JPH10101824A

JPH10101824A - 帯電防止プラスチックプレートの製造方法

Info

Publication number: JPH10101824A
Application number: JP9063505A
Authority: JP
Inventors: Yoshio Nishimura; 善雄西村
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 1996-08-07
Filing date: 1997-03-17
Publication date: 1998-04-21

Abstract

(57)【要約】【課題】塗布方式による高度帯電防止プラスチックプ
レートの製造方法であって、プラスチックプレートに変
形や歪みを与えることなく帯電防止塗膜を均質に、且
つ、強固に積層する。【解決手段】不活性ガスを主体とする処理ガス雰囲気
もしくは圧力１×１０^-4〜１００Ｔｏｒｒの処理ガス雰
囲気でプラスチックプレートの表面をグロー放電プラズ
マ処理し、該グロー放電プラズマ処理面に、熱硬化型も
しくは放射線硬化型導電性塗料を塗布・乾燥・硬化され
て形成された導電層を重ね合わせて積層することを特徴
とする帯電防止プラスチックプレートの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、帯電防止プラスチ
ックプレートの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウェハー保存容器の材料や、電子
部品、半導体等各種の極もしくは超微細加工を要する製
造工場における床材や壁材は、帯電による塵埃の付着、
これら塵埃の落下や再分散による２次汚染等を防止する
目的で、高度に帯電防止されたプラスチックプレートが
使用される。従来、上記目的に使用される帯電防止され
たプラスチックは、アルミニウム、亜鉛等の金属微粉
末、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等の金属酸化物、導
電性カーボン粉末、導電性ポリアニリン粉末等からなる
導電性物質をプラスチックプレート等の成型品の表面に
薄く均一に塗布したり、プラスチックをシートやプレー
ト等の加工素材や半導体ウェハー保存容器の如き成型品
を成型する際に、プラスチック中に均質に練り込んでお
き、これらの導電性プラスチック組成物を押出成型や射
出成型によって成型して導電性プラスチック成形品を製
造していたのである。

【０００３】しかし、上記プラスチック中に導電性物質
を均質に練り込んでおき、これらの導電性プラスチック
組成物を押出成型や射出成型によって成型した成型品
は、光線透過率を高めるために、練り込まれる導電性物
質の粒度を０．２μｍ以下の微粒子とする等、光学的に
工夫してはいるが、殆どの場合、プラスチック中に分散
した導電性物質によって著しく透明性が阻害されるもの
であった。

【０００４】従って、高度に帯電防止され、且つ、透明
性に優れたプラスチックプレートを製造するためには、
帯電防止能を有する部分が表面部分に濃縮された塗布方
式が採用され、上記帯電防止能を有する塗膜が透光性を
保持するため極めて薄い層で形成される。従って、極端
な厚さのバラツキが発生して帯電防止能にバラツキが発
生することのないように塗膜の厚さの精度を高める必要
があった。

【０００５】上記の如き導電性樹脂シートとその製造方
法として、特開平６−２６３８９９号公報に、熱可塑性
樹脂と導電性材料とから成る塗料を熱可塑性樹脂離型フ
ィルムの表面に塗布し硬化させて導電性塗膜を形成し、
次いで、当該離型フィルムを、その塗膜面を熱可塑性樹
脂の基材シートの表面に対面させて当該樹脂基材シート
と熱圧着する導電性樹脂シートの製造方法、上記導電性
材料がポリアニリンである導電性樹脂シートの製造方法
及び上記熱可塑性樹脂と導電性ポリアニリンとから成る
導電性塗膜層が、熱可塑性樹脂基材シートの表面に、熱
圧一体に積層形成されてなる導電性樹脂シートが開示さ
れている。

【０００６】しかし、上記特開平６−２６３８９９号公
報に開示された導電性樹脂シートの製造方法では、導電
性塗膜層を熱可塑性樹脂基材シートの表面に、熱圧一体
に積層するためには、導電性塗膜層を相当高温に加熱し
なければ熱可塑性樹脂基材シートの表面に密着させるこ
とができず、従って、このような高温に加熱して熱圧す
ると熱可塑性樹脂基材シートが熱変形してしまうという
問題点があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、叙上の事実
に鑑みなされたものであって、その目的とするところ
は、塗布方式による高度帯電防止プラスチックプレート
の製造方法であって、プラスチックプレートに変形や歪
みを与えることなく帯電防止塗膜を均質に、且つ、強固
に積層することのできる帯電防止プラスチックプレート
の製造方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の本発明
は、不活性ガスを主体とする処理ガス雰囲気もしくは圧
力１×１０^-4〜１００Ｔｏｒｒの処理ガス雰囲気でプラ
スチックプレートの表面をグロー放電プラズマ処理し、
該グロー放電プラズマ処理面に、熱硬化型もしくは放射
線硬化型導電性塗料を塗布・乾燥・硬化されて形成され
た導電層を重ね合わせて積層することを特徴とする帯電
防止プラスチックプレートの製造方法をその要旨とする
ものである。

【０００９】又、請求項２記載の発明は、上記処理ガス
が、酸素含有ガス、窒素含有ガス及びフッ素含有ガスの
群から選ばれたガスであり、上記不活性ガスが、ヘリウ
ム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン及びラド
ンの群から選ばれた希ガスであることを特徴とする請求
項１記載の帯電防止プラスチックプレートの製造方法を
その要旨とするものである。

【００１０】又、請求項３記載の発明は、上記グロー放
電プラズマ処理が、少なくとも一方の電極面に固体状誘
電体が被覆されている一対の対向する金属電極間に電圧
を印加して発生するグロー放電プラズマをプラスチック
プレートの表面に被曝させて行われることを特徴とする
請求項１記載の帯電防止プラスチックプレートの製造方
法をその要旨とするものである。

