JPH10124667A - パターン照合装置 - Google Patents

パターン照合装置

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JPH10124667A
JPH10124667A JP9210653A JP21065397A JPH10124667A JP H10124667 A JPH10124667 A JP H10124667A JP 9210653 A JP9210653 A JP 9210653A JP 21065397 A JP21065397 A JP 21065397A JP H10124667 A JPH10124667 A JP H10124667A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 回転ずれがあっても登録パターンと照合パタ
ーンとが同一であるか否かを識別することができるよう
にする。 【解決手段】 図は登録指紋と照合指紋とが一致すると
判断される場合の指紋照合状況である。同図(e)は照
合指紋の画像データ、同図(a)はm・a度回転された
登録指紋の画像データである。登録指紋の画像データを
m・a度回転させ、2次元離散的フーリエ変換を施し、
登録フーリエ画像データを得る(同図(b))。m=−
90〜m=+90での登録フーリエ画像データを登録フ
ーリエ回転画像データとしてファイル化する。照合時、
登録フーリエ回転画像データから1パターンずつ登録フ
ーリエ画像データを読み出し、照合フーリエ画像データ
(同図(f))と合成し、登録指紋と照合指紋との照合
を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、空間周波数特性
に基づいてN次元のパターン〔例えば、指紋(2次
元)、立体(3次元)〕の照合を行うパターン照合装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、コンピュータ室や重要機械室への
入退室管理、コンピュータ端末や銀行の金融端末へのア
クセス管理などの個人認識を必要とする分野において、
これまでの暗証番号やIDカードに代わって、指紋照合
装置が採用されつつある。
【0003】本出願人は、先に特願平7−108526
号として、パターン照合装置を提案した。このパターン
照合装置では、登録パターンの画像データに2次元離散
的フーリエ変換を施して登録フーリエ画像データを作成
し、照合パターンの画像データに2次元離散的フーリエ
変換を施して照合フーリエ画像データを作成し、登録フ
ーリエ画像データと照合フーリ画像データとを合成し、
これによって得られる合成フーリエ画像データに対して
2次元離散的フーリエ変換を施し、この2次元離散的フ
ーリエ変換の施された合成フーリエ画像データに出現す
る相関成分エリアよりそのスペクトラム強度の高い上位
n画素を抽出し、この抽出したn画素のスペクトラム強
度の平均を相関値としてしきい値と比較し、登録パター
ンと照合パターンとの照合を行うようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このパ
ターン照合装置では、登録パターンと照合パターンとの
間に6度以上の回転ずれがあると、登録パターンと照合
パターンとが同一であるか否かを識別することができな
い。
【0005】本発明はこのような課題を解決するために
なされたもので、その目的とするところは、登録パター
ンと照合パターンとの間に回転ずれがあっても、登録パ
ターンと照合パターンとが同一であるか否かを識別する
ことのできるパターン照合装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、第1発明(請求項1に係る発明)は、登録パ
ターンのN次元パターンデータおよびこのN次元パター
ンデータを各々相異なる所定角度回転させた複数のN次
元パターンデータにN次元離散的フーリエ変換を施して
登録フーリエN次元回転パターンデータを作成し、照合
パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリ
エ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータを作
成し、登録フーリエN次元回転パターンデータから1パ
ターンずつ登録フーリエN次元パターンデータを読み出
し、この読み出した登録フーリエN次元パターンデータ
と照合フーリエN次元パターンデータとを合成し、これ
によって得られる合成フーリエN次元パターンデータに
対して振幅抑制処理を行ったうえN次元離散的フーリエ
変換およびN次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を
施し、このフーリエ変換の施された合成フーリエN次元
パターンデータに出現する相関成分エリアのN次元パタ
ーンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強度
に基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を行う
ようにしたものである。
【0007】この発明では、登録パターンのN次元パタ
ーンデータおよびこのN次元パターンデータを各々相異
なる所定角度回転させた複数のN次元パターンデータに
N次元離散的フーリエ変換が施されて、登録フーリエN
次元回転パターンデータが作成される。そして、この登
録フーリエN次元回転パターンデータから1パターンず
つ登録フーリエN次元パターンデータが読み出され、照
合フーリエN次元パターンデータと合成され、この合成
フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑制処理を
行ったうえN次元離散的フーリエ変換あるいはN次元離
散的逆フーリエ変換が施され、このフーリエ変換の施さ
れた合成フーリエN次元パターンデータに出現する相関
成分エリアのN次元パターンデータを構成する個々のデ
ータ毎の相関成分の強度に基づいて、登録パターンと照
合パターンとの照合が行われる。
【0008】第2発明(請求項2に係る発明)は、登録
パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリ
エ変換を施して登録フーリエN次元パターンデータを作
成し、この登録フーリエN次元パターンデータおよびこ
の登録フーリエN次元パターンデータを各々相異なる所
定角度回転させた複数の登録フーリエN次元パターンデ
ータを登録フーリエN次元回転パターンデータとし、照
合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フー
リエ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータを
作成し、登録フーリエN次元回転パターンデータから1
パターンずつ登録フーリエN次元パターンデータを読み
出し、この読み出した登録フーリエN次元パターンデー
タと照合フーリエN次元パターンデータとを合成し、こ
れによって得られる合成フーリエN次元パターンデータ
に対して振幅抑制処理を行ったうえN次元離散的フーリ
エ変換およびN次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方
を施し、このフーリエ変換の施された合成フーリエN次
元パターンデータに出現する相関成分エリアのN次元パ
ターンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強
度に基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を行
うようにしたものである。
【0009】この発明では、登録パターンのN次元パタ
ーンデータにN次元離散的フーリエ変換が施されて登録
フーリエN次元パターンデータが作成され、この登録フ
ーリエN次元パターンデータおよびこの登録フーリエN
次元パターンデータを各々相異なる所定角度回転させた
複数の登録フーリエN次元パターンデータが登録フーリ
エN次元回転パターンデータとされる。そして、この登
録フーリエN次元回転パターンデータから1パターンず
つ登録フーリエN次元パターンデータが読み出され、照
合フーリエN次元パターンデータと合成され、この合成
フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑制処理を
行ったうえN次元離散的フーリエ変換あるいはN次元離
散的逆フーリエ変換が施され、このフーリエ変換の施さ
れた合成フーリエN次元パターンデータに出現する相関
成分エリアのN次元パターンデータを構成する個々のデ
ータ毎の相関成分の強度に基づいて、登録パターンと照
合パターンとの照合が行われる。
【0010】第3発明(請求項3に係る発明)は、登録
パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリ
エ変換を施して登録フーリエN次元パターンデータを作
成し、照合パターンのN次元パターンデータおよびこの
N次元パターンデータを各々相異なる所定角度回転させ
た複数のN次元パターンデータを照合パターンのN次元
回転パターンデータとし、この照合パターンN次元回転
パターンデータに1パターンずつN次元離散的フーリエ
変換を施して照合フーリエN次元パターンデータとし、
この照合フーリエN次元パターンデータと登録フーリエ
N次元パターンデータとを合成し、これによって得られ
る合成フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑制
処理を行ったうえN次元離散的フーリエ変換およびN次
元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施し、このフー
リエ変換の施された合成フーリエN次元パターンデータ
に出現する相関成分エリアのN次元パターンデータを構
成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて登録
パターンと照合パターンとの照合を行うようにしたもの
である。
【0011】この発明では、登録パターンのN次元パタ
ーンデータにN次元離散的フーリエ変換が施されて登録
フーリエN次元パターンデータが作成される。また、照
合パターンのN次元パターンデータおよびこのN次元パ
ターンデータを各々相異なる所定角度回転させた複数の
N次元パターンデータを照合パターンのN次元回転パタ
ーンデータとし、この照合パターンのN次元回転パター
ンデータに1パターンずつN次元離散的フーリエ変換が
施されて照合フーリエN次元パターンデータとされる。
そして、この1パターンずつ作成される照合フーリエN
次元パターンデータと登録フーリエN次元パターンデー
タとが合成され、この合成フーリエN次元パターンデー
タに対して振幅抑制処理を行ったうえN次元離散的フー
リエ変換あるいはN次元離散的逆フーリエ変換が施さ
れ、このフーリエ変換の施された合成フーリエN次元パ
ターンデータに出現する相関成分エリアのN次元パター
ンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強度に
基づいて、登録パターンと照合パターンとの照合が行わ
れる。
【0012】第4発明(請求項4に係る発明)は、登録
パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリ
エ変換を施して登録フーリエN次元パターンデータを作
成し、照合パターンのN次元パターンデータにN次元離
散的フーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターン
データを作成し、照合フーリエN次元パターンデータお
よびこの照合フーリエN次元パターンデータを各々相異
なる所定角度回転させた複数の照合フーリエN次元パタ
ーンデータを照合フーリエN次元回転パターンデータと
し、この照合フーリエN次元回転パターンデータを1パ
ターンずつ登録フーリエN次元パターンデータと合成
し、これによって得られる合成フーリエN次元パターン
データに対して振幅抑制処理を行ったうえN次元離散的
フーリエ変換およびN次元離散的逆フーリエ変換の何れ
か一方を施し、このフーリエ変換の施された合成フーリ
エN次元パターンデータに出現する相関成分エリアのN
次元パターンデータを構成する個々のデータ毎の相関成
分の強度に基づいて登録パターンと照合パターンとの照
合を行うようにしたものである。
【0013】この発明では、登録パターンのN次元パタ
ーンデータにN次元離散的フーリエ変換が施されて登録
フーリエN次元パターンデータが作成され、照合パター
ンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリエ変換
が施されて照合フーリエN次元パターンデータが作成さ
れる。そして、照合フーリエN次元パターンデータおよ
びこの照合フーリエN次元パターンデータを各々相異な
る所定角度回転させた複数の照合フーリエN次元パター
