JPH10104630A - マルチドメイン液晶セルの製造方法 - Google Patents
マルチドメイン液晶セルの製造方法Info
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- JPH10104630A JPH10104630A JP9245774A JP24577497A JPH10104630A JP H10104630 A JPH10104630 A JP H10104630A JP 9245774 A JP9245774 A JP 9245774A JP 24577497 A JP24577497 A JP 24577497A JP H10104630 A JPH10104630 A JP H10104630A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の１／２工程数で４ドメインの液晶セル
の製造を可能にし、視野角が上下左右方向で改善された
広視野角の液晶表示装置の製造単価を低減する。 【解決手段】 広視野角を有する液晶セルを得るために
光配向物賞からなる配向膜が塗布された第１基板及び第
２基板を準備する段階と、上記第１基板及び第２基板に
光透過率が異なる領域で分かれたマスクを覆う段階と、
上記マスクが覆われた第１基板及び第２基板に第１偏光
方向に偏光された光を基板に対して垂直に照射し（図３
（ａ））、更に光を基板に対して傾斜照射して上記基板
に配向を行う（図３（ｂ））。このとき用いられる配向
膜物質としてはポリシロキサン系物質かＰＶＣＮ‐Ｆを
含むことができる。
の製造を可能にし、視野角が上下左右方向で改善された
広視野角の液晶表示装置の製造単価を低減する。 【解決手段】 広視野角を有する液晶セルを得るために
光配向物賞からなる配向膜が塗布された第１基板及び第
２基板を準備する段階と、上記第１基板及び第２基板に
光透過率が異なる領域で分かれたマスクを覆う段階と、
上記マスクが覆われた第１基板及び第２基板に第１偏光
方向に偏光された光を基板に対して垂直に照射し（図３
（ａ））、更に光を基板に対して傾斜照射して上記基板
に配向を行う（図３（ｂ））。このとき用いられる配向
膜物質としてはポリシロキサン系物質かＰＶＣＮ‐Ｆを
含むことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶セルの製造方法
に関するもので、特に、半透明部を有するマスクを用い
て光配向処理を行うことにより製造工程が簡単になる、
広視野角を有するマルチドメイン液晶セルの製造方法に
関するものである。
に関するもので、特に、半透明部を有するマスクを用い
て光配向処理を行うことにより製造工程が簡単になる、
広視野角を有するマルチドメイン液晶セルの製造方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子として最近主に用いられて
いる液晶セルはツイストネマティック(Twist Nematic)
液晶セルであって、このＴＮ液晶セルは視野角によって
各階調表示での光透過率が変わる特性を保有する。特
に、上下の視野角方向ではグレー（ｇｒｅｙ）反転が発
生する領域が生じるようになって高画質の液晶表示素子
を製造することに問題があった。
いる液晶セルはツイストネマティック(Twist Nematic)
液晶セルであって、このＴＮ液晶セルは視野角によって
各階調表示での光透過率が変わる特性を保有する。特
に、上下の視野角方向ではグレー（ｇｒｅｙ）反転が発
生する領域が生じるようになって高画質の液晶表示素子
を製造することに問題があった。
【０００３】上記問題を解決するために２ドメインＴＮ
ＬＣＤ（Ｔｗｏ ＤｏｍａｉｎＴＮ ＬＣＤ）とドメ
イン分割されたＴＮ ＬＣＤ（Ｄｏｍａｉｎ Ｄｉｖｉ
ｄｅｄ ＴＮ ＬＣＤ）が提案されている。ＴＤＴＮ
ＬＣＤでは各ドメインがプレチルト方向（ｐｒｅｔｉｌ
ｔ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）が互いに反対である二つの液
晶ディレクター（ＬＣ ｄｉｒｅｃｔｏｒｓ）を有し、
階調表示電圧を印加するときこの二つのドメインでの液
晶デイレクターが互いに反対方向に傾斜されるようにな
って上下方向への平均光透過度が補償されることによっ
て視野角が広くなる。ＤＤＴＮでは基板上にそれぞれ異
なるブレチルト角を有する物質、例えば有機配向膜か無
機配向膜よりなる複数の配向膜を形成して各配向膜での
平均配向角度を異なる方向にして視野角を補償する。
ＬＣＤ（Ｔｗｏ ＤｏｍａｉｎＴＮ ＬＣＤ）とドメ
イン分割されたＴＮ ＬＣＤ（Ｄｏｍａｉｎ Ｄｉｖｉ
ｄｅｄ ＴＮ ＬＣＤ）が提案されている。ＴＤＴＮ
