JPH09283549A - Semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents

Semiconductor device and manufacturing method thereof

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JPH09283549A
JPH09283549A JP8090805A JP9080596A JPH09283549A JP H09283549 A JPH09283549 A JP H09283549A JP 8090805 A JP8090805 A JP 8090805A JP 9080596 A JP9080596 A JP 9080596A JP H09283549 A JPH09283549 A JP H09283549A
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Japan
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semiconductor chip
main surface
semiconductor device
back surface
mold
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JP8090805A
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Inventor
Toshiharu Takahashi
敏治 高橋
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Akita Electronics Systems Co Ltd
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Hitachi Ltd
Akita Electronics Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To avoid exposing a part of sealed members such as wires on the package surface. SOLUTION: This device comprises a sealed resin body formed by transfer molding, consisting of support plate which is disposed in the resin body and supported with support leads, leads which are directed to the periphery of the support plate 4 at one side and extending to the outside of the resin body at the other side, one or more semiconductor chips fixed to a main face of the plate 4 and wires 7 electrically connecting the electrodes of the chips 6 to the leads 3. Height regulators 10, 11 are formed at least one by one on the main and back faces of the plate 4 or on the back face of the plate and main face of the chip 6 and have parts nearly flush with the surface of the sealed body. The regulators are insulators and cover the roots of the wires.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置(混成集
積回路装置)およびその製造方法に関し、特に樹脂封止
型半導体装置において封止体の表面(主面と裏面)にワ
イヤ,支持板,配線基板等の被封止物部分を露出させな
いトランスファモールド技術に適用して有効な技術に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device (hybrid integrated circuit device) and a method for manufacturing the same, and particularly to a wire, a support plate and a wiring on the front surface (main surface and back surface) of a sealing body in a resin-sealed semiconductor device. The present invention relates to a technique effectively applied to a transfer molding technique that does not expose a portion of an object to be sealed such as a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】IC(集積回路装置)等の半導体装置に
おいて、半導体チップ等を被うパッケージ構造として樹
脂(レジン)による封止構造が知られている。
2. Description of the Related Art In semiconductor devices such as ICs (integrated circuit devices), a resin (resin) sealing structure is known as a package structure for covering semiconductor chips and the like.

【0003】樹脂封止型半導体装置は、リードフレーム
を使用して製造される。リードフレームは、薄い金属板
をエッチングや精密プレスによってパターニングするこ
とによって形成される。リードフレームの一例について
説明すると、リードフレームは矩形の枠体と、この枠体
の中央に位置し、前記枠体から延在する2本または4本
の支持リードに支持される支持板と、前記枠体から延在
して先端を前記支持板の周囲に近接させる複数のリード
と、前記リードや枠体を連結するとともに、トランスフ
ァモールド時に溶けた樹脂の流出を防止するダムとから
なっている。
The resin-sealed semiconductor device is manufactured using a lead frame. The lead frame is formed by patterning a thin metal plate by etching or precision press. Explaining an example of the lead frame, the lead frame includes a rectangular frame body, a support plate positioned in the center of the frame body, and supported by two or four support leads extending from the frame body, It is composed of a plurality of leads extending from the frame body and having their tips close to the periphery of the support plate, and a dam for connecting the leads and the frame body and for preventing the melted resin from flowing out at the time of transfer molding.

【0004】樹脂封止型半導体装置の製造においては、
最初に前記支持板の主面に半導体チップを固定する。そ
の後、前記半導体チップの電極とリードの先端を導電性
のワイヤで接続する。つぎに、トランスファモールド装
置のモールド型にリードフレームを型締めした後、モー
ルド型のキャビティに溶けた樹脂を注入して封止体(パ
ッケージ)で半導体チップやワイヤ等を被う。また、ト
ランスファモールド後は、不要なリードフレーム部分を
切断除去するとともに、パッケージから突出するリード
を所望の形状に成形することによって所望の半導体装置
を製造する。
In manufacturing a resin-sealed semiconductor device,
First, the semiconductor chip is fixed to the main surface of the support plate. After that, the electrodes of the semiconductor chip and the tips of the leads are connected by a conductive wire. Next, after the lead frame is clamped in the mold of the transfer molding apparatus, the melted resin is injected into the cavity of the mold to cover the semiconductor chip, wires, etc. with the sealing body (package). After the transfer molding, unnecessary lead frame portions are cut and removed, and the leads protruding from the package are molded into a desired shape to manufacture a desired semiconductor device.

【0005】半導体装置は、パッケージの厚さをより薄
くし、半導体装置の薄型化が図られている。レジンパッ
ケージの厚さを1mmと薄くしたTQFP(Thin Quad
FlatPackage) については、たとえば、日経BP社発行
「日経マイクロデバイス」1988年9月号、同年9月1日
発行、P115〜P121に記載されている。この文献には、チ
ップ上とダイ・パッド下での樹脂の流れの違いによって
ダイ・パッドが変位すること、ワイヤの高さを200μ
m以下に抑えたこと、モールド時のワイヤ変形によるシ
ョート対策について記載されている。
Semiconductor devices have been made thinner by making the package thinner. TQFP (Thin Quad) with resin package thickness as thin as 1mm
FlatPackage) is described in, for example, “Nikkei Microdevice”, September 1988 issue, published by Nikkei BP, September 115, pp. 115-P121. In this document, the die pad is displaced by the difference in the resin flow on the chip and under the die pad, and the wire height is 200 μm.
It describes that it is suppressed to m or less, and measures against short circuit due to wire deformation during molding.

【0006】一方、工業調査会発行「最新ハイブリッド
実装技術」1988年5月15日発行、P13 およびP14 に記載
されているように、リードフレームを使用し、封止をト
ランスファモールドによって行うトランスファモールド
形ハイブリッドIC(混成集積回路装置)が知られてい
る。
On the other hand, as described in P13 and P14, "Latest Hybrid Mounting Technology" issued by the Industrial Research Institute, May 13, 1988, a transfer mold type in which a lead frame is used and sealing is performed by transfer molding. A hybrid IC (hybrid integrated circuit device) is known.

【0007】また、特願平6-273202号公報には、トラン
スファモールド時、モールド型の上下型に設けた突子で
支持板を挟み(クランプ)、流入するレジンで前記支持
板が上下しないようにして、パッケージの表面にワイヤ
を露出させない混成集積回路装置の製造技術について記
載されている。また、この技術では、前記支持板を枠形
状とし、支持板の裏面(下面)に放熱板を固定させる構
造とし、かつモールド時には、前記クランプ時、放熱板
の下面をモールド型のキャビティ底面に密着させ、放熱
板の下面(裏面)にレジンが回り込まないようにしてモ
ールドすることが記載されている。
Further, in Japanese Patent Application No. 6-273202, at the time of transfer molding, a support plate is clamped by a protrusion provided on the upper and lower molds (clamp) so that the support plate does not move up and down by an inflowing resin. The manufacturing technique of the hybrid integrated circuit device in which the wire is not exposed on the surface of the package is described. In addition, in this technology, the support plate has a frame shape, and the heat dissipation plate is fixed to the back surface (lower surface) of the support plate, and the bottom surface of the heat dissipation plate is closely adhered to the bottom surface of the cavity of the mold during clamping during molding. It is described that the resin is molded so as not to go around the lower surface (back surface) of the heat dissipation plate.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】前記文献にも記載され
ているように、樹脂封止型半導体装置の製造におけるト
ランスファモールド時、キャビティ内に流入する樹脂の
流入圧力によって支持板が上下に変動したり傾いたりす
ることがある。この場合、パッケージの表面に支持板や
ワイヤの一部が露出する現象が発生することがある。
As described in the above document, during transfer molding in the manufacture of a resin-sealed semiconductor device, the support plate fluctuates vertically due to the inflow pressure of the resin flowing into the cavity. It may tilt or tilt. In this case, a phenomenon may occur in which a part of the support plate or the wire is exposed on the surface of the package.

【0009】また、前記樹脂の流入圧力によってワイヤ
が変形し、隣接するワイヤとの間でショートを起こす状
態となる場合もある。
There is also a case where the wire is deformed by the inflow pressure of the resin and a short circuit occurs between adjacent wires.

【0010】特に封止体の薄型化が進む現況では、ワイ
ヤの一部露出は大きな問題となるおそれがある。
Particularly in the present situation where the sealing body is becoming thinner, partial exposure of the wire may pose a serious problem.

【0011】本発明の目的は、ワイヤや支持板等の被封
止物部分がパッケージ面に露出することがない耐湿性に
優れた半導体装置およびその製造方法を提供することに
ある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device excellent in moisture resistance in which parts of an object to be sealed such as wires and supporting plates are not exposed on the package surface, and a method of manufacturing the same.

【0012】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
[0012] The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.

【0014】(1)トランスファモールドによって形成
される樹脂からなる封止体と、前記封止体内に位置しか
つ支持リードに支持される支持板と、前記支持板の周囲
に一端を臨ませ他端を前記封止体の外に延在させる複数
のリードと、前記支持板の主面に固定される一つ以上の
半導体チップと、前記半導体チップの電極と前記リード
を電気的に接続するワイヤとを有する半導体装置であっ
て、前記支持板の裏面と前記半導体チップの主面には一
部が前記封止体の表面と略同一面となる面を有する高さ
規定体がそれぞれ一つ以上設けられている。前記高さ規
定体は絶縁体である。前記高さ規定体はワイヤの付け根
部分を被っている。
(1) A sealing body made of resin formed by transfer molding, a support plate located in the sealing body and supported by a support lead, and one end of which faces the periphery of the support plate and the other end. A plurality of leads that extend outside the sealing body, one or more semiconductor chips fixed to the main surface of the support plate, and a wire that electrically connects the electrodes of the semiconductor chip and the leads. In the semiconductor device having the above, one or more height defining members each having a surface, a part of which is substantially flush with the front surface of the sealing body, are provided on the back surface of the support plate and the main surface of the semiconductor chip. Has been. The height defining body is an insulator. The height defining body covers the root portion of the wire.

【0015】このような半導体装置はつぎの方法によっ
て製造される。
Such a semiconductor device is manufactured by the following method.

【0016】トランスファモールド装置のモールド型に
組み立てが終了したリードフレームを型締めし、その後
前記モールド型のキャビティ内に樹脂を注入してリード
フレームの主面と裏面を被う封止体を形成することを特
徴とする半導体装置の製造方法であって、前記キャビテ
ィ内に位置する被封止物部分が上下に移動しないよう
に、モールド型の型締め時、前記キャビティの底面およ
び天井面にそれぞれ接触する位置決め面を有する高さ規
定体を前記被封止物部分の主面と裏面にそれぞれ選択的
に設けておき、その後トランスファモールドを行う。
The assembled lead frame is clamped in the mold of the transfer mold apparatus, and then resin is injected into the cavity of the mold to form a sealing body covering the main surface and the back surface of the lead frame. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: contacting a bottom surface and a ceiling surface of the cavity during mold clamping so that a portion of an object to be sealed located in the cavity does not move up and down. A height defining body having a positioning surface is selectively provided on the main surface and the back surface of the portion to be sealed, and then transfer molding is performed.

【0017】具体的には、半導体チップ固定用の支持板
を有するリードフレームを用意する工程と、前記支持板
の主面に半導体チップを固定する工程と、前記半導体チ
ップの電極とリードフレームのリード先端を導電性のワ
イヤで接続する工程と、トランスファモールド装置のモ
ールド型に前記リードフレームを型締めした後、前記モ
ールド型のキャビティ内に溶けた樹脂を注入して前記支
持板,前記半導体チップ,ワイヤ等を封止体で被うモー
ルド工程とを有する半導体装置の製造方法であって、前
記モールド工程前に前記支持板の裏面と前記半導体チッ
プの主面に前記高さ規定体を形成し、その後トランスフ
ァモールドを行う。前記高さ規定体は前記封止体を構成
する樹脂と同一系統の絶縁性樹脂の塗布および硬化処理
によって形成する。前記高さ規定体でワイヤの付け根部
分を被う。前記リードフレームの主面側と裏面側にそれ
ぞれ設けられる高さ規定体を、半硬化時、下型と上型と
で挟んで成形し、所定の厚さにする。
Specifically, a step of preparing a lead frame having a support plate for fixing the semiconductor chip, a step of fixing the semiconductor chip to the main surface of the support plate, an electrode of the semiconductor chip and a lead of the lead frame. A step of connecting the ends with a conductive wire; and after clamping the lead frame in a mold of a transfer mold device, injecting a melted resin into the cavity of the mold to support the support plate, the semiconductor chip, A method of manufacturing a semiconductor device having a molding step of covering wires and the like with a sealing body, wherein the height defining body is formed on the back surface of the support plate and the main surface of the semiconductor chip before the molding step, After that, transfer molding is performed. The height defining body is formed by applying and curing an insulating resin of the same system as the resin forming the sealing body. The height defining body covers the root portion of the wire. The height defining bodies respectively provided on the main surface side and the back surface side of the lead frame are sandwiched between the lower mold and the upper mold at the time of semi-curing to be molded to have a predetermined thickness.

