JPH10109954A - 溶剤及びそれを用いる物品表面の清浄化方法 - Google Patents
溶剤及びそれを用いる物品表面の清浄化方法Info
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- JPH10109954A JPH10109954A JP28340696A JP28340696A JPH10109954A JP H10109954 A JPH10109954 A JP H10109954A JP 28340696 A JP28340696 A JP 28340696A JP 28340696 A JP28340696 A JP 28340696A JP H10109954 A JPH10109954 A JP H10109954A
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- fluorinated
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不燃性ないし難燃性、低毒性及び熱安定性に
すぐれるとともに、オゾン層の破壊を生じることのない
新規な溶剤及びそれを用いる物品表面の清浄化方法を提
供する。 【解決手段】 下記一般式 ＣnＨmＦ2n+1-mＣＯＲ1 （１） （式中、ｎは２〜４の数を示し、ｍは０又は１の数を示
し、Ｒ1はメチル基又はエチル基を示す）で表される含
フッ素ケトンからなる溶剤。前記含フッ素ケトンと低級
アルコールからなる水切り乾燥溶剤。前記の溶剤を用い
て物品表面に付着する汚れ又は水分を除去することを特
徴とする物品表面の清浄化方法。
すぐれるとともに、オゾン層の破壊を生じることのない
新規な溶剤及びそれを用いる物品表面の清浄化方法を提
供する。 【解決手段】 下記一般式 ＣnＨmＦ2n+1-mＣＯＲ1 （１） （式中、ｎは２〜４の数を示し、ｍは０又は１の数を示
し、Ｒ1はメチル基又はエチル基を示す）で表される含
フッ素ケトンからなる溶剤。前記含フッ素ケトンと低級
アルコールからなる水切り乾燥溶剤。前記の溶剤を用い
て物品表面に付着する汚れ又は水分を除去することを特
徴とする物品表面の清浄化方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、溶剤及びそれを用
いる物品表面の清浄化方法に関するものである。
いる物品表面の清浄化方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】物品表面に付着するフラックス、油等の
汚れや水分を除去するために、不燃性、低毒性及び熱安
定性にすぐれるＣＣｌ2ＦＣＣｌＦ2（ＣＦＣ１１３）
や、１，１，１−トリクロロエタン及びＣＦＣ１１３と
他の溶剤との混合物等を洗浄剤として用いることが広く
行われてきた。特にＣＦＣ１１３は、金属、プラスチッ
ク、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選択
的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密機械部品
や金属、プラスチック、エラストマー等からなる各種電
子部品、光学部品などの洗浄には最適であった。従来使
用されてきたＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエ
タンは、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的に
極めて安定なため、対流圏での寿命が長く、拡散して成
層圏に達し、ここで紫外線により光分解して塩素ラジカ
ルを発生する。この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連鎖
反応を起し、オゾン層を破壊することから、その生産が
１９９６年より禁止及び消費について規制が実施されて
いる。
汚れや水分を除去するために、不燃性、低毒性及び熱安
定性にすぐれるＣＣｌ2ＦＣＣｌＦ2（ＣＦＣ１１３）
や、１，１，１−トリクロロエタン及びＣＦＣ１１３と
他の溶剤との混合物等を洗浄剤として用いることが広く
行われてきた。特にＣＦＣ１１３は、金属、プラスチッ
ク、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選択
的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密機械部品
や金属、プラスチック、エラストマー等からなる各種電
子部品、光学部品などの洗浄には最適であった。従来使
用されてきたＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエ
タンは、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的に
極めて安定なため、対流圏での寿命が長く、拡散して成
層圏に達し、ここで紫外線により光分解して塩素ラジカ
ルを発生する。この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連鎖
反応を起し、オゾン層を破壊することから、その生産が
１９９６年より禁止及び消費について規制が実施されて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、不燃性ない
し難燃性、低毒性及び熱安定性にすぐれるとともに、オ
ゾン層の破壊を生じることのない新規な溶剤及びそれを
用いる物品表面の清浄化方法を提供することをその課題
とする。
し難燃性、低毒性及び熱安定性にすぐれるとともに、オ
ゾン層の破壊を生じることのない新規な溶剤及びそれを
用いる物品表面の清浄化方法を提供することをその課題
とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、下記一般式 （式中、ｎは２〜４の数を示し、ｍは０又は１の数を示
し、Ｒ1はメチル基又はエチル基を示す）で表される含
