と、この箱本
体２１の両端開口部を閉止する位置に配設される蓋２２
とを具備してなり、少なくとも一方の蓋２２は、前記蓋
１１ａ、１２ａと共に開閉可能とされている。この内箱
２は、グラファイトという素材の持つ性質により、また
箱本体２１が蓋２２により開閉可能とされている構造に
より、完全なる気密性を呈し得るものではなく、箱本体
２１と蓋２２との当接隙間等を通じてある程度のガスの
流通を許容し得るものである。
ラファイト製のもので、筒状の箱本体２１と、この箱本
体２１の両端開口部を閉止する位置に配設される蓋２２
とを具備してなり、少なくとも一方の蓋２２は、前記蓋
１１ａ、１２ａと共に開閉可能とされている。この内箱
２は、グラファイトという素材の持つ性質により、また
箱本体２１が蓋２２により開閉可能とされている構造に
より、完全なる気密性を呈し得るものではなく、箱本体
２１と蓋２２との当接隙間等を通じてある程度のガスの
流通を許容し得るものである。
【０００９】内排気系３は、一端を炉胴１１及び断熱材
１２を貫通して内箱２に接続され、他端を前記外排気系
６を構成する真空ポンプＰの吸込側にトラップ３１及び
バルブ３２を介して接続されている。なお、この内排気
系３のトラップ３１とバルブ３２の間は、大気開放弁３
３を介して選択的に大気開放可能とされている。外導入
系４は、一端を前記炉胴１１を貫通して内側の炉内空間
Ｓ２に接続され、他端をガス供給源４１にバルブ４２を
介して接続されたもので、このガス供給源４１にはＮ2
やＡｒ等の不活性ガスＸが充填されている。
１２を貫通して内箱２に接続され、他端を前記外排気系
６を構成する真空ポンプＰの吸込側にトラップ３１及び
バルブ３２を介して接続されている。なお、この内排気
系３のトラップ３１とバルブ３２の間は、大気開放弁３
３を介して選択的に大気開放可能とされている。外導入
系４は、一端を前記炉胴１１を貫通して内側の炉内空間
Ｓ２に接続され、他端をガス供給源４１にバルブ４２を
介して接続されたもので、このガス供給源４１にはＮ2
やＡｒ等の不活性ガスＸが充填されている。
【００１０】内導入系５は、一端を炉胴１１及び断熱材
１２を貫通して内箱２に接続され、他端をガス供給源５
１にバルブ５２を介して接続されたもので、このガス供
給源５１にはｃｌ2を始めとする水素、空気など、処理
物Ｗに対する脱脂処理を促進するために必要な反応性ガ
スその他のガスが充填されている。このような構成に加
えて、本実施例は、前記内箱２の底部に、チャンネル状
の仕切板７を配置している。この仕切板７は、内箱２の
底部との間に空隙Ｓ３を形成するためのものであって、
この空隙Ｓ３は、軸方向の開口端及び該仕切板７の上面
に設けた開口孔７ａにおいて処理空間Ｓ１と連通し、基
本的には内排気系３の一部と同一視できる程度に処理空
間Ｓ１から画されているものである。そして、この空隙
Ｓ３と前記炉内空間Ｓ２とを連通する位置に、差圧力設
定機構８を有するバイパス通路９を介在させている。
１２を貫通して内箱２に接続され、他端をガス供給源５
１にバルブ５２を介して接続されたもので、このガス供
給源５１にはｃｌ2を始めとする水素、空気など、処理
物Ｗに対する脱脂処理を促進するために必要な反応性ガ
スその他のガスが充填されている。このような構成に加
えて、本実施例は、前記内箱２の底部に、チャンネル状
の仕切板７を配置している。この仕切板７は、内箱２の
底部との間に空隙Ｓ３を形成するためのものであって、
この空隙Ｓ３は、軸方向の開口端及び該仕切板７の上面
に設けた開口孔７ａにおいて処理空間Ｓ１と連通し、基
本的には内排気系３の一部と同一視できる程度に処理空
間Ｓ１から画されているものである。そして、この空隙
Ｓ３と前記炉内空間Ｓ２とを連通する位置に、差圧力設
定機構８を有するバイパス通路９を介在させている。
【００１１】バイパス通路９は、図１及び図２に示すよ
うに、内箱２の底部のうち、内排気系３の開口部から軸
方向へ変位した部位に設けられた肉厚方向へ伸びる貫通
孔状のもので、前記空隙Ｓ３と炉内空間Ｓ２とを直接連
通させている。差圧力設定機構８は、前記パイパス通路
９の開口端に対して脱着可能なポペット８１と、このポ
ペット８１の基端８１ａを脱着方向へ移動可能に保持す
る筒状部材８２とから構成されるもので、筒状部材８２