【0018】(2)トランスファモールドによって形成
される樹脂からなる封止体と、前記封止体の内外に亘っ
て延在する複数のリードと、前記封止体内に位置しかつ
前記リードの裏面に絶縁体を介して固定される半導体チ
ップと、前記半導体チップの電極と前記リードを電気的
に接続するワイヤとを有するLOC(Lead On Chip)構
造の半導体装置であって、前記半導体チップの主面およ
び裏面と前記リードの主面には一部が前記封止体の表面
と略同一面となる面を有する高さ規定体がそれぞれ一つ
以上設けられている。前記高さ規定体は絶縁体である。
前記高さ規定体はワイヤの付け根部分を被っている。
(2) A sealing body made of resin formed by transfer molding, a plurality of leads extending inside and outside the sealing body, and located inside the sealing body and on the back surface of the leads. A semiconductor device having a LOC (Lead On Chip) structure having a semiconductor chip fixed via an insulator and a wire electrically connecting the electrode of the semiconductor chip and the lead, the main surface of the semiconductor chip One or more height defining members each having a surface that is substantially flush with the front surface of the sealing body are provided on the back surface and the main surface of the lead. The height defining body is an insulator.
The height defining body covers the root portion of the wire.

【0019】このような半導体装置はつぎの方法によっ
て製造される。
Such a semiconductor device is manufactured by the following method.

【0020】半導体チップを絶縁体を介してリードの裏
面に固定する構造のリードフレームを用意する工程と、
前記リードフレームのリードの裏面に絶縁体を介して半
導体チップを固定する工程と、前記半導体チップの電極
とリードフレームのリードを導電性のワイヤで接続する
工程と、トランスファモールド装置のモールド型に前記
リードフレームを型締めした後、前記モールド型のキャ
ビティ内に溶けた樹脂を注入して前記半導体チップ,ワ
イヤ等を封止体で被うモールド工程とを有する半導体装
置の製造方法であって、前記モールド工程前に前記半導
体チップの裏面と前記半導体チップの主面および前記リ
ードの主面に前記高さ規定体を取り付け、その後トラン
スファモールドを行う。前記高さ規定体は前記封止体を
構成する樹脂と同一系統の絶縁性樹脂の塗布および硬化
処理によって形成する。前記高さ規定体でワイヤの付け
根部分を被う。前記リードフレームの主面側と裏面側に
それぞれ設けられる高さ規定体を、半硬化時、下型と上
型とで挟んで成形し、所定の厚さにする。
A step of preparing a lead frame having a structure in which the semiconductor chip is fixed to the back surface of the lead via an insulator,
A step of fixing the semiconductor chip to the back surface of the lead of the lead frame via an insulator; a step of connecting the electrode of the semiconductor chip and a lead of the lead frame with a conductive wire; A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a mold step of, after mold clamping of a lead frame, injecting a melted resin into a cavity of the mold to cover the semiconductor chip, wires, etc. with a sealing body, Before the molding step, the height defining body is attached to the back surface of the semiconductor chip, the main surface of the semiconductor chip, and the main surfaces of the leads, and then transfer molding is performed. The height defining body is formed by applying and curing an insulating resin of the same system as the resin forming the sealing body. The height defining body covers the root portion of the wire. The height defining bodies respectively provided on the main surface side and the back surface side of the lead frame are sandwiched between the lower mold and the upper mold at the time of semi-curing to be molded to have a predetermined thickness.

【0021】(3)トランスファモールドによって形成
される樹脂からなる封止体と、前記封止体内に位置しか
つ支持リードに支持される配線基板と、前記配線基板の
周囲に一端を臨ませ他端を前記封止体の外に延在させる
複数のリードと、前記配線基板の主面に固定される一つ
以上の半導体チップおよび受動部品と、所望の電極や配
線間を電気的に接続するワイヤとを有する混成集積回路
装置構造の半導体装置であって、前記配線基板の主面お
よび裏面,前記半導体チップの主面,前記支持板の裏面
には一部が前記封止体の表面と略同一面となる面を有す
る高さ規定体がそれぞれ一つ以上設けられている。前記
高さ規定体は絶縁体である。また、前記高さ規定体はワ
イヤの付け根部分を被っている。
(3) A sealing body made of a resin formed by transfer molding, a wiring board positioned in the sealing body and supported by support leads, and one end of which faces the circumference of the wiring board and the other end. A plurality of leads extending outside the encapsulant, one or more semiconductor chips and passive components fixed to the main surface of the wiring board, and a wire for electrically connecting desired electrodes and wirings. A semiconductor device having a hybrid integrated circuit device structure including: a main surface and a back surface of the wiring board, a main surface of the semiconductor chip, and a back surface of the support plate, and a part thereof is substantially the same as the front surface of the sealing body. One or more height defining bodies each having a surface are provided. The height defining body is an insulator. Further, the height defining body covers the root portion of the wire.

【0022】このような半導体装置はつぎの方法によっ
て製造される。
Such a semiconductor device is manufactured by the following method.

【0023】配線基板を固定したリードフレームを用意
する工程と、前記配線基板の主面に半導体チップや受動
部品を固定する工程と、所定の電極や配線間を導電性の
ワイヤで接続する工程と、トランスファモールド装置の
モールド型に前記リードフレームを型締めした後、前記
モールド型のキャビティ内に溶けた樹脂を注入して前記
配線基板,半導体チップ,受動部品,ワイヤ等を封止体
で被うモールド工程とを有する混成集積回路型の半導体
装置の製造方法であって、前記モールド工程前に前記配
線基板の主面および裏面,前記半導体チップの主面,前
記支持板の裏面に前記高さ規定体を取り付け、その後ト
ランスファモールドを行う。前記高さ規定体は前記封止
体を構成する樹脂と同一系統の絶縁性樹脂の塗布および
硬化処理によって形成する。前記高さ規定体でワイヤの
付け根部分を被う。前記リードフレームの主面側と裏面
側にそれぞれ設けられる高さ規定体を、半硬化時、下型
と上型とで挟んで成形し、所定の厚さにする。
A step of preparing a lead frame to which a wiring board is fixed, a step of fixing a semiconductor chip or a passive component to the main surface of the wiring board, and a step of connecting predetermined electrodes and wirings with conductive wires. After the lead frame is clamped in the mold of the transfer mold device, melted resin is injected into the cavity of the mold to cover the wiring board, semiconductor chip, passive components, wires, etc. with a sealing body. A method of manufacturing a hybrid integrated circuit type semiconductor device comprising a molding step, wherein the height is defined on the main surface and the back surface of the wiring board, the main surface of the semiconductor chip, and the back surface of the support plate before the molding step. Attach the body and then transfer mold. The height defining body is formed by applying and curing an insulating resin of the same system as the resin forming the sealing body. The height defining body covers the root portion of the wire. The height defining bodies respectively provided on the main surface side and the back surface side of the lead frame are sandwiched between the lower mold and the upper mold at the time of semi-curing to be molded to have a predetermined thickness.

【0024】前記(1)の手段によれば、(a)トラン
スファモールド前にリードフレームの支持板の裏面と、
前記支持板の主面に固定された半導体チップの主面(上
面)に高さ規定体が取り付けられ、その後トランスファ
モールドが行われる。モールド型内において、前記支持
板の裏面の高さ規定体の位置決め面がキャビティ底面に
接触し、前記半導体チップの主面の高さ規定体の位置決
め面がキャビティ天井面に接触するため、キャビティ内
に溶けたレジンが勢い良く流入しても、前記支持板およ
び半導体チップは、上下の高さ規定体を介してモールド
型に接触するため、上下に変動することがない。この結
果、前記支持板の下側および上側、すなわち、半導体チ
ップの主面側のレジンの厚さが薄く設計されていても、
支持板の一部や半導体チップとリードとの間に張られる
ワイヤ(ワイヤループ)の一部が封止体の表面に露出す
ることがなくなる。
According to the means (1), (a) the back surface of the support plate of the lead frame before transfer molding,
A height defining body is attached to the main surface (upper surface) of the semiconductor chip fixed to the main surface of the support plate, and then transfer molding is performed. In the mold, the positioning surface of the height defining body on the back surface of the support plate contacts the bottom surface of the cavity, and the positioning surface of the height defining body on the main surface of the semiconductor chip contacts the cavity ceiling surface. Even if the resin melted into the substrate vigorously flows in, the supporting plate and the semiconductor chip do not move up and down because they contact the mold through the upper and lower height defining bodies. As a result, the lower and upper sides of the support plate, that is, even if the resin on the main surface side of the semiconductor chip is designed to be thin,
A part of the support plate and a part of the wire (wire loop) stretched between the semiconductor chip and the lead are not exposed on the surface of the sealing body.

【0025】(b)前記高さ規定体は、前記封止体を構
成する樹脂と同一の絶縁性樹脂の塗布および硬化処理に
よって形成されるとともに、前記リードフレームの表裏
面側にそれぞれ設けられる高さ規定体を、半硬化時、下
型と上型で挟んで一定の厚さとするため、モールド型に
型締めした際、上下の高さ規定体の位置決め面はそれぞ
れキャビティ底面およびキャビティ天井面に接触するよ
うになり、支持板や半導体チップは確実に保持される。
また、前記高さ規定体がキャビティ底面やキャビティ天
井面を越えて長く突出しないことから、高さ規定体によ
って半導体チップを押し潰して破損させることもない。
(B) The height defining member is formed by applying and curing an insulating resin that is the same as the resin forming the sealing member, and is provided on the front and back surfaces of the lead frame, respectively. When the mold is clamped into the mold, the positioning surfaces of the upper and lower height regulators are located on the cavity bottom surface and the cavity ceiling surface, respectively, so that the regulator is sandwiched between the lower mold and the upper mold when it is semi-cured. The support plate and the semiconductor chip are securely held as they come into contact with each other.
Further, since the height defining body does not project beyond the bottom surface of the cavity or the ceiling surface of the cavity for a long time, the height defining body does not crush and damage the semiconductor chip.

【0026】(c)前記高さ規定体はワイヤの付け根部
分を被っていることから、キャビティ内に溶けたレジン
が勢い良く流入しても、前記ワイヤは前記高さ規定体で
支持されているため、倒れ(変形)難くなり、ワイヤ間
ショート等の発生を防止することができる。
(C) Since the height defining body covers the root portion of the wire, the wire is supported by the height defining body even if the melted resin flows into the cavity vigorously. For this reason, it becomes difficult to fall (deform), and it is possible to prevent the occurrence of short circuits between wires.

【0027】前記(2)の手段によれば、前記手段
(1)の場合と同様に、トランスファモールド時、高さ
規定体の作用によって被封止物部分の露出が防止でき
る。すなわち、半導体チップの主面(上面)に絶縁体
(絶縁性フィルム)を介してリードを固定するLOC
(Lead On Chip)構造の半導体装置の場合でもワイヤ露
出,半導体チップ露出,リード露出が防止できる。ま
た、前記高さ規定体はワイヤの付け根部分を被っている
ことから、キャビティ内に溶けたレジンが勢い良く流入
しても、前記ワイヤは前記高さ規定体で支持されている
ため、倒れ(変形)難くなり、ワイヤのショートが起き
難くなる。
According to the above-mentioned means (2), as in the case of the above-mentioned means (1), it is possible to prevent the portion of the object to be sealed from being exposed by the action of the height defining member during transfer molding. That is, the LOC for fixing the lead to the main surface (upper surface) of the semiconductor chip via the insulator (insulating film).
Even in the case of a semiconductor device with a (Lead On Chip) structure, wire exposure, semiconductor chip exposure, and lead exposure can be prevented. Further, since the height defining body covers the root portion of the wire, even if the melted resin flows into the cavity vigorously, since the wire is supported by the height defining body, it collapses ( Deformation) becomes difficult, and it becomes difficult to cause a wire short circuit.

