JP3254622B2 - パターン照合装置 - Google Patents
パターン照合装置Info
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- JP3254622B2 JP3254622B2 JP20983496A JP20983496A JP3254622B2 JP 3254622 B2 JP3254622 B2 JP 3254622B2 JP 20983496 A JP20983496 A JP 20983496A JP 20983496 A JP20983496 A JP 20983496A JP 3254622 B2 JP3254622 B2 JP 3254622B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、空間周波数特性
に基づいてＮ次元のパターン〔例えば、音声（１次
元）、指紋，網膜，顔（２次元）、立体像（３次元）〕
の照合を行うパターン照合装置に関するものである。
に基づいてＮ次元のパターン〔例えば、音声（１次
元）、指紋，網膜，顔（２次元）、立体像（３次元）〕
の照合を行うパターン照合装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータ室や重要機械室への
入退室管理、コンピュータ端末や銀行の金融端末へのア
クセス管理などの個人認識を必要とする分野において、
これまでの暗証番号やＩＤカードに代わって、音声照合
装置や指紋照合装置が採用されつつある。
入退室管理、コンピュータ端末や銀行の金融端末へのア
クセス管理などの個人認識を必要とする分野において、
これまでの暗証番号やＩＤカードに代わって、音声照合
装置や指紋照合装置が採用されつつある。
【０００３】本出願人は、先に特願平７−１０８５２６
号として、「パターン照合装置」を提案した。このパタ
ーン照合装置では、照合指紋の画像データ（２次元パタ
ーンデータ）に２次元離散的フーリエ変換を施して照合
フーリエ画像データを作成する。そして、この照合フー
リエ画像データと同様の処理を施して作成されている登
録指紋の登録フーリエ画像データとを合成し、この合成
フーリエ画像データに対して振幅抑制処理（ｌｏｇ処
理）を行ったうえ、２次元離散的フーリエ変換を施す。
そして、この２次元離散的フーリエ変換の施された合成
フーリエ画像データに出現する所定の相関成分エリアよ
りその相関成分の強度の高い上位ｎ画素を抽出し、この
抽出したｎ画素の相関成分の強度の平均を相関値とし、
しきい値と比較する。相関値がしきい値よりも高ければ
登録指紋と照合指紋とは一致したと判断する。
号として、「パターン照合装置」を提案した。このパタ
ーン照合装置では、照合指紋の画像データ（２次元パタ
ーンデータ）に２次元離散的フーリエ変換を施して照合
フーリエ画像データを作成する。そして、この照合フー
リエ画像データと同様の処理を施して作成されている登
録指紋の登録フーリエ画像データとを合成し、この合成
フーリエ画像データに対して振幅抑制処理（ｌｏｇ処
理）を行ったうえ、２次元離散的フーリエ変換を施す。
そして、この２次元離散的フーリエ変換の施された合成
フーリエ画像データに出現する所定の相関成分エリアよ
りその相関成分の強度の高い上位ｎ画素を抽出し、この
抽出したｎ画素の相関成分の強度の平均を相関値とし、
しきい値と比較する。相関値がしきい値よりも高ければ
登録指紋と照合指紋とは一致したと判断する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このパ
ターン照合装置では、相関成分エリアの画素から求めら
れる相関値を用いて指紋照合を行うようにしているが、
認識率が充分であるとは言えず、さらなる認識率のアッ
プが望まれている。
ターン照合装置では、相関成分エリアの画素から求めら
れる相関値を用いて指紋照合を行うようにしているが、
認識率が充分であるとは言えず、さらなる認識率のアッ
プが望まれている。
【０００５】本発明はこのような課題を解決するために
なされたもので、その目的とするところは、振幅成分が
持っている識別能力を活用して、認識率を高めることの
できるパターン照合装置を提供することにある。
なされたもので、その目的とするところは、振幅成分が
持っている識別能力を活用して、認識率を高めることの
できるパターン照合装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、第１発明（請求項１に係る発明）は、登録パ
ターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリエ
変換を施して登録フーリエＮ次元パターンデータを作成
し、照合パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散
的フーリエ変換を施して照合フーリエＮ次元パターンデ
ータを作成し、登録フーリエＮ次元パターンデータと照
合フーリエＮ次元パターンデータとを合成し、これによ
って得られる合成フーリエＮ次元パターンデータに対し
て振幅抑制処理を行ったうえＮ次元離散的フーリエ変換
およびＮ次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施
し、このフーリエ変換の施された合成フーリエＮ次元パ
ターンデータに出現する相関成分エリアのＮ次元パター
ンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強度に
基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を行い、
これにより登録パターンと照合パターンとが同一と判定
されなかった場合、登録フーリエＮ次元パターンデータ
を構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこ
れに振幅圧縮処理を施し、また照合フーリエＮ次元パタ
ーンデータを構成する個々のデータから振幅成分のみを
抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、これらの振幅圧縮
処理を施したデータから登録パターンと照合パターンと
の相関距離を求め、この求めた相関距離に基づいて登録
パターンと照合パターンとの照合を行うようにしたもの
である。
るために、第１発明（請求項１に係る発明）は、登録パ
ターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリエ
変換を施して登録フーリエＮ次元パターンデータを作成
し、照合パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散
的フーリエ変換を施して照合フーリエＮ次元パターンデ
ータを作成し、登録フーリエＮ次元パターンデータと照
合フーリエＮ次元パターンデータとを合成し、これによ
って得られる合成フーリエＮ次元パターンデータに対し
て振幅抑制処理を行ったうえＮ次元離散的フーリエ変換
およびＮ次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施
し、このフーリエ変換の施された合成フーリエＮ次元パ
ターンデータに出現する相関成分エリアのＮ次元パター
ンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強度に
基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を行い、
これにより登録パターンと照合パターンとが同一と判定
されなかった場合、登録フーリエＮ次元パターンデータ
を構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこ
れに振幅圧縮処理を施し、また照合フーリエＮ次元パタ
ーンデータを構成する個々のデータから振幅成分のみを
抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、これらの振幅圧縮
処理を施したデータから登録パターンと照合パターンと
の相関距離を求め、この求めた相関距離に基づいて登録
パターンと照合パターンとの照合を行うようにしたもの
である。
【０００７】この発明によれば、最初に、相関成分エリ
アのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ毎の
相関成分の強度に基づいて登録パターンと照合パターン
との照合が行われる。この照合の結果、不一致である場
合には、登録フーリエＮ次元パターンデータを構成する
個々のデータから振幅成分のみが抽出されてこれにｌｏ
ｇ処理や√処理等の振幅圧縮処理が施され、また照合フ
ーリエＮ次元パターンデータを構成する個々のデータか
ら振幅成分のみが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理
等の振幅圧縮処理が施され、これらの振幅圧縮処理の施
されたデータから登録パターンと照合パターンとの相関
距離（例えば、ユークリッド距離）が求められ、この求
められた相関距離に基づいて登録パターンと照合パター
ンとの照合が行われる。
アのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ毎の
相関成分の強度に基づいて登録パターンと照合パターン
との照合が行われる。この照合の結果、不一致である場
合には、登録フーリエＮ次元パターンデータを構成する
個々のデータから振幅成分のみが抽出されてこれにｌｏ
ｇ処理や√処理等の振幅圧縮処理が施され、また照合フ
ーリエＮ次元パターンデータを構成する個々のデータか
ら振幅成分のみが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理
等の振幅圧縮処理が施され、これらの振幅圧縮処理の施
されたデータから登録パターンと照合パターンとの相関
距離（例えば、ユークリッド距離）が求められ、この求
められた相関距離に基づいて登録パターンと照合パター
ンとの照合が行われる。
【０００８】第２発明（請求項２に係る発明）は、登録
パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリ
エ変換を施してから振幅抑制処理を行うことにより登録
フーリエＮ次元パターンデータを作成し、照合パターン
のＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリエ変換を
施してから振幅抑制処理を行うことにより照合フーリエ
Ｎ次元パターンデータを作成し、登録フーリエＮ次元パ
ターンデータと照合フーリエＮ次元パターンデータとを
合成し、これによって得られる合成フーリエＮ次元パタ
