JPH10134721A

JPH10134721A - 陰極線管の真空密封方法

Info

Publication number: JPH10134721A
Application number: JP28545796A
Authority: JP
Inventors: Choki Ho; 兆基彭; Ryuji Ozawa; ▲隆▼二小澤
Original assignee: Industrial Technology Research Institute ITRI
Current assignee: Industrial Technology Research Institute ITRI
Priority date: 1996-10-28
Filing date: 1996-10-28
Publication date: 1998-05-22

Abstract

(57)【要約】【課題】陰極線管を真空密封する際、不要なガスが密封
されないようにする。【解決手段】ＣＲＴ１０に連結された排気管１８が炉４
２から外部に出るように、ＣＲＴを炉に収納し、かつ該
排気管と３ウエイ分岐管４４とを密着する。端部４６に
結合された真空ポンプで吸引しＣＲＴを真空にする。次
に、線形運動手段３８によってシャフト３６を上方に移
動し、該シャフトの上端のプラットフォーム３４に配置
された封止プラグ３２’及びガラス・フリット３０を、
排気管のテーパ部６０に入り込ませる。そして、吸引し
ながら炉４２を加熱し、ガラス・フリットを軟化変形さ
せてテーパ部に適合させる。その後、冷却してガラス・
フリットを凝固させ、封止プラグ及びガラス・フリット
をテーパ部に嵌合固定する。次に、ＣＲＴを炉から取り
出し、プラットフォームを分離し、封止プラグの下部で
排気管を切り離す。吸引しながら密封するので、ガラス
・フリットからのガスが密封されない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、陰極線管の真空密封方法
に関し、詳細には、ガラス封止プラグまたは封止プレー
トと、該封止プラグまたは封止プレートを所定の位置で
封止するための溶融ガラス状のガラス・フリットとを用
いて、陰極線管を真空にして密封する方法に関する。

【０００２】陰極線管の密封は通常、炉の中で行われ、
密封が完了するまで陰極線管は真空ポンプで真空に保た
れる。アルバーティンその他に付与されたアメリカ特許
第４,０７１,０５８号には、テレビジョンの受像管を真
空にするための２段ポンピング装置が開示されている。
このポンピング装置は、油拡散ポンプに直列に接続され
た空冷の機械的ポンプを含んでいる。しかしながら、こ
の特許には、シールで密閉してそれを維持する方法は開
示されていない。ボイセルに付与されたアメリカ特許第
５,３４９,２１７号には、オーガニック・スペーサを用
いる公知の半導体処理技術を用いた真空マイクロ電子デ
バイスを製造する方法が開示されている。このデバイス
は、２極管や３極管として使用可能なものである。しか
し、この発明の処理方法は、陰極線管を密封する処理方
法とは異なるものである。本願発明は、ガラス質のガラ
ス・フリットでコーティングされた封止プラグと３ウエ
イ（３路）分岐管とを用いて、陰極線管が密封されるま
で該陰極線管を真空に保つようにした、陰極線管を真空
密封する方法に関するものである。

【０００３】陰極線管は、コンピュータ・システムのデ
ィスプレイ装置や、その他の用途のディスプレイ装置と
して広く使用されている。ディスプレイ装置の陰極線管
が適切に動作し且つ適正な寿命を持つようにするために
は、陰極線管を密封する前に該陰極線管を真空にする必
要がある。しかし、陰極線管を真空にして密封する従来
の方法を用いると、幾つかの問題が発生している。