【0028】前記(3)の手段によれば、前記手段
(1)の場合と同様に、トランスファモールド時、高さ
規定体の作用によって被封止物部分の露出が防止でき
る。すなわち、半導体チップや受動部品等が固定された
配線基板の主面と裏面を始めとして、配線基板を支持す
る支持板の裏面や半導体チップの主面等にも高さ規定体
が設けられ、その後トランスファモールドによって封止
体が形成されるため、モールド時配線基板の高さが変動
しなくなり、封止体の表面にワイヤ,配線基板,支持板
等が露出するようなことがなくなる。また、前記高さ規
定体はワイヤの付け根部分を被っていることから、キャ
ビティ内に溶けたレジンが勢い良く流入しても、前記ワ
イヤは前記高さ規定体で支持されているため、変形し難
くなり、ワイヤのショートが起き難くなる。
According to the above-mentioned means (3), as in the case of the above-mentioned means (1), the exposure of the portion to be sealed can be prevented by the action of the height defining member during transfer molding. That is, height defining bodies are provided not only on the main surface and the back surface of the wiring board to which the semiconductor chips and passive components are fixed, but also on the back surface of the support plate supporting the wiring board and the main surface of the semiconductor chip, and the like. Since the sealing body is formed by transfer molding, the height of the wiring board does not fluctuate during molding, and the wires, wiring board, support plate, etc. are not exposed on the surface of the sealing body. Further, since the height defining body covers the root portion of the wire, even if molten resin flows into the cavity vigorously, the wire is deformed because it is supported by the height defining body. It becomes difficult, and it becomes difficult for the short circuit of the wire to occur.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を
説明するための全図において、同一機能を有するものは
同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments of the present invention, components having the same functions are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.

【0030】(実施形態1)図1乃至図5は本発明の一
実施形態(実施形態1)である半導体装置の製造方法に
係わる図であって、図1はトランスファモールド状態を
示す模式的断面図、図2は半導体装置を示す断面図、図
3は半導体チップが固定されワイヤボンディングが行わ
れたリードフレームを示す平面図、図4は半導体チップ
が固定されワイヤボンディングが行われたリードフレー
ムの一部の断面図、図5は支持板の表裏面側に設けた高
さ規定体部分を示す拡大断面図である。
(Embodiment 1) FIGS. 1 to 5 are views relating to a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment (Embodiment 1) of the present invention. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a transfer mold state. 2 is a cross-sectional view showing a semiconductor device, FIG. 3 is a plan view showing a lead frame on which a semiconductor chip is fixed and wire bonding is performed, and FIG. 4 is a lead frame on which a semiconductor chip is fixed and wire bonding is performed. FIG. 5 is a partial cross-sectional view, and FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing a height defining body portion provided on the front and back surfaces of the support plate.

【0031】本実施形態1の半導体装置1は、図2に示
すように、外観的には偏平な樹脂(レジン)からなる封
止体(パッケージ)2と、このパッケージ2の周面、4
辺から突出する複数のリード3とからなっている。たと
えば、前記パッケージ1の厚さは略1mm程度である。
As shown in FIG. 2, the semiconductor device 1 according to the first embodiment has a sealing body (package) 2 made of a resin (resin) that is flat in appearance, a peripheral surface of the package 2, and a package 4.
It is composed of a plurality of leads 3 protruding from the sides. For example, the thickness of the package 1 is about 1 mm.

【0032】前記リード3はパッケージ2の内外に亘っ
て延在するとともに、ガルウィング型となっている。前
記パッケージ2の内部には支持板4が位置している。こ
の支持板4はタブとも称され、同図では図示しない支持
リード(タブ吊りリード)によって支持されている。
The lead 3 extends inside and outside the package 2 and is of a gull wing type. A support plate 4 is located inside the package 2. The support plate 4 is also called a tab and is supported by a support lead (tab suspension lead) not shown in the figure.

【0033】前記支持板4の主面、すなわち図中上面に
は接合材5(図5参照)を介してIC等を構成する半導
体チップ6が固定されている。また、半導体チップ6の
上面の図示しない電極と、前記パッケージ2内に延在す
るリード3の先端は導電性のワイヤ7を介して電気的に
接続されている。
A semiconductor chip 6 constituting an IC or the like is fixed to the main surface of the support plate 4, that is, the upper surface in the figure, with a bonding material 5 (see FIG. 5) interposed. Further, the electrodes (not shown) on the upper surface of the semiconductor chip 6 and the tips of the leads 3 extending inside the package 2 are electrically connected via a conductive wire 7.

【0034】また、前記支持板4の主面(図中上面)側
と裏面側裏面には樹脂で形成された高さ規定体11およ
び高さ規定体10が複数設けられている。前記支持板4
の裏面側の高さ規定体10は、支持板4の裏面のモール
ド時の高さを規定するものであり、支持板4の裏面の4
隅に設けられている。前記高さ規定体10の平坦な一表
面は位置決め面12となり、前記パッケージ2の裏面の
表面と同一面となっている。
Further, a plurality of height defining bodies 11 and height defining bodies 10 made of resin are provided on the main surface (upper surface in the drawing) side and the back surface side of the support plate 4. The support plate 4
The height defining member 10 on the back surface side of the support plate 4 defines the height of the back surface of the support plate 4 at the time of molding.
It is provided in the corner. One flat surface of the height defining body 10 serves as a positioning surface 12, which is flush with the back surface of the package 2.

【0035】また、支持板4の主面側の高さ規定体11
は、支持板4の主面に固定される半導体チップ6の主面
のモールド時の高さを規定するものであり、本実施形態
1では前記半導体チップ6の周辺部分に設けられてい
る。前記高さ規定体11は半導体チップ6の図示しない
電極に固定されるワイヤ7の付け根部分を被っている。
これにより、ワイヤ7は前記高さ規定体11に被われ、
支持・保護される結果倒れたり、変形しないようになっ
ている。すなわち、半導体装置1の製造におけるトラン
スファモールド時、ワイヤ7が流入する樹脂によって倒
れて変形しないため、隣接するワイヤ7同士が接触した
り、ショートを起こす程ワイヤ同士が近接する状態とは
ならない。
Further, the height defining member 11 on the main surface side of the supporting plate 4
Defines the height of the main surface of the semiconductor chip 6 fixed to the main surface of the support plate 4 during molding, and is provided in the peripheral portion of the semiconductor chip 6 in the first embodiment. The height defining body 11 covers the base portion of the wire 7 fixed to an electrode (not shown) of the semiconductor chip 6.
Thereby, the wire 7 is covered with the height defining body 11,
As a result of being supported and protected, it will not fall or deform. That is, at the time of transfer molding in the manufacture of the semiconductor device 1, the wires 7 do not fall down and are not deformed by the inflowing resin, so that the wires 7 do not come into contact with each other or the wires are not close enough to each other to cause a short circuit.

【0036】前記高さ規定体11の平坦な一表面は位置
決め面13となり、前記パッケージ2の主面の表面と同
一面となっている。
One flat surface of the height defining body 11 serves as a positioning surface 13, which is flush with the main surface of the package 2.

【0037】つぎに、本実施形態1の半導体装置の製造
方法について説明する。半導体装置1の製造において
は、図3に示すようにリードフレーム15が用意され
る。このリードフレーム15は、0.15mm程度の厚
さのFe−Ni系合金あるいはCu合金等からなる金属
板をエッチングまたは精密プレスによってパターニング
することによって形成される。
Next, a method of manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment will be described. In manufacturing the semiconductor device 1, a lead frame 15 is prepared as shown in FIG. The lead frame 15 is formed by patterning a metal plate having a thickness of about 0.15 mm and made of a Fe—Ni-based alloy, a Cu alloy, or the like by etching or precision pressing.

【0038】リードフレーム15は複数の単位リードパ
ターンを一方向に直列に並べた短冊体となっている。単
位リードパターンは、一対の平行に延在する外枠16
と、この一対の外枠16を連結しかつ外枠16に直交す
る方向に延在する一対の内枠17とによって形成される
枠内に形成されている。
The lead frame 15 is a strip body in which a plurality of unit lead patterns are arranged in series in one direction. The unit lead pattern is a pair of outer frames 16 extending in parallel.
And a pair of inner frames 17 connecting the pair of outer frames 16 and extending in a direction orthogonal to the outer frame 16 are formed in a frame.

【0039】また、前記枠の中央には、半導体チップを
搭載するための矩形状の支持板(タブ)4が設けられて
いる。この支持板4は、前記枠の4隅に張り出した支持
片20から延在する支持リード(タブ吊りリード)21
に支持されている。
A rectangular support plate (tab) 4 for mounting a semiconductor chip is provided at the center of the frame. The support plate 4 has a support lead (tab suspension lead) 21 extending from a support piece 20 protruding at four corners of the frame.
Supported by.

【0040】また、前記枠の各外枠16および内枠17
の内側から枠の中央に向かって複数のリード3が延在し
ている。前記リード3は、枠の各辺ごとに相互に平行と
なり、先端を前記支持板4の周囲に近接させるパターン
となっている。また、各辺において、前記リード3は、
前記支持片20間に亘って設けられた細いダム22と交
差するパターンとなっている。したがって、各リード3
は前記ダム22によってその途中を支持されることにな
る。前記ダム22は、後述するトランスファモールド
時、溶けたレジンの流出を阻止するダムとして作用す
る。また、このダム22の内側の片持梁状のリード部分
を一般にインナーリードと呼称し、外側の部分をアウタ
ーリードと呼称する。
Further, each outer frame 16 and inner frame 17 of the frame
A plurality of leads 3 extend from the inside to the center of the frame. The leads 3 are parallel to each other on each side of the frame, and have a pattern in which the tips are brought close to the periphery of the support plate 4. Further, on each side, the lead 3 is
The pattern intersects with a narrow dam 22 provided between the supporting pieces 20. Therefore, each lead 3
Will be supported on the way by the dam 22. The dam 22 functions as a dam that prevents the melted resin from flowing out during transfer molding described later. The cantilevered lead portion inside the dam 22 is generally called an inner lead, and the outer portion is called an outer lead.

【0041】前記支持リード21は、途中で一段階段状
に折れ曲がっている。この結果、前記支持板4はリード
3よりも一段低くなる(図4参照)。
The support lead 21 is bent in a one-step step shape on the way. As a result, the supporting plate 4 is lower than the lead 3 by one step (see FIG. 4).

【0042】また、前記外枠16には、ガイド孔25,
26が設けられている。このガイド孔25,26は、リ
ードフレーム15の移送や位置決め等のガイドとして利
用される。なお、前記リードフレーム15は必要に応じ
て所望個所にメッキが施される。
The outer frame 16 has guide holes 25,
26 are provided. The guide holes 25 and 26 are used as guides for transferring and positioning the lead frame 15. It should be noted that the lead frame 15 is plated at a desired portion as needed.

【0043】つぎに、このようなリードフレーム15に
対して組み立てが行われる。すなわち、前記支持板4の
主面には、図3および図4に示すように、接合材5(図
5参照)を介して半導体チップ6が固定される。また、
前記半導体チップ6の図示しない電極と、対応するリー
ド3の先端とが導電性のワイヤ7で電気的に接続され
る。
Next, the lead frame 15 thus constructed is assembled. That is, as shown in FIGS. 3 and 4, the semiconductor chip 6 is fixed to the main surface of the support plate 4 via the bonding material 5 (see FIG. 5). Also,
Electrodes (not shown) of the semiconductor chip 6 and the corresponding tips of the leads 3 are electrically connected by a conductive wire 7.

【0044】なお、本実施形態1では、支持板4に一つ
の半導体チップ6を固定する例について説明するが、半
導体チップは複数個であってもよい。
In the first embodiment, an example in which one semiconductor chip 6 is fixed to the support plate 4 will be described, but a plurality of semiconductor chips may be used.

【0045】つぎに、前記支持板4の裏面および半導体
チップ6の主面にそれぞれ高さ規定体10,11が形成
される。この高さ規定体10,11は、絶縁性の樹脂を
ディスペンサを使用して部分的に塗布し、かつ硬化させ
ることによって形成する。
Next, height defining bodies 10 and 11 are formed on the back surface of the support plate 4 and the main surface of the semiconductor chip 6, respectively. The height defining bodies 10 and 11 are formed by partially applying and curing an insulating resin using a dispenser.

【0046】パッケージ2は、熱硬化性のエポキシ樹脂
で形成するため、前記高さ規定体10,11も熱硬化性
のエポキシ樹脂で形成する。
Since the package 2 is formed of a thermosetting epoxy resin, the height defining members 10 and 11 are also formed of a thermosetting epoxy resin.

