JP2555428B2 - Lead frame and method of manufacturing semiconductor device using the same - Google Patents
Lead frame and method of manufacturing semiconductor device using the sameInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、リードフレーム及びそれを用いた半導体装
置の製造技術に関し、特に、超薄形パッケージ構造を備
えた半導体装置に適用して有効な技術に関するものであ
る。The present invention relates to a lead frame and a semiconductor device manufacturing technique using the same, and is particularly effective when applied to a semiconductor device having an ultrathin package structure. It is about technology.
リードフレームについては、例えば、特開昭52−9517
3号公報、及び特開昭55−21128号公報に記載がある。Regarding the lead frame, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 52-9517
No. 3 and JP-A No. 55-21128.
特開昭52−95173号公報には、半導体ペレット(以
下、ペレットという)とリードフレームとの熱膨張係数
の差に起因してダイパッドに熱応力が加わり、ペレット
にクラックが生じたり、あるいはペレットがダイパッド
から剥離したりするという問題を解決するため、ダイパ
ッドに四角形状の孔や複数の丸孔を形成することによっ
て、熱応力を吸収する技術が記載されている。In JP-A-52-95173, thermal stress is applied to a die pad due to a difference in thermal expansion coefficient between a semiconductor pellet (hereinafter referred to as a pellet) and a lead frame, and the pellet is cracked, or the pellet is broken. In order to solve the problem of peeling from the die pad, a technique of absorbing thermal stress by forming a square hole or a plurality of round holes in the die pad is described.
また、特開昭55−21128号公報には、ダイパッドを支
持する吊りリードの強度を向上させるため、吊りリード
をダイパッドの四隅に配設し、これによってダイパッド
を支持するという技術が記載されている。Further, JP-A-55-21128 discloses a technique in which, in order to improve the strength of the suspension leads that support the die pad, the suspension leads are arranged at the four corners of the die pad to support the die pad. .
ところで、近年、ICカードや超薄形電子機器の普及に
伴い、これらに実装される超薄形のパッケージ構造を備
えた半導体装置の開発が進行している。By the way, in recent years, along with the widespread use of IC cards and ultra-thin electronic devices, development of semiconductor devices having an ultra-thin package structure to be mounted on these is proceeding.
上記超薄形のパッケージ構造については、例えば、三
菱電機株式会社、1987年12月発行、「トリプル・エー
(TRIPLE A)No.18」に記載がある。The ultra-thin package structure is described, for example, in "TRIPLE A No. 18" issued by Mitsubishi Electric Corporation, December 1987.
上記文献に記載された超薄形のパッケージ構造は、VS
OP(Very Small Outline Package)形のパッケージ構造
であり、パッケージの厚さは1mmと、従来のSOPの1/2以
下の厚さになっている。The ultra-thin package structure described in the above document is VS
It has an OP (Very Small Outline Package) type package structure, and the package thickness is 1 mm, which is less than half of the conventional SOP.
また、上記パッケージには、厚さ400μmのペレット
が封止され、このペレットとインナリードとは、ワイヤ
を介して結線されている。さらに、このワイヤの上端が
パッケージ上面から露出するのを防止するため、ペレッ
トを搭載するダイパッドは、リードの下方に配置されて
いる。Further, a pellet having a thickness of 400 μm is sealed in the package, and the pellet and the inner lead are connected via a wire. Further, in order to prevent the upper end of this wire from being exposed from the upper surface of the package, the die pad on which the pellet is mounted is arranged below the lead.
ところが、本発明者の検討によれば、上記文献に記載
されたパッケージ構造には、以下の問題のあることが見
い出された。However, according to the study by the present inventor, it has been found that the package structure described in the above document has the following problems.
すなわち、上記文献(「TRIPLE A No.18」)に記載
された厚さ1mmまたはそれ以下の超薄形のパッケージを
トランスファモールド方式で形成する場合においては、
その金型のキャビティが極めて狭いため、キャビティ内
に注入された樹脂の流動性が低下し、ダイパッドと樹脂
との界面などにボイドが発生し易くなる。That is, when the ultra-thin package with a thickness of 1 mm or less described in the above-mentioned document (“TRIPLE A No. 18”) is formed by the transfer mold method,
Since the cavity of the mold is extremely narrow, the fluidity of the resin injected into the cavity is lowered, and voids are easily generated at the interface between the die pad and the resin.
これを防止するためには、低粘度の樹脂を用いてその
流動性を向上させるとともに、キャビティ内を流れる樹
脂の流動速度をペレット上とダイパッド下とで等しくす
る必要がある。In order to prevent this, it is necessary to use a low-viscosity resin to improve its fluidity and to make the flow rate of the resin flowing in the cavity equal on the pellets and below the die pad.
