JPH10148804A - 液晶セル製造方法 - Google Patents
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Abstract
配向処理を行わなくてもそのプレチルトを制御すること
を可能とし、液晶セル製造工程を1/2に短縮する。 【解決手段】 第1基板11と第2基板12に第1配向
膜と第2配向膜を各々塗布する段階と、第l基板の配向
膜に配向方向、プレチルト角方向、プレチルト角からな
るプレチルトを決定する段階と、第2基板を第1基板と
互いに向かい合うよう合着して左旋性(levorotatory)
キラルドーパント(chiraldopants)が添加された液晶を
注入する段階とを備える。第1基板の第1プレチルトの
配向制御力と液晶に添加された左旋性(levorotatory)
キラルドーパントのツイスト力により、第1基板のプレ
チルトに対応して第2基板12上にプレチルトが決定さ
れる。
Description
関するもので、特に、第1基板の決定されたプレチルト
の配向規制力およびキラルドーパントが添加された液晶
により液晶分子を望む方向へ決定されようにする液晶セ
ルの製造方法に関するものである。
置のため基本装置は二つの基板と前記二つの基板の間に
注入される液晶からなる。液晶表示装置の等しい明るさ
と高いコントラスト比(contrast ratio)を得るため、
液晶方向子を均一に配向することが必要的である。
高分子物質を塗布して配向膜を形成した後一定な処理を
して液晶の方向子の方向を制御できる。
の方向子の座標(n)は次の式のように配向膜に配向方
向θとプレチルト角φを決定することで制御することが
できる。
晶表示装置はその画面の大面積化が強力に要求されてい
る。
ストネマティック液晶ディスプレイ(Twisted Nematic
Lighted Crystal Display Device: TNLCD)であって、
このTNLCDは左右及び上下の視野角によって各階調
表示(gray-level)での光透過度が変わる短所がある。
が対称的に分布するが、上下左右での光透過度は非対称
的に分布するため上下方向でイメージが反転され結局視
野角が狭くなる間題がある。
を示す図面である。これにより、液晶の分子は右手(de
xtrorotatory)方向ヘツイストされる。つまり、この液
晶セルに液晶が注入されると、液晶分子の変型が最小化
されるよう右手方向へ液晶分子がツイストされる。この
ツイストネマチク液晶セルは視野角によって各階調表示
(gray level)での光透過度が変わる特性を保有する。
と電圧との関係を示すグラフであって、図3(b)は図
2に示された液晶セルの左右方向(X−X’)での視野
角と光透過度との関係を示すグラフであって、図3
(c)は上下方向(Y‐Y’)での視野角と光透過度の
関係を示すグラフである。
X’)の視野角に対しては光透過度が対称的に分布する
が、上下方向(Y‐Y’)に対しては光透過度が非対称
的に分布するため上下方向(Y‐Y‘)の視野角では階
調が反転される領域が発生して視野角が狭くなる間題が
あった。
図5に示されたようにマルチドメインのツイストネマチ
ク液晶セルが提案されている。図4は2ドメイン(Tw
o−domain)ツイストネマチク(TDTN)液晶セルの
構造を示す図面である。
6)が塗布されプレチルト方向を互いに反対に制御させ
るものである。この配向膜(26)の各画素(pixel)
内にプレチルト方向が互いに反対である二つの液晶方向
子(LC director)を有するよう配向処理する。この
セルに階調表示電圧を印加すると、この二つの液晶方向
子が互いに反対方向に傾斜されることになって平均光透
過度が補償され視野角が広くなる。また、図5はドメイ
ン分割された(domain divided)ツイストネマチク(D
DTN)液晶セルの構造を示す図面である。基板(2
1)、(22)の第1配向層(27)及び第2配向層
(28)を各々互いに異なるプレチルト角を保有する物
質、例えば有機配向層とか無機配向層で構成して互いに
異なるプレチルト角を形成し一つの画素の内でドメイン
を分けて各ドメインの主視野角の方向を反対となるよう
視野角を補償する。
つの画素を四つのドメインに分ける4ドメイン液晶セル
は四つの方向の視野角が一層改善された液晶セルを得る
ことができる。
在最もよく使われるものが逆方向ラビング工程で図6及
び図7に示されている。工程は、図6(a)でのように
まずポリイミド(22)が塗布された全体の基板(2
1)をラビングすると図6(b)のモノドメインで配向
される。図6(c)の一つのドメインをホトレジスト
(23)でブロッキングした後、以前ラビング方向と反