【0047】前記高さ規定体10,11の高さは、先端
面がパッケージ2の表面と同一か、わずかに突出するよ
うに高く形成する。
The height defining bodies 10 and 11 are formed so that their tip surfaces are the same as or slightly protrude from the surface of the package 2.

【0048】前記高さ規定体10,11は、トランスフ
ァモールド時、支持板4や半導体チップ6を上下に変動
させないためにも、矩形状の支持板4や半導体チップ6
の周辺に設けることが望ましい。本実施形態1では、支
持板4の裏面に設けられる高さ規定体10は、矩形状の
支持板4の4隅に設けられる。しかし、支持板4や半導
体チップ6の中央部分であっても、後述するように、高
さ規定体10,11の位置決め面12,13の面積が大
きい場合は、支持板4および半導体チップ6を充分支持
でき、支持板4や半導体チップ6の上下の変動や揺れを
防止することができる。
The height defining members 10 and 11 do not move the support plate 4 and the semiconductor chip 6 up and down during transfer molding, so that the support plate 4 and the semiconductor chip 6 are rectangular.
It is desirable to provide it in the vicinity of. In the first embodiment, the height defining bodies 10 provided on the back surface of the support plate 4 are provided at the four corners of the rectangular support plate 4. However, even in the central portions of the support plate 4 and the semiconductor chip 6, as will be described later, when the areas of the positioning surfaces 12 and 13 of the height defining bodies 10 and 11 are large, the support plate 4 and the semiconductor chip 6 are It can be sufficiently supported, and it is possible to prevent the support plate 4 and the semiconductor chip 6 from vertically fluctuating and shaking.

【0049】また、半導体チップ6の主面に設けられる
高さ規定体11は、図3の2本の二点鎖線で示されるよ
うに、半導体チップ6の電極に固定されるワイヤ7の付
け根部分を被うように設けられる。
Further, the height defining member 11 provided on the main surface of the semiconductor chip 6 has a root portion of the wire 7 fixed to the electrode of the semiconductor chip 6 as shown by two two-dot chain lines in FIG. It is provided so as to cover.

【0050】高さ規定体11をワイヤ7の付け根部分を
被うように設けることによって、ワイヤ7を高さ規定体
11で支持・保護するため倒れ難くなり、後述するトラ
ンスファモールド時、キャビティ内に勢い良く流入する
レジンによっても倒れ難くなり、ワイヤ7同士が接触し
たり、相互に近接しなくなり、ショート防止が達成でき
る。
By providing the height defining body 11 so as to cover the base portion of the wire 7, the wire 7 is supported and protected by the height defining body 11 so that it is difficult to fall down, and it will not fall into the cavity during transfer molding described later. Even if the resin flows in vigorously, the resin will not easily fall down, the wires 7 will not come into contact with each other, and will not come close to each other, so that prevention of short circuit can be achieved.

【0051】図4において、二点鎖線は、トランスファ
モールドにおけるモールド型のキャビティ底面30とキ
ャビティ天井面31を示すものであり、上下の高さ規定
体10,11の先端は、前記キャビティ底面30または
キャビティ天井面31よりも僅かに突出している。
In FIG. 4, the chain double-dashed line shows the cavity bottom surface 30 and the cavity ceiling surface 31 of the mold in the transfer mold, and the tips of the upper and lower height defining members 10 and 11 are the cavity bottom surface 30 or It slightly protrudes from the cavity ceiling surface 31.

【0052】つぎに、前記高さ規定体10,11を自然
乾燥や短時間のベーク処理によって半硬化させる。
Next, the height defining bodies 10 and 11 are semi-cured by natural drying or short-time baking.

【0053】つぎに、図5に示すように、下型32と上
型33によって支持板4の主面と裏面側に位置する高さ
規定体10,11を挟み、支持板4の裏面の高さ規定体
10の下面から高さ規定体11の上面までの厚さを所定
の厚さ、すなわち、モールド型のキャビティ底面からキ
ャビティ天井面に至る長さに合わせる。この下型32と
上型33による挟み加工によって、高さ規定体10およ
び高さ規定体11の先端には平坦な位置決め面12,1
3が形成される。
Next, as shown in FIG. 5, the lower mold 32 and the upper mold 33 sandwich the height defining members 10 and 11 located on the main surface and the back surface side of the support plate 4, and the height of the back surface of the support plate 4 is increased. The thickness from the lower surface of the regulating body 10 to the upper surface of the height regulating body 11 is adjusted to a predetermined thickness, that is, the length from the cavity bottom surface of the mold to the cavity ceiling surface. By the sandwiching process by the lower mold 32 and the upper mold 33, the positioning bodies 12, 1 that are flat on the tips of the height defining bodies 10 and 11 are formed.
3 is formed.

【0054】なお、リードフレーム15の支持板4の裏
面に設ける高さ規定体10は半導体チップ6を固定する
前に設けておいてもよい。この場合、高さ規定体10は
完全に硬化した状態、すなわち、ベーク処理やキュア処
理によって完全に硬化させておいてもよい。この場合、
支持板4の裏面に高さ規定体10を設けたリードフレー
ム15として供給・販売することができる。
The height defining body 10 provided on the back surface of the support plate 4 of the lead frame 15 may be provided before fixing the semiconductor chip 6. In this case, the height defining member 10 may be completely cured, that is, may be completely cured by baking or curing. in this case,
It can be supplied and sold as the lead frame 15 in which the height regulating body 10 is provided on the back surface of the support plate 4.

【0055】また、前記高さ規定体10は、リードフレ
ーム15の支持板4にコイニング等のプレス加工によっ
て、リードフレーム母材を部分的に突出させることによ
っても形成することができる。この構造では、ライン上
を順次流れる金属板を各プレスステーションで順次所定
の穴明けを行ってリードフレームを製造する精密プレス
加工において、コイニング加工として1ステーションを
増加させるだけでよく、リードフレームの製造コストの
低減が可能である。
The height defining member 10 can also be formed by partially projecting the lead frame base material on the support plate 4 of the lead frame 15 by pressing such as coining. With this structure, in a precision press working for manufacturing a lead frame by sequentially punching a predetermined number of metal plates sequentially flowing on each line at each press station, it is only necessary to increase one station as a coining work. The cost can be reduced.

【0056】つぎに、リードフレーム15を、トランス
ファモールド装置のモールド型40に型締めし、前記ゲ
ート45からキャビティ43内に溶けた樹脂44を流入
させてモールドを行い、支持板4,半導体チップ6,ワ
イヤ7,リード3の先端部分等の被封止物部分を封止体
(パッケージ)2で被う。図1はモールド型40の下型
41と上型42の間に組み立てが終了したリードフレー
ム15を型締めした状態を示す一部の断面図である。
Next, the lead frame 15 is clamped to the mold 40 of the transfer molding apparatus, and the resin 44 melted into the cavity 43 is flown into the cavity 43 from the gate 45 to mold the support frame 4 and the semiconductor chip 6. , The wires 7, the tip portions of the leads 3 and the like are covered with the sealing body (package) 2. FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a state where the lead frame 15 which has been assembled between the lower die 41 and the upper die 42 of the mold die 40 is clamped.

【0057】下型41と上型42によってキャビティ4
3が形成される。また、このキャビティ43に溶けた樹
脂44を案内するゲート45等の樹脂案内路等が形成さ
れる。さらに、図示はしないが、キャビティ43内の空
気を外部に逃がすエアーベント等も形成される。
The cavity 4 is formed by the lower mold 41 and the upper mold 42.
3 is formed. Further, a resin guide path such as a gate 45 for guiding the melted resin 44 is formed in the cavity 43. Further, although not shown, an air vent or the like that allows the air in the cavity 43 to escape to the outside is also formed.

【0058】組み立てが終了したリードフレーム15
を、図1に示すように、モールド型40の下型41上に
位置決め載置した後、モールド型40の型締めを行え
ば、前記下型41と上型42による挟み加工によって高
さ規定体10の下面から高さ規定体11の上面までの高
さ調整がなされていることから、前記高さ規定体10,
11の位置決め面12,13がそれぞれキャビティ43
のキャビティ底面30とキャビティ天井面31に過不足
なく接触することになる。これによって、支持板4およ
び半導体チップ6は、キャビティ43内において、所望
の高さを維持することができるとともに、上下の変動が
起きなくなる。
Lead frame 15 assembled
As shown in FIG. 1, after positioning and placing on the lower mold 41 of the mold 40, the mold 40 is clamped, and the height defining body is sandwiched by the lower mold 41 and the upper mold 42. Since the height from the lower surface of 10 to the upper surface of the height defining body 11 is adjusted, the height defining body 10,
11 positioning surfaces 12 and 13 are cavities 43, respectively.
The cavity bottom surface 30 and the cavity ceiling surface 31 come into contact with each other without excess or deficiency. As a result, the support plate 4 and the semiconductor chip 6 can maintain a desired height in the cavity 43, and vertical fluctuation does not occur.

【0059】したがって、前記ゲート45から溶けた樹
脂44をキャビティ43内に勢い良く流入させても、前
記支持板4および半導体チップ6は上下に変動すること
がない。このため、支持板4がパッケージ2の裏面(下
面)に露出したり、半導体チップ6やワイヤ7の一部が
パッケージ2の主面(上面)に露出する不良は発生しな
いことになる。
Therefore, even if the melted resin 44 is forcedly flown into the cavity 43 from the gate 45, the support plate 4 and the semiconductor chip 6 do not move up and down. Therefore, the defect that the support plate 4 is exposed on the back surface (lower surface) of the package 2 or the semiconductor chip 6 and some of the wires 7 are exposed on the main surface (upper surface) of the package 2 does not occur.

【0060】また、半導体チップ6の主面に設けられる
高さ規定体11は、図1乃至図5に示すように、ワイヤ
7の付け根部分側を被うため、従来のようにキャビティ
43内に流入する溶けた樹脂44によって流されて倒れ
ることもなく、ワイヤ7同士の接触や相互の近接状態も
発生しなくなり、ショート発生が防止できる。
Further, the height defining member 11 provided on the main surface of the semiconductor chip 6 covers the base portion side of the wire 7 as shown in FIGS. The molten resin 44 flowing in does not cause the resin 7 to fall and fall, and the wires 7 do not come into contact with each other or come in close proximity to each other, so that a short circuit can be prevented.

【0061】なお、本実施形態1では、前記高さ規定体
10および高さ規定体11は半硬化状態となっているこ
とから、トランスファモールド装置における上下型の型
締め圧によって変形するため、型締め圧によって半導体
チップ6が破損するおそれはない。
In the first embodiment, since the height defining body 10 and the height defining body 11 are in a semi-cured state, they are deformed by the mold clamping pressure of the upper and lower molds in the transfer molding apparatus, and thus the mold There is no possibility that the semiconductor chip 6 will be damaged by the tightening pressure.

【0062】しかし、本実施形態1では、前記高さ規定
体10および高さ規定体11を挟み加工後完全に硬化さ
せておいてもよい。この場合、前記挟み加工において、
高さ規定体10の下面から高さ規定体11の上面までの
長さを、キャビティ43の底面から天井面に至る長さよ
りも十数μm程度低くしておけば、高さ規定体11を介
して半導体チップ6が圧縮されることがなく、半導体チ
ップ6の圧縮による損傷を危惧する必要がなくなる。こ
の際、高さ規定体10の下面から高さ規定体11の上面
までの長さが、キャビティ43の底面から天井面に至る
長さよりも十数μm程度短くなっていることから、支持
板4および半導体チップ6は上下に十数μm変動可能と
なるが、十数μm程度の支持板4や半導体チップ6の上
下変化では、ワイヤ7のループの上端部分がパッケージ
2の表面に露出したり、耐湿性を悪化させる程パッケー
ジ2の表面に近接することもない。
However, in the first embodiment, the height defining body 10 and the height defining body 11 may be sandwiched and completely cured. In this case, in the sandwiching process,
If the length from the lower surface of the height regulating body 10 to the upper surface of the height regulating body 11 is made lower than the length from the bottom surface of the cavity 43 to the ceiling surface by about ten and several μm, the height regulating body 11 will be interposed. As a result, the semiconductor chip 6 is not compressed, and there is no need to worry about damage due to the compression of the semiconductor chip 6. At this time, the length from the lower surface of the height defining body 10 to the upper surface of the height defining body 11 is shorter than the length from the bottom surface of the cavity 43 to the ceiling surface by about ten and several μm. Also, the semiconductor chip 6 can fluctuate up and down by a few tens of μm, but when the supporting plate 4 and the semiconductor chip 6 change up and down by about a dozen μm, the upper end portion of the loop of the wire 7 is exposed on the surface of the package 2. It is not as close to the surface of the package 2 as the moisture resistance is deteriorated.