ンデータを照合フーリエN次元回転パターンデータと
し、この照合フーリエN次元回転パターンデータが1パ
ターンずつ登録フーリエN次元パターンデータと合成さ
れ、この合成フーリエN次元パターンデータに対して振
幅抑制処理を行ったうえN次元離散的フーリエ変換ある
いはN次元離散的逆フーリエ変換が施され、このフーリ
エ変換の施された合成フーリエN次元パターンデータに
出現する相関成分エリアのN次元パターンデータを構成
する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて、登録
パターンと照合パターンとの照合が行われる。
【0014】第5発明(請求項5に係る発明)〜第8発
明(請求項8に係る発明)は、第1発明〜第4発明にお
ける「合成フーリエN次元パターンデータに対して振幅
抑制処理を行ったうえN次元離散的フーリエ変換および
N次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施す」を、
「合成フーリエN次元パターンデータに対してN次元離
散的フーリエ変換およびN次元離散的逆フーリエ変換の
何れか一方を施す」とし、合成される前の個々のデータ
に振幅抑制処理を行うようにしたものである。
【0015】第9発明(請求項9に係る発明)は、登録
パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリ
エ変換を施して登録フーリエN次元パターンデータを作
成し、照合パターンのN次元パターンデータにN次元離
散的フーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターン
データを作成し、登録フーリエN次元パターンデータお
よび照合フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑
制処理を行い、この振幅抑制処理された登録フーリエN
次元パターンデータおよび照合フーリエN次元パターン
データの座標系を極座標系に変換し、極座標系に変換さ
れた登録フーリエN次元パターンデータと照合フーリエ
N次元パターンデータとを振幅抑制相関法によって照合
し、この照合過程で得られる相関ピークの位置から両者
の回転ずれ量を求め、この求められた回転ずれ量に基づ
いて登録パターンと照合パターンの何れか一方に回転ず
れ補正を行ったうえで登録パターンと照合パターンとを
振幅抑制相関法によって再度照合するようにしたもので
ある。
【0016】この発明によれば、登録パターンのN次元
パターンデータ(R)にN次元離散的フーリエ変換が施
されて登録フーリエN次元パターンデータ(RF )が作
成され、照合パターンのN次元パターンデータ(I)に
N次元離散的フーリエ変換が施されて照合フーリエN次
元パターンデータ(IF )が作成され、登録フーリエN
次元パターンデータ(RF )および照合フーリエN次元
パターンデータ(IF)に対してlog処理や√処理等
の振幅抑制処理が行われ、この振幅抑制処理された登録
フーリエN次元パターンデータ(RFL)および照合フー
リエN次元パターンデータ(IFL)の座標系が極座標系
に変換され、この極座標系に変換された登録フーリエN
次元パターンデータ(RPL)と照合フーリエN次元パタ
ーンデータ(IPL)とが振幅抑制相関法によって照合さ
れる。そして、この照合過程で得られる相関ピークの位
置から両者の回転ずれ量(Δθ)が求められ、この求め
られた回転ずれ量(Δθ)に基づいて登録パターンと照
合パターンの何れか一方に回転ずれ補正を行ったうえ
で、登録パターンと照合パターンとが振幅抑制相関法に
よって再度照合される。
【0017】第10発明(請求項9に係る発明)は、振
幅抑制処理された登録フーリエN次元パターンデータお
よび照合フーリエN次元パターンデータに対して、その
位相の符号を振幅に付加し、符号付き振幅成分のみ抽出
したうえで、その座標系を極座標系に変換するようにし
たものである。この発明によれば、登録パターンのN次
元パターンデータ(R)にN次元離散的フーリエ変換が
施されて登録フーリエN次元パターンデータ(RF )が
作成され、照合パターンのN次元パターンデータ(I)
にN次元離散的フーリエ変換が施されて照合フーリエN
次元パターンデータ(IF )が作成され、登録フーリエ
N次元パターンデータ(RF )および照合フーリエN次
元パターンデータ(IF)に対してlog処理や√処理
等の振幅抑制処理が行われ、この振幅抑制処理された登
録フーリエN次元パターンデータ(RFL)および照合フ
ーリエN次元パターンデータ(IFL)に対して、その位
相の符号が振幅に付加され、符号付き振幅成分のみ抽出
されたしたうえ(RFL’,IFL’)、その座標系が極座
標系に変換され、この極座標系に変換された登録フーリ
エN次元パターンデータ(RPL’)と照合フーリエN次
元パターンデータ(IPL’)とが振幅抑制相関法によっ
て照合される。そして、この照合過程で得られる相関ピ
ークの位置から両者の回転ずれ量(Δθ)が求められ、
この求められた回転ずれ量(Δθ)に基づいて登録パタ
ーンと照合パターンの何れか一方に回転ずれ補正を行っ
たうえで、登録パターンと照合パターンとが振幅抑制相
関法によって再度照合される。
【0018】第11発明(請求項11に係る発明)は、
登録フーリエN次元パターンデータおよび照合フーリエ
N次元パターンデータの位相成分を除去したうえでこの
登録フーリエN次元パターンデータおよび照合フーリエ
N次元パターンデータに対して振幅抑制処理を行い、こ
の振幅抑制処理された登録フーリエN次元パターンデー
タおよび照合フーリエN次元パターンデータの座標系を
極座標系に変換するようにしたものである。この発明に
よれば、登録パターンのN次元パターンデータ(R)に
N次元離散的フーリエ変換が施されて登録フーリエN次
元パターンデータ(RF )が作成され、照合パターンの
N次元パターンデータ(I)にN次元離散的フーリエ変
換が施されて照合フーリエN次元パターンデータ
(IF )が作成され、登録フーリエN次元パターンデー
タ(RF )および照合フーリエN次元パターンデータ
(IF)に対して位相成分を除去したうえでlog処理
や√処理等の振幅抑制処理が行われ、この振幅抑制処理
された登録フーリエN次元パターンデータ(RFL’)お
よび照合フーリエN次元パターンデータ(IFL’)の座
標系が極座標系に変換され、この極座標系に変換された
登録フーリエN次元パターンデータ(RPL’)と照合フ
ーリエN次元パターンデータ(IPL’)とが振幅抑制相
関法によって照合される。そして、この照合過程で得ら
れる相関ピークの位置から両者の回転ずれ量(Δθ)が
求められ、この求められた回転ずれ量(Δθ)に基づい
て登録パターンと照合パターンの何れか一方に回転ずれ
補正を行ったうえで、登録パターンと照合パターンとが
振幅抑制相関法によって再度照合される。
【0019】第12発明(請求項12に係る発明)は、
第9〜第11発明において、振幅抑制相関照合手段での
照合過程で得られる相関ピークの相関値が所定のしきい
値より大きい場合は、直ちに登録パターンと照合パター
ンとの照合を行うようにしたものである。この発明によ
れば、振幅抑制相関照合手段での照合過程で得られる相
関ピークの相関値が所定のしきい値より大きければ、そ
の時点で直ちに照合結果が得られる(粗照合)。これに
対し、振幅抑制相関照合手段での照合過程で得られる相
関ピークの相関値が所定のしきい値より小さければ、そ
の相関ピークの位置から両者の回転ずれ量(Δθ)が求
められ、この求められた回転ずれ量(Δθ)に基づいて
登録パターンと照合パターンの何れか一方に回転ずれ補
正を行ったうえで、登録パターンと照合パターンとが振
幅抑制相関法によって再度照合される(精照合)。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施の形態に基づ
き詳細に説明する。 〔実施の形態1:第1発明〕図2はこの発明の一実施の
形態を示す指紋照合装置(2次元パターン照合装置)の
ブロック構成図である。同図において10は操作部、2
0はコントロール部であり、操作部10にはテンキー1
0−1,ディスプレイ(LCD)10−2と共に指紋セ
ンサ10−3が設けられている。指紋センサ10−3は
光源10−31,プリズム10−32,CCDカメラ1
0−33を備えてなる。コントロール部20は、CPU
を有してなる制御部20−1と、ROM20−2と、R
AM20−3と、ハードディスク(HD)20−4と、
フレームメモリ(FM)20−5と、外部接続部(I/
F)20−6と、フーリエ変換部(FFT)20−7と
を備えてなり、ROM20−2には登録プログラムと照
合プログラムが格納されている。
【0021】〔指紋の登録〕この指紋照合装置において
利用者の指紋は次のようにして登録される。すなわち、
運用する前に、利用者は、テンキー10−1を用いて自
己に割り当てられたIDナンバを入力のうえ(図3に示
すステップ301)、指紋センサ10−3のプリズム1
0−32上に指を置く。プリズム10−32には光源1
0−31から光が照射されており、プリズム10−32
の面に接触しない指紋の凹部(谷線部)では、光源10
−31からの光は全反射し、CCDカメラ10−33に
至る。逆にプリズム10−32の面に接触する指紋の凸
部(隆線部)では全反射条件がくずれ、光源10−31
からの光は散乱する。これにより、指紋の谷線部は明る
く、隆線部は暗い、コントラストのある指紋の紋様が採
取される。この採取された指紋(登録指紋)の紋様は、
A/D変換により、320×400画素,256階調の
濃淡画像(画像データ:2次元パターンデータ)とし
て、コントロール部20へ与えられる。
【0022】制御部20−1は、この操作部10より与
えられる登録指紋の画像データをフレームメモリ20−
5を介して取り込み(ステップ302)、この取り込ん
だ登録指紋の画像データに対し縮小処理を行う(ステッ
プ303)。この縮小処理は、320×400画素,2
56階調の原画像データに対し、そのx方向(横方向)
については左右の端を32画素づつ除いて4画素ビッチ
で間引くことにより、そのy方向(縦方向)については
上下の端を8画素づつ除いて3画素ピッチで間引くこと
により行う。これにより、登録指紋の画像データが、6
4×128画素,256階調の画像データに縮小される
(図5参照)。
【0023】そして、制御部20−1は、m=i(この
例では、i=−90)とし(ステップ304)、m・a
≦K(この例では、a=1、K=+90)か否かをチェ
ックのうえ(ステップ305)、m・a≦Kであれば、
ステップ303で縮小した登録指紋の画像データをm・
a度回転させ(ステップ306)、このm・a度回転さ
せた登録指紋の画像データをフーリエ変換部20−7へ
送り、2次元離散的フーリエ変換(DFT)を施す(ス
テップ307)。
【0024】これにより、登録指紋の画像データは、フ
ーリエ画像データ(登録フーリエ画像データ)となる。
制御部20−1は、この登録フーリエ画像データをm=
iでの登録フーリエ画像データとして、ハードディスク
20−4内にIDナンバと対応させてファイル化し(ス
テップ308)、m=m+1として(ステップ30
9)、ステップ305以降の処理を繰り返す。この処理
の繰り返しにより、ハードディスク20−4内には、m
=−90〜+90での登録フーリエ画像データが登録フ
ーリエ回転画像データとして、IDナンバと対応してフ
ァイル化される。
【0025】なお、2次元離散的フーリエ変換について
は、例えば「コンピュータ画像処理入門、日本工業技術
センター編、総研出版(株)発行、P.44〜45(文
献1)」等に説明されている。
【0026】〔指紋の照合〕この指紋照合装置において
利用者の指紋の照合は次のようにして行われる。すなわ
ち、運用中、利用者は、テンキー10−1を用いて自己
に割り当てられたIDナンバを入力のうえ(図4に示す
ステップ401)、指紋センサ10−3のプリズム10
−32上に指を置く。これにより、指紋の登録の場合と
同様にして、採取された指紋(照合指紋)の紋様が、3
20×400画素,256階調の濃淡画像(画像デー
タ:2次元パターンデータ)として、コントロール部2
0へ与えられる。
【0027】制御部20−1は、テンキー10−1を介
してIDナンバが与えられると、m=i(この例では、
i=−90)とし(ステップ402)、ハードディスク
20−4内にファイル化されている登録フーリエ回転画
像データから、そのIDナンバに対応するm=iでの登
録フーリエ画像データを読み出す(ステップ403)。
すなわち、「登録指紋の画像データをm・a度回転さ
せ、このm・a度回転させた登録指紋の画像データに2
次元離散的フーリエ変換を施して得られる登録フーリエ
画像データ」を、ハードディスク20−4内の登録フー
リエ回転画像データから読み出す。
【0028】また、制御部20−1は、操作部10より
与えられる照合指紋の画像データをフレームメモリ20
−5を介して取り込み(ステップ404)、この取り込
んだ照合指紋の画像データに対してステップ303で行
ったと同様の縮小処理を行う(ステップ405)。これ