対方向へラビングを実行し図7(d)でのようにホトレ
ジスト(23)でブロッキングされないドメインは逆方
向へラビングされることになる。図7(e)で前記ホト
レジスト(23)を除去して隣のドメインと互いに反対
方向のプレチルトを有する二つのドメインに分けられた
基板を得ることができる。
方法を図8及び図9に示した。
基板に第1偏光方向を有する直線偏光された光を基板に
対して垂直に照射し第1配向方向を決定し、図8(b)
では前記直線偏光された光を基板に対して傾斜するよう
照射して第1プレチルト角方向を決定するようになる。
プレチルトを決定するため前記マスクを除去した後、第
1プレチルトが決定されたドメインをマスキングする。
をもう一度基板に垂直方向から照射して第2配向方向を
決定するものが図9(d)に示されている。第2配向方
向で一つのプレチルト角方向を選ぶためもう一度偏光さ
れた光を傾斜するよう照射して第2プレチルト角方向を
決定した後、前記ホトレジストを除去すると図9(f)
の二つのドメインに分けられた液晶セルを得られる。
ため複雑な工程を上下板に各々実施しなければならな
く、特に視野角を改善した4ドメインの液晶セルを得る
ためには2ドメインの工程数より2倍に増加して量産に
問題となっているのが実情である。
鑑みてなされたもので、第1基板に配向方向、プレチル
ト角方向及びプレチルト角からなるプレチルトを決定し
て第2基板と合着した後液晶を注入すると、前記プレチ
ルトが決定された第1基板と向かい合った第2基板のプ
レチルトが別の処理なしで制御され簡単な工程で液晶セ
ルを製造できる方法を提供することを目的とする。
有するマルチドメイン液晶セルの製造方法において用い
られるものであって、第1基板各々のドメインごとにプ
レチルトが異なるよう配向処理をして各々のプレチルト
を決定して第2基板と合着した後液晶を注入すると、第
2基板でも第1基板のドメインに対応するドメインの別
の処理なしでマルチドメインが形成される液晶セルを簡
単な工程で製造できる方法を提供することを目的とす
る。
め、本発明による液晶セル製造方法は次のような段階で
構成される。
向膜を各々塗布する段階と、第1基板の配向膜に配向方
向、プレチルト角方向、プレチルト角からなるプレチル
トを決定する段階と、第2基板を第1基板とを互いに向
かい合うよう合着して前記液晶セルに液晶を注入する段
階とで構成される。前記方法で第1基板に決定されたプ
レチルトの配向規制力によって第2基板に別の配向処理
をしなくても液晶セルを得られるようになる。
方法に導入する方法は次の段階で構成される。
向膜を各々塗布する段階と、第1基板の第1配向膜にプ
レチルトを決定する段階と、前記第1基板と向かい合う
よう第2基板を合着してその間に液晶を注入する段階で
なっている。第1基板に決定されたプレチルトの配向規
制力によって第2プレチルトが第2基板に決定され第2
基板に別の配向処理をしなくてもマルチドメイン液晶を
得られるようになる。
理を行なわずに向かい合った第1基板の決定されたプレ
チルトの配向規制力およびキラルドーパントが添加され
た液晶の場合、第2基板のプレチルトを制御することが
可能となって工程が1/2に短縮されることが可能とな
った。
のため画素を分割して配向処理をし、第2基板を合着し
て第1基板の決定されたマルチドメインプレチルトの配
向規制力、およびキラルドーパント(chiraldopants)が
添加された液晶の場合、キラルドーパント(chiraldopan
ts)のツイスト力で第2基板のマルチドメインプレチル
トを制御できるため、従来の工程数の1/2の工程数で
もマルチドメイン液晶セルの形成が可能となった。
ビングや斜方蒸着などの配向方法が可能である。ラビン
グをする場合、配向膜は一般的にポリイミド(polyimid
e)を使用し、光配向する場合にはPVCN−F(polyv
inylfluorocinnamate)またはポリシロキサンシンナメ
ート(polysiloxanecinnamate)を使用する。また、使
われるキラルドーパント(chiraldopants)は左旋性(lev
orotatory)または右旋性(dextrorotatory)キラルド
ーパントのいずれも可能であり、注入された液晶質量の
0.1〜0.5%が添加されるのが望ましい。大部分の
液晶セルギャップ(gap)は4〜5μmであり、d≦p
/4の条件を有するし、ドーパントの量が0.1%の場
合、p=80μm、p=20μmとなると量は0.5%
程度、すなわち、この量はキラルドーパント(chiraldop
ants)の濃度、セルギャップ(cell gap)、ピッチ(pit
ch)を考慮して決める。
シロキサン、あるいはPVCN−Fを含んでもよい。
