JPH10107129A - Substrate processing device - Google Patents

Substrate processing device

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JPH10107129A
JPH10107129A JP25465496A JP25465496A JPH10107129A JP H10107129 A JPH10107129 A JP H10107129A JP 25465496 A JP25465496 A JP 25465496A JP 25465496 A JP25465496 A JP 25465496A JP H10107129 A JPH10107129 A JP H10107129A
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pin
locking pin
insertion hole
substrate
locking
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Satoshi Doi
敏 土井
Harumichi Hirose
治道 広瀬
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Shibaura Mechatronics Corp
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Shibaura Engineering Works Co Ltd
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing device in which maintenance such as replacement, etc., is easy and which is provided with engaging pins that are hardly corroded by chemical solution, etc. SOLUTION: This substrate processing device for holding and turning a substrate 28 on the upper side of a rotary body is provided with a supporting part 25 which is erected on the rotary body and in which a first insertion hole 26 is formed on the upper end surface in the axial direction and a second insertion hole 27 crossing it is formed in the radial direction, a supporting pin 33 for supporting the lower surface of the substrate 28, an engaging pin 29 which is inserted into the hole 26 to engage the outer periphery of the substrate 28, and a fixing pin 30 which is inserted into the hole 27 to be engaged with the pin 29 so that the pin 29 may be prevented from dropping out. In such a structure, the pin 29 is inserted detachably into the hole 26, so that the pin 29 be pulled out easily only by pulling out the pin 30 when the pin 29 is subject to replacement due to wear, resulting in easy maintenance.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は基板を回転処理する
スピン処理装置の基板を保持する保持ピンの取り付け構
造に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a mounting structure of a holding pin for holding a substrate of a spin processing apparatus for rotating a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、半導体製造装置や液晶製造装
置においては、基板(半導体ウエハや液晶用ガラス基板
等)に回路パタ−ンを形成するための成膜プロセスやフ
ォトプロセス等の工程がある。これらのプロセスでは、
上記基板を高速回転させて、洗浄、乾燥などの処理を行
うスピン処理装置がある。
2. Description of the Related Art For example, in a semiconductor manufacturing apparatus or a liquid crystal manufacturing apparatus, there are processes such as a film forming process and a photo process for forming a circuit pattern on a substrate (such as a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal). In these processes,
There is a spin processing apparatus that rotates the substrate at a high speed to perform processing such as washing and drying.

【0003】上記基板にスピン処理を行うためのスピン
処理装置は回転体を備えており、この回転体に円柱状
の、例えば合成樹脂から形成されている保持部材が立設
されている。この保持部材の上端には上記基板の周辺部
下面を支持する支持ピンと、上記基板の外周面に係合す
る係止ピンが設けられている。よって上記基板は下面周
辺部を上記支持ピンに支持されて基板の外周面を係止ピ
ンに係合されることにより保持される。
The spin processing apparatus for performing the spin processing on the substrate includes a rotating body, and a cylindrical holding member formed of, for example, synthetic resin is provided upright on the rotating body. At the upper end of the holding member, there are provided a support pin for supporting the lower surface of the peripheral portion of the substrate and a locking pin for engaging with the outer peripheral surface of the substrate. Therefore, the substrate is held by the lower peripheral portion being supported by the support pins and the outer peripheral surface of the substrate being engaged by the locking pins.

【0004】この係止ピンには、上記保持部材と一体的
に設けられているものがある。すなわちこの場合、上記
係止ピンは上記保持部材の上端に切削加工を行って形成
されたものとなっている。
Some of the locking pins are provided integrally with the holding member. That is, in this case, the locking pin is formed by cutting the upper end of the holding member.

【0005】また、上記係止ピンを上記保持部材と別体
的に設けた場合には、この保持部材の上端から下方に向
かい挿入孔が形成され、この挿入孔に上記係止ピンが挿
入される。この場合、上記係止ピンは例えばねじなどに
よって係止固定されるものとなっている。
When the locking pin is provided separately from the holding member, an insertion hole is formed downward from the upper end of the holding member, and the locking pin is inserted into the insertion hole. You. In this case, the locking pin is locked and fixed by, for example, a screw.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
に基板を繰り返しこの保持部材上に載置させ、そして高
速回転で処理を行った場合、この係止ピンが徐々に削ら
れてしまう。これは上記液晶用ガラス基板を上記係止ピ
ン上に載置させたり、この係止ピン上から移送させる場
合、この液晶用ガラス基板の外端部によって、例えば合
成樹脂より形成されている上記係止ピンが削られてしま
い、そのためこの液晶用ガラス基板を保持する場合にが
たが生じるなどの不具合が発生する。
When the substrate is repeatedly placed on the holding member and the processing is performed at a high speed as described above, the locking pin is gradually cut off. This is because, when the liquid crystal glass substrate is placed on the locking pin or transferred from the locking pin, the outer edge of the liquid crystal glass substrate is formed of, for example, a synthetic resin. The locking pin is scraped off, which causes problems such as rattling when holding the liquid crystal glass substrate.