の周壁にはガスの流通を許容する透窓８２ａが設けてあ
る。
うに、内箱２の底部のうち、内排気系３の開口部から軸
方向へ変位した部位に設けられた肉厚方向へ伸びる貫通
孔状のもので、前記空隙Ｓ３と炉内空間Ｓ２とを直接連
通させている。差圧力設定機構８は、前記パイパス通路
９の開口端に対して脱着可能なポペット８１と、このポ
ペット８１の基端８１ａを脱着方向へ移動可能に保持す
る筒状部材８２とから構成されるもので、筒状部材８２
の周壁にはガスの流通を許容する透窓８２ａが設けてあ
る。
【００１２】そして、前記差圧設定機構８を構成するポ
ペット８１の自重を利用して通常はパイパス通路９の開
口端を閉塞しておき、炉内空間Ｓ２が処理空間Ｓ１の圧
力すなわち空隙Ｓ３の圧力に対して相対的に差圧力設定
機構８で設定した差圧以上に昇圧したとき、つまりポペ
ット８１に重力に打ち勝つ付勢力を及ぼすような差圧以
上に昇圧したときのみ、ポペット８１をバイパス通路９
の開口端から浮上させて炉内空間Ｓ２に存在するガスＸ
をバイパス通路９を介して内排気系３の一部を構成する
空隙Ｓ３に導入するようにしている。具体的には、バイ
パス通路９を出たガスＸは一旦仕切板７の下面に衝突し
た後、内排気系３により引っ張られて炉１外に排出され
ていくこととなる。
ペット８１の自重を利用して通常はパイパス通路９の開
口端を閉塞しておき、炉内空間Ｓ２が処理空間Ｓ１の圧
力すなわち空隙Ｓ３の圧力に対して相対的に差圧力設定
機構８で設定した差圧以上に昇圧したとき、つまりポペ
ット８１に重力に打ち勝つ付勢力を及ぼすような差圧以
上に昇圧したときのみ、ポペット８１をバイパス通路９
の開口端から浮上させて炉内空間Ｓ２に存在するガスＸ
をバイパス通路９を介して内排気系３の一部を構成する
空隙Ｓ３に導入するようにしている。具体的には、バイ
パス通路９を出たガスＸは一旦仕切板７の下面に衝突し
た後、内排気系３により引っ張られて炉１外に排出され
ていくこととなる。
【００１３】次に、本実施例の使用方法を説明する。先
ず、蓋１１ａ、１２ａを開けて処理物Ｗを内箱２内にセ
ットする。次に、蓋１１ａ、１２ａを閉めて外排気系６
及び内排気系３を作動させ、炉内空間Ｓ２及び処理空間
Ｓ１が所定真空度に達したなら、外排気系６のバルブ６
１を閉じ、少なくとも内排気系３を作動させたままの状
態で、今度は外導入系４のバルブ４２を開いて炉内空間
Ｓ２にガスＸを導入する。このとき同時に、ヒータ１４
に通電して処理物Ｗに対する脱脂処理を開始する。これ
により、炉１内には、炉内空間Ｓ２に導入されたガスＸ
が図中矢印で示すように内箱本体２１と蓋２２との当接
隙間等を通って処理空間Ｓ１に達し、更に内排気系３を
通って炉１外に排出されるというガスの流れが形成され
る。したがって、処理物Ｗから蒸発するバインダ蒸気
は、このガスＸの流れに乗って逐次炉１外に直接排出さ
れる。また、以上の処理を行う間、内導入系５のバルブ
５２も開き、内箱２に炉１外から直接処理ガスＹを導入
しておく。これにより、導入された処理ガスＹは処理物
Ｗの周囲を流通する際に処理物Ｗに接触し、例えば処理
ガスＹがｃｌ2であれば処理物Ｗに対する脱脂処理速度
を促進する触媒的な作用を営み、しかる後、内排気系３
の一部をなす空隙Ｓ３を経て内排気系３に排出される。
そして、これらのガスはトラップ３１において有害分を
捕獲された後、真空ポンプＰ若しくは大気開放弁３３を
通じて放出される。なお、内箱２には内導入系５の開口
端に予熱空間５３が設けてあり、この予熱空間５３にお
いてガスを処理空間Ｓ１の温度にまで予熱した後、処理
物Ｗの周囲に流通させるようにしている。
ず、蓋１１ａ、１２ａを開けて処理物Ｗを内箱２内にセ
ットする。次に、蓋１１ａ、１２ａを閉めて外排気系６
及び内排気系３を作動させ、炉内空間Ｓ２及び処理空間
Ｓ１が所定真空度に達したなら、外排気系６のバルブ６
１を閉じ、少なくとも内排気系３を作動させたままの状
態で、今度は外導入系４のバルブ４２を開いて炉内空間
Ｓ２にガスＸを導入する。このとき同時に、ヒータ１４
に通電して処理物Ｗに対する脱脂処理を開始する。これ
により、炉１内には、炉内空間Ｓ２に導入されたガスＸ
が図中矢印で示すように内箱本体２１と蓋２２との当接
隙間等を通って処理空間Ｓ１に達し、更に内排気系３を
