JPH1012647A - Manufacture of semiconductor device - Google Patents

Manufacture of semiconductor device

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Publication number
JPH1012647A
JPH1012647A JP16605696A JP16605696A JPH1012647A JP H1012647 A JPH1012647 A JP H1012647A JP 16605696 A JP16605696 A JP 16605696A JP 16605696 A JP16605696 A JP 16605696A JP H1012647 A JPH1012647 A JP H1012647A
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JP
Japan
Prior art keywords
gate
tape
lead frame
resin
semiconductor device
Prior art date
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Pending
Application number
JP16605696A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Kasuga
孝弘 春日
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Priority to JP16605696A priority Critical patent/JPH1012647A/en
Publication of JPH1012647A publication Critical patent/JPH1012647A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for fabricating a semiconductor device which can avoid gate clogging and void generation. SOLUTION: The method for fabricating a semiconductor device includes steps of disposing an assembled lead frame 5 in between lower and upper mold parts 20 and 21 of a metallic mold 22, forcingly introducing molten resin 26 into a cavity 24 from a gate 23 through a sprue 25 defined by the metallic mold, opening the metallic mold parts and removing the lead frame therefrom, and cutting and removing unnecessary portions from the lead frame. In this method, a sheet of tape 15 is applied onto at least a plurality of leads of the lead frame 5. Within the metallic mold parts, the taped leads form one face of the gate 23. After the resin is forcingly introduced in the cavity, the tape is removed so that the tape portion is bent between the leads and a recess resulting from the bent portion also forms part of the gate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置の製造方
法に関し、特にトランスファモールドによって封止体
(パッケージ)を形成する技術に適用して有効な技術に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a technique effective when applied to a technique for forming a sealing body (package) by transfer molding.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置の一つとして樹脂封止型半導
体装置が知られている。樹脂封止型半導体装置は、金属
製のリードフレームを用意した後、リードフレームの所
定部分(支持板)に半導体チップを固定し、ついで前記
半導体チップの電極とリードフレームのリードとを導電
性のワイヤで接続し、その後トランスファモールドによ
って形成した封止体で前記半導体チップ,ワイヤ,リー
ド内端部分等を被い、さらに不要なリードフレーム部分
の切断除去とリードの成形を行うことによって製造され
る。
2. Description of the Related Art A resin-sealed semiconductor device is known as one of semiconductor devices. In a resin-encapsulated semiconductor device, after preparing a metal lead frame, a semiconductor chip is fixed to a predetermined portion (support plate) of the lead frame, and then the electrodes of the semiconductor chip and the leads of the lead frame are electrically conductive. It is manufactured by connecting with a wire, covering the semiconductor chip, the wire, the inner end portion of the lead, and the like with a sealing body formed by transfer molding, and cutting and removing unnecessary lead frame portions and forming leads. .

【0003】トランスファモールドにおいては、モール
ド金型の下型と上型との間に組立が終了したリードフレ
ームを挟み、上下型で形成されたキャビティ内にゲート
から溶けた樹脂を圧入させることによって封止体を形成
する。トランスファモールドについては、たとえば、日
経BP社発行「VLSIパッケージング技術(下)」19
93年5月15日発行、P31〜P40に記載されている。な
お、この文献には、下ゲートの場合、未充填が発生する
メカニズムについて記載されている。
[0003] In transfer molding, an assembled lead frame is sandwiched between a lower mold and an upper mold of a mold, and a resin melted from a gate is press-fitted into a cavity formed by the upper and lower molds. Form a stop. Regarding the transfer mold, see, for example, “VLSI Packaging Technology (Lower)” 19 issued by Nikkei BP.
It is described on pages 31 to 40, issued May 15, 1993. This document describes a mechanism in which unfilling occurs in the case of a lower gate.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】四辺形の封止体(パッ
ケージ)の4辺からそれぞれリードを突出させるQFP
(Quad Flat Package)の場合では、封止体形成時のゲー
トは、四辺形の封止体形成領域の一隅に設けられてい
る。この結果、ゲート幅(間口)の大きさが限定され、
樹脂のキャビティ内への流入が妨げられ、いわゆるゲー
ト詰まりが発生し、モールド不良(未充填不良)が発生
する場合がある。すなわち、充填される樹脂は溶けた状
態で一部が半硬化状態になり、いわゆる「ゲル化」する
ため、狭く浅いゲート部分では、このゲルが詰まり、樹
脂のキャビティ内への流入を抑止することがある。
A QFP in which leads protrude from four sides of a quadrangular sealed body (package), respectively.
In the case of (Quad Flat Package), the gate at the time of forming the sealing body is provided at one corner of the quadrangular sealing body formation region. As a result, the size of the gate width (frontage) is limited,
Inflow of the resin into the cavity is hindered, so-called gate clogging may occur, and mold failure (unfill failure) may occur. In other words, the resin to be filled becomes partially semi-cured in a molten state, and is so-called "gelled", so that the narrow and shallow gate portion is clogged with the gel, thereby suppressing the resin from flowing into the cavity. There is.

