JPH10129140A - メタルマスク - Google Patents
メタルマスクInfo
- Publication number
- JPH10129140A JPH10129140A JP30372296A JP30372296A JPH10129140A JP H10129140 A JPH10129140 A JP H10129140A JP 30372296 A JP30372296 A JP 30372296A JP 30372296 A JP30372296 A JP 30372296A JP H10129140 A JPH10129140 A JP H10129140A
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- Japan
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- metal mask
- metal
- mask
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 この発明は被マスク部材と接触する側の微細
孔の口縁部に凹凸ができないように金属基板の面を平滑
面（鏡面）に仕上げたメタルマスクに関する。 【解決手段】 メタルマスク１は、金属基板２に多数の
微細孔５を有しており、金属基板２の一方の表面３を鏡
面仕上げにしている。金属基板２の一面を鏡面としてい
るので、微細孔５の開口の口縁部６は均一に形成される
ので凹凸が生じない。そしてこの鏡面側を被マスク部材
に接触させる面として用いるので、精巧なマスクを行う
ことができる。
孔の口縁部に凹凸ができないように金属基板の面を平滑
面（鏡面）に仕上げたメタルマスクに関する。 【解決手段】 メタルマスク１は、金属基板２に多数の
微細孔５を有しており、金属基板２の一方の表面３を鏡
面仕上げにしている。金属基板２の一面を鏡面としてい
るので、微細孔５の開口の口縁部６は均一に形成される
ので凹凸が生じない。そしてこの鏡面側を被マスク部材
に接触させる面として用いるので、精巧なマスクを行う
ことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、多数の微細孔を
有するメタルマスクの改良に関する。
有するメタルマスクの改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】メタルマスクにおいては、微細孔が小径
であり、ピッチが短いほど細かいパターンを成形するこ
とができる。しかし、微細孔を密集して多数形成する
と、メタルマスクの表面は粗く平滑ではないために開口
の口縁部の角部の形状が一律ではなく凸凹が形成されて
正確にマスクすることが困難である。また、微細孔にテ
ーパを付した場合も同様の問題がある。例えば、クリー
ムはんだの印刷性向上のためにはメタルマスクの微細孔
に徐々に拡開するテーパをつけることが好ましい。この
場合も、テーパを付けた微細孔を密集して多数形成する
と、開口の口縁部に凸凹が生じやすくなり、前記と同様
に正確にマスクすることができない欠点があった。更
に、テーパの向きが逆向きの場合も同様である。
であり、ピッチが短いほど細かいパターンを成形するこ
とができる。しかし、微細孔を密集して多数形成する
と、メタルマスクの表面は粗く平滑ではないために開口
の口縁部の角部の形状が一律ではなく凸凹が形成されて
正確にマスクすることが困難である。また、微細孔にテ
ーパを付した場合も同様の問題がある。例えば、クリー
ムはんだの印刷性向上のためにはメタルマスクの微細孔
に徐々に拡開するテーパをつけることが好ましい。この
場合も、テーパを付けた微細孔を密集して多数形成する
と、開口の口縁部に凸凹が生じやすくなり、前記と同様
に正確にマスクすることができない欠点があった。更
に、テーパの向きが逆向きの場合も同様である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記事情に
鑑みてなされたものであって、その主たる課題は、被マ
スク部材と接触する側の微細孔の口縁部に凹凸ができな
いように尖鋭状にするため、金属基板の面を平滑面（鏡