【0063】前記キャビティ43に充填された樹脂は、
一時的なベーク(キュア)処理によって仮硬化される。
その後、ファイナルキュアが行われ樹脂は完全に硬化さ
れる。この際、前記高さ規定体10,11は、パッケー
ジ2と同一系統の樹脂で形成されていることから、パッ
ケージ2の硬化時に同時に硬化する。そして、高さ規定
体10,11とパッケージ2との界面は密着し、耐湿性
を損なうようなことはなくなる。
The resin filled in the cavity 43 is
It is temporarily hardened by a temporary baking process.
Then, final cure is performed and the resin is completely cured. At this time, since the height defining bodies 10 and 11 are made of the same resin as the package 2, they are simultaneously cured when the package 2 is cured. Then, the interfaces between the height defining bodies 10 and 11 and the package 2 are in close contact with each other, and the moisture resistance is not impaired.

【0064】つぎに、リードフレーム15の不要部分は
切断除去される。また、パッケージ2の周囲から突出す
るリード3は成形されてガルウィング型とされる。これ
によって、図2に示すような半導体装置1が製造され
る。
Next, unnecessary portions of the lead frame 15 are cut and removed. Further, the leads 3 projecting from the periphery of the package 2 are formed into a gull wing type. As a result, the semiconductor device 1 as shown in FIG. 2 is manufactured.

【0065】本実施形態1の半導体装置の製造方法によ
れば、トランスファモールドにおいて支持板4や半導体
チップ6が上下方向等に変動しないことから、パッケー
ジ2の表面に被封止物部分である支持板4,半導体チッ
プ6,ワイヤ7等が露出しなくなり、モールドの歩留り
向上を達成することができる。
According to the method of manufacturing the semiconductor device of the first embodiment, since the support plate 4 and the semiconductor chip 6 do not fluctuate in the vertical direction or the like in the transfer mold, the package 2 is supported on the surface of the object to be sealed. The plate 4, the semiconductor chip 6, the wire 7, etc. are not exposed, and the yield of the mold can be improved.

【0066】また、前記支持板4,半導体チップ6,ワ
イヤ7等がパッケージ2の表面近傍に位置することがな
くなるため、半導体装置の耐湿性が向上する。
Further, since the support plate 4, the semiconductor chip 6, the wire 7 and the like are not located near the surface of the package 2, the moisture resistance of the semiconductor device is improved.

【0067】本実施形態1の半導体装置の製造方法によ
れば、ワイヤ7はその付け根部分が高さ規定体11で被
われていることから、トランスファモールド時溶けた樹
脂44によって流されないため、断線あるいはワイヤ7
同士の接触や相互の近接状態の発生が防止できる。した
がって、モールドの歩留りの向上が達成できるばかりで
なく、製品となった半導体装置の信頼性が高くなる。
According to the method of manufacturing the semiconductor device of the first embodiment, the wire 7 is covered with the height defining member 11 at the base portion thereof, so that the wire 7 is not washed by the melted resin 44 during transfer molding. Or wire 7
It is possible to prevent the mutual contact and the occurrence of the close proximity to each other. Therefore, not only the yield of the mold can be improved, but also the reliability of the manufactured semiconductor device is increased.

【0068】(実施形態2)図6は本発明の他の実施形
態(実施形態2)であるLOC構造の半導体装置を示す
断面図である。
(Embodiment 2) FIG. 6 is a sectional view showing a semiconductor device having an LOC structure which is another embodiment (Embodiment 2) of the present invention.

【0069】LOC構造の半導体装置1は、図6に示す
ように、樹脂からなる封止体(パッケージ)2内におい
て、半導体チップ6の主面(図では上面)に絶縁性フィ
ルム(絶縁体)50を介してリード3の先端部分が固定
されている。本実施形態1では、パッケージ2の両側に
リード3を突出させる構造となっている。また、リード
3はJ−ベンド構造となっている。
As shown in FIG. 6, in the semiconductor device 1 having the LOC structure, an insulating film (insulator) is formed on the main surface (upper surface in the figure) of the semiconductor chip 6 in a sealing body (package) 2 made of resin. The tip portion of the lead 3 is fixed via 50. The first embodiment has a structure in which the leads 3 are projected on both sides of the package 2. The lead 3 has a J-bend structure.

【0070】前記リード3はパッケージ2の両側からパ
ッケージ2内に入り、それぞれの先端部分が絶縁性フィ
ルム50を介して半導体チップ6に固定されている。
The leads 3 are inserted into the package 2 from both sides of the package 2, and the tip portions of the leads 3 are fixed to the semiconductor chip 6 via the insulating film 50.

【0071】前記半導体チップ6の中央線に沿って図示
しない電極が設けられ、これら電極と両側のリード3の
先端部分は導電性のワイヤ7で電気的に接続されてい
る。
Electrodes (not shown) are provided along the center line of the semiconductor chip 6, and these electrodes and the tip portions of the leads 3 on both sides are electrically connected by a conductive wire 7.

【0072】このようなLOC構造の半導体装置1にお
いて、前記半導体チップ6の裏面(下面)に高さ規定体
10が設けられ、半導体チップ6の主面側のリード3の
主面(上面)に高さ規定体11が設けられている。ま
た、前記高さ規定体10,11には、前記実施形態1と
同様に位置決め面12,13が設けられている。前記位
置決め面12,13は、パッケージ2の主面と裏面に対
してそれぞれ同一面となっている。
In the semiconductor device 1 having such a LOC structure, the height defining member 10 is provided on the back surface (lower surface) of the semiconductor chip 6, and on the main surface (upper surface) of the lead 3 on the main surface side of the semiconductor chip 6. A height defining body 11 is provided. Further, the height defining bodies 10 and 11 are provided with positioning surfaces 12 and 13 as in the first embodiment. The positioning surfaces 12 and 13 are flush with the main surface and the back surface of the package 2, respectively.

【0073】前記半導体チップ6の裏面の高さ規定体1
0は、半導体チップ6の裏面の高さを規定するものであ
り、半導体チップ6の4隅に設けられている。また、半
導体チップ6の主面に延在するリード3の高さを規定す
るために、前記半導体チップ6の4隅に対応するリード
3上に高さ規定体11が設けられている。
Height regulating body 1 on the back surface of the semiconductor chip 6
0 defines the height of the back surface of the semiconductor chip 6, and is provided at the four corners of the semiconductor chip 6. Further, in order to define the height of the leads 3 extending on the main surface of the semiconductor chip 6, height defining bodies 11 are provided on the leads 3 corresponding to the four corners of the semiconductor chip 6.

【0074】また、半導体チップ6の主面の中央線に沿
って高さ規定体11が設けられている。半導体チップ6
の主面の中央線に沿って設けられる高さ規定体11は、
ワイヤ7の付け根部分を被い、ワイヤ7が倒れないよう
に支持・保護している。
A height defining member 11 is provided along the center line of the main surface of the semiconductor chip 6. Semiconductor chip 6
The height defining member 11 provided along the center line of the main surface of
The base of the wire 7 is covered to support and protect the wire 7 from falling.

【0075】本実施形態2のLOC構造の半導体装置は
つぎの方法によって製造される。
The semiconductor device having the LOC structure of the second embodiment is manufactured by the following method.

【0076】半導体チップを絶縁体を介してリードの裏
面に固定する構造のリードフレーム、すなわち、LOC
用のリードフレームを用意する。このリードフレーム
は、特に図示はしないが、たとえば、矩形枠の内枠の内
側から外枠に平行に複数のリードを延在させる構造とな
っている。両側の内枠から延在するリードの先端は、枠
の中心線に一定の間隔を隔てる位置まで延在している。
また、各リードは、一対の外枠間に亘って設けられるダ
ムによって支持される構造となっている。
A lead frame having a structure in which the semiconductor chip is fixed to the back surface of the lead via an insulator, that is, LOC.
Prepare a lead frame for Although not particularly shown, the lead frame has a structure in which a plurality of leads extend from the inside of the inner frame of the rectangular frame in parallel with the outer frame. The tip ends of the leads extending from the inner frames on both sides extend to a position spaced apart from the center line of the frame by a predetermined distance.
Further, each lead has a structure supported by a dam provided between the pair of outer frames.

【0077】LOC構造の半導体装置1の組立において
は、前記リードフレームのリード先端部分が両面接着型
の絶縁性フィルム50を介して半導体チップ6の主面に
絶縁的に固定される。半導体チップ6は、主面の中央線
に沿って電極が設けられていることから、この部分には
リード3が掛からないように固定される。
In assembling the semiconductor device 1 having the LOC structure, the lead tip portions of the lead frame are insulated and fixed to the main surface of the semiconductor chip 6 via the double-sided adhesive type insulating film 50. Since the semiconductor chip 6 is provided with an electrode along the center line of the main surface, the semiconductor chip 6 is fixed so that the lead 3 does not hang on this portion.

【0078】つぎに、常用のワイヤボンディングによっ
て、前記半導体チップ6の図示しない中央の電極とリー
ド3の先端部分が導電性のワイヤ7で接続される。
Next, the central electrode (not shown) of the semiconductor chip 6 and the tip portion of the lead 3 are connected by a conductive wire 7 by a conventional wire bonding.

【0079】つぎに、前記半導体チップ6の主面と裏面
およびリード3の主面(上面)に高さ規定体10および
高さ規定体11が形成される。前記高さ規定体10,1
1は、前記実施形態1と同様な方法によって形成され
る。すなわち、絶縁性のエポキシ樹脂をディスペンサを
使用して部分的に塗布し、かつ半硬化させる。この際、
突出高さを大きくとる。その後、挟み加工を行って高さ
規定体10の下面から高さ規定体11の上面に至る長さ
が、キャビティの高さと一致するようにする。
Next, the height defining body 10 and the height defining body 11 are formed on the main surface and the back surface of the semiconductor chip 6 and the main surface (upper surface) of the leads 3. The height regulating body 10, 1
1 is formed by the same method as in the first embodiment. That is, the insulating epoxy resin is partially applied using a dispenser and is semi-cured. On this occasion,
Increase the protruding height. After that, sandwiching is performed so that the length from the lower surface of the height defining body 10 to the upper surface of the height defining body 11 matches the height of the cavity.

【0080】なお、前記半導体チップ6の裏面の高さ規
定体10は、半導体チップ6の裏面の高さを規定するも
のであり、半導体チップ6の4隅に設けられる。また、
半導体チップ6の主面に延在するリード3の高さを規定
するために、前記半導体チップ6の4隅に対応するリー
ド3上に高さ規定体11が設けられる。
The height defining bodies 10 on the back surface of the semiconductor chip 6 define the height of the back surface of the semiconductor chip 6, and are provided at the four corners of the semiconductor chip 6. Also,
In order to define the height of the leads 3 extending on the main surface of the semiconductor chip 6, height defining bodies 11 are provided on the leads 3 corresponding to the four corners of the semiconductor chip 6.

【0081】また、半導体チップ6の主面の中央線に沿
って高さ規定体11が設けられる。半導体チップ6の主
面の中央線に沿って設けられる高さ規定体11は、ワイ
ヤ7の付け根部分を被う。これによってワイヤ7は高さ
規定体11で支持・保護されるため倒れ難くなり、後述
するトランスファモールド時、キャビティ内に勢い良く
流入するレジンによっても倒れ難くなり、ワイヤ7同士
が接触したり、相互に近接しなくなり、ショート防止が
達成できる。
A height defining body 11 is provided along the center line of the main surface of the semiconductor chip 6. The height defining body 11 provided along the center line of the main surface of the semiconductor chip 6 covers the root portion of the wire 7. As a result, the wire 7 is supported and protected by the height defining member 11, and thus it is difficult for the wire 7 to fall down, and it is also difficult for the wire 7 to fall down due to the resin that flows into the cavity at the time of transfer molding, which will be described later. It is possible to prevent short circuit because it is not close to.

【0082】なお、前記半導体チップ6の裏面(下面)
に設ける高さ規定体10は、半導体チップ6の状態で設
けてもよい。
The back surface (lower surface) of the semiconductor chip 6
The height defining member 10 provided in the above may be provided in the state of the semiconductor chip 6.