ところが、前記特開昭55−21128号公報に記載された
リードフレームを用いて超薄形のパッケージを形成する
場合、ワイヤ上端がパッケージから露出するのを防止す
るためにダイパッドをインナリード面よりも下方に配置
しなければならないので、モールド時にリードフレーム
を金型に挿入すると、ダイパッドと下型との隙間が、ペ
レットと上型との隙間よりも狭くなってしまう。However, in the case of forming an ultrathin package using the lead frame described in JP-A-55-21128, the die pad is arranged to be exposed from the inner lead surface in order to prevent the wire upper end from being exposed from the package. Since the lead frame has to be arranged below, when the lead frame is inserted into the mold during molding, the gap between the die pad and the lower mold becomes narrower than the gap between the pellet and the upper mold.
このため、キャビティ内に注入された樹脂が、隙間の
狭いダイパッド下よりも、隙間の広いペレット上に多く
流入してしまう。すなわち、ペレット上を流れる樹脂の
方が、ダイパッド下を流れる樹脂よりも速く流れ、ペレ
ット上とダイパッド下とを流れる樹脂の圧力が不均一と
なる。すると、ペレット上を流れる樹脂が、ダイパッド
を下方に押し下げるため、ダイパッド下の樹脂の流れが
止められ、ダイパッド下にボイドが発生したり、ダイパ
ッドがパッケージの下面から露出したりするなどの不良
が発生し、パッケージの製造歩留りが低下する。For this reason, the resin injected into the cavity flows into the pellets with a large gap more than under the die pad with a narrow gap. That is, the resin flowing over the pellet flows faster than the resin flowing under the die pad, and the pressure of the resin flowing over the pellet and under the die pad becomes non-uniform. Then, the resin that flows over the pellets pushes the die pad downward, which stops the flow of resin under the die pad, causing voids under the die pad and exposing the die pad from the bottom surface of the package. However, the manufacturing yield of the package is reduced.
一方、前記特開昭52−95174号公報の技術は、ダイパ
ッドに孔が形成され、ペレット下面が露出しているの
で、ダイパッドの厚さが減った分、その部分における樹
脂の流れは良好になるが、この技術では、ペレット下を
流れる樹脂の流動性や充填性を考慮した技術ではないた
め、パッケージの厚さが薄くなるにつれ、モールド時に
ペレット上とダイパッド下を流れる樹脂の流速や圧力を
等しくするという効果を得ることが困難となる。On the other hand, in the technique of Japanese Patent Laid-Open No. 52-95174, since the holes are formed in the die pad and the lower surface of the pellet is exposed, the thickness of the die pad is reduced and the resin flow in that portion is improved. However, this technology does not consider the fluidity and filling of the resin flowing under the pellets, so as the package becomes thinner, the flow velocity and pressure of the resin flowing over the pellets and under the die pad during molding will be the same. It becomes difficult to obtain the effect of doing.
そして、このような問題は、ペレットサイズの大きな
場合は、さらに顕著となる。Then, such a problem becomes more remarkable when the pellet size is large.
本発明は、上記した問題点に着目してなされたもので
あり、その目的は、超薄形のパッケージ構造を備えた半
導体装置の製造の歩留りを向上させることのできる技術
を提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a technique capable of improving the manufacturing yield of a semiconductor device having an ultrathin package structure. .
本発明の他の目的は、超薄形のパッケージ構造を備え
た半導体装置の信頼性を向上させることのできる技術を
提供することにある。Another object of the present invention is to provide a technique capable of improving the reliability of a semiconductor device having an ultrathin package structure.
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろ
う。The above and other objects and novel features of the present invention are as follows.
It will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち、代表的なものの
概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。The following is a brief description of the outline of the typical invention disclosed in the present application.
すなわち、請求項1記載の発明は、少なくともダイパ
ッドが、ペレットのモールド時にゲートからキャビティ
に注入される樹脂の流動する方向に沿って分割されてい
るリードフレーム構造とするものである。That is, the invention according to claim 1 has a lead frame structure in which at least the die pad is divided along the direction in which the resin injected from the gate into the cavity at the time of molding the pellet flows.
請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明のリード
フレームを用いて半導体装置を製造する方法である。A second aspect of the present invention is a method of manufacturing a semiconductor device using the lead frame of the first aspect.
請求項1記載の発明によれば、このリードフレームを
用いてペレットをモールドする際、ペレットの下方を流
れる樹脂の流路が、ゲートからキャビティに注入される
樹脂の流動方向に沿ってダイパッドを分割したことによ
り確保されるため、ペレットの下方を流れる樹脂の流動
性が向上し、かつ、開孔部から露出したペレットの下面
と下型との隙間と、ペレットの上面と上型との隙間とを
ほぼ等しくすることができる。According to the first aspect of the present invention, when the lead frame is molded using the lead frame, the flow path of the resin flowing below the pellet divides the die pad along the flow direction of the resin injected from the gate into the cavity. Since it is ensured by the above, the fluidity of the resin flowing below the pellet is improved, and the gap between the lower surface of the pellet and the lower die exposed from the opening, and the gap between the upper surface of the pellet and the upper die. Can be approximately equal.