【0005】また、ゲート幅が狭く浅いためキャビティ
内に流入する樹脂の流速は早く、リードフレームの下側
と上側とではその流速に差ができ易い。したがって、一
方の樹脂の流れが早い場合にはリードフレームの反対側
の面に回り込む現象が発生し、回り込んだ先端と遅れて
流れてきた先端との衝突面にボイド(気泡)が発生す
る。このボイドは比較的大きく、場合によっては半導体
チップやワイヤの一部が目視できる不良を発生させるこ
とがあり、外観不良となる。
In addition, since the gate width is small and shallow, the flow rate of the resin flowing into the cavity is high, and the flow rate tends to be different between the lower side and the upper side of the lead frame. Therefore, when the flow of one of the resins is fast, a phenomenon of wrapping around the surface on the opposite side of the lead frame occurs, and voids (bubbles) are generated on the collision surface between the wrapped tip and the tip that has flowed late. The void is relatively large, and in some cases, a defect in which a part of the semiconductor chip or the wire can be visually observed may occur, resulting in poor appearance.

【0006】本発明の目的は、ゲート詰まりが発生しな
い半導体装置の製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a semiconductor device in which gate clogging does not occur.

【0007】本発明の他の目的は、ボイド発生が起き難
い半導体装置の製造方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor device in which voids are less likely to occur.

【0008】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.

【0010】(1)モールド金型の下型と上型間に組立
終了後のリードフレームを挟む工程と、前記モールド金
型によって形成される樹脂流路を通しかつゲートからキ
ャビティに溶けた樹脂を圧入させる工程と、前記モール
ド金型を開き前記リードフレームを取り出す工程と、前
記リードフレームの不要部分を切断除去する工程とを有
する半導体装置の製造方法であって、前記リードフレー
ムのリードに対して複数本のリードの少なくとも1面側
を覆うように1枚のテープをリードに貼り付けるととも
に、前記モールド金型においては前記テープ部分で複数
本のリードに跨がるゲートの1面を構成させ、樹脂圧入
後は前記テープを引き剥がす。前記テープ部分はリード
とリード間では屈曲して回り込み、この回り込みによる
窪み部分もゲートを構成する。前記ゲートの幅は前記キ
ャビティの幅一杯近く広がっている。前記テープ部分は
リードフレームの縁にまで延在し、前記縁の部分でリー
ドフレームの反対側に折り返されている。
(1) A step of sandwiching the assembled lead frame between the lower mold and the upper mold of the mold, and the step of passing the resin melted from the gate into the cavity through the resin flow path formed by the mold. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of press-fitting, a step of opening the mold and taking out the lead frame, and a step of cutting and removing an unnecessary portion of the lead frame. Along with attaching one tape to the leads so as to cover at least one surface side of the plurality of leads, in the molding die, the tape portion constitutes one surface of a gate extending over the plurality of leads, After press-fitting the resin, the tape is peeled off. The tape portion bends and wraps between the leads, and the recessed portion formed by the wrapping also forms a gate. The width of the gate extends nearly the full width of the cavity. The tape portion extends to the edge of the lead frame and is folded back at the edge to the opposite side of the lead frame.