【0083】つぎに、組立が終了したリードフレームを
トランスファモールド装置のモールド型に型締めし、モ
ールドを行い、パッケージ2を形成する。
Next, the assembled lead frame is clamped in the mold of the transfer molding apparatus and molded to form the package 2.

【0084】つぎに、不要なリードフレーム部分を切断
除去した後、成形を行ってパッケージ2から突出するリ
ード3をJ−ベンド型にする。これによって、図6に示
すLOC構造の半導体装置1が製造される。
Then, after removing unnecessary lead frame portions by cutting, molding is performed to form the leads 3 protruding from the package 2 into a J-bend type. As a result, the semiconductor device 1 having the LOC structure shown in FIG. 6 is manufactured.

【0085】本実施形態2のLOC構造の半導体装置1
は、その製造において支持板4の主面と裏面およびリー
ド3の主面に高さ規定体10,11を設け、その後トラ
ンスファモールドすることから、半導体チップ6やリー
ド3は上下動しなくなり、パッケージ2の表面に半導体
チップ6やワイヤ7等の被封止物部分が露出したり、パ
ッケージ2の表面に近接しなくなる。この結果、LOC
構造の半導体装置1の製造歩留りが向上する。また、パ
ッケージ2の表面に半導体チップ6やワイヤ7等の被封
止物部分が近接しなくなり、耐湿性が向上し、LOC構
造の半導体装置1の信頼性が高くなる。
The semiconductor device 1 having the LOC structure according to the second embodiment.
In the manufacturing, since the height defining bodies 10 and 11 are provided on the main surface and the back surface of the support plate 4 and the main surface of the leads 3 and the transfer molding is performed thereafter, the semiconductor chip 6 and the leads 3 do not move up and down, and the package The parts to be sealed such as the semiconductor chip 6 and the wires 7 are exposed on the surface of the package 2 and are not close to the surface of the package 2. As a result, LOC
The manufacturing yield of the structured semiconductor device 1 is improved. Further, the sealed parts such as the semiconductor chip 6 and the wires 7 do not come close to the surface of the package 2, the moisture resistance is improved, and the reliability of the semiconductor device 1 having the LOC structure is increased.

【0086】本実施形態2のLOC構造の半導体装置1
は、ワイヤ7の付け根部分が高さ規定体11で支持され
ていることから、トランスファモールド時に流入する樹
脂によって流されることがなく変形しないため、ワイヤ
のショート不良が発生しなくなる。したがって、製造歩
留りの向上が図れるとともに、製造されたLOC構造の
半導体装置1の信頼性向上が図れる。
The semiconductor device 1 having the LOC structure according to the second embodiment.
Since the root portion of the wire 7 is supported by the height defining member 11, the wire is not flowed by the resin that flows in at the time of transfer molding and is not deformed, so that a short circuit defect of the wire does not occur. Therefore, the manufacturing yield can be improved, and the reliability of the manufactured LOC structure semiconductor device 1 can be improved.

【0087】本実施形態2では半導体チップ6の主面に
絶縁性フィルム50を介してリード3を固定したLOC
構造の半導体装置1に本発明を適用した例について説明
したが、リードの主面(上面)に絶縁性フィルムを介し
て半導体チップを固定したCOL(Chip On Lead)構造
の半導体装置にも同様に適用でき、同様に被封止物部分
のパッケージ面への露出防止やワイヤのショート防止を
図ることができる。
In the second embodiment, the LOC in which the leads 3 are fixed to the main surface of the semiconductor chip 6 via the insulating film 50.
An example in which the present invention is applied to the semiconductor device 1 having a structure has been described, but the same applies to a semiconductor device having a COL (Chip On Lead) structure in which a semiconductor chip is fixed to the main surface (upper surface) of the lead via an insulating film. This can be applied, and similarly, it is possible to prevent the exposed portion of the sealed object from being exposed to the package surface and prevent the wire from short-circuiting.

【0088】(実施形態3)図7は本発明の他の実施形
態(実施形態3)である混成集積回路構造の半導体装置
を示す断面図、図8は本実施形態3の半導体装置の製造
において使用されるリードフレームの平面図である。
(Third Embodiment) FIG. 7 is a sectional view showing a semiconductor device having a hybrid integrated circuit structure according to another embodiment (third embodiment) of the present invention. FIG. It is a top view of the lead frame used.

【0089】本実施形態3の半導体装置1は、配線基板
を固定したリードフレームを使用して製造される。
The semiconductor device 1 of the third embodiment is manufactured by using the lead frame to which the wiring board is fixed.

【0090】本実施形態3の半導体装置1は、図7に示
すように、外観的には、前記実施形態1と同様に矩形偏
平状のレジンで形成されるパッケージ2と、このパッケ
ージ2の周囲から突出するガルウィング型の複数のリー
ド3とからなっている。前記パッケージ2の厚さは、前
記実施形態1に比較して厚く、たとえば、2〜3mm程
度である。
As shown in FIG. 7, the semiconductor device 1 of the third embodiment is similar to the first embodiment in appearance. The package 2 is made of a rectangular flat resin and the periphery of the package 2. It is composed of a plurality of gull wing-type leads 3 protruding from. The thickness of the package 2 is thicker than that of the first embodiment, and is, for example, about 2 to 3 mm.

【0091】本実施形態3の半導体装置1においては、
パッケージ2内に埋め込まれる支持板4は、図8に示す
ように矩形枠形状となっている。そして、この支持板4
の主面に矩形状の配線基板60が接合材で固定された構
造となっている。
In the semiconductor device 1 of the third embodiment,
The support plate 4 embedded in the package 2 has a rectangular frame shape as shown in FIG. And this support plate 4
A rectangular wiring board 60 is fixed to the main surface of the substrate with a bonding material.

【0092】配線基板60は、特に図示はしないが、主
面に配線や電極(パッド)が設けられている。たとえ
ば、半導体チップ6を搭載する部分には固定用パッドが
設けられている。また、チップコンデンサやチップ抵抗
等の受動部品61を搭載する部分には、前記受動部品6
1の電極が固定されるパッド(電極)が設けられてい
る。また、前記半導体チップ6の周囲には、ワイヤボン
ディング用のパッド(電極)が設けられている。さら
に、配線基板60の周辺部分には、リード3に接続され
るワイヤ7を接続するためのパッド(電極)が設けられ
ている。
Although not shown, the wiring board 60 has wirings and electrodes (pads) provided on its main surface. For example, a fixing pad is provided in the portion where the semiconductor chip 6 is mounted. The passive component 6 such as a chip capacitor or a chip resistor is mounted on the portion where the passive component 61 is mounted.
A pad (electrode) to which one electrode is fixed is provided. Around the semiconductor chip 6, pads (electrodes) for wire bonding are provided. Further, pads (electrodes) for connecting the wires 7 connected to the leads 3 are provided in the peripheral portion of the wiring board 60.

【0093】図7では、配線基板60の主面に2つの半
導体チップ6と1つの受動部品61が固定された状態を
示す。また、前記半導体チップ6の電極と配線基板60
のパッド(あるいは配線)は導電性のワイヤ7によって
電気的に接続されている。また、配線基板60の周辺部
分のパッドとパッケージ2内に延在するリード3の先端
は導電性のワイヤ7で接続されている。
FIG. 7 shows a state in which two semiconductor chips 6 and one passive component 61 are fixed to the main surface of the wiring board 60. Further, the electrodes of the semiconductor chip 6 and the wiring board 60.
Pads (or wirings) are electrically connected by conductive wires 7. Further, the pads on the peripheral portion of the wiring board 60 and the tips of the leads 3 extending into the package 2 are connected by a conductive wire 7.

【0094】また、本実施形態3においても、前記実施
形態1と同様に配線基板60の主面側と裏面側に高さ規
定体10および高さ規定体11が設けられている。前記
高さ規定体10,11には、前記実施形態1と同様に位
置決め面12,13が設けられている。この位置決め面
12,13は、パッケージ2の主面と裏面に対してそれ
ぞれ同一面となっている。
Also in the third embodiment, the height defining member 10 and the height defining member 11 are provided on the main surface side and the back surface side of the wiring board 60 as in the first embodiment. The height defining bodies 10 and 11 are provided with positioning surfaces 12 and 13 as in the first embodiment. The positioning surfaces 12 and 13 are flush with the main surface and the back surface of the package 2, respectively.

【0095】前記配線基板60の裏面側の高さ規定体1
0は、配線基板60の裏面の高さを規定するものであ
り、配線基板60の4隅に設けられている。この場合に
は、高さ規定体10は一部が支持板4上に亘って設けら
れている。
Height regulating body 1 on the back side of the wiring board 60
0 defines the height of the back surface of the wiring board 60, and is provided at four corners of the wiring board 60. In this case, the height defining member 10 is partially provided over the support plate 4.

【0096】配線基板60の主面側の高さ規定体11
は、配線基板60の主面の高さを規定するためのもので
あり、前記配線基板60の周辺部分に設けるのが望まし
い。また、各ワイヤ7の付け根部分を支持・保護するこ
とが、前記実施形態1と同様にワイヤの倒れ防止となる
ことから望ましい。そこで、本実施形態3では、ワイヤ
7が接続される部分の配線基板60,半導体チップ6,
リード3の各主面部分に高さ規定体11が設けられてい
る。高さ規定体11が配線基板60の主面側で散在して
いることから、後述するトランスファモールド時、配線
基板60の主面の変動が抑えられる。
The height defining member 11 on the main surface side of the wiring board 60
Is for defining the height of the main surface of the wiring board 60, and is preferably provided in the peripheral portion of the wiring board 60. Further, it is desirable to support and protect the root portion of each wire 7 because it prevents the wire from falling over, as in the first embodiment. Therefore, in the third embodiment, the wiring board 60, the semiconductor chip 6, and the portion of the portion to which the wires 7 are connected are arranged.
A height defining body 11 is provided on each main surface portion of the lead 3. Since the height defining bodies 11 are scattered on the main surface side of the wiring board 60, fluctuations in the main surface of the wiring board 60 can be suppressed during transfer molding described later.

【0097】本実施形態3の半導体装置1はつぎの方法
によって製造される。
The semiconductor device 1 of the third embodiment is manufactured by the following method.

【0098】半導体装置1の製造において、図8に示す
ような配線基板付きリードフレームが用意される。
In manufacturing the semiconductor device 1, a lead frame with a wiring board as shown in FIG. 8 is prepared.

【0099】このリードフレーム15は、前記実施形態
1のリードフレームにおいて、支持板4が枠状となって
いる。そして、この支持板4に矩形状の配線基板60が
接合材を介して固定された構造となっている。前記支持
板4は、複数の半導体チップや受動部品を搭載するた
め、前記実施形態1の場合よりも大きな寸法となってい
る。
The lead frame 15 is the same as the lead frame of the first embodiment except that the support plate 4 has a frame shape. A rectangular wiring board 60 is fixed to the support plate 4 with a bonding material. Since the support plate 4 has a plurality of semiconductor chips and passive components mounted thereon, the support plate 4 has a larger size than that of the first embodiment.

【0100】配線基板60は、特に図示はしないが、前
述のように主面(上面)に配線や電極(パッド)が設け
られている。たとえば、半導体チップ6を搭載する部分
には固定用パッドが設けられ、チップコンデンサやチッ
プ抵抗等の受動部品61を搭載する部分には前記受動部
品61の電極が固定されるパッド(電極)が設けられ、
前記半導体チップ6の周囲の面にはワイヤボンディング
用のパッド(電極)が設けられ、配線基板60の周辺部
分にはリード3に接続されるワイヤ7を接続するための
パッド(電極)が設けられている。
Although not shown, the wiring board 60 is provided with wirings and electrodes (pads) on the main surface (upper surface) as described above. For example, a fixing pad is provided in a portion where the semiconductor chip 6 is mounted, and a pad (electrode) to which an electrode of the passive component 61 is fixed is provided in a portion where the passive component 61 such as a chip capacitor or a chip resistor is mounted. The
Pads (electrodes) for wire bonding are provided on the peripheral surface of the semiconductor chip 6, and pads (electrodes) for connecting the wires 7 connected to the leads 3 are provided on the peripheral portion of the wiring board 60. ing.