【００１１】請求項１記載の発明において用いられる上
記熱硬化型もしくは放射線硬化型導電性塗料は、（ａ）
熱硬化性樹脂もしくは放射線硬化性樹脂、（ｂ）導電性
粉末、（ｃ）アルキル（メタ）アクリレート系重合体を
構成成分とする。

【００１２】上記熱硬化性樹脂は、熱で架橋し、硬化す
るものであれば特に限定されるものではないが、例え
ば、分子内に少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイ
ル基を有する（メタ）アクリレート化合物、不飽和ポリ
エステル、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂等が挙げられる。又、放射線硬化性樹脂は、
α線、β線、γ線、Ｘ線等の電離性放射線で架橋し、硬
化するものであれば特に限定されるものではないが、例
えば、分子内に少なくとも２個以上の（メタ）アクリロ
イル基を有する（メタ）アクリレート化合物、不飽和ポ
リエステル、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂等が挙げられる。

【００１３】上記分子内に少なくとも２個以上の（メ
タ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合
物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノナプ
ロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ
（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチ
ル）−イソシアヌル酸エステル（メタ）アクリレート、
２，２−ビス〔４−（アクリロキシジエトキシ）フェニ
ル〕プロパン、３−フェノキシ−２−プロパノイルアク
リレート、１，６−ビス（３−アクリロキシ−２−ヒド
ロキシプロピル）−ヘキシルエーテル、テトラメチロー
ルメタンテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【００１４】又、上記（メタ）アクリレート化合物以外
に、分子内にウレタン結合を有する（メタ）アクリレー
トも好適に使用される。即ち、これらの分子内にウレタ
ン結合を有する（メタ）アクリレートの少なくとも１種
の添加は、得られる導電層の耐擦傷性を高める等の好ま
しい性能を付与する。上記分子内にウレタン結合を有す
る（メタ）アクリレートとしては、例えば、ペンタエリ
スリトールアクリレートヘキサメチレンジイソシアネー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロン
ジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ートトリレンジイソシアネート等のウレタンプレポリマ
ー等が挙げられる。

【００１５】又、更に、上記（メタ）アクリレート化合
物以外に、分子内にエステル結合を有し、且つ、分子内
に少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基を有す
るポリエステル（メタ）アクリレートも好適に使用され
る。即ち、これらのポリエステル（メタ）アクリレート
の少なくとも１種の添加は、得られる導電層を構成する
熱硬化性樹脂及び放射線硬化性樹脂を高度に架橋し、該
導電層の硬度と耐擦傷性を高める等の好ましい性能を付
与する。

【００１６】上記不飽和ポリエステル樹脂としては、特
に限定されるものではないが、例えば、不飽和多塩基性
酸又はその無水物と多価アルコールを反応して得られる
不飽和ポリエステルを重合性単量体に溶解した通常の不
飽和ポリエステル樹脂を用いることができる。上記不飽
和多塩基性酸又はその無水物としては、例えば、マレイ
ン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、カービ
ック酸、無水カービック酸等が挙げられ、必要に応じて
無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、モノクロ
ロフタル酸、アジピン酸、コハク酸、セバチン酸等の飽
和多塩基性酸を添加してもよい。就中、耐熱水性を高め
るためには、イソフタル酸系不飽和ポリエステル樹脂、
ビスフェノールＡ系不飽和ポリエステル樹脂等が好適に
使用される。

【００１７】一方、多価アルコールとしては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレン
グリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、水素化ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物
等のグリコール類やグリセリン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール等の３価以上のアルコール等
が挙げられる。

【００１８】上記不飽和ポリエステルは、分子内に二重
結合を含有する重合性単量体に溶解して用いられる。上
記重合性単量体としては、例えば、スチレン、ビニルト
ルエン、ジビニルベンゼン、メチル（メタ）アクリレー
ト、エチルメタクリレート等が好適に用いられる。

【００１９】上記不飽和ポリエステル樹脂を硬化させる
ために、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、
ベンゾイルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサ
イド、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物やア
ゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物等の硬化剤が
用いられる。上記硬化剤に必要に応じて、例えば、ナフ
テン酸コバルト、ナフテン酸マンガン、オクテン酸コバ
ルト等の金属石鹸類、ジメチルアニリン等の芳香族第三
級アミン類、ジメチルベンジルアンモニウムクロライド
等の第四級アンモニウム塩類等の硬化促進剤を併用して
もよい。

【００２０】上記エポキシ樹脂としては、特に限定され
るものではないが、例えば、ビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹
脂等が好適に用いられる。上記エポキシ樹脂を硬化させ
るために、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレ
ンテトラミン、メタフェニレンジアミン等のアミン類、
ポリアミン類、ポリアミド類、無水フタル酸、テトラハ
イドロフタル酸酸無水物、ヘキサハイドロフタル酸酸無
水物等の酸無水物、多硫化物等からなる硬化剤が好適に
用いられる。

【００２１】上記ウレタン樹脂としては、特に限定され
るものではないが、例えば、ポリオールと分子内に２個
以上のイソシアネート基を有する化合物とを付加重合す
る公知の方法で製造されるウレタン樹脂が用いられる。
上記ポリオールとしては、例えば、エチレングリコー
ル、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオ
ール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、１，５−ペンタンジオー
ル、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、トリメチロールプロパン
等の短鎖のジオール、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール等のポリアルキレングリコール、並
びに、アジピン酸とエチレングリコール、アジピン酸と
プロパンジオール、アジピン酸とブタンジオール、アジ
ピン酸とペンタンジオール、アジピン酸とヘキサンジオ
ールとの縮合ポリエステルグリコール等の長鎖のジオー
ル等が挙げられる。上記ポリオールの内、短鎖のジオー
ルは、得られる導電層の表面高度を高めることができる
ので好適に用いられる。