通って炉１外に排出されるというガスの流れが形成され
る。したがって、処理物Ｗから蒸発するバインダ蒸気
は、このガスＸの流れに乗って逐次炉１外に直接排出さ
れる。また、以上の処理を行う間、内導入系５のバルブ
５２も開き、内箱２に炉１外から直接処理ガスＹを導入
しておく。これにより、導入された処理ガスＹは処理物
Ｗの周囲を流通する際に処理物Ｗに接触し、例えば処理
ガスＹがｃｌ2であれば処理物Ｗに対する脱脂処理速度
を促進する触媒的な作用を営み、しかる後、内排気系３
の一部をなす空隙Ｓ３を経て内排気系３に排出される。
そして、これらのガスはトラップ３１において有害分を
捕獲された後、真空ポンプＰ若しくは大気開放弁３３を
通じて放出される。なお、内箱２には内導入系５の開口
端に予熱空間５３が設けてあり、この予熱空間５３にお
いてガスを処理空間Ｓ１の温度にまで予熱した後、処理
物Ｗの周囲に流通させるようにしている。
【００１４】以上のような取扱い中、外導入系４を通じ
て炉内空間Ｓ２に少なくとも処理空間Ｓ１から炉内空間
Ｓ２へガスが逆流する事を確実に防止できる程度に比較
的多めのガスＸを導入しておきさえすれば、たとえ導入
量が過多であっても差圧力設定機構８が働いてガスＸの
一部が処理空間Ｓ１を経ることなくバイパス通路９を介
して内排気系３より直接排出され、処理空間Ｓ１にはあ
くまで適度な量のガスＸが炉内空間Ｓ２から流れ込むこ
とになる。したがって、バインダ蒸気や処理ガスＹ等が
逆流して炉１内の断熱材１２やヒータ１４等を汚染する
という事態を確実に防止する作用と、処理空間Ｓ１内へ
のガスＸの導入量を規制して処理ガスＹの有効な濃度を
確保し処理物Ｗに対する各種処理効率を向上させる作用
とを有効に両立させることが容易となる。しかも、この
ようなバイパス通路９を設けておけば、内箱２に過大な
内外差圧が作用することがないため、内外差圧に起因し
た内箱２の爆縮も未然に回避することが可能となる。さ
らに、上記のように処理空間Ｓ１から隔離され且つヒー
タ１４によって加熱され得る位置に差圧力設定機構８を
設けておけば、ポペット８１の汚染が防止されるため、
該差圧力設定機構８に長期に亘り安定して確実な開閉動
作を保障することが可能となる。
て炉内空間Ｓ２に少なくとも処理空間Ｓ１から炉内空間
Ｓ２へガスが逆流する事を確実に防止できる程度に比較
的多めのガスＸを導入しておきさえすれば、たとえ導入
量が過多であっても差圧力設定機構８が働いてガスＸの
一部が処理空間Ｓ１を経ることなくバイパス通路９を介
して内排気系３より直接排出され、処理空間Ｓ１にはあ
くまで適度な量のガスＸが炉内空間Ｓ２から流れ込むこ
とになる。したがって、バインダ蒸気や処理ガスＹ等が
逆流して炉１内の断熱材１２やヒータ１４等を汚染する
という事態を確実に防止する作用と、処理空間Ｓ１内へ
のガスＸの導入量を規制して処理ガスＹの有効な濃度を
確保し処理物Ｗに対する各種処理効率を向上させる作用
とを有効に両立させることが容易となる。しかも、この
ようなバイパス通路９を設けておけば、内箱２に過大な
内外差圧が作用することがないため、内外差圧に起因し
た内箱２の爆縮も未然に回避することが可能となる。さ
らに、上記のように処理空間Ｓ１から隔離され且つヒー
タ１４によって加熱され得る位置に差圧力設定機構８を
設けておけば、ポペット８１の汚染が防止されるため、
該差圧力設定機構８に長期に亘り安定して確実な開閉動
作を保障することが可能となる。
【００１５】なお、内導入系５からは、ガスのみならず
水やアルコール、硝酸等、炉内の熱でガス化するものを
導入してもよい。また、各部の具体的な構成は、図示実
施例のものに限定されるものではない。例えば、上記実
施例で用いた中央に開孔した仕切板７に代えて、図３に
示すような両端を開けた仕切板１０７を用いてもよい。
この仕切板１０７により、上記実施例と同様の空隙Ｓ３
を形成することができる。このようにすることで空隙Ｓ
３をより処理空間Ｓ１から遠ざけ且つ内排気系３に近付
けることができる。他の構成としては、図４に示すよう
に、炉内空間Ｓ２と内排気系３の間にリリーフ弁３４を
設ける構成を採用することができる。また、内導入系や
内排気系はガイド管により内箱内の任意の場所に開口し
てもよく、内導入系は内箱を支持する炉床の支柱をパイ