【0011】前記(1)の手段によれば、ゲートはキャ
ビティの幅近くに幅が広いことから、キャビティ内への
樹脂の未充填が防止できる。
According to the means (1), since the gate is wide near the width of the cavity, it is possible to prevent the resin from being filled into the cavity.

【0012】また、ゲートはキャビティの幅近くに幅が
広いことから、キャビティの幅全体に樹脂が均一に圧入
されるため、キャビティ内においてリードフレームの上
と下での流速に差ができ難くなり、封止体の上面や下面
に樹脂の衝突による大きなボイドの発生がなくなる。し
たがって、耐湿性が高い封止体を形成できる。
Also, since the gate is wide near the width of the cavity, the resin is uniformly pressed into the entire width of the cavity, so that it is difficult to make a difference in flow velocity between the top and bottom of the lead frame in the cavity. The generation of large voids due to the collision of the resin on the upper and lower surfaces of the stationary body is eliminated. Therefore, a sealed body having high moisture resistance can be formed.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を
説明するための全図において、同一機能を有するものは
同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments of the present invention, components having the same functions are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.

【0014】本実施形態の半導体装置1は、図6に示す
ように、外観的には略直方体からなる封止体(パッケー
ジ)2と、このパッケージ2の周囲4辺からそれぞれ突
出する複数のリード3とからなっている。前記リード3
は途中で1段階段状に屈曲し、いわゆるガルウィング型
となっている。
As shown in FIG. 6, a semiconductor device 1 according to the present embodiment has a sealing body (package) 2 having a substantially rectangular parallelepiped appearance and a plurality of leads projecting from four sides around the package 2. It consists of three. The lead 3
Has a so-called gull wing type that bends one step in the middle.

【0015】本実施形態の半導体装置の製造方法におい
ては、図2に示すようなリードフレーム5が使用され
る。リードフレーム5は、厚さ0.15mm程度の鉄−
ニッケル合金板あるいは銅合金板をプレスによって所望
パターンに打ち抜いた形状となっている。リードフレー
ム5は、一対の平行に延在する外枠6と、この一対の外
枠6を連結し外枠6に直交する方向に延在する一対の内
枠7とによって形成される枠構造となっている。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment, a lead frame 5 as shown in FIG. 2 is used. The lead frame 5 is made of iron having a thickness of about 0.15 mm.
It has a shape obtained by punching a nickel alloy plate or a copper alloy plate into a desired pattern by pressing. The lead frame 5 has a frame structure formed by a pair of parallel outer frames 6 and a pair of inner frames 7 connecting the pair of outer frames 6 and extending in a direction orthogonal to the outer frames 6. Has become.

【0016】また、前記枠の中央には矩形状の支持板
(タブ)8が配置されているとともに、この支持板8は
前記内枠7の中央部分から延在するタブ吊りリード9に
よって支持されている。また、前記外枠6および内枠7
から前記支持板8に向かって複数のリード3が延在して
いる。リード3は、その幅がたとえば0.35mmであ
り、リードピッチが1.0mmである。
A rectangular support plate (tab) 8 is disposed at the center of the frame, and the support plate 8 is supported by a tab suspension lead 9 extending from the center of the inner frame 7. ing. The outer frame 6 and the inner frame 7
The plurality of leads 3 extend from the support plate 8 toward the support plate 8. The lead 3 has a width of, for example, 0.35 mm and a lead pitch of 1.0 mm.

【0017】また、枠の略中間部分には、外枠6や内枠
7に平行にタイバー10が設けられている。このタイバ
ー10は各リード3を補強する補強部材となるととも
に、トランスファモールド時溶けた樹脂の流出を防止す
るダムの役割をする。
A tie bar 10 is provided substantially in the middle of the frame in parallel with the outer frame 6 and the inner frame 7. The tie bar 10 serves as a reinforcing member for reinforcing each lead 3 and also serves as a dam for preventing resin melted out during transfer molding from flowing out.