これらにより、ペレットのモールド時に、ペレットの
上方と下方とを流れる樹脂の流速、及び圧力が、ほぼ等
しくなるため、ボイドの発生やダイパッドの変形を有効
に防止することができる。As a result, when the pellets are molded, the flow velocity and pressure of the resin flowing above and below the pellets become substantially equal, so that the occurrence of voids and the deformation of the die pad can be effectively prevented.
請求項2記載の発明によれば、これらリードフレーム
を用いてペレットをモールドする際、ペレットの下方を
流れる樹脂の流路が開孔部によって確保されるため、ペ
レットの下方を流れる樹脂の流動性を向上させることが
でき、かつ、開孔部から露出したペレットの下面と下型
との隙間と、ペレットの上面と上型との隙間とをほぼ等
しくすることができため、ペレットの上方と下方を流れ
る樹脂の流速、及び圧力がほぼ等しくすることができ、
これらの結果、ボイドの発生やダイパッドの変形が有効
に防止され、半導体装置の製造歩留りを向上させること
ができる。According to the second aspect of the present invention, when the pellet is molded using these lead frames, the flow path of the resin flowing below the pellet is ensured by the opening portion, so that the fluidity of the resin flowing below the pellet is secured. Since the gap between the lower surface of the pellet exposed from the opening and the lower die and the clearance between the upper surface of the pellet and the upper die can be made substantially equal, the upper and lower portions of the pellet can be improved. It is possible to make the flow velocity of the resin flowing through and the pressure almost equal,
As a result, generation of voids and deformation of the die pad are effectively prevented, and the manufacturing yield of semiconductor devices can be improved.
〔実施例1〕 第1図(a)は、本発明の一実施例である半導体装置
の製造方法に用いるリードフレームの要部平面図、第1
図(b)は、このリードフレームの開孔部を示す第1図
(a)のI B−I B線の断面図、第2図(a)は、このリ
ードフレームにペレットを搭載した場合を示す第1図
(a)のII A−II A線の断面図、第2図(b)は、この
リードフレームにペレットを搭載した場合を示す第1図
(a)のI B−I B線の断面図、第3図(a)〜(d)
は、半導体装置の製造方法に用いる金型の要部断面図、
第4図は、このリードフレームを用いて製造された半導
体装置を示す第1図(a)のI B−I B線の断面図であ
る。[Embodiment 1] FIG. 1 (a) is a plan view showing a main part of a lead frame used in a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line IB-IB in FIG. 1A showing the opening portion of the lead frame, and FIG. 2A shows a case where pellets are mounted on the lead frame. 2A is a sectional view taken along line II A-II A of FIG. 1A, and FIG. 2B is a sectional view taken along line IB-IB of FIG. 1A showing a case where pellets are mounted on the lead frame. Figure 3 (a) ~ (d)
Is a cross-sectional view of a main part of a mold used in a method for manufacturing a semiconductor device,
FIG. 4 is a sectional view taken along the line IB-IB in FIG. 1A showing a semiconductor device manufactured using this lead frame.
第1図(a),(b)に示す本実施例1の半導体装置
の製造に用いるリードフレーム1aは、例えば、QFP(Qua
d Flat Package)形の半導体装置に適用される。The lead frame 1a used for manufacturing the semiconductor device of the first embodiment shown in FIGS. 1A and 1B is, for example, a QFP (Qua
d Flat Package) type semiconductor device.
このリードフレーム1aは、ペレット2を搭載する、例
えば矩形のダイパッド3と、このダイパッド3の四隅に
配設され、ダイパッド3を支持する吊りリード4と、ダ
イパッド3の周囲に放射状に配設された複数のリード5
と、各リード5間を連結すると共にダイパッド3を取り
囲むように配設されたダム片6と、これらを取り囲む外
枠部7a、及び内枠部7bからなる枠部7とによって構成さ
れている。The lead frame 1a has, for example, a rectangular die pad 3 on which the pellets 2 are mounted, suspension leads 4 that are disposed at the four corners of the die pad 3, support the die pad 3, and are radially disposed around the die pad 3. Multiple leads 5
And a dam piece 6 arranged so as to connect the respective leads 5 and surround the die pad 3, and a frame portion 7 composed of an outer frame portion 7a and an inner frame portion 7b surrounding these.
