JPH10130391A - オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンおよびその製造方法Info
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- JPH10130391A JPH10130391A JP30102996A JP30102996A JPH10130391A JP H10130391 A JPH10130391 A JP H10130391A JP 30102996 A JP30102996 A JP 30102996A JP 30102996 A JP30102996 A JP 30102996A JP H10130391 A JPH10130391 A JP H10130391A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 分子鎖両末端にアルケニル基もしくはケイ素
原子結合水素原子を有し、側鎖に酸無水物基を有する新
規なオルガノポリシロキサンおよびその製造方法を提供
する。 【解決手段】 酸無水物基と、アルケニル基もしくはケ
イ素原子結合水素原子とを同一分子中に有するオルガノ
ポリシロキサンであって、主鎖中にシルアルキレン単位
を有し、かつ、酸無水物基がシリル基を介して主鎖のケ
イ素原子に結合してなる新規なオルガノポリシロキサン
および、アルケニル基含有オルガノポリシロキサンと酸
無水物基を有するオルガノハイドロジェンシロキサンと
を付加反応させることを特徴とする該オルガノポリシロ
キサンの製造方法。
原子結合水素原子を有し、側鎖に酸無水物基を有する新
規なオルガノポリシロキサンおよびその製造方法を提供
する。 【解決手段】 酸無水物基と、アルケニル基もしくはケ
イ素原子結合水素原子とを同一分子中に有するオルガノ
ポリシロキサンであって、主鎖中にシルアルキレン単位
を有し、かつ、酸無水物基がシリル基を介して主鎖のケ
イ素原子に結合してなる新規なオルガノポリシロキサン
および、アルケニル基含有オルガノポリシロキサンと酸
無水物基を有するオルガノハイドロジェンシロキサンと
を付加反応させることを特徴とする該オルガノポリシロ
キサンの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、分子鎖両末端にア
ルケニル基もしくはケイ素原子結合水素原子を有し、側
鎖に酸無水物基を有する新規なオルガノポリシロキサン
およびその製造方法に関する。
ルケニル基もしくはケイ素原子結合水素原子を有し、側
鎖に酸無水物基を有する新規なオルガノポリシロキサン
およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】酸無水物基を有するオルガノポリシロキ
サンは、エポキシ樹脂，アルキド樹脂，ポリエステル樹
脂，ポリイミド樹脂等の各種有機樹脂の改質剤として知
られており、例えば、ノルボルナン無水物基を有するジ
メチルポリシロキサン（特開平３−５６４９０号公報参
照），式：
サンは、エポキシ樹脂，アルキド樹脂，ポリエステル樹
脂，ポリイミド樹脂等の各種有機樹脂の改質剤として知
られており、例えば、ノルボルナン無水物基を有するジ
メチルポリシロキサン（特開平３−５６４９０号公報参
照），式：
【化１４】 で示される酸無水物基を有するジメチルポリシロキサン
（特開平５−３３１２９１号公報参照）が提案されてい
る。そしてこれらのオルガノポリシロキサンの製造方法
として、オルガノハイドロジェンポリシロキサンと、酸
無水物基およびアルケニル基を有する化合物とを付加反
応させる方法が開示されている。この他にも、酸無水物
基含有ジシロキサン，例えば、１,３−ビス（ジカルボ
キシフェニル）−１,１,３,３−テトラメチルジシロキ
サン２無水物（独特許第３５４２３４６号公報参照），
５,５'−（１,１,３,３−テトラメチル−１,３−ジシロ
キサンジイル）−ビスノルボルナン−２,３−ジカルボ
ン酸無水物（特表昭５９−５０５２０８号公報参照），
１,３−ビス（ジカルボキシブチル）−１,１,３,３−テ
トラメチルジシロキサン２無水物（特開昭５７−１２３
２２３号公報参照），１,３−ビス（トリメリットオキ
シプロピル）−１,１,３,３−テトラメチルジシロキサ
ン２無水物（特開平１−２５４６３１号公報参照）と、
オクタメチルシクロテトラシロキサンのような環状シロ
キサンとを、酸触媒、例えば硫酸の存在下に平衡化反応
させることにより、両末端に酸無水物基を有する高分子
量のオルガノポリシロキサンを製造できることが知られ
ている。しかし、同一分子中にアルケニル基やケイ素原
子結合水素原子などの反応性基を有する酸無水物基含有
オルガノポリシロキサン、特に主鎖中にシルアルキレン
単位を有し、かつ、酸無水物基がシリル基を介して主鎖
のケイ素原子に結合してなるオルガノポリシロキサンは
知られていなかった。
（特開平５−３３１２９１号公報参照）が提案されてい
る。そしてこれらのオルガノポリシロキサンの製造方法
として、オルガノハイドロジェンポリシロキサンと、酸
無水物基およびアルケニル基を有する化合物とを付加反
応させる方法が開示されている。この他にも、酸無水物
基含有ジシロキサン，例えば、１,３−ビス（ジカルボ
キシフェニル）−１,１,３,３−テトラメチルジシロキ
サン２無水物（独特許第３５４２３４６号公報参照），
５,５'−（１,１,３,３−テトラメチル−１,３−ジシロ
キサンジイル）−ビスノルボルナン−２,３−ジカルボ
ン酸無水物（特表昭５９−５０５２０８号公報参照），
１,３−ビス（ジカルボキシブチル）−１,１,３,３−テ
トラメチルジシロキサン２無水物（特開昭５７−１２３
２２３号公報参照），１,３−ビス（トリメリットオキ
シプロピル）−１,１,３,３−テトラメチルジシロキサ
ン２無水物（特開平１−２５４６３１号公報参照）と、
オクタメチルシクロテトラシロキサンのような環状シロ
キサンとを、酸触媒、例えば硫酸の存在下に平衡化反応
させることにより、両末端に酸無水物基を有する高分子
量のオルガノポリシロキサンを製造できることが知られ
ている。しかし、同一分子中にアルケニル基やケイ素原
子結合水素原子などの反応性基を有する酸無水物基含有
オルガノポリシロキサン、特に主鎖中にシルアルキレン
単位を有し、かつ、酸無水物基がシリル基を介して主鎖
のケイ素原子に結合してなるオルガノポリシロキサンは
知られていなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は鋭意検討し
た結果、本発明に到達した。即ち、本発明の目的は、酸
無水物基と、アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素
原子とを同一分子中に有するオルガノポリシロキサンで
あって、主鎖中にシルアルキレン単位を有し、かつ、酸
無水物基がシリル基を介して主鎖のケイ素原子に結合し
てなる新規なオルガノポリシロキサンおよびその製造方
法を提供することにある。
た結果、本発明に到達した。即ち、本発明の目的は、酸
無水物基と、アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素
原子とを同一分子中に有するオルガノポリシロキサンで
あって、主鎖中にシルアルキレン単位を有し、かつ、酸