【0018】なお、前記タイバー10は、四角形となる
リードフレームの1辺側には設けられていない。これ
は、後述するが、この部分がゲートとなる部分であり、
途中に流れの障害となる突部をわずかでも存在させたく
ない理由による。
The tie bar 10 is not provided on one side of a rectangular lead frame. As will be described later, this is a portion that becomes a gate,
This is because we don't want to have even a few protrusions that could obstruct the flow.

【0019】半導体装置の製造においては、図3に示す
ように、前記リードフレーム5の裏面側に部分的にテー
プ15を貼り付ける。リードフレーム5の裏面は、図5
に示すように、下型20と上型21とからなるモールド
金型22において、下型20上に重ねられ、テープ15
部分が下型20に設けられたゲート23の上に重なるよ
うになる。ゲート23はその幅がキャビティ24の幅一
杯に近似した幅広いものとなる。
In the manufacture of the semiconductor device, as shown in FIG. 3, a tape 15 is partially adhered to the back side of the lead frame 5. The back surface of the lead frame 5 is shown in FIG.
As shown in FIG. 2, in a mold 22 composed of a lower mold 20 and an upper mold 21, the tape 15 is superimposed on the lower mold 20.
The portion overlaps the gate 23 provided on the lower mold 20. The gate 23 has a wide width approximating the full width of the cavity 24.

【0020】一方、下型20と上型21の型締めによっ
て、封止体を形成するためのキャビティ24や前記キャ
ビティ24に溶けた樹脂を案内する樹脂流路(ランナ
ー)25等が形成される。そして、前記ゲート23は前
記キャビティ24と樹脂流路25との接続部分に形成さ
れ、溶けた樹脂26の方向性を決定したり、あるいは流
速を調整する部分となる。
On the other hand, by clamping the lower mold 20 and the upper mold 21, a cavity 24 for forming a sealing body, a resin flow path (runner) 25 for guiding the resin melted in the cavity 24, and the like are formed. . The gate 23 is formed at a connection portion between the cavity 24 and the resin channel 25, and serves as a portion for determining the direction of the melted resin 26 or adjusting the flow velocity.

【0021】テープ15は、図3および図4に示すよう
に、タイバー10が設けられない部分の1群のリード3
全体に亘って貼り付けられる。このテープ15は、パッ
ケージ2が形成されないアウターリード16の部分と外
枠6に亘って貼り付けられる。テープ15が貼り付けら
れた幅部分よりも僅か内側の部分全体がゲート23領域
となる。この結果、ゲート23はキャビティ24の幅一
杯に近似するようになる。
As shown in FIGS. 3 and 4, the tape 15 has a group of leads 3 where no tie bar 10 is provided.
It is pasted all over. This tape 15 is attached over the outer lead 6 and the portion of the outer lead 16 where the package 2 is not formed. The entire portion slightly inside the width portion to which the tape 15 is attached is the gate 23 region. As a result, the gate 23 approximates the full width of the cavity 24.

【0022】また、外枠6から張り出したテープ部分は
折り返されて外枠6の主面(上面)の中間部分に亘って
貼り付けられる(折返し貼付部17)。折返し貼付部1
7は下型20と上型21の間にリードフレーム5が挟ま
れた際、圧縮され、リードフレーム5の一面が上型21
のパーティング面に密着する作用をする。また、前記折
返し貼付部17の端は、前記テープ15を引き剥がす際
の引き剥がし端となる。
Further, the tape portion protruding from the outer frame 6 is folded and attached over an intermediate portion of the main surface (upper surface) of the outer frame 6 (a folded attaching portion 17). Folding part 1
7 is compressed when the lead frame 5 is sandwiched between the lower mold 20 and the upper mold 21, and one surface of the lead frame 5 is
It acts to adhere to the parting surface. The end of the folded attachment portion 17 is a peeling end when the tape 15 is peeled off.