【0007】そのためこの係止ピンのメンテナンスが必
要となるが、上記係止ピンが上記保持部材と一体的に形
成されている場合、上記保持部材ごと交換しなければな
らないため、このメンテナンスにコストが掛かるものと
なっており、また上記保持部材ごと交換しなければなら
ないため、この交換作業も手間が掛かるものとなってい
る。
For this reason, maintenance of the locking pin is required. However, when the locking pin is formed integrally with the holding member, the entire holding member must be replaced. The replacement work is time consuming because the entire holding member must be replaced.

【0008】また、上記係止ピンが上記保持部材と別体
的に設けられているタイプの場合、ねじでこの係止ピン
と保持部材とを固定することとなるが、上記基板に対し
て薬液などの処理液を上方から噴出させて処理を行う場
合、この固定ピンの固定に金属製のねじを使用すると、
このねじが腐食されてしまう。そのため、ねじを保持部
材から容易に外すことができなかったり、固定状態が損
なわれるなどのことがある。
In the case of the type in which the locking pin is provided separately from the holding member, the locking pin and the holding member are fixed with screws. When processing is performed by ejecting the processing solution from above, using a metal screw to fix this fixing pin,
This screw is corroded. For this reason, the screw may not be easily removed from the holding member, or the fixed state may be damaged.

【0009】本発明は上記の事情にもとづきなされたも
ので、その目的とするところは、交換などのメンテナン
スを容易に行え、かつ薬液などに腐食されない係止ピン
を有する基板処理装置を提供しようとするものである。
The present invention has been made based on the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus which can easily perform maintenance such as replacement and has a locking pin which is not corroded by a chemical solution or the like. Is what you do.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は、回転盤を有し、この回転盤
上部で基板を保持して回転処理を行う基板処理装置にお
いて、上記回転盤に立設され、上端面に開放した第1の
挿入孔が軸方向に沿って形成されているとともに、上記
挿入孔と交差する第2の挿入孔が径方向に沿って形成さ
れた保持部材と、上記保持部材の上端部に設けられて上
記基板の下面を支持する支持ピンと、上記第1の挿入孔
に着脱自在に挿入されて上記基板の外周を係止する係止
ピンと、上記第2の挿入孔に着脱自在に挿入され、上記
係止ピンの側方部と係合してこの係止ピンの抜け出しを
防止する固定ピンとを具備したことを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus having a rotary disk, wherein a substrate is held on an upper portion of the rotary disk to perform a rotation process. A first insertion hole which is erected on the turntable and opened at the upper end surface is formed along the axial direction, and a second insertion hole intersecting with the insertion hole is formed along the radial direction. A holding member, a support pin provided at an upper end of the holding member to support a lower surface of the substrate, a locking pin detachably inserted into the first insertion hole to lock an outer periphery of the substrate, A fixing pin which is removably inserted into the second insertion hole and is engaged with a side portion of the locking pin to prevent the locking pin from coming off.

【0011】請求項2記載の発明は、上記係止ピンの外
周面には、上記固定ピンが係合する溝状の係止部が形成
されていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装
置である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the substrate according to the first aspect, wherein a groove-shaped locking portion with which the fixing pin is engaged is formed on an outer peripheral surface of the locking pin. Processing device.

【0012】請求項3記載の発明は、上記係止ピンには
保持部材の上端面に係合する鍔部が設けられていること
を特徴とする請求項1または請求項2記載の基板処理装
置である。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the substrate processing apparatus according to the first or second aspect, wherein the locking pin is provided with a flange portion which engages with an upper end surface of the holding member. It is.

【0013】請求項4記載の発明は、上記係止ピンおよ
び上記固定ピンのうち少なくとも係止ピンは合成樹脂よ
り形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求
項3記載の基板処理装置である。
According to a fourth aspect of the present invention, at least one of the locking pin and the fixing pin is formed of a synthetic resin. It is.

【0014】請求項1の発明によると、上記保持部材に
は第1の挿入孔が形成され、この第1の挿入孔に上記基
板の外周を係止する係止ピンが着脱自在に挿入されるの
で、上記係止ピンが使用によって消耗して交換する場合
に、上記保持部材から上記固定ピンを容易に抜くことが
できる。そのため係止ピンのメンテナンスが容易に行え
る。
According to the first aspect of the present invention, a first insertion hole is formed in the holding member, and a locking pin for locking the outer periphery of the substrate is removably inserted into the first insertion hole. Therefore, when the locking pin is worn out and replaced when used, the fixing pin can be easily removed from the holding member. Therefore, maintenance of the locking pin can be easily performed.

【0015】請求項2の発明によると、上記係止ピンの
外周面には、上記固定ピンが係合する溝状の係止部が形
成されているため、係止ピンの挿入後、上記第2の挿入
孔に固定ピンを挿入するだけで、この固定ピンが上記溝
状の係止部に係合し、よって簡単に上記係止ピンの抜け
出しを防止することが可能となる。
According to the second aspect of the present invention, the locking pin is formed on the outer peripheral surface thereof with a groove-shaped locking portion with which the fixing pin is engaged. By simply inserting the fixing pin into the second insertion hole, the fixing pin engages with the groove-shaped locking portion, so that the locking pin can be easily prevented from coming off.