プ状にすることによって構成してもよい。さらにまた、
上記実施例の取り扱い方法において、炉内が差圧力設定
機構が閉じるような高真空状態にあるときには、拡散に
よる漏れがあるため、脱脂処理中であっても外排気系６
を作動させて外導入系４から導入したガスを直接外排気
系６を通じて排出する使用形態を併用し、焼結中は外導
入系４を閉じ、内導入系５から処理ガスのかわりに不活
性ガスを導入してもよい。
水やアルコール、硝酸等、炉内の熱でガス化するものを
導入してもよい。また、各部の具体的な構成は、図示実
施例のものに限定されるものではない。例えば、上記実
施例で用いた中央に開孔した仕切板７に代えて、図３に
示すような両端を開けた仕切板１０７を用いてもよい。
この仕切板１０７により、上記実施例と同様の空隙Ｓ３
を形成することができる。このようにすることで空隙Ｓ
３をより処理空間Ｓ１から遠ざけ且つ内排気系３に近付
けることができる。他の構成としては、図４に示すよう
に、炉内空間Ｓ２と内排気系３の間にリリーフ弁３４を
設ける構成を採用することができる。また、内導入系や
内排気系はガイド管により内箱内の任意の場所に開口し
てもよく、内導入系は内箱を支持する炉床の支柱をパイ
プ状にすることによって構成してもよい。さらにまた、
上記実施例の取り扱い方法において、炉内が差圧力設定
機構が閉じるような高真空状態にあるときには、拡散に
よる漏れがあるため、脱脂処理中であっても外排気系６
を作動させて外導入系４から導入したガスを直接外排気
系６を通じて排出する使用形態を併用し、焼結中は外導
入系４を閉じ、内導入系５から処理ガスのかわりに不活
性ガスを導入してもよい。
【００１６】その他の構成も、本発明の趣旨を逸脱しな
い範囲で種々変形が可能である。
い範囲で種々変形が可能である。
【００１７】
【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。すなわ
ち、本発明の熱処理炉は、炉内に内箱を配置してこの内
箱内を内排気系により直接排気すると共に、外側の炉内
空間から外入ガスを導入してこのガスを内側の処理空間
へ差圧フローさせるようにし、さらに処理空間に炉外か
ら各種処理ガスを直接導入して脱脂処理等の実効を図る
構成を採用するものにおいて、炉内空間への外入ガスの
導入が過多になった場合に、差圧設定機構を作動させて
炉内空間と内排気系とを直接連通させ、炉内空間に存在
するガスを処理物に接触させることなく排出するように
したものである。
施され、以下に記載されるような効果を奏する。すなわ
ち、本発明の熱処理炉は、炉内に内箱を配置してこの内
箱内を内排気系により直接排気すると共に、外側の炉内
空間から外入ガスを導入してこのガスを内側の処理空間
へ差圧フローさせるようにし、さらに処理空間に炉外か
ら各種処理ガスを直接導入して脱脂処理等の実効を図る
構成を採用するものにおいて、炉内空間への外入ガスの
導入が過多になった場合に、差圧設定機構を作動させて
炉内空間と内排気系とを直接連通させ、炉内空間に存在
するガスを処理物に接触させることなく排出するように
したものである。
【００１８】このため、炉内汚染を確実に防止する作用
と、処理空間内における処理ガスの作用とを有効に両立
させることが容易となる。しかも、このようなバイパス
通路を設けておくことによって、内箱が過大な内外差圧
により爆縮を惹起することも確実に回避することが可能
となる。
と、処理空間内における処理ガスの作用とを有効に両立
させることが容易となる。しかも、このようなバイパス
通路を設けておくことによって、内箱が過大な内外差圧
により爆縮を惹起することも確実に回避することが可能
となる。
【図１】本発明の一実施例を示す概略的な断面図。
【図２】図１の要部拡大図。
【図３】本発明の他の実施例を示す模式図。
【図４】本発明の他の実施例を示す図１に対応した断面
図。
図。
１…炉 ２…内箱 ３…内排気系 ４…外導入系 ５…内導入系 ８…差圧力設定機構 ９…バイパス系路 Ｓ１…処理空間 Ｓ２…炉内空間 Ｘ…外入ガス Ｙ…処理ガス
Claims (1)
- 【請求項１】炉内に配置されて内側に処理空間を閉成す
る内箱と、前記処理空間を直接炉外に排気する内排気系
と、前記内箱の外側に位置する炉内空間に炉外から外入