ーンデータに対してＮ次元離散的フーリエ変換およびＮ
次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施し、このフ
ーリエ変換の施された合成フーリエＮ次元パターンデー
タに出現する相関成分エリアのＮ次元パターンデータを
構成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて登
録パターンと照合パターンとの照合を行い、これにより
登録パターンと照合パターンとが同一と判定されなかっ
た場合、Ｎ次元離散的フーリエ変換の施された登録パタ
ーンのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータか
ら振幅成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、
またＮ次元離散的フーリエ変換の施された照合パターン
のＮ次元パターンデータを構成する個々のデータから振
幅成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、これ
らの振幅圧縮処理を施したデータから登録パターンと照
合パターンとの相関距離を求め、この求めた相関距離に
基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を行うよ
うにしたものである。
パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリ
エ変換を施してから振幅抑制処理を行うことにより登録
フーリエＮ次元パターンデータを作成し、照合パターン
のＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリエ変換を
施してから振幅抑制処理を行うことにより照合フーリエ
Ｎ次元パターンデータを作成し、登録フーリエＮ次元パ
ターンデータと照合フーリエＮ次元パターンデータとを
合成し、これによって得られる合成フーリエＮ次元パタ
ーンデータに対してＮ次元離散的フーリエ変換およびＮ
次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施し、このフ
ーリエ変換の施された合成フーリエＮ次元パターンデー
タに出現する相関成分エリアのＮ次元パターンデータを
構成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて登
録パターンと照合パターンとの照合を行い、これにより
登録パターンと照合パターンとが同一と判定されなかっ
た場合、Ｎ次元離散的フーリエ変換の施された登録パタ
ーンのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータか
ら振幅成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、
またＮ次元離散的フーリエ変換の施された照合パターン
のＮ次元パターンデータを構成する個々のデータから振
幅成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、これ
らの振幅圧縮処理を施したデータから登録パターンと照
合パターンとの相関距離を求め、この求めた相関距離に
基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を行うよ
うにしたものである。
【０００９】この発明によれば、最初に、相関成分エリ
アのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ毎の
相関成分の強度に基づいて登録パターンと照合パターン
との照合が行われる。この照合の結果、不一致である場
合には、Ｎ次元離散的フーリエ変換の施された登録パタ
ーンのＮ次元パターンデータ（振幅抑制処理が施される
前の登録フーリエＮ次元パターンデータ）を構成する個
々のデータから振幅成分のみが抽出されてこれにｌｏｇ
処理や√処理等の振幅圧縮処理が施され、またＮ次元離
散的フーリエ変換の施された照合パターンのＮ次元パタ
ーンデータ（振幅抑制処理が施される前の照合フーリエ
Ｎ次元パターンデータ）を構成する個々のデータから振
幅成分のみが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理等の
振幅圧縮処理が施され、これらの振幅圧縮処理の施され
たデータから登録パターンと照合パターンとの相関距離
（例えば、ユークリッド距離）が求められ、この求めら
れた相関距離に基づいて登録パターンと照合パターンと
の照合が行われる。
アのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ毎の
相関成分の強度に基づいて登録パターンと照合パターン
との照合が行われる。この照合の結果、不一致である場
合には、Ｎ次元離散的フーリエ変換の施された登録パタ
ーンのＮ次元パターンデータ（振幅抑制処理が施される
前の登録フーリエＮ次元パターンデータ）を構成する個
々のデータから振幅成分のみが抽出されてこれにｌｏｇ
処理や√処理等の振幅圧縮処理が施され、またＮ次元離
散的フーリエ変換の施された照合パターンのＮ次元パタ
ーンデータ（振幅抑制処理が施される前の照合フーリエ
Ｎ次元パターンデータ）を構成する個々のデータから振
幅成分のみが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理等の
振幅圧縮処理が施され、これらの振幅圧縮処理の施され
たデータから登録パターンと照合パターンとの相関距離
（例えば、ユークリッド距離）が求められ、この求めら
れた相関距離に基づいて登録パターンと照合パターンと
の照合が行われる。
【００１０】第３発明（請求項３に係る発明）は、登録
パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリ
エ変換を施して登録フーリエＮ次元パターンデータを作
成し、照合パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離
散的フーリエ変換を施して照合フーリエＮ次元パターン
データを作成し、登録フーリエＮ次元パターンデータを
構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこれ
に振幅圧縮処理を施し、また照合フーリエＮ次元パター
ンデータを構成する個々のデータから振幅成分のみを抽
出してこれに振幅圧縮処理を施し、これらの振幅圧縮処
理を施したデータから登録パターンと照合パターンとの
相関距離を求め、この求めた相関距離に基づいて登録パ
ターンと照合パターンとの照合を行い、これにより登録
パターンと照合パターンとが同一と判定されなかった場
合、登録フーリエＮ次元パターンデータと照合フーリエ
Ｎ次元パターンデータとを合成し、これによって得られ
る合成フーリエＮ次元パターンデータに対して振幅抑制
処理を行ったうえＮ次元離散的フーリエ変換およびＮ次
元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施し、このフー
リエ変換の施された合成フーリエＮ次元パターンデータ
に出現する相関成分エリアのＮ次元パターンデータを構
成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて登録
パターンと照合パターンとの照合を行うようにしたもの
である。
パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリ
エ変換を施して登録フーリエＮ次元パターンデータを作
成し、照合パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離
散的フーリエ変換を施して照合フーリエＮ次元パターン
データを作成し、登録フーリエＮ次元パターンデータを
構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこれ
に振幅圧縮処理を施し、また照合フーリエＮ次元パター
ンデータを構成する個々のデータから振幅成分のみを抽
出してこれに振幅圧縮処理を施し、これらの振幅圧縮処
理を施したデータから登録パターンと照合パターンとの
相関距離を求め、この求めた相関距離に基づいて登録パ
ターンと照合パターンとの照合を行い、これにより登録
パターンと照合パターンとが同一と判定されなかった場
合、登録フーリエＮ次元パターンデータと照合フーリエ
Ｎ次元パターンデータとを合成し、これによって得られ
る合成フーリエＮ次元パターンデータに対して振幅抑制
処理を行ったうえＮ次元離散的フーリエ変換およびＮ次
元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施し、このフー
リエ変換の施された合成フーリエＮ次元パターンデータ
に出現する相関成分エリアのＮ次元パターンデータを構
成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて登録
パターンと照合パターンとの照合を行うようにしたもの
である。
【００１１】この発明によれば、最初に、登録フーリエ
Ｎ次元パターンデータを構成する個々のデータから振幅
成分のみが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理等の振
幅圧縮処理が施され、また照合フーリエＮ次元パターン
データを構成する個々のデータから振幅成分のみが抽出
されてこれにｌｏｇ処理や√処理等の振幅圧縮処理が施
され、これらの振幅圧縮処理の施されたデータから登録
パターンと照合パターンとの相関距離（例えば、ユーク
リッド距離）が求められ、この求められた相関距離に基
づいて登録パターンと照合パターンとの照合が行われ
る。この照合の結果、不一致である場合には、相関成分
エリアのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ
毎の相関成分の強度に基づいて登録パターンと照合パタ
ーンとの照合が行われる。
Ｎ次元パターンデータを構成する個々のデータから振幅
成分のみが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理等の振
幅圧縮処理が施され、また照合フーリエＮ次元パターン
データを構成する個々のデータから振幅成分のみが抽出
されてこれにｌｏｇ処理や√処理等の振幅圧縮処理が施
され、これらの振幅圧縮処理の施されたデータから登録
パターンと照合パターンとの相関距離（例えば、ユーク
リッド距離）が求められ、この求められた相関距離に基
づいて登録パターンと照合パターンとの照合が行われ
る。この照合の結果、不一致である場合には、相関成分
エリアのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ
毎の相関成分の強度に基づいて登録パターンと照合パタ
ーンとの照合が行われる。
【００１２】第４発明（請求項４に係る発明）は、登録
パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリ
エ変換を施してから振幅抑制処理を行うことにより登録
フーリエＮ次元パターンデータを作成し、照合パターン
のＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリエ変換を
施してから振幅抑制処理を行うことにより照合フーリエ
Ｎ次元パターンデータを作成し、Ｎ次元離散的フーリエ
変換の施された登録パターンのＮ次元パターンデータを
構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこれ
に振幅圧縮処理を施し、またＮ次元離散的フーリエ変換
の施された照合パターンのＮ次元パターンデータを構成
する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこれに振
幅圧縮処理を施し、これらの振幅圧縮処理を施したデー
タから登録パターンと照合パターンとの相関距離を求
め、この求めた相関距離に基づいて登録パターンと照合
パターンとの照合を行い、これにより登録パターンと照
合パターンとが同一と判定されなかった場合、登録フー
リエＮ次元パターンデータと照合フーリエＮ次元パター
ンデータとを合成し、これによって得られる合成フーリ
エＮ次元パターンデータに対してＮ次元離散的フーリエ
変換およびＮ次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を
施し、このフーリエ変換の施された合成フーリエＮ次元
パターンデータに出現する相関成分エリアのＮ次元パタ
ーンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強度
に基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を行う
ようにしたものである。
パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリ
エ変換を施してから振幅抑制処理を行うことにより登録
フーリエＮ次元パターンデータを作成し、照合パターン
のＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フーリエ変換を
施してから振幅抑制処理を行うことにより照合フーリエ
Ｎ次元パターンデータを作成し、Ｎ次元離散的フーリエ
変換の施された登録パターンのＮ次元パターンデータを
構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこれ
に振幅圧縮処理を施し、またＮ次元離散的フーリエ変換
の施された照合パターンのＮ次元パターンデータを構成
する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこれに振
幅圧縮処理を施し、これらの振幅圧縮処理を施したデー
タから登録パターンと照合パターンとの相関距離を求
め、この求めた相関距離に基づいて登録パターンと照合
パターンとの照合を行い、これにより登録パターンと照
合パターンとが同一と判定されなかった場合、登録フー
リエＮ次元パターンデータと照合フーリエＮ次元パター
ンデータとを合成し、これによって得られる合成フーリ
エＮ次元パターンデータに対してＮ次元離散的フーリエ
変換およびＮ次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を
施し、このフーリエ変換の施された合成フーリエＮ次元
パターンデータに出現する相関成分エリアのＮ次元パタ
ーンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強度
に基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を行う
ようにしたものである。
【００１３】この発明によれば、最初に、Ｎ次元離散的
フーリエ変換の施された登録パターンのＮ次元パターン
データ（振幅抑制処理が施される前の登録フーリエＮ次
元パターンデータ）を構成する個々のデータから振幅成
分のみが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理等の振幅
圧縮処理が施され、またＮ次元離散的フーリエ変換の施
された照合パターンのＮ次元パターンデータ（振幅抑制
処理が施される前の照合フーリエＮ次元パターンデー
タ）を構成する個々のデータから振幅成分のみが抽出さ
れてこれにｌｏｇ処理や√処理等の振幅圧縮処理が施さ
れ、これらの振幅圧縮処理の施されたデータから登録パ
ターンと照合パターンとの相関距離（例えば、ユークリ
ッド距離）が求められ、この求められた相関距離に基づ
いて登録パターンと照合パターンとの照合が行われる。
この照合の結果、不一致である場合には、相関成分エリ
アのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ毎の
相関成分の強度に基づいて登録パターンと照合パターン
との照合が行われる。第５発明（請求項５に係る発明）
は、登録パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散
的フーリエ変換を施して登録フーリエＮ次元パターンデ
ータを作成し、照合パターンのＮ次元パターンデータに
Ｎ次元離散的フーリエ変換を施して照合フーリエＮ次元
パターンデータを作成し、登録フーリエＮ次元パターン
データを構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出
してこれに振幅圧縮処理を施し、また照合フーリエＮ次
元パターンデータを構成する個々のデータから振幅成分
のみを抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、これらの振
幅圧縮処理を施したデータから登録パターンと照合パタ
ーンとの相関距離を求め、この求めた相関距離に基づい
て登録パターンと照合パターンとの照合を行うようにし
たものである。この発明によれば、登録フーリエＮ次元
パターンデータを構成する個々のデータから振幅成分の
みが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理等の振幅圧縮
処理が施され、また照合フーリエＮ次元パターンデータ
を構成する個々のデータから振幅成分のみが抽出されて
これにｌｏｇ処理や√処理等の振幅圧縮処理が施され、
これらの振幅圧縮処理の施されたデータから登録パター
ンと照合パターンとの相関距離（例えば、ユークリッド
距離）が求められ、この求められた相関距離に基づいて
登録パターンと照合パターンとの照合が行われる。
フーリエ変換の施された登録パターンのＮ次元パターン
データ（振幅抑制処理が施される前の登録フーリエＮ次
元パターンデータ）を構成する個々のデータから振幅成
分のみが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理等の振幅
圧縮処理が施され、またＮ次元離散的フーリエ変換の施
された照合パターンのＮ次元パターンデータ（振幅抑制
処理が施される前の照合フーリエＮ次元パターンデー
タ）を構成する個々のデータから振幅成分のみが抽出さ
れてこれにｌｏｇ処理や√処理等の振幅圧縮処理が施さ
れ、これらの振幅圧縮処理の施されたデータから登録パ
ターンと照合パターンとの相関距離（例えば、ユークリ
ッド距離）が求められ、この求められた相関距離に基づ
いて登録パターンと照合パターンとの照合が行われる。
この照合の結果、不一致である場合には、相関成分エリ
アのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ毎の
相関成分の強度に基づいて登録パターンと照合パターン
との照合が行われる。第５発明（請求項５に係る発明）
は、登録パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散
的フーリエ変換を施して登録フーリエＮ次元パターンデ
ータを作成し、照合パターンのＮ次元パターンデータに
Ｎ次元離散的フーリエ変換を施して照合フーリエＮ次元
パターンデータを作成し、登録フーリエＮ次元パターン
データを構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出
してこれに振幅圧縮処理を施し、また照合フーリエＮ次
元パターンデータを構成する個々のデータから振幅成分
のみを抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、これらの振
幅圧縮処理を施したデータから登録パターンと照合パタ
ーンとの相関距離を求め、この求めた相関距離に基づい
て登録パターンと照合パターンとの照合を行うようにし
たものである。この発明によれば、登録フーリエＮ次元
パターンデータを構成する個々のデータから振幅成分の
みが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理等の振幅圧縮
処理が施され、また照合フーリエＮ次元パターンデータ
を構成する個々のデータから振幅成分のみが抽出されて
これにｌｏｇ処理や√処理等の振幅圧縮処理が施され、
これらの振幅圧縮処理の施されたデータから登録パター
ンと照合パターンとの相関距離（例えば、ユークリッド
距離）が求められ、この求められた相関距離に基づいて
登録パターンと照合パターンとの照合が行われる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施の形態に基づ
き詳細に説明する。図２はこの発明の一実施の形態を示
す指紋照合装置のブロック構成図である。同図におい
て、１０は操作部、２０はコントロール部であり、操作
部１０にはテンキー１０−１，ディスプレイ（ＬＣＤ）
１０−２と共に指紋センサ１０−３が設けられている。
指紋センサ１０−３は光源１０−３１，プリズム１０−
３２，ＣＣＤカメラ１０−３３を備えてなる。コントロ
ール部２０は、ＣＰＵを有してなる制御部２０−１と、
ＲＯＭ２０−２と、ＲＡＭ２０−３と、ハードディスク
（ＨＤ）２０−４と、フレームメモリ（ＦＭ）２０−５
と、外部接続部（Ｉ／Ｆ）２０−６と、フーリエ変換部
（ＦＦＴ）２０−７とを備えてなり、ＲＯＭ２０−２に
は登録プログラムと照合プログラムが格納されている。
き詳細に説明する。図２はこの発明の一実施の形態を示