面）に仕上げたメタルマスクを提供することにある。こ
の発明の別の課題は、微細孔にテーパを付して被マスク
部材と接触する側に大径側の開口が現れるようにし、そ
の口縁部の角部に凹凸ができないように尖鋭状にするた
め、金属基板の面を平滑面（鏡面）に仕上げたメタルマ
スクを提供することにある。
鑑みてなされたものであって、その主たる課題は、被マ
スク部材と接触する側の微細孔の口縁部に凹凸ができな
いように尖鋭状にするため、金属基板の面を平滑面（鏡
面）に仕上げたメタルマスクを提供することにある。こ
の発明の別の課題は、微細孔にテーパを付して被マスク
部材と接触する側に大径側の開口が現れるようにし、そ
の口縁部の角部に凹凸ができないように尖鋭状にするた
め、金属基板の面を平滑面（鏡面）に仕上げたメタルマ
スクを提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記第１の課題を解決す
るため、請求項１の発明では、金属基板に多数の微細孔
を形成してなるメタルマスクにおいて、金属基板の一方
の表面を平滑面（鏡面）にして微細孔の開口の口縁部に
凹凸が生じないよう尖鋭状に形成する、上記平滑面側を
被マスク部材に接触させる面とする、という技術的手段
を講じている。また、第２の課題を解決するため、請求
項２の発明では、金属基板に多数の微細孔を形成してな
るメタルマスクにおいて、微細孔は内壁断面をテーパ状
に形成する、該微細孔の大径側の開口が表れる金属基板
の表面を平滑面（鏡面）にして該開口の口縁部に凹凸が
生じないよう尖鋭状に形成する、鏡面側の面を被マスク
部材に接触させる面とする、という技術的手段を講じて
いる。更に、請求項３の発明では、前記微細孔の小径側
の開口が表れる金属基板の表面を平滑面（鏡面）にして
該開口の口縁部に凹凸が生じないよう尖鋭状に形成す
る、とし、他は同様の技術的手段を講じている。
るため、請求項１の発明では、金属基板に多数の微細孔
を形成してなるメタルマスクにおいて、金属基板の一方
の表面を平滑面（鏡面）にして微細孔の開口の口縁部に
凹凸が生じないよう尖鋭状に形成する、上記平滑面側を
被マスク部材に接触させる面とする、という技術的手段
を講じている。また、第２の課題を解決するため、請求
項２の発明では、金属基板に多数の微細孔を形成してな
るメタルマスクにおいて、微細孔は内壁断面をテーパ状
に形成する、該微細孔の大径側の開口が表れる金属基板
の表面を平滑面（鏡面）にして該開口の口縁部に凹凸が
生じないよう尖鋭状に形成する、鏡面側の面を被マスク
部材に接触させる面とする、という技術的手段を講じて
いる。更に、請求項３の発明では、前記微細孔の小径側
の開口が表れる金属基板の表面を平滑面（鏡面）にして
該開口の口縁部に凹凸が生じないよう尖鋭状に形成す
る、とし、他は同様の技術的手段を講じている。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下に、この発明のメタルマスク
の好適実施例について図面を参照して説明する。図１に
示すメタルマスク１は、金属基板２に多数の微細孔５を
有しており、金属基板２の一方の表面３を鏡面仕上げに
した構成からなっている。本実施例の場合、最小孔径ａ
＝２５μｍ、最小スリットａ’＝２０μｍ、最小ギャッ
プｂ＝１５μｍ、アスペクト比＝ｔ／ａ＝２、板厚範囲
ｔ＝５０μｍから２００μｍとなっている。また、この
実施例で鏡面仕上げは表面粗さが０．５ミクロン以下の
光沢ある表面からなっているが、この発明では、要する
に微細孔５に入った物質が微細孔５の開口面を超えて被
処理面へ大きく漏れ出ずマスクとして機能する程度に被
処理面に密着できる平滑性を有していればよい。
の好適実施例について図面を参照して説明する。図１に
示すメタルマスク１は、金属基板２に多数の微細孔５を
有しており、金属基板２の一方の表面３を鏡面仕上げに
した構成からなっている。本実施例の場合、最小孔径ａ
＝２５μｍ、最小スリットａ’＝２０μｍ、最小ギャッ
プｂ＝１５μｍ、アスペクト比＝ｔ／ａ＝２、板厚範囲
ｔ＝５０μｍから２００μｍとなっている。また、この
実施例で鏡面仕上げは表面粗さが０．５ミクロン以下の
光沢ある表面からなっているが、この発明では、要する