【0016】請求項3の発明によると、上記係止ピンに
は支柱の上端面に係合する鍔部が設けられているため、
この係止ピンの挿入および抜出の際にこの係止ピンを工
具で容易に把持することが可能となり、よってこの係止
ピンの上記第1の挿入孔に挿入される部分に工具の把持
によって損傷が生じなく、かつ工具での把持により係止
ピンの挿入および抜出が容易となる。
According to the third aspect of the present invention, since the locking pin is provided with the flange portion that engages with the upper end surface of the column,
When inserting and removing the locking pin, the locking pin can be easily gripped by a tool. Therefore, the portion of the locking pin inserted into the first insertion hole can be gripped by the tool. No damage occurs, and the insertion and removal of the locking pin is facilitated by gripping with a tool.

【0017】請求項4の発明によると、上記係止ピンお
よび上記固定ピンのうち少なくとも係止ピンは合成樹脂
より形成されているため、薬液を使用する場合でも上記
係止ピンの薬液による腐食を防止することが可能となっ
ている。
According to the fourth aspect of the present invention, since at least the locking pin of the locking pin and the fixing pin is formed of a synthetic resin, even when a chemical is used, corrosion of the locking pin by the chemical is prevented. It is possible to prevent it.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、図1ないし図3に基づいて説明する。図1に示す
この発明の基板処理装置は本体ベ−ス1を有する。この
本体ベ−ス1には円筒状の支持体2が上下方向に貫通し
て設けられている。この支持体2には同じく円筒状の回
転軸3が中途部を軸受4によって回転自在に支持されて
設けられている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. The substrate processing apparatus of the present invention shown in FIG. The main body base 1 is provided with a cylindrical support 2 penetrating vertically. The support 2 is provided with a cylindrical rotating shaft 3 rotatably supported at an intermediate portion by a bearing 4.

【0019】上記回転軸3の下端部は上記支持体2から
突出し、その下端部には従動プ−リ5が嵌着されてい
る。この従動プ−リ5の近傍にはステップモ−タ6が配
設されている。このステップモ−タ6の回転軸6aには
駆動プ−リ7が嵌着され、この駆動プ−リ7と上記従動
プ−リ5とにはベルト8が張設されている。したがっ
て、上記ステップモ−タ6が作動すれば、上記回転軸3
が回転駆動されるようになっている。
The lower end of the rotating shaft 3 protrudes from the support 2, and a driven pulley 5 is fitted to the lower end. A step motor 6 is provided near the driven pulley 5. A drive pulley 7 is fitted on the rotating shaft 6a of the step motor 6, and a belt 8 is stretched between the drive pulley 7 and the driven pulley 5. Therefore, if the step motor 6 operates, the rotation shaft 3
Are driven to rotate.

【0020】上記本体ベース1の上部側には回転軸3の
上部を収容する処理容器9が設けられている。この処理
容器9は、上面が開放した有底状の下カップ9aと、こ
の下カップ9aに対して周壁が傾斜した筒状の上カップ
9bとからなっている。この上カップ9bは、上下動自
在に設けられ、図示しない上下駆動シリンダのロッド1
0が連結されている。このシリンダが作動することで上
カップ9bが上下に駆動される。
On the upper side of the main body base 1, there is provided a processing vessel 9 for accommodating the upper part of the rotating shaft 3. The processing container 9 includes a bottomed lower cup 9a having an open upper surface, and a cylindrical upper cup 9b whose peripheral wall is inclined with respect to the lower cup 9a. The upper cup 9b is provided so as to be vertically movable, and is provided with a rod 1 of a vertical drive cylinder (not shown).
0 is linked. By operating this cylinder, the upper cup 9b is driven up and down.

【0021】上記下カップ9aの底部には、周辺部に複
数の排出管11の一端部が接続され、中心部には周囲が
フランジ12によって囲まれた挿通孔13が形成されて
いる。この挿通孔13には、上記回転軸3の一端部が挿
通されている。
At the bottom of the lower cup 9a, one end of a plurality of discharge pipes 11 is connected to the periphery, and an insertion hole 13 whose periphery is surrounded by a flange 12 is formed at the center. One end of the rotating shaft 3 is inserted through the insertion hole 13.

【0022】上記回転軸3の上端には、上面に合成樹脂
等からなるテーブル14が接合された回転盤15が一体
的に取り付けられている。この回転盤15の下面側で
は、上記回転軸3の上部外周面に円筒状のロック筒体1
6が回転自在に設けられている。このロック筒体16の
上端には、図1および図2に示すようにフランジ17が
設けられ、このフランジ17の上面には周方向に90度
間隔で4本の係合ピン18が突設されている。
On the upper end of the rotary shaft 3, a rotary disk 15 having a table 14 made of synthetic resin or the like joined on the upper surface is integrally mounted. On the lower surface side of the turntable 15, a cylindrical lock cylinder 1
6 is provided rotatably. 1 and 2, a flange 17 is provided at the upper end of the lock cylinder 16, and four engagement pins 18 project from the upper surface of the flange 17 at 90-degree intervals in the circumferential direction. ing.