吊りリード4は、ダイパッド3が第1図(b)に示す
ように、リード5の下方に配置されるように、折り曲げ
られている。これは、後述するワイヤ8の上端がパッケ
ージ上面から露出するのを防止するためである。The suspension lead 4 is bent so that the die pad 3 is arranged below the lead 5, as shown in FIG. This is to prevent the upper end of the wire 8 described below from being exposed from the upper surface of the package.
リード5は、ダム片6の外側が外部リード、また、内
側が内部リードと呼ばれ、製品となった時点では、内部
リードがモールド部9に封止され、外部リードがモール
ド部9の側面から外方に突出している外部端子を構成す
るようになっている。The outer side of the dam piece 6 is called the outer lead, and the inner side is called the inner lead. The lead 5 is sealed in the mold portion 9 at the time of being a product, and the outer lead is from the side surface of the mold portion 9. The external terminals projecting outward are configured.
外枠部7aには、リードフレーム1aの搬送時や位置決め
時のガイドとなるガイド孔10がプレス等によって打ち抜
き形成されている。In the outer frame portion 7a, a guide hole 10 serving as a guide when the lead frame 1a is transported or positioned is punched out by a press or the like.
リードフレーム1aは、上記した各部によって構成され
る単位フレームを外枠部7aの延びる方向に複数配設し
た、例えば7連のものをプレスなどによって一体的に形
成したものであり、その材質は、例えば42アロイからな
り、その厚さは、例えば150μmである。The lead frame 1a is formed by integrally forming a plurality of unit frames composed of the above-mentioned respective parts in the extending direction of the outer frame part 7a, for example, seven continuous ones by a press or the like. For example, it is made of 42 alloy, and its thickness is, for example, 150 μm.
上記リードフレーム1aのダイパッド3には、開孔部11
aが開孔形成されており、ダイパッド3は、開孔部によ
り2分割されている。この開孔部11aは、後述するモー
ルド部9の形成工程の際に、ゲート(第3図(b)に示
す)GからキャビティK(第3図(a)に示す)に注入
される樹脂が流動する方向に沿って延びている。そし
て、開孔部11aは、第1図(b)に示すように、ペレッ
ト2の下方を流れる樹脂の流路を確保するようになる。The opening portion 11 is formed in the die pad 3 of the lead frame 1a.
The hole a is formed, and the die pad 3 is divided into two by the hole. This opening 11a is filled with resin injected from the gate (shown in FIG. 3 (b)) G into the cavity K (shown in FIG. 3 (a)) during the step of forming the mold portion 9 described later. It extends along the direction of flow. Then, the opening portion 11a secures a flow path of the resin flowing below the pellet 2 as shown in FIG. 1 (b).
また、開孔部11aは、ダイパッド3を2分割するの
で、例えば、モールド部9を構成する樹脂中の水分が半
田リフロー時に気化膨張した際、この気化膨張によって
ダイパッド3に発生する応力を、ペレット2の1/2サイ
ズのペレットをモールドした場合と同じ程度に小さくす
ることができる。Further, since the opening portion 11a divides the die pad 3 into two parts, for example, when moisture in the resin forming the mold portion 9 vaporizes and expands during solder reflow, the stress generated in the die pad 3 due to this vaporization expansion It can be made as small as the case of molding a 1/2 size pellet of 2.
次に、本実施例1の半導体装置の製造方法を第2図
(a),(b)、及び第3図(a)〜(d)を用いて説
明する。Next, a method of manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 2 (a) and 2 (b) and FIGS. 3 (a) to 3 (d).
まず、例えば銀ペーストからなる接着剤12を用いて開
孔部11aが形成されたダイパッド3上にペレット2を接
合し、例えば180℃で接着剤12をキュアする(第2図
(a))。その際、例えば、クリーン・ルームに設置さ
れた開放炉内で徐々に加熱を行うキュア法を用いると、
接着剤12の膜厚を、例えば10〜30μm程度まで薄くする
ことができる。なお、上記ペレット2の厚さは、例え
ば、400μmであり、その上面が集積回路形成面となっ
ている。また、接着剤12は、その膜厚を薄くする必要
上、発泡性の少ない材質のものが選択される。First, the pellet 2 is bonded onto the die pad 3 in which the openings 11a are formed by using the adhesive 12 made of, for example, silver paste, and the adhesive 12 is cured at 180 ° C., for example (FIG. 2 (a)). At that time, for example, if a curing method of gradually heating in an open furnace installed in a clean room is used,
The film thickness of the adhesive 12 can be reduced to, for example, about 10 to 30 μm. The thickness of the pellet 2 is, for example, 400 μm, and the upper surface thereof is an integrated circuit forming surface. Further, the adhesive 12 is selected from a material having a low foaming property because it is necessary to reduce the film thickness.