により、照合指紋の画像データが、64×128画素,
256階調の画像データに縮小される。
【0029】そして、制御部20−1は、この縮小した
照合指紋の画像データをフーリエ変換部20−7へ送
り、この照合指紋の画像データに2次元離散的フーリエ
変換(DFT)を施す(ステップ406)。これによ
り、照合指紋の画像データは、フーリエ画像データ(照
合フーリエ画像データ)となる。
【0030】次に、制御部20−1は、ステップ406
で得た照合指紋のフーリエ画像データとステップ403
で読み出した登録指紋のフーリエ画像データとを合成し
(ステップ407)、合成フーリエ画像データを得る。
【0031】ここで、合成フーリエ画像データは、照合
指紋のフーリエ画像データをA・ejθとし、登録指紋
のフーリエ画像データをB・ejφとした場合、A・B
・ej(θ-φ) で表される。但し、A,B,θ,φとも
周波数(フーリエ)空間(u,v)の関数とする。
【0032】そして、A・B・ej(θ-φ)は、 A・B・ej(θ-φ)=A・B・cos(θ−φ)+j・A・B・sin(θ− φ) ・・・(1) として表され、A・ejθ=α1 +jβ1 、B・ejφ=
α2 +jβ2 とすると、A=(α1 2+β1 21/2,B=
(α2 2+β2 21/2,θ=tan-1(β1 /α1),φ=
tan-1(β2 /α2 )となる。この(1)式を計算す
ることにより合成フーリエ画像データを得る。
【0033】なお、A・B・ej(θ-φ)=A・B・ej
θ・e-jφ=A・ejθ・B・e-jφ=(α1 +j
β1 )・(α2 −jβ2 )=(α1 ・α2 +β1
β2 )+j(α2 ・β1 −α1 ・β2 )として、合成フ
ーリエ画像データを求めるようにしてもよい。
【0034】そして、制御部20−1は、このようにし
て合成フーリエ画像データを得た後、振幅抑制処理を行
う(ステップ408)。この実施の形態では、振幅抑制
処理として、log処理を行う。すなわち、前述した合
成フーリエ画像データの演算式であるA・B・ej(θ-
φ)のlogをとり、log(A・B)・ej(θ-φ)
することにより、振幅であるA・Bをlog(A・B)
に抑制する(A・B>log(A・B))。
【0035】振幅抑制処理を施した合成フーリエ画像デ
ータでは登録指紋の採取時と照合指紋の採取時の照度差
による影響が小さくなる。すなわち、振幅抑制処理を行
うことにより、各画素のスペクトラム強度が抑圧され、
飛び抜けた値がなくなり、より多くの情報が有効とな
る。また、振幅抑制処理を行うことにより、指紋情報の
内、個人情報である特徴点(端点,分岐点)や隆線の特
徴(渦,分岐)がより強調され、一般的指紋情報である
隆線全体の流れ・方向が抑えられる。
【0036】なお、この実施の形態では、振幅抑制処理
としてlog処理を行うものとしたが、√処理を行うよ
うにしてもよい。また、log処理や√処理に限らず、
振幅を抑制することができればどのような処理でもよ
い。振幅抑制で全ての振幅を例えば1にすると、すなわ
ち位相のみにすると、log処理や√処理等に比べ、計
算量を減らすことができるという利点とデータが少なく
なるという利点がある。
【0037】ステップ408で振幅抑制処理を行った
後、制御部20−1は、その振幅抑制処理を行った合成
フーリエ画像データをフーリエ変換部20−7へ送り、
第2回目の2次元離散的フーリエ変換(DFT)を施す
(ステップ409)。
【0038】そして、制御部20−1は、ステップ40
9で得た2次元離散的フーリエ変換の施された合成フー
リエ画像データを取り込み、この合成フーリエ画像デー
タより所定の相関成分エリアの各画素の相関成分の強度
(振幅)をスキャンし、各画素の相関成分の強度のヒス
トグラムを求め、このヒストグラムより相関成分の強度
の高い上位n画素(この実施の形態では、8画素)を抽
出し、この抽出したn画素の相関成分の強度の平均を相
関値(スコア)として求める(ステップ410)。
【0039】そして、制御部20−1は、ステップ41
0で得た相関値を予め定められているしきい値と比較し
(ステップ411)、相関値がしきい値以上であれば、
登録指紋と照合指紋とが一致したと判断し(ステップ4
12)、その旨の表示を行うと共に電気錠用の出力を送
出する。相関値がしきい値以下であれば、m・a<K
(この例では、a=1、K=+90)か否かをチェック
のうえ(ステップ413)、m・a<Kであれば、m=
m+1として(ステップ414)、ステップ403以降
の処理を繰り返す。
【0040】このステップ403以降の処理の繰り返し
により、ハードディスク20−4内の登録フーリエ回転
画像データから1パターンずつ登録フーリエ画像データ
が読み出され、この読み出された登録フーリエ画像デー
タと照合フーリエ画像データとが合成され、これによっ
て得られる合成フーリエ画像データに対して振幅抑制処
理が行われたうえ2次元離散的フーリエ変換が施され、
この2次元離散的フーリエ変換の施された合成フーリエ
画像データに出現する相関成分エリアの各画素の相関成
分の強度に基づいて登録指紋と照合指紋との照合が行わ
れる。
【0041】すなわち、この実施の形態では、実質的
に、照合指紋を固定とし、登録指紋を−90度から1度
ずつ正方向へ回転させながら、登録指紋と照合指紋との
照合が行われる。この場合、+90度に至る前に登録指
紋と照合指紋とが一致すれば、すなわちステップ411
において相関値がしきい値以上となれば、その時点で登
録指紋と照合指紋との照合を終了する。これに対して、
+90度としてもまだ登録指紋と照合指紋とが一致しな
ければ、ステップ413でのNOに応じ、登録指紋と照
合指紋とが一致しないと判断され(ステップ415)、
その旨の表示が行われる。
【0042】図1に登録指紋と照合指紋とが一致すると
判断される場合の指紋照合状況を示す。同図(e)は照
合指紋の画像データ、同図(a)はm・a度回転された
登録指紋の画像データ、同図(b)は同図(a)に2次
元離散的フーリエ変換を施して得られる登録フーリエ画
像データ、同図(f)は同図(e)に2次元離散的フー
リエ変換を施して得られる照合フーリエ画像データ、同
図(d)は同図(b)と(f)とを合成して得た振幅抑
制処理後の合成フーリエ画像データ、同図(h)は同図
(d)に2次元離散的フーリエ変換を施して得た合成フ
ーリエ画像データである。
【0043】図1(h)において、相関成分エリアは、
白い点線で囲んだ領域S0として定められている。この
相関成分エリアS0の一部における各画素の相関成分の
強度の数値例を図6に示す。この図において、○で囲ん
だ値が、上位8画素の相関成分の強度である。この上位
8画素の平均が相関値(スコア)として求められる。こ
の場合、この求められる相関値が予め定められているし
きい値以上となり、登録指紋と照合指紋とが一致したと
判断される。
【0044】ここで、相関値と比較されるしきい値は、
サンプルとして20〜50歳代の男女10人の人指し指
の指紋を各10回入力して得た合計100指をそれぞれ
登録と照合に用いて1万回の照合を行い、この照合結果
から求めている。本人対本人、本人対他人、それぞれの
相関値の相対度数分布図を図7に示す。X軸は本人対本
人の組合せにおける相関値の平均値μと標準偏差σで表
した相関度を示し、Y軸は相対度数を示している。他人
排他率が100%となる所の相関値をしきい値として用
いる。なお、他人排他率は100%でなくても良く、目
的に合わせて任意の率に定めれば良い。
【0045】図8に振幅抑制処理を行わなかった場合の
本人対本人、本人対他人、それぞれの相関値の相対度数
分布図を示す。この実施の形態では、ステップ407で
振幅抑制処理を行っているので、合成フーリエ画像デー
タにおける登録指紋の採取時と照合指紋の採取時の照度
差による影響が小さくなり、また指紋情報の内、個人情
報である特徴点(端点,分岐点)や隆線の特徴(渦,分
岐)がより強調され、照合精度が格段にアップする。す
なわち、図8では他人排他率100%のときの本人認識
率が6.6%であるが、図7では他人排他率100%の
ときの本人認識率は93.1%となる。
【0046】なお、この実施の形態においては、相関成
分エリアS0の各画素から相関成分の強度の高い上位n
画素を抽出しその平均を相関値としたが、その上位n画
素の相関成分の強度の加算値を相関値としてもよい。ま
た、しきい値を越える全ての画素の相関成分の強度を加
算し、その加算値を相関値としたり、その加算値の平均
を相関値とするなどとしてもよい。また、各画素の相関
成分の強度のうち1つでもしきい値以上のものがあれば
「一致」と判断してもよく、しきい値を越えるものがn
個以上であれば「一致」と判断する等、種々の判定方法
が考えられる。
【0047】また、この実施の形態では、2次元離散的
フーリエ変換をフーリエ変換部20−7において行うも
のとしたが、CPU20−1内で行うものとしてもよ
い。また、この実施の形態では、登録指紋の画像データ
に対しステップ303で縮小処理を行うようにしたが、
登録指紋のフーリエ画像データを読み出した後の段階
(ステップ403と404との間)で縮小処理を行うよ
うにしてもよい。また、登録指紋や照合指紋の画像デー
タに対しては必ずしも縮小処理を行わなくてもよく、入
力画像データをそのまま用いてフーリエ画像データを作
成するようにしてもよい。縮小処理を行うようにすれ
ば、その分、入力画像データの処理に際して用いる画像
メモリの容量を少なくすることができる。
【0048】また、この実施の形態では、図4に示した
ステップ409にて2次元離散的フーリエ変換を行うよ
うにしたが、2次元離散的フーリエ変換ではなく2次元
離散的逆フーリエ変換を行うようにしてもよい。すなわ
ち、振幅抑制処理の施された合成フーリエ画像データに
対して2次元離散的フーリエ変換を行うのに代えて、2
次元離散的逆フーリエ変換を行うようにしてもよい。2
次元離散的フーリエ変換と2次元離散的逆フーリエ変換
とは、定量的にみて照合精度は変わらない。2次元離散
的逆フーリエ変換については、先の文献1に説明されて
いる。
【0049】また、この実施の形態では、合成後のフー
リエ画像データに対して振幅抑制処理を施して2次元離
散的フーリエ変換を行うようにしたが(ステップ40
8,409)、合成前の登録指紋および照合指紋のフー
リエ画像データにそれぞれ振幅抑制処理を行った後に合
成するようにしてもよい。すなわち、図9(a)に示す
ように、図3のステップ306と307との間に振幅抑
制処理を行うステップ310を設け、図9(b)に示す
ように、図4のステップ407と408とを入れ替える
ようにしてもよい。
【0050】このようにした場合、ステップ310の振
幅抑制処理によって、図1(c)に示すような振幅抑制
処理の施された登録指紋のフーリエ画像データ(登録フ
ーリエ画像データ)が得られ、ステップ407と408
との入れ替えによって、図1(g)に示すような振幅抑
制処理の施された照合指紋のフーリエ画像データ(照合
フーリエ画像データ)が得られる。そして、それぞれ振
幅抑制処理の施された登録指紋および照合指紋のフーリ
エ画像データが合成され、図1(d)に示されるような
合成フーリエ画像データが得られる。
【0051】この時の合成フーリエ画像データの振幅の
抑制率は、合成フーリエ画像データとしてから振幅抑制
処理を行う場合(図4)に対して小さい。したがって、
合成フーリエ画像データとしてから振幅抑制処理を行う
(図4)方が、振幅抑制処理を行ってから合成フーリエ
画像データとする方法(図9)に比べて、その照合精度
がアップする。なお、振幅抑制処理を行ってから合成フ
ーリエ画像データとする場合(図9)にも、合成フーリ
エ画像データに対して2次元離散的フーリエ変換ではな
く、2次元離散的逆フーリエ変換を行うようにしてもよ
い。
【0052】参考として図10に照合指紋が他人である
場合の指紋照合状況を図1と対応して示す。図1は照合
指紋が本人である場合の指紋照合状況であり、照合指紋
が本人である場合には相関成分エリアS0に相関成分の
強度の高い部分が生じるが、照合指紋が他人である場合
に生じない。すなわち、照合指紋が本人である場合に
は、登録指紋の画像データを−90度から1度ずつ正方
向へ回転させたとき、+90度に至るまでの間のいずれ
かの回転角度で相関成分エリアS0に相関成分の強度の
高い部分が生じる。これに対し、照合指紋が他人である
場合には、登録指紋の画像データを−90度から1度ず
つ正方向へ回転させたとき、+90度になっても相関成
分エリアS0には相関成分の強度の高い部分は生じな
い。
【0053】なお、この実施の形態では、指紋照合を行
う場合を例として説明したが、声紋照合を行う場合にも
同様にして適用することができ、指紋,声紋に拘らず画
像データとして取り扱うことのできる各種の2次元パタ
ーンの照合に用いることができる。
【0054】また、この実施の形態では、2次元パター
ンを画像として得るものとしたが、必ずしも画像として
得るようにしなくてもよい。例えば、振動検出器を各場
所に2次元的に配置し、この2次元的に配置された振動
検出器により得られる2次元パターン(地震波)を照合