【0023】上記係合ピン18はレバー19の一端に開
放して形成された係合溝20に係合している。このレバ
ー19の他端には、保持部材21の支軸22の上記回転
盤15よりも下面に突出した下端部に連結固定されてい
る。したがって、上記ロック筒体16を時計方向に回転
させ、係合ピン18によりレバー19を回動させれば、
このレバー19に連結された上記支軸22を介して保持
部材21を回動させることができる。
The engagement pin 18 is engaged with an engagement groove 20 formed by opening one end of a lever 19. The other end of the lever 19 is connected and fixed to the lower end of the support shaft 22 of the holding member 21 projecting below the rotary disk 15. Therefore, if the lock cylinder 16 is rotated clockwise and the lever 19 is rotated by the engagement pin 18,
The holding member 21 can be rotated via the support shaft 22 connected to the lever 19.

【0024】上記回転盤15の外周部には、周方向に9
0度間隔で4本の上記保持部材21がブッシュ23を介
して回転自在に立設されている。上記保持部材21は図
2に示すように、上端が閉塞されて下端が開口した円筒
部24を有している。この円筒部24からは支軸22が
下端部をこの円筒部24より突出させて垂設され、この
支軸22が上記ブッシュ23を介して回転盤15に支持
されている。
The outer peripheral portion of the rotating disk 15 has 9
The four holding members 21 are rotatably provided upright at intervals of 0 degree via a bush 23. As shown in FIG. 2, the holding member 21 has a cylindrical portion 24 whose upper end is closed and whose lower end is open. A support shaft 22 extends downward from the cylindrical portion 24 with its lower end protruding from the cylindrical portion 24, and the support shaft 22 is supported by the turntable 15 via the bush 23.

【0025】上記円筒部24の上面には断面が、例えば
流線形状に形成された支持部25が一体的に設けられて
いる。この支持部25は、合成樹脂などによって形成さ
れており、また上記支軸22と軸中心をほぼ一致させて
設けられている。
A support portion 25 having a cross section, for example, formed in a streamline shape, is integrally provided on the upper surface of the cylindrical portion 24. The support portion 25 is formed of a synthetic resin or the like, and is provided so that the support shaft 22 and the shaft center are substantially aligned.

【0026】上記支持部25には、図3(a),(b)
に示すように、上端面に開放した第1の挿入孔26が軸
方向に沿って所定の深さで形成されている。また、上記
支持部25の上記回転盤15の回転中心側の側面25a
から径方向に沿って、第2の挿入孔27が外方側に向か
い貫通して形成されている。
FIGS. 3 (a) and 3 (b)
As shown in (1), a first insertion hole 26 opened at the upper end surface is formed at a predetermined depth along the axial direction. Also, a side surface 25a of the support portion 25 on the rotation center side of the rotary disc 15
A second insertion hole 27 is formed in a radial direction from the second insertion hole 27 so as to penetrate outward.

【0027】この第2の挿入孔27には、上記回転盤1
5の回転中心側から所定位置まで大径部27aを有して
形成されており、また上記第2の挿入孔27に対してこ
の第1の挿入孔26の一部分が交差するように形成され
ている。
In the second insertion hole 27, the rotating disk 1 is inserted.
5 has a large diameter portion 27a from the rotation center side to a predetermined position, and is formed such that a part of the first insertion hole 26 intersects the second insertion hole 27. I have.

【0028】上記第1の挿入孔26には基板28の外周
を係止する係止ピン29が着脱自在に挿入され、上記第
2の挿入孔27に固定ピン30が着脱自在に挿入され
る。上記係止ピン29は、例えば三フッ化塩化エチレン
樹脂のような合成樹脂を材質として形成されており、こ
の高さは後述する支持ピン33よりも高く形成されてい
る。また上方側には環状に形成された鍔部31がこの係
止ピン29の外径よりも大径に形成されている。この鍔
部31が上記支持部25の上端面に係止して、上記第1
の挿入孔26への上記係止ピン29の挿入深さを規制し
ている。
A locking pin 29 for locking the outer periphery of the substrate 28 is removably inserted into the first insertion hole 26, and a fixing pin 30 is removably inserted into the second insertion hole 27. The locking pin 29 is formed of a synthetic resin such as, for example, ethylene trifluoride chloride resin, and has a height higher than a support pin 33 described later. On the upper side, an annular flange 31 is formed with a diameter larger than the outer diameter of the locking pin 29. The flange portion 31 is locked on the upper end surface of the support portion 25, and the first
The insertion depth of the locking pin 29 into the insertion hole 26 is regulated.