無水物基がシリル基を介して主鎖のケイ素原子に結合し
てなる新規なオルガノポリシロキサンおよびその製造方
法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段およびその作用】本発明
は、一般式（Ａ）：
は、一般式（Ａ）：
【化１５】 および、一般式（Ｂ）：
【化１６】 ｛式中、Ｒ1はアルケニル基を含まない同種もしくは異
種の一価炭化水素基であり、Ｒ2は同種もしくは異種の
アルケニル基，式：−Ｏ−Ｒ7で示される基および式：
種の一価炭化水素基であり、Ｒ2は同種もしくは異種の
アルケニル基，式：−Ｏ−Ｒ7で示される基および式：
【化１７】 （式中、Ｒ7はアルケニル基である。）で示される基か
らなる群から選択される基であり、Ｒ3は炭素原子数が
２以上である同種もしくは異種のアルキレン基，オキシ
アルキレン基およびアシロキシアルキレン基からなる群
から選択される基であり、Ｒ4は式：
らなる群から選択される基であり、Ｒ3は炭素原子数が
２以上である同種もしくは異種のアルキレン基，オキシ
アルキレン基およびアシロキシアルキレン基からなる群
から選択される基であり、Ｒ4は式：
【化１８】 （式中、Ｒ5およびＲ6は二価炭化水素基であり、Ｚは酸
素原子または二価炭化水素基である。）で示される酸無
水物基であり、ａは０または１以上の整数であり、ｂは
１以上の整数である。｝で示される数平均分子量５００
〜５００,０００のオルガノポリシロキサンおよびその
製造方法に関する。
素原子または二価炭化水素基である。）で示される酸無
水物基であり、ａは０または１以上の整数であり、ｂは
１以上の整数である。｝で示される数平均分子量５００
〜５００,０００のオルガノポリシロキサンおよびその
製造方法に関する。
【０００５】
【発明の実施の形態】最初に、本発明の一般式（Ａ）で
示されるオルガノポリシロキサンについて説明する。こ
のオルガノポリシロキサンは、一般式（Ａ）：
示されるオルガノポリシロキサンについて説明する。こ
のオルガノポリシロキサンは、一般式（Ａ）：
【化１９】 で示される。上式中、Ｒ1はアルケニル基を含まない同
種もしくは異種の一価炭化水素基であり、メチル基，エ
チル基，プロピル基等のアルキル基；フェニル基，トリ
ル基，キシリル基等のアリール基；ベンジル基，フェネ
チル基等のアラルキル基が例示される。これらの中で
も、合成の容易さおよび経済性の点からメチル基または
フェニル基が好ましい。Ｒ2は同種もしくは異種のアル
ケニル基，式：−Ｏ−Ｒ7で示される基および式：
種もしくは異種の一価炭化水素基であり、メチル基，エ
チル基，プロピル基等のアルキル基；フェニル基，トリ
ル基，キシリル基等のアリール基；ベンジル基，フェネ
チル基等のアラルキル基が例示される。これらの中で
も、合成の容易さおよび経済性の点からメチル基または
フェニル基が好ましい。Ｒ2は同種もしくは異種のアル
ケニル基，式：−Ｏ−Ｒ7で示される基および式：
【化２０】 （式中、Ｒ7はアルケニル基である。）で示される基か
らなる群から選択される基である。アルケニル基として
は、ビニル基，アリル基，ブテニル基，ヘキセニル基が
例示される。上式で示される基としては、式：
らなる群から選択される基である。アルケニル基として
は、ビニル基，アリル基，ブテニル基，ヘキセニル基が
例示される。上式で示される基としては、式：
【化２１】 で示される基が例示される。これらの中でも、合成の容
易さおよび経済性の点からビニル基が好ましい。Ｒ3は
炭素原子数が２以上である同種もしくは異種のアルキレ
ン基，オキシアルキレン基およびアシロキシアルキレン
基からなる群から選択される基であり、アルキレン基と
しては、メチルメチレン基，エチレン基，メチルエチレ
ン基，プロピレン基，ブチレン基，ペンチレン基，ヘキ
シレン基が例示される。オキシアルキレン基としては、
オキシエチレン基，オキシプロピレン基が例示され、ア
シロキシアルキレン基としては、式：
易さおよび経済性の点からビニル基が好ましい。Ｒ3は
炭素原子数が２以上である同種もしくは異種のアルキレ
ン基，オキシアルキレン基およびアシロキシアルキレン
基からなる群から選択される基であり、アルキレン基と
しては、メチルメチレン基，エチレン基，メチルエチレ
ン基，プロピレン基，ブチレン基，ペンチレン基，ヘキ
シレン基が例示される。オキシアルキレン基としては、
オキシエチレン基，オキシプロピレン基が例示され、ア
シロキシアルキレン基としては、式：
【化２２】 で示される基が例示される。これらの中でも、合成の容
易さおよび経済性の点からエチレン基またはプロピレン
基が好ましい。Ｒ4は式：
易さおよび経済性の点からエチレン基またはプロピレン
基が好ましい。Ｒ4は式：
【化２３】 で示される酸無水物基である。上式中、Ｒ5およびＲ6は
二価炭化水素基であり、エチレン基，ｎ−プロピレン
基，イソプロピレン基，ｎ−ブチレン基等のアルキレン
基が例示される。Ｚは酸素原子または前記したような二
価炭化水素基である。このような酸無水物基としては、
無水コハク酸プロピル基，無水コハク酸ブチル基，無水
コハク酸ペンチル基，無水フタル酸プロピル基，無水フ
タル酸ブチル基，無水フタル酸ペンチル基，ビシクロ
（２,２,１）ヘプタン酸無水物基，ビシクロ（２,２,
２）オクタン酸無水物基，７−オキサビシクロ（２,２,
１）ヘプタン酸無水物基が例示される。これらの中で
も、製造の容易さおよび経済性の点から無水コハク酸プ
ロピル基が好ましい。ａは０または１以上の整数であ
り、好ましくは０〜１,０００の整数であり、より好ま
しくは０〜１００の整数である。ｂは１以上の整数であ
る。また、本発明のオルガノポリシロキサンの数平均分
子量は５００〜５００,０００の範囲であり、好ましく
は１,０００〜１００,０００の範囲である。
二価炭化水素基であり、エチレン基，ｎ−プロピレン
基，イソプロピレン基，ｎ−ブチレン基等のアルキレン
基が例示される。Ｚは酸素原子または前記したような二
価炭化水素基である。このような酸無水物基としては、
無水コハク酸プロピル基，無水コハク酸ブチル基，無水
コハク酸ペンチル基，無水フタル酸プロピル基，無水フ
タル酸ブチル基，無水フタル酸ペンチル基，ビシクロ
（２,２,１）ヘプタン酸無水物基，ビシクロ（２,２,
２）オクタン酸無水物基，７−オキサビシクロ（２,２,
１）ヘプタン酸無水物基が例示される。これらの中で
も、製造の容易さおよび経済性の点から無水コハク酸プ
ロピル基が好ましい。ａは０または１以上の整数であ
り、好ましくは０〜１,０００の整数であり、より好ま
しくは０〜１００の整数である。ｂは１以上の整数であ
る。また、本発明のオルガノポリシロキサンの数平均分
子量は５００〜５００,０００の範囲であり、好ましく
は１,０００〜１００,０００の範囲である。
【０００６】かかるオルガノポリシロキサンとしては、
例えば、下記式で示される化合物が挙げられる。
例えば、下記式で示される化合物が挙げられる。
【化２４】
【化２５】
【化２６】
【化２７】
【化２８】
【０００７】このような本発明のオルガノポリシロキサ
ンは、例えば、（ａ）一般式：
ンは、例えば、（ａ）一般式：
【化２９】 （式中、Ｒ1，Ｒ2およびａは前記と同じである。）で示
されるオルガノポリシロキサンと、（ｂ）一般式：
されるオルガノポリシロキサンと、（ｂ）一般式：
【化３０】 （式中、Ｒ1およびＲ4は前記と同じである。）で示され