パターンとし、予め登録されているパターンと照合する
ようにしてもよい。また、各部位に流量計測器を2次元
的に配置し、この2次元的に配置された流量計測器によ
り得られる2次元パターン(流量分布)を照合パターン
とし、予め登録されているパターンと照合するようにし
てもよい。また、この実施の形態では、2次元パターン
の照合について説明したが、3次元パターンの照合につ
いても同様にして行うことが可能であり、2次元,3次
元に拘らず多次元のパターンの照合を同様にして行うこ
とができる。
【0055】〔実施の形態2:第2発明〕実施の形態1
では、登録指紋の画像データをm・a度回転させ、この
m・a度回転させた登録指紋の画像データに2次元離散
的フーリエ変換を施し、これにより得られるm=−90
〜+90での登録フーリエ画像データを登録フーリエ回
転画像データとしてファイル化するものとした。これに
対し、実施の形態2では、登録指紋の画像データに2次
元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエ画像データ
を作成し、この登録フーリエ画像データをm・a度回転
させ、これにより得られるm=−90〜+90での登録
フーリエ画像データを登録フーリエ回転画像データとし
てファイル化する。
【0056】すなわち、図11に示すように、図3のス
テップ301,302,303に対応してステップ50
1,502,503の処理を行い、ステップ503で得
た登録指紋の画像データに2次元離散的フーリエ変換を
施し(ステップ504)、登録フーリエ画像データを得
る。そして、m=i(この例では、i=−90)とし
(ステップ505)、m・a≦K(この例では、a=
1、K=+90)か否かをチェックのうえ(ステップ5
06)、m・a≦Kであれば、ステップ504で得た登
録フーリエ画像データをm・a度回転させ(ステップ5
07)、このm・a度回転させた登録フーリエ画像デー
タをm=iでの登録フーリエ画像データとして、IDナ
ンバと対応させてファイル化し(ステップ508)、m
=m+1として(ステップ509)、ステップ506以
降の処理を繰り返す。この処理の繰り返しにより、m=
−90〜+90での登録フーリエ画像データが登録フー
リエ回転画像データとして、IDナンバと対応してファ
イル化される。
【0057】なお、この実施の形態2において、指紋照
合時の処理動作は、実施の形態1と同じ(図4に示した
フローチャートと同じ)であるので、その説明は省略す
る。この実施の形態でも、実施の形態1と同様、実質的
に、照合指紋を固定とし、登録指紋を−90度から1度
ずつ正方向へ回転させながら、登録指紋と照合指紋との
照合が行われる。
【0058】〔実施の形態3:第3発明〕実施の形態
1,2では、実質的に、照合指紋を固定とし、登録指紋
を−90度から1度ずつ正方向へ回転させながら、登録
指紋と照合指紋との照合を行うようにした。これに対
し、実施の形態3では、実質的に、登録指紋を固定と
し、照合指紋を−90度から1度ずつ正方向へ回転させ
ながら、登録指紋と照合指紋との照合を行うようにす
る。
【0059】〔指紋の登録〕この実施の形態3では、図
12にそのフローチャートを示すように、図11のステ
ップ501,502,503,504に対応してステッ
プ601,602,603,604の処理を行い、ステ
ップ604で得た登録フーリエ画像データを登録指紋の
原画像データとして、IDナンバと対応させてハードデ
ィスク20−4内にファイル化する(ステップ60
5)。
【0060】〔指紋の照合〕運用中、利用者は、テンキ
ー10−1を用いて自己に割り当てられたIDナンバを
入力のうえ(図13に示すステップ701)、指紋セン
サ10−3のプリズム10−32上に指を置く。これに
より、指紋の登録の場合と同様にして、採取された指紋
(照合指紋)の紋様が画像データとしてコントロール部
20へ与えられる。
【0061】制御部20−1は、テンキー10−1を介
してIDナンバが与えられると、ハードディスク20−
4内にファイル化されている登録フーリエ画像データを
読み出す(ステップ702)。また、制御部20−1
は、操作部10より与えられる照合指紋の画像データを
フレームメモリ20−5を介して取り込み(ステップ7
03)、この取り込んだ照合指紋の画像データに対して
縮小処理を行う(ステップ704)。
【0062】そして、制御部20−1は、m=i(この
例では、i=−90)とし(ステップ705)、ステッ
プ704で縮小した照合指紋の画像データをm・a度回
転させ(ステップ706)、このm・a度回転させた照
合指紋の画像データに2次元離散的フーリエ変換を施し
(ステップ707)、m=iでの照合フーリエ画像デー
タを得る。
【0063】次に、制御部20−1は、ステップ706
で得た照合フーリエ画像データとステップ702で読み
出した登録フーリエ画像データとを合成し(ステップ7
08)、合成フーリエ画像データを得る。そして、この
合成フーリエ画像データに対して、振幅抑制処理(lo
g処理)を行い(ステップ709)、この振幅抑制処理
を行った合成フーリエ画像データに第2回目の2次元離
散的フーリエ変換を施す(ステップ710)。
【0064】そして、制御部20−1は、ステップ71
0で得た2次元離散的フーリエ変換の施された合成フー
リエ画像データより所定の相関成分エリアの各画素の相
関成分の強度(振幅)をスキャンし、各画素の相関成分
の強度のヒストグラムを求め、このヒストグラムより相
関成分の強度の高い上位n画素(この実施の形態では、
8画素)を抽出し、この抽出したn画素の相関成分の強
度の平均を相関値(スコア)として求める(ステップ7
11)。
【0065】そして、制御部20−1は、ステップ71
1で得た相関値を予め定められているしきい値と比較し
(ステップ712)、相関値がしきい値以上であれば、
登録指紋と照合指紋とが一致したと判断し(ステップ7
13)、その旨の表示を行うと共に電気錠用の出力を送
出する。相関値がしきい値以下であれば、m・a<K
(この例では、a=1、K=+90)か否かをチェック
のうえ(ステップ714)、m・a<Kであれば、m=
m+1として(ステップ715)、ステップ706以降
の処理を繰り返す。
【0066】このステップ706以降の処理の繰り返し
により、m=−90〜+90としてm・a度回転させた
照合指紋の画像データを照合指紋の回転画像データと
し、この照合指紋の回転画像データに1パターンずつ2
次元離散的フーリエ変換が施されて照合フーリエ画像デ
ータとされ、この照合フーリエ画像データと登録フーリ
エ画像データとが合成され、これによって得られる合成
フーリエ画像データに対して振幅抑制処理が行われたう
え2次元離散的フーリエ変換が施され、この2次元離散
的フーリエ変換の施された合成フーリエ画像データに出
現する相関成分エリアの各画素の相関成分の強度に基づ
いて登録指紋と照合指紋との照合が行われる。
【0067】すなわち、この実施の形態では、実質的
に、登録指紋を固定とし、照合指紋を−90度から1度
ずつ正方向へ回転させながら、登録指紋と照合指紋との
照合が行われる。この場合、+90度に至る前に登録指
紋と照合指紋とが一致すれば、すなわちステップ712
において相関値がしきい値以上となれば、その時点で登
録指紋と照合指紋との照合が終了する。これに対して、
+90度としてもまだ登録指紋と照合指紋とが一致しな
ければ、ステップ712でのNOに応じ、登録指紋と照
合指紋とが一致しないと判断され(ステップ716)、
その旨の表示が行われる。
【0068】〔実施の形態4:第4発明〕実施の形態3
では、m=−90〜+90としてm・a度回転させた照
合指紋の画像データを照合指紋の回転画像データとし、
この照合指紋の回転画像データに1パターンずつ2次元
離散的フーリエ変換を施して照合フーリエ画像データと
し、この照合フーリエ画像データと登録フーリエ画像デ
ータとを合成するようにした。
【0069】これに対し、実施の形態4では、照合指紋
の画像データに2次元離散的フーリエ変換を施して照合
フーリエ画像データを作成し、m=−90〜+90とし
てm・a度回転させた照合フーリエ画像データを照合フ
ーリエ回転画像データとし、この照合フーリエ回転画像
データを1パターンずつ登録フーリエ画像データと合成
するようにする。
【0070】すなわち、図14に示すように、図13の
ステップ701,702,703,704に対応してス
テップ801,802,803,804の処理を行い、
ステップ804で得た照合指紋の画像データに2次元離
散的フーリエ変換を施し(ステップ805)、照合フー
リエ画像データを得る。そして、m=i(この例では、
i=−90)とし(ステップ806)、ステップ805
で得た照合フーリエ画像データをm・a度回転させ(ス
テップ807)、このm・a度回転させた照合フーリエ
画像データをm=iでの照合フーリエ画像データとす
る。
【0071】そして、この照合フーリエ画像データとス
テップ802で読み出した登録フーリエ画像データとを
合成し(ステップ808)、これによって得られる合成
フーリエ画像データに対して振幅抑制処理(log処
理)を行い(ステップ809)、この振幅抑制処理を行
った合成フーリエ画像データに第2回目の2次元離散的
フーリエ変換を施す(ステップ810)。そして、ステ
ップ711と同様の「相関値の算出」を行い(ステップ
811)、ステップ8111で得た相関値を予め定めら
れているしきい値と比較し(ステップ812)、相関値
がしきい値以上であれば、登録指紋と照合指紋とが一致
したと判断する(ステップ813)。相関値がしきい値
以下であれば、m・a<K(この例では、a=1、K=
+90)か否かをチェックのうえ(ステップ814)、
m・a<Kであれば、m=m+1として(ステップ81
5)、ステップ807以降の処理を繰り返す。
【0072】このステップ807以降の処理の繰り返し
により、m=−90〜+90としてm・a度回転させた
照合フーリエ画像データを照合フーリエ回転画像データ
とし、この照合フーリエ回転画像データが1パターンず
つ登録フーリエ画像データと合成され、これによって得
られる合成フーリエ画像データに対して振幅抑制処理が
行われたうえ2次元離散的フーリエ変換が施され、この
2次元離散的フーリエ変換の施された合成フーリエ画像
データに出現する相関成分エリアの各画素の相関成分の
強度に基づいて登録指紋と照合指紋との照合が行われ
る。
【0073】なお、この実施の形態4において、指紋登
録時の処理動作は、実施の形態3と同じ(図12に示し
たフローチャートと同じ)であるので、その説明は省略
する。この実施の形態でも、実施の形態3と同様、実質
的に、登録指紋を固定とし、照合指紋を−90度から1
度ずつ正方向へ回転させながら、登録指紋と照合指紋と
の照合が行われる。
【0074】また、上述した実施の形態2,3,4にお
いても、実施の形態1で説明したような変形が自在であ
ることは言うまでもない。すなわち、実施の形態3,4
では、図13,図14に示したステップ710,810
にて2次元離散的フーリエ変換を行うようにしている
が、2次元離散的逆フーリエ変換を行うようにしてもよ
い。また、合成前の登録指紋および照合指紋のフーリエ
画像データにそれぞれ振幅抑制処理を行った後に合成す
る等としてもよい。また、振幅抑制処理は、必ずしも行
わなくてもよい。
【0075】〔実施の形態5〕実施の形態1〜4では、
登録指紋と照合指紋との間で回転ずれがある場合でも登
録指紋と照合指紋とが同一であるか否か識別できるよう
にするために、実質的に、登録指紋(照合指紋)を固定
とし、照合指紋(登録指紋)を回転させながら登録指紋
と照合指紋とを照合するようにした。
【0076】しかしながら、この方法では、登録指紋と
照合指紋との間での回転ずれ量が分からないので、多数
の回転パターンを作成しなければならない。また、作成
された個々の回転パターンと固定パターンとの照合を逐
次行わなければならない。このため、照合処理の負荷が
重く、最終的な照合結果が得られるまでに過大な時間を
必要とする。
【0077】そこで、この実施の形態5では、登録指紋
の画像データRに2次元離散的フーリエ変換を施して登
録フーリエ画像データRF を作成し、照合指紋の画像デ
ータIに2次元離散的フーリエ変換を施して照合フーリ
エ画像データIF を作成し、登録フーリエ画像データR
F および照合フーリエ画像データIF の座標系を極座標
系に変換し、この極座標系に変換した登録フーリエ画像
データRP と照合フーリエ画像データIP とを振幅抑制
相関法によって照合(粗照合)する。そして、この照合
過程で得られる相関ピークの位置から両者の回転ずれ量
Δθを求め、この求めた回転ずれ量Δθに基づいて登録
指紋と照合指紋の何れか一方に回転ずれ補正を行ったう
えで、登録指紋と照合指紋とを振幅抑制相関法によって
再度照合(精照合)する。このような方法で照合を行う
ことによって、照合処理の負荷を軽くし、照合結果が得
られるまでの時間を短くすることができる。
【0078】以下、フローチャートを参照しながら、こ
の実施の形態5での指紋照合動作について具体的に説明
する。 〔指紋の登録〕この実施の形態5では、図15にそのフ