に微細孔５に入った物質が微細孔５の開口面を超えて被
処理面へ大きく漏れ出ずマスクとして機能する程度に被
処理面に密着できる平滑性を有していればよい。
【０００６】このように金属基板２の一面を鏡面として
いるので、微細孔５の開口の口縁部６は均一に尖鋭状に
形成されるので凹凸が生じない。そしてこの鏡面側を被
マスク部材に接触させる面として用いるので、精巧なマ
スク印刷を行うことができる。
いるので、微細孔５の開口の口縁部６は均一に尖鋭状に
形成されるので凹凸が生じない。そしてこの鏡面側を被
マスク部材に接触させる面として用いるので、精巧なマ
スク印刷を行うことができる。
【０００７】このメタルマスク１の製法方法の一例を図
２に示す。鏡面仕上げした金属板１１を用意し（ａ）、
その上にフォトレジスト１２を積層する（ｂ）。フォト
レジスト１２の上にフォトマスク１３を積層し、ＵＶ光
により露光を行いレジスト露光部１４を形成する
（ｃ）。現像の後に、上記レジスト露光部に対応するパ
ターンでレジスト１５が残る（ｄ）。
２に示す。鏡面仕上げした金属板１１を用意し（ａ）、
その上にフォトレジスト１２を積層する（ｂ）。フォト
レジスト１２の上にフォトマスク１３を積層し、ＵＶ光
により露光を行いレジスト露光部１４を形成する
（ｃ）。現像の後に、上記レジスト露光部に対応するパ
ターンでレジスト１５が残る（ｄ）。
【０００８】次いで、めっき（電鋳）析出を行い
（ｅ）、レジスト１５を剥離する（ｆ）。そして、前記
金属板１１を剥離することにより一面を鏡面仕上げとし
た電鋳メタルマスク１が得られる（ｇ）。上記製造方法
は一例であって、この発明において製法は特に限定され
るものではない。
（ｅ）、レジスト１５を剥離する（ｆ）。そして、前記
金属板１１を剥離することにより一面を鏡面仕上げとし
た電鋳メタルマスク１が得られる（ｇ）。上記製造方法
は一例であって、この発明において製法は特に限定され
るものではない。
【０００９】図３に示すメタルマスク１は、微細孔５に
テーパを付した異なる実施例を示すものであって、金属
基板２に多数の微細孔５を有しており、該微細孔５は内
壁断面をテーパ状に形成しており、その大径側の開口６
ａが現れる金属基板２の一方の表面３ａを鏡面仕上げに
した構成からなっている。
テーパを付した異なる実施例を示すものであって、金属
基板２に多数の微細孔５を有しており、該微細孔５は内
壁断面をテーパ状に形成しており、その大径側の開口６
ａが現れる金属基板２の一方の表面３ａを鏡面仕上げに
した構成からなっている。
【００１０】この場合の各部寸法は前記実施例と同様で
あり、開口部テーパ角度θは１０度以内が好ましい。テ
ーパを設けることによって、例えばクリームはんだの印
刷性の向上が図れる。即ち、テーパの形成は、バンプ形
状に沿った作成が可能となり、充填性、抜け性が向上す
るほか、カスレ、ブリッジなども少なくなる。
あり、開口部テーパ角度θは１０度以内が好ましい。テ
ーパを設けることによって、例えばクリームはんだの印
刷性の向上が図れる。即ち、テーパの形成は、バンプ形
状に沿った作成が可能となり、充填性、抜け性が向上す
るほか、カスレ、ブリッジなども少なくなる。
【００１１】次ぎにこのメタルマスク１の製法方法の一
例を図４に示す。鏡面仕上げした金属板２１を用意し
（ａ）、その上にフォトレジスト２２を積層する
（ｂ）。フォトレジスト２２の上にフォトマスク２３を
積層し、露光時にレジスト面の照射角度を変えながらＵ
Ｖ平行光による露光を行いテーパ状のレジスト露光部２
４’を形成する（ｃ）。
例を図４に示す。鏡面仕上げした金属板２１を用意し
（ａ）、その上にフォトレジスト２２を積層する
（ｂ）。フォトレジスト２２の上にフォトマスク２３を
積層し、露光時にレジスト面の照射角度を変えながらＵ
Ｖ平行光による露光を行いテーパ状のレジスト露光部２
４’を形成する（ｃ）。
【００１２】現像後に、上記レジスト露光部に対応する
テーパ状のパターンからなるレジスト２５’が残る
（ｄ）。次いで、めっき（電鋳）析出を行い（ｅ）、レ
ジスト２５’を剥離する（ｆ）。そして、前記金属板２
１を剥離することにより微細孔の大径側が現れる面を鏡
面仕上げとした電鋳メタルマスク１が得られる（ｇ）。