【００２２】分子内に２個以上のイソシアネート基を有
する化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、トル
エンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、メ
チレンジシクロヘキシルジイソシアネート等が挙げられ
る。これらの熱硬化性樹脂は、（メタ）アクリレート化
合物単独で用いられてもよいが、（メタ）アクリレート
化合物と不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレ
タン樹脂等が併用されてもよい。

【００２３】上記導電性粉末は、透光性を著しく阻害す
るものでなければ特に限定されるものではなく、無機質
の導電性粉末、有機質の導電性粉末から適宜選択使用さ
れる。上記無機質の導電性粉末として、例えば、粒子の
表面もしくは粒子全体が酸化錫成分からなる導電性粉
末、上記酸化錫成分に酸化アンチモン成分０．１〜２０
重量％を添加した導電性粉末等が挙げられる。上記酸化
錫成分からなる導電性粉末は、高い導電性を示すが、粒
子径が大きくなると可視光線を散乱し、得られる導電性
塗膜の透明性が低下するので、その粒子径は０．４μｍ
以下であることが望ましい。しかし、硫酸バリウム等の
透明性を有する粒子の表面に酸化錫をコーティングした
導電性粉末の場合には、上記可視光線の散乱は少ないの
で、その粒子径は０．４μｍ以上であってもよい。

【００２４】酸化アンチモン含有酸化錫を硫酸バリウム
等の透明性を有する粒子の表面にコーティングした導電
性粉末は、その高い透明性から好適に使用される。上記
酸化アンチモン含有酸化錫を硫酸バリウム粒子の表面に
コーティングした導電性粉末の粒子径は、０．０１〜２
μｍの範囲で好適に使用される。上記粒子径が０．０１
μｍ未満である場合、必要な導電性を示す厚さに形成さ
れた導電性塗膜において、芯材である硫酸バリウム粒子
の体積比率が小さくなり、該導電性塗膜の透明性が低下
する。又、上記粒子径が２μｍを超えると、形成される
導電性塗膜の平滑性が低下し、充填された導電性粉末間
に微小な空気孔が生じ、導電性塗膜が曇り、その透明性
を低下させる。

【００２５】上記無機質の導電性粉末の配合量は、熱硬
化性樹脂もしくは放射線硬化性樹脂１００重量部に対し
１００〜５００重量部が好ましい。上記配合量が１００
重量部未満である場合、形成される導電性塗膜の導電性
が低下し、必要な帯電防止効果が得られず、又、上記配
合量が５００重量部を超えると、形成される導電性塗膜
の透明性が低下する。

【００２６】上記有機質の導電性粉末として、例えば、
アニリン系重合体、ピロール系重合体、チオフェン系重
合体等の導電性粉末が挙げられる。就中、導電性アニリ
ン系重合体は、熱安定性に優れることから好適に使用さ
れる。上記導電性アニリン系重合体の配合量は、熱硬化
性樹脂もしくは放射線硬化性樹脂１００重量部に対し
０．１〜３０重量部が好ましい。上記配合量が０．１重
量部未満である場合、形成される導電性塗膜の導電性が
低下し、必要な帯電防止効果が得られず、又、上記配合
量が３０重量部を超えると、形成される導電性塗膜の透
明性が低下する。

【００２７】上記アルキル（メタ）アクリレート系重合
体は、本発明において用いられる熱硬化型もしくは放射
線硬化型の導電性塗料において、導電性粉末を均一に分
散させるための分散剤として作用するものであり、アル
キル（メタ）アクリレートの単独重合体及び／又は共重
合体である。上記アルキル（メタ）アクリレートとして
は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メ
タ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブ
チル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート等が挙げられる。上記アルキル（メ
タ）アクリレートの単独重合体及び共重合体の製造方法
は特に限定されるものではなく、例えば、一般に用いら
れる溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法
によって重合される。

【００２８】上記アルキル（メタ）アクリレートの単独
重合体及び共重合体の分子量は、小さくなると、増粘の
効果が発現せず塗工性に劣り、又、大き過ぎると熱硬化
型もしくは放射線硬化型の導電性塗料の粘度が高くなり
過ぎ塗工性に劣るので、１０万〜１００万程度、好まし
くは３０万〜８０万である。

【００２９】上記アルキル（メタ）アクリレート系重合
体の配合量は、熱硬化性樹脂もしくは放射線硬化性樹脂
１００重量部に対し、好ましくは１０〜１００重量部、
より好ましくは３０〜８０重量部である。上記アルキル
（メタ）アクリレート系重合体の配合量が熱硬化性樹脂
もしくは放射線硬化性樹脂１００重量部に対し１０重量
部未満であると、熱硬化型もしくは放射線硬化型の導電
性塗料の各成分が均一に分散せず、増粘の効果も得られ
ないので、該熱硬化型もしくは放射線硬化型の導電性塗
料の塗工性に劣り、且つ、得られる導電層の透明性も低
下する。又、上記配合量が１００重量部を超えると、得
られる導電層の耐擦傷性が低下する。

【００３０】上記熱硬化型もしくは放射線硬化型の導電
性塗料は、熱硬化性樹脂もしくは放射線硬化性樹脂、導
電性粉末の他、必要に応じて、有機溶剤、紫外線吸収
剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤等が添加されてもよい。

【００３１】上記有機溶剤は、特に限定されるものでは
ないが、沸点が低いもの、もしくは揮発性の高いものは
塗工中に蒸発により熱硬化型もしくは放射線硬化型の導
電性塗料粘度が変化するという問題があり、高沸点のも
のでは乾燥工程に時間を要するので、沸点７０〜１６０
℃程度のものが好ましい。上記有機溶剤としては、例え
ば、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノメチル
エーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、イソプロピル
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケ
トン、トルエン、キシレン、アニソール等が挙げられ
る。