【０００４】図８の（Ａ）を参照して、陰極線管を真空
にして密封する従来の方法を説明する。図８の（Ａ）に
おいて、符号１０は、ネック１１及びベース１３を有す
る陰極線管すなわちＣＲＴを示している。ＣＲＴ１０
は、ネック１１に、陰極１４及び電子銃（陽極）１２を
備えている。ＣＲＴ１０のベース１３には、複数のピン
１６が、ベースとピンとの間に隙間がないように取り付
けられてる。それらのピン１６を通じて、フィラメン
ト、陰極１４、及び電子銃１２が外部から電気的に接続
される。ＣＲＴ１０のベース１３には排気孔２０が設け
られており、ガラス製の排気管１８がベース１３に隙間
なく密着されて排気孔２０を覆っている。排気管１８
は、Ｏリング・シール２４によりポンピング管２２に隙
間なく密着される。ポンピング管２２は、図示していな
い真空ポンプに接続され、該ポンプによってポンピング
管２２の内部２６が真空にされ、それによってＣＲＴ１
０の内部が真空にされる。ＣＲＴ１０が真空にされた
後、ガラス製の排気管１８のＣＲＴ１０のベース１３に
近い部分が加熱されて軟化し、そして排気孔２０を塞ぐ
ように整形される。排気管１８の余分な部分は除去され
る。

【０００５】図８の（Ｂ）は、上記のようにして完成さ
れたＣＲＴ１０を示しており、シール２１によって排気
孔２０が塞がれている様子を示している。ＣＲＴ１０を
密封する上述の従来の方法には幾つかの問題がある。例
えば、排気孔２０を封止するためにガラス製の排気管１
８が加熱されるとき、排気管１８のガラスからガスが放
出され、そのガスがＣＲＴ１０内部に封入されてしま
う。それらのガスがＣＲＴ１０内部の圧力を上昇させ、
結果としてＣＲＴ１０の寿命及び動作特性に悪影響を及
ぼすものである。Ｃ−ＨガスはＣＲＴ１０内にとどま
り、陰極に用いられるバリウムに吸収されない。

【０００６】図９の（Ａ）を参照して、ＣＲＴを密封す
る別の従来の方法を説明する。この方法では、ＣＲＴ１
０が真空炉４０に入れられる。この真空炉４０は真空ポ
ンプ（不図示）へ結合される接続部４１を備えている。
ＣＲＴ１０は、上述したＣＲＴと同様に、ベース１３に
取り付けられたピン１６、陰極１４、及び電子銃１２を
有している。ＣＲＴ１０のベース１３には排気孔２０が
設けられている。シャフト３６は第１端部及び第２端部
を有し、第２端部は線形動作を行う線形運動手段３９に
結合されている。シャフト３６の第１端部にはベース・
プレート３４が取り付けられている。ベース・プレート
３４には第１面及び第２面を持つガラス封止プレート３
２が取り付けられる。この封止プレート３２は、第２面
がベース・プレート３４に対向するように取り付けられ
ている。封止プレート３２の第１面には、ガラス・フリ
ット３０が取り付けられる。

【０００７】ガラス・フリット３０が溶けるように真空
炉４０は加熱され、かつ真空ポンプにより真空炉４０が
真空にされて、ＣＲＴ１０が真空になる。次に、線形運
動手段３８により、溶けたガラス・フリット３０が置か
れた封止プレート３２が排気孔２０の位置まで移動さ
れ、そして、真空炉４０が冷却される。封止プレート３
２が排気孔２０を覆い、ガラス・フリット３０が凝固し
てＣＲＴ１０を密封する。図９の（Ｂ）には、このよう
にして製造されたＣＲＴ１０が示されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】図８に関連して説明し
たように、従来例においては、真空密封時にガスがＣＲ
Ｔの内部に封入されてしまい、その結果、ＣＲＴの寿命
及び動作特性に悪影響を及ぼしてしまうという、問題点
がある。また、このような問題点は、図９に関連して説
明した真空炉を用いた従来例の方法を用いた場合は解消
されるものの、この方法は一括処理的な方法であるの
で、時間がかかり且つコストが高くなるという問題点が
ある。本発明の目的は、このような従来例の問題点を解
決して、良好な真空度を提供し且つ陰極線管内に不要な
ガスが密封されない低コストの陰極線管密封方法を提供
することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記した本発明の目的
は、ＣＲＴを真空にする際に三方に延びる管（３ウエイ
分岐管）を用い、且つＣＲＴを密封する際にガラス質の
ガラス・フリットを用いることによって達成される。本
発明に従った密封処理においては、ガラス質のガラス・
フリットのみが溶け、放出されたガスはＣＲＴが密封さ
れる前に真空ポンプによって除去される。従って、真空
炉は必要ではない。また、熱は炉によって与えられる
が、一括処理的なオペレーションを必要としない。ある
実施例ではゲッタ（ｇｅｔｔｅｒ）が用いられ、かつ無
線周波数、即ち、ＲＦ用のコイル及び電力によって、Ｃ
ＲＴのフィラメントに熱が与えられる。