テーパ状のパターンからなるレジスト２５’が残る
（ｄ）。次いで、めっき（電鋳）析出を行い（ｅ）、レ
ジスト２５’を剥離する（ｆ）。そして、前記金属板２
１を剥離することにより微細孔の大径側が現れる面を鏡
面仕上げとした電鋳メタルマスク１が得られる（ｇ）。
【００１３】次ぎに、図３のテーパを逆にして微細孔の
小径側が現れる面を鏡面仕上げとする一例を図５に示
す。鏡面仕上げした金属板２１を用意し（ａ）、その上
にフォトレジスト２２を積層する（ｂ）。フォトレジス
ト２２の上にフォトマスク２３を積層し、ＵＶ光の露光
量を少なくし、レジストの感光範囲を狭くしてテーパ露
光を行いテーパ状のレジスト露光部２４を形成する
（ｃ）。
小径側が現れる面を鏡面仕上げとする一例を図５に示
す。鏡面仕上げした金属板２１を用意し（ａ）、その上
にフォトレジスト２２を積層する（ｂ）。フォトレジス
ト２２の上にフォトマスク２３を積層し、ＵＶ光の露光
量を少なくし、レジストの感光範囲を狭くしてテーパ露
光を行いテーパ状のレジスト露光部２４を形成する
（ｃ）。
【００１４】現像後に、上記レジスト露光部に対応する
テーパ状のパターンからなるレジスト２５が残る
（ｄ）。次いで、めっき（電鋳）析出を行い（ｅ）、レ
ジスト２５を剥離する（ｆ）。そして、前記金属板２１
を剥離することにより微細孔の小径側が現れる面を鏡面
仕上げとした電鋳メタルマスク１が得られる（ｇ）。上
記各製造方法は一例であって、この発明において製法は
特に限定されるものでないこと勿論である。
テーパ状のパターンからなるレジスト２５が残る
（ｄ）。次いで、めっき（電鋳）析出を行い（ｅ）、レ
ジスト２５を剥離する（ｆ）。そして、前記金属板２１
を剥離することにより微細孔の小径側が現れる面を鏡面
仕上げとした電鋳メタルマスク１が得られる（ｇ）。上
記各製造方法は一例であって、この発明において製法は
特に限定されるものでないこと勿論である。
【００１５】このメタルマスクの用途としては、半導体
プロセスに使用される光学マスクなどの連続微細孔パタ
ーンが大量に必要となる遮蔽マスクや、ウエハ上へのは
んだバンプ印刷マスク、マイクロ電子部品などの超精密
加工部品（例えば回転センサーの回転板）などに用いる
ことができる。その他、製法や用途やは特に実施例に限
定されるものではなく、この発明の要旨を変更しない範
囲で種々設計変更しうること勿論である。
プロセスに使用される光学マスクなどの連続微細孔パタ
ーンが大量に必要となる遮蔽マスクや、ウエハ上へのは
んだバンプ印刷マスク、マイクロ電子部品などの超精密
加工部品（例えば回転センサーの回転板）などに用いる
ことができる。その他、製法や用途やは特に実施例に限
定されるものではなく、この発明の要旨を変更しない範
囲で種々設計変更しうること勿論である。
【００１６】
【発明の効果】この発明によれば、微細孔の一方の開口
側を平滑面としたので、開口の口縁部が尖鋭となって凹
凸ができずに均一に形成される。従って、被処理面に対
して正確なマスク処理を施すことができ、微細孔をより
小径として密集させることができ、密度の高い処理を行
うことができる。
側を平滑面としたので、開口の口縁部が尖鋭となって凹
凸ができずに均一に形成される。従って、被処理面に対
して正確なマスク処理を施すことができ、微細孔をより
小径として密集させることができ、密度の高い処理を行
うことができる。
【図１】第１実施例のメタルマスクの部分断面図。
【図２】同製法方法の一例の手順を示す説明図。
【図３】第２実施例のメタルマスクの部分断面図。
【図４】第２実施例の大径側を鏡面とする製造方法の一
例の手順を示す説明図。
例の手順を示す説明図。
【図５】第２実施例の小径側を鏡面とする製造方法の一
例の手順を示す説明図。
例の手順を示す説明図。
１…メタルマスク ２…金属基板 ３，３ａ…鏡面仕上げされた表面 ５…微細孔 ６…口縁部
Claims (4)
- 【請求項１】 金属基板に多数の微細孔を形成してなる
メタルマスクにおいて、 金属基板の一方の表面を平滑面（鏡面）にして微細孔の
開口の口縁部に凹凸が生じないよう尖鋭状に形成し、 上記平滑面側を被マスク部材に接触させる面としてなる