【0023】図5に示すように、テープ15はリード3
とリード3間では屈曲して回り込み、各リード3の側面
にも貼り付けられる。この結果、隣り合うリード間には
テープ15によってリード3に沿う溝18が形成され
る。この溝18はゲート23の一部を構成することにな
る。したがって、テープ15を貼り付けるリード3間に
タイバー10を設けないことは、ゲート23中に少しで
も障害となる突部を発生させないことになる。また、リ
ード3に貼り付けられたテープ15と、下型20のゲー
ト部分との最小間隔は、たとえば0.1mm程度であ
る。
As shown in FIG. 5, the tape 15
Between the lead 3 and the lead 3, and is attached to the side surface of each lead 3. As a result, a groove 18 is formed along the lead 3 by the tape 15 between the adjacent leads. This groove 18 forms a part of the gate 23. Therefore, not providing the tie bar 10 between the leads 3 to which the tape 15 is attached does not cause any protruding portion in the gate 23 to be any obstacle. The minimum distance between the tape 15 attached to the lead 3 and the gate portion of the lower mold 20 is, for example, about 0.1 mm.

【0024】テープ15は、トランスファモールド時の
温度に充分耐える耐熱性の樹脂テープ、たとえばポリイ
ミド樹脂テープからなり、後に容易に引き剥がしができ
るように予めテープ表面に塗布された接着剤を介してリ
ードフレーム5に貼り付けられる。また、テープ15の
厚さは0.1mm以下程度である。
The tape 15 is made of a heat-resistant resin tape, such as a polyimide resin tape, which can sufficiently withstand the temperature during transfer molding, and is lead-through an adhesive applied to the tape surface in advance so that it can be easily peeled off later. Affixed to frame 5. The thickness of the tape 15 is about 0.1 mm or less.

【0025】つぎに、前記のようなテープ15を貼り付
けたリードフレーム5を用意した後、図3に示すよう
に、支持板8の主面に半導体チップ30を固定するとと
もに、前記半導体チップ30の図示しない電極とリード
3の先端部分を導電性のワイヤ31で接続する。
Next, after preparing the lead frame 5 to which the tape 15 as described above is attached, as shown in FIG. 3, the semiconductor chip 30 is fixed to the main surface of the support plate 8 and the semiconductor chip 30 is fixed. (Not shown) and the tip of the lead 3 are connected by a conductive wire 31.

【0026】つぎに、組立が終了したリードフレーム5
は、図4および図5に示すように、モールド金型22に
型締めされ、ゲート23から溶けた樹脂26がキャビテ
ィ24内に圧入される。ゲート23は、略直方体となる
キャビティ24の一辺側に複数本のリード3を跨がるよ
うに幅広く設けられ、形成されるパッケージ2の幅に近
似した幅となることから、溶けた樹脂26はキャビティ
24の幅全体に亘って均一に圧入されるため、溶けた樹
脂26がゲル化しても従来のようなゲート詰まりが発生
しなくなり、モールド不良(未充填不良)が発生しなく
なる。
Next, the assembled lead frame 5
As shown in FIGS. 4 and 5, the resin 26 is clamped to the mold 22, and the melted resin 26 is pressed into the cavity 24 from the gate 23. The gate 23 is provided widely on one side of the cavity 24 having a substantially rectangular parallelepiped shape so as to straddle the plurality of leads 3 and has a width similar to the width of the package 2 to be formed. Since the press-fitting is performed uniformly over the entire width of the cavity 24, even if the melted resin 26 gels, the conventional gate clogging does not occur, and a molding defect (unfilling defect) does not occur.

【0027】また、ゲート幅がキャビティ24の幅近く
広いため、キャビティ24の幅全体に均一に溶けた樹脂
26が流入するため、リードフレーム5の下側と上側と
では樹脂の流速に差ができ難くなり、ゲート23と反対
側のキャビティ24部分で上下の流れは緩やかに合流す
るため、従来のように、パッケージ2の表面や裏面に樹
脂の衝突合流によって発生するボイドの発生は起きなく
なり、耐湿性の高いパッケージ2が形成できる。
Further, since the gate width is wide near the width of the cavity 24, the resin 26, which is uniformly melted, flows into the entire width of the cavity 24, so that the flow velocity of the resin is different between the lower side and the upper side of the lead frame 5. Since the vertical flow merges gently at the cavity 24 opposite to the gate 23, unlike the conventional case, the generation of voids due to the collision and merge of the resin on the front and back surfaces of the package 2 does not occur, and the moisture resistance does not occur. The package 2 having high performance can be formed.