【００１０】

【実施の態様】陰極線管（ＣＲＴ）を真空にして密封す
る本発明の真空密封方法の好適な実施例を、図１〜８図
を参照して説明する。図１には、ネック１１及びベース
１３を有するガラス製のＣＲＴ１０が示されている。Ｃ
ＲＴ１０は陰極１４及び電子銃（すなわち陽極）１２を
備えている。陰極１４の一部にはフィラメント（示さ
ず）が設けられている。ベース１３にはピン１６が隙間
のないように取り付けられ、これらのピン１６により、
フィラメント、陰極１４、陽極１２などのＣＲＴ１０内
部のコンポーネントが、ＣＲＴ１０外部から電気的に接
続される。ＣＲＴ１０のベース１３には、直径約３〜５
ｍｍの排気孔２０が設けられている。排気管１８の第１
端部はテーパ部６０を有し、該テーパ部６０がＣＲＴ１
０の排気孔２０を覆って密封するように、ＣＲＴ１０の
ベース１３に密着される。排気管１８の第２端部の直径
は約１０〜２０ｍｍである。排気管１８は、ガラス製で
ある。

【００１１】ＣＲＴ１０及び該ＣＲＴ１０に取り付けら
れた排気管１８は、一側に開口部のある炉（加熱炉）４
２に入れられ、排気管１８の第２端部がその開口部から
外部に出される。この炉４２は高スループット型の低コ
ストの炉である。開口部から出された排気管１８の第２
端部は、第１端部４５、第２端部４７、及び第３端部４
６を有する３ウエイ（３路）分岐管４４の第１端部４５
に挿入されている。この分岐管４４は、例えば、ステン
レス鋼で作られる。排気管１８の第２端部は分岐管４４
の第１端部４５に挿入され、その接続部はＯリング・シ
ール３７で密着される。真空ベローズのような線形運動
手段３８が、分岐管４４の第２端部４７に取り付けられ
ている。第１端部及び第２端部を有するシャフト３６
が、分岐管４４の内部に設けられている。このシャフト
３６の材質は、例えば、ガラス、ステンレス鋼、又はそ
れらと同等のものである。シャフト３６の第２端部は、
線形運動手段３８に取り付けられている。シャフト３６
の第１端部は、分岐管４４の第１端部４５を通って排気
管１８まで延びている。シャフト３６の第１端部にはプ
ラットフォーム３４が取り付けられている。

【００１２】シャフト３６及び線形運動手段３８によ
り、このプラットフォーム３８を排気管１８内で移動さ
せることができる。分岐管４４の第３端部４６には真空
ポンプ（不図示）が取り付けられている。第１面、テー
パ面、及び第２面を持つ封止プラグ３２’がプラットフ
ォーム３４に取り付けられる。この封止プラグ３２’
は、第２面がプラットフォーム３４に対向するように、
プラットフォーム３４上に取り付けられている。封止プ
ラグ３２’の第１面及びテーパ面にはガラス・フリット
３０が配されている。