ＬＣＤでは各ドメインがプレチルト方向（ｐｒｅｔｉｌ
ｔ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）が互いに反対である二つの液
晶ディレクター（ＬＣ ｄｉｒｅｃｔｏｒｓ）を有し、
階調表示電圧を印加するときこの二つのドメインでの液
晶デイレクターが互いに反対方向に傾斜されるようにな
って上下方向への平均光透過度が補償されることによっ
て視野角が広くなる。ＤＤＴＮでは基板上にそれぞれ異
なるブレチルト角を有する物質、例えば有機配向膜か無
機配向膜よりなる複数の配向膜を形成して各配向膜での
平均配向角度を異なる方向にして視野角を補償する。
【０００４】上記のようなマルチドメイン液晶セルで一
番多く用いられる配向方法がラビングによる配向方法で
ある。このラビングによる配向方法は基板に配向膜で主
にポリイミドを塗布しラビングを行って、上記配向膜表
面に規則的な微細溝を形成させる。配向膜表面で液晶分
子は弾性変型エネルギーが最小化するように上記微細溝
と平行に配列される。しかし、ラビングによる配向方法
では配向膜表面で生成される微細溝の欠陥によって位相
歪曲と光散乱が発生することになって液晶表示装置の性
能を低下させる間題があった。また、ラビングによって
配向膜に塵及び静電気が発生して基板が破損され、歩留
りが悪くなることがあった。
番多く用いられる配向方法がラビングによる配向方法で
ある。このラビングによる配向方法は基板に配向膜で主
にポリイミドを塗布しラビングを行って、上記配向膜表
面に規則的な微細溝を形成させる。配向膜表面で液晶分
子は弾性変型エネルギーが最小化するように上記微細溝
と平行に配列される。しかし、ラビングによる配向方法
では配向膜表面で生成される微細溝の欠陥によって位相
歪曲と光散乱が発生することになって液晶表示装置の性
能を低下させる間題があった。また、ラビングによって
配向膜に塵及び静電気が発生して基板が破損され、歩留
りが悪くなることがあった。
【０００５】上記のように基板が破損される問題を解決
するために光を利用した光配向方法が提案されている。
するために光を利用した光配向方法が提案されている。
【０００６】図１は光配向による従来の２−ドメイン液
晶セル製造方法を示す図面である。図面で、基板に斜線
を掛けた領域はマスクの不透明部を示すものであり、基
板面に表示された失印は配向方向を示すものであり、基
板の上部にある失印は光が照射される方向を表示するも
のである。先ず。図１（ａ）に示されるように、光配向
物質が塗布された基板の第１ドメイン（Ｉ）を不透明マ
スクでブロッキング（ｂ１ｏｃｋｉｎｇ）して、第１偏
向方向を有する線偏向された紫外線を基板に対して垂直
に照射して第２ドメイン（ＩＩ）に第１配向方向を決め
る。上記紫外線の照射によって第２ドメイン（ＩＩ）に
は紫外線の偏向方向と垂直の方向に縮退された二つの配
向方向が決まる。その後、図１（ｂ）に示したように、
上記第１偏向方向と垂直である第２偏向方向に線偏向さ
れた紫外線を基板に対して傾斜するように照射すれば、
縮退された二つの第１配向方向中、上記紫外線の照射方
向と大略平行する配向方向が選択される。次いで、図１
（ｃ）に示したように、第２ドメイン（ＩＩ）をマスク
でブロッキングした状態で第１偏向方向と垂直に偏向さ
れた第３偏向方向の紫外線を基板に対して垂直に照射し
て第１ドメイン（Ｉ）に縮退された二つの第２配向方向
を決める。このとき、上記第２配向方向は第１配向方向
と垂直になるようになる。その後、図１（ｄ）に示した
ように、紫外線が基板に傾斜照射されて縮退された二つ
の第２配向方向中、紫外線の照射方向側の配向方向が選
択される。図１（ｅ）は上記工程による基板を示す図面
である。図面に示したように、第１ドメインと第２ドメ
インは互いに垂直に配向されて視野角特性が向上され
る。
晶セル製造方法を示す図面である。図面で、基板に斜線
を掛けた領域はマスクの不透明部を示すものであり、基
板面に表示された失印は配向方向を示すものであり、基
板の上部にある失印は光が照射される方向を表示するも
のである。先ず。図１（ａ）に示されるように、光配向
物質が塗布された基板の第１ドメイン（Ｉ）を不透明マ
スクでブロッキング（ｂ１ｏｃｋｉｎｇ）して、第１偏
向方向を有する線偏向された紫外線を基板に対して垂直
に照射して第２ドメイン（ＩＩ）に第１配向方向を決め
る。上記紫外線の照射によって第２ドメイン（ＩＩ）に
は紫外線の偏向方向と垂直の方向に縮退された二つの配
向方向が決まる。その後、図１（ｂ）に示したように、
上記第１偏向方向と垂直である第２偏向方向に線偏向さ
れた紫外線を基板に対して傾斜するように照射すれば、
縮退された二つの第１配向方向中、上記紫外線の照射方