【００３２】上記紫外線吸収剤としては、特に限定され
るものではないが、例えば、サリチル酸系紫外線吸収
剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾー
ル系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤
等が挙げられる。上記酸化防止剤としては、例えば、フ
ェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系
酸化防止剤等が挙げられる。上記重合禁止剤としては、
例えば、ヒドロキノン、ｐ−メトキシフェノール等が挙
げられる。

【００３３】又、導電性粉末のバインダーとして使用さ
れる熱可塑性樹脂への分散性を向上させるために上記導
電性粉末を予め、シランカップリング剤、チタンカップ
リング剤、アルミネートカップリング剤等で表面処理を
行っておくことも有効である。

【００３４】上記熱硬化型もしくは放射線硬化型の導電
性塗料の調製は、上記アルキル（メタ）アクリレート系
重合体、導電性粉末を有機溶剤に加えて混合した後、
（メタ）アクリレート化合物、熱硬化性樹脂もしくは放
射線硬化性樹脂、硬化触媒等を加えて更に混合して行わ
れる。上記混合には、微粉末を充分に分散させるため、
例えば、サンドミル、ボールミル、アトライター、高速
回転攪拌装置、３本ロール等の混合装置が用いられる。

【００３５】本発明において、上記熱硬化型もしくは放
射線硬化型の導電性塗料を塗布・乾燥させて塗膜を形成
する際に用いられるプラスチックフィルムとしては、特
に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレンや
ポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリエチ
レンテレフタレートの如きポリエステルフィルムが挙げ
られる。上記透明なプラスチックフィルムは、１軸もし
くは２軸の延伸処理が施されたものであってもよく、必
要に応じて表面離型処理が施されたものであってもよ
い。

【００３６】上記プラスチックフィルム上に上記熱硬化
型もしくは放射線硬化型の導電性塗料が塗工されるが、
上記工程において、採られる塗工方法としては、精密塗
工ができる方法であれば特に限定されるものではない
が、例えば、スプレー法、バーコート法、ドクターブレ
ード法、ロールコート法、ディッピング法等が挙げられ
る。

【００３７】上記プラスチックフィルム上に形成される
導電層の厚さは、好ましくは０．５〜５μｍである。上
記導電層の厚さが０．５μｍ未満であると、導電性が不
充分となり、必要な帯電防止効果が得られない。又、上
記導電層の厚さが５μｍを超えると、全光線透過率が低
下し、透明性が低下する。

【００３８】上記プラスチックフィルム上に形成された
熱硬化型の導電性塗膜の硬化の工程において用いられる
加熱手段は、特に限定されるものではないが、例えば、
熱風加熱、マイクロ波加熱、赤外線加熱等が挙げられ、
特に赤外線加熱は上記導電性塗膜を均一に且つ安定して
加熱できるので、好適に用いられる。これらの加熱手段
は、単独もしくは２以上の手段が併用されてもよい。

【００３９】上記加熱温度が低温に過ぎると、熱硬化型
導電性塗料から得られる導電層とプラスチックプレート
の積層時の密着性が不十分となり、高温に過ぎると、導
電層が変形するので、好ましくは４０〜１３０℃、より
好ましくは５０〜１００℃である。

【００４０】又、上記放射線硬化型の導電性塗膜の硬化
の工程において用いられる電離性放射線照射手段は、特
に限定されるものではないが、例えば、β線（電子線）
照射装置等が挙げられる。上記照射線量は、少な過ぎる
と架橋密度が低くなり、得られる導電層の表面硬度が低
下し、多くなり過ぎると得られる導電層が着色するなど
光学特性を低下させるので、好ましくは１〜２０Ｍｒａ
ｄ、より好ましくは５〜１０Ｍｒａｄである。

【００４１】本発明で用いられる上記プラスチックプレ
ートとしては、特に限定されるものではないが、例え
ば、塩化ビニル（ＰＶＣ）系樹脂、ポリカーボネート
（ＰＣ）樹脂、ポリメタクリレート（アクリル）系樹
脂、ＡＢＳ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレ
ン）系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンサルファ
イド（ＰＰＳ）樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（Ｐ
ＥＥＫ）樹脂、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）樹
脂、ポリサルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテ
ルイミド樹脂、フッ素樹脂等のプラスチックから成型さ
れたプレートが挙げられる。

【００４２】上記プラスチックプレートの表面のグロー
放電プラズマ処理において、該グロー放電プラズマ処理
雰囲気の圧力は、不活性ガスを主体とする処理ガス雰囲
気においては１気圧近傍、１００〜８００Ｔｏｒｒ、好
ましくは７００〜７８０Ｔｏｒｒであり、上記処理ガス
雰囲気乃至処理ガスを主体とする処理ガス雰囲気におい
ては１×１０^-4〜１００Ｔｏｒｒである。不活性ガスを
主体とする処理ガス雰囲気において、上記処理雰囲気の
圧力が８００Ｔｏｒｒを超えると、グロー放電プラズマ
処理装置の圧力調整装置が大がかりなものとなり、経済
性を失うばかりか、その処理操作も極めて煩瑣なものと
なる。

【００４３】上記グロー放電プラズマ処理工程において
用いられる処理ガスは、活性元素のラジカルを発生し得
る気体からなり、例えば、酸素、オゾン、水蒸気、一酸
化炭素、二酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素等の酸素
含有ガス、アンモニア、窒素等の窒素含有ガス及び四フ
ッ化炭素（ＣＦ4 ）、六フッ化炭素（Ｃ2 Ｆ6 ）、六フ
ッ化プロピレン、一塩化三フッ化炭素（ＣＣｌＦ3 ）、
六フッ化硫黄（ＳＦ6）等のフッ素含有ガス等が挙げら
れる。これらの処理ガスは単独又は２種以上が併用され
てもよい。就中、上記酸素含有ガスに、５０体積％以下
の混合比率で上記フッ素含有ガスを混合した処理ガスは
被処理プラスチックプレートの表面活性化の程度が高
く、且つ、均一に処理されるので好適に用いられる。