【００１３】このような状態で、まず、線形運動手段３
８を用いてプラットフォーム３４の位置が調節され、排
気孔２０が開いた状態にされる。次に、真空ポンプを用
いてＣＲＴ１０内の気体を抜き、内部の圧力が約１×１
０^-5から５×１０^-6torrの間になるようにする。次に、
ＣＲＴ１０、封止プラグ３２’、及びガラス・フリット
３０の温度が約４００°Ｃから約５００°Ｃの間の温度
となるように、炉４２の温度を上昇させる。それによっ
てガラス・フリット３０が軟化する。次に、図２に示す
ように、軟化したガラス・フリット３０が排気管１８の
第１端部のテーパ部６０に接触する位置まで、プラット
フォーム３４が線形運動手段３８（図１参照）によって
移動される。排気管１８のテーパ部６０のテーパ角は、
封止プラグ３２’のテーパ面のテーパ角と同じに設定さ
れている。その後、炉４２は冷却され、それにより凝固
したガラス・フリット３０と封止プラグ３２’とによっ
て、排気孔２０が密閉される。

【００１４】次に、ＣＲＴ１０及び排気管１８が炉４２
から取り出され、そして、図３に示すように、分岐管４
４及び排気管１８は、封止プラグ３２’のすぐ下の部分
（切断部３３）で切り離される。このようにしてＣＲＴ
１０の真空化及び密封が完了される。この方法では、ガ
ラス・フリット３０が軟化している最中もＣＲＴ１０を
真空にするために気体が抜かれるので、ＣＲＴ１０を密
封する際に、軟化したガラス・フリット３０から放出さ
れるガスが問題とならない。

【００１５】図４〜図７を参照して、本発明の真空密封
方法の別の実施例を説明する。図４は、ネック１１、ベ
ース１３、及び側壁２１を有するＣＲＴ１０を示してい
る。ＣＲＴ１０のネック５１には、陰極１４、電子銃
（陽極）１２、及びゲッタ（ｇｅｔｔｅｒ）５２が取り
付けられている。本実施例におけるゲッタ５２は、バリ
ウムである。陰極１４の一部にはフィラメント（不図
示）が設けられている。ベース１３にはピン１６が取り
付けられているが、ベース１３とピン１６の間には隙間
がないように取り付けられている。このピン１６によっ
て、ＣＲＴ１０内部のフィラメント、陰極１４、電子銃
１２などのエレメントが、外部と電気的に接続される。
ＣＲＴ１０の側壁２１には直径約３〜５ｍｍの排気孔２
０が設けられている。失透化されたガラス（devitrifie
d glass）３１を用いて、排気管１８の第１端部が、側
壁２１の排気孔２０を塞ぐように隙間なく該側壁２１の
外部に密着されている。このガラス製の排気管１８の直
径は、約１０〜約２０ｍｍの間である。

【００１６】ＣＲＴ１０のネック１１の周囲には、無線
周波数コイル（ＲＦコイル）５０が設置される。ＣＲＴ
１０、排気管１８、及びＲＦコイル５０は、炉４２の中
に入れられるが、図１に関連して説明したように、炉４
２は一側に開口部があり、その開口部から排気管１８の
第２端部が炉４２の外部に出される。この炉４２は高ス
ループット型の低コストの炉である。排気管１８の第２
端部は３ウエイ分岐管４４の第１端部４５に挿入され
る。この分岐管４４はステンレス鋼などの材質で構成さ
れ、第１端部４５、第２端部４７、及び第３端部４６を
有している。分岐管４４の第１端部４５と排気管１８の
第２端部との接続部分はＯリング・シール３７によって
密閉される。

【００１７】真空ベローズや磁気結合された真空フィー
ドスルーのような線形運動手段３８が、分岐管４４の第
２端部４７に取り付けられている。ガラス、ステンレス
鋼、またはその他の材質のシャフト３６が分岐管４４内
部に配置されている。シャフト３６は第１端部及び第２
端部を有し、第２端部は線形運動手段３８に取り付けら
れ、そこから分岐管４４の第１端部４５を経て排気管１
８中に延びている。シャフト３６の第１端部には、プラ
ットフォーム３４が取り付けられている。プラットフォ
ーム３４は、シャフト３６及び線形運動手段３８によっ
て排気管１８内を移動される。分岐管４４の第３端部４
６には、真空ポンプ（不図示）が結合されている。封止
プレート３２がプラットフォーム３４上に配置されてい
る。この封止プレート３２は、第１面及び第２面を持
ち、第２面がプラットフォーム３４上面と対向するよう
に配置される。封止プレート３２の第１面にはガラス質
のガラス・フリット３０が配置される。