す指紋照合装置のブロック構成図である。同図におい
て、１０は操作部、２０はコントロール部であり、操作
部１０にはテンキー１０−１，ディスプレイ（ＬＣＤ）
１０−２と共に指紋センサ１０−３が設けられている。
指紋センサ１０−３は光源１０−３１，プリズム１０−
３２，ＣＣＤカメラ１０−３３を備えてなる。コントロ
ール部２０は、ＣＰＵを有してなる制御部２０−１と、
ＲＯＭ２０−２と、ＲＡＭ２０−３と、ハードディスク
（ＨＤ）２０−４と、フレームメモリ（ＦＭ）２０−５
と、外部接続部（Ｉ／Ｆ）２０−６と、フーリエ変換部
（ＦＦＴ）２０−７とを備えてなり、ＲＯＭ２０−２に
は登録プログラムと照合プログラムが格納されている。
【００１５】〔指紋の登録〕この指紋照合装置において
利用者の指紋は次のようにして登録される。すなわち、
運用する前に、利用者は、テンキー１０−１を用いて自
己に割り当てられたＩＤナンバを入力のうえ（図３に示
すステップ３０１）、指紋センサ１０−３のプリズム１
０−３２上に指を置く。プリズム１０−３２には光源１
０−３１から光が照射されており、プリズム１０−３２
の面に接触しない指紋の凹部（谷線部）では、光源１０
−３１からの光は全反射し、ＣＣＤカメラ１０−３３に
至る。逆にプリズム１０−３２の面に接触する指紋の凸
部（隆線部）では全反射条件がくずれ、光源１０−３１
からの光は散乱する。これにより、指紋の谷線部は明る
く、隆線部は暗い、コントラストのある指紋の紋様が採
取される。この採取された指紋（登録指紋）の紋様は、
Ａ／Ｄ変換により、３２０×４００画素，２５６階調の
濃淡画像（画像データ：２次元パターンデータ）とし
て、コントロール部２０へ与えられる。
利用者の指紋は次のようにして登録される。すなわち、
運用する前に、利用者は、テンキー１０−１を用いて自
己に割り当てられたＩＤナンバを入力のうえ（図３に示
すステップ３０１）、指紋センサ１０−３のプリズム１
０−３２上に指を置く。プリズム１０−３２には光源１
０−３１から光が照射されており、プリズム１０−３２
の面に接触しない指紋の凹部（谷線部）では、光源１０
−３１からの光は全反射し、ＣＣＤカメラ１０−３３に
至る。逆にプリズム１０−３２の面に接触する指紋の凸
部（隆線部）では全反射条件がくずれ、光源１０−３１
からの光は散乱する。これにより、指紋の谷線部は明る
く、隆線部は暗い、コントラストのある指紋の紋様が採
取される。この採取された指紋（登録指紋）の紋様は、
Ａ／Ｄ変換により、３２０×４００画素，２５６階調の
濃淡画像（画像データ：２次元パターンデータ）とし
て、コントロール部２０へ与えられる。
【００１６】制御部２０−１は、この操作部１０より与
えられる登録指紋の画像データをフレームメモリ２０−
５を介して取り込み（ステップ３０２）、この取り込ん
だ登録指紋の画像データに対し縮小処理を行う（ステッ
プ３０３）。この縮小処理は、３２０×４００画素，２
５６階調の原画像データに対し、そのｘ方向（横方向）
については左右の端を３２画素づつ除いて４画素ビッチ
で間引くことにより、そのｙ方向（縦方向）については
上下の端を８画素づつ除いて３画素ピッチで間引くこと
により行う。これにより、登録指紋の画像データが、６
４×１２８画素，２５６階調の画像データに縮小される
（図５参照）。
えられる登録指紋の画像データをフレームメモリ２０−
５を介して取り込み（ステップ３０２）、この取り込ん
だ登録指紋の画像データに対し縮小処理を行う（ステッ
プ３０３）。この縮小処理は、３２０×４００画素，２
５６階調の原画像データに対し、そのｘ方向（横方向）
については左右の端を３２画素づつ除いて４画素ビッチ
で間引くことにより、そのｙ方向（縦方向）については
上下の端を８画素づつ除いて３画素ピッチで間引くこと
により行う。これにより、登録指紋の画像データが、６
４×１２８画素，２５６階調の画像データに縮小される
（図５参照）。
【００１７】そして、制御部２０−１は、この縮小した
登録指紋の画像データ（図１（ａ）参照）をフーリエ変
換部２０−７へ送り、この登録指紋の画像データに２次
元離散的フーリエ変換（ＤＦＴ）を施す（ステップ３０
４）。これにより、図１（ａ）に示された登録指紋の画
像データは、同図（ｂ）に示されるようなフーリエ画像
データ（登録フーリエ画像データ）となる。制御部２０
−１は、このフーリエ画像データを登録指紋の原画像デ
ータとして、ハードディスク２０−４内にＩＤナンバと
対応させてファイル化する（ステップ３０５）。
登録指紋の画像データ（図１（ａ）参照）をフーリエ変
換部２０−７へ送り、この登録指紋の画像データに２次
元離散的フーリエ変換（ＤＦＴ）を施す（ステップ３０
４）。これにより、図１（ａ）に示された登録指紋の画
像データは、同図（ｂ）に示されるようなフーリエ画像
データ（登録フーリエ画像データ）となる。制御部２０
−１は、このフーリエ画像データを登録指紋の原画像デ
ータとして、ハードディスク２０−４内にＩＤナンバと
対応させてファイル化する（ステップ３０５）。
【００１８】なお、２次元離散的フーリエ変換について
は、例えば「コンピュータ画像処理入門、日本工業技術
センター編、総研出版（株）発行、Ｐ．４４〜４５（文
献１）」等に説明されている。
は、例えば「コンピュータ画像処理入門、日本工業技術
センター編、総研出版（株）発行、Ｐ．４４〜４５（文
献１）」等に説明されている。
【００１９】〔指紋の照合〕この指紋照合装置において
利用者の指紋の照合は次のようにして行われる。すなわ
ち、運用中、利用者は、テンキー１０−１を用いて自己
に割り当てられたＩＤナンバを入力のうえ（図４に示す
ステップ４０１）、指紋センサ１０−３のプリズム１０
−３２上に指を置く。これにより、指紋の登録の場合と
同様にして、採取された指紋（照合指紋）の紋様が、３
２０×４００画素，２５６階調の濃淡画像（画像デー
タ：２次元パターンデータ）として、コントロール部２
０へ与えられる。
利用者の指紋の照合は次のようにして行われる。すなわ
ち、運用中、利用者は、テンキー１０−１を用いて自己
に割り当てられたＩＤナンバを入力のうえ（図４に示す
ステップ４０１）、指紋センサ１０−３のプリズム１０
−３２上に指を置く。これにより、指紋の登録の場合と
同様にして、採取された指紋（照合指紋）の紋様が、３
２０×４００画素，２５６階調の濃淡画像（画像デー
タ：２次元パターンデータ）として、コントロール部２
０へ与えられる。
【００２０】制御部２０−１は、テンキー１０−１を介
してＩＤナンバが与えられると、ハードディスク２０−
４内にファイル化されている登録指紋から、そのＩＤナ
ンバに対応する登録指紋のフーリエ画像データを読み出
す（ステップ４０２）。また、制御部２０−１は、操作
部１０より与えられる照合指紋の画像データをフレーム
メモリ２０−５を介して取り込み（ステップ４０３）、
この取り込んだ照合指紋の画像データに対してステップ
３０３で行ったと同様の縮小処理を行う（ステップ４０
４）。これにより、照合指紋の画像データが、６４×１
２８画素，２５６階調の画像データに縮小される。
してＩＤナンバが与えられると、ハードディスク２０−
４内にファイル化されている登録指紋から、そのＩＤナ
ンバに対応する登録指紋のフーリエ画像データを読み出
す（ステップ４０２）。また、制御部２０−１は、操作
部１０より与えられる照合指紋の画像データをフレーム
メモリ２０−５を介して取り込み（ステップ４０３）、
この取り込んだ照合指紋の画像データに対してステップ
３０３で行ったと同様の縮小処理を行う（ステップ４０
４）。これにより、照合指紋の画像データが、６４×１
２８画素，２５６階調の画像データに縮小される。
【００２１】そして、制御部２０−１は、この縮小した
照合指紋の画像データ（図１（ｅ）参照）をフーリエ変
換部２０−７へ送り、この照合指紋の画像データに２次
元離散的フーリエ変換（ＤＦＴ）を施す（ステップ４０
５）。これにより、図１（ｅ）に示された照合指紋の画
像データは、同図（ｆ）に示されるようなフーリエ画像
データ（照合フーリエ画像データ）となる。
照合指紋の画像データ（図１（ｅ）参照）をフーリエ変
換部２０−７へ送り、この照合指紋の画像データに２次
元離散的フーリエ変換（ＤＦＴ）を施す（ステップ４０
５）。これにより、図１（ｅ）に示された照合指紋の画
像データは、同図（ｆ）に示されるようなフーリエ画像
データ（照合フーリエ画像データ）となる。
【００２２】次に、制御部２０−１は、ステップ４０５
で得た照合指紋のフーリエ画像データとステップ４０２
で読み出した登録指紋のフーリエ画像データとを合成し
（ステップ４０６）、合成フーリエ画像データを得る。
で得た照合指紋のフーリエ画像データとステップ４０２
で読み出した登録指紋のフーリエ画像データとを合成し
（ステップ４０６）、合成フーリエ画像データを得る。
【００２３】ここで、合成フーリエ画像データは、照合
指紋のフーリエ画像データをＡ・ｅjθとし、登録指紋
のフーリエ画像データをＢ・ｅjφとした場合、Ａ・Ｂ
・ｅj(θ-φ) で表される。但し、Ａ，Ｂ，θ，φとも
周波数（フーリエ）空間（ｕ，ｖ）の関数とする。
指紋のフーリエ画像データをＡ・ｅjθとし、登録指紋
のフーリエ画像データをＢ・ｅjφとした場合、Ａ・Ｂ
・ｅj(θ-φ) で表される。但し、Ａ，Ｂ，θ，φとも
周波数（フーリエ）空間（ｕ，ｖ）の関数とする。
【００２４】そして、Ａ・Ｂ・ｅj(θ-φ)は、 Ａ・Ｂ・ｅj(θ-φ)＝Ａ・Ｂ・ｃｏｓ（θ−φ）＋ｊ・Ａ・Ｂ・ｓｉｎ（θ− φ） ・・・（１） として表され、Ａ・ｅjθ＝α1 ＋ｊβ1 、Ｂ・ｅjφ＝
α2 ＋ｊβ2 とすると、Ａ＝（α1 2＋β1 2）1/2，Ｂ＝
（α2 2＋β2 2）1/2，θ＝ｔａｎ-1（β1 ／α1），φ＝
ｔａｎ-1（β2 ／α2 ）となる。この（１）式を計算す
ることにより合成フーリエ画像データを得る。
α2 ＋ｊβ2 とすると、Ａ＝（α1 2＋β1 2）1/2，Ｂ＝
（α2 2＋β2 2）1/2，θ＝ｔａｎ-1（β1 ／α1），φ＝
ｔａｎ-1（β2 ／α2 ）となる。この（１）式を計算す
ることにより合成フーリエ画像データを得る。
【００２５】なお、Ａ・Ｂ・ｅj(θ-φ)＝Ａ・Ｂ・ｅj
θ・ｅ-jφ＝Ａ・ｅjθ・Ｂ・ｅ-jφ＝（α1 ＋ｊ
β1 ）・（α2 −ｊβ2 ）＝（α1 ・α2 ＋β1 ・
β2 ）＋ｊ（α2 ・β1 −α1 ・β2 ）として、合成フ
ーリエ画像データを求めるようにしてもよい。
θ・ｅ-jφ＝Ａ・ｅjθ・Ｂ・ｅ-jφ＝（α1 ＋ｊ
β1 ）・（α2 −ｊβ2 ）＝（α1 ・α2 ＋β1 ・
β2 ）＋ｊ（α2 ・β1 −α1 ・β2 ）として、合成フ
ーリエ画像データを求めるようにしてもよい。
【００２６】そして、制御部２０−１は、このようにし
て合成フーリエ画像データを得た後、振幅抑制処理を行
う（ステップ４０７）。この実施の形態では、振幅抑制