【００４４】又、処理ガス、就中、活性元素のラジカル
を発生し易い処理ガスの使用に際し、ヘリウム、ネオ
ン、アルゴン、キセノン等の希ガスを含む不活性ガスを
併用してもよい。上記不活性ガスの混合比率は５０体積
％程度もしくはそれ以下である。上記混合比率が５０体
積％程度を超えて多くなり過ぎると、被処理プラスチッ
クプレートの表面活性化の程度が落ちる。

【００４５】上記グロー放電プラズマ処理工程におい
て、１気圧近傍の処理雰囲気でグロー放電プラズマを照
射する際に用いられる処理ガスは、不活性ガスを主体と
する処理ガスであって、ヘリウム、ネオン、アルゴン、
キセノン等の希ガスを含む不活性ガスのみからなる処理
ガスであってもよく、不活性ガスを主体とし、これに上
記活性元素のラジカルを発生し得る酸素含有ガス、窒素
含有ガス、フッ素含有ガス等を混合した処理ガスであっ
てもよい。不活性ガスを主体とし、これに上記活性元素
のラジカルを発生し易い酸素含有ガス、窒素含有ガス、
フッ素含有ガス等を混合して用いる場合、不活性ガスと
して、就中、準安定状態の寿命の長いヘリウムガスが励
起し易く、且つ、均一に処理されるので好適に用いられ
る。

【００４６】又、希ガスを含む不活性ガスに上記活性元
素のラジカルを発生し得る酸素含有ガス、窒素含有ガ
ス、フッ素含有ガス等を混合して用いる場合、これら酸
素含有ガス、窒素含有ガス、フッ素含有ガス等に加え、
アセトン、メタノール、メタン、エタン等の有機化合物
の蒸気を混合することによって、上記ヘリウムガス同
様、励起し易く、且つ、均一に処理されるので好適に用
いられる。上記有機化合物の蒸気の混合比率は、２体積
％以下である。上記混合比率が２体積％を超えると、グ
ロー放電プラズマが発生しにくくなる。上記不活性ガス
の混合比は、９０体積％以上、好ましくは９５〜９９．
９体積％である。上記不活性ガスの混合比が９０体積％
未満の場合、グロー放電プラズマが発生しにくくなる。

【００４７】上記処理ガスは、グロー放電プラズマによ
って励起される。上記処理ガスを励起させるグロー放電
プラズマ発生手段は、特に限定されるものではないが、
例えば、少なくとも一方の電極面に固体状誘電体が被覆
されている一対の対向する金属電極を配設し、該電極間
に直流電流を印加してプラズマ分解する方法、高周波電
流を印加してプラズマ分解する方法、マイクロ波電流を
印加してプラズマ分解する方法等が挙げられる。

【００４８】上記グロー放電に用いられる電源の周波数
は、ｋＨｚオーダーであり、耐熱性の小さい被処理プラ
スチックプテートの場合、５〜３０ｋＨｚ程度の比較的
低い周波数が好ましい。又、用いられる電圧は、使用さ
れる処理ガスの種類及び被処理プラスチックプレートの
種類や厚さ等によって適宜設定されるが、好ましくは、
その電界強度が１〜４０ｋＶ／ｃｍとなるように印加さ
れる。上記電界強度が１ｋＶ／ｃｍ未満であると、プラ
スチックプレートの表面処理に長時間を要し、４０ｋＶ
／ｃｍを超えると、アーク放電に移行する挙動を示し、
プラスチックプレートの表面処理が均一にできなくな
る。

【００４９】上記グロー放電プラズマ処理時間は、使用
される処理ガスの種類、印加電圧の大きさ及び被処理プ
ラスチックプレートの種類や厚さ等によって適宜設定さ
れるが、例えば、厚さ３ｍｍのアクリル樹脂プレートを
ヘリウムガスを用いてグロー放電プラズマ処理を行う場
合、上記５〜３０ｋＨｚ程度の印加電圧範囲では１５秒
程度で表面活性化は充分に行われ、その効果が飽和する
ので、これ以上の処理時間は必要ない。

【００５０】以下、図１に示されたグロー放電プラズマ
処理装置を参照しながら本発明の帯電防止プラスチック
プレートの製造方法を説明する。

【００５１】図１に示されたグロー放電プラズマ処理装
置は、電源部１、パイレックスガラス製の表面処理室側
壁２、ステンレス鋼板製の表面処理室天板３及び表面処
理室底板４を主要構成部材とする表面処理室容器、上記
表面処理室容器内の表面処理室天板３近くに設けられた
上部電極６及び表面処理室底板４近くに設けられた下部
電極７からなる電極並びにガス排気口１１、上記上部電
極６内より導入されるガス導入口８及び上記上部電極６
及び下部電極７間に噴出されるガス導入口９及びこれに
連なる複数個のガス噴出口１０１、１０１、・・・を備
えたパイレックスガラス製のガス噴出リング１０等から
なるガス導入及び排出装置等から構成されている。

【００５２】上記上部電極６及び下部電極７の電極材料
は、特に限定されるものではないが、例えば、ステンレ
ス鋼、真鍮等の多成分系の金属や、銅、アルミニウム等
の単一成分からなる金属が挙げられる。

【００５３】上記上部電極６及び下部電極７の形状は、
特に限定されるものではなく、被処理プラスチックプレ
ートをグロー放電プラズマに暴露する形態によって前記
する電極群から適宜選定さてるが、図１においては、一
対の相対する平行平板型が示されている。上記上部電極
６及び下部電極７には、その電極面に各々固体誘電体６
１及び７１が被覆されている。上記固体誘電体は、必ず
しも両電極６及び７を共に被覆する必要はなく、上部電
極６のみに被覆されるものであってもよい。