ローチャートを示すように、図12のステップ601,
602,603に対応してステップ151,152,1
53の処理を行い、ステップ153で得た登録指紋の画
像データRを登録指紋の原画像データとして、IDナン
バと対応させてファイル化する(ステップ154)。な
お、図12に示したフローチャートと同様にして、登録
指紋の画像データRに2次元離散的フーリエ変換を施し
て登録フーリエ画像データRF とし、この登録フーリエ
画像データRF を登録指紋の原画像データとしてIDナ
ンバと対応させてファイル化するようにしてもよい。
【0079】〔指紋の照合(振幅そのまま+位相有
り)〕指紋の照合は次のようにして行われる。IDナン
バを入力すると(図16に示すステップ161)、その
IDナンバと対応してファイル化されている登録指紋の
画像データRが読み出される(ステップ162:図17
(a)参照)。また、照合指紋を入力し(ステップ16
3)、この照合指紋に対して縮小処理を行い(ステップ
164)、照合指紋の画像データIを得る(図17
(b)参照)。そして、ステップ162で読み出した登
録指紋の画像データRに対し2次元離散的フーリエ変換
を施して登録フーリエ画像データRF とし(ステップ1
65:図17(c)参照)、ステップ164で得た照合
指紋の画像データIに対し2次元離散的フーリエ変換を
施して照合フーリエ画像データIF とする(ステップ1
66:図17(d)参照)。
【0080】この登録フーリエ画像データRF および照
合フーリエ画像データIF には振幅成分と位相成分とが
含まれている。また、この登録フーリエ画像データRF
および照合フーリエ画像データIF は、デカルト座標系
すなわち(x,y)座標系とされている。
【0081】そして、ステップ165で得た登録フーリ
エ画像データRF の座標系を極座標系に変換し(ステッ
プ167)、極座標系に変換された登録フーリエ画像デ
ータRP を得る(図17(e)参照)。また、ステップ
166で得た照合フーリエ画像データIF の座標系を極
座標系に変換し(ステップ168)、極座標系に変換さ
れた照合フーリエ画像データIP を得る(図17(f)
参照)。ここで、極座標変換とは、デカルト座標系
(x,y)を極座標系(r,θ)に変換する処理のこと
をいう。すなわち、図18(a)に示されるデカルト座
標系(x=rcosθ,y=rsinθ)を図18
(b)に示されるような極座標系(r=(x2 +y2
1/2,θ=tan-1(y/x))に変換する処理のこと
をいう。
【0082】そして、ステップ167で得た極座標系と
された登録フーリエ画像データRPとステップ168で
得た極座標系とされた照合フーリエ画像データIP とを
振幅抑制相関法で照合する(ステップ169)。図19
にその照合過程を示す。
【0083】この場合、極座標系とされた登録フーリエ
画像データRP (図20(a)参照)および照合フーリ
エ画像データIP (図20(b)参照)に対して2次元
離散的フーリエ変換を施し(ステップ169−1,16
9−2)、登録フーリエ画像データRPF(図20(c)
参照)および照合フーリエ画像データIPF(図20
(e)参照)を得る。
【0084】そして、この登録フーリエ画像データRPF
および照合フーリエ画像データIPFとを合成し(ステッ
プ169−3)、合成フーリエ画像データを得る。そし
て、この合成フーリエ画像データに対して振幅抑制処理
を行い(ステップ169−4:図20(g)参照)、こ
の振幅抑制処理を行った合成フーリエ画像データに2次
元離散的フーリエ変換を施す(ステップ169−5:図
20(h)、図17(g)参照、図20(h)=図17
(g))。
【0085】なお、この実施の形態では、RPFとIPF
の合成フーリエ画像データに対して振幅抑制処理を行っ
たが、RPFおよびIPFに対して振幅抑制処理を行って登
録フーリエ画像データRPF’および照合フーリエ画像デ
ータIPF’とし(図20(d),(f)参照)、このR
PF’とIPF’とを合成するようにしてもよい。図20
(d),(f),(g)では、振幅抑制で全ての振幅を
1、すなわち位相のみとしている。
【0086】そして、この2次元離散的フーリエ変換の
施された合成フーリエ画像データより所定の相関成分エ
リアの各画素の相関成分の強度(振幅)をスキャンし、
各画素の相関成分の強度のヒストグラムを求め、このヒ
ストグラムより相関成分の強度の高い上位n画素を抽出
し、この抽出したn画素の相関成分の強度の平均を相関
値(スコア)として求める(ステップ169−6)。こ
の場合、求まった相関値が高ければ、粗くではあるが登
録指紋と照合指紋とが一致したと判断(粗照合)するこ
とが可能である。但し、この実施の形態5では、この粗
照合での照合結果は使用しない。
【0087】そして、先の2次元離散的フーリエ変換の
施された合成フーリエ画像データより相関成分の強度の
最も高い画素を相関ピークとして求め、この相関ピーク
の位置から登録指紋と照合指紋との回転ずれ量Δθ、す
なわち登録指紋の画像データRと照合指紋の画像データ
Iとの回転ずれ量Δθを求める(ステップ169−
7)。
【0088】図17(g)では相関ピークとしてP1が
出現している。この相関ピークP1と相関エリアの中心
との位置関係から回転ずれ量Δθを求める。すなわち、
図における領域中の相関ピークP1の縦方向の位置から
回転ずれ量Δθを求める。この場合、領域中の縦方向の
上限位置がΔθ=+180゜、下限位置がΔθ=−18
0゜を示す。
【0089】そして、この登録指紋の画像データRと照
合指紋の画像データIとの回転ずれ量Δθを求めた後、
この求めた回転ずれ量Δθに基づいて照合指紋の画像デ
ータIの回転ずれの補正を行い、登録指紋と照合指紋と
を振幅抑制相関法によって再度照合する(ステップ17
0)。図21にその再照合過程を示す。
【0090】この場合、照合指紋の画像データIに対し
て回転ずれ量Δθの補正を行い(ステップ171−
1)、登録指紋の画像データRとその回転角度を合致さ
せた画像データIN を得る(図22(a)および(b)
参照)。そして、この照合指紋の画像データIN に対し
て2次元離散的フーリエ変換を施し(ステップ170−
2)、照合フーリエ画像データINFを得る(図22
(e)参照)。
【0091】そして、この照合フーリエ画像データINF
と先のステップ165で得られている登録フーリエ画像
データRF (図22(c)参照)とを合成し(ステップ
170−3)、合成フーリエ画像データを得る。そし
て、この合成フーリエ画像データに対して振幅抑制処理
を行い(ステップ170−4)、この振幅抑制処理を行
った合成フーリエ画像データ(図22(g)参照)に2
次元離散的フーリエ変換を施す(ステップ170−
5)。
【0092】そして、この2次元離散的フーリエ変換の
施された合成フーリエ画像データ(図22(h)参照)
より所定の相関成分エリアの各画素の相関成分の強度
(振幅)をスキャンし、各画素の相関成分の強度のヒス
トグラムを求め、このヒストグラムより相関成分の強度
の高い上位n画素を抽出し、この抽出したn画素の相関
成分の強度の平均を相関値(スコア)として求める(ス
テップ170−6)。
【0093】そして、ステップ170−6で得た相関値
を予め定められているしきい値と比較し(ステップ17
0−7)、相関値がしきい値以上であれば、登録指紋と
照合指紋とが一致したと判断する(ステップ170−
8)。相関値がしきい値以下であれば、登録指紋と照合
指紋とは一致しないと判断する(ステップ170−
9)。これによって、登録指紋と照合指紋との精照合が
行われる。
【0094】なお、この実施の形態では、RF とINF
の合成フーリエ画像データに対して振幅抑制処理を行っ
たが、RF およびINFに対して振幅抑制処理を行って登
録フーリエ画像データRF ’および照合フーリエ画像デ
ータINF’とし(図22(d),(f)参照)、このR
F ’とINF’とを合成するようにしてもよい。図22
(d),(f),(g)では、振幅抑制で全ての振幅を
1、すなわち位相のみとしている。
【0095】また、図21では、照合指紋の画像データ
Iに対して回転ずれの補正を行って登録指紋と照合指紋
とを再度照合するようにしたが、登録指紋の画像データ
Rに対して回転ずれの補正を行って登録指紋と照合指紋
とを再度照合するようにしてもよい。
【0096】〔実施の形態6−1:第9発明(振幅抑制
+位相有り)〕実施の形態5では、粗照合において、振
幅成分(振幅そのまま)と位相成分とが含まれている登
録フーリエ画像データRF および照合フーリエ画像デー
タIFについて、その座標系を極座標系に変換した(図
16におけるステップ165〜168)。
【0097】これに対して、実施の形態6−1では、登
録フーリエ画像データRF および照合フーリエ画像デー
タIF に対し振幅抑制処理を行い、この振幅抑制処理さ
れた登録フーリエ画像データRFLおよび照合フーリエ画
像データIFLについて、その座標系を極座標系に変換す
る。図23にこの場合のフローチャートを示す。
【0098】図16に示したフローチャートと比較して
分かるように、この実施の形態では、ステップ171,
172を付加し、登録フーリエ画像データRF および照
合フーリエ画像データIF に対して振幅抑制処理を行い
(ステップ171,172)、この振幅抑制処理された
登録フーリエ画像データRFLおよび照合フーリエ画像デ
ータIFLの座標系を極座標系に変換してRPLおよびIPL
を得る(ステップ167,168)。
【0099】この実施の形態6−1によれば、登録フー
リエ画像データRF および照合フーリエ画像データIF
に対して振幅抑制処理を行うことによって、照度変化の
影響を受けにくくなり、登録時と照合時で照度に差があ
っても高精度での照合が可能となる。
【0100】なお、この実施の形態6−1では、登録フ
ーリエ画像データRF および照合フーリエ画像データI
F に対して振幅抑制処理を行い、この振幅抑制処理され
た登録フーリエ画像データRFLおよび照合フーリエ画像
データIFLの座標系を極座標系に変換したが、登録フー
リエ画像データRF および照合フーリエ画像データIF
の座標系を極座標系に変換した後、この極座標系に変換
された登録フーリエ画像データRP および照合フーリエ
画像データIp に振幅抑制処理を行ってRPLおよびIPL
を得るようにしてもよい。
【0101】〔実施の形態6−2:第10発明(振幅抑
制+位相の符号(±)を振幅に付ける)〕実施の形態6
−1では、粗照合において、振幅抑制された振幅成分と
位相成分とが含まれている登録フーリエ画像データRFL
および照合フーリエ画像データIFLについて、その座標
系を極座標系に変換した(図23におけるステップ16
7,168)。
【0102】これに対して、実施の形態6−2では、振
幅抑制処理された登録フーリエ画像データRFLおよび照
合フーリエ画像データIFLに対し、それぞれの位相の符
号をそれぞれ振幅に付加し、符号付き振幅成分のみ(R
FL’,IFL’)を抽出する。このRFL’,IFL’につい
てその座標系を極座標系に変換する。図24にこの場合
のフローチャートを示す。
【0103】図23に示したフローチャートと比較して
分かるように、この実施の形態では、ステップ173,
174を付加し、振幅抑制処理された登録フーリエ画像
データRFLおよび照合フーリエ画像データIFLに対し、
それぞれの位相の符号をそれぞれ振幅に付加し、符号付
き振幅成分のみ(RFL’,IFL’)を抽出したうえで、
その座標系を極座標系に変換してRPL’およびIPL’を
得る(ステップ167,168)。
【0104】この実施の形態6−2によれば、登録フー
リエ画像データRF および照合フーリエ画像データIF
に対してそれぞれの位相の符号を、それぞれ振幅に付加
し、符号付き振幅成分のみを抽出することによって、位
相の不連続性による誤差の影響を受けにくくなり、登録
時と照合時で位置ずれ等の誤差があっても高精度での照
合が可能となる。
【0105】なお、この実施の形態6−1では、登録フ
ーリエ画像データRF および照合フーリエ画像データI
F に対して振幅抑制処理を行い、この振幅抑制処理され
た登録フーリエ画像データRFLおよび照合フーリエ画像
データIFLに対して、それぞれの位相の符号をそれぞれ
の振幅に付加し、符号付き振幅成分のみ抽出したうえ
で、その座標系を極座標系に変換したが、登録フーリエ
画像データRF および照合フーリエ画像データIF の座
標系を極座標系に変換した後、この極座標系に変換され
た登録フーリエ画像データRP および照合フーリエ画像
データIp に振幅抑制処理を行って、それぞれの位相の
符号をそれぞれの振幅に付加し、符号付き振幅成分のみ
抽出し、RPL’およびIPL’を得るようにしてもよい。
但し、この実施の形態6−2では、相関成分エリアの各
画素の相関成分の強度を振幅でなく、複素数の実部のま
まとし、相関値(スコア)を求める。
【0106】〔実施の形態7:第11発明(振幅抑制+
位相無し)〕実施の形態6−1では、登録フーリエ画像
データRF および照合フーリエ画像データIF に対し振
幅抑制処理を行い、この振幅抑制処理された登録フーリ