【0101】半導体装置1の組立においては、前記リー
ドフレーム15の配線基板60の主面に、常用のボンデ
ィング方法によって複数の半導体チップ6や受動部品6
1が搭載される。図7では、配線基板60の主面に2つ
の半導体チップ6と1つの受動部品61が固定された状
態を示す。
In assembling the semiconductor device 1, a plurality of semiconductor chips 6 and passive components 6 are formed on the main surface of the wiring board 60 of the lead frame 15 by a conventional bonding method.
1 is installed. FIG. 7 shows a state in which two semiconductor chips 6 and one passive component 61 are fixed to the main surface of the wiring board 60.

【0102】つぎに、常用のワイヤボンディング方法に
よって、前記半導体チップ6の電極と配線基板60のパ
ッド(あるいは配線)は導電性のワイヤ7によって電気
的に接続される。また、同様に配線基板60の周辺部分
のパッドと、前記配線基板60の周囲に先端を近接させ
るリード3の先端部分が導電性のワイヤ7で接続され
る。
Next, the electrodes of the semiconductor chip 6 and the pads (or wirings) of the wiring board 60 are electrically connected by the conductive wires 7 by a conventional wire bonding method. Similarly, the pads on the peripheral portion of the wiring board 60 are connected to the tip portions of the leads 3 whose tips are brought close to the periphery of the wiring board 60 by the conductive wires 7.

【0103】つぎに、前記配線基板60の主面側と裏面
側に前記実施形態1と同様な方法で高さ規定体10およ
び高さ規定体11が形成される。すなわち、絶縁性のエ
ポキシ樹脂をディスペンサを使用して部分的に塗布し、
かつ半硬化させる。その後、挟み加工によって高さ規定
体10の下面から高さ規定体11の上面に至る長さが、
キャビティの高さと一致するようにする。
Next, the height defining body 10 and the height defining body 11 are formed on the main surface side and the back surface side of the wiring board 60 by the same method as in the first embodiment. That is, partially apply the insulating epoxy resin using a dispenser,
And semi-cure. After that, the length from the lower surface of the height defining body 10 to the upper surface of the height defining body 11 by sandwiching is
Match the height of the cavity.

【0104】前記配線基板60の裏面側の高さ規定体1
0は、配線基板60の裏面の高さを規定するものであ
り、配線基板60の4隅に設けられている。この場合に
は、高さ規定体10は一部が支持板4上に亘って設けら
れている。
Height regulating member 1 on the back side of the wiring board 60
0 defines the height of the back surface of the wiring board 60, and is provided at four corners of the wiring board 60. In this case, the height defining member 10 is partially provided over the support plate 4.

【0105】配線基板60の主面側の高さ規定体11
は、配線基板60の主面の高さを規定するためのもので
あり、前記配線基板60の周辺部分に設けるのが望まし
い。また、各ワイヤ7の付け根部分を支持・保護するこ
とが、前記実施形態1と同様にワイヤの倒れ防止となる
ことから望ましい。そこで、本実施形態3では、ワイヤ
7が接続される部分の配線基板60,半導体チップ6,
リード3の各主面部分に高さ規定体11が設けられる。
高さ規定体11が配線基板60の主面側で散在している
ことから、後述するトランスファモールド時、配線基板
60の主面の変動が抑えられる。
The height defining member 11 on the main surface side of the wiring board 60
Is for defining the height of the main surface of the wiring board 60, and is preferably provided in the peripheral portion of the wiring board 60. Further, it is desirable to support and protect the root portion of each wire 7 because it prevents the wire from falling over, as in the first embodiment. Therefore, in the third embodiment, the wiring board 60, the semiconductor chip 6, and the portion of the portion to which the wires 7 are connected are arranged.
A height defining body 11 is provided on each main surface portion of the lead 3.
Since the height defining bodies 11 are scattered on the main surface side of the wiring board 60, fluctuations in the main surface of the wiring board 60 can be suppressed during transfer molding described later.

【0106】つぎに、組立が終了したリードフレーム1
5をトランスファモールド装置のモールド型に型締め
し、モールドを行い、パッケージ2を形成する。この
際、高さ規定体10,11の位置決め面12,13は、
モールド型のキャビティのキャビティ底面またはキャビ
ティ天井面に接触するため、配線基板60等は流入する
樹脂によって上下に変動することがない。この結果、被
封止物部分である支持板4,配線基板60,半導体チッ
プ6,受動部品61,ワイヤ7等の一部がパッケージ2
の表面に露出したり、パッケージ2の表面に近接するよ
うなことがなくなり、モールド歩留りの向上が図れると
ともに、半導体装置1の耐湿性の向上が図れる。
Next, the assembled lead frame 1
The mold 5 is clamped in the mold of the transfer mold device and molded to form the package 2. At this time, the positioning surfaces 12 and 13 of the height defining bodies 10 and 11 are
Since it contacts the cavity bottom surface or the cavity ceiling surface of the mold-type cavity, the wiring board 60 and the like do not fluctuate vertically due to the inflowing resin. As a result, a part of the support plate 4, the wiring board 60, the semiconductor chip 6, the passive component 61, the wire 7, etc., which is the portion to be sealed, is partially packaged.
Since it is not exposed to the surface of the semiconductor device 1 and is not close to the surface of the package 2, the mold yield can be improved and the moisture resistance of the semiconductor device 1 can be improved.

【0107】つぎに、不要なリードフレーム部分を切断
除去した後、成形を行ってパッケージ2から突出するリ
ード3をガルウィング型に形成する。これによって、図
7に示す混成集積回路構造の半導体装置1が製造され
る。
Next, after removing unnecessary lead frame portions by cutting, molding is performed to form the leads 3 protruding from the package 2 in a gull wing type. As a result, the semiconductor device 1 having the hybrid integrated circuit structure shown in FIG. 7 is manufactured.

【0108】本実施形態3の混成集積回路構造の半導体
装置1は、パッケージ2の表面に被封止物部分が露出し
たり、パッケージ2の表面近傍に被封止物部分が近接し
なくなり、信頼性が向上するとともに、耐湿性が向上す
る。
In the semiconductor device 1 having the hybrid integrated circuit structure of the third embodiment, the part to be sealed is not exposed on the surface of the package 2 or the part to be sealed is not close to the surface of the package 2 and is reliable. The moisture resistance is improved as well as the moisture resistance.

【0109】また、各ワイヤ7の付け根部分は高さ規定
体11で被われ、支持・保護されていることから、トラ
ンスファモールド時にワイヤが倒れたりする変形がな
く、ショート防止が図れ、信頼性の向上を図ることがで
きる。
Further, since the base of each wire 7 is covered and supported and protected by the height defining member 11, there is no deformation such that the wire falls over during transfer molding, short circuit can be prevented, and reliability is improved. It is possible to improve.

【0110】本実施形態3の混成集積回路構造の半導体
装置の製造方法によれば、トランスファモールド時、配
線基板60が上下動したり、ワイヤ7が変形することが
ないことから、外観不良やショート不良が防止でき、製
造歩留りの向上から製品コストの低減を図ることができ
る。
According to the method of manufacturing the semiconductor device having the hybrid integrated circuit structure of the third embodiment, the wiring board 60 does not move up and down and the wire 7 is not deformed during transfer molding. Defects can be prevented, and the production yield can be improved to reduce product cost.

【0111】なお、本実施形態3では、支持板4は矩形
枠状となることから配線基板60の裏面は部分的に露出
する。そこで、この露出部分に放熱板(ヒート・スプレ
ッダ)を設けてもよい。この放熱板は、たとえば、銅等
熱伝導性の良好な金属で形成される。この放熱板の裏面
は、パッケージ2の裏面に露出する。
In the third embodiment, since the support plate 4 has a rectangular frame shape, the back surface of the wiring board 60 is partially exposed. Therefore, a heat dissipation plate (heat spreader) may be provided on this exposed portion. The heat dissipation plate is formed of a metal having good thermal conductivity such as copper. The back surface of the heat sink is exposed on the back surface of the package 2.

【0112】この場合、前記配線基板60の裏面側の高
さ規定体10は、支持板4の裏面に設けられる。この実
施形態の場合には、トランスファモールド時、配線基板
60が上下に変動しないことから、放熱板の露出する裏
面にレジンが付着することがなく、放熱性の良好な半導
体装置を製造することができる。すなわち、この実施形
態の半導体装置は、実装された場合、マザーボードやシ
ャーシに前記放熱板が接触することから、半導体装置内
で発生した熱は直接前記マザーボードやシャーシに伝熱
されることになる。
In this case, the height defining member 10 on the back surface side of the wiring board 60 is provided on the back surface of the support plate 4. In the case of this embodiment, since the wiring substrate 60 does not move up and down during transfer molding, the resin does not adhere to the exposed back surface of the heat dissipation plate, and a semiconductor device having good heat dissipation can be manufactured. it can. That is, when the semiconductor device of this embodiment is mounted, the heat dissipation plate comes into contact with the motherboard or the chassis, so that the heat generated in the semiconductor device is directly transferred to the motherboard or the chassis.

【0113】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0114】本発明は少なくとも上下に変動する板状物
の両面をトランスファモールドによって封止する技術に
は適用できる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be applied to a technique of sealing at least both sides of a plate-like object which fluctuates up and down by transfer molding.

【0115】[0115]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0116】(1)トランスファモールド前にリードフ
レームの支持板の裏面と、前記支持板の主面に固定され
た半導体チップの主面(上面)に樹脂による高さ規定体
を取り付け、トランスファモールド時には、前記支持板
の裏面の高さ規定体の下面をキャビティ底面に接触させ
るとともに、前記半導体チップの主面の高さ規定体の上
面をキャビティ天井面に接触させた状態でモールドを行
うため、前記支持板および半導体チップはキャビティ内
に溶けたレジンが勢い良く流入しても、上下に変動する
ことがなく、パッケージの表面に被封止物部分である支
持板,半導体チップ,ワイヤが露出しなくなる。この結
果、封止歩留りが高くなるとともに、半導体装置の耐湿
性が高くなる。
(1) Before transfer molding, a height regulator made of resin is attached to the back surface of the support plate of the lead frame and the main surface (upper surface) of the semiconductor chip fixed to the main surface of the support plate, and at the time of transfer molding. In order to perform molding in a state where the lower surface of the height defining body on the back surface of the support plate is in contact with the bottom surface of the cavity and the upper surface of the height defining body on the main surface of the semiconductor chip is in contact with the cavity ceiling surface, The supporting plate and the semiconductor chip do not move up and down even if the melted resin flows into the cavity vigorously, and the supporting plate, the semiconductor chip, and the wire, which are the sealed parts, are not exposed on the surface of the package. . As a result, the sealing yield is increased and the moisture resistance of the semiconductor device is increased.

【0117】(2)前記高さ規定体は、ワイヤの付け根
部分を被っていることから、キャビティ内に溶けたレジ
ンが勢い良く流入しても、前記ワイヤは前記高さ規定体
で支持されているため、変形しなくなり、ワイヤショー
ト等の発生を防止することができ、封止歩留りの向上が
図れるとともに、半導体装置の信頼性が高くなる。
(2) Since the height defining body covers the root portion of the wire, the wire is supported by the height defining body even if the melted resin flows into the cavity vigorously. Therefore, it is not deformed, and it is possible to prevent the occurrence of wire short circuit and the like, the sealing yield can be improved, and the reliability of the semiconductor device is enhanced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態(実施形態1)である半導
体装置の製造方法におけるトランスファモールド状態を
示す模式的断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a transfer mold state in a method for manufacturing a semiconductor device according to an embodiment (Embodiment 1) of the present invention.

【図2】本実施形態1の半導体装置を示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the semiconductor device of the first embodiment.

【図3】本実施形態1の半導体装置の製造方法におい
て、半導体チップが固定され、ワイヤボンディングが行
われたリードフレームを示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a lead frame to which a semiconductor chip is fixed and wire bonding is performed in the method for manufacturing a semiconductor device according to the first embodiment.

【図4】本実施形態1の半導体装置の製造方法におい
て、半導体チップが固定されワイヤボンディングが行わ
れたリードフレームの一部の断面図である。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a lead frame to which a semiconductor chip is fixed and wire bonding is performed in the method for manufacturing a semiconductor device according to the first embodiment.

【図5】本実施形態1の半導体装置の製造方法におい
て、支持板の表裏面側に設けた高さ調整体部分を示す拡
大断面図である。
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing the height adjuster portion provided on the front and back sides of the support plate in the method for manufacturing a semiconductor device according to the first embodiment.