るオルガノシロキサンとを、
るオルガノシロキサンとを、
【式３】 となる条件下で、（ｃ）ヒドロシリル化反応用触媒の存
在下に付加反応させることにより製造できる。
在下に付加反応させることにより製造できる。
【０００８】（ａ）成分のオルガノポリシロキサンは分
子鎖両末端にアルケニル基を有する化合物であり、その
平均分子量は１,０００〜１０,０００の範囲であること
が好ましい。このオルガノポリシロキサンは、例えば、
ヘキサメチルシクロトリシロキサンをアニオン開環重合
してなるリビングポリマーに、ジメチルビニルクロロシ
ランのようなアルケニル基を有する化合物を重合停止剤
として用いることにより製造することができる。特にこ
の方法ではアルケニル基を有しない環状シロキサンが最
終生成物中に残留しないため、分子量分布の非常に狭い
単分散のオルガノポリシロキサンが得られるという利点
を有する。この他にも、オクタメチルシクロテトラシロ
キサンと１,３−ジビニルテトラメチルジシロキサンと
を塩基性触媒存在下に平衡重合反応させることにより製
造することができる。このような本成分のオルガノポリ
シロキサンとしては、例えば、下記式で示される化合物
が挙げられる。
子鎖両末端にアルケニル基を有する化合物であり、その
平均分子量は１,０００〜１０,０００の範囲であること
が好ましい。このオルガノポリシロキサンは、例えば、
ヘキサメチルシクロトリシロキサンをアニオン開環重合
してなるリビングポリマーに、ジメチルビニルクロロシ
ランのようなアルケニル基を有する化合物を重合停止剤
として用いることにより製造することができる。特にこ
の方法ではアルケニル基を有しない環状シロキサンが最
終生成物中に残留しないため、分子量分布の非常に狭い
単分散のオルガノポリシロキサンが得られるという利点
を有する。この他にも、オクタメチルシクロテトラシロ
キサンと１,３−ジビニルテトラメチルジシロキサンと
を塩基性触媒存在下に平衡重合反応させることにより製
造することができる。このような本成分のオルガノポリ
シロキサンとしては、例えば、下記式で示される化合物
が挙げられる。
【化３１】
【化３２】
【０００９】（ｂ）成分のオルガノシロキサンは、１分
子中に２個のケイ素原子結合水素原子と１個の酸無水物
基を有する化合物であり、本発明のオルガノポリシロキ
サンに酸無水物基を導入するための成分である。本成分
のオルガノシロキサンは、例えば、式：
子中に２個のケイ素原子結合水素原子と１個の酸無水物
基を有する化合物であり、本発明のオルガノポリシロキ
サンに酸無水物基を導入するための成分である。本成分
のオルガノシロキサンは、例えば、式：
【化３３】 で示されるメチルトリスジメチルシロキシシラン（特開
平５−３２６７７号公報参照）と脂肪族不飽和結合含有
酸無水物とを白金系触媒の存在下で付加反応させ、次い
で蒸留することにより製造することができる。このと
き、後者の酸無水物中の脂肪族不飽和結合のモル数に対
して、前者のシラン中のケイ素原子結合水素原子のモル
数が過剰になるような条件下で付加反応させる必要があ
る。この方法によれば、不純物を含まない高純度のオル
ガノシロキサンを得ることができる。このような本成分
のオルガノシロキサンとしては、例えば、下記式で示さ
れる化合物が挙げられる。
平５−３２６７７号公報参照）と脂肪族不飽和結合含有
酸無水物とを白金系触媒の存在下で付加反応させ、次い
で蒸留することにより製造することができる。このと
き、後者の酸無水物中の脂肪族不飽和結合のモル数に対
して、前者のシラン中のケイ素原子結合水素原子のモル
数が過剰になるような条件下で付加反応させる必要があ
る。この方法によれば、不純物を含まない高純度のオル
ガノシロキサンを得ることができる。このような本成分
のオルガノシロキサンとしては、例えば、下記式で示さ
れる化合物が挙げられる。
【化３４】
【化３５】
【００１０】（ｃ）成分のヒドロシリル化反応用触媒
は、（ａ）成分中のアルケニル基と（ｂ）成分中のケイ
素原子結合水素原子とを付加反応させるための触媒であ
り、その種類は特に限定されない。具体的には、塩化白
金酸，塩化白金酸のアルコール溶液，白金とオレフィン
の錯体，白金とビニルシロキサンの錯体，白金担持シリ
カ，白金担持活性炭等の白金金属系触媒，ロジウム系触
媒，バナジウム系触媒が例示される。これらの中でも白
金金属系触媒が好ましく、これを使用する場合は（ａ）
成分と（ｂ）成分の合計重量１００万重量部に対して白
金金属量として０.０１〜１,０００重量部の範囲となる
ような量が好ましく、より好ましくは０.１〜１００重
量部の範囲となるような量である。
は、（ａ）成分中のアルケニル基と（ｂ）成分中のケイ
素原子結合水素原子とを付加反応させるための触媒であ
り、その種類は特に限定されない。具体的には、塩化白
金酸，塩化白金酸のアルコール溶液，白金とオレフィン
の錯体，白金とビニルシロキサンの錯体，白金担持シリ
カ，白金担持活性炭等の白金金属系触媒，ロジウム系触
媒，バナジウム系触媒が例示される。これらの中でも白
金金属系触媒が好ましく、これを使用する場合は（ａ）
成分と（ｂ）成分の合計重量１００万重量部に対して白
金金属量として０.０１〜１,０００重量部の範囲となる
ような量が好ましく、より好ましくは０.１〜１００重
量部の範囲となるような量である。
【００１１】上記（ａ）成分のオルガノポリシロキサン
と（ｂ）成分のオルガノシロキサンとを付加反応させる
際には、（ｂ）成分中のケイ素原子結合水素原子のモル
数に対する（ａ）成分中のアルケニル基のモル数の比が
１を越えるような条件下、即ち、
と（ｂ）成分のオルガノシロキサンとを付加反応させる
際には、（ｂ）成分中のケイ素原子結合水素原子のモル
数に対する（ａ）成分中のアルケニル基のモル数の比が
１を越えるような条件下、即ち、
【式４】 となる条件下であることが必要である。また、高分子量
の本発明のオルガノポリシロキサンを得るには、（ａ）
成分の量と（ｂ）成分の量が接近していることが必要で
ある。反応条件は、５０℃〜１５０℃の温度条件下で１
０分〜２時間反応させるのが好ましい。また、本発明の
製造方法においては、発明の目的を損なわない限り、有
機溶媒を使用することができる。使用できる有機溶媒と
しては、例えば、トルエン，キシレン等の芳香族系溶
媒；へキサン，ヘプタン等の脂肪族系溶媒が挙げられ
る。
の本発明のオルガノポリシロキサンを得るには、（ａ）
成分の量と（ｂ）成分の量が接近していることが必要で
ある。反応条件は、５０℃〜１５０℃の温度条件下で１
０分〜２時間反応させるのが好ましい。また、本発明の
製造方法においては、発明の目的を損なわない限り、有
機溶媒を使用することができる。使用できる有機溶媒と
しては、例えば、トルエン，キシレン等の芳香族系溶
媒；へキサン，ヘプタン等の脂肪族系溶媒が挙げられ
る。
【００１２】次に、本発明の一般式（Ｂ）で示されるオ
ルガノポリシロキサンについて説明する。このオルガノ
ポリシロキサンは、一般式（Ｂ）：
ルガノポリシロキサンについて説明する。このオルガノ
ポリシロキサンは、一般式（Ｂ）：
【化３６】 で示される。上式中、Ｒ1はアルケニル基を含まない同
種もしくは異種の一価炭化水素基であり、メチル基，エ
チル基，プロピル基等のアルキル基；フェニル基，トリ
ル基，キシリル基等のアリール基；ベンジル基，フェネ