処理として、ｌｏｇ処理を行う。すなわち、前述した合
成フーリエ画像データの演算式であるＡ・Ｂ・ｅj(θ-
φ)のｌｏｇをとり、ｌｏｇ（Ａ・Ｂ）・ｅｊ(θ-φ)と
することにより、振幅であるＡ・Ｂをｌｏｇ（Ａ・Ｂ）
に抑制する（Ａ・Ｂ＞ｌｏｇ（Ａ・Ｂ））。
て合成フーリエ画像データを得た後、振幅抑制処理を行
う（ステップ４０７）。この実施の形態では、振幅抑制
処理として、ｌｏｇ処理を行う。すなわち、前述した合
成フーリエ画像データの演算式であるＡ・Ｂ・ｅj(θ-
φ)のｌｏｇをとり、ｌｏｇ（Ａ・Ｂ）・ｅｊ(θ-φ)と
することにより、振幅であるＡ・Ｂをｌｏｇ（Ａ・Ｂ）
に抑制する（Ａ・Ｂ＞ｌｏｇ（Ａ・Ｂ））。
【００２７】図１（ｄ）に振幅抑制処理後の合成フーリ
エ画像データを示す。振幅抑制処理を施した合成フーリ
エ画像データでは登録指紋の採取時と照合指紋の採取時
の照度差による影響が小さくなる。すなわち、振幅抑制
処理を行うことにより、各画素のスペクトラム強度が抑
圧され、飛び抜けた値がなくなり、より多くの情報が有
効となる。また、振幅抑制処理を行うことにより、指紋
情報の内、個人情報である特徴点（端点，分岐点）や隆
線の特徴（渦，分岐）がより強調され、一般的指紋情報
である隆線全体の流れ・方向が抑えられる。
エ画像データを示す。振幅抑制処理を施した合成フーリ
エ画像データでは登録指紋の採取時と照合指紋の採取時
の照度差による影響が小さくなる。すなわち、振幅抑制
処理を行うことにより、各画素のスペクトラム強度が抑
圧され、飛び抜けた値がなくなり、より多くの情報が有
効となる。また、振幅抑制処理を行うことにより、指紋
情報の内、個人情報である特徴点（端点，分岐点）や隆
線の特徴（渦，分岐）がより強調され、一般的指紋情報
である隆線全体の流れ・方向が抑えられる。
【００２８】なお、この実施の形態では、振幅抑制処理
としてｌｏｇ処理を行うものとしたが、√処理を行うよ
うにしてもよい。また、ｌｏｇ処理や√処理に限らず、
振幅を抑制することができればどのような処理でもよ
い。振幅抑制で全ての振幅を例えば１にすると、すなわ
ち位相のみにすると、ｌｏｇ処理や√処理等に比べ、計
算量を減らすことができるという利点とデータが少なく
なるという利点がある。
としてｌｏｇ処理を行うものとしたが、√処理を行うよ
うにしてもよい。また、ｌｏｇ処理や√処理に限らず、
振幅を抑制することができればどのような処理でもよ
い。振幅抑制で全ての振幅を例えば１にすると、すなわ
ち位相のみにすると、ｌｏｇ処理や√処理等に比べ、計
算量を減らすことができるという利点とデータが少なく
なるという利点がある。
【００２９】ステップ４０７で振幅抑制処理を行った
後、制御部２０−１は、その振幅抑制処理を行った合成
フーリエ画像データをフーリエ変換部２０−７へ送り、
第２回目の２次元離散的フーリエ変換（ＤＦＴ）を施す
（ステップ４０８）。これにより、図１（ｄ）に示され
た合成フーリエ画像データは、同図（ｈ）に示されるよ
うな合成フーリエ画像データとなる。
後、制御部２０−１は、その振幅抑制処理を行った合成
フーリエ画像データをフーリエ変換部２０−７へ送り、
第２回目の２次元離散的フーリエ変換（ＤＦＴ）を施す
（ステップ４０８）。これにより、図１（ｄ）に示され
た合成フーリエ画像データは、同図（ｈ）に示されるよ
うな合成フーリエ画像データとなる。
【００３０】そして、制御部２０−１は、ステップ４０
８で得られた合成フーリエ画像データを取り込み、この
合成フーリエ画像データより所定の相関成分エリアの各
画素の相関成分の強度（振幅）をスキャンし、各画素の
相関成分の強度のヒストグラムを求め、このヒストグラ
ムより相関成分の強度の高い上位ｎ画素（この実施の形
態では、８画素）を抽出し、この抽出したｎ画素の相関
成分の強度の平均を相関値（スコア）として求める（ス
テップ４０９）。ここで、上記相関成分エリアは、図１
（ｈ）に示される合成フーリエ画像データに対し、白い
点線で囲んだ領域Ｓ０として定められている。この相関
成分エリアＳ０の一部における各画素の相関成分の強度
の数値例を図６に示す。この図において、○で囲んだ値
が、上位８画素の相関成分の強度である。
８で得られた合成フーリエ画像データを取り込み、この
合成フーリエ画像データより所定の相関成分エリアの各
画素の相関成分の強度（振幅）をスキャンし、各画素の
相関成分の強度のヒストグラムを求め、このヒストグラ
ムより相関成分の強度の高い上位ｎ画素（この実施の形
態では、８画素）を抽出し、この抽出したｎ画素の相関
成分の強度の平均を相関値（スコア）として求める（ス
テップ４０９）。ここで、上記相関成分エリアは、図１
（ｈ）に示される合成フーリエ画像データに対し、白い
点線で囲んだ領域Ｓ０として定められている。この相関
成分エリアＳ０の一部における各画素の相関成分の強度
の数値例を図６に示す。この図において、○で囲んだ値
が、上位８画素の相関成分の強度である。
【００３１】そして、制御部２０−１は、ステップ４０
９で得た相関値を予め定められているしきい値と比較し
（ステップ４１０）、相関値がしきい値以上であれば、
登録指紋と照合指紋とが一致したと判断し（ステップ４
１１）、その旨の表示を行うと共に電気錠用の出力を送
出する。相関値がしきい値以下であれば、登録指紋と照
合指紋とが一致しないと判断する（ステップ４１２）。
９で得た相関値を予め定められているしきい値と比較し
（ステップ４１０）、相関値がしきい値以上であれば、
登録指紋と照合指紋とが一致したと判断し（ステップ４
１１）、その旨の表示を行うと共に電気錠用の出力を送
出する。相関値がしきい値以下であれば、登録指紋と照
合指紋とが一致しないと判断する（ステップ４１２）。
【００３２】ここで、相関値と比較されるしきい値は、
サンプルとして２０〜５０歳代の男女１０人の人指し指
の指紋を各１０回入力して得た合計１００指をそれぞれ
登録と照合に用いて１万回の照合を行い、この照合結果
から求めている。この場合、他人排他率が１００％とな
る所の相関値をしきい値として用いる。なお、他人排他
率は１００％でなくても良く、目的に合わせて任意の率
に定めれば良い。
サンプルとして２０〜５０歳代の男女１０人の人指し指
の指紋を各１０回入力して得た合計１００指をそれぞれ
登録と照合に用いて１万回の照合を行い、この照合結果
から求めている。この場合、他人排他率が１００％とな
る所の相関値をしきい値として用いる。なお、他人排他
率は１００％でなくても良く、目的に合わせて任意の率
に定めれば良い。
【００３３】ステップ４１２で登録指紋と照合指紋とが
一致しないと判断した場合、制御部２０−１は、ステッ
プ４０２で読み出した登録指紋のフーリエ画像データを
構成する個々のデータから振幅をＣとして抽出し（図７
に示すステップ７０１）、これに振幅圧縮処理（ｌｏｇ
処理）を施してＣ’とする（ステップ７０２）。また、
ステップ４０５で得た照合指紋のフーリエ画像データを
構成する個々のデータから振幅をＤとして抽出し（ステ
ップ７０３）、これに振幅圧縮処理（ｌｏｇ処理）を施
してＤ’とする（ステップ７０４）。
一致しないと判断した場合、制御部２０−１は、ステッ
プ４０２で読み出した登録指紋のフーリエ画像データを
構成する個々のデータから振幅をＣとして抽出し（図７
に示すステップ７０１）、これに振幅圧縮処理（ｌｏｇ
処理）を施してＣ’とする（ステップ７０２）。また、
ステップ４０５で得た照合指紋のフーリエ画像データを
構成する個々のデータから振幅をＤとして抽出し（ステ
ップ７０３）、これに振幅圧縮処理（ｌｏｇ処理）を施
してＤ’とする（ステップ７０４）。
【００３４】そして、制御部２０−１は、ステップ７０
２で振幅圧縮処理を施した個々のデータの振幅Ｃ’とス
テップ７０４で振幅圧縮処理を施した個々のデータの振
幅Ｄ’とのユークリッド距離を、Ｕ＝（Σ（Ｃ’−
Ｄ’）2 ）1/2 として求める（ステップ７０５）。そし
て、この求めたユークリッド距離（相関距離）Ｕを予め
定められているしきい値と比較し（ステップ７０６）、
ユークリッド距離Ｕがしきい値以下であれば、登録指紋
と照合指紋とが一致したと判断し（ステップ４１１）、
その旨の表示を行うと共に電気錠用の出力を送出する。
ユークリッド距離Ｕががしきい値以上であれば、登録指
紋と照合指紋とが一致しないと判断し（ステップ７０
７）、その旨の表示を行ったうえ、ステップ４０１へ戻
る。
２で振幅圧縮処理を施した個々のデータの振幅Ｃ’とス
テップ７０４で振幅圧縮処理を施した個々のデータの振
幅Ｄ’とのユークリッド距離を、Ｕ＝（Σ（Ｃ’−
Ｄ’）2 ）1/2 として求める（ステップ７０５）。そし
て、この求めたユークリッド距離（相関距離）Ｕを予め
定められているしきい値と比較し（ステップ７０６）、
ユークリッド距離Ｕがしきい値以下であれば、登録指紋
と照合指紋とが一致したと判断し（ステップ４１１）、
その旨の表示を行うと共に電気錠用の出力を送出する。
ユークリッド距離Ｕががしきい値以上であれば、登録指
紋と照合指紋とが一致しないと判断し（ステップ７０
７）、その旨の表示を行ったうえ、ステップ４０１へ戻
る。
【００３５】なお、この実施の形態では、ステップ７０
２，７０４での振幅圧縮処理としてｌｏｇ処理を行って
いるが、√処理を行うようにしてもよい。また、ｌｏｇ
処理や√処理に限らず、振幅を圧縮することができれば
どのような処理でもよい。この場合、振幅圧縮処理の概
念には、全ての振幅を所定値とする処理は含まれない。
２，７０４での振幅圧縮処理としてｌｏｇ処理を行って
いるが、√処理を行うようにしてもよい。また、ｌｏｇ
処理や√処理に限らず、振幅を圧縮することができれば
どのような処理でもよい。この場合、振幅圧縮処理の概
念には、全ての振幅を所定値とする処理は含まれない。
【００３６】また、この実施の形態では、登録指紋と照
合指紋との相関距離をユークリッド距離として求めるよ
うにしたが、必ずしも相関距離をユークリッド距離とし
て求めなくてもよい。例えば、文献２（「画像解析ハン
ドブック」、財団法人 東京大学出版会発行、高木幹
雄，下田陽久 監修、６５３〜６６５頁）に示されてい
るような「重み付きユークリッド距離」、「マハラノビ
ス距離」、「市街地距離」、「チェス盤距離」、「Mink
owski 距離」、「Chebyshev 距離」等を、相関距離のバ
リエーションとすることができる。
合指紋との相関距離をユークリッド距離として求めるよ
うにしたが、必ずしも相関距離をユークリッド距離とし
て求めなくてもよい。例えば、文献２（「画像解析ハン
ドブック」、財団法人 東京大学出版会発行、高木幹
雄，下田陽久 監修、６５３〜６６５頁）に示されてい
るような「重み付きユークリッド距離」、「マハラノビ
ス距離」、「市街地距離」、「チェス盤距離」、「Mink
owski 距離」、「Chebyshev 距離」等を、相関距離のバ