【００１８】このような状態で、まず、線形運動手段３
８を用いてプラットフォーム３４の位置が調節され、排
気孔２０が開いた状態にされる。次に、真空ポンプを用
いてＣＲＴ１０内の気体を抜き、内部の圧力が約１×１
０^-5〜５×１０^-6torrの間になるようにする。次に、約
２５〜３５分の間、ＣＲＴ１０、封止プレート３２、及
びガラス・フリット３０の温度が約４００°Ｃから約５
００°Ｃの間の温度となるように、炉４２の温度を上昇
させる。それによってガラス・フリット３０が軟化す
る。次に、陰極１４の一部であるフィラメントに電力が
供給され、陰極１４の温度を約９００°Ｃから約１００
０°Ｃの間の温度に上昇させる。この温度によって陰極
１４が活性化され、陰極１４上のＢａＣＯ₃及びＳｒＣ
Ｏ₃を、ＢａＯ及びＳｒＯに変化させ、二酸化炭素が生
成される。この二酸化炭素は、排気管１８、分岐管４４
を介して、真空ポンプによって除去される。その後、フ
ィラメントに与えられる電力が断たれる。

【００１９】そしてＲＦコイル５０が付勢され、バリウ
ムのゲッタ５２及び電子銃１２が加熱され、約１〜約１
０秒の間、それらの温度が約７００°Ｃから約９００°
Ｃの間の温度に保持される。次に、図５に示すように、
軟化したガラス・フリット３０が排気孔２０に接触しか
つ封止プレート３２が排気孔２０を密閉するように、プ
ラットフォーム３４が線形運動手段３８（図４参照）に
よって移動される。その後、炉４２、ＲＦコイル５０、
及びＣＲＴ１０に与えられた電力を消勢する。封止プレ
ート３２、ガラス・フリット３０、及び排気管１８は、
約１５０°Ｃ以下の温度になるまで冷却され、その結
果、ガラス・フリット３０が固化される。

【００１９】そして、図６に示すように、ＣＲＴ１０及
び排気管１８が炉４２から取り出され、分岐管４４が切
り離され、ＣＲＴ１０のネック１１からＲＦコイル５０
が取り外される。次に、排気管１８を切断及び摩耗手段
により、ＣＲＴ１０から切り離す。次に、ＣＲＴ１０の
ネック５１の周囲にＲＦコイル５０を再び取り付け、こ
のＲＦコイル５０を付勢し、バリウムのゲッタ５２の温
度を約７００°Ｃ〜約９００°Ｃに上昇させて蒸発させ
る。そして、ＲＦコイル５０に供給される電力が消勢さ
れ、図７に示すように、ＲＦコイル５０がＣＲＴ１０の
ネック１１から取り外される。上述した第１の実施例と
同様に、ガラス・フリット３０が軟化している最中もＣ
ＲＴ１０を真空にするために気体が抜かれるので、軟化
したガラス・フリット３０から放出されるガスが取り除
かれる。従って、該放出されるガスがＣＲＴ１０に密封
されることがないので、従来例のような問題が生じな
い。更に、ＣＲＴ内部に封入されてしまったガスは、ゲ
ッタによって取り除くことができる。

【００２０】好適な実施例を用いて本発明を説明した
が、本発明の精神及び範囲を逸脱することなく多くの変
更が可能であることは言うまでもない。例えば、分岐管
４４の分離は、炉４２からＣＲＴ１０を取り出す前に実
行してもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】陰極線管を真空密封する本発明の方法の一実施
例を説明するための説明図である。