チル基等のアラルキル基が例示される。これらの中で
も、合成の容易さおよび経済性の点からメチル基または
フェニル基が好ましい。Ｒ3は炭素原子数が２以上であ
る同種もしくは異種のアルキレン基，オキシアルキレン
基およびアシロキシアルキレン基からなる群から選択さ
れる基であり、アルキレン基としては、メチルメチレン
基，エチレン基，メチルエチレン基，プロピレン基，ブ
チレン基，ペンチレン基，ヘキシレン基が例示される。
オキシアルキレン基としては、オキシエチレン基，オキ
シプロピレン基が例示され、アシロキシアルキレン基と
しては、式：
種もしくは異種の一価炭化水素基であり、メチル基，エ
チル基，プロピル基等のアルキル基；フェニル基，トリ
ル基，キシリル基等のアリール基；ベンジル基，フェネ
チル基等のアラルキル基が例示される。これらの中で
も、合成の容易さおよび経済性の点からメチル基または
フェニル基が好ましい。Ｒ3は炭素原子数が２以上であ
る同種もしくは異種のアルキレン基，オキシアルキレン
基およびアシロキシアルキレン基からなる群から選択さ
れる基であり、アルキレン基としては、メチルメチレン
基，エチレン基，メチルエチレン基，プロピレン基，ブ
チレン基，ペンチレン基，ヘキシレン基が例示される。
オキシアルキレン基としては、オキシエチレン基，オキ
シプロピレン基が例示され、アシロキシアルキレン基と
しては、式：
【化３７】 で示される基が例示される。これらの中でも、合成の容
易さおよび経済性の点からエチレン基またはプロピレン
基が好ましい。Ｒ4は式：
易さおよび経済性の点からエチレン基またはプロピレン
基が好ましい。Ｒ4は式：
【化３８】 で示される酸無水物基である。上式中、Ｒ5およびＲ6は
二価炭化水素基であり、エチレン基，ｎ−プロピレン
基，イソプロピレン基，ｎ−ブチレン基等のアルキレン
基が例示される。Ｚは酸素原子または前記したような二
価炭化水素基である。このような酸無水物基としては、
無水コハク酸プロピル基，無水コハク酸ブチル基，無水
コハク酸ペンチル基，無水フタル酸プロピル基，無水フ
タル酸ブチル基，無水フタル酸ペンチル基，ビシクロ
（２,２,１）ヘプタン酸無水物基，ビシクロ（２,２,
２）オクタン酸無水物基，７−オキサビシクロ（２,２,
１）ヘプタン酸無水物基が例示される。これらの中で
も、製造の容易さおよび経済性の点から無水コハク酸プ
ロピル基が好ましい。ａは０または１以上の整数であ
り、好ましくは０〜１,０００の整数であり、より好ま
しくは０〜１００の整数である。ｂは１以上の整数であ
る。また、本発明のオルガノポリシロキサンの数平均分
子量は５００〜５００,０００の範囲であり、好ましく
は１,０００〜１００,０００の範囲である。
二価炭化水素基であり、エチレン基，ｎ−プロピレン
基，イソプロピレン基，ｎ−ブチレン基等のアルキレン
基が例示される。Ｚは酸素原子または前記したような二
価炭化水素基である。このような酸無水物基としては、
無水コハク酸プロピル基，無水コハク酸ブチル基，無水
コハク酸ペンチル基，無水フタル酸プロピル基，無水フ
タル酸ブチル基，無水フタル酸ペンチル基，ビシクロ
（２,２,１）ヘプタン酸無水物基，ビシクロ（２,２,
２）オクタン酸無水物基，７−オキサビシクロ（２,２,
１）ヘプタン酸無水物基が例示される。これらの中で
も、製造の容易さおよび経済性の点から無水コハク酸プ
ロピル基が好ましい。ａは０または１以上の整数であ
り、好ましくは０〜１,０００の整数であり、より好ま
しくは０〜１００の整数である。ｂは１以上の整数であ
る。また、本発明のオルガノポリシロキサンの数平均分
子量は５００〜５００,０００の範囲であり、好ましく
は１,０００〜１００,０００の範囲である。
【００１３】かかるオルガノポリシロキサンとしては、
例えば、下記式で示される化合物が挙げられる。
例えば、下記式で示される化合物が挙げられる。
【化３９】
【化４０】
【００１４】このような本発明のオルガノポリシロキサ
ンは、例えば、（ａ）一般式：
ンは、例えば、（ａ）一般式：
【化４１】 （式中、Ｒ1，Ｒ2およびａは前記と同じである。）で示
されるオルガノポリシロキサンと、（ｂ）一般式：
されるオルガノポリシロキサンと、（ｂ）一般式：
【化４２】 （式中、Ｒ1およびＲ4は前記と同じである。）で示され
るオルガノシロキサンとを、
るオルガノシロキサンとを、
【式５】 となる条件下で、（ｃ）ヒドロシリル化反応用触媒の存
在下に付加反応させることにより製造できる。
在下に付加反応させることにより製造できる。
【００１５】（ａ）成分のオルガノポリシロキサンは分
子鎖両末端にアルケニル基を有する化合物であり、その
平均分子量は１,０００〜１０,０００の範囲であること
が好ましい。このオルガノポリシロキサンは、例えば、
ヘキサメチルシクロトリシロキサンをアニオン開環重合
してなるリビングポリマーに、ジメチルビニルクロロシ
ランのようなアルケニル基を有する化合物を重合停止剤
として用いることにより製造することができる。特にこ
の方法ではアルケニル基を有しない環状シロキサンが最
終生成物中に残留しないため、分子量分布の非常に狭い
単分散のオルガノポリシロキサンが得られるという利点
を有する。この他にも、オクタメチルシクロテトラシロ
キサンと１,３−ジビニルテトラメチルジシロキサンと
を塩基性触媒存在下に平衡重合反応させることにより製
造することができる。このような本成分のオルガノポリ
シロキサンとしては、例えば、下記式で示される化合物
が挙げられる。
子鎖両末端にアルケニル基を有する化合物であり、その
平均分子量は１,０００〜１０,０００の範囲であること
が好ましい。このオルガノポリシロキサンは、例えば、
ヘキサメチルシクロトリシロキサンをアニオン開環重合
してなるリビングポリマーに、ジメチルビニルクロロシ
ランのようなアルケニル基を有する化合物を重合停止剤
として用いることにより製造することができる。特にこ
の方法ではアルケニル基を有しない環状シロキサンが最
終生成物中に残留しないため、分子量分布の非常に狭い
単分散のオルガノポリシロキサンが得られるという利点
を有する。この他にも、オクタメチルシクロテトラシロ
キサンと１,３−ジビニルテトラメチルジシロキサンと
を塩基性触媒存在下に平衡重合反応させることにより製
造することができる。このような本成分のオルガノポリ
シロキサンとしては、例えば、下記式で示される化合物
が挙げられる。
【化４３】
【化４４】
【００１６】（ｂ）成分のオルガノシロキサンは、１分
子中に２個のケイ素原子結合水素原子と１個の酸無水物
基を有する化合物であり、本発明のオルガノポリシロキ
サンに酸無水物基を導入するための成分である。本成分
のオルガノシロキサンは、例えば、式：
子中に２個のケイ素原子結合水素原子と１個の酸無水物
基を有する化合物であり、本発明のオルガノポリシロキ
サンに酸無水物基を導入するための成分である。本成分
のオルガノシロキサンは、例えば、式：
【化４５】 で示されるメチルトリスジメチルシロキシシラン（特開
平５−３２６７７号公報参照）と脂肪族不飽和結合含有
酸無水物とを白金系触媒の存在下で付加反応させ、次い
で蒸留することにより製造することができる。このと
き、後者の酸無水物中の脂肪族不飽和結合のモル数に対
して、前者のシラン中のケイ素原子結合水素原子のモル
数が過剰になるような条件下で付加反応させる必要があ
る。この方法によれば、不純物を含まない高純度のオル