【0029】このように上記係止ピン29を上記第1の
挿入孔26への挿入が規制される深さまで挿入した場
合、上記係止ピン29には溝状の係止部32が上記第1
の挿入孔26と第2の挿入孔27の交差する部分に周方
向に沿って環状に形成されている。そのためこの状態で
上記固定ピン30を上記第2の挿入孔27に挿入すれ
ば、この係止部32にこの固定ピン30が係止して、上
記係止ピン29の上下方向への摺動が規制され、上記第
1の挿入孔26から上記係止ピン29が抜け出さないよ
うになっている。
When the locking pin 29 is inserted to such a depth that the insertion into the first insertion hole 26 is restricted, the locking pin 29 is provided with the groove-shaped locking portion 32.
Is formed annularly along the circumferential direction at the intersection of the insertion hole 26 and the second insertion hole 27. Therefore, if the fixing pin 30 is inserted into the second insertion hole 27 in this state, the fixing pin 30 is locked in the locking portion 32, and the locking pin 29 slides in the vertical direction. The lock pin 29 is restricted so as not to come out of the first insertion hole 26.

【0030】また上記固定ピン30は、材質を例えばピ
ーク材や三フッ化エチレン樹脂のような合成樹脂として
おり、この端部に径大な頭部30aが形成されている。
そのため、上記固定ピン30は、この頭部30aで上記
大径部27aに係止され、上記第2の挿入孔27から挿
入方向へ抜出するのが規制されるようになっている。
The material of the fixing pin 30 is, for example, a peak material or a synthetic resin such as ethylene trifluoride resin, and a large diameter head 30a is formed at the end.
Therefore, the fixing pin 30 is locked to the large-diameter portion 27a by the head portion 30a, so that the fixing pin 30 is prevented from being pulled out from the second insertion hole 27 in the insertion direction.

【0031】上記支持部25の上端面の上記回転盤15
の回転中心側には、上記第1の挿入孔26に挿入される
係止ピン29に近接するように、合成樹脂を材質とする
支持ピン33が、一体成形またはねじなどにより取り付
けられている。この支持ピン33は、上面に上記基板2
8を載置し、上記係止ピン29とで基板28を保持する
ようになっている。
The rotating disk 15 on the upper end surface of the support 25
A support pin 33 made of a synthetic resin is attached to the rotation center side of the first member so as to be close to the locking pin 29 inserted into the first insertion hole 26 by integral molding or a screw. The support pins 33 are provided on the upper surface of the substrate 2.
8 is mounted, and the substrate 28 is held by the locking pins 29.

【0032】上記回転盤15とテーブル14との中心部
分には図1に示すように通孔34が形成されている。こ
の通孔34にはノズル体35が非接触状態で嵌挿されて
いる。このノズル体35は円錐形状をなしていて、その
上面にはノズル孔36が一端を開放して形成されてい
る。このノズル体35の下端面には支持軸37の上端が
連結されている。この支持軸37の上部は上記回転軸3
内に軸受38によって回転自在に支持されたブラケット
39に保持されている。
A through hole 34 is formed in the center of the rotary disk 15 and the table 14 as shown in FIG. A nozzle body 35 is fitted into the through hole 34 in a non-contact state. The nozzle body 35 has a conical shape, and a nozzle hole 36 is formed on an upper surface thereof with one end opened. The upper end of a support shaft 37 is connected to the lower end surface of the nozzle body 35. The upper part of this support shaft 37 is
It is held by a bracket 39 rotatably supported by a bearing 38 therein.

【0033】また、回転軸3の内部の上記ブラケット3
9の下方には、上記軸受38と他の軸受40とによって
上下端部が回転自在に支持されたハウジング41が設け
られている。このハウジング41には上記支持軸37が
挿通される第1の貫通孔42と、上記ノズル孔36に一
端を接続した供給チュ−ブ43が挿通された第2の貫通
孔44とが穿設されている。上記供給チュ−ブ43の他
端は図示しない洗浄液の供給部に連通している。
The bracket 3 inside the rotary shaft 3
Below 9 is provided a housing 41 whose upper and lower ends are rotatably supported by the bearing 38 and another bearing 40. The housing 41 has a first through hole 42 through which the support shaft 37 is inserted, and a second through hole 44 through which a supply tube 43 having one end connected to the nozzle hole 36 is inserted. ing. The other end of the supply tube 43 communicates with a cleaning liquid supply unit (not shown).

【0034】したがって、ノズル孔36からは、上記供
給チューブ43からの洗浄液を保持部材21に保持され
た基板28の下面中心部に向けて噴射することができる
ようになっている。
Accordingly, the cleaning liquid from the supply tube 43 can be sprayed from the nozzle hole 36 toward the center of the lower surface of the substrate 28 held by the holding member 21.

【0035】また、上記係止ピン29および上記支持ピ
ン33に基板28が保持された場合に、この基板28に
対して上方から洗浄液を吐出する、図示しないノズルな
どが設けられている。
When the substrate 28 is held by the locking pins 29 and the support pins 33, a nozzle or the like (not shown) for discharging a cleaning liquid from above to the substrate 28 is provided.