エ画像データRFLおよび照合フーリエ画像データIFL
ついて、その座標系を極座標系に変換した。
【0107】これに対して、実施の形態7では、登録フ
ーリエ画像データRF および照合フーリエ画像データI
F に対して位相成分を除去し、この位相成分の除去され
た登録フーリエ画像データRF ’および照合フーリエ画
像データIF ’に対して振幅抑制処理を行い、この振幅
抑制処理された登録フーリエ画像データRFL’および照
合フーリエ画像データIFL’について、その座標系を極
座標系に変換する。但し、ここでの振幅抑制処理では、
すべての振幅を1とする振幅抑制処理とせず、log処
理や√処理とする。図25にこの場合のフローチャート
を示す。
【0108】図16のフローチャートと比較して分かる
ように、この実施の形態では、ステップ175,17
6,177,178を付加し、登録フーリエ画像データ
F および照合フーリエ画像データIF に対して振幅成
分のみを抽出(位相成分をカット)し(ステップ17
5,176)、この位相成分の除去された登録フーリエ
画像データRF ’および照合フーリエ画像データIF
に対して振幅抑制処理を行い(ステップ177,17
8)、この振幅抑制処理された登録フーリエ画像データ
FL’および照合フーリエ画像データIFL’の座標系を
極座標系に変換してRPL’およびIPL’を得る(ステッ
プ167,168)。
【0109】この実施の形態7によれば、登録フーリエ
画像データRF および照合フーリエ画像データIF に対
して位相成分を除去したうえで振幅抑制処理を行うこと
によって、照度変化の影響を受けにくくなり、登録時と
照合時で照度に差があっても高精度での照合が可能とな
るのに加えて、極座標変換して振幅抑制相関法で相関ピ
ークを求める際の性能が向上するという効果が得られ
る。すなわち、位相は各画素の連続性が乏しく、逆に振
幅は各画素の連続性がよい。したがって、位相成分を除
去することによって、極座標変換して振幅抑制相関法で
相関ピークを求める際の性能が向上する。
【0110】但し、この時、図26に示すように、相関
成分エリア上では相関ピークとしてP1,P2が出現し
ている。これは振幅スペクトルが点対称であることによ
る。この相関ピークP1,P2のうちの1つを、マスク
処理を行うことによって回転方向を含めた回転ずれ量Δ
θを示す正規の相関ピークと判定し、この判定した相関
ピークから回転ずれ量Δθを求める。例えば、相関ピー
クP1が正規の相関ピークと判定されれば、図における
領域中の相関ピークP1の縦方向の位置から回転ずれ量
Δθを求める。この場合、領域中の縦方向の上限位置が
Δθ=+180゜、下限位置がΔθ=−180゜を示
す。
【0111】なお、この実施の形態では、登録フーリエ
画像データRF および照合フーリエ画像データIF に対
して位相成分を除去したうえで振幅抑制処理を行い、こ
の振幅抑制処理された登録フーリエ画像データRFL’お
よび照合フーリエ画像データIFL’の座標系を極座標系
に変換したが、位相成分の除去された登録フーリエ画像
データRF ’および照合フーリエ画像データIF ’の座
標系を極座標系に変換した後、この極座標系に変換され
た登録フーリエ画像データRP ’および照合フーリエ画
像データIP ’に振幅抑制処理を行ってRPL’およびI
PL’を得るようにしてもよい。
【0112】〔実施の形態8:(振幅そのまま+位相無
し)〕実施の形態7では、登録フーリエ画像データRF
および照合フーリエ画像データIF に対して位相成分を
除去したうえで振幅抑制処理を行い、この振幅抑制処理
された登録フーリエ画像データRFL’および照合フーリ
エ画像データIFL’について、その座標系を極座標系に
変換した。
【0113】これに対して、実施の形態8では、登録フ
ーリエ画像データRF および照合フーリエ画像データI
F に対して位相成分を除去し、この位相成分が除去され
た登録フーリエ画像データRF ’および照合フーリエ画
像データIF ’について、すなわち振幅成分をそのまま
として位相成分のみが除去された登録フーリエ画像デー
タRF ’および照合フーリエ画像データIF ’につい
て、その座標系を極座標系に変換する。図27にこの場
合のフローチャートを示す。
【0114】図16のフローチャートと比較して分かる
ように、この実施の形態では、(ステップ)175,1
76を付加し、登録フーリエ画像データRF および照合
フーリエ画像データIF に対して振幅成分のみを抽出
(位相成分をカット)し(ステップ175,176)、
この位相成分の除去された登録フーリエ画像データ
F’および照合フーリエ画像データIF ’の座標系を
極座標系に変換してRP ’およびIP ’を得る(ステッ
プ167,168)。
【0115】この実施の形態8によれば、登録フーリエ
画像データ(RF )および照合フーリエ画像データ(I
F )に対して位相成分を除去することにより、実施の形
態7と同様、極座標変換して振幅抑制相関法で相関ピー
クを求める際の性能が向上するという効果が得られる。
【0116】〔実施の形態9:第12発明〕実施の形態
5〜8では、ステップ169より直ちにステップ170
へ進むものとしたが、すなわち粗照合での照合結果を使
用せずに直ちに精照合へ進むものとしたが、粗照合にお
いて登録指紋と照合指紋とが不一致という結果が得られ
た場合にのみ精照合へ進むようにしてもよい。
【0117】すなわち、図16,図23,図24,図2
5,図27におけるステップ170を図28に示すよう
な処理内容としてもよい。この場合、粗照合で得た相関
値を予め定められたしきい値と比較し(ステップ170
−0)、相関値がしきい値よりも大きい場合には直ちに
登録指紋と照合指紋とが一致したと判断する(ステップ
170−9)。これに対して、相関値がしきい値よりも
小さい場合には、粗照合における照合結果が「不一致」
であるとして、ステップ170−1以降の精照合へ進
む。
【0118】この実施の形態9によれば、粗照合で「一
致」と判断された場合、その時点で直ちに照合結果が得
られる。これにより登録指紋と照合指紋とが合致する場
合の照合スピードがアップする。また、この実施の形態
9によれば、粗照合で「不一致」と判断された場合、そ
の時点で照合結果を出さずに精照合へ移行する。これに
より、粗照合と精照合とが組み合わされ、照合精度がア
ップする。
【0119】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように本
発明によれば、第1発明,第2発明,第5発明,第6発
明によれば、実質的に照合指紋を固定とし登録指紋を回
転させながら登録指紋と照合指紋との照合が行われるも
のとなり、また、第3発明,第4発明,第7発明,第8
発明によれば、実質的に登録指紋を固定とし照合指紋を
回転させながら登録指紋と照合指紋との照合が行われる
ものとなり、登録パターンと照合パターンとの間に回転
ずれがあっても、登録パターンと照合パターンとが同一
であるか否かを識別することができるようになる。
【0120】また、第9〜第11発明によれば、粗照合
の過程で得られる相関ピークの位置から両者の回転ずれ
量Δθが求められ、この求められた回転ずれ量Δθに基
づいて登録指紋と照合指紋の何れか一方に回転ずれ補正
を行ったうえで、登録指紋と照合指紋とが振幅抑制相関
法によって再度照合(精照合)されるものとなり、照合
処理の負荷を軽くし、照合結果が得られるまでの時間を
短くすることができる。
【0121】また、第12発明によれば、粗照合の過程
で得られる相関ピークの相関値が所定のしきい値より大
きければ、その時点で直ちに照合結果が得られるものと
なり、登録パターンと照合パターンとが合致する場合の
照合スピードがアップする。また、粗照合の過程で得ら
れる相関ピークの相関値が所定のしきい値より小さけれ
ば、その相関ピークの位置から両者の回転ずれ量(Δ
θ)が求められ、この求められた回転ずれ量(Δθ)に
基づいて登録パターンと照合パターンの何れか一方に回
転ずれ補正を行ったうえで、登録パターンと照合パター
ンとが振幅抑制相関法によって再度照合される(精照
合)ものとなり、粗照合と精照合とが組み合わされて照
合精度がアップする。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る指紋照合装置における登録指紋
と照合指紋とが一致すると判断される場合の指紋照合状
況を示す図である。
【図2】 この指紋照合装置のブロック構成図である。
【図3】 この指紋照合装置における指紋登録動作(実
施の形態1)を説明するためのフローチャートである。
【図4】 この指紋照合装置における指紋照合動作(実
施の形態1)を説明するためのフローチャートである。
【図5】 画像データに対する縮小処理を説明するため
の図である。
【図6】 相関成分エリアの一部における各画素の相関
成分の強度の数値例を示す図である。
【図7】 実験結果から求められた本人対本人、本人対
他人、それぞれの相関値の相対度数分布図である。
【図8】 振幅抑制処理を行わなかった場合の本人対本
人、本人対他人、それぞれの相関値の相対度数分布図で
ある。
【図9】 実施の形態1における指紋登録動作および指
紋照合動作の他の例を説明するためのフローチャートで
ある。
【図10】 照合指紋が他人である場合の指紋照合状況
を図1と対応して示す図である。
【図11】 実施の形態2における指紋登録動作を説明
するためのフローチャートである。
【図12】 実施の形態3における指紋登録動作を説明
するためのフローチャートである。
【図13】 実施の形態3における指紋照合動作を説明
するためのフローチャートである。
【図14】 実施の形態4における指紋照合動作を説明
するためのフローチャートである。
【図15】 実施の形態5における指紋登録動作を説明
するためのフローチャートである。
【図16】 実施の形態5における指紋照合動作を説明
するためのフローチャートである。
【図17】 実施の形態5における粗照合過程を説明す
るための図である。
【図18】 デカルト座標系からの極座標系への変換を
説明するための図である。
【図19】 図16に示したステップ169での処理内
容を示すフローチャートである。
【図20】 粗照合過程での極座標変換されてからの処
理を説明する図である。
【図21】 図16に示したステップ170での処理内
容を示すフローチャートである。
【図22】 実施の形態5における精照合過程を説明す
るための図である。
【図23】 実施の形態6−1における指紋照合動作を
説明するためのフローチャートである。
【図24】 実施の形態6−2における指紋照合動作を
説明するためのフローチャートである。
【図25】 実施の形態7における指紋照合動作を説明
するためのフローチャートである。
【図26】 実施の形態7における指紋照合過程を説明
するための図である。
【図27】 実施の形態8における指紋照合動作を説明
するためのフローチャートである。
【図28】 実施の形態9を説明するためのフローチャ
ートである。
【符号の説明】
10…操作部、20…コントロール部、10−1…テン
キー、10−2…ディスプレイ(LCD)、10−3…
指紋センサ、10−31…光源、10−32,プリズ
ム、10−33…CCDカメラ、20−1…制御部、2
0−2…ROM、20−3…RAM、20−4…ハード
ディスク(HD)、20−5…フレームメモリ(F
M)、20−6…外部接続部(I/F)、20−7…フ
ーリエ変換部(FFT)。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 登録パターンのN次元パターンデータお
    よびこのN次元パターンデータを各々相異なる所定角度
    回転させた複数のN次元パターンデータにN次元離散的
    フーリエ変換を施して登録フーリエN次元回転パターン
    データを作成する登録フーリエパターンデータ作成手段
    と、 照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フ
    ーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータ
    を作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエN次元回転パターンデータから1パタ
    ーンずつ登録フーリエN次元パターンデータを読み出
    し、この読み出した登録フーリエN次元パターンデータ
    と前記照合フーリエN次元パターンデータとを合成し、
    これによって得られる合成フーリエN次元パターンデー
    タに対して振幅抑制処理を行ったうえN次元離散的フー
    リエ変換およびN次元離散的逆フーリエ変換の何れか一
    方を施し、このフーリエ変換の施された合成フーリエN
    次元パターンデータに出現する相関成分エリアのN次元
    パターンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の
    強度に基づいて前記登録パターンと前記照合パターンと