ガノシロキサンを得ることができる。このような本成分
のオルガノシロキサンとしては、例えば、下記式で示さ
れる化合物が挙げられる。
平５−３２６７７号公報参照）と脂肪族不飽和結合含有
酸無水物とを白金系触媒の存在下で付加反応させ、次い
で蒸留することにより製造することができる。このと
き、後者の酸無水物中の脂肪族不飽和結合のモル数に対
して、前者のシラン中のケイ素原子結合水素原子のモル
数が過剰になるような条件下で付加反応させる必要があ
る。この方法によれば、不純物を含まない高純度のオル
ガノシロキサンを得ることができる。このような本成分
のオルガノシロキサンとしては、例えば、下記式で示さ
れる化合物が挙げられる。
【化４６】
【化４７】
【００１７】（ｃ）成分のヒドロシリル化反応用触媒
は、（ａ）成分中のアルケニル基と（ｂ）成分中のケイ
素原子結合水素原子とを付加反応させるための触媒であ
り、その種類は特に限定されない。具体的には、塩化白
金酸，塩化白金酸のアルコール溶液，白金とオレフィン
の錯体，白金とビニルシロキサンの錯体，白金担持シリ
カ，白金担持活性炭等の白金金属系触媒，ロジウム系触
媒，バナジウム系触媒が例示される。これらの中でも白
金金属系触媒が好ましく、これを使用する場合は（ａ）
成分と（ｂ）成分の合計重量１００万重量部に対して白
金金属量として０.０１〜１,０００重量部の範囲となる
ような量が好ましく、より好ましくは０.１〜１００重
量部の範囲となるような量である。
は、（ａ）成分中のアルケニル基と（ｂ）成分中のケイ
素原子結合水素原子とを付加反応させるための触媒であ
り、その種類は特に限定されない。具体的には、塩化白
金酸，塩化白金酸のアルコール溶液，白金とオレフィン
の錯体，白金とビニルシロキサンの錯体，白金担持シリ
カ，白金担持活性炭等の白金金属系触媒，ロジウム系触
媒，バナジウム系触媒が例示される。これらの中でも白
金金属系触媒が好ましく、これを使用する場合は（ａ）
成分と（ｂ）成分の合計重量１００万重量部に対して白
金金属量として０.０１〜１,０００重量部の範囲となる
ような量が好ましく、より好ましくは０.１〜１００重
量部の範囲となるような量である。
【００１８】上記（ａ）成分のオルガノポリシロキサン
と（ｂ）成分のオルガノシロキサンとを付加反応させる
際には、（ａ）成分中のアルケニル基のモル数に対する
（ｂ）成分中のケイ素原子結合水素原子のモル数の比が
１を越えるような条件下、即ち、
と（ｂ）成分のオルガノシロキサンとを付加反応させる
際には、（ａ）成分中のアルケニル基のモル数に対する
（ｂ）成分中のケイ素原子結合水素原子のモル数の比が
１を越えるような条件下、即ち、
【式６】 となる条件下であることが必要である。また、高分子量
の本発明のオルガノポリシロキサンを得るには、（ａ）
成分の量と（ｂ）成分の量が接近していることが必要で
ある。反応条件は、５０℃〜１５０℃の温度条件下で１
０分〜２時間反応させるのが好ましい。また、本発明の
製造方法においては、発明の目的を損なわない限り、有
機溶媒を使用することができる。使用できる有機溶媒と
しては、例えば、トルエン，キシレン等の芳香族系溶
媒；へキサン，ヘプタン等の脂肪族系溶媒が挙げられ
る。
の本発明のオルガノポリシロキサンを得るには、（ａ）
成分の量と（ｂ）成分の量が接近していることが必要で
ある。反応条件は、５０℃〜１５０℃の温度条件下で１
０分〜２時間反応させるのが好ましい。また、本発明の
製造方法においては、発明の目的を損なわない限り、有
機溶媒を使用することができる。使用できる有機溶媒と
しては、例えば、トルエン，キシレン等の芳香族系溶
媒；へキサン，ヘプタン等の脂肪族系溶媒が挙げられ
る。
【００１９】以上のような本発明のオルガノポリシロキ
サンは、一分子中にアルケニル基もしくはケイ素原子結
合水素原子を有するため、付加反応硬化性オルガノポリ
シロキサン組成物の主成分として有用である。また酸無
水物基を有することから、エポキシ化合物，アミン類，
アルコール性水酸基含有化合物などに対する反応性が高
く、このためポリイミド樹脂，ポリエステル樹脂，エポ
キシ樹脂等の改質剤として使用することができる。
サンは、一分子中にアルケニル基もしくはケイ素原子結
合水素原子を有するため、付加反応硬化性オルガノポリ
シロキサン組成物の主成分として有用である。また酸無
水物基を有することから、エポキシ化合物，アミン類，
アルコール性水酸基含有化合物などに対する反応性が高
く、このためポリイミド樹脂，ポリエステル樹脂，エポ
キシ樹脂等の改質剤として使用することができる。
【００２０】
【実施例】以下、実施例にて本発明を詳細に説明する。
【００２１】
【合成例１】水分分離管付きコンデンサー，温度計，攪
拌棒を取り付けた５リットル４口フラスコに、ヘキサメ
チルシクロトリシロキサン１,０００グラム（４.４９モ
ル）とトルエン７５０グラムを投入して混合した。この
混合物を加熱還流により共沸脱水した後、水冷により室
温に戻し、次いでジフェニルジリチウムシラノレート
０.３３１１グラム（１.４５ミリモル），水１２.９５
７０グラム（０.７１９モル），アセトニトリル２５０
グラムおよびN,N-ジメチルホルムアミド４０グラムを加
えて、室温下で反応を行った。ガスクロマトグラフィー
（以下、ＧＣＬ）により反応の進行をモニターし、ヘキ
サメチルシクロトリシロキサンの転化率が８０パーセン
トに達した時点でジエチルアミン１９７グラム（２.６
９モル）を加え、次いでジメチルビニルクロロシランを
１２１.８グラム（１.０１モル）滴下した。この反応溶
液を室温で１２時間攪拌してメタノールを１１５グラム
（３.５９モル）加え、さらに室温で２時間攪拌した。
攪拌後、滅菌濾過を行って析出した塩を取り除き、次い
で真空ポンプを備えたロータリーエバポレータを用いて
１２０℃の条件下でストリッピングすることにより低沸
分を取り除いた。そして再び滅菌濾過を行い、無色透明
の反応生成物８６１グラムを得た。得られた反応生成物
を核磁気共鳴分析（以下、ＮＭＲ）および赤外吸光分析
（以下、ＩＲ）により分析したところ、このものは下記
化学構造式で示されるオルガノポリシロキサンであるこ
とが判明した。
拌棒を取り付けた５リットル４口フラスコに、ヘキサメ
チルシクロトリシロキサン１,０００グラム（４.４９モ
ル）とトルエン７５０グラムを投入して混合した。この
混合物を加熱還流により共沸脱水した後、水冷により室
温に戻し、次いでジフェニルジリチウムシラノレート
０.３３１１グラム（１.４５ミリモル），水１２.９５
７０グラム（０.７１９モル），アセトニトリル２５０
グラムおよびN,N-ジメチルホルムアミド４０グラムを加
えて、室温下で反応を行った。ガスクロマトグラフィー
（以下、ＧＣＬ）により反応の進行をモニターし、ヘキ
サメチルシクロトリシロキサンの転化率が８０パーセン
トに達した時点でジエチルアミン１９７グラム（２.６
９モル）を加え、次いでジメチルビニルクロロシランを
１２１.８グラム（１.０１モル）滴下した。この反応溶
液を室温で１２時間攪拌してメタノールを１１５グラム
（３.５９モル）加え、さらに室温で２時間攪拌した。
攪拌後、滅菌濾過を行って析出した塩を取り除き、次い
で真空ポンプを備えたロータリーエバポレータを用いて
１２０℃の条件下でストリッピングすることにより低沸
分を取り除いた。そして再び滅菌濾過を行い、無色透明