リエーションとすることができる。
【００３７】また、この実施の形態においては、相関成
分エリアＳ０の各画素から相関成分の強度の高い上位ｎ
画素を抽出しその平均を相関値としたが、その上位ｎ画
素の相関成分の強度の加算値を相関値としてもよい。ま
た、しきい値を越える全ての画素の相関成分の強度を加
算し、その加算値を相関値としたり、その加算値の平均
を相関値とするなどとしてもよい。また、各画素の相関
成分の強度のうち１つでもしきい値以上のものがあれば
「一致」と判断してもよく、しきい値を越えるものがｎ
個以上であれば「一致」と判断する等、種々の判定方法
が考えられる。
分エリアＳ０の各画素から相関成分の強度の高い上位ｎ
画素を抽出しその平均を相関値としたが、その上位ｎ画
素の相関成分の強度の加算値を相関値としてもよい。ま
た、しきい値を越える全ての画素の相関成分の強度を加
算し、その加算値を相関値としたり、その加算値の平均
を相関値とするなどとしてもよい。また、各画素の相関
成分の強度のうち１つでもしきい値以上のものがあれば
「一致」と判断してもよく、しきい値を越えるものがｎ
個以上であれば「一致」と判断する等、種々の判定方法
が考えられる。
【００３８】また、この実施の形態では、２次元離散的
フーリエ変換をフーリエ変換部２０−７において行うも
のとしたが、ＣＰＵ２０−１内で行うものとしてもよ
い。また、この実施の形態では、登録指紋の画像データ
に対しステップ３０３で縮小処理を行うようにしたが、
登録指紋のフーリエ画像データを読み出した後の段階
（ステップ４０２と４０３との間）で縮小処理を行うよ
うにしてもよい。また、登録指紋や照合指紋の画像デー
タに対しては必ずしも縮小処理を行わなくてもよく、入
力画像データをそのまま用いてフーリエ画像データを作
成するようにしてもよい。縮小処理を行うようにすれ
ば、その分、入力画像データの処理に際して用いる画像
メモリの容量を少なくすることができる。
フーリエ変換をフーリエ変換部２０−７において行うも
のとしたが、ＣＰＵ２０−１内で行うものとしてもよ
い。また、この実施の形態では、登録指紋の画像データ
に対しステップ３０３で縮小処理を行うようにしたが、
登録指紋のフーリエ画像データを読み出した後の段階
（ステップ４０２と４０３との間）で縮小処理を行うよ
うにしてもよい。また、登録指紋や照合指紋の画像デー
タに対しては必ずしも縮小処理を行わなくてもよく、入
力画像データをそのまま用いてフーリエ画像データを作
成するようにしてもよい。縮小処理を行うようにすれ
ば、その分、入力画像データの処理に際して用いる画像
メモリの容量を少なくすることができる。
【００３９】また、この実施の形態では、図４に示した
ステップ４０８にて２次元離散的フーリエ変換を行うよ
うにしたが、２次元離散的フーリエ変換ではなく２次元
離散的逆フーリエ変換を行うようにしてもよい。すなわ
ち、振幅抑制処理の施された合成フーリエ画像データに
対して２次元離散的フーリエ変換を行うのに代えて、２
次元離散的逆フーリエ変換を行うようにしてもよい。２
次元離散的フーリエ変換と２次元離散的逆フーリエ変換
とは、定量的にみて照合精度は変わらない。２次元離散
的逆フーリエ変換については、先の文献１に説明されて
いる。
ステップ４０８にて２次元離散的フーリエ変換を行うよ
うにしたが、２次元離散的フーリエ変換ではなく２次元
離散的逆フーリエ変換を行うようにしてもよい。すなわ
ち、振幅抑制処理の施された合成フーリエ画像データに
対して２次元離散的フーリエ変換を行うのに代えて、２
次元離散的逆フーリエ変換を行うようにしてもよい。２
次元離散的フーリエ変換と２次元離散的逆フーリエ変換
とは、定量的にみて照合精度は変わらない。２次元離散
的逆フーリエ変換については、先の文献１に説明されて
いる。
【００４０】また、この実施の形態では、合成後のフー
リエ画像データに対して振幅抑制処理を施して２次元離
散的フーリエ変換を行うようにしたが（ステップ４０
７，４０８）、合成前の登録指紋および照合指紋のフー
リエ画像データにそれぞれ振幅抑制処理を行った後に合
成するようにしてもよい。すなわち、図８（ａ）に示す
ように、図３のステップ３０４と３０５との間に振幅抑
制処理を行うステップ３０６を設け、図８（ｂ）に示す
ように、図４のステップ４０６と４０７とを入れ替える
ようにしてもよい。
リエ画像データに対して振幅抑制処理を施して２次元離
散的フーリエ変換を行うようにしたが（ステップ４０
７，４０８）、合成前の登録指紋および照合指紋のフー
リエ画像データにそれぞれ振幅抑制処理を行った後に合
成するようにしてもよい。すなわち、図８（ａ）に示す
ように、図３のステップ３０４と３０５との間に振幅抑
制処理を行うステップ３０６を設け、図８（ｂ）に示す
ように、図４のステップ４０６と４０７とを入れ替える
ようにしてもよい。
【００４１】このようにした場合、ステップ３０６の振
幅抑制処理によって、図１（ｃ）に示すような振幅抑制
処理の施された登録指紋のフーリエ画像データ（登録フ
ーリエ画像データ）が得られ、ステップ４０６と４０７
との入れ替えによって、図１（ｇ）に示すような振幅抑
制処理の施された照合指紋のフーリエ画像データ（照合
フーリエ画像データ）が得られる。そして、それぞれ振
幅抑制処理の施された登録指紋および照合指紋のフーリ
エ画像データが合成され、図１（ｄ）に示されるような
合成フーリエ画像データが得られる。
幅抑制処理によって、図１（ｃ）に示すような振幅抑制
処理の施された登録指紋のフーリエ画像データ（登録フ
ーリエ画像データ）が得られ、ステップ４０６と４０７
との入れ替えによって、図１（ｇ）に示すような振幅抑
制処理の施された照合指紋のフーリエ画像データ（照合
フーリエ画像データ）が得られる。そして、それぞれ振
幅抑制処理の施された登録指紋および照合指紋のフーリ
エ画像データが合成され、図１（ｄ）に示されるような
合成フーリエ画像データが得られる。
【００４２】この時の合成フーリエ画像データの振幅の
抑制率は、合成フーリエ画像データとしてから振幅抑制
処理を行う場合（図４）に対して小さい。したがって、
合成フーリエ画像データとしてから振幅抑制処理を行う
（図４）方が、振幅抑制処理を行ってから合成フーリエ
画像データとする方法（図８）に比べて、その照合精度
がアップする。なお、振幅抑制処理を行ってから合成フ
ーリエ画像データとする場合（図８）にも、合成フーリ
エ画像データに対して２次元離散的フーリエ変換ではな
く、２次元離散的逆フーリエ変換を行うようにしてもよ
い。
抑制率は、合成フーリエ画像データとしてから振幅抑制
処理を行う場合（図４）に対して小さい。したがって、
合成フーリエ画像データとしてから振幅抑制処理を行う
（図４）方が、振幅抑制処理を行ってから合成フーリエ
画像データとする方法（図８）に比べて、その照合精度
がアップする。なお、振幅抑制処理を行ってから合成フ
ーリエ画像データとする場合（図８）にも、合成フーリ
エ画像データに対して２次元離散的フーリエ変換ではな
く、２次元離散的逆フーリエ変換を行うようにしてもよ
い。
【００４３】なお、この場合、ステップ７０１，７０２
では、振幅抑制処理が施される前の登録フーリエ画像デ
ータを構成する個々のデータから振幅をＣとして抽出
し、これに振幅圧縮処理を施してＣ’とする。また、ス
テップ７０３，７０４では、振幅抑制処理が施される前
の照合フーリエ画像データを構成する個々のデータから
振幅をＤとして抽出し、これに振幅圧縮処理を施して
Ｄ’とする。
では、振幅抑制処理が施される前の登録フーリエ画像デ
ータを構成する個々のデータから振幅をＣとして抽出
し、これに振幅圧縮処理を施してＣ’とする。また、ス
テップ７０３，７０４では、振幅抑制処理が施される前
の照合フーリエ画像データを構成する個々のデータから
振幅をＤとして抽出し、これに振幅圧縮処理を施して
Ｄ’とする。
【００４４】また、この実施の形態では、最初に、相関
成分の強度に基づいて登録パターンと照合パターンとの
照合を行い、この照合の結果、不一致である場合に、ユ
ークリッド距離に基づいて登録パターンと照合パターン
との照合を行うようにしたが、最初にユークリッド距離
に基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を行
い、この照合の結果、不一致である場合に、相関成分の
強度に基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を
行うようにしてもよい（第３発明，第４発明）。
成分の強度に基づいて登録パターンと照合パターンとの
照合を行い、この照合の結果、不一致である場合に、ユ
ークリッド距離に基づいて登録パターンと照合パターン
との照合を行うようにしたが、最初にユークリッド距離
に基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を行
い、この照合の結果、不一致である場合に、相関成分の
強度に基づいて登録パターンと照合パターンとの照合を
行うようにしてもよい（第３発明，第４発明）。
【００４５】参考として図９に照合指紋が他人である場
合の指紋照合過程の各画像を図１と対応して示す。図１
は照合指紋が本人である場合の指紋照合過程の各画像で
あり、照合指紋が本人である場合には相関成分エリアＳ
０に相関成分の強度の高い部分が生じるが、照合指紋が
他人である場合には生じない。
合の指紋照合過程の各画像を図１と対応して示す。図１
は照合指紋が本人である場合の指紋照合過程の各画像で
あり、照合指紋が本人である場合には相関成分エリアＳ
０に相関成分の強度の高い部分が生じるが、照合指紋が
他人である場合には生じない。
【００４６】なお、この実施の形態では、指紋照合を行
う場合を例として説明したが、声紋照合を行う場合にも
同様にして適用することができ、指紋，声紋に拘らず画
像データとして取り扱うことのできる各種の２次元パタ
ーンの照合に用いることができる。また、２次元パター
ンの照合に限ることはなく、１次元パターンや３次元パ
ターン等、Ｎ次元パターンの照合についても同様にして
行うことが可能である。
う場合を例として説明したが、声紋照合を行う場合にも
同様にして適用することができ、指紋，声紋に拘らず画
像データとして取り扱うことのできる各種の２次元パタ
ーンの照合に用いることができる。また、２次元パター
ンの照合に限ることはなく、１次元パターンや３次元パ
ターン等、Ｎ次元パターンの照合についても同様にして
行うことが可能である。
【００４７】また、この実施の形態では、２次元パター
ンを画像として得るものとしたが、必ずしも画像として
得るようにしなくてもよい。例えば、振動検出器を各場
所に２次元的に配置し、この２次元的に配置された振動
検出器により得られる２次元パターン（地震波）を照合
パターンとし、予め登録されているパターンと照合する