    の照合を行うパターン照合手段とを備えたことを特徴と
    するパターン照合装置。
  2. 【請求項2】 登録パターンのN次元パターンデータに
    N次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエN次元
    パターンデータを作成し、この登録フーリエN次元パタ
    ーンデータおよびこの登録フーリエN次元パターンデー
    タを各々相異なる所定角度回転させた複数の登録フーリ
    エN次元パターンデータを登録フーリエN次元回転パタ
    ーンデータとする登録フーリエパターンデータ作成手段
    と、 照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フ
    ーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータ
    を作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエN次元回転パターンデータから1パタ
    ーンずつ登録フーリエN次元パターンデータを読み出
    し、この読み出した登録フーリエN次元パターンデータ
    と前記照合フーリエN次元パターンデータとを合成し、
    これによって得られる合成フーリエN次元パターンデー
    タに対して振幅抑制処理を行ったうえN次元離散的フー
    リエ変換およびN次元離散的逆フーリエ変換の何れか一
    方を施し、このフーリエ変換の施された合成フーリエN
    次元パターンデータに出現する相関成分エリアのN次元
    パターンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の
    強度に基づいて前記登録パターンと前記照合パターンと
    の照合を行うパターン照合手段とを備えたことを特徴と
    するパターン照合装置。
  3. 【請求項3】 登録パターンのN次元パターンデータに
    N次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエN次元
    パターンデータを作成する登録フーリエパターンデータ
    作成手段と、 照合パターンのN次元パターンデータおよびこのN次元
    パターンデータを各々相異なる所定角度回転させた複数
    のN次元パターンデータを照合パターンのN次元回転パ
    ターンデータとし、この照合パターンのN次元回転パタ
    ーンデータに1パターンずつN次元離散的フーリエ変換
    を施して照合フーリエN次元パターンデータとし、この
    照合フーリエN次元パターンデータと前記登録フーリエ
    N次元パターンデータとを合成し、これによって得られ
    る合成フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑制
    処理を行ったうえN次元離散的フーリエ変換およびN次
    元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施し、このフー
    リエ変換の施された合成フーリエN次元パターンデータ
    に出現する相関成分エリアのN次元パターンデータを構
    成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて前記
    登録パターンと前記照合パターンとの照合を行うパター
    ン照合手段とを備えたことを特徴とするパターン照合装
    置。
  4. 【請求項4】 登録パターンのN次元パターンデータに
    N次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエN次元
    パターンデータを作成する登録フーリエパターンデータ
    作成手段と、 照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フ
    ーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータ
    を作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、 前記照合フーリエN次元パターンデータおよびこの照合
    フーリエN次元パターンデータを各々相異なる所定角度
    回転させた複数の照合フーリエN次元パターンデータを
    照合フーリエN次元回転パターンデータとし、この照合
    フーリエN次元回転パターンデータを1パターンずつ前
    記登録フーリエN次元パターンデータと合成し、これに
    よって得られる合成フーリエN次元パターンデータに対
    して振幅抑制処理を行ったうえN次元離散的フーリエ変
    換およびN次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施
    し、このフーリエ変換の施された合成フーリエN次元パ
    ターンデータに出現する相関成分エリアのN次元パター
    ンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強度に
    基づいて前記登録パターンと前記照合パターンとの照合
    を行うパターン照合手段とを備えたことを特徴とするパ
    ターン照合装置。
  5. 【請求項5】 登録パターンのN次元パターンデータお
    よびこのN次元パターンデータを各々相異なる所定角度
    回転させた複数のN次元パターンデータにN次元離散的
    フーリエ変換を施してから振幅抑制処理を行うことによ
    り登録フーリエN次元回転パターンデータを作成する登
    録フーリエパターンデータ作成手段と、 照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フ
    ーリエ変換を施してから振幅抑制処理を行うことにより
    照合フーリエN次元パターンデータを作成する照合フー
    リエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエN次元回転パターンデータから1パタ
    ーンずつ登録フーリエN次元パターンデータを読み出
    し、この読み出した登録フーリエN次元パターンデータ
    と前記照合フーリエN次元パターンデータとを合成し、
    これによって得られる合成フーリエN次元パターンデー
    タに対してN次元離散的フーリエ変換およびN次元離散
    的逆フーリエ変換の何れか一方を施し、このフーリエ変
    換の施された合成フーリエN次元パターンデータに出現
    する相関成分エリアのN次元パターンデータを構成する
    個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて前記登録パ
    ターンと前記照合パターンとの照合を行うパターン照合
    手段とを備えたことを特徴とするパターン照合装置。
  6. 【請求項6】 登録パターンのN次元パターンデータに
    N次元離散的フーリエ変換を施してから振幅抑制処理を
    行うことにより登録フーリエN次元パターンデータを作
    成し、この登録フーリエN次元パターンデータおよびこ
    の登録フーリエN次元パターンデータを各々相異なる所
    定角度回転させた複数の登録フーリエN次元パターンデ
    ータを登録フーリエN次元回転パターンデータとする登
    録フーリエパターンデータ作成手段と、 照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フ
    ーリエ変換を施してから振幅抑制処理を行うことにより
    照合フーリエN次元パターンデータを作成する照合フー
    リエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエN次元回転パターンデータから1パタ
    ーンずつ登録フーリエN次元パターンデータを読み出
    し、この読み出した登録フーリエN次元パターンデータ
    と前記照合フーリエN次元パターンデータとを合成し、
    これによって得られる合成フーリエN次元パターンデー
    タに対してN次元離散的フーリエ変換およびN次元離散
    的逆フーリエ変換の何れか一方を施し、このフーリエ変
    換の施された合成フーリエN次元パターンデータに出現
    する相関成分エリアのN次元パターンデータを構成する
    個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて前記登録パ
    ターンと前記照合パターンとの照合を行うパターン照合
    手段とを備えたことを特徴とするパターン照合装置。
  7. 【請求項7】 登録パターンのN次元パターンデータに
    N次元離散的フーリエ変換を施してから振幅抑制処理を
    行うことにより登録フーリエN次元パターンデータを作
    成する登録フーリエパターンデータ作成手段と、 照合パターンのN次元パターンデータおよびこのN次元
    パターンデータを各々相異なる所定角度回転させた複数
    のN次元パターンデータを照合パターンのN次元回転パ
    ターンデータとし、この照合パターンのN次元回転パタ
    ーンデータに1パターンずつN次元離散的フーリエ変換
    を施してから振幅抑制処理を行うことにより照合フーリ
    エN次元パターンデータとし、この照合フーリエN次元
    パターンデータと前記登録フーリエN次元パターンデー
    タとを合成し、これによって得られる合成フーリエN次
    元パターンデータに対してN次元離散的フーリエ変換お
    よびN次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施し、
    このフーリエ変換の施された合成フーリエN次元パター
    ンデータに出現する相関成分エリアのN次元パターンデ
    ータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づ
    いて前記登録パターンと前記照合パターンとの照合を行
    うパターン照合手段とを備えたことを特徴とするパター
    ン照合装置。
  8. 【請求項8】 登録パターンのN次元パターンデータに
    N次元離散的フーリエ変換を施してから振幅抑制処理を
    行うことにより登録フーリエN次元パターンデータを作
    成する登録フーリエパターンデータ作成手段と、 照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フ
    ーリエ変換を施してから振幅抑制処理を行うことにより
    照合フーリエN次元パターンデータを作成する照合フー
    リエパターンデータ作成手段と、 前記照合フーリエN次元パターンデータおよびこの照合
    フーリエN次元パターンデータを各々相異なる所定角度
    回転させた複数の照合フーリエN次元パターンデータを
    照合フーリエN次元回転パターンデータとし、この照合
    フーリエN次元回転パターンデータを1パターンずつ前
    記登録フーリエN次元パターンデータと合成し、これに
    よって得られる合成フーリエN次元パターンデータに対
    してN次元離散的フーリエ変換およびN次元離散的逆フ
    ーリエ変換の何れか一方を施し、このフーリエ変換の施
    された合成フーリエN次元パターンデータに出現する相
    関成分エリアのN次元パターンデータを構成する個々の
    データ毎の相関成分の強度に基づいて前記登録パターン
    と前記照合パターンとの照合を行うパターン照合手段と
    を備えたことを特徴とするパターン照合装置。
  9. 【請求項9】 登録パターンのN次元パターンデータに
    N次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエN次元
    パターンデータを作成する登録フーリエパターンデータ
    作成手段と、 照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フ
    ーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータ
    を作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑
    制処理を施す第1の振幅抑制手段と、 前記照合フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑
    制処理を施す第2の振幅抑制手段と、 前記第1の振幅抑制手段によって振幅抑制処理された登
    録フーリエN次元パターンデータの座標系を極座標系に
    変換する第1の極標系変換手段と、 前記第2の振幅抑制手段によって振幅抑制処理された照
    合フーリエN次元パターンデータの座標系を極座標系に