フッ素ケトンからなる溶剤が提供される。また、本発明
によれば、前記含フッ素ケトンと低級アルコールからな
る水切り乾燥溶剤が提供される。さらに、本発明によれ
ば、前記の溶剤を用いて物品表面に付着する汚れ又は水
分を除去することを特徴とする物品表面の清浄化方法が
提供される。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、下記一般式 （式中、ｎは２〜４の数を示し、ｍは０又は１の数を示
し、Ｒ1はメチル基又はエチル基を示す）で表される含
フッ素ケトンからなる溶剤が提供される。また、本発明
によれば、前記含フッ素ケトンと低級アルコールからな
る水切り乾燥溶剤が提供される。さらに、本発明によれ
ば、前記の溶剤を用いて物品表面に付着する汚れ又は水
分を除去することを特徴とする物品表面の清浄化方法が
提供される。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の溶剤は、前記一般式
（１）で表される含フッ素ケトンからなる。この含フッ
素ケトンの具体例としては、例えば、以下のものが挙げ
られる。ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＣＨ3、ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＯＣ
Ｈ3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＣ2Ｈ5、ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ
3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣ2Ｈ5、（ＣＦ3）2ＣＦＣＯＣ
Ｈ3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3及びＣＨＦ2ＣＦ2
ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3等。表１にそれらの含フッ素ケト
ンのうちの代表的なものについての物性を示す。
（１）で表される含フッ素ケトンからなる。この含フッ
素ケトンの具体例としては、例えば、以下のものが挙げ
られる。ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＣＨ3、ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＯＣ
Ｈ3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＣ2Ｈ5、ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ
3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣ2Ｈ5、（ＣＦ3）2ＣＦＣＯＣ
Ｈ3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3及びＣＨＦ2ＣＦ2
ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3等。表１にそれらの含フッ素ケト
ンのうちの代表的なものについての物性を示す。
【０００６】
【表１】
【０００７】これらの含フッ素ケトンは、いずれも、低
毒性、熱安定性にすぐれ、水とともに長時間加熱しても
分解しなかった。また、不燃性ないし難燃性を示すこと
が確認された。さらに、それらの沸点は１２０℃以下と
低く、かつその表面張力は２５ｄｙｎ／ｃｍ以下と低
く、蒸発潜熱は５５ｃａｌ／ｇ以下と低く、特に洗浄溶
剤として好適な物性を有していることが確認された。
毒性、熱安定性にすぐれ、水とともに長時間加熱しても
分解しなかった。また、不燃性ないし難燃性を示すこと
が確認された。さらに、それらの沸点は１２０℃以下と
低く、かつその表面張力は２５ｄｙｎ／ｃｍ以下と低
く、蒸発潜熱は５５ｃａｌ／ｇ以下と低く、特に洗浄溶
剤として好適な物性を有していることが確認された。
【０００８】本発明における含フッ素ケトンは、いずれ
も文献記載の公知化合物であるが、その洗浄溶剤等とし
ての物性については何ら検討されていない。前記含フッ
素ケトンのうち、ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＣＨ3は、ペンタフル
オロプロピオン酸（ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメチルマグ
ネシウムブロミド（ＣＨ3ＭｇＢｒ）をジブチルエーテ
ル中で反応させることにより容易に合成することができ
る。ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3は、２，２，３，３−テト
ラフルオロプロピオン酸（ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメ
チルマグネシウムブロミドをジエチルエーテル中で反応
させることにより容易に合成することができる。ＣＦ3
ＣＦ2ＣＯＣＨ2ＣＨ3は、ペンタフルオロプロピオン酸
（ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＯＨ）とエチルマグネシウムブロミド
をジエチルエーテル中で反応させることにより容易に合
成することができる。ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3は、ヘ
プタフルオロ酪酸（ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメチ
ルマグネシウムブロミドをジエチルエーテル中で反応さ
せることにより容易に合成することができる。ＣＦ3Ｃ
Ｆ2ＣＦ2ＣＯＣＨ2ＣＦ3は、ヘプタフルオロ酪酸（ＣＦ
3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とエチルマグネシウムブロミド