向と大略平行する配向方向が選択される。次いで、図１
（ｃ）に示したように、第２ドメイン（ＩＩ）をマスク
でブロッキングした状態で第１偏向方向と垂直に偏向さ
れた第３偏向方向の紫外線を基板に対して垂直に照射し
て第１ドメイン（Ｉ）に縮退された二つの第２配向方向
を決める。このとき、上記第２配向方向は第１配向方向
と垂直になるようになる。その後、図１（ｄ）に示した
ように、紫外線が基板に傾斜照射されて縮退された二つ
の第２配向方向中、紫外線の照射方向側の配向方向が選
択される。図１（ｅ）は上記工程による基板を示す図面
である。図面に示したように、第１ドメインと第２ドメ
インは互いに垂直に配向されて視野角特性が向上され
る。
【０００７】上記工程が異なる基板にも行われて配向方
向が決まり二つの基板が貼付けられて２−ドメイン液晶
セルが完成される。
向が決まり二つの基板が貼付けられて２−ドメイン液晶
セルが完成される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
２−ドメイン液晶セルを製造するためには８回の照射工
程と４回のマスキング工程が必要であるので、製造工程
が複雑になり製造コストが増加するという間題があっ
た。
２−ドメイン液晶セルを製造するためには８回の照射工
程と４回のマスキング工程が必要であるので、製造工程
が複雑になり製造コストが増加するという間題があっ
た。
【０００９】本発明は上記間題に艦みてなされたもの
で、光配向時基板のドメインによって吸収される光の吸
収エネルギー量を異なるようにして各ドメインに大きさ
が異なるプレチルト角を有する配向方向を形成すること
により、視野角が向上されたマルチドメイン液晶セルの
製造方法を提供することを自的とする。
で、光配向時基板のドメインによって吸収される光の吸
収エネルギー量を異なるようにして各ドメインに大きさ
が異なるプレチルト角を有する配向方向を形成すること
により、視野角が向上されたマルチドメイン液晶セルの
製造方法を提供することを自的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この発明に係るマルチド
メイン液晶セルの製造方法は、光配向物質からなる配向
膜が塗布された基板を準備する段階と、上記基板の各領
域に異なるエネルギ−量が吸収されるように光を上記基
板に対して垂直照射する段階と、光を基板に対して傾斜
照射する段階とを備える。
メイン液晶セルの製造方法は、光配向物質からなる配向
膜が塗布された基板を準備する段階と、上記基板の各領
域に異なるエネルギ−量が吸収されるように光を上記基
板に対して垂直照射する段階と、光を基板に対して傾斜
照射する段階とを備える。
【００１１】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、上記光配向物質がポリシロキサン系物質で
あることを特徴とする。
製造方法は、上記光配向物質がポリシロキサン系物質で
あることを特徴とする。
【００１２】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、上記光が紫外線であることを特徴とする。
製造方法は、上記光が紫外線であることを特徴とする。
【００１３】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、上記垂直照射段階が、異なる透過率を有す
る領域からなるマスクを基板に覆う段階と、上記基板に
光を垂直照射する段階とを備えることを特徴とする。
製造方法は、上記垂直照射段階が、異なる透過率を有す
る領域からなるマスクを基板に覆う段階と、上記基板に
光を垂直照射する段階とを備えることを特徴とする。
【００１４】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、配向物質からなる配向膜が塗布された第１
基板と第２基板を準備する段階と、上記第１基板及び第
２基板の各領域を光透過率が異なるマスクで覆う段階
と、上記マスクで覆われた第１基板及び第２基板に光を
基板に対して垂直照射する段階と、光を基板に対して傾
斜照射する段階と、上記第１基板及び第２基板を貼付け
る段階とを備える。
製造方法は、配向物質からなる配向膜が塗布された第１
基板と第２基板を準備する段階と、上記第１基板及び第
２基板の各領域を光透過率が異なるマスクで覆う段階
と、上記マスクで覆われた第１基板及び第２基板に光を
基板に対して垂直照射する段階と、光を基板に対して傾
斜照射する段階と、上記第１基板及び第２基板を貼付け
る段階とを備える。
【００１５】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、上記光配向物質がポリシロキサン系物質で