【0036】また上記本体ベース1には、上記係止ピン
29による基板28の係止および係止の解除を行う解除
機構45が設けられている。このような構成の基板処理
装置によると、上記係止ピン29は支持部25に着脱自
在に取り付けられ、かつ上記第2の挿入孔27への固定
ピン30の挿入によってこの係止ピン29の抜けを規制
している。そのため、この係止ピン29が使用に伴って
消耗して交換の必要性が生じた場合、上記固定ピン30
を抜けば係止ピン29を容易に抜くことができる。よっ
てこの係止ピン29の交換を容易に行うことが可能とな
る。そのために係止ピン29が消耗して交換の必要性が
生じても係止ピン29のみの交換を行えばよく、他の部
分を一体的に交換する必要がないから、このメンテナン
スにコストが掛からない。
The main body base 1 is provided with a release mechanism 45 for locking and releasing the locking of the substrate 28 by the locking pins 29. According to the substrate processing apparatus having such a configuration, the locking pin 29 is detachably attached to the support portion 25, and the locking pin 29 is pulled out by inserting the fixing pin 30 into the second insertion hole 27. Is regulated. Therefore, when the locking pin 29 is worn due to use and needs to be replaced, the fixing pin 30
, The locking pin 29 can be easily pulled out. Therefore, it is possible to easily replace the locking pin 29. Therefore, even if the locking pin 29 is worn out and needs to be replaced, it is sufficient to replace only the locking pin 29, and it is not necessary to replace other parts integrally. Absent.

【0037】また上記係止ピン29の外周面には上記固
定ピン30が係合する溝状の係止部32が形成されてい
るため、係止ピン29の挿入後、上記第2の挿入孔27
に上記固定ピン30を挿入するだけで、この固定ピン3
0を上記溝状の係止部32に係合させることができる。
よって、上記係止ピン29の抜け出しを簡単に防止する
ことが可能となる。
Further, since a groove-shaped locking portion 32 with which the fixing pin 30 is engaged is formed on the outer peripheral surface of the locking pin 29, after the locking pin 29 is inserted, the second insertion hole is formed. 27
By simply inserting the fixing pin 30 into the
0 can be engaged with the groove-shaped locking portion 32.
Therefore, it is possible to easily prevent the locking pin 29 from coming off.

【0038】さらに上記固定ピン30には、上記回転盤
15の回転に伴って径方向外方に向かう遠心力が生じる
が、上記固定ピン30に形成された頭部30aが上記第
2の挿入孔27の大径部27aに係止される。そのた
め、固定ピン30が第2の挿入孔27に着脱自在に挿通
されていても、回転処理時に上記固定ピン30が抜け出
すことがない。
Further, a centrifugal force is generated in the fixing pin 30 in a radially outward direction in accordance with the rotation of the turntable 15, but the head 30a formed in the fixing pin 30 has the second insertion hole. 27 is locked to the large diameter portion 27a. Therefore, even if the fixing pin 30 is detachably inserted into the second insertion hole 27, the fixing pin 30 does not come off during the rotation process.

【0039】また、上記係止ピン29にメンテナンスな
どが必要となって、上記固定ピン30を抜く場合には、
支持部25の外方側から上記第2の挿入孔27に挿入さ
れている固定ピン30を、例えば押出し棒などによって
押し出せば、この固定ピン30を簡単に抜くことが可能
となる。それによって、上記係止ピン29も第1の挿入
孔26から容易に取り外すことができる。
Further, when the locking pin 29 needs maintenance or the like and the fixing pin 30 is pulled out,
If the fixing pin 30 inserted into the second insertion hole 27 from the outside of the support portion 25 is pushed out with, for example, an extruding rod, the fixing pin 30 can be easily removed. Thus, the locking pin 29 can also be easily removed from the first insertion hole 26.

【0040】さらに、上記係止ピン29には支持部25
の上端面に係合する鍔部31が設けられているため、こ
の係止ピン29の挿入および取り出しの際にこの係止ピ
ン29の鍔部31を工具で把持して容易に抜くことが可
能となる。そのため上記係止ピン29の側面部を工具に
よって損傷することがない。
Further, the locking pin 29 has a support 25
Is provided with a flange portion 31 that engages with the upper end surface of the lock pin 29, so that when inserting and removing the lock pin 29, the flange portion 31 of the lock pin 29 can be easily removed by grasping with a tool. Becomes Therefore, the side surface of the locking pin 29 is not damaged by the tool.

【0041】また、上記係止ピン29および上記固定ピ
ン30は合成樹脂を材質として形成されているため、基
板28を処理する薬液がこれら係止ピン29および固定
ピン30に付着してもこの薬液による上記係止ピン29
および上記固定ピン30の腐食を防止することが可能と
なる。
Further, since the locking pins 29 and the fixing pins 30 are made of synthetic resin, even if a chemical solution for treating the substrate 28 adheres to the locking pins 29 and the fixing pins 30, the chemical Locking pin 29
In addition, it is possible to prevent corrosion of the fixing pin 30.