【００５４】上記固体誘電体としては、特に限定される
ものではないが、例えば、ポリテトラフロロエチレン
（ＰＴＦＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
等の有機固体誘電体や酸化珪素（ＳｉＯ2 ）、酸化アル
ミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2
）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）等の無機固体誘電体が挙
げられる。これらの固体誘電体は、フィルムもしくはシ
ート状であってもよく、又、上記電極形状の型窩を有す
る成形体であってもよい。上記電極面を被覆する固体誘
電体の厚さは、０．０５〜４ｍｍ程度が好ましい。上記
電極面に４ｍｍを超えて余り厚いと、グロー放電プラズ
マを発生させるのに高電圧を要し、０．０５ｍｍ未満の
余り薄い被覆であると電圧印加時に絶縁破壊が起こり易
く、アーク放電に移行するおそれがある。

【００５５】上記表面処理室容器は、図１に示されてい
るグロー放電プラズマ処理装置において、パイレックス
ガラス製の表面処理室側壁２、ステンレス鋼板製の表面
処理室天板３及び表面処理室底板４を主要構成部材とし
ているが、各構成部材が上記上部電極６及び下部電極７
等の電極と充分に絶縁がとれているならば、ステンレス
鋼やアルミニウム板等の導電性材料からなる構成部材で
あってもよい。

【００５６】図１に示されているグロー放電プラズマ処
理装置において、被処理プラスチックプレートＡは、下
部電極７の電極面を被覆する固体誘電体７１上に載置さ
れて、上部電極６から下部電極７に向けて流れるグロー
放電プラズマの照射を受けるので、被処理プラスチック
プレートＡの上部電極６に対向する表面のみがグロー放
電プラズマ処理される。

【００５７】上記被処理プラスチックプレートＡの表裏
両面をグロー放電プラズマ処理しようとする場合、再
度、被処理プラスチックプレートＡの裏面について同じ
操作を行ってもよいが、被処理プラスチックプレートＡ
を上記上部電極６と下部電極７の間に上記両電極と平行
に、且つ、上記両電極と被処理プラスチックプレートＡ
の間に処理用ガスが充分に接触し得る前記高さ１ｍｍ以
上の処理雰囲気を設ける必要がある。

【００５８】上記上部電極６と下部電極７間のグロー放
電プラズマ処理部に処理用ガスもしくは処理用ガス及び
不活性ガスを均一に供給するために、図１においては、
上部電極６を多孔構造とし、上部電極６の電極面を被覆
する固体誘電体６１を貫通する複数個の処理用ガス供給
口６２、６２、・・・を穿設し、ガス導入管８から供給
される処理用ガスを可及的均一に上記グロー放電プラズ
マ処理部に分散して供給し得る如くなされているが、ガ
ス攪拌装置等の付加設備を用い、上記グロー放電プラズ
マ処理部に供給する等適宜ガス攪拌手段を講ずるなら
ば、上部電極６を多孔構造とする必要はない。

【００５９】又、上記上部電極６と下部電極７間のグロ
ー放電プラズマ処理部に、ガス導入管９から供給される
処理用ガスを、ガス噴出リング１０の複数個のガス噴出
口１０１、１０１、・・・より噴出させ、上記上部電極
６の複数個の処理用ガス供給口６２、６２、・・・から
供給される処理用ガスと均一に混合して上記グロー放電
プラズマ処理部に供給し得る如くなされているが、上記
多孔構造とした上部電極６と同様に、適宜ガス攪拌手段
を講ずることによって、ガス噴出リング１０に置き換え
ることができる。

【００６０】上記処理用ガスもしくは処理用不活性ガス
は、図示していないが、ガス導入管８及び９並びにガス
排出口１１においてマスフローコントローラー等で流量
制御されている。

【００６１】請求項３記載の発明の帯電防止プラスチッ
クプレートの製造方法において、上記表面処理室容器内
は減圧されるが、図示していない減圧装置によって、排
気口１２より減圧される。

【００６２】上記のようにグロー放電プラズマ処理され
たプラスチックプレート上に、第２工程で得られた導電
層が積層されて、プラスチックフィルム／導電層／プラ
スチックプレート積層体が形成される。上記積層手段
は、特に限定されるものではないが、例えば、請求項１
記載の発明において用いられた積層方法等が有効に使用
できる。

【００６３】然る後、上記積層体の導電層表面からプラ
スチックフィルムが剥離されて帯電防止プラスチックプ
レートが製造される。

【００６４】請求項１〜３記載の本発明の帯電防止プラ
スチックプレートの製造方法は、叙上の如く構成されて
いるので、導電層がプラスチックプレート上に強固に積
層接着され、該導電層の表面硬度を大きく形成でき、且
つ、高い透明性を付与し得るものである。よって、得ら
れる帯電防止プラスチックプレートは、上記の如く高度
に帯電防止され、内部が透視でき、且つ、耐擦傷性の高
いものであるので、例えば、内部を透視しながら作業す
るクリーンベンチの如き半導体関連設備用に好適に用い
られる。

【００６５】

【発明の実施の形態】以下に実施例を掲げて、本発明の
実施の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実
施例のみに限定されるものではない。

【００６６】（実施例１）〔放射線硬化型導電性塗料の調製〕ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート（日本化薬社製、商品名「ＤＰ
ＨＡ」）１００重量部、導電性粉末（三菱マテリアル社
製、商品名「Ｔ−１」）３００重量部、ポリメチルメタ
クリレート（根上工業社製、商品名「ハイパールＨＰ
Ａ」）５０重量部、メチルエチルケトン２００重量部及
びシクロヘキサノン８００重量部をアトライターを用い
て８時間攪拌分散させて放射線硬化型導電性塗料Ａを調
製した。