【図２】本発明の方法により、封止プラグが最終的な位
置に配置された状態の陰極線管を示す断面図である。

【図３】本発明の方法により真空密封された陰極線管を
示す断面図である。

【図４】陰極線管を真空密封する本発明の方法の別の実
施例を説明するための説明図である。

【図５】排気孔が封止された後における、ＲＦコイルが
取り付けられている陰極線管を示す断面図である。

【図６】ＲＦコイルが取り付けられたままで排気管が切
り取られ、炉から出された状態の陰極線管を示す断面図
である。

【図７】ＲＦコイルが外された状態の、真空密封された
陰極線管を示す断面図である。

【図８】（Ａ）は、陰極線管を真空密封する従来例の方
法を説明するための説明図、（Ｂ）は、該方法を用いて
真空密封された陰極線管を示す断面図である。

【図９】（Ａ）は、陰極線管を真空密封する従来例の真
空炉を用いる方法を説明するための説明図、（Ｂ）は、
該方法を用いて真空密封された陰極線管を示す断面図で
ある。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】陰極線管を真空密封する方法において、ネック、ベース、及び該ベースに設けられた排気孔を有
し、かつ該排気孔以外の部分が密閉されている陰極線管
を設けるステップと、前記陰極線管の内部の前記ネックの部分に陰極、フィラ
メント、及び電子銃を設けるステップと、前記陰極線管の前記ベースに密着され、かつ前記陰極、
フィラメント、及び電子銃への電気的接続を提供するピ
ンを設けるステップと、壁に１つの開口部を有する炉を設けるステップと、テーパ部を有する第１端部と第２端部とを有する排気管
を、前記陰極線管の外部に設けるステップと、前記陰極線管の前記ベースの前記排気孔を覆うように、
前記排気管の第１端部と前記陰極線管のベースとを密着
するステップと、第１端部、第２端部、及び第３端部を有する３ウエイ分
岐管を設けるステップと、前記分岐管の第２端部に取り付けられ、かつ該第２端部
を密封する線形運動手段を設けるステップと、第１端部及び第２端部を有し、該第２端部が前記線形運
動手段に取り付けられ、かつ前記分岐管の第１端部を通
って延びるシャフトであって、シャフトの前記第１端部
が前記分岐管の外側にあり、かつ前記第２端部が前記分
岐管の内側にあるシャフトを設けるステップと、前記陰極線管と前記排気管とを前記炉に入れ、前記排気
管の第２端部が前記炉の壁の前記開口部から前記炉の外
部に出るように配置するステップと、第１面、第２面、及び前記排気管の第１端部の前記テー
パ部と同じテーパ角をのテーパ面を有する持つ封止プラ
グを設けるステップと、前記封止プラグの第２面が前記シャフトの第１端部に接
触するように、前記封止プラグを配置するステップと、ガラス・フリットを前記封止プラグの第１面及びテーパ
面に配置するステップと、前記シャフトの第１端部に前記封止プラグの第２面が接
するように該封止プラグを配置し、そして前記封止プラ
グの第１面及びテーパ面に前記ガラス・フリットを配置
した後に、前記陰極線管のベースの前記排気孔が開いた
状態を維持するように、前記排気管の内部に前記シャフ
トの第１端部を配置するステップと、前記排気管の第２端部を前記分岐管の第１端部内に配置
するステップと、前記排気管の第２端部と前記分岐管の第１端部との接続
部をＯリング・シールによって密着するステップと、前記分岐管の第３端部を真空ポンプに接続するステップ
と、前記真空ポンプを用いて前記陰極線管の気体を抜いて第
１の圧力にするステップと、前記陰極線管内の圧力が前記第１の圧力に達した後に、
前記炉を作動させて前記陰極線管、封止プラグ、及びガ
ラス・フリットを加熱して第１の時間だけ第１の温度に