ようにしてもよい。また、各部位に流量計測器を２次元
的に配置し、この２次元的に配置された流量計測器によ
り得られる２次元パターン（流量分布）を照合パターン
とし、予め登録されているパターンと照合するようにし
てもよい。
ンを画像として得るものとしたが、必ずしも画像として
得るようにしなくてもよい。例えば、振動検出器を各場
所に２次元的に配置し、この２次元的に配置された振動
検出器により得られる２次元パターン（地震波）を照合
パターンとし、予め登録されているパターンと照合する
ようにしてもよい。また、各部位に流量計測器を２次元
的に配置し、この２次元的に配置された流量計測器によ
り得られる２次元パターン（流量分布）を照合パターン
とし、予め登録されているパターンと照合するようにし
てもよい。
【００４８】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように本
発明によれば、第１および第２発明では、最初に、相関
成分エリアのＮ次元パターンデータを構成する個々のデ
ータ毎の相関成分の強度に基づいて登録パターンと照合
パターンとの照合が行われ、この照合の結果、不一致で
ある場合には、登録パターンと照合パターンとの相関距
離（例えば、ユークリッド距離）が求められ、この求め
られた相関距離に基づいて登録パターンと照合パターン
との照合が行われるものとなり、また、第３および第４
発明では、最初に、登録パターンと照合パターンとの相
関距離（例えば、ユークリッド距離）が求められ、この
求められた相関距離に基づいて登録パターンと照合パタ
ーンとの照合が行われ、この照合の結果、不一致である
場合には、相関成分エリアのＮ次元パターンデータを構
成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて登録
パターンと照合パターンとの照合が行われるものとな
り、振幅成分が持っている識別能力を活用して、認識率
をさらに高めることができるようになる。また、第５発
明では、登録フーリエＮ次元パターンデータを構成する
個々のデータから振幅成分のみが抽出されてこれにｌｏ
ｇ処理や√処理等の振幅圧縮処理が施され、また照合フ
ーリエＮ次元パターンデータを構成する個々のデータか
ら振幅成分のみが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理
等の振幅圧縮処理が施され、これらの振幅圧縮処理の施
されたデータから登録パターンと照合パターンとの相関
距離（例えば、ユークリッド距離）が求められ、この求
められた相関距離に基づいて登録パターンと照合パター
ンとの照合が行われるものとなり、振幅成分が持ってい
る識別能力を活用して、高精度で照合を行うことができ
るようになる。
発明によれば、第１および第２発明では、最初に、相関
成分エリアのＮ次元パターンデータを構成する個々のデ
ータ毎の相関成分の強度に基づいて登録パターンと照合
パターンとの照合が行われ、この照合の結果、不一致で
ある場合には、登録パターンと照合パターンとの相関距
離（例えば、ユークリッド距離）が求められ、この求め
られた相関距離に基づいて登録パターンと照合パターン
との照合が行われるものとなり、また、第３および第４
発明では、最初に、登録パターンと照合パターンとの相
関距離（例えば、ユークリッド距離）が求められ、この
求められた相関距離に基づいて登録パターンと照合パタ
ーンとの照合が行われ、この照合の結果、不一致である
場合には、相関成分エリアのＮ次元パターンデータを構
成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて登録
パターンと照合パターンとの照合が行われるものとな
り、振幅成分が持っている識別能力を活用して、認識率
をさらに高めることができるようになる。また、第５発
明では、登録フーリエＮ次元パターンデータを構成する
個々のデータから振幅成分のみが抽出されてこれにｌｏ
ｇ処理や√処理等の振幅圧縮処理が施され、また照合フ
ーリエＮ次元パターンデータを構成する個々のデータか
ら振幅成分のみが抽出されてこれにｌｏｇ処理や√処理
等の振幅圧縮処理が施され、これらの振幅圧縮処理の施
されたデータから登録パターンと照合パターンとの相関
距離（例えば、ユークリッド距離）が求められ、この求
められた相関距離に基づいて登録パターンと照合パター
ンとの照合が行われるものとなり、振幅成分が持ってい
る識別能力を活用して、高精度で照合を行うことができ
るようになる。
【図１】 本発明に係る指紋照合装置における指紋照合
過程を説明する図である。
過程を説明する図である。
【図２】 この指紋照合装置のブロック構成図である。
【図３】 この指紋照合装置における指紋登録動作を説
明するためのフローチャートである。
明するためのフローチャートである。
【図４】 この指紋照合装置における指紋照合動作（相
関値を用いての照合動作）を説明するためのフローチャ
ートである。
関値を用いての照合動作）を説明するためのフローチャ
ートである。
【図５】 画像データに対する縮小処理を説明するため
の図である。
の図である。
【図６】 相関成分エリアの一部における各画素の相関
成分の強度の数値例を示す図である。
成分の強度の数値例を示す図である。
【図７】 この指紋照合装置における指紋照合動作（相
関距離を用いての照合動作）を説明するためのフローチ
ャートである。
関距離を用いての照合動作）を説明するためのフローチ
ャートである。
【図８】 指紋登録動作および指紋照合動作の他の例を
説明するためのフローチャートである。
説明するためのフローチャートである。
【図９】 照合指紋が他人である場合の指紋照合過程の
各画像を図１と対応して示す図である。
各画像を図１と対応して示す図である。
１０…操作部、２０…コントロール部、１０−１…テン
キー、１０−２…ディスプレイ（ＬＣＤ）、１０−３…
指紋センサ、１０−３１…光源、１０−３２，プリズ
ム、１０−３３…ＣＣＤカメラ、２０−１…制御部、２
０−２…ＲＯＭ、２０−３…ＲＡＭ、２０−４…ハード
ディスク（ＨＤ）、２０−５…フレームメモリ（Ｆ
Ｍ）、２０−６…外部接続部（Ｉ／Ｆ）、２０−７…フ
ーリエ変換部（ＦＦＴ）。
キー、１０−２…ディスプレイ（ＬＣＤ）、１０−３…
指紋センサ、１０−３１…光源、１０−３２，プリズ
ム、１０−３３…ＣＣＤカメラ、２０−１…制御部、２
０−２…ＲＯＭ、２０−３…ＲＡＭ、２０−４…ハード
ディスク（ＨＤ）、２０−５…フレームメモリ（Ｆ
Ｍ）、２０−６…外部接続部（Ｉ／Ｆ）、２０−７…フ
ーリエ変換部（ＦＦＴ）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G06T 7/00 - 7/60 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (5)
- 【請求項１】 登録パターンのＮ次元パターンデータに
Ｎ次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエＮ次元
パターンデータを作成する登録フーリエパターンデータ
作成手段と、 照合パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フ
ーリエ変換を施して照合フーリエＮ次元パターンデータ
を作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエＮ次元パターンデータと前記照合フー
リエＮ次元パターンデータとを合成し、これによって得
られる合成フーリエＮ次元パターンデータに対して振幅
抑制処理を行ったうえＮ次元離散的フーリエ変換および
Ｎ次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施すパター
ン処理手段と、 このパターン処理手段によってフーリエ変換の施された
合成フーリエＮ次元パターンデータに出現する相関成分
エリアのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ
毎の相関成分の強度に基づいて前記登録パターンと前記
照合パターンとの照合を行う第１のパターン照合手段
と、 この第１のパターン照合手段により前記登録パターンと
前記照合パターンとが同一と判定されなかった場合、前
記登録フーリエＮ次元パターンデータを構成する個々の
データから振幅成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処理
を施し、また前記照合フーリエＮ次元パターンデータを
構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこれ
に振幅圧縮処理を施し、これらの振幅圧縮処理を施した
データから前記登録パターンと前記照合パターンとの相
関距離を求め、この求めた相関距離に基づいて前記登録
パターンと照合パターンとの照合を行う第２のパターン
照合手段とを備えたことを特徴とするパターン照合装
置。 - 【請求項２】 登録パターンのＮ次元パターンデータに
Ｎ次元離散的フーリエ変換を施してから振幅抑制処理を
行うことにより登録フーリエＮ次元パターンデータを作
成する登録フーリエパターンデータ作成手段と、 照合パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フ
ーリエ変換を施してから振幅抑制処理を行うことにより
照合フーリエＮ次元パターンデータを作成する照合フー
リエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエＮ次元パターンデータと前記照合フー
リエＮ次元パターンデータとを合成し、これによって得
られる合成フーリエＮ次元パターンデータに対してＮ次
元離散的フーリエ変換およびＮ次元離散的逆フーリエ変
換の何れか一方を施すパターン処理手段と、 このパターン処理手段によってフーリエ変換の施された
合成フーリエＮ次元パターンデータに出現する相関成分
エリアのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ
毎の相関成分の強度に基づいて前記登録パターンと前記
照合パターンとの照合を行う第１のパターン照合手段
と、 この第１のパターン照合手段により前記登録パターンと
前記照合パターンとが同一と判定されなかった場合、Ｎ
次元離散的フーリエ変換の施された前記登録パターンの
Ｎ次元パターンデータを構成する個々のデータから振幅
成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、またＮ
次元離散的フーリエ変換の施された前記照合パターンの
Ｎ次元パターンデータを構成する個々のデータから振幅