に光学補償フィルム(optical compensation film)を
付着する段階を付け加えてもよい。
ン液晶セル(multidomain twisted nematicliquid crys
tal cell)の配向方向制御方法を添付した図面を参考に
して詳しく説明する。
製造工程の配向方法で光配向方法を用いたものである。
図10(a)は光配向物質からなる第2配向膜(15)
が塗布された第2基板(12)に偏光された光を基板と
垂直に照射して図10(b)のように互いに向かい合っ
た二つのプレチルト角方向(θ,−θ)を有するプレチ
ルトを決定し,図10(c)では前記偏光された光を基
板に対して傾斜するよう照射して一つのプレチルト角方
向(θ)を選択することにより第1プレチルトを決定す
るようになる。この第1プレチルトが決定された第2基
板(12)に第1配光膜(14)が塗布された第1基板
(11)に合着され図11(d)のように、両基板の間
にキラルドーパント(chiraldopants)が添加された液晶
(13)が注入される。
された第1プレチルトの配向規制力と液晶に添加された
キラルドーパント(chiraldopants)のツイスト力で第1
基板(11)のプレチルトが決定されるので、図11
(e)と同じTN液晶セルを得ることができる。
注入すると、図12(f)と同じ平行配向液晶セルを得
ることができる。
のような光配向方法で形成された2ドメイン液晶製造工
程を示す図面である。図面で実線の矢印は第1基板(1
1)の配向方向を意味するものであって、点線の矢印は
第2基板(12)の配向方向を意味するものである。
するものである。図13(a)は第1基板(11)に偏
光された光を基板に対して垂直方向から照射すると前記
偏光方向に垂直した配向方向が決定され、この際配向方
向は互いに180°角の差異を有する二つのプレチルト
角方向(θ1,θ2)を保有するものである。
補償するため2ドメインを形成しようとするため、図1
3(b)のように、第2ドメイン(II)にマスクでブ
ロッキングした後、第1ドメイン(I)に光照射を基板
に対して傾斜するよう照射して一つのプレチルト角方向
を選択するようにする。従って、第1ドメインの第1プ
レチルトが決定される。
を取り除き第1プレチルトが決定された第1ドメインを
マスクでブロッキングした状態で、プレチルト角方向が
決定されていない第2ドメインに第1プレチルトと18
0°の差異があるプレチルト角方向(θ2)を選択しマ
スクを取り除くことによって第1基板(11)が二つの
ドメインに分かれるようになる。図14(d)は前記第
1基板(11)と第2基板(12)を向かい合うよう合
着して液晶とキラルドーパント(chiraldopants)を注入
する段階を示すものである。
て第1基板に決定された第1プレチルトの配向制御力と
液晶に添加された左旋性(levorotatory)キラルドーパ
ント(chiraldopants)のツイスト力で第1基板(11)
と左側に90°回転して第2基板(12)の第1ドメイ
ン(I)と第2ドメイン(II)各々のプレチルトが決
定される。
(e)で示したように、互いに反対方向にあるため結果
的に視野角が広くなる。
ト(chiraldopants)の量は液晶質量の0.1〜0.5%
が望ましい。
14(f)と同じセルとなる。
板に二つのプレチルトをドメインによって決定して、前
記基板に向かい合った第2基板のプレチルトが別の配向
処理なしで決定されるため、工程数が減って製造費用も
軽減することになる。
向の他にラビング、斜方蒸着のようなすべての配向方法
が可能である。図15及び図16は2ドメイン液晶セル
を製造するため光配向の代りにラビング法を使用した工
程を示す図面である。
配向方向を意味するものであって、実線の矢印は第2基
板(12)の配向方向を意味するものである。
味するものである。図15(a)は第1基板(11)の
第1ドメイン(I)のプレチルトを決定するため第2ド
メイン(II)にマスキングをし、第1ラビングを実施
して第1プレチルト(θ1)を決定し、図15(b)の
ように第1基板(11)に第1ドメイン(I)にマスキ
ングをし、第2ドメイン(II)の第1ラビングと反対
方向でラビングを反対方向にして第2プレチルト(θ
2)を決定する。
1)の二つのドメインのプレチルトを決定した後、図1
5(c)のように、前記第1基板(11)と第2基板を
合着してキラルドーパント(chiraldopants)が添加され
た液晶を注入すると、配向方向を決定していない第2基
板(12)の第1ドメイン(I)と第2ドメイン(I
I)各々のプレチルトが第1基板のプレチルトの配向規
制力とキラルドーパント(chiraldopants)のツイスト力
によって制御され、二つのドメインのTN液晶セルを得