あることを特徴とする。
製造方法は、上記光配向物質がポリシロキサン系物質で
あることを特徴とする。
【００１６】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、上記光が紫外線であることを特徴とする。
製造方法は、上記光が紫外線であることを特徴とする。
【００１７】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、光配向物質からなる配向膜が塗布された第
１基板と第２基板を準備する段階と、上記第１基板及ぴ
第２基板に照射される光が部分的に透過する半透明部
と、照射された光が透過される開口部と、照射される光
が透過されない不透明部よりなるマスクを覆う段階と、
上記マスクが覆われた第１基板及び第２基板に第１偏向
方向に偏向された光を基板に対して垂直に照射する段階
と、上記マスクの不透明部に対応する配向膜の領域に上
記マスクの開口部と半透明部を位置するようにマスクを
移動する段階と、上記移動されたマスクで覆われた第１
基板及び第２基板に第２偏向方向に偏向された光を基板
に対して垂直照射する段階と、光を基板に対して傾斜照
射する段階と、上記第１基板及び第２基板を貼付ける段
階とを備える。
製造方法は、光配向物質からなる配向膜が塗布された第
１基板と第２基板を準備する段階と、上記第１基板及ぴ
第２基板に照射される光が部分的に透過する半透明部
と、照射された光が透過される開口部と、照射される光
が透過されない不透明部よりなるマスクを覆う段階と、
上記マスクが覆われた第１基板及び第２基板に第１偏向
方向に偏向された光を基板に対して垂直に照射する段階
と、上記マスクの不透明部に対応する配向膜の領域に上
記マスクの開口部と半透明部を位置するようにマスクを
移動する段階と、上記移動されたマスクで覆われた第１
基板及び第２基板に第２偏向方向に偏向された光を基板
に対して垂直照射する段階と、光を基板に対して傾斜照
射する段階と、上記第１基板及び第２基板を貼付ける段
階とを備える。
【００１８】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、上記第２偏向方向が第１偏向方向と異なる
ことを特徴とする。
製造方法は、上記第２偏向方向が第１偏向方向と異なる
ことを特徴とする。
【００１９】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、上記第２偏向方向が第１偏向方向と互いに
垂直であることを特徴とする。
製造方法は、上記第２偏向方向が第１偏向方向と互いに
垂直であることを特徴とする。
【００２０】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、上記光配向物質がポリシロキサン系物質で
あることを特徴とする。
製造方法は、上記光配向物質がポリシロキサン系物質で
あることを特徴とする。
【００２１】この発明に係るマルチドメイン液晶セルの
製造方法は、上記光が紫外線であることを特徴とする。
製造方法は、上記光が紫外線であることを特徴とする。
【００２２】
【発明の実施の形態】上記目的を達成するため、本発明
の配向方法は領域別に光透過率が異なるマスクを基板上
に覆って光の照射時配向膜が吸収する光エネルギー量を
異なるようにして、各ドメインにプレチルト角が異なる
配向方向を決める。したがって、上記配向で得られた画
素分割された基板を上下基板に適用して貼付けることに
よってマルチドメイン液晶セルをたやすく得ることがで
きるようになる。
の配向方法は領域別に光透過率が異なるマスクを基板上
に覆って光の照射時配向膜が吸収する光エネルギー量を
異なるようにして、各ドメインにプレチルト角が異なる
配向方向を決める。したがって、上記配向で得られた画
素分割された基板を上下基板に適用して貼付けることに
よってマルチドメイン液晶セルをたやすく得ることがで
きるようになる。
【００２３】従来の光配向方法（ＨＡＳＩＭＯＴＯ、Ｓ
ＩＤ９５ ＤｌＧＥＳＴ，ｐ．８７７）では配向物質と
してポリビニルシンナマート（ｐｏ１ｙｖｉｎｙｌｃｉ
ｎｎａｍａｔｅ）が用いられるのに反して、本発明では
ポリシロキサン系物質が用いられる。しかし、上記橋本
方法では紫外線の照射によって約０．１〜０．３°の小
さいブレチルト角のみが形成されるために所望する角を
得ることができなくなる。本発明で用いられる配向物質
では図２に示したように、配向膜に吸収されるエネルギ
ーによって配向膜が形成されるプレチルト角が変わるた
めに、紫外線と同じ光の強度や照射時間を制御すること
によって所望するプレチルト角を得ることができるよう