をジエチルエーテル中で反応させることにより容易に合
成することができる。ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3
は、ノナフルオロ吉草酸（ｎ−ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｃ
ＯＯＨ）とメチルマグネシウムブロミドをジエチルエー
テル中で反応させることにより容易に合成することがで
きる。ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3は、２，２，
３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ吉草酸（ｎ−
ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメチルマグネシウ
ムブロミドをジエチルエーテル中で反応させることによ
り容易に合成することができる。（ＣＦ3）2ＣＦＣＯＣ
Ｈ3は、六フッ化プロペンとフッ化アセチルをジグライ
ム中でフッ化カリウムを触媒に用いて反応させることに
より容易に合成することができる。
も文献記載の公知化合物であるが、その洗浄溶剤等とし
ての物性については何ら検討されていない。前記含フッ
素ケトンのうち、ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＣＨ3は、ペンタフル
オロプロピオン酸（ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメチルマグ
ネシウムブロミド（ＣＨ3ＭｇＢｒ）をジブチルエーテ
ル中で反応させることにより容易に合成することができ
る。ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3は、２，２，３，３−テト
ラフルオロプロピオン酸（ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメ
チルマグネシウムブロミドをジエチルエーテル中で反応
させることにより容易に合成することができる。ＣＦ3
ＣＦ2ＣＯＣＨ2ＣＨ3は、ペンタフルオロプロピオン酸
（ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＯＨ）とエチルマグネシウムブロミド
をジエチルエーテル中で反応させることにより容易に合
成することができる。ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3は、ヘ
プタフルオロ酪酸（ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメチ
ルマグネシウムブロミドをジエチルエーテル中で反応さ
せることにより容易に合成することができる。ＣＦ3Ｃ
Ｆ2ＣＦ2ＣＯＣＨ2ＣＦ3は、ヘプタフルオロ酪酸（ＣＦ
3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とエチルマグネシウムブロミド
をジエチルエーテル中で反応させることにより容易に合
成することができる。ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3
は、ノナフルオロ吉草酸（ｎ−ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｃ
ＯＯＨ）とメチルマグネシウムブロミドをジエチルエー
テル中で反応させることにより容易に合成することがで
きる。ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3は、２，２，
３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ吉草酸（ｎ−
ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＯＨ）とメチルマグネシウ
ムブロミドをジエチルエーテル中で反応させることによ
り容易に合成することができる。（ＣＦ3）2ＣＦＣＯＣ
Ｈ3は、六フッ化プロペンとフッ化アセチルをジグライ
ム中でフッ化カリウムを触媒に用いて反応させることに
より容易に合成することができる。
【０００９】本発明の前記含フッ素ケトンからなる溶剤
は、含フッ素ケトンの他、他の液状有機化合物を含有す
ることができる。このような液状有機化合物の沸点は、
３００℃以下、好ましくは１５０℃以下であり、その沸
点の下限は、通常、２５〜３０℃程度である。好ましく
は４０〜１２０℃の沸点を有するものである。このよう
な液状有機化合物には、炭化水素、フッ素化炭化水素、
アルコール、フッ素化アルコール、エーテル、ケトン、
エステル、有機窒素化合物、有機硫黄化合物及び有機ケ
イ素化合物が含有される。このような液状有機化合物の
含有量は、全溶剤中１〜５０重量％、好ましくは１〜２
０重量％である。可燃性液状有機化合物の場合、その含
有量が前記範囲より多くなると、溶剤の可燃性が増加す
るので好ましくなく、一方、前記範囲より少なくなる
と、その添加効果が不十分になるので好ましくない。
は、含フッ素ケトンの他、他の液状有機化合物を含有す
ることができる。このような液状有機化合物の沸点は、
３００℃以下、好ましくは１５０℃以下であり、その沸
点の下限は、通常、２５〜３０℃程度である。好ましく
は４０〜１２０℃の沸点を有するものである。このよう
な液状有機化合物には、炭化水素、フッ素化炭化水素、
アルコール、フッ素化アルコール、エーテル、ケトン、
エステル、有機窒素化合物、有機硫黄化合物及び有機ケ
イ素化合物が含有される。このような液状有機化合物の
含有量は、全溶剤中１〜５０重量％、好ましくは１〜２
０重量％である。可燃性液状有機化合物の場合、その含
有量が前記範囲より多くなると、溶剤の可燃性が増加す
るので好ましくなく、一方、前記範囲より少なくなる
と、その添加効果が不十分になるので好ましくない。