の反応生成物８６１グラムを得た。得られた反応生成物
を核磁気共鳴分析（以下、ＮＭＲ）および赤外吸光分析
（以下、ＩＲ）により分析したところ、このものは下記
化学構造式で示されるオルガノポリシロキサンであるこ
とが判明した。
【化４８】
【００２２】
【合成例２】水分分離管付きコンデンサー，温度計，攪
拌棒を取り付けた２リットル４口フラスコに、ヘキサメ
チルシクロトリシロキサン４００グラム（１.８０モ
ル）とトルエン３００グラムを投入して混合した。この
混合物を加熱還流により共沸脱水した後、水冷により室
温に戻し、次いでジフェニルジリチウムシラノレート
０.２１８７グラム（０.９５８ミリモル），水８.６２
５４グラム（０.４７９モル），アセトニトリル１００
グラムおよびN,N-ジメチルホルムアミド１６グラムを加
えて、室温下で反応を行った。ＧＣＬにより反応の進行
をモニターし、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの転
化率が８０パーセントに達した時点で酢酸０.３３グラ
ムを加えて反応を停止させた。さらにジエチルアミン１
１８グラム（１.６１モル）を加え、次いでジフェニル
ジクロロシラン６０.７グラム（０.２３９モル）を滴下
した。滴下後室温で１６時間攪拌した後、ジメチルビニ
ルクロロシランを６９.２グラム（０.５７３モル）滴下
した。この反応溶液を室温で１２時間攪拌してメタノー
ルを７０.２グラム（２.１９モル）加え、さらに室温で
１時間攪拌した。攪拌後、滅菌濾過を行って析出した塩
を取り除き、次いで真空ポンプを備えたロータリーエバ
ポレータを用いて１２０℃の条件下でストリッピングす
ることにより低沸分を取り除いた。そして再び滅菌濾過
を行い、透明微黄色の反応生成物３６５グラムを得た。
得られた反応生成物をＮＭＲおよびＩＲにより分析した
ところ、このものは下記化学構造式で示されるオルガノ
ポリシロキサンであることが判明した。
拌棒を取り付けた２リットル４口フラスコに、ヘキサメ
チルシクロトリシロキサン４００グラム（１.８０モ
ル）とトルエン３００グラムを投入して混合した。この
混合物を加熱還流により共沸脱水した後、水冷により室
温に戻し、次いでジフェニルジリチウムシラノレート
０.２１８７グラム（０.９５８ミリモル），水８.６２
５４グラム（０.４７９モル），アセトニトリル１００
グラムおよびN,N-ジメチルホルムアミド１６グラムを加
えて、室温下で反応を行った。ＧＣＬにより反応の進行
をモニターし、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの転
化率が８０パーセントに達した時点で酢酸０.３３グラ
ムを加えて反応を停止させた。さらにジエチルアミン１
１８グラム（１.６１モル）を加え、次いでジフェニル
ジクロロシラン６０.７グラム（０.２３９モル）を滴下
した。滴下後室温で１６時間攪拌した後、ジメチルビニ
ルクロロシランを６９.２グラム（０.５７３モル）滴下
した。この反応溶液を室温で１２時間攪拌してメタノー
ルを７０.２グラム（２.１９モル）加え、さらに室温で
１時間攪拌した。攪拌後、滅菌濾過を行って析出した塩
を取り除き、次いで真空ポンプを備えたロータリーエバ
ポレータを用いて１２０℃の条件下でストリッピングす
ることにより低沸分を取り除いた。そして再び滅菌濾過
を行い、透明微黄色の反応生成物３６５グラムを得た。
得られた反応生成物をＮＭＲおよびＩＲにより分析した
ところ、このものは下記化学構造式で示されるオルガノ
ポリシロキサンであることが判明した。
【化４９】
【００２３】
【合成例３】コンデンサー，温度計，攪拌棒を取り付け
た１リットル４口フラスコにメチルトリスジメチルシロ
キシシラン４５０グラム（１.６８モル）を投入し、こ
れに塩化白金酸と１,３−ジビニルテトラメチルジシロ
キサンの錯体を白金金属量が上記メチルトリスジメチル
シロキシシランに対して５ｐｐｍになるような量加え
た。この混合物を加熱して１１０℃に達した時点で、ア
リルコハク酸無水物１５７グラム（１.１２モル）を滴
下した。滴下中は反応温度を１１０℃に保つように水浴
を用いて制御した。反応終了後は室温まで冷却し、次い
でヴィグリュー精留塔を備えた蒸留装置を用いて蒸留し
て、無色透明の反応生成物２０４グラムを得た。得られ
た反応生成物をＮＭＲおよびＩＲにより分析したとこ
ろ、このものは下記化学構造式で示されるオルガノシロ
キサンであることが判明した。
た１リットル４口フラスコにメチルトリスジメチルシロ
キシシラン４５０グラム（１.６８モル）を投入し、こ
れに塩化白金酸と１,３−ジビニルテトラメチルジシロ
キサンの錯体を白金金属量が上記メチルトリスジメチル
シロキシシランに対して５ｐｐｍになるような量加え
た。この混合物を加熱して１１０℃に達した時点で、ア
リルコハク酸無水物１５７グラム（１.１２モル）を滴
下した。滴下中は反応温度を１１０℃に保つように水浴
を用いて制御した。反応終了後は室温まで冷却し、次い
でヴィグリュー精留塔を備えた蒸留装置を用いて蒸留し
て、無色透明の反応生成物２０４グラムを得た。得られ
た反応生成物をＮＭＲおよびＩＲにより分析したとこ
ろ、このものは下記化学構造式で示されるオルガノシロ
キサンであることが判明した。
【化５０】
【００２４】
【実施例１】コンデンサー，温度計，攪拌棒を取り付け
た０.２リットル４口フラスコに、合成例１で得られた
両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロ
キサン（ビニル含有量３.３０重量％）８０.０グラム
（ビニル基０.０９７６モル）を投入し、これに塩化白
金酸と１,３−ジビニルテトラメチルジシロキサンの錯
体を白金金属量が上記ジメチルポリシロキサンに対して
５ｐｐｍとなるような量加えた。この混合物を加熱して
８０℃に達した時点で、合成例３で得られたオルガノシ
ロキサンを１８.０グラム（ケイ素原子結合水素原子０.
０８７８モル）滴下した。滴下中は反応温度を８０℃に
保つように水浴を用いて制御した。反応終了後、室温ま
で冷却した後、真空ポンプを備えたロータリーエバポレ
ータを用いて８０℃の条件下でストリッピングすること
により低沸分を取り除き、無色透明の反応生成物９４.
０グラムを得た。得られた反応生成物をＮＭＲおよびＩ
Ｒにより分析したところ、このものは下記化学構造式で
示されるオルガノポリシロキサンであることが判明し
た。
た０.２リットル４口フラスコに、合成例１で得られた
両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロ
キサン（ビニル含有量３.３０重量％）８０.０グラム
（ビニル基０.０９７６モル）を投入し、これに塩化白
金酸と１,３−ジビニルテトラメチルジシロキサンの錯
体を白金金属量が上記ジメチルポリシロキサンに対して
５ｐｐｍとなるような量加えた。この混合物を加熱して
８０℃に達した時点で、合成例３で得られたオルガノシ
ロキサンを１８.０グラム（ケイ素原子結合水素原子０.
０８７８モル）滴下した。滴下中は反応温度を８０℃に
保つように水浴を用いて制御した。反応終了後、室温ま
で冷却した後、真空ポンプを備えたロータリーエバポレ
ータを用いて８０℃の条件下でストリッピングすること
により低沸分を取り除き、無色透明の反応生成物９４.