になる。
ＩＤ９５ ＤｌＧＥＳＴ，ｐ．８７７）では配向物質と
してポリビニルシンナマート（ｐｏ１ｙｖｉｎｙｌｃｉ
ｎｎａｍａｔｅ）が用いられるのに反して、本発明では
ポリシロキサン系物質が用いられる。しかし、上記橋本
方法では紫外線の照射によって約０．１〜０．３°の小
さいブレチルト角のみが形成されるために所望する角を
得ることができなくなる。本発明で用いられる配向物質
では図２に示したように、配向膜に吸収されるエネルギ
ーによって配向膜が形成されるプレチルト角が変わるた
めに、紫外線と同じ光の強度や照射時間を制御すること
によって所望するプレチルト角を得ることができるよう
になる。
【００２４】発明の実施の形態１．以下、添付した図面
を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２５】図３は半透明部を有するマスクを用いて、
２ドメインに形成される配向方向のプレチルト角の大き
さを異なるように形成する光照射方法に関するものであ
る。即ち、図３（ａ）は光高分子からなる配向膜３２が
塗布された基板３１の一部領域にマスクの半透明部３３
を位置するようにして垂直光照射を行う図面である。上
記図面に示したように、開口部では照射される光の全部
が基板３１の配向膜３２に吸収されるが、マスクの半透
明部に対応する基板３１の配向膜３２領域では照射され
る光の一部のみが配向膜３２に吸収される。光配向物質
であるポリシロキシサン系物質（ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａ
ｎｅ ｂａｓｅｄ ｍａｔｅｒｉａｌｓ）は吸収される
光エネルギーが増加することによってプレチルト角の大
きさが小さくなる特性があるので、配向膜に形成される
プレチルト角の大きさを容易に制御することができる。
上記垂直光照射に対して配向膜３２には縮退された配向
方向が決まる。次いで、図３ｂに示したように光を配向
膜３２に傾斜照射すれば、縮退された配向方向のうちの
光の照射方向側の配向方向が選択される。上記性質を利
用して製造された、プレチルト角の大きさが異なり画素
が分割された基板の断面図が図３（ｃ）に図示されてい
る。図３（ｃ）を適用して上下基板を貼付けて製造され
た液晶セルが図３（ｄ）に図示されている。このとき用
いられる配向膜物質としてはポリシロキサン系物質かＰ
ＶＣＮ‐Ｆを含むことができる。
２ドメインに形成される配向方向のプレチルト角の大き
さを異なるように形成する光照射方法に関するものであ
る。即ち、図３（ａ）は光高分子からなる配向膜３２が
塗布された基板３１の一部領域にマスクの半透明部３３
を位置するようにして垂直光照射を行う図面である。上
記図面に示したように、開口部では照射される光の全部
が基板３１の配向膜３２に吸収されるが、マスクの半透
明部に対応する基板３１の配向膜３２領域では照射され
る光の一部のみが配向膜３２に吸収される。光配向物質
であるポリシロキシサン系物質（ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａ
ｎｅ ｂａｓｅｄ ｍａｔｅｒｉａｌｓ）は吸収される
光エネルギーが増加することによってプレチルト角の大
きさが小さくなる特性があるので、配向膜に形成される
プレチルト角の大きさを容易に制御することができる。
上記垂直光照射に対して配向膜３２には縮退された配向
方向が決まる。次いで、図３ｂに示したように光を配向
膜３２に傾斜照射すれば、縮退された配向方向のうちの
光の照射方向側の配向方向が選択される。上記性質を利
用して製造された、プレチルト角の大きさが異なり画素
が分割された基板の断面図が図３（ｃ）に図示されてい
る。図３（ｃ）を適用して上下基板を貼付けて製造され
た液晶セルが図３（ｄ）に図示されている。このとき用
いられる配向膜物質としてはポリシロキサン系物質かＰ
ＶＣＮ‐Ｆを含むことができる。
【００２６】上記構造の液晶セルでは各基板で各ドメイ
ンの配向方向は同じであるがプレチルト角の大きさが異
なるので、小さいプレチルト角を有する側の視野角は対
向する大きいプレチルト角を有する側によって影響を受
けることになり、液晶のディレクターが反対方向に傾斜
されるようになって主視野角方向が互いに反対になる。
これで、隣接するドメイン間で視野角が補償されること
によって視野角が改善される。
ンの配向方向は同じであるがプレチルト角の大きさが異
なるので、小さいプレチルト角を有する側の視野角は対
向する大きいプレチルト角を有する側によって影響を受
けることになり、液晶のディレクターが反対方向に傾斜
されるようになって主視野角方向が互いに反対になる。
これで、隣接するドメイン間で視野角が補償されること