【0042】以上、本発明の一実施の形態について説明
したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となってい
る。以下それについて述べる。上記支持部25の形状は
これに限られるものではなく、係止ピン29を挿入可能
であり、かつこの挿入された係止ピン29と係合して規
制する固定ピン30を挿入可能であれば、どのようなも
のでも構わない。また上記支持部25を係止する周囲の
構成も本実施の形態に限られるものではなく、本発明の
要旨を変更しない範囲において種々変形可能となってい
る。
Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention can be variously modified in addition to this. This is described below. The shape of the supporting portion 25 is not limited to this, and the locking pin 29 can be inserted, and the fixing pin 30 that engages with the inserted locking pin 29 and regulates it can be inserted. Anything is fine. Further, the surrounding structure for locking the support portion 25 is not limited to the present embodiment, and can be variously modified without changing the gist of the present invention.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によると、上記保持部材には第1の挿入孔が形成さ
れ、この第1の挿入孔に上記基板の外周を係止する係止
ピンが着脱自在に挿入されるので、上記係止ピンが使用
によって消耗して交換する場合に、上記保持部材から上
記固定ピンを抜出すれば係止ピンを抜出できる。そのた
め係止ピンのメンテナンスが容易に行える。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the first insertion hole is formed in the holding member, and the first insertion hole engages with the outer periphery of the substrate. Since the locking pin is removably inserted, the locking pin can be removed by removing the fixing pin from the holding member when the locking pin is worn out and replaced by use. Therefore, maintenance of the locking pin can be easily performed.

【0044】請求項2記載の発明によると、上記係止ピ
ンの外周面には、上記固定ピンが係合する溝状の係止部
が形成されているため、係止ピンの挿入後、上記第2の
挿入孔に固定ピンを挿入するだけで、この固定ピンが上
記溝状の係止部に係合し、よって簡単に上記係止ピンの
抜出を防止することができる。
According to the second aspect of the present invention, since the groove-shaped locking portion with which the fixing pin engages is formed on the outer peripheral surface of the locking pin, after the locking pin is inserted, the groove is formed. By simply inserting the fixing pin into the second insertion hole, this fixing pin engages with the groove-shaped locking portion, and therefore, the removal of the locking pin can be easily prevented.

【0045】請求項3記載の発明によると、上記係止ピ
ンには支柱の上端面に係合する鍔部が設けられているた
め、この係止ピンの挿入および抜出の際にこの係止ピン
を工具で容易に把持することが可能となり、よってこの
係止ピンの上記第1の挿入孔に挿入される部分に工具の
把持によって損傷が生じなく、かつ工具での把持により
係止ピンの挿入および抜出が容易となる。
According to the third aspect of the present invention, since the locking pin is provided with a flange that engages with the upper end surface of the support, the locking pin is inserted and removed when the locking pin is inserted and withdrawn. The pin can be easily gripped by the tool, so that the portion of the locking pin inserted into the first insertion hole is not damaged by the gripping of the tool, and the gripping of the locking pin by the gripping by the tool Insertion and removal are easy.

【0046】請求項4記載の発明によると、上記係止ピ
ンおよび上記固定ピンのうち少なくとも係止ピンは合成
樹脂より形成されているため、薬液を使用する場合でも
上記係止ピンの薬液による腐食を防止することができ
る。
According to the fourth aspect of the present invention, since at least the locking pin of the locking pin and the fixing pin is formed of a synthetic resin, even when a chemical is used, the locking pin is corroded by the chemical. Can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係わる基板処理装置に
設けられた係止ピンの取付状態を示す一側面図。
FIG. 1 is a side view showing a mounting state of a locking pin provided in a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態に係わる保持部材周辺の構造を示
す斜視図。
FIG. 2 is a perspective view showing a structure around a holding member according to the embodiment.

【図3】同実施の形態に係わる係止ピンの構成を示す図
で、(a)は側面断面図、(b)は正面断面図。
3A and 3B are diagrams showing a configuration of a locking pin according to the embodiment, wherein FIG. 3A is a side sectional view, and FIG. 3B is a front sectional view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…本体ベース 2…支持体 3…回転軸 9…処理容器 11…排出管 15…回転盤 21…保持部材 25…支持部 26…第1の挿入孔 27…第2の挿入孔 28…基板 29…係止ピン 30…固定ピン 32…係止部 33…支持ピン 34…通孔 35…ノズル体 41…ハウジング DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Main body base 2 ... Support body 3 ... Rotating shaft 9 ... Processing container 11 ... Discharge pipe 15 ... Rotating disk 21 ... Holding member 25 ... Support part 26 ... 1st insertion hole 27 ... 2nd insertion hole 28 ... Substrate 29 ... locking pin 30 ... fixing pin 32 ... locking section 33 ... support pin 34 ... through hole 35 ... nozzle body 41 ... housing

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/304 351 H01L 21/30 564C 569C ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 21/304 351 H01L 21/30 564C 569C