し、前記ガラス・フリットを軟化させるステップと、前記線形運動手段を用いて前記シャフトを移動させ、軟
化した前記ガラス・フリットが前記封止プラグのテーパ
面と前記排気管の第１端部の前記テーパ部との両方に接
触して、前記封止プラグが前記排気孔を覆って封止する
ようにするステップと、前記炉の作動を停止して前記陰極線管、前記排気管の第
１端部、前記封止プラグ、及び前記ガラス・フリットを
第２の温度まで冷却することにより、前記ガラス・フリ
ットが凝固して前記封止プラグ及び前記ガラス・フリッ
トによって前記排気孔を封止するステップと、前記排気管の第２端部から前記分岐管の第１端部を離す
ステップと、前記陰極線管を前記炉から出すステップと、前記排気管の第２端部から前記封止プラグの第２面まで
の間の前記排気管の部分を前記陰極線管から取り除くス
テップとからなることを特徴とする真空密封方法。
【請求項２】陰極線管を密封する方法において、ネック、ベース、遷移壁（transition wall）、側壁、
前壁、及び前記側壁に設けられた排気孔を有し、かつ該
排気孔以外の部分が密閉されている陰極線管を設けるス
テップと、前記陰極線管の内部の前記ネックの部分に、陰極、フィ
ラメント、電子銃、及びゲッタを設けるステップと、前記陰極線管の前記ベースに密着され、かつ前記陰極、
フィラメント、及び電子銃への電気的接続を提供する電
気的接点であるピンを設けるステップと、壁に１つの開口部を有する炉を設けるステップと、無線周波数コイルを設けるステップと、第１端部と第２端部とを有する排気管を前記陰極線管の
外部に設け、前記陰極線管の前記側壁の前記排気孔を覆
うように、前記排気管の第１端部と前記陰極線管の側壁
とを失透したガラスによって密着するステップと、第１端部、第２端部、及び第３端部を有する３ウエイ分
岐管を設けるステップと、前記分岐管の第２端部に取り付けられ、かつ該第２端部
を密封する線形運動手段を設けるステップと、第１端部及び第２端部を有し、該第２端部が前記線形運
動手段に取り付けられ、かつ前記分岐管の第１端部を通
って延びるシャフトであって、シャフトの前記第１端部
が前記分岐管の外側にあり、かつ前記第２端部が前記分
岐管の内側にあるシャフトを設けるステップと、前記陰極線管と前記排気管とを前記炉に入れ、前記排気
管の第２端部が前記炉の壁の前記開口部から前記炉の外
部に出るように配置するステップと、前記無線周波数コイルを前記陰極線管の前記ネックの周
囲に配置するステップと、第１面及び第２面を持つ封止プレートの該第２面が前記
シャフトの第１端部に接触するように前記封止プレート
を配置するステップと、ガラス・フリットを前記封止プレートの第１面に配置す
るステップと、前記シャフトの第１端部に前記封止プレートの第２面が
接するように該封止プレートを配置し、そして前記封止
プレートの第１面に前記ガラス・フリットを配置した後
に、前記陰極線管の側壁の前記排気孔が開いた状態を維
持するように、前記排気管内部に前記シャフトの第１端
部を配置するステップと、前記排気管の第２端部を前記分岐管の第１端部内に配置
するステップと、前記排気管の第２端部と前記分岐管の第１端部との接続
部をＯリング・シールによって密着するステップと、前記分岐管の第３端部を真空ポンプに接続するステップ
と、前記真空ポンプを用いて、前記陰極線管の気体を抜いて
第１の圧力にするステップと、前記陰極線管内の圧力が前記第１の圧力に達した後に、
前記炉を作動させることにより前記陰極線管を加熱して
第１の時間だけ第１の温度にし、前記ガラス・フリット
を軟化させるステップと、前記陰極線管の前記ベースの前記電気的接点から前記フ
ィラメントに電流を印加して、前記陰極の温度を第２の
温度に上昇させるステップと、前記フィラメントへの電流の印加を停止するステップ