    変換する第2の極標系変換手段と、 前記第1の極座標系変換手段によって極座標系に変換さ
    れた登録フーリエN次元パターンデータと前記第2の極
    座標系変換手段によって極座標系に変換された照合フー
    リエN次元パターンデータとを振幅抑制相関法によって
    照合する振幅抑制相関照合手段と、 この振幅抑制相関照合手段での照合過程で得られる相関
    ピークの位置から両者の回転ずれ量を求める回転ずれ量
    測定手段と、 この回転ずれ量測定手段で求められた回転ずれ量に基づ
    いて前記登録パターンと前記照合パターンの何れか一方
    に回転ずれ補正を行う回転ずれ補正手段とを備え、 前記回転ずれ補正手段によって回転ずれの補正を行った
    うえで前記登録パターンと前記照合パターンとを振幅抑
    制相関法によって再度照合することを特徴とするパター
    ン照合装置。
  10. 【請求項10】 登録パターンのN次元パターンデータ
    にN次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエN次
    元パターンデータを作成する登録フーリエパターンデー
    タ作成手段と、 照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フ
    ーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータ
    を作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑
    制処理を施す第1の振幅抑制手段と、 前記照合フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑
    制処理を施す第2の振幅抑制手段と、 前記第1の振幅抑制手段によって振幅抑制処理された登
    録フーリエN次元パターンデータに対して、その位相の
    符号を振幅に付加し、符号付き振幅成分のみ抽出したう
    えで、その座標系を極座標系に変換する第1の極標系変
    換手段と、 前記第2の振幅抑制手段によって振幅抑制処理された照
    合フーリエN次元パターンデータに対して、その位相の
    符号を振幅に付加し、符号付き振幅成分のみ抽出したう
    えで、その座標系を極座標系に変換する第2の極標系変
    換手段と、 前記第1の極座標系変換手段によって極座標系に変換さ
    れた登録フーリエN次元パターンデータと前記第2の極
    座標系変換手段によって極座標系に変換された照合フー
    リエN次元パターンデータとを振幅抑制相関法によって
    照合する振幅抑制相関照合手段と、 この振幅抑制相関照合手段での照合過程で得られる相関
    ピークの位置から両者の回転ずれ量を求める回転ずれ量
    測定手段と、 この回転ずれ量測定手段で求められた回転ずれ量に基づ
    いて前記登録パターンと前記照合パターンの何れか一方
    に回転ずれ補正を行う回転ずれ補正手段とを備え、 前記回転ずれ補正手段によって回転ずれの補正を行った
    うえで前記登録パターンと前記照合パターンとを振幅抑
    制相関法によって再度照合することを特徴とするパター
    ン照合装置。
  11. 【請求項11】 登録パターンのN次元パターンデータ
    にN次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエN次
    元パターンデータを作成する登録フーリエパターンデー
    タ作成手段と、 照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フ
    ーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータ
    を作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエN次元パターンデータの位相成分を除
    去したうえでこの登録フーリエN次元パターンデータに
    対して振幅抑制処理を施す第1の振幅抑制手段と、 前記照合フーリエN次元パターンデータの位相成分を除
    去したうえでこの照合フーリエN次元パターンデータに
    対して振幅抑制処理を施す第2の振幅抑制手段と、 前記第1の振幅抑制手段によって振幅抑制処理された登
    録フーリエN次元パターンデータの座標系を極座標系に
    変換する第1の極標系変換手段と、 前記第2の振幅抑制手段によって振幅抑制処理された照
    合フーリエN次元パターンデータの座標系を極座標系に
    変換する第2の極標系変換手段と、 前記第1の極座標系変換手段によって極座標系に変換さ
    れた登録フーリエN次元パターンデータと前記第2の極
    座標系変換手段によって極座標系に変換された照合フー
    リエN次元パターンデータとを振幅抑制相関法によって
    照合する振幅抑制相関照合手段と、 この振幅抑制相関照合手段での照合過程で得られる相関
    ピークの位置から両者の回転ずれ量を求める回転ずれ量
    測定手段と、 この回転ずれ量測定手段で求められた回転ずれ量に基づ
    いて前記登録パターンと前記照合パターンの何れか一方
    に回転ずれ補正を行う回転ずれ補正手段とを備え、 前記回転ずれ補正手段によって回転ずれの補正を行った
    うえで前記登録パターンと前記照合パターンとを振幅抑
    制相関法によって再度照合することを特徴とするパター
    ン照合装置。
  12. 【請求項12】 請求項9〜11において、前記振幅抑
    制相関照合手段での照合過程で得られる相関ピークの相
    関値が所定のしきい値より大きい場合は、直ちに登録パ
    ターンと照合パターンとの照合を行うようにしたことを
    特徴とするパターン照合装置。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6757410B1 (en) 1999-06-24 2004-06-29 Nec Electronics Corporation Fingerprint verification system and fingerprint verifying method
JP2005339098A (ja) * 2004-05-26 2005-12-08 Yamatake Corp パターン照合装置
US7260246B2 (en) 2000-09-29 2007-08-21 Fujitsu Limited Pattern-center determination apparatus and method as well as medium on which pattern-center determination program is recorded, and pattern-orientation determination apparatus and method as well as medium on which pattern-orientation determination program is recorded, as well as pattern alignment apparatus and pattern verification apparatus
JP2009282706A (ja) * 2008-05-21 2009-12-03 Sony Corp 静脈認証装置および静脈認証方法
US7778467B2 (en) 2003-02-05 2010-08-17 Sony Corporation Image matching system and image matching method and program
JP2010262669A (ja) * 2010-07-14 2010-11-18 Yamatake Corp パターン照合装置
JP2011215811A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Fujitsu Ltd 画像マッチング装置、および、画像マッチング方法
WO2014002813A1 (ja) 2012-06-26 2014-01-03 コニカミノルタ株式会社 画像処理装置、画像処理方法および画像処理プログラム
WO2014024854A1 (ja) 2012-08-10 2014-02-13 コニカミノルタ株式会社 画像処理装置、画像処理方法および画像処理プログラム
WO2014073288A1 (ja) 2012-11-07 2014-05-15 コニカミノルタ株式会社 画像処理装置、画像処理方法および画像処理プログラム
JP2014106842A (ja) * 2012-11-29 2014-06-09 Azbil Corp 照合装置および照合方法
WO2014199824A1 (ja) 2013-06-13 2014-12-18 コニカミノルタ株式会社 画像処理方法、画像処理装置および画像処理プログラム
JP2018075444A (ja) * 2018-01-12 2018-05-17 株式会社トプコン 眼科装置
JP2021033679A (ja) * 2019-08-26 2021-03-01 株式会社富士通ビー・エス・シー 検査装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105188541A (zh) 2013-05-16 2015-12-23 柯尼卡美能达株式会社 图像处理装置和程序

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6757410B1 (en) 1999-06-24 2004-06-29 Nec Electronics Corporation Fingerprint verification system and fingerprint verifying method
US7260246B2 (en) 2000-09-29 2007-08-21 Fujitsu Limited Pattern-center determination apparatus and method as well as medium on which pattern-center determination program is recorded, and pattern-orientation determination apparatus and method as well as medium on which pattern-orientation determination program is recorded, as well as pattern alignment apparatus and pattern verification apparatus
US7778467B2 (en) 2003-02-05 2010-08-17 Sony Corporation Image matching system and image matching method and program
JP2005339098A (ja) * 2004-05-26 2005-12-08 Yamatake Corp パターン照合装置
JP2009282706A (ja) * 2008-05-21 2009-12-03 Sony Corp 静脈認証装置および静脈認証方法
JP2011215811A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Fujitsu Ltd 画像マッチング装置、および、画像マッチング方法
JP2010262669A (ja) * 2010-07-14 2010-11-18 Yamatake Corp パターン照合装置
WO2014002813A1 (ja) 2012-06-26 2014-01-03 コニカミノルタ株式会社 画像処理装置、画像処理方法および画像処理プログラム
WO2014024854A1 (ja) 2012-08-10 2014-02-13 コニカミノルタ株式会社 画像処理装置、画像処理方法および画像処理プログラム
WO2014073288A1 (ja) 2012-11-07 2014-05-15 コニカミノルタ株式会社 画像処理装置、画像処理方法および画像処理プログラム
JP2014106842A (ja) * 2012-11-29 2014-06-09 Azbil Corp 照合装置および照合方法
WO2014199824A1 (ja) 2013-06-13 2014-12-18 コニカミノルタ株式会社 画像処理方法、画像処理装置および画像処理プログラム
JP2018075444A (ja) * 2018-01-12 2018-05-17 株式会社トプコン 眼科装置
JP2021033679A (ja) * 2019-08-26 2021-03-01 株式会社富士通ビー・エス・シー 検査装置

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