次いで、図示しないワイヤボンディング装置を用い
て、ペレット2とリード5との間に、例えば直径25μm
の金線からなるワイヤ8をボンディングする(第2図
(b))。その際、後述するモールド工程において、ワ
イヤの上端がパッケージ1から露出するのを防ぐため、
ペレット3の上面からワイヤ8の上端までの高さ(h)
を所定の高さにする必要がある。Then, using a wire bonding device (not shown), for example, a diameter of 25 μm is provided between the pellet 2 and the lead 5.
The wire 8 made of the gold wire is bonded (FIG. 2 (b)). At that time, in order to prevent the upper end of the wire from being exposed from the package 1 in the molding step described later,
Height from top of pellet 3 to top of wire 8 (h)
Must be at a predetermined height.
その後、ペレット2の上面に、図示はしないが極めて
薄いポリイミド樹脂を塗布する。これは、モールド部9
を構成する樹脂中の水分が集積回路に浸入するのを防止
し、また、樹脂中のフィラーによって集積回路の表面が
傷付けられるのを防止する等のためである。Then, although not shown, an extremely thin polyimide resin is applied to the upper surface of the pellet 2. This is the mold part 9
This is for the purpose of preventing water in the resin forming the resin from entering the integrated circuit, and preventing the filler in the resin from damaging the surface of the integrated circuit.
次に、上記ペレット2を搭載したリードフレーム1aに
モールド部9を形成する工程を第3図(a)〜(d)に
より説明する。Next, a process of forming the mold portion 9 on the lead frame 1a on which the pellet 2 is mounted will be described with reference to FIGS.
まず、ペレット2を搭載したリードフレーム1aをトラ
ンスファモールド用の金型13の所定位置に設置する。こ
の金型13のキャビティKの内部における上型13aと下型1
3bとの隙間は、例えば、1mmである。First, the lead frame 1a on which the pellets 2 are mounted is set at a predetermined position of the transfer molding die 13. The upper mold 13a and the lower mold 1 inside the cavity K of the mold 13.
The gap with 3b is, for example, 1 mm.
この際、ダイパッド3には、開孔部11aが穿孔されて
いるため、ペレット2上部と上型13aとの隙間Aと、開
孔部11aから露出したペレット2下部と下型13bとの隙間
Bとが、ほぼ等しくなる。At this time, since the die pad 3 is perforated with the opening 11a, the gap A between the upper portion of the pellet 2 and the upper die 13a and the gap B between the lower portion of the pellet 2 exposed from the opening 11a and the lower die 13b. And are almost equal.
次に、ポット14に予備加熱したタブレット状の樹脂15
を投入する。この樹脂15は、例えば、シリコーン変性エ
ポキシ樹脂にシリカ等のフィラーを充填してその熱膨張
係数をシリコンの熱膨張係数に近づけた樹脂であり、モ
ールド時の粘度が、例えば、1×102P(ポアズ)以下と
なるような低粘度樹脂である。Next, the pre-heated tablet resin 15 is placed in the pot 14.
Input. The resin 15 is, for example, a resin obtained by filling a filler such as silica in a silicone-modified epoxy resin so that its thermal expansion coefficient is close to that of silicon, and the viscosity at the time of molding is, for example, 1 × 10 2 P. (Poise) A low-viscosity resin having the following.
続いて、プランジャー16を下降させ、溶融した樹脂15
をランナー17、及びゲートGを経てキャビティKに注入
する(第3図(b))。Then, the plunger 16 is lowered and the molten resin 15
Is injected into the cavity K through the runner 17 and the gate G (FIG. 3 (b)).
この際、上記したようにペレット2上部と上型13aと
の隙間Aと、開孔部11aから露出したペレット2下部と
下型13bとの隙間Bとがほぼ等しいため、第3図(b)
に示すように、ペレット2の上方を流れる樹脂15の流速
と、開孔部11aから露出したペレット2の下方を流れる
樹脂15の流速とがほぼ等しくなる。At this time, as described above, since the gap A between the upper part of the pellet 2 and the upper mold 13a and the gap B between the lower part of the pellet 2 exposed from the opening 11a and the lower mold 13b are almost equal, FIG.
As shown in, the flow rate of the resin 15 flowing above the pellet 2 and the flow rate of the resin 15 flowing below the pellet 2 exposed from the opening 11a become substantially equal.
すなわち、ペレット2の上方と下方とを流れる樹脂15
の圧力がほぼ均一となるため、ダイパッド3が樹脂15に
よって押し下げられたり、押し上げられたりすることが
なく、樹脂の充填が充分に行われる。That is, the resin 15 flowing above and below the pellet 2
Since the pressure is substantially uniform, the die pad 3 is not pushed down or pushed up by the resin 15, and the resin is sufficiently filled.