によって視野角が改善される。
【００２７】発明の実施の形態２．図４は本発明の第２
実施形態による４−ドメイン液晶セルを製造する方法を
示す図面である。
実施形態による４−ドメイン液晶セルを製造する方法を
示す図面である。
【００２８】図面で斜線を掛けた部分はマスクの半透明
部３３ｂに対応する基板を示すもので、格子じま部分は
マスク３３の不透明部３３ｃに、そして空白部分は透明
部３３ａに対応する基板を示すものである。先ず、図４
（ａ）に示したように、光透過率が異なる領域からなる
マスクを光高分子配向膜が塗布された基板上に位置させ
た状態で第１偏向方向に偏向された光を基板に対して垂
直に照射する。このとき、第１ドメイン（Ｉ）にはマス
クの半透明部３３ｂが、第２ドメイン（ＩＩ）には透明
部３３ａが、第３，４ドメイン（III、IＶ）には不透明
部３３ｃが位置する。上記垂直照射によって、第１ドメ
イン（Ｉ）と第２ドメイン（ＩI）には第１偏向方向と
垂直した縮退された二つの配向方向が決まる半面に、第
３ドメイン（III）第４ドメイン（IＶ）はマスクの不透
明部３３ｃによってブロックキングされているので、ど
のような配向方向も生じない。その後、図４（ｂ）に示
したように、光を基板に対して傾斜照射すれば、上記縮
退された二つの配向方向中上記光の傾斜方向と平行する
方向の配向方向が選択される。このとき、照射される光
は、偏向された光と非偏向された光の中でいずれを用い
ても構わない。図４（ｃ）は上記１光照射工程によって
形成された配向方向を示す図面である。図面で、光透過
率が０％である不透明部３３ｃに対応する配向膜の領域
（III，IＶ）には配向方向が形成されなかったが、光透
過率が３０〜８０％。である半透明部３３ｂに対応する
第１ドメイン（Ｉ）と光透過率が１００％である透明部
３３ａに対応する配向膜の領域（Ｉ）には第１偏向方向
と垂直である配向方向が形成される。このとき、上記第
１ドメイン（Ｉ）と第２ドメイン（ＩI）の配向方向は
互いに平行するが、第２ドメイン（IＩ）の配向膜に吸
収される光のエネルギー量が第１ドメイン（Ｉ）に吸収
されるエネルギーより多いので、第２ドメイン（ＩI）
のプレチルト角が第１ドメイン（Ｉ）のプレチルト角よ
り小さくなる。
部３３ｂに対応する基板を示すもので、格子じま部分は
マスク３３の不透明部３３ｃに、そして空白部分は透明
部３３ａに対応する基板を示すものである。先ず、図４
（ａ）に示したように、光透過率が異なる領域からなる
マスクを光高分子配向膜が塗布された基板上に位置させ
た状態で第１偏向方向に偏向された光を基板に対して垂
直に照射する。このとき、第１ドメイン（Ｉ）にはマス
クの半透明部３３ｂが、第２ドメイン（ＩＩ）には透明
部３３ａが、第３，４ドメイン（III、IＶ）には不透明
部３３ｃが位置する。上記垂直照射によって、第１ドメ
イン（Ｉ）と第２ドメイン（ＩI）には第１偏向方向と
垂直した縮退された二つの配向方向が決まる半面に、第
３ドメイン（III）第４ドメイン（IＶ）はマスクの不透
明部３３ｃによってブロックキングされているので、ど
のような配向方向も生じない。その後、図４（ｂ）に示
したように、光を基板に対して傾斜照射すれば、上記縮
退された二つの配向方向中上記光の傾斜方向と平行する
方向の配向方向が選択される。このとき、照射される光
は、偏向された光と非偏向された光の中でいずれを用い
ても構わない。図４（ｃ）は上記１光照射工程によって
形成された配向方向を示す図面である。図面で、光透過
率が０％である不透明部３３ｃに対応する配向膜の領域
（III，IＶ）には配向方向が形成されなかったが、光透
過率が３０〜８０％。である半透明部３３ｂに対応する
第１ドメイン（Ｉ）と光透過率が１００％である透明部
３３ａに対応する配向膜の領域（Ｉ）には第１偏向方向
と垂直である配向方向が形成される。このとき、上記第
１ドメイン（Ｉ）と第２ドメイン（ＩI）の配向方向は
互いに平行するが、第２ドメイン（IＩ）の配向膜に吸
収される光のエネルギー量が第１ドメイン（Ｉ）に吸収
されるエネルギーより多いので、第２ドメイン（ＩI）
のプレチルト角が第１ドメイン（Ｉ）のプレチルト角よ
り小さくなる。
【００２９】以後、図４（ｄ）に示したように、配向方
向が決まった第１及び第２ドメイン（Ｉ，ＩI）をマス
クの不透明部でブロッキングし、第３及び第４ドメイン
（III，IＶ）にマスクの半透明部と開口部を位置させた
状態で、第１光照射工程の第１偏向方向と垂直である第
２偏向方向を有する偏向された光を基板に対して垂直に
照射して縮退された二つの配向方向を決めた後、図４
（ｅ）に示したように、光を基板に対して傾斜されるよ
うに照射して二つの配向方向中傾斜照射方向と平行した
一つの配向方向を選択する。図４（ｆ）は基板に上記第