ガスを導入する外導入系と、前記処理空間に炉外から直
接内箱に導通する内導入系とを具備してなるものにおい
て、 前記内排気系の一部と前記炉内空間とを連通する位置
に、差圧力設定機構を有するバイパス通路を設け、炉内
空間が処理空間に対して相対的に差圧力設定機構で設定
した差圧以上に昇圧したときに、炉内空間に存在する外
入ガスを処理空間を経ることなくバイパス通路を通じて
直接内排気系に排出するように構成してなることを特徴
とする熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30070996A JPH10140234A (ja) | 1996-11-12 | 1996-11-12 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30070996A JPH10140234A (ja) | 1996-11-12 | 1996-11-12 | 熱処理炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10140234A true JPH10140234A (ja) | 1998-05-26 |
Family
ID=17888154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30070996A Withdrawn JPH10140234A (ja) | 1996-11-12 | 1996-11-12 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10140234A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103264163A (zh) * | 2013-05-06 | 2013-08-28 | 宁波恒普真空技术有限公司 | 金属粉末注射成型真空脱脂烧结炉定向气流装置 |
| CN114264146A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-04-01 | 江西开源自动化设备有限公司 | 一种单体真空烧结炉 |
| JP2022531053A (ja) * | 2019-02-11 | 2022-07-06 | デスクトップ メタル インコーポレイテッド | シーリングされた炉 |
| JP2022140587A (ja) * | 2022-07-28 | 2022-09-26 | 島津産機システムズ株式会社 | 熱処理装置 |
-
1996
- 1996-11-12 JP JP30070996A patent/JPH10140234A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103264163A (zh) * | 2013-05-06 | 2013-08-28 | 宁波恒普真空技术有限公司 | 金属粉末注射成型真空脱脂烧结炉定向气流装置 |
| CN103264163B (zh) * | 2013-05-06 | 2016-08-17 | 宁波恒普真空技术有限公司 | 金属粉末注射成型真空脱脂烧结炉定向气流装置 |
| JP2022531053A (ja) * | 2019-02-11 | 2022-07-06 | デスクトップ メタル インコーポレイテッド | シーリングされた炉 |
| CN114264146A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-04-01 | 江西开源自动化设备有限公司 | 一种单体真空烧结炉 |
| CN114264146B (zh) * | 2021-12-30 | 2023-11-03 | 江西开源自动化设备有限公司 | 一种单体真空烧结炉 |
| JP2022140587A (ja) * | 2022-07-28 | 2022-09-26 | 島津産機システムズ株式会社 | 熱処理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050228 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20050309 |