【００６７】上記放射線硬化型導電性塗料Ａを厚さ２５
μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人社
製、商品名「テトロンフィルムＨＰ７」、以下、ＰＥＴ
フィルムと称する）上にバーコーターを用いて乾燥後の
膜厚が２μｍとなるように塗布し、乾燥して放射線硬化
型導電層を形成した（第１工程）。第１工程で得られた
放射線硬化性導電層にβ線（電子線）を５Ｍｒａｄ照射
して硬化させ、導電層を形成した（第２工程）。

【００６８】これとは別に、電極間距離３０ｍｍの図１
に示すような高周波容量結合型プラズマ処理装置を用
い、厚さ３ｍｍのアクリル樹脂プレートＡを上記電極６
及び７間に置き、装置内を１×１０^-3Ｔｏｒｒに減圧
し、次いで、装置内に酸素ガスをガス流量１０ｓｃｃｍ
で導入し、装置内を０．１Ｔｏｒｒに調節する。この状
態を維持しながら７０Ｗの電力を１分間印加してグロー
放電プラズマを照射してアクリル樹脂プレート表面を活
性化処理した（第３工程）。アクリル樹脂プレートの上
記表面処理面に硬化した導電層が接するように積層し、
温度１２０℃に加熱された圧着ロールにより４ｋｇ／ｃ
ｍ²の圧力で熱圧着して、アクリル樹脂プレート／導電
層／ＰＥＴフィルム積層体を作製し（第４工程）、最後
に上記積層体の導電層表面のＰＥＴフィルムを剥離して
（第５工程）、帯電防止透明アクリル樹脂プレートを作
製した。

【００６９】（実施例２）〔放射線硬化型導電性塗料の調製〕ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート（日本化薬社製、商品名「ＤＰ
ＨＡ」）１００重量部、導電性粉末（三井金属社製、商
品名「パストランＴｙｐｅ−ＩＶ」）３００重量部、ポ
リメチルメタクリレート（根上工業社製、商品名「ハイ
パールＨＰＡ」）５０重量部、メチルエチルケトン２０
０重量部及びシクロヘキサノン８００重量部をアトライ
ターを用いて８時間攪拌分散させて放射線硬化型導電性
塗料Ｂを調製した。実施例１の放射線硬化型導電性塗料
Ａに替えて、上記放射線硬化型導電性塗料Ｂを用いたこ
と以外、実施例１と同様にして帯電防止透明アクリル樹
脂プレートを作製した。

【００７０】（実施例３）〔放射線硬化型導電性塗料の調製〕ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート（日本化薬社製、商品名「ＤＰ
ＨＡ」）１００重量部、導電性粉末（アライドシグナル
社製、商品名「Ｖｅｒｓｉｃｏｎ」、アニリン重合体）
１５重量部、ポリメチルメタクリレート（根上工業社
製、商品名「ハイパールＨＰＡ」）５０重量部、メチル
エチルケトン８０重量部及びシクロヘキサノン３２０重
量部をアトライターを用いて８時間攪拌分散させて放射
線硬化型導電性塗料Ｃを調製した。実施例１の放射線硬
化型導電性塗料Ａに替えて、上記放射線硬化型導電性塗
料Ｃを用いたこと以外、実施例１と同様にして帯電防止
透明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００７１】（実施例４）グロー放電プラズマ照射処理
条件を、ヘリウムをガス流量１０ｓｃｃｍ、四フッ化炭
素をガス流量２０ｓｃｃｍで導入し、装置内を１Ｔｏｒ
ｒに調節し、１００Ｗの電力を１分間印加したこと以
外、実施例１と同様にして帯電防止透明アクリル樹脂プ
レートを作製した。

【００７２】（実施例５）実施例４の放射線硬化型導電
性塗料Ａに替えて、実施例２の放射線硬化型導電性塗料
Ｂを用いたこと以外、実施例４と同様にして帯電防止透
明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００７３】（実施例６）実施例４の放射線硬化型導電
性塗料Ａに替えて、実施例３の放射線硬化型導電性塗料
Ｃを用いたこと以外、実施例４と同様にして帯電防止透
明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００７４】（実施例７）図１に示すような高周波容量
結合型プラズマ処理装置におけるグロー放電プラズマ発
生装置の電極間距離を７ｍｍとし、該電極間空間に厚さ
２ｍｍ、直径１２０ｍｍのＴｉＯ₂焼結体円板７１を装
着した下部電極上に厚さ３ｍｍの透明アクリル樹脂プレ
ートＡを置き、装置内を１Ｔｏｒｒになるまで油回転ポ
ンプで排気し、次いで、ヘリウムガスをガス流量５００
ｓｃｃｍをガス導入管９から装置内に導入し、装置内を
７５７Ｔｏｒｒに調節し、この状態で電極に、１５ｋＨ
ｚ、３．１ｋＶの電圧を１５秒間印加してグロー放電プ
ラズマ照射処理したこと以外、実施例１と同様にして帯
電防止透明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００７５】（実施例８）実施例７の放射線硬化型導電
性塗料Ａに替えて、実施例２の放射線硬化型導電性塗料
Ｂを用いたこと以外、実施例７と同様にして帯電防止透
明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００７６】（実施例９）実施例７の熱硬化型導電性塗
料Ａに替えて、実施例３の熱硬化型導電性塗料Ｃを用い
たこと以外、実施例７と同様にして帯電防止透明アクリ
ル樹脂プレートを作製した。