０グラムを得た。得られた反応生成物をＮＭＲおよびＩ
Ｒにより分析したところ、このものは下記化学構造式で
示されるオルガノポリシロキサンであることが判明し
た。
【化５１】
【００２５】
【実施例２】コンデンサー，温度計，攪拌棒を取り付け
た０.２リットル４口フラスコに、１,３−ジビニルテト
ラメチルジシロキサン２１.２グラム（ビニル基０.２２
７モル）を投入し、これに塩化白金酸と１,３−ジビニ
ルテトラメチルジシロキサンの錯体を白金金属量が上記
ジシロキサンに対して５ｐｐｍとなるような量加えた。
この混合物を加熱して８０℃に達した時点で、合成例３
で得られたオルガノシロキサンを４５.０グラム（ケイ
素原子結合水素原子０.２２０モル）滴下した。滴下中
は反応温度を８０℃に保つように水浴を用いて制御し
た。反応終了後、室温まで冷却した後、真空ポンプを備
えたロータリーエバポレータを用いて８０℃の条件下で
ストリッピングすることにより低沸分を取り除き、無色
透明の反応生成物６４.２グラムを得た。得られた反応
生成物をＮＭＲおよびＩＲにより分析したところ、この
ものは下記化学構造式で示されるオルガノポリシロキサ
ンであることが判明した。
た０.２リットル４口フラスコに、１,３−ジビニルテト
ラメチルジシロキサン２１.２グラム（ビニル基０.２２
７モル）を投入し、これに塩化白金酸と１,３−ジビニ
ルテトラメチルジシロキサンの錯体を白金金属量が上記
ジシロキサンに対して５ｐｐｍとなるような量加えた。
この混合物を加熱して８０℃に達した時点で、合成例３
で得られたオルガノシロキサンを４５.０グラム（ケイ
素原子結合水素原子０.２２０モル）滴下した。滴下中
は反応温度を８０℃に保つように水浴を用いて制御し
た。反応終了後、室温まで冷却した後、真空ポンプを備
えたロータリーエバポレータを用いて８０℃の条件下で
ストリッピングすることにより低沸分を取り除き、無色
透明の反応生成物６４.２グラムを得た。得られた反応
生成物をＮＭＲおよびＩＲにより分析したところ、この
ものは下記化学構造式で示されるオルガノポリシロキサ
ンであることが判明した。
【化５２】
【００２６】
【実施例３】コンデンサー，温度計，攪拌棒を取り付け
た０.２リットル４口フラスコに、合成例２で得られた
両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサ
ン・ジフェニルシロキサン共重合体（ビニル含有量２.
５８重量％）９３.６グラム（ビニル基０.０８９３モ
ル）を投入し、これに塩化白金酸と１,３−ジビニルテ
トラメチルジシロキサンの錯体を白金金属量が上記シロ
キサン共重合体に対して５ｐｐｍとなるような量加え
た。この混合物を加熱して８０℃に達した時点で、合成
例３で得られたオルガノシロキサンを１４.８グラム
（ケイ素原子結合水素原子０.０７２４モル）滴下し
た。滴下中は反応温度を８０℃に保つように水浴を用い
て制御した。反応終了後、室温まで冷却した後、真空ポ
ンプを備えたロータリーエバポレータを用いて８０℃の
条件下でストリッピングすることにより低沸分を取り除
き、無色透明の反応生成物１０３グラムを得た。得られ
た反応生成物をＮＭＲおよびＩＲにより分析したとこ
ろ、このものは下記化学構造式で示されるオルガノポリ
シロキサンであることが判明した。
た０.２リットル４口フラスコに、合成例２で得られた
両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサ
ン・ジフェニルシロキサン共重合体（ビニル含有量２.
５８重量％）９３.６グラム（ビニル基０.０８９３モ
ル）を投入し、これに塩化白金酸と１,３−ジビニルテ
トラメチルジシロキサンの錯体を白金金属量が上記シロ
キサン共重合体に対して５ｐｐｍとなるような量加え
た。この混合物を加熱して８０℃に達した時点で、合成
例３で得られたオルガノシロキサンを１４.８グラム
（ケイ素原子結合水素原子０.０７２４モル）滴下し
た。滴下中は反応温度を８０℃に保つように水浴を用い
て制御した。反応終了後、室温まで冷却した後、真空ポ
ンプを備えたロータリーエバポレータを用いて８０℃の
条件下でストリッピングすることにより低沸分を取り除
き、無色透明の反応生成物１０３グラムを得た。得られ
た反応生成物をＮＭＲおよびＩＲにより分析したとこ
ろ、このものは下記化学構造式で示されるオルガノポリ
シロキサンであることが判明した。
【化５３】
【００２７】
【実施例４】コンデンサー，温度計，攪拌棒を取り付け
た０.５リットル４口フラスコに、合成例３で得られた
オルガノシロキサン５０グラム（ケイ素原子結合水素原
子０.２４５モル）を投入し、これに塩化白金酸と１,３
−ジビニルテトラメチルジシロキサンの錯体を白金金属
量が上記オルガノシロキサンに対して５ｐｐｍとなるよ
うな量加えた。この混合物を加熱して８０℃に達した時
点で、合成例１で得られた両末端ジメチルビニルシロキ
シ基封鎖ジメチルポリシロキサン（ビニル含有量３.３
０重量％）を１８６グラム（ビニル基０.２２７モル）
滴下した。滴下中は反応温度を８０℃に保つように水浴
を用いて制御した。反応終了後、室温まで冷却した後、
真空ポンプを備えたロータリーエバポレータを用いて８
０℃の条件下でストリッピングすることにより低沸分を
取り除き、無色透明の反応生成物２２７グラムを得た。
得られた反応生成物をＮＭＲおよびＩＲにより分析した
ところ、このものは下記化学構造式で示されるオルガノ
ポリシロキサンであることが判明した。
た０.５リットル４口フラスコに、合成例３で得られた
オルガノシロキサン５０グラム（ケイ素原子結合水素原
子０.２４５モル）を投入し、これに塩化白金酸と１,３
−ジビニルテトラメチルジシロキサンの錯体を白金金属
量が上記オルガノシロキサンに対して５ｐｐｍとなるよ
うな量加えた。この混合物を加熱して８０℃に達した時
点で、合成例１で得られた両末端ジメチルビニルシロキ
シ基封鎖ジメチルポリシロキサン（ビニル含有量３.３
０重量％）を１８６グラム（ビニル基０.２２７モル）
滴下した。滴下中は反応温度を８０℃に保つように水浴
を用いて制御した。反応終了後、室温まで冷却した後、
真空ポンプを備えたロータリーエバポレータを用いて８
０℃の条件下でストリッピングすることにより低沸分を
取り除き、無色透明の反応生成物２２７グラムを得た。
得られた反応生成物をＮＭＲおよびＩＲにより分析した
ところ、このものは下記化学構造式で示されるオルガノ
ポリシロキサンであることが判明した。
【化５４】
【００２８】
【発明の効果】本発明のオルガノポリシロキサンは、酸
無水物基と、アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素
原子とを同一分子中に有する化合物であって、主鎖中に
シルアルキレン単位を有し、かつ、酸無水物基がシリル
基を介して主鎖のケイ素原子に結合してなる新規な化合
物である。また本発明の製造方法は、アルケニル基含有
オルガノポリシロキサンと、酸無水物基を有するオルガ
ノハイドロジェンシロキサンとを付加反応させることを
特徴とし、本発明のオルガノポリシロキサンを生産性よ
く製造することができるという利点を有する。
無水物基と、アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素
原子とを同一分子中に有する化合物であって、主鎖中に
シルアルキレン単位を有し、かつ、酸無水物基がシリル
基を介して主鎖のケイ素原子に結合してなる新規な化合
物である。また本発明の製造方法は、アルケニル基含有
オルガノポリシロキサンと、酸無水物基を有するオルガ
ノハイドロジェンシロキサンとを付加反応させることを
特徴とし、本発明のオルガノポリシロキサンを生産性よ
く製造することができるという利点を有する。
【図１】 図１は実施例１で得られたオルガノポリシロ
キサンの29Ｓｉ−核磁気共鳴分析チャートである。
キサンの29Ｓｉ−核磁気共鳴分析チャートである。
【図２】 図２は実施例１で得られたオルガノポリシロ
キサンの13Ｃ−核磁気共鳴分析チャートである。
キサンの13Ｃ−核磁気共鳴分析チャートである。
【図３】 図３は実施例１で得られたオルガノポリシロ
キサンの赤外吸光分析チャートである。
キサンの赤外吸光分析チャートである。
【図４】 図４は実施例２で得られたオルガノポリシロ
キサンの29Ｓｉ−核磁気共鳴分析チャートである。
キサンの29Ｓｉ−核磁気共鳴分析チャートである。
【図５】 図５は実施例２で得られたオルガノポリシロ
キサンの13Ｃ−核磁気共鳴分析チャートである。
キサンの13Ｃ−核磁気共鳴分析チャートである。
【図６】 図６は実施例２で得られたオルガノポリシロ
キサンの赤外吸光分析チャートである。
キサンの赤外吸光分析チャートである。
【図７】 図７は実施例３で得られたオルガノポリシロ
キサンの29Ｓｉ−核磁気共鳴分析チャートである。