２光照射工程によって決まった配向方向を示す図面であ
る。光透過率が０％である不透明部３３ｃに対応する配
向膜の第１及び第２ドメイン（Ｉ，IＩ）には第２照射
がマスクによってブロッキングされたので、第１光照射
工程によって形成された配向方向がそのまま残っている
ことになり、光透過率が３０〜８０％である半透明部３
３ｂに対応する第３ドメイン（III）と光透過率が１０
０％である透明部３３ａに対応する第４ドメイン（Ｉ
Ｖ）には互いに平行し異なるプレチルト角を有する配向
方向が形成される。
向が決まった第１及び第２ドメイン（Ｉ，ＩI）をマス
クの不透明部でブロッキングし、第３及び第４ドメイン
（III，IＶ）にマスクの半透明部と開口部を位置させた
状態で、第１光照射工程の第１偏向方向と垂直である第
２偏向方向を有する偏向された光を基板に対して垂直に
照射して縮退された二つの配向方向を決めた後、図４
（ｅ）に示したように、光を基板に対して傾斜されるよ
うに照射して二つの配向方向中傾斜照射方向と平行した
一つの配向方向を選択する。図４（ｆ）は基板に上記第
２光照射工程によって決まった配向方向を示す図面であ
る。光透過率が０％である不透明部３３ｃに対応する配
向膜の第１及び第２ドメイン（Ｉ，IＩ）には第２照射
がマスクによってブロッキングされたので、第１光照射
工程によって形成された配向方向がそのまま残っている
ことになり、光透過率が３０〜８０％である半透明部３
３ｂに対応する第３ドメイン（III）と光透過率が１０
０％である透明部３３ａに対応する第４ドメイン（Ｉ
Ｖ）には互いに平行し異なるプレチルト角を有する配向
方向が形成される。
【００３０】上記方法で得られた４ドメインの基板を上
下の基板にそれぞれ適用すれぱ、図７のＤＤＴＮを応用
した４ドメインＴＮ液晶セルを８回の光照射と４回のマ
スク貼付け工程でたやすく形成することができる。
下の基板にそれぞれ適用すれぱ、図７のＤＤＴＮを応用
した４ドメインＴＮ液晶セルを８回の光照射と４回のマ
スク貼付け工程でたやすく形成することができる。
【００３１】
【発明の効果】本発明の方法は小林の４ドメイン形成の
ための光配向工程（１６回の光照射と、８回のマスク貼
付け工程）の１／２工程数で４ドメインの液晶セルの製
造ができるので、視野角が上下左右方向で改善された広
視野角の液晶表示装置の製造単価を減少することができ
るのみならず、液晶表示装置を大量生産することができ
る。
ための光配向工程（１６回の光照射と、８回のマスク貼
付け工程）の１／２工程数で４ドメインの液晶セルの製
造ができるので、視野角が上下左右方向で改善された広
視野角の液晶表示装置の製造単価を減少することができ
るのみならず、液晶表示装置を大量生産することができ
る。
【図１】光配向工程によって２−ドメイン液晶セルを製
造する方法を示す図面である。
造する方法を示す図面である。
【図２】光照射エネルギ−とプレチルト角度の関係を示
すグラフである。
すグラフである。
【図３】本発明の第１実施形態によるドメイン分割され
たツイストネマティック液晶セルの製造工程を示す図面
である。
たツイストネマティック液晶セルの製造工程を示す図面
である。
【図４】本発明の第２実施形態による４−ドメイン液晶
セルの製造工程を示す図面である。
セルの製造工程を示す図面である。
３１ 基板 ３２ 配向膜 ３３ マスクの半透明部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 尹 基 赫 大韓民国 ソウル特別市 瑞草區 盤浦洞 三湖 ガードンアパート ８−805 (72)発明者 南 美 淑 大韓民国 京畿道 安養市 東安區 冠養 洞 ハンガラム三星アパート 201−1802 (72)発明者 禹 晶 源 大韓民国 ソウル特別市 中浪區 墨１洞 109−１
Claims (12)
- 【請求項１】 光配向物質からなる配向膜が塗布された
基板を準備する段階と、 上記基板の各領域に異なるエネルギ−量が吸収されるよ
うに光を上記基板に対して垂直照射する段階と、 光を基板に対して傾斜照射する段階とを備えるマルチド
メイン液晶セルの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載のマルチドメイン液晶セル
の製造方法において、 上記光配向物質がポリシロキサン系物質であることを特
徴とするマルチドメイン液晶セルの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１記載のマルチドメイン液晶セル
の製造方法において、上記光が紫外線であることを特徴
とするマルチドメイン液晶セルの製造方法。 - 【請求項４】 請求項１記載のマルチドメイン液晶セル