られるようになる。この際、形成される主視野角方向
は、図16(d)で示したように、互いに反対方向にあ
るため互いに補償して結果的に視野角が広くなる。この
際、液晶に添加されるキラルドーパント(chiraldopant
s)の量は液晶質量の0.1〜0.5%が望ましい。
図16(e)と同じセルとなる。
第1基板に二つのプレチルトをドメインによって決定し
て、前記基板に向かい合った第2基板のプレチルトが別
の配向処理なしに決定されるため、工程数が減って製造
費用も軽減することになる。配向方向を決定する方法と
しては前記光配向の他にラビング、斜方蒸着のような配
向方法も可能である。
れた4ドメイン液晶セル製造工程の一つの実施例を示す
図面である。図面での実線の失印は第1基板(11)の
配向方向を意味するものであって、点線の矢印は第2基
板(12)の配向方向を意味するものである。
る。図17(a)は第1基板(11)の第1ドメイン
(I)と第2ドメイン(II)、第3ドメイン(III)
及び第4ドメイン(IV)をθ1、θ2、θ3及びθ4の
プレチルトを図9または図10で示した方法で決定す
る。図17(b)のようにキラルドーパント(chiraldop
ants)が添加された液晶を注入すると、第2基板(1
2)の第1ドメイン(I)、第2ドメイン(II)、第
3ドメイン(III)及び第4ドメイン(IV)各々のプレ
チルトが、第1基板(11)各ドメインに決定されたプ
レチルトの配向規制力とキラルドーパント(chiraldopan
ts)のツイスト力で決定される。この際、形成された主
視野角方向は図18で示したように互いに反対方向にあ
るため補償効果によって結果的に視野角が広くなる。
ト(chiraldopants)の量は液晶質量の0.1〜0.5%
が望ましい。
に四つのプレチルトをドメインによって決定して、前記
基板の向かい合った第2基板のプレチルトが別の配向処
理なしで決定されるため、工程数が減って製造費用も軽
減することになる。配向方向を決定する方去では前記光
配向、ラビング、斜方蒸着のような配向方法が含まれ
る。
ため、ツイストネマチック(Twisted nematic)製作の
とき、90°ツイスト角(twist angle)を示さない場
合もあり、正確に黒(black)を表現しにくいので、光
学補償フィルム(optical compensation film)を採用
して完全な黒を表現できるようにするとよい。これはEC
B(electrically controlled birefringence)モードの
場合も同じ効果を期待できる。
をしなくても、向かい合った第1基板の決定されたプレ
チルトの配向規制力およびキラルドーパント(chiraldop
ants)のツイスト力で第2基板のプレチルトを制御でき
ることになって、工程が1/2に短縮されることが可能
となった。また、前記方法を利用して第1基板に光視野
のために画素を分割した配向処理をし、第2基板を合着
して第1基板の決定されたマルチドメインプレチルトの
配向規制力およびキラルドーパント(chiraldopants)の
ツイスト力で第2基板のマルチドメインプレチルトを制
御できるため、従来の工程数の1/2の工程数でもマル
チドメイン液晶セルの形成が可能である。
面。
面。
で、(a)は電圧対光透過度を示すグラフであり、
(b)は左右視野方向による光透過度を示すグラフであ
り、(c)は上下方向による光透過度を示すグラフであ
る。
を示す図面。
ルの構造を示す図面。
ビング工程を示す図面。
ビング工程を示す図面(続き)。
程を示す図面。
程を示す図面(続き)。
晶セル製造工程を示す図面。
晶セル製造工程を示す図面(続き)。
晶セル製造工程を示す図面(続き)。
イン(domain)ツイストネマチク液晶セルの製造工程を
示す図面。
イン(domain)ツイストネマチク液晶セルの製造工程を
示す図面(続き)。
イストネマチクドメイン液晶セルの製造工程を示す図
面。
イストネマチクドメイン液晶セルの製造工程を示す図面
(続き)。
の製造工程を示す図面。
の製造工程を示す図面(続き)。
Claims (23)
- 【請求項1】 第1基板及び第2基板に第1配向膜及び
第2配向膜を各々塗布する段階と、 前記第1配向膜が塗布された第1基板にプレチルトを決
定する段階と、 前記プレチルトが決定された第1基板と前記第2基板の
間に液晶を注入する段階とを備える液晶セル製造方法。 - 【請求項2】 請求項1において、 前記第1基板にプレチルトを決定する方法がラビングに
よることを特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項3】 請求項2において、 前記第1配向膜がポリイミド(polyimide)を含むこと