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転盤を有し、この回転盤上部で基板を
保持して回転処理を行う基板処理装置において、 上記回転盤に立設され、上端面に開放した第1の挿入孔
が軸方向に沿って形成されているとともに、上記挿入孔
と交差する第2の挿入孔が径方向に沿って形成された保
持部材と、 上記保持部材の上端面に設けられて上記基板の下面を支
持する支持ピンと、 上記第1の挿入孔に着脱自在に挿入されて上記基板の外
周を係止する係止ピンと、 上記第2の挿入孔に着脱自在に挿入され、上記係止ピン
の側方部と係合してこの係止ピンの抜け出しを防止する
固定ピンと、 を具備したことを特徴とする基板処理装置。
1. A substrate processing apparatus having a turntable and performing a rotation process while holding a substrate above the turntable, wherein a first insertion hole provided upright on the turntable and opened at an upper end surface is provided with a shaft. A holding member formed along the direction and having a second insertion hole intersecting with the insertion hole formed along the radial direction; provided on an upper end surface of the holding member to support a lower surface of the substrate. A support pin that is detachably inserted into the first insertion hole to lock the outer periphery of the substrate; and a side portion of the lock pin that is detachably inserted into the second insertion hole. And a fixing pin that engages with the locking pin to prevent the locking pin from coming off.
【請求項2】 上記係止ピンの外周面には、上記固定ピ
ンが係合する溝状の係止部が形成されていることを特徴
とする請求項1記載の基板処理装置。
2. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein a groove-shaped locking portion with which the fixing pin is engaged is formed on an outer peripheral surface of the locking pin.
【請求項3】 上記係止ピンには保持部材の上端面に係
合する鍔部が設けられていることを特徴とする請求項1
または請求項2記載の基板処理装置。
3. The locking pin according to claim 1, wherein the locking pin is provided with a flange that engages with an upper end surface of the holding member.
Alternatively, the substrate processing apparatus according to claim 2.
【請求項4】 上記係止ピンおよび上記固定ピンのうち
少なくとも係止ピンは合成樹脂より形成されていること
を特徴とする請求項1ないし請求項3記載の基板処理装
置。
4. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein at least one of the locking pin and the fixing pin is formed of a synthetic resin.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001110881A (en) * 1999-07-01 2001-04-20 Applied Materials Inc Silicon carbide sleeve for substrate support assembly
JP2002192053A (en) * 2000-12-27 2002-07-10 Shibaura Mechatronics Corp Spin processor
JP2006344912A (en) * 2005-06-10 2006-12-21 Ses Co Ltd Sheet-fed substrate processing apparatus
JP2010165706A (en) * 2009-01-13 2010-07-29 Yaskawa Electric Corp Alignment device of wafer
CN105845603A (en) * 2015-02-03 2016-08-10 东京毅力科创株式会社 Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and substrate processing apparatus
JP2017022318A (en) * 2015-07-14 2017-01-26 東京エレクトロン株式会社 Substrate processing apparatus

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01287940A (en) * 1988-05-13 1989-11-20 Tokyo Electron Ltd Rotary treatment device
JPH0523542U (en) * 1991-08-30 1993-03-26 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate rotation holding device
JPH05315376A (en) * 1992-05-13 1993-11-26 Hitachi Ltd Attaching structure of tool
JPH062677U (en) * 1992-06-04 1994-01-14 東京応化工業株式会社 Lift pin for hot plate
JPH07115081A (en) * 1993-10-14 1995-05-02 Sony Corp Treatment apparatus
JPH08124999A (en) * 1994-10-27 1996-05-17 Kokusai Electric Co Ltd Detachable structure of substrate push-up pin

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01287940A (en) * 1988-05-13 1989-11-20 Tokyo Electron Ltd Rotary treatment device
JPH0523542U (en) * 1991-08-30 1993-03-26 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate rotation holding device
JPH05315376A (en) * 1992-05-13 1993-11-26 Hitachi Ltd Attaching structure of tool
JPH062677U (en) * 1992-06-04 1994-01-14 東京応化工業株式会社 Lift pin for hot plate
JPH07115081A (en) * 1993-10-14 1995-05-02 Sony Corp Treatment apparatus
JPH08124999A (en) * 1994-10-27 1996-05-17 Kokusai Electric Co Ltd Detachable structure of substrate push-up pin

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001110881A (en) * 1999-07-01 2001-04-20 Applied Materials Inc Silicon carbide sleeve for substrate support assembly
JP2002192053A (en) * 2000-12-27 2002-07-10 Shibaura Mechatronics Corp Spin processor
JP2006344912A (en) * 2005-06-10 2006-12-21 Ses Co Ltd Sheet-fed substrate processing apparatus
JP2010165706A (en) * 2009-01-13 2010-07-29 Yaskawa Electric Corp Alignment device of wafer
CN105845603A (en) * 2015-02-03 2016-08-10 东京毅力科创株式会社 Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and substrate processing apparatus
KR20160095624A (en) * 2015-02-03 2016-08-11 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate liquid processing apparatus and substrate liquid processing method
CN105845603B (en) * 2015-02-03 2020-01-03 东京毅力科创株式会社 Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method, and substrate processing apparatus
JP2017022318A (en) * 2015-07-14 2017-01-26 東京エレクトロン株式会社 Substrate processing apparatus

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