【0028】図1はモールド後の下型20上のリードフ
レーム5を示す。タイバー10の内側には、直方体から
なるパッケージ2が形成され、テープ15の外側には、
樹脂流路25内で硬化したランナー部硬化樹脂35が延
在する。
FIG. 1 shows the lead frame 5 on the lower mold 20 after molding. Inside the tie bar 10, the package 2 formed of a rectangular parallelepiped is formed, and outside the tape 15,
The cured runner portion resin 35 extends in the resin flow path 25.

【0029】つぎに、モールド金型22からリードフレ
ーム5を取り出し、折返し貼付部17の端からテープ1
5を引き剥がす。この引き剥がしによって、ランナー部
硬化樹脂35はリードフレーム5から容易に分断して外
れる。
Next, the lead frame 5 is taken out from the mold 22 and the tape 1
Peel 5 off. By this peeling, the runner portion cured resin 35 is easily separated from the lead frame 5 and comes off.

【0030】その後、図示はしないが、タイバー10を
切断除去するとともに、リード3を外枠6や内枠7の付
け根部分で切断し、さらにはパッケージ2の4辺から突
出するリード3を成形することによって、図6に示すよ
うなガルウィング型の半導体装置1を製造する。
Thereafter, although not shown, the tie bar 10 is cut and removed, the leads 3 are cut at the roots of the outer frame 6 and the inner frame 7, and the leads 3 projecting from four sides of the package 2 are formed. Thus, a gull-wing type semiconductor device 1 as shown in FIG. 6 is manufactured.

【0031】本実施形態の半導体装置の製造方法によれ
ば以下の効果を奏する。
According to the method of manufacturing a semiconductor device of the present embodiment, the following effects can be obtained.

【0032】(1)ゲート23はキャビティ24の幅に
近似した幅となることから、溶けた樹脂26はキャビテ
ィ24の幅全体に亘って均一に圧入されるため、溶けた
樹脂26がゲル化しても従来のようなゲート詰まりが発
生しなくなり、モールド不良(未充填不良)が発生しな
くなる。したがって、パッケージ2を高歩留りに製造す
ることができる。
(1) Since the gate 23 has a width approximating the width of the cavity 24, the melted resin 26 is press-fitted uniformly over the entire width of the cavity 24, so that the melted resin 26 gels. In this case as well, clogging of the gate as in the prior art does not occur, and mold failure (unfilling failure) does not occur. Therefore, the package 2 can be manufactured with a high yield.

【0033】(2)ゲート幅がキャビティ24の幅近く
広いため、キャビティ24の幅全体に均一に溶けた樹脂
26が流入するため、リードフレーム5の下側と上側と
では樹脂の流速に差ができ難くなり、ゲート23と反対
側のキャビティ24部分で上下の流れは緩やかに合流す
るため、従来のように、パッケージ2の表面や裏面に樹
脂の衝突合流によって発生するボイドの発生は起きなく
なる。この結果、耐湿性の高いパッケージ2を高歩留り
に製造することができる。
(2) Since the gate width is large near the width of the cavity 24, the resin 26, which is uniformly melted, flows into the entire width of the cavity 24, so that there is a difference in the resin flow rate between the lower side and the upper side of the lead frame 5. Since it becomes difficult to achieve this, the vertical flow merges gently at the portion of the cavity 24 opposite to the gate 23. Therefore, unlike the conventional case, the generation of voids caused by the collision of resin on the front and back surfaces of the package 2 does not occur. As a result, the package 2 having high moisture resistance can be manufactured with a high yield.