を特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項4】 請求項1において、 前記第1基板にプレチルトを決定する方法が光配向によ
ることを特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項5】 請求項4において、 前記第1配向膜がポリシロキサン(polysiloxane)を含
むことを特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項6】 請求項4において、 前記第1配向膜がPVCN−F(polyvinylfluorocinna
mate)を含むことを特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項7】 請求項1において、 前記液晶はキラルドーパント(chiraldopants)が添加さ
れた液晶であることを特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項8】 請求項7において、 前記キラルドーパント(chiraldopants)が液晶の0.1
〜0.5質量%で添加されたことを特徴とする液晶セル
製造方法。 - 【請求項9】 請求項7において、 前記キラルドーパント(chiraldopants)が右旋性(dextr
orotatory)キラルドーパントであることを特徴とする
液晶セル製造方法。 - 【請求項10】 請求項7において、 前記キラルドーパント(chiraldopants)が左旋性(levor
otatory)キラルドーパントであることを特徴とする液
晶セル製造方法。 - 【請求項11】 第1基板と第2基板に第1配向膜と第
2配向膜を各々塗布する段階と、 前記第1基板の配向膜の一部の領域に第1プレチルトを
形成する段階と、 前記第1基板の前記一部の領域以外の領域に第2プレチ
ルトを形成する段階と、 前記プレチルトが決定された第1基板と第2基板を合着
する段階と、 前記第1基板と前記第2基板の間に液晶を注入する段階
とを備える液晶セル製造方法。 - 【請求項12】 請求項11において、 前記第1基板にプレチルトを決定する方法がラビングに
よることを特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項13】 請求項12において、 前記第1配向膜がポリイミドを含むことを特徴とする液
晶セル製造方法。 - 【請求項14】 請求項11において、 前記第1基板にプレチルトを決定する方法が光配向によ
ることを特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項15】 請求項14において、 前記第1配向膜がポリシロキサンを含むことを特徴とす
る液晶セル製造方法。 - 【請求項16】 請求項14において、 前記第1配向膜がPVCN−Fを含むことを特徴とする
液晶セル製造方法。 - 【請求項17】 請求項11において、 前記液晶はキラルドーパント(chiraldopants)が添加さ
れた液晶であることを特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項18】 請求項17において、 前記キラルドーパント(chiraldopants)が液晶の0.1
〜0.5質量%で添加されたことを特徴とする液晶セル
製造方法。 - 【請求項19】 請求項11において、 前記第1基板の領域を分ける手段がマスクであることを
特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項20】 請求項17において、 前記キラルドーパント(chiraldopants)が右旋性(dextr
orotatory)キラルドーパントであることを特徴とする
液晶セル製造方法。 - 【請求項21】 請求項17において、 前記キラルドーパント(chiraldopants)が左旋性(levor
otatory)キラルドーパントであることを特徴とする液
晶セル製造方法。 - 【請求項22】 請求項1において、 前記第1基板または前記第2基板上に光学補償フィルム
(optical compensation film)を付着する段階を付け加
えることを特徴とする液晶セル製造方法。 - 【請求項23】 請求項11において、 前記第1基板または前記第2基板に光学補償フィルム
(optical compensationfilm)を付着する段階を付け加
えることを特徴とする液晶セル製造方法。
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