【図6】本発明の他の実施形態(実施形態2)であるL
OC構造の半導体装置を示す断面図である。
FIG. 6 is an L according to another embodiment (Embodiment 2) of the present invention.
It is sectional drawing which shows the semiconductor device of OC structure.

【図7】本発明の他の実施形態(実施形態3)である混
成集積回路構造の半導体装置を示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing a semiconductor device having a hybrid integrated circuit structure according to another embodiment (Embodiment 3) of the present invention.

【図8】本実施形態3の半導体装置の製造において使用
されるリードフレームを示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing a lead frame used in manufacturing the semiconductor device of the third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半導体装置、2…封止体(パッケージ)、3…リー
ド、4…支持板、5…接合材、6…半導体チップ、7…
ワイヤ、10,11…高さ規定体、12,13…位置決
め面、15…リードフレーム、16…外枠、17…内
枠、20…支持片、21…支持リード、25,26…ガ
イド孔、30…キャビティ底面、31…キャビティ天井
面、32…下型、40…モールド型、41…下型、42
…上型、50…絶縁性フィルム、60…配線基板、61
…受動部品。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor device, 2 ... Sealing body (package), 3 ... Lead, 4 ... Support plate, 5 ... Bonding material, 6 ... Semiconductor chip, 7 ...
Wires, 10, 11 ... Height regulating body, 12, 13 ... Positioning surface, 15 ... Lead frame, 16 ... Outer frame, 17 ... Inner frame, 20 ... Support piece, 21 ... Support lead, 25, 26 ... Guide hole, 30 ... Cavity bottom surface, 31 ... Cavity ceiling surface, 32 ... Lower mold, 40 ... Mold mold, 41 ... Lower mold, 42
... Upper mold, 50 ... Insulating film, 60 ... Wiring board, 61
… Passive components.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 トランスファモールドによって形成され
る樹脂からなる封止体と、前記封止体内に位置しかつ支
持リードに支持される支持板と、前記支持板の周囲に一
端を臨ませ他端を前記封止体の外に延在させる複数のリ
ードと、前記支持板の主面に固定される一つ以上の半導
体チップと、前記半導体チップの電極と前記リードを電
気的に接続するワイヤとを有する半導体装置であって、
前記支持板の主面と裏面または前記支持板の裏面と前記
半導体チップの主面には一部が前記封止体の表面と略同
一面となる面を有する高さ規定体がそれぞれ一つ以上設
けられていることを特徴とする半導体装置。
1. A sealing body made of resin formed by transfer molding, a support plate positioned in the sealing body and supported by a support lead, and one end of which faces the periphery of the support plate and the other end of which is opposite. A plurality of leads extending outside the sealing body, one or more semiconductor chips fixed to the main surface of the support plate, and a wire electrically connecting the electrodes of the semiconductor chip and the leads. A semiconductor device having
One or more height defining members each having a main surface and a back surface of the supporting plate or a back surface of the supporting plate and a main surface of the semiconductor chip, a part of which is substantially flush with the front surface of the sealing body. A semiconductor device which is provided.
【請求項2】 トランスファモールドによって形成され
る樹脂からなる封止体と、前記封止体の内外に亘って延
在する複数のリードと、前記封止体内に位置しかつ前記
リードに絶縁体を介して固定される一つ以上の半導体チ
ップと、前記半導体チップの電極と前記リードを電気的
に接続するワイヤとを有する半導体装置であって、前記
半導体チップの主面と裏面または前記半導体チップの主
面と前記リードの裏面には一部が前記封止体の表面と略
同一面となる面を有する高さ規定体がそれぞれ一つ以上
設けられていることを特徴とする半導体装置。
2. A sealing body made of resin formed by transfer molding, a plurality of leads extending inside and outside the sealing body, and an insulator located inside the sealing body and provided on the leads. A semiconductor device having one or more semiconductor chips fixed via the semiconductor chip and wires for electrically connecting the electrodes of the semiconductor chip and the leads, the main surface and the back surface of the semiconductor chip or the semiconductor chip A semiconductor device, wherein one or more height defining members each having a surface that is substantially flush with the front surface of the sealing body are provided on the main surface and the back surface of the lead.
【請求項3】 トランスファモールドによって形成され
る樹脂からなる封止体と、前記封止体内に位置しかつ支
持リードに支持される配線基板と、前記配線基板の周囲
に一端を臨ませ他端を前記封止体の外に延在させる複数
のリードと、前記配線基板の主面に固定される一つ以上
の半導体チップおよび受動部品と、所望の電極や配線間
を電気的に接続するワイヤとを有する混成集積回路装置
構造の半導体装置であって、前記配線基板の主面と裏面
もしくは前記半導体チップの主面と前記配線基板の裏面
または/および前記支持板の裏面には一部が前記封止体
の表面と略同一面となる面を有する高さ規定体がそれぞ
れ一つ以上設けられていることを特徴とする半導体装
置。
3. A sealing body made of resin formed by transfer molding, a wiring board positioned in the sealing body and supported by support leads, and one end of the wiring board facing the periphery and the other end of the wiring board. A plurality of leads extending outside the sealing body, one or more semiconductor chips and passive components fixed to the main surface of the wiring board, and wires for electrically connecting desired electrodes and wirings A semiconductor device having a hybrid integrated circuit device structure having a main surface and a back surface of the wiring board, a main surface of the semiconductor chip and a back surface of the wiring board, and / or a back surface of the support plate. 1. A semiconductor device, characterized in that one or more height defining bodies each having a surface that is substantially flush with the surface of the stopper are provided.
【請求項4】 前記高さ規定体は絶縁体であることを特
徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の半
導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the height defining body is an insulator.
【請求項5】 前記高さ規定体はワイヤの付け根部分を
被っていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のい
ずれか1項記載の半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the height defining member covers a root portion of a wire.
【請求項6】 トランスファモールド装置のモールド型
に組み立てが終了したリードフレームを型締めし、その
後前記モールド型のキャビティ内に樹脂を注入してリー
ドフレームの主面と裏面を被う封止体を形成することを
特徴とする半導体装置の製造方法であって、前記キャビ
ティ内に位置する被封止物部分が上下に移動しないよう
に、モールド型の型締め時、前記キャビティの底面およ
び天井面にそれぞれ接触する位置決め面を有する高さ規
定体を前記被封止物部分の主面と裏面にそれぞれ選択的
に設けておき、その後トランスファモールドを行うこと
を特徴とする半導体装置の製造方法。
6. A mold for a transfer mold apparatus is clamped on a completely assembled lead frame, and then a resin is injected into a cavity of the mold to form a sealing body covering a main surface and a back surface of the lead frame. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a bottom surface and a ceiling surface of the cavity during mold clamping so that a portion of an object to be sealed located in the cavity does not move up and down. A method for manufacturing a semiconductor device, wherein height defining bodies having positioning surfaces that come into contact with each other are selectively provided on the main surface and the back surface of the portion to be sealed, and then transfer molding is performed.
【請求項7】 半導体チップ固定用の支持板を有するリ
ードフレームを用意する工程と、前記支持板の主面に半
導体チップを固定する工程と、前記半導体チップの電極
とリードフレームのリード先端を導電性のワイヤで接続
する工程と、トランスファモールド装置のモールド型に
前記リードフレームを型締めした後、前記モールド型の
キャビティ内に溶けた樹脂を注入して前記支持板,前記
半導体チップ,ワイヤ等を封止体で被うモールド工程と
を有する半導体装置の製造方法であって、前記モールド
工程前に前記支持板の主面と裏面または前記支持板の裏
面と前記半導体チップの主面に前記高さ規定体を形成
し、その後トランスファモールドを行うことを特徴とす
る請求項6記載の半導体装置の製造方法。
7. A step of preparing a lead frame having a support plate for fixing a semiconductor chip, a step of fixing a semiconductor chip to a main surface of the support plate, and a step of electrically conducting an electrode of the semiconductor chip and a lead tip of the lead frame. And connecting the supporting plate, the semiconductor chip, the wire, etc. by injecting the melted resin into the cavity of the mold after clamping the lead frame in the mold of the transfer mold device. A method of manufacturing a semiconductor device having a molding step of covering with a sealing body, wherein the height is provided on a main surface and a back surface of the support plate or a back surface of the support plate and a main surface of the semiconductor chip before the molding step. 7. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 6, wherein a defining body is formed and then transfer molding is performed.
【請求項8】 半導体チップを絶縁体を介してリードの
主面または裏面に固定する構造のリードフレームを用意
する工程と、前記リードフレームのリードの主面または
裏面に絶縁体を介して半導体チップを固定する工程と、
前記半導体チップの電極とリードフレームのリードを導
電性のワイヤで接続する工程と、トランスファモールド
装置のモールド型に前記リードフレームを型締めした
後、前記モールド型のキャビティ内に溶けた樹脂を注入
して前記半導体チップ,ワイヤ等を封止体で被うモール
ド工程とを有する半導体装置の製造方法であって、前記
モールド工程前に前記半導体チップの主面と裏面または
前記半導体チップの主面と前記リードの裏面に前記高さ
規定体を取り付け、その後トランスファモールドを行う
ことを特徴とする請求項6記載の半導体装置の製造方
法。
8. A step of preparing a lead frame having a structure for fixing a semiconductor chip to a main surface or a back surface of a lead via an insulator, and a semiconductor chip on the main surface or a back surface of the lead of the lead frame via an insulator. Fixing the
The step of connecting the electrodes of the semiconductor chip and the leads of the lead frame with a conductive wire, and after clamping the lead frame to the mold of the transfer molding apparatus, injecting the melted resin into the cavity of the mold. A method of manufacturing a semiconductor device, the method including a molding step of covering the semiconductor chip, wires, and the like with a sealing body, the main surface and the back surface of the semiconductor chip or the main surface of the semiconductor chip before the molding step. 7. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 6, wherein the height defining body is attached to the back surface of the lead, and then transfer molding is performed.
【請求項9】 配線基板を固定したリードフレームを用
意する工程と、前記配線基板の主面に半導体チップや受
動部品を固定する工程と、所定の電極や配線間を導電性
のワイヤで接続する工程と、トランスファモールド装置
のモールド型に前記リードフレームを型締めした後、前
記モールド型のキャビティ内に溶けた樹脂を注入して前
記配線基板,半導体チップ,受動部品,ワイヤ等を封止
体で被うモールド工程とを有する混成集積回路型の半導
体装置の製造方法であって、前記モールド工程前に前記
配線基板の主面と裏面もしくは前記半導体チップの主面
と前記配線基板の裏面または/および前記支持板の裏面
に前記高さ規定体を取り付け、その後トランスファモー
ルドを行うことを特徴とする請求項6記載の半導体装置
の製造方法。
9. A step of preparing a lead frame to which a wiring board is fixed, a step of fixing a semiconductor chip or a passive component to the main surface of the wiring board, and connecting a predetermined electrode or wiring with a conductive wire. Steps, after the lead frame is clamped in the mold of the transfer mold device, molten resin is injected into the cavity of the mold to seal the wiring board, semiconductor chip, passive components, wires, etc. A method of manufacturing a hybrid integrated circuit type semiconductor device having a covering step, which comprises a main surface and a back surface of the wiring board or a main surface of the semiconductor chip and a back surface of the wiring board before the molding step and / or 7. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 6, wherein the height defining body is attached to the back surface of the support plate, and then transfer molding is performed.
【請求項10】 前記高さ規定体は前記封止体を構成す
る樹脂と同一系統の絶縁性樹脂の塗布および硬化処理に
よって形成することを特徴とする請求項6乃至請求項9
のいずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
10. The height regulating body is formed by applying and curing an insulating resin of the same system as that of the resin forming the sealing body.
13. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1.
【請求項11】 前記高さ規定体でワイヤの付け根部分
を被うことを特徴とする請求項10記載の半導体装置の
製造方法。
11. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 10, wherein the base of the wire is covered with the height defining member.
【請求項12】 前記リードフレームの主面と裏面にそ
れぞれ設けられる高さ規定体を、半硬化時、下型と上型
とで挟んで成形し、所定の厚さにすることを特徴とする
請求項10または請求項11記載の半導体装置の製造方
法。
12. The height defining body provided on each of the main surface and the back surface of the lead frame is sandwiched between a lower mold and an upper mold at the time of semi-curing to be molded to have a predetermined thickness. A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 10 or 11.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014090137A (en) * 2012-10-31 2014-05-15 Sanken Electric Co Ltd Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device
JP2014212208A (en) * 2013-04-18 2014-11-13 三菱電機株式会社 Semiconductor device and manufacturing method of the same

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