【００１０】前記炭化水素の具体例としては、例えば、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペン
タン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の脂肪族
あるいは芳香族炭化水素が挙げられる。またフッ素化炭
化水素としては、ＨＦＣ４３−１０ｍｅｅ（ＣＦ3ＣＦ2
ＣＨＦＣＨＦＣＦ3）、ＨＦＣ３３８ｐｃｃ（ＣＨＦ2Ｃ
Ｆ2ＣＦ2ＣＨＦ2）等が挙げられる。アルコールとして
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール、カルビトール等が挙げられる。
フッ素化アルコールとしては、トリフルオロエタノー
ル、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、ペンタフルオ
ロプロパノール等が挙げられる。エーテルとしては、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライ
ム等が挙げられる。ケトンとしては、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、シク
ロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。エス
テルとしては、カルボン酸エステル、例えばギ酸エステ
ル、酢酸エステル等が挙げられる。有機窒素化合物とし
ては、アセトニトリル、ニトロベンゼン、ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。有機
硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン等が挙げられる。有機ケイ素化合物としては、テトラ
メチルシラン、テトラエチルシラン、メトキシトリメチ
ルシラン、エトキシトリメチルシラン、ヘキサメチルジ
シロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が
挙げられる。これらの成分の中で好ましいものはアルコ
ールである。
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペン
タン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の脂肪族
あるいは芳香族炭化水素が挙げられる。またフッ素化炭
化水素としては、ＨＦＣ４３−１０ｍｅｅ（ＣＦ3ＣＦ2
ＣＨＦＣＨＦＣＦ3）、ＨＦＣ３３８ｐｃｃ（ＣＨＦ2Ｃ
Ｆ2ＣＦ2ＣＨＦ2）等が挙げられる。アルコールとして
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール、カルビトール等が挙げられる。
フッ素化アルコールとしては、トリフルオロエタノー
ル、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、ペンタフルオ
ロプロパノール等が挙げられる。エーテルとしては、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライ
ム等が挙げられる。ケトンとしては、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、シク
ロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。エス
テルとしては、カルボン酸エステル、例えばギ酸エステ
ル、酢酸エステル等が挙げられる。有機窒素化合物とし
ては、アセトニトリル、ニトロベンゼン、ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。有機
硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン等が挙げられる。有機ケイ素化合物としては、テトラ
メチルシラン、テトラエチルシラン、メトキシトリメチ
ルシラン、エトキシトリメチルシラン、ヘキサメチルジ
シロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が
挙げられる。これらの成分の中で好ましいものはアルコ
ールである。
【００１１】本発明の含フッ素ケトンからなる溶剤及び
含フッ素ケトンと液状有機化合物からなる溶剤には、水
を添加することができる。この場合の水の添加量は、全
溶剤中、０．５〜５０重量％、好ましくは１〜２０重量
％である。溶剤に添加して水は、溶剤中に溶解状又は分
散状で存在するが、分散状で存在する場合には、界面活
性剤を同時に添加して溶剤中に乳化させるのが好まし
い。水溶性の含フッ素ケトンとしては、ＣＨＦ2ＣＦ2Ｃ
ＯＣＨ3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＣＨ3等が例示される。これら
の含フッ素ケトンに対する水の溶解度は８０〜９５重量
％である。これらの含フッ素ケトンは水を添加溶解させ
て、水と含フッ素ケトンからなる溶液とすることができ
る。この混合溶液において水の濃度は少なくとも１重量
％であり、その上限値はケトンの種類により異なるが、
通常９０〜９５重量％程度である。本発明では、さらに
それ以上の水を添加して、添加水を分散させた状態で使
用することもできる。前記のような含水溶剤は、親水性
の汚れに対する除去効果の向上したものである。
含フッ素ケトンと液状有機化合物からなる溶剤には、水
を添加することができる。この場合の水の添加量は、全
溶剤中、０．５〜５０重量％、好ましくは１〜２０重量
％である。溶剤に添加して水は、溶剤中に溶解状又は分
散状で存在するが、分散状で存在する場合には、界面活
性剤を同時に添加して溶剤中に乳化させるのが好まし
い。水溶性の含フッ素ケトンとしては、ＣＨＦ2ＣＦ2Ｃ
ＯＣＨ3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＣＨ3等が例示される。これら
の含フッ素ケトンに対する水の溶解度は８０〜９５重量