ことを特徴とするメタルマスク。 - 【請求項２】 金属基板に多数の微細孔を形成してなる
メタルマスクにおいて、 微細孔は内壁断面をテーパ状に形成し、 該微細孔の大径側の開口が表れる金属基板の表面を平滑
面（鏡面）にして該開口の口縁部に凹凸が生じないよう
尖鋭状に形成してなり、 上記平滑面側を被マスク部材に接触させる面としてなる
ことを特徴とするメタルマスク。 - 【請求項３】 金属基板に多数の微細孔を形成してなる
メタルマスクにおいて、 微細孔は内壁断面をテーパ状に形成し、 該微細孔の小径側の開口が表れる金属基板の表面を平滑
面（鏡面）にして該開口の口縁部に凹凸が生じないよう
尖鋭状に形成してなり、 上記平滑面側を被マスク部材に接触させる面としてなる
ことを特徴とするメタルマスク。 - 【請求項４】 メタルマスクが、遮蔽マスク、半田バン
プ印刷マスク、超精密加工部品からなることを特徴とす
る請求項１または２に記載のメタルマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30372296A JPH10129140A (ja) | 1996-10-29 | 1996-10-29 | メタルマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30372296A JPH10129140A (ja) | 1996-10-29 | 1996-10-29 | メタルマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10129140A true JPH10129140A (ja) | 1998-05-19 |
Family
ID=17924483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30372296A Pending JPH10129140A (ja) | 1996-10-29 | 1996-10-29 | メタルマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10129140A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002187374A (ja) * | 2000-12-20 | 2002-07-02 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 電鋳製メタルマスクと電鋳製メタルマスクの製造方法 |
| JP2010541208A (ja) * | 2007-09-20 | 2010-12-24 | フライズ・メタルズ・インコーポレイテッド | 太陽電池表側のメタライズのための電気鋳造されたステンシル |
| KR20180027624A (ko) | 2016-05-23 | 2018-03-14 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 및 증착용 메탈 마스크 형성 기재 |
-
1996
- 1996-10-29 JP JP30372296A patent/JPH10129140A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002187374A (ja) * | 2000-12-20 | 2002-07-02 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 電鋳製メタルマスクと電鋳製メタルマスクの製造方法 |
| JP2010541208A (ja) * | 2007-09-20 | 2010-12-24 | フライズ・メタルズ・インコーポレイテッド | 太陽電池表側のメタライズのための電気鋳造されたステンシル |
| KR20180027624A (ko) | 2016-05-23 | 2018-03-14 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 및 증착용 메탈 마스크 형성 기재 |
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