【0034】(3)リードフレーム5の1面に貼り付け
られるテープ15は外枠6の外側で折り返されて外枠6
の主面の中間部分に亘って貼り付けられている。この結
果、この折返し貼付部17は、トランスファモールド時
は、圧縮されてリードフレーム5の一面が上型21のパ
ーティング面に密着する作用をし、テープ15の剥離時
は引き剥がす際の引き剥がし端となり便利である。
(3) The tape 15 to be stuck on one surface of the lead frame 5 is folded outside the outer frame 6 and
Is attached over an intermediate portion of the main surface of the main body. As a result, the folded attachment portion 17 is compressed during transfer molding and acts so that one surface of the lead frame 5 is in close contact with the parting surface of the upper die 21, and when the tape 15 is peeled, the peeling when peeling is performed. It is convenient at the end.

【0035】(4)前記テープ15はリード3とリード
3間では屈曲して回り込み、各リード3の側面にも貼り
付けられる結果、隣り合うリード間にはテープ15によ
ってリード3に沿う溝18が形成され、この溝18はゲ
ート23の一部を構成することになる。したがって、下
型20に設けるゲート23を浅くすることができ、ゲー
ト23や樹脂流路25で硬化した樹脂の分断をゲート2
3部分でし易くすることができる。
(4) The tape 15 bends between the leads 3 and wraps around, and is also attached to the side surface of each lead 3. As a result, a groove 18 along the lead 3 is formed between the adjacent leads by the tape 15. This groove 18 forms a part of the gate 23. Therefore, the gate 23 provided in the lower mold 20 can be made shallower, and the resin cured in the gate 23 and the resin flow path 25 can be separated from the gate 2.
It can be made easier with three parts.

【0036】(5)以上のように、耐湿性不良や外観不
良の発生を防止でき、かつ高歩留りに封止を行うことが
できることから、製造コストの低減を達成することがで
きる。
(5) As described above, since the occurrence of poor moisture resistance and poor appearance can be prevented, and the sealing can be performed at a high yield, the manufacturing cost can be reduced.

【0037】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない、たとえ
ば、テープをリードフレームの両面に貼り付けてもよ
い。この場合、リードとリード間のテープ部分を凹まし
てゲートの一部を構成する溝としてもよい。
The invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, for example, a tape may be attached to both sides of the lead frame. In this case, the tape portion between the leads may be recessed to form a groove that forms a part of the gate.

【0038】[0038]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0039】(1)半導体装置の製造におけるトランス
ファモールドにおいて、複数本のリードに跨がる間口を
有するようにゲートを形成することから、樹脂の未充填
が防止でき、歩留り向上が達成できる。
(1) In transfer molding in the manufacture of a semiconductor device, since the gate is formed so as to have an opening extending over a plurality of leads, unfilled resin can be prevented, and the yield can be improved.

【0040】(2)半導体装置の製造におけるトランス
ファモールドにおいて、キャビティの幅に近似する間口
を有するようにゲートを形成することから、キャビティ
全幅に亘って樹脂を圧入できるため、キャビティ内にお
けるリードフレームの上と下での樹脂の流速に差ができ
難くなり、封止体の上面や下面に樹脂の衝突による大き
なボイドの発生がなくなり、耐湿性が高い封止が達成で
きる。これにより、外観不良の発生を防止でき、歩留り
向上が図れる。
(2) In the transfer molding in the manufacture of a semiconductor device, since the gate is formed so as to have an opening approximating the width of the cavity, the resin can be press-fitted over the entire width of the cavity. It becomes difficult to make a difference between the upper and lower resin flow velocities, so that large voids due to the collision of the resin on the upper and lower surfaces of the sealing body are eliminated, and sealing with high moisture resistance can be achieved. As a result, appearance defects can be prevented, and the yield can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態である半導体装置の製造方
法において、トランスファモールド後の上型を外した状
態での平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a method for manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention in a state where an upper mold after transfer molding is removed.

【図2】本実施形態の半導体装置の製造方法に用いるリ
ードフレームを示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a lead frame used in the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiment.

【図3】本実施形態の半導体装置の製造方法に用いるテ
ープを貼り付けたリードフレームを示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a lead frame to which a tape used in the method of manufacturing a semiconductor device according to the embodiment is attached.