％である。これらの含フッ素ケトンは水を添加溶解させ
て、水と含フッ素ケトンからなる溶液とすることができ
る。この混合溶液において水の濃度は少なくとも１重量
％であり、その上限値はケトンの種類により異なるが、
通常９０〜９５重量％程度である。本発明では、さらに
それ以上の水を添加して、添加水を分散させた状態で使
用することもできる。前記のような含水溶剤は、親水性
の汚れに対する除去効果の向上したものである。
【００１２】本発明の溶剤には、これを過酷な条件で使
用するに際しては各種の安定剤を添加しても良い。安定
剤としては、蒸留操作により含フッ素ケトンに同伴流出
される液状化合物或いは共沸ないし共沸様混合物を形成
する液状化合物が望ましい。このような安定剤の具体例
としては、ニトロメタン、ニトロエタン等の脂肪族ニト
ロ化合物；ニトロベンゼン、ニトロスチレン等の芳香族
ニトロ化合物；ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシ
エタン、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサ
ン等のエーテル類；グリシドール、メチルグリシジルエ
ーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、１，２−ブチレンオキシド、シクロヘキセ
ンオキシド、エピクロルヒドリン等のエポキシ類；ヘキ
セン、ヘプテン、ペンタジエン、シクロペンテン、シク
ロヘキセン等の不飽和炭化水素類；アリルアルコール、
１−ブテン−３−オール等のオレフィン系アルコール
類；３−メチル−１−ブチン−３−オール、３−メチル
−１−ペンチン−３−オール等のアセチレン系アルコー
ル類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、メタクリル酸ビニル等のアクリル酸エステル
類等があげられる。また更に相乗的安定化効果を得るた
めに、フェノール類、アミン類、ベンゾトリアゾール類
等を併用しても良い。安定剤の使用量は、安定剤の種類
等により異なるが、通常、溶剤中、０．０１〜１０重量
％程度であり、０．１〜５重量％程度とすることがより
好ましい。
用するに際しては各種の安定剤を添加しても良い。安定
剤としては、蒸留操作により含フッ素ケトンに同伴流出
される液状化合物或いは共沸ないし共沸様混合物を形成
する液状化合物が望ましい。このような安定剤の具体例
としては、ニトロメタン、ニトロエタン等の脂肪族ニト
ロ化合物；ニトロベンゼン、ニトロスチレン等の芳香族
ニトロ化合物；ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシ
エタン、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサ
ン等のエーテル類；グリシドール、メチルグリシジルエ
ーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、１，２−ブチレンオキシド、シクロヘキセ
ンオキシド、エピクロルヒドリン等のエポキシ類；ヘキ
セン、ヘプテン、ペンタジエン、シクロペンテン、シク
ロヘキセン等の不飽和炭化水素類；アリルアルコール、
１−ブテン−３−オール等のオレフィン系アルコール
類；３−メチル−１−ブチン−３−オール、３−メチル
−１−ペンチン−３−オール等のアセチレン系アルコー
ル類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、メタクリル酸ビニル等のアクリル酸エステル
類等があげられる。また更に相乗的安定化効果を得るた
めに、フェノール類、アミン類、ベンゾトリアゾール類
等を併用しても良い。安定剤の使用量は、安定剤の種類
等により異なるが、通常、溶剤中、０．０１〜１０重量
％程度であり、０．１〜５重量％程度とすることがより
好ましい。
【００１３】本発明の溶剤には、その洗浄力、界面作用
等をより一層改善する為に、必要に応じて各種の界面活
性剤を添加することができる。界面活性剤としては、ソ
ルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート等のソ
ルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンのソル
ビットテトラオエート等のポリオキシエチレンソルビッ
ト脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンモノラウレー
ト等のポリオキシエチレンラウリルエーテル類；ポリオ
キシエチレンノニフェニルエーテル等のポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル；ポリオキシエチレンオ
レイン酸アミド等のポリオキシエチレンアルキルアミン
脂肪酸アミド類等のノニオン系界面活性剤が挙げられ、
単独で使用してもよく、或いは２種以上の組み合わせで
使用しても良い。相乗的に洗浄力及び界面作用を改善す
る目的で、これらのノニオン系界面活性剤に更にカチオ
ン系界面活性剤を又はアニオン系界面活性剤を併用して
も良い。界面活性剤の総添加量は、その種類により異な
るが、溶剤中、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．
１〜５重量％である。
等をより一層改善する為に、必要に応じて各種の界面活
性剤を添加することができる。界面活性剤としては、ソ
ルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート等のソ
ルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンのソル
ビットテトラオエート等のポリオキシエチレンソルビッ
ト脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンモノラウレー
ト等のポリオキシエチレンラウリルエーテル類；ポリオ