と、前記無線周波数コイルに電力を供給して前記ゲッタ及び
前記電子銃を加熱し、第２の時間の間それらを第３の温
度にするステップと、前記ゲッタ及び前記電子銃を前記第２の時間だけ前記第
３の温度に加熱した後に、前記線形運動手段を用いて前
記シャフトを移動させ、軟化した前記ガラス・フリット
が前記排気孔に接触し、かつ前記封止プレートの第１面
が前記排気孔を覆って封止するようにするステップと、軟化したガラス・フリットが前記排気孔と接触しかつ前
記封止プレートの第１面が前記排気孔を覆った後に、前
記炉の作動を停止して前記陰極線管及び前記ガラス・フ
リットを第４の温度まで冷却することにより、前記ガラ
ス・フリットが凝固して前記封止プレート及び前記ガラ
ス・フリットによって前記排気孔を封止するステップ
と、前記排気管の第２端部から前記分岐管の第１端部を離す
ステップと、前記陰極線管を前記炉から出すステップと、前記陰極線管のネックから前記無線周波数コイルを取り
外すステップと、前記排気管を前記陰極線管から取り除くステップと、前記排気管を取り除いた後に、前記無線周波数コイルを
前記陰極線管のネックの周囲に再配置するステップと、前記無線周波数コイルに電力を供給して前記ゲッタを第
５の温度に加熱し、前記ゲッタを蒸発させるステップ
と、前記無線周波数コイルへの電力の供給を停止するステッ
プと、前記陰極線管のネックから前記無線周波数コイルを取り
外すステップとからなることを特徴とする真空密封方
法。
【請求項３】請求項１または２記載の真空密封方法に
おいて、前記第１の圧力は、約１×１０^-5トル（torr）
から約５×１０^-6トルの間であることを特徴とする真空
密封方法。
【請求項４】請求項１または２記載の真空密封方法に
おいて、前記第１の温度は、約４００°Ｃから約５００
°Ｃの間であることを特徴とする真空密封方法。
【請求項５】請求項１または２記載の真空密封方法に
おいて、前記第２の温度は、約１５０°Ｃ以下であるこ
とを特徴とする真空密封方法。
【請求項６】請求項１または２記載の真空密封方法に
おいて、前記３ウエイ分岐管は、ステンレス鋼からなる
ことを特徴とする真空密封方法。
【請求項７】請求項１または２記載の真空密封方法に
おいて、前記排気孔の直径は、約３ｍｍから約５ｍｍの
間であることを特徴とする真空密封方法。
【請求項８】請求項１または２記載の真空密封方法に
おいて、前記線形運動手段は、真空ベローズ又は磁気的
に結合された真空フィードスルーからなることを特徴と
する真空密封方法。
【請求項９】請求項１または２記載の真空密封方法に
おいて、前記陰極線管は、ガラス製であることを特徴と
する真空密封方法。
【請求項１０】請求項１または２記載の真空密封方法
において、前記排気管は、ガラス製であるであることを
特徴とする真空密封方法。
【請求項１１】請求項２記載の真空密封方法におい
て、前記第１の時間は、約２５秒から約３５秒の間であ
ることを特徴とする真空密封方法。
【請求項１２】請求項２に記載の真空密封方法におい
て、前記第２の温度は、約９００°Ｃから約１０００°
Ｃの間であることを特徴とする真空密封方法。
【請求項１３】請求項２記載の真空密封方法におい
て、前記第３の温度は、約７００°Ｃから約９００°Ｃ
の間であることを特徴とする真空密封方法。
【請求項１４】請求項２記載の真空密封方法におい
て、前記第２の時間は、約１秒から約１０秒の間である
ことを特徴とする真空密封方法。
【請求項１５】請求項２記載の真空密封方法におい
て、前記第４の温度は、約１５０°Ｃ以下であることを
特徴とする真空密封方法。
【請求項１６】請求項２記載の真空密封方法におい
て、前記第５の温度は、約７００°Ｃから約９００°Ｃ
の間であることを特徴とする真空密封方法。