このようにして樹脂15がキャビティK内に充分に注入
され、所定時間で加熱硬化される(第3図(c))。In this way, the resin 15 is sufficiently injected into the cavity K and is cured by heating for a predetermined time (FIG. 3 (c)).
そして、キャビティKに注入された樹脂15が硬化した
後、金型13を開き、リードフレーム1aを取り出して、縦
横各辺の長さが、例えば14mm、厚さが、例えば1mmのモ
ールド部9が完成する(第3図(d))。Then, after the resin 15 injected into the cavity K is hardened, the mold 13 is opened, the lead frame 1a is taken out, and the mold portion 9 having a length and width of each side of, for example, 14 mm and a thickness of, for example, 1 mm is formed. It is completed (Fig. 3 (d)).
その後、リードフレーム1aの所定個所を切断し、さら
に、リード5を、例えば、ガルウィング状に折り曲げる
ことにより、第4図に示すQFP形の半導体装置18が製造
される。After that, a predetermined portion of the lead frame 1a is cut, and the lead 5 is bent into, for example, a gull wing shape, whereby the QFP type semiconductor device 18 shown in FIG. 4 is manufactured.
このように本実施例1によれば、下記のような効果を
得ることができる。As described above, according to the first embodiment, the following effects can be obtained.
(1).リードフレーム1aのダイパッド3に、モールド
部9の形成の際に、ゲートGからキャビティKに注入さ
れる樹脂15が流動する方向に沿って延びる開孔部11aが
形成されているので、開孔部11aから露出したペレット
2の下方を流れる樹脂15の流動性が向上する。(1). Since the die pad 3 of the lead frame 1a is formed with the opening portion 11a extending along the direction in which the resin 15 injected from the gate G into the cavity K flows when forming the mold portion 9, the opening portion is formed. The fluidity of the resin 15 flowing under the pellet 2 exposed from 11a is improved.
(2).モールド部9の形成に際し、ペレット2の上部
と上型13aとの隙間Aと、開孔部11aから露出したペレッ
ト2の下部と下型13aとの隙間Bとがほぼ等しくなるの
で、ペレット2の上方と下方とを流れる樹脂15の流速も
ほぼ等しくなり、樹脂15の圧力もほぼ均一となる。(2). When forming the mold part 9, the gap A between the upper part of the pellet 2 and the upper mold 13a and the gap B between the lower part of the pellet 2 exposed from the opening part 11a and the lower mold 13a become substantially equal. The flow velocities of the resin 15 flowing in the upper part and the lower part are substantially equal, and the pressure of the resin 15 is also substantially uniform.
(3).上記(1),(2)により、モールド部9の形
成に際し、従来の技術と異なり、ペレット2の上方を流
れる樹脂15によって、ダイパッド3が押し下げられ、ボ
イドが発生したり、ダイパッド3がモールド部9の下面
から露出したりすることが有効に防止できる。(3). Due to the above (1) and (2), when forming the mold part 9, unlike the conventional technique, the resin 15 flowing above the pellet 2 pushes down the die pad 3, and voids are generated, or the die pad 3 is formed. It can be effectively prevented from being exposed from the lower surface of 9.
(4).上記(1),(2)により、樹脂の充填性が向
上する。(4). By the above (1) and (2), the filling property of the resin is improved.
(5).ダイパッド3が開孔部11aを介して2分割され
ているので、ダイパッド3にかかる熱応力が分散され、
この熱応力に起因するモールド部9のクラックを有効に
防止することができる。(5). Since the die pad 3 is divided into two via the opening 11a, the thermal stress applied to the die pad 3 is dispersed,
It is possible to effectively prevent cracks in the mold portion 9 due to this thermal stress.
(6).上記(1)〜(4)により、厚さが、例えば、
1mmのモールド部9を歩留り良く形成することができ、
半導体装置の製造歩留りが向上する。(6). According to the above (1) to (4), the thickness is, for example,
1mm mold part 9 can be formed with good yield,
The manufacturing yield of semiconductor devices is improved.
(7).上記(1)〜(5)により、信頼性の高し超薄
型のモールド部9を備えた半導体装置が得られる。(7). From the above (1) to (5), a highly reliable semiconductor device including the ultra-thin mold portion 9 can be obtained.