キシエチレンノニフェニルエーテル等のポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル；ポリオキシエチレンオ
レイン酸アミド等のポリオキシエチレンアルキルアミン
脂肪酸アミド類等のノニオン系界面活性剤が挙げられ、
単独で使用してもよく、或いは２種以上の組み合わせで
使用しても良い。相乗的に洗浄力及び界面作用を改善す
る目的で、これらのノニオン系界面活性剤に更にカチオ
ン系界面活性剤を又はアニオン系界面活性剤を併用して
も良い。界面活性剤の総添加量は、その種類により異な
るが、溶剤中、０．０１〜２０重量％、好ましくは０．
１〜５重量％である。
【００１４】本発明の溶剤は、物品表面に付着する汚れ
や水を除去し、物品表面を清浄化するための洗浄剤とし
て有利に用いることができる。この場合の物品表面に付
着する汚れには、フラックス、油、グリース、ワック
ス、インク等による汚れの他、従来のドライクリーニン
グで除去される各種汚れがある。これらの汚れは、従来
は、ＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン等を
用いて除去されてきたものであるが、本発明の溶剤は、
それらのＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン
の代替物として有利に適用される。また、前記物品に
は、電子部品（プリント基板、液晶表示器、磁気記録部
品、半導体材料等）、電機部品、精密機械部品、樹脂加
工部品、光学レンズ、衣料品等が包含される。その物品
表面の清浄化方法としては、浸漬、スプレー、沸騰洗
浄、超音波洗浄、蒸気洗浄等或いはこれらの組み合わせ
等の従来から用いられている方法が採用できる。
や水を除去し、物品表面を清浄化するための洗浄剤とし
て有利に用いることができる。この場合の物品表面に付
着する汚れには、フラックス、油、グリース、ワック
ス、インク等による汚れの他、従来のドライクリーニン
グで除去される各種汚れがある。これらの汚れは、従来
は、ＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン等を
用いて除去されてきたものであるが、本発明の溶剤は、
それらのＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタン
の代替物として有利に適用される。また、前記物品に
は、電子部品（プリント基板、液晶表示器、磁気記録部
品、半導体材料等）、電機部品、精密機械部品、樹脂加
工部品、光学レンズ、衣料品等が包含される。その物品
表面の清浄化方法としては、浸漬、スプレー、沸騰洗
浄、超音波洗浄、蒸気洗浄等或いはこれらの組み合わせ
等の従来から用いられている方法が採用できる。
【００１５】本発明による含フッ素ケトンと低級アルコ
ールからなる混合液は、水切り乾燥溶剤として有利に用
いることができる。低級アルコールとしては、メタノー
ル、エタノール、インプロパノール、ブタノール等の炭
素数１〜６、好ましくは１〜３のアルコールが用いら
れ、その溶剤中濃度は、１〜５０重量％、好ましくは１
〜２０重量％である。この水切り乾燥溶剤は、水洗され
た後の表面に水分が付着している物品の表面にスプレー
法や浸漬法等の適宜の方法で適用され、これによりその
付着水を除去することができる。
ールからなる混合液は、水切り乾燥溶剤として有利に用
いることができる。低級アルコールとしては、メタノー
ル、エタノール、インプロパノール、ブタノール等の炭
素数１〜６、好ましくは１〜３のアルコールが用いら
れ、その溶剤中濃度は、１〜５０重量％、好ましくは１
〜２０重量％である。この水切り乾燥溶剤は、水洗され
た後の表面に水分が付着している物品の表面にスプレー
法や浸漬法等の適宜の方法で適用され、これによりその
付着水を除去することができる。
【００１６】また、本発明の含フッ素ケトンからなる溶
剤は、冷蔵庫や、エアコン用等の冷媒として用いられる
ことができる。本発明の溶剤は、従来のフロンと同様に
塗料用溶剤、抽出剤、熱媒体等の各種用途に使用するこ
とができる。
剤は、冷蔵庫や、エアコン用等の冷媒として用いられる
ことができる。本発明の溶剤は、従来のフロンと同様に
塗料用溶剤、抽出剤、熱媒体等の各種用途に使用するこ
とができる。
【００１７】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説
明する。
明する。
【００１８】実施例１ 表２に示す溶剤を用いてフラックスの洗浄試験を行っ
た。テストピース（ＳＵＳ−３１６；５０ｍｍ×１０ｍ
ｍ×１ｍｍ）をフラックス〔アサヒ化学研究所製ＧＸ−
８Ｓ〕に５０℃、１分間浸漬した後、取り出して２００
℃で１分間加熱処理した。そのテストピースを溶剤中で
１分間超音波洗浄し、ついで温風乾燥した。テストピー
ス上のフラックスの除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、
Ｃ；不良）を肉眼及び顕微鏡で観察し、その結果を表２
に示した。
た。テストピース（ＳＵＳ−３１６；５０ｍｍ×１０ｍ
ｍ×１ｍｍ）をフラックス〔アサヒ化学研究所製ＧＸ−
８Ｓ〕に５０℃、１分間浸漬した後、取り出して２００
℃で１分間加熱処理した。そのテストピースを溶剤中で
１分間超音波洗浄し、ついで温風乾燥した。テストピー
ス上のフラックスの除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、
Ｃ；不良）を肉眼及び顕微鏡で観察し、その結果を表２
に示した。
【００１９】
【表２】
【００２０】実施例２ 表３に示す含フッ素ケトン９５重量％とアルコール〔メ
タノール（ＭｅＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）又はイ
ソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）〕５重量％との混合物を
用いて付着水の除去試験を行った。予めよく脱脂洗浄し