成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、これら
の振幅圧縮処理を施したデータから前記登録パターンと
前記照合パターンとの相関距離を求め、この求めた相関
距離に基づいて前記登録パターンと照合パターンとの照
合を行う第２のパターン照合手段とを備えたことを特徴
とするパターン照合装置。 - 【請求項３】 登録パターンのＮ次元パターンデータに
Ｎ次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエＮ次元
パターンデータを作成する登録フーリエパターンデータ
作成手段と、 照合パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フ
ーリエ変換を施して照合フーリエＮ次元パターンデータ
を作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエＮ次元パターンデータを構成する個々
のデータから振幅成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処
理を施し、また前記照合フーリエＮ次元パターンデータ
を構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこ
れに振幅圧縮処理を施し、これらの振幅圧縮処理を施し
たデータから前記登録パターンと前記照合パターンとの
相関距離を求め、この求めた相関距離に基づいて前記登
録パターンと照合パターンとの照合を行う第１のパター
ン照合手段と、 この第１のパターン照合手段により前記登録パターンと
前記照合パターンとが同一と判定されなかった場合、前
記登録フーリエＮ次元パターンデータと前記照合フーリ
エＮ次元パターンデータとを合成し、これによって得ら
れる合成フーリエＮ次元パターンデータに対して振幅抑
制処理を行ったうえＮ次元離散的フーリエ変換およびＮ
次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施し、このフ
ーリエ変換の施された合成フーリエＮ次元パターンデー
タに出現する相関成分エリアのＮ次元パターンデータを
構成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて前
記登録パターンと前記照合パターンとの照合を行う第２
のパターン照合手段とを備えたことを特徴とするパター
ン照合装置。 - 【請求項４】 登録パターンのＮ次元パターンデータに
Ｎ次元離散的フーリエ変換を施してから振幅抑制処理を
行うことにより登録フーリエＮ次元パターンデータを作
成する登録フーリエパターンデータ作成手段と、 照合パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フ
ーリエ変換を施してから振幅抑制処理を行うことにより
照合フーリエＮ次元パターンデータを作成する照合フー
リエパターンデータ作成手段と、 Ｎ次元離散的フーリエ変換の施された前記登録パターン
のＮ次元パターンデータを構成する個々のデータから振
幅成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、また
Ｎ次元離散的フーリエ変換の施された前記照合パターン
のＮ次元パターンデータを構成する個々のデータから振
幅成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処理を施し、これ
らの振幅圧縮処理を施したデータから前記登録パターン
と前記照合パターンとの相関距離を求め、この求めた相
関距離に基づいて前記登録パターンと照合パターンとの
照合を行う第１のパターン照合手段と、 この第１のパターン照合手段により前記登録パターンと
前記照合パターンとが同一と判定されなかった場合、前
記登録フーリエＮ次元パターンデータと前記照合フーリ
エＮ次元パターンデータとを合成し、これによって得ら
れる合成フーリエＮ次元パターンデータに対してＮ次元
離散的フーリエ変換およびＮ次元離散的逆フーリエ変換
の何れか一方を施し、このフーリエ変換の施された合成
フーリエＮ次元パターンデータに出現する相関成分エリ
アのＮ次元パターンデータを構成する個々のデータ毎の
相関成分の強度に基づいて前記登録パターンと前記照合
パターンとの照合を行う第２のパターン照合手段とを備
えたことを特徴とするパターン照合装置。 - 【請求項５】 登録パターンのＮ次元パターンデータに
Ｎ次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエＮ次元
パターンデータを作成する登録フーリエパターンデータ
作成手段と、 照合パターンのＮ次元パターンデータにＮ次元離散的フ
ーリエ変換を施して照合フーリエＮ次元パターンデータ
を作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエＮ次元パターンデータを構成する個々
のデータから振幅成分のみを抽出してこれに振幅圧縮処
理を施し、また前記照合フーリエＮ次元パターンデータ
を構成する個々のデータから振幅成分のみを抽出してこ
れに振幅圧縮処理を施し、これらの振幅圧縮処理を施し
たデータから前記登録パターンと前記照合パターンとの
相関距離を求め、この求めた相関距離に基づいて前記登
録パターンと照合パターンとの照合を行うパターン照合
手段とを備えたことを特徴とするパターン照合装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20983496A JP3254622B2 (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | パターン照合装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20983496A JP3254622B2 (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | パターン照合装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1055439A JPH1055439A (ja) | 1998-02-24 |
| JP3254622B2 true JP3254622B2 (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=16579399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20983496A Expired - Fee Related JP3254622B2 (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | パターン照合装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3254622B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7778467B2 (en) | 2003-02-05 | 2010-08-17 | Sony Corporation | Image matching system and image matching method and program |
| WO2019123917A1 (ja) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | 日本電気株式会社 | 画像照合装置 |
| WO2020230320A1 (ja) | 2019-05-16 | 2020-11-19 | 日本電気株式会社 | 画像照合装置 |
| US11132582B2 (en) | 2017-10-05 | 2021-09-28 | Nec Corporation | Individual identification device |
| US11748442B2 (en) | 2018-04-24 | 2023-09-05 | Nec Corporation | Image matching device |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20220335617A1 (en) * | 2020-03-27 | 2022-10-20 | Nec Corporation | Individual identification system |
-
1996
- 1996-08-08 JP JP20983496A patent/JP3254622B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7778467B2 (en) | 2003-02-05 | 2010-08-17 | Sony Corporation | Image matching system and image matching method and program |
| US11132582B2 (en) | 2017-10-05 | 2021-09-28 | Nec Corporation | Individual identification device |
| WO2019123917A1 (ja) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | 日本電気株式会社 | 画像照合装置 |
| US11227196B2 (en) | 2017-12-22 | 2022-01-18 | Nec Corporation | Image collating device |
| US11748442B2 (en) | 2018-04-24 | 2023-09-05 | Nec Corporation | Image matching device |
| WO2020230320A1 (ja) | 2019-05-16 | 2020-11-19 | 日本電気株式会社 | 画像照合装置 |
| US20220198777A1 (en) * | 2019-05-16 | 2022-06-23 | Nec Corporation | Image matching apparatus |
| US11989925B2 (en) * | 2019-05-16 | 2024-05-21 | Nec Corporation | Image matching apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1055439A (ja) | 1998-02-24 |
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