〔実施例2〕 第5図は、本発明の他の実施例である半導体装置の製
造方法に用いるリードフレームの要部平面図である。[Embodiment 2] FIG. 5 is a plan view of essential parts of a lead frame used in a method of manufacturing a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
本実施例2のリードフレーム1bにおいては、ダイパッ
ド3、及び吊りリード4が、モールド部9の形成に際
し、ゲートGから注入される樹脂16が流動する方向に沿
って延びる開孔部11bによって分割されている。すなわ
ち、ダイパッド3、及び吊りリード4は、開孔部11bに
よって、それぞれダイパッド3a,3b、及び吊りリード4a,
4bに2分割されている。In the lead frame 1b of the second embodiment, the die pad 3 and the suspension lead 4 are divided by the opening portion 11b extending along the direction in which the resin 16 injected from the gate G flows when forming the mold portion 9. ing. That is, the die pad 3 and the suspension lead 4 are formed by the opening 11b, respectively.
Divided into 4b.
本実施例2によれば、モールド部9の形成に際し、ゲ
ートGからキャビティKへ注入される樹脂15が、吊りリ
ード4a,4bの間とダイパッド3a,3bの間とを延びる開孔部
11bに導かれ、樹脂15の流路が吊りリード4に阻害され
ず充分に確保されるため、ペレット2の下方を流れる樹
脂15の流動性がさらに向上する。According to the second embodiment, the resin 15 injected from the gate G into the cavity K during the formation of the mold portion 9 extends between the suspension leads 4a and 4b and between the die pads 3a and 3b.
Since the flow path of the resin 15 is guided by 11b and sufficiently secured without being hindered by the suspension leads 4, the fluidity of the resin 15 flowing below the pellet 2 is further improved.
これ以外は、実施例1と同じ作用、効果を得ることが
できる。Other than this, the same operation and effect as those of the first embodiment can be obtained.
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づ
き具体的に説明したが、本発明は前記実施例1,2に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the first and second embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.
例えば、前記実施例1で説明したダイパッドに形成さ
れる開孔部および前記実施例2で説明したダイパッドを
分割するための開孔部の形状は、前記実施例1,2に限定
されるものではなく、モールド時に樹脂が流動する方向
に沿って開孔形成されていれば他の形状であっても良
い。For example, the shapes of the openings formed in the die pad described in the first embodiment and the openings for dividing the die pad described in the second embodiment are not limited to those in the first and second embodiments. Alternatively, other shapes may be used as long as holes are formed along the direction in which the resin flows during molding.
すなわち、例えば、第6図に示すリードフレーム1cの
ダイパッド3の開孔部11cのように、櫛歯状であっても
良い。That is, for example, it may be comb-teeth like the opening 11c of the die pad 3 of the lead frame 1c shown in FIG.
また、第7図に示すリードフレーム1dのダイパッド3
を分割するための開孔部11dのように、矩形状であって
もよい。Also, the die pad 3 of the lead frame 1d shown in FIG.
It may have a rectangular shape like the opening 11d for dividing the.
また、前記実施例のリードフレームの材質は、42アロ
イであったが、これに限定されるものではなく、例え
ば、スズ−ニッケルメッキの施された銅合金であっても
良い。Further, the material of the lead frame in the above-mentioned embodiment is 42 alloy, but the material is not limited to this, and may be, for example, a tin-nickel plated copper alloy.
以上の説明では主として本発明者によってなされた発
明をその背景となった利用分野であるQFP形の半導体装
置の製造方法に適用した場合について説明したが、これ
に限定されるものではなく、例えば、TQFP(Thin Quad
Flat Pachage)形、あるいはTSOP(Thin Small Outline
Package)形やSOJ(Small Outline J−lead Package)
形の半導体装置の製造方法に適用することもできる。In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the manufacturing method of the QFP type semiconductor device which is the field of application which is the background has been described, but the invention is not limited to this, for example, TQFP (Thin Quad
Flat Pachage) type or TSOP (Thin Small Outline)
Package) and SOJ (Small Outline J-lead Package)
The present invention can also be applied to a method for manufacturing a semiconductor device of the shape.
本願において開示される発明のうち、代表的なものに
よって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおり
である。The effects obtained by the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
(1).すなわち、請求項1記載のリードフレームにお
いては、ペレットを搭載する少なくともダイパッドが、
ペレットをモールドする際に金型のゲートからキャビテ
ィに注入される樹脂の流動方向に沿って分割されている
ことにより、上記ダイパッドに搭載されたペレットをモ
ールドする際、ペレットの下方を流れる樹脂の流路が確
保され、かつ、露出したペレット下部と下型との隙間
と、ペレット上部と上型との隙間とをほぼ等しくできる
ため、ペレットの上方と下方とを流れる樹脂の流速、及
び圧力が等しくなり、ダイパッドがペレットの上方を流
れる樹脂により押し下げられることが防止され、ボイド
の発生やダイパッドの変形が防止される。(1). That is, in the lead frame according to claim 1, at least the die pad on which the pellet is mounted is
When the pellet mounted on the die pad is molded, the flow of the resin flowing below the pellet is caused by the division along the flow direction of the resin injected into the cavity from the mold gate when molding the pellet. Since the passage is secured and the exposed gap between the lower pellet and the lower mold and the gap between the upper pellet and the upper mold can be made almost equal, the flow velocity and pressure of the resin flowing above and below the pellet are equal. Therefore, the die pad is prevented from being pushed down by the resin flowing above the pellets, and voids and deformation of the die pad are prevented.