たガラス板（３０ｍｍ×２０ｍｍ×１ｍｍ）を純水に１
分間浸漬し、次いで上記の混合物中に３０秒間浸漬し
た。取り出したガラス板を常温下で１分間放置して残存
していた混合物を蒸発させた後、無水メタノール中に浸
漬し、そのメタノールの水分増加量をカールフィッシャ
ー水分計により測定した。一方、純水に浸漬しただけで
上記の混合物中に浸漬しなかった場合のメタノールの水
分増加量との比較及び肉眼、顕微鏡による表面状態の観
察から、付着水の除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、
Ｃ；不良）を調べ、その結果を表３に示した。
タノール（ＭｅＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）又はイ
ソプロパノール（ｉＰｒＯＨ）〕５重量％との混合物を
用いて付着水の除去試験を行った。予めよく脱脂洗浄し
たガラス板（３０ｍｍ×２０ｍｍ×１ｍｍ）を純水に１
分間浸漬し、次いで上記の混合物中に３０秒間浸漬し
た。取り出したガラス板を常温下で１分間放置して残存
していた混合物を蒸発させた後、無水メタノール中に浸
漬し、そのメタノールの水分増加量をカールフィッシャ
ー水分計により測定した。一方、純水に浸漬しただけで
上記の混合物中に浸漬しなかった場合のメタノールの水
分増加量との比較及び肉眼、顕微鏡による表面状態の観
察から、付着水の除去状況（Ａ；良好、Ｂ；やや良、
Ｃ；不良）を調べ、その結果を表３に示した。
【００２１】
【表３】
【００２２】実施例３ 含フッ素ケトン（ＣＦ3）2ＣＦＣＯＣＨ3０．０４７ｍ
ｏｌと水０．０９４ｍｏｌをフラスコに入れ、８０℃で
４５時間、還流させた。有機層をガスクロ（ＴＣＤ）に
よって分析したところ、組成には変化がなく、また試験
前後での酸性度にも変化はなかった。このことから、本
発明で用いる含フッ素ケトンはすぐれた安定性を有する
ものであることが確認された。
ｏｌと水０．０９４ｍｏｌをフラスコに入れ、８０℃で
４５時間、還流させた。有機層をガスクロ（ＴＣＤ）に
よって分析したところ、組成には変化がなく、また試験
前後での酸性度にも変化はなかった。このことから、本
発明で用いる含フッ素ケトンはすぐれた安定性を有する
ものであることが確認された。
【００２３】
【発明の効果】本発明の含フッ素ケトンからなる溶剤
は、その含フッ素ケトンが塩素原子を含まないため、オ
ゾン層破壊の心配がなく、また、水素原子を含むため、
大気中の水酸基ラジカルとの反応性が高く、対流圏で分
解され易いため、温室効果が小さく、かつ、従来のＣＦ
ＣやＨＣＦＣに替わる洗浄溶剤、水切り乾燥剤等として
有利に使用することができる。
は、その含フッ素ケトンが塩素原子を含まないため、オ
ゾン層破壊の心配がなく、また、水素原子を含むため、
大気中の水酸基ラジカルとの反応性が高く、対流圏で分
解され易いため、温室効果が小さく、かつ、従来のＣＦ
ＣやＨＣＦＣに替わる洗浄溶剤、水切り乾燥剤等として
有利に使用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 秋山 稔 東京都文京区本郷２−40−17本郷若井ビル ６階財団法人地球環境産業技術研究機構 新規冷媒等プロジェクト室内 (72)発明者 関屋 章 茨城県つくば市東１丁目１番 工業技術院 物質工学工業技術研究所内
Claims (7)
- 【請求項１】 下記一般式 （式中、ｎは２〜４の数を示し、ｍは０又は１の数を示
し、Ｒ1はメチル基又はエチル基を示す）で表される含
フッ素ケトンからなる溶剤。 - 【請求項２】 該含フッ素ケトンが、ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＣ
Ｈ3、ＣＨＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＯＣ2Ｈ5、
ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣ2Ｈ
5、（ＣＦ3）2ＣＦＣＯＣＨ3、ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｃ
ＯＣＨ3及びＣＨＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2ＣＯＣＨ3の中から
選ばれる少なくとも１種の含フッ素ケトンである請求項
１の溶剤。 - 【請求項３】 液状有機化合物を含有する請求項１又は
２の溶剤。 - 【請求項４】 該液状有機化合物が、炭化水素、フッ素
化炭化水素、アルコール、フッ素化アルコール、エーテ
ル、エステル、ケトン、有機窒素化合物、有機硫黄化合
物及び有機ケイ素化合物の中から選ばれる少なくとも１
種である請求項３の溶剤。 - 【請求項５】 水を含有する請求項１〜４のいずれかの
溶剤。 - 【請求項６】 下記一般式 （式中、ｎは２〜４の数を示し、ｍは０又は１の数を示
し、Ｒ1はメチル基又はエチル基を示す）で表される含
フッ素ケトンを低級アルコールとからなる水切り乾燥溶
剤。 - 【請求項７】 請求項１〜５のいずれかの溶剤を用いて
物品表面に付着する汚れ又は水分を除去することを特徴
とする物品表面の清浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28340696A JP2869432B2 (ja) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | 溶剤及びそれを用いる物品表面の清浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28340696A JP2869432B2 (ja) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | 溶剤及びそれを用いる物品表面の清浄化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10109954A true JPH10109954A (ja) | 1998-04-28 |