キサンの29Ｓｉ−核磁気共鳴分析チャートである。
【図８】 図８は実施例３で得られたオルガノポリシロ
キサンの13Ｃ−核磁気共鳴分析チャートである。
キサンの13Ｃ−核磁気共鳴分析チャートである。
【図９】 図９は実施例３で得られたオルガノポリシロ
キサンの赤外吸光分析チャートである。
キサンの赤外吸光分析チャートである。
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式（Ａ）： 【化１】 ｛式中、Ｒ1はアルケニル基を含まない同種もしくは異
種の一価炭化水素基であり、Ｒ2は同種もしくは異種の
アルケニル基，式：−Ｏ−Ｒ7で示される基および式： 【化２】 （式中、Ｒ7はアルケニル基である。）で示される基か
らなる群から選択される基であり、Ｒ3は炭素原子数が
２以上である同種もしくは異種のアルキレン基，オキシ
アルキレン基およびアシロキシアルキレン基からなる群
から選択される基であり、Ｒ4は式： 【化３】 （式中、Ｒ5およびＲ6は二価炭化水素基であり、Ｚは酸
素原子または二価炭化水素基である。）で示される酸無
水物基であり、ａは０または１以上の整数であり、ｂは
１以上の整数である。｝で示される数平均分子量５００
〜５００,０００のオルガノポリシロキサン。 - 【請求項２】 一般式（Ｂ）： 【化４】 ｛式中、Ｒ1はアルケニル基を含まない同種もしくは異
種の一価炭化水素基であり、Ｒ3は炭素原子数が２以上
である同種もしくは異種のアルキレン基，オキシアルキ
レン基およびアシロキシアルキレン基からなる群から選
択される基であり、Ｒ4は式： 【化５】 （式中、Ｒ5およびＲ6は二価炭化水素基であり、Ｚは酸
素原子または二価炭化水素基である。）で示される酸無
水物基であり、ａは０または１以上の整数であり、ｂは
１以上の整数である。｝で示される数平均分子量５００
〜５００,０００のオルガノポリシロキサン。 - 【請求項３】 Ｒ4が無水コハク酸プロピル基である請
求項１または請求項２記載のオルガノポリシロキサン。 - 【請求項４】 （ａ）一般式： 【化６】 ｛式中、Ｒ1はアルケニル基を含まない同種もしくは異
種の一価炭化水素基であり、Ｒ2は同種もしくは異種の
アルケニル基，式：−Ｏ−Ｒ7で示される基および式： 【化７】 （式中、Ｒ7はアルケニル基である。）で示される基か
らなる群から選択される基であり、ａは０または１以上
の整数である。｝で示されるオルガノポリシロキサン
と、（ｂ）一般式： 【化８】 ｛式中、Ｒ1はアルケニル基を含まない同種もしくは異
種の一価炭化水素基であり、Ｒ4は式： 【化９】 （式中、Ｒ5およびＲ6は二価炭化水素基であり、Ｚは酸
素原子または二価炭化水素基である。）で示される酸無
水物基である。｝で示されるオルガノシロキサンとを、 【式１】 となる条件下で、（ｃ）ヒドロシリル化反応用触媒の存
在下に付加反応させることを特徴とする請求項１記載の
オルガノポリシロキサンの製造方法。 - 【請求項５】 （ａ）一般式： 【化１０】 ｛式中、Ｒ1はアルケニル基を含まない同種もしくは異
種の一価炭化水素基であり、Ｒ2は同種もしくは異種の
アルケニル基，式：−Ｏ−Ｒ7で示される基および式： 【化１１】 （式中、Ｒ7はアルケニル基である。）で示される基か
らなる群から選択される基であり、ａは０または１以上
の整数である。｝で示されるオルガノポリシロキサン
と、（ｂ）一般式： 【化１２】 ｛式中、Ｒ1はアルケニル基を含まない同種もしくは異
種の一価炭化水素基であり、Ｒ4は式： 【化１３】 （式中、Ｒ5およびＲ6は二価炭化水素基であり、Ｚは酸
素原子または二価炭化水素基である。）で示される酸無
水物基である。｝で示されるオルガノシロキサンとを、 【式２】 となる条件下で、（ｃ）ヒドロシリル化反応用触媒の存
在下に付加反応させることを特徴とする請求項２記載の
オルガノポリシロキサンの製造方法。 - 【請求項６】 Ｒ4が無水コハク酸プロピル基である請
求項４または請求項５記載のオルガノポリシロキサンの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30102996A JPH10130391A (ja) | 1996-10-25 | 1996-10-25 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30102996A JPH10130391A (ja) | 1996-10-25 | 1996-10-25 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10130391A true JPH10130391A (ja) | 1998-05-19 |
Family
ID=17892000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30102996A Pending JPH10130391A (ja) | 1996-10-25 | 1996-10-25 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10130391A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103172655A (zh) * | 2011-12-20 | 2013-06-26 | 信越化学工业株式会社 | 含有酸酐基的有机硅氧烷及其制造方法 |
| JP2013129809A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-07-04 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 酸無水物基含有オルガノシロキサン及びその製造方法 |
| WO2015118594A1 (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-13 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性組成物、半導体装置、及びエステル結合含有有機ケイ素化合物 |
-
1996
- 1996-10-25 JP JP30102996A patent/JPH10130391A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013129809A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-07-04 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 酸無水物基含有オルガノシロキサン及びその製造方法 |
| CN103172655A (zh) * | 2011-12-20 | 2013-06-26 | 信越化学工业株式会社 | 含有酸酐基的有机硅氧烷及其制造方法 |
| JP2013129691A (ja) * | 2011-12-20 | 2013-07-04 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 酸無水物基含有オルガノシロキサン及びその製造方法 |
| WO2015118594A1 (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-13 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性組成物、半導体装置、及びエステル結合含有有機ケイ素化合物 |
| JP2015147879A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性組成物、半導体装置、及びエステル結合含有有機ケイ素化合物 |
| CN105980482A (zh) * | 2014-02-07 | 2016-09-28 | 信越化学工业株式会社 | 固化性组合物、半导体装置以及含酯键的有机硅化合物 |
| KR20160119762A (ko) * | 2014-02-07 | 2016-10-14 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 경화성 조성물, 반도체 장치, 및 에스테르결합함유 유기규소 화합물 |
| US9796817B2 (en) | 2014-02-07 | 2017-10-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Curable composition, semiconductor device, and ester bond-containing organosilicon compound |
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