【図4】本実施形態の半導体装置の製造方法におけるト
ランスファモールド状態を示す模式的断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a transfer mold state in the method for manufacturing a semiconductor device of the present embodiment.

【図5】本実施形態の半導体装置の製造方法におけるト
ランスファモールド状態でのゲート部分を示す模式的拡
大断面図である。
FIG. 5 is a schematic enlarged cross-sectional view showing a gate portion in a transfer mold state in the method for manufacturing a semiconductor device of the present embodiment.

【図6】本実施形態の半導体装置の製造方法によって製
造された半導体装置を示す正面図である。
FIG. 6 is a front view showing a semiconductor device manufactured by the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiment;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半導体装置、2…封止体(パッケージ)、3…リー
ド、5…リードフレーム、6…外枠、7…内枠、8…支
持板、9…タブ吊りリード、10…タイバー、15…テ
ープ、16…アウターリード、20…下型、21…上
型、22…モールド金型、23…ゲート、24…キャビ
ティ、25…樹脂流路、26…溶けた樹脂、30…半導
体チップ、31…ワイヤ、35…ランナー部硬化樹脂。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor device, 2 ... Sealed body (package), 3 ... Lead, 5 ... Lead frame, 6 ... Outer frame, 7 ... Inner frame, 8 ... Support plate, 9 ... Tab suspension lead, 10 ... Tie bar, 15 ... Tape, 16: Outer lead, 20: Lower mold, 21: Upper mold, 22: Mold, 23: Gate, 24: Cavity, 25: Resin channel, 26: Melted resin, 30: Semiconductor chip, 31 ... Wire, 35: Runner cured resin.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/50 H01L 23/50 G Y // B29L 31:34 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location H01L 23/50 H01L 23/50 G Y // B29L 31:34

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 モールド金型の下型と上型間に組立終了
後のリードフレームを挟む工程と、前記モールド金型に
よって形成される樹脂流路を通しかつゲートからキャビ
ティに溶けた樹脂を圧入させる工程と、前記モールド金
型を開き前記リードフレームを取り出す工程と、前記リ
ードフレームの不要部分を切断除去する工程とを有する
半導体装置の製造方法であって、前記リードフレームの
リードに対して複数本のリードの少なくとも1面側を覆
うように1枚のテープをリードに貼り付けるとともに、
前記モールド金型においては前記テープ部分で複数本の
リードに跨がるゲートの1面を構成させ、樹脂圧入後は
前記テープを引き剥がすことを特徴とする半導体装置の
製造方法。
1. A step of sandwiching a lead frame after assembly between a lower mold and an upper mold of a mold, and press-fitting a resin melted into a cavity from a gate through a resin flow path formed by the mold. A step of opening the mold and taking out the lead frame; and a step of cutting and removing an unnecessary portion of the lead frame. Attach one tape to the lead so as to cover at least one surface side of the book lead,
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming one surface of a gate extending over a plurality of leads at the tape portion in the mold; and peeling the tape after press-fitting a resin.
【請求項2】 前記テープ部分はリードとリード間では
屈曲して回り込み、この回り込みによる窪み部分もゲー
トを構成することを特徴とする請求項1に記載の半導体
装置の製造方法。
2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the tape portion bends and wraps between the leads, and a recess formed by the wrapping also forms a gate.
【請求項3】 前記ゲートの幅は前記キャビティの幅一
杯近く広がっていることを特徴とする請求項1または請
求項2に記載の半導体装置の製造方法。
3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the width of the gate is almost as large as the width of the cavity.
【請求項4】 前記テープ部分はリードフレームの縁に
まで延在し、前記縁の部分でリードフレームの反対側に
折り返されていることを特徴とする請求項1乃至請求項
3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
4. The tape device according to claim 1, wherein the tape portion extends to an edge of the lead frame, and the tape portion is folded back to the opposite side of the lead frame at the edge portion. 13. The method for manufacturing a semiconductor device according to the above item.
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