| JP2869432B2 JP2869432B2 (ja) | 1999-03-10 |
Family
ID=17665123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28340696A Expired - Lifetime JP2869432B2 (ja) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | 溶剤及びそれを用いる物品表面の清浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2869432B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001279296A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | 含フッ素ケトンとアルコールからなる共沸及び共沸様組成物 |
| JP2007505956A (ja) * | 2003-09-16 | 2007-03-15 | アルケマ フランス | フッ素化炭化水素と第二ブタノールとを基剤とする電子基板デフラクシング組成物 |
| US7385089B2 (en) | 2005-12-23 | 2008-06-10 | 3M Innovative Properties Company | Fluorochemical ketone compounds and processes for their use |
| US7435774B2 (en) | 2002-09-11 | 2008-10-14 | Peach State Labs, Inc. | Fluoromonomers, fluoropolymers, methods of preparing them, and their application to various surfaces and substrates |
| US7615668B2 (en) | 2004-10-18 | 2009-11-10 | Central Glass Co., Ltd. | Method for producing 4,4,4-trifluorobutane-2-one |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6780220B2 (en) | 2000-05-04 | 2004-08-24 | 3M Innovative Properties Company | Method for generating pollution credits while processing reactive metals |
| US6685764B2 (en) | 2000-05-04 | 2004-02-03 | 3M Innovative Properties Company | Processing molten reactive metals and alloys using fluorocarbons as cover gas |
| US6394107B1 (en) * | 2001-04-24 | 2002-05-28 | 3M Innovative Properties Company | Use of fluorinated ketones as wet cleaning agents for vapor reactors and vapor reactor components |
-
1996
- 1996-10-04 JP JP28340696A patent/JP2869432B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001279296A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | 含フッ素ケトンとアルコールからなる共沸及び共沸様組成物 |
| US7435774B2 (en) | 2002-09-11 | 2008-10-14 | Peach State Labs, Inc. | Fluoromonomers, fluoropolymers, methods of preparing them, and their application to various surfaces and substrates |
| JP2007505956A (ja) * | 2003-09-16 | 2007-03-15 | アルケマ フランス | フッ素化炭化水素と第二ブタノールとを基剤とする電子基板デフラクシング組成物 |
| JP4755987B2 (ja) * | 2003-09-16 | 2011-08-24 | アルケマ フランス | フッ素化炭化水素と第二ブタノールとを基剤とする電子基板デフラクシング組成物 |
| US7615668B2 (en) | 2004-10-18 | 2009-11-10 | Central Glass Co., Ltd. | Method for producing 4,4,4-trifluorobutane-2-one |
| US7385089B2 (en) | 2005-12-23 | 2008-06-10 | 3M Innovative Properties Company | Fluorochemical ketone compounds and processes for their use |
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| Publication number | Publication date |
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| JP2869432B2 (ja) | 1999-03-10 |
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