の製造方法において、 上記垂直照射段階が、 異なる透過率を有する領域からなるマスクを基板に覆う
段階と、 上記基板に光を垂直照射する段階とを備えることを特徴
とするマルチドメイン液晶セルの製造方法。 - 【請求項５】 光配向物質からなる配向膜が塗布された
第１基板と第２基板を準備する段階と、 上記第１基板及び第２基板の各領域を光透過率が異なる
マスクで覆う段階と、上記マスクで覆われた第１基板及
び第２基板に光を基板に対して垂直照射する段階と、 光を基板に対して傾斜照射する段階と、 上記第１基板及び第２基板を貼付ける段階とを備えるマ
ルチドメイン液晶セルの製造方法。 - 【請求項６】 請求項５記載のマルチドメイン液晶セル
の製造方法において、 上記光配向物質がポリシロキサン系物質であることを特
徴とするマルチドメイン液晶セルの製造方法。 - 【請求項７】 請求項５記載のマルチドメイン液晶セル
の製造方法において、 上記光が紫外線であることを特徴とするマルチドメイン
液晶セルの製造方法。 - 【請求項８】 光配向物質からなる配向膜が塗布された
第１基板と第２基板を準備する段階と、 上記第１基板及ぴ第２基板に照射される光が部分的に透
過する半透明部と、照射された光が透過される開口部
と、照射される光が透過されない不透明部よりなるマス
クを覆う段階と、 上記マスクが覆われた第１基板及び第２基板に第１偏向
方向に偏向された光を基板に対して垂直に照射する段階
と、 上記マスクの不透明部に対応する配向膜の領域に上記マ
スクの開口部と半透明部を位置するようにマスクを移動
する段階と、 上記移動されたマスクで覆われた第１基板及び第２基板
に第２偏向方向に偏向された光を基板に対して垂直照射
する段階と、 光を基板に対して傾斜照射する段階と、 上記第１基板及び第２基板を貼付ける段階とを備えるマ
ルチドメイン液晶セルの製造方法。 - 【請求項９】 請求項８記載のマルチドメイン液晶セル
の製造方法において、 上記第２偏向方向が第１偏向方向と異なることを特徴と
するマルチドメイン液晶セルの製造方法。 - 【請求項１０】 請求項８記載のマルチドメイン液晶セ
ルの製造方法において、 上記第２偏向方向が第１偏向方向と互いに垂直であるこ
とを特徴とするマルチドメイン液晶セルの製造方法。 - 【請求項１１】 請求項８記載のマルチドメイン液晶セ
ルの製造方法において、 上記光配向物質がポリシロキサン系物質であることを特
徴とするマルチドメイン液晶セルの製造方法。 - 【請求項１２】 請求項８記載のマルチドメイン液晶セ
ルの製造方法において、 上記光が紫外線であることを特徴とするマルチドメイン
液晶セルの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1996-41342 | 1996-09-20 | ||
| KR1019960041342A KR100191787B1 (ko) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 광시야각을 가지는 액정셀의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10104630A true JPH10104630A (ja) | 1998-04-24 |
| JP4057106B2 JP4057106B2 (ja) | 2008-03-05 |
Family
ID=19474662
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24577497A Expired - Fee Related JP4057106B2 (ja) | 1996-09-20 | 1997-09-10 | マルチドメイン液晶セルの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5909265A (ja) |
| JP (1) | JP4057106B2 (ja) |
| KR (1) | KR100191787B1 (ja) |
| DE (1) | DE19741159B4 (ja) |
| FR (1) | FR2755517B1 (ja) |
| GB (1) | GB2317458B (ja) |
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| WO2014042216A1 (ja) * | 2012-09-12 | 2014-03-20 | 日産化学工業株式会社 | 配向材の製造方法、配向材、位相差材の製造方法および位相差材 |
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