(2).したがって、請求項1記載のリードフレームを
用いた請求項2記載の半導体装置の製造方法によれば、
超薄形のパッケージ構造の半導体装置の製造歩留りを向
上させることができる。(2). Therefore, according to the semiconductor device manufacturing method of the second aspect, which uses the lead frame of the first aspect,
The manufacturing yield of a semiconductor device having an ultrathin package structure can be improved.
第1図(a)は、本発明の一実施例である半導体装置の
製造方法に用いるリードフレームの要部平面図、 第1図(b)は、このリードフレームの開孔部を示す第
1図(a)のI B−I B線の断面図、 第2図(a)は、このリードフレームにペレットを搭載
した場合を示す第1図(a)のII A−II A線の断面図、 第2図(b)は、このリードフレームにペレットを搭載
した場合を示す第1図(a)のI B−I B線の断面図、 第3図(a)〜(d)は、半導体装置の製造方法に用い
る金型の要部を各成形工程順に示す断面図、 第4図は、このリードフレームを用いて製造された半導
体装置を示す第1図(a)のI B−I B線の断面図、 第5図〜第7図は、本発明の他の実施例である半導体装
置の製造方法に用いるリードフレームの要部平面図であ
る。 1a〜1d……リードフレーム、2……半導体ペレット、3
……ダイパッド、4……吊りリード、5……リード、6
……ダム片、7……枠部、7a……外枠部、7b……内枠
部、8……ワイヤ、9……モールド部、10……ガイド
孔、11a〜11d……開孔部、12……接着材、13……金型、
13a……上型、13b……下型、14……ポット、15……樹
脂、16……プランジャー、17……ランナー、18……半導
体装置、K……キャビティ、G……ゲート。FIG. 1 (a) is a plan view of a main part of a lead frame used in a method for manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1 (b) is a first part showing an opening of the lead frame. FIG. 2A is a cross-sectional view taken along line IB-IB in FIG. 2A, and FIG. 2A is a cross-sectional view taken along line II A-II A in FIG. 2 (b) is a sectional view taken along line IB-IB of FIG. 1 (a) showing a case where pellets are mounted on this lead frame, and FIGS. 3 (a) to 3 (d) are semiconductor device manufacturing methods. Sectional drawing which shows the principal part of the metal mold | die used for each manufacturing process order, FIG. 4 is a sectional view of the IB-IB line of FIG. 1 (a) which shows the semiconductor device manufactured using this lead frame. 5 to 7 are plan views of a main part of a lead frame used in a method of manufacturing a semiconductor device according to another embodiment of the present invention. 1a to 1d ...... lead frame, 2 ... semiconductor pellet, 3
…… Die pad, 4 …… Suspension lead, 5 …… Lead, 6
...... Dam piece, 7 ...... frame part, 7a …… outer frame part, 7b …… inner frame part, 8 …… wire, 9 …… mold part, 10 …… guide hole, 11a to 11d …… opening part , 12 …… adhesive, 13 …… mold,
13a …… upper mold, 13b …… lower mold, 14 …… pot, 15 …… resin, 16 …… plunger, 17 …… runner, 18 …… semiconductor device, K …… cavity, G …… gate.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小畑 和彦 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株式会社日立製作所武蔵工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kazuhiko Obata 5-20-1 Kamimizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Inside the Musashi Factory, Hitachi, Ltd.
Claims (2)
トを搭載するダイパッドと、前記ダイパッドを支持する
吊りリードとを備えたリードフレームであって、少なく
とも前記ダイパッドが、前記半導体ペレットのモールド
時にゲートからキャビティに注入される樹脂が流動する
方向に沿って分割されていることを特徴とするリードフ
レーム。1. A lead frame comprising a die pad for mounting a semiconductor pellet on which a predetermined integrated circuit is formed, and a suspension lead for supporting the die pad, wherein at least the die pad is a gate when the semiconductor pellet is molded. The lead frame is characterized in that the resin injected from the cavity into the cavity is divided along the flowing direction.
とを特徴とする半導体装置の製造方法。2. A method of manufacturing a semiconductor device, wherein the lead frame according to claim 1 is used.
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---|---|---|---|
JP26773188A JP2555428B2 (en) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | Lead frame and method of manufacturing semiconductor device using the same |
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JPH02114553A JPH02114553A (en) | 1990-04-26 |
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