【００７７】（実施例１０）グロー放電プラズマ発生装
置の電極間距離を５ｍｍとし、該電極間空間に厚さ２ｍ
ｍ、１２０ｍｍ×１２０ｍｍの石英ガラス板７１を装着
した下部電極上に厚さ３ｍｍ、１００ｍｍ×１００ｍｍ
の被処理アクリル樹脂プレートＡを置き、装置内を１Ｔ
ｏｒｒになるまで油回転ポンプで排気し、次いで、酸素
ガスを流量１５ｓｃｃｍで多孔構造６２、６２、・・・
の上部電極６から導入し、又、ヘリウムガスをガス流量
９８５ｓｃｃｍでカス導入管９よりパイレックスガラス
製のガス噴出リング１０を経て導入して装置内を７５７
Ｔｏｒｒに調節し、この状態で電極に、１５ｋＨｚ、
４．１ｋＶの電圧を１５秒間印加してグロー放電プラズ
マ照射処理したこと以外、実施例１と同様にして帯電防
止透明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００７８】（実施例１１）実施例１０の放射線硬化型
導電性塗料Ａに替えて、実施例２の放射線硬化型導電性
塗料Ｂを用いたこと以外、実施例１０と同様にして帯電
防止透明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００７９】（実施例１２）実施例１０の放射線硬化型
導電性塗料Ａに替えて、実施例３の放射線硬化型導電性
塗料Ｃを用いたこと以外、実施例１０と同様にして帯電
防止透明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００８０】（比較例１）グロー放電プラズマ照射処理
を行わなかったこと以外、実施例１と同様にして帯電防
止透明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００８１】（比較例２）比較例１の放射線硬化型導電
性塗料Ａに替えて、実施例２の放射線硬化型導電性塗料
Ｂを用いたこと以外、比較例１と同様にして帯電防止透
明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００８２】（比較例３）比較例１の放射線硬化型導電
性塗料Ａに替えて、実施例３の放射線硬化型導電性塗料
Ｃを用いたこと以外、比較例１と同様にして帯電防止透
明アクリル樹脂プレートを作製した。

【００８３】上記実施例及び比較例で得られた帯電防止
プラスチックプレートの性能を評価するため、以下に示
す試験項目について、以下に示す方法で試験した。試験
結果は表１に示す。（試験項目及び試験方法）１．表面固有抵抗：ＡＳＴＭＤ２５７に準拠して、帯
電防止プラスチックプレートの導電層の表面固有抵抗
（Ω／□）を測定した。尚、測定温度及び湿度は、２３
℃、５０％ＲＨであった。

【００８４】２．全光線透過率：ＡＳＴＭＤ１００３
に準拠して、帯電防止プラスチックプレートの全光線透
過率を測定した。

【００８５】３．ヘーズ（％）：ＡＳＴＭＤ１００３
に準拠して、帯電防止プラスチックプレートのヘーズ
（Ｈａｚｅ）を測定した。

【００８６】４．密着性：帯電防止プラスチックプレー
トの導電層の密着性を碁盤目テストにより評価した。碁
盤目テストは、帯電防止プラスチックプレートの導電層
に１ｍｍ角の切れ目を縦横方向に入れて１００個の碁盤
目を作製し、積水化学工業社製、商品名「セキスイセロ
ハン粘着テープＮｏ．２５２」を常法に従い上記碁盤目
に貼付し、これを引き剥がして行った。テスト結果は、
１００個の碁盤目（分母）の内、剥がれなかった個数を
分子に表示した。

【００８７】５．接触角：グロー放電プラズマ処理され
たプラスチックプレート及び比較例のこれに相当する段
階のプラスチックプレートの性能を評価するため、接触
角の測定を行った。測定方法は以下の通りである。被測
定表面に直径２ｍｍφの水滴を１ｃｍ間隔で滴下し、協
和界面科学社製の接触角測定装置（商品名「ＣＡ−
Ｄ」）を用いて静的接触角を測定した。

【００８８】

【表１】

【００８９】実施例１〜１２で得られた帯電防止透明ア
クリル樹脂プレートは、表面固有抵抗、全光線透過率及
び表面硬度のいずれも優れた性能を示し、且つ、導電層
が透明アクリル樹脂プレート上に該透明アクリル樹脂プ
レートを熱変形などのトラブルなく強固に接着している
ことを示している。比較例１〜３で得られた帯電防止透
明アクリル樹脂プレートは、導電層と透明アクリル樹脂
プレートの接着力は弱く、碁盤目テストによって導電層
は殆ど剥離されてしまったことを示している。導電層と
透明アクリル樹脂プレートの上記接着力は、接触角の測
定結果が示すようにグロー放電プラズマ処理が大いに寄
与していることを示唆している。

【００９０】

【発明の効果】本発明の帯電防止プラスチックプレート
の製造方法は、叙上の如く構成されているので、導電層
がプラスチックプレート上に強固に積層接着され、該導
電層の表面硬度を大きく形成でき、且つ、高い透明性を
付与し得るものである。よって、得られる帯電防止プラ
スチックプレートは、上記の如く高度に帯電防止され、
内部が透視でき、且つ、耐擦傷性の高いものであるの
で、例えば、内部を透視しながら作業するクリーンベン
チの如き半導体関連設備用に好適に用いられる。

【００９１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の帯電防止プラスチックプレートの製造
方法を実施するための装置の一例を示す一部切欠断面図
である。

【符号の説明】

１電源部２表面処理室側壁（パイレックスガラス製）３表面処理室天板（ステンレス鋼板製）４表面処理室底板（ステンレス鋼板製）５表面処理部６上部電極７下部電極６１、７１固体誘電体６２ガス供給口８、９ガス導入管１０ガス噴出リング（パイレックスガラス製）１０１ガス噴出口１１ガス排出口１２排気口１３絶縁体Ａ被処理プラスチックプレート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｂ 1/20 Ｈ０１Ｂ 1/20 Ｂ // Ｂ２９Ｌ 9:00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】不活性ガスを主体とする処理ガス雰囲気
もしくは圧力１×１０^-4〜１００Ｔｏｒｒの処理ガス雰
囲気でプラスチックプレートの表面をグロー放電プラズ
マ処理し、該グロー放電プラズマ処理面に、熱硬化型も
しくは放射線硬化型導電性塗料を塗布・乾燥・硬化され
て形成された導電層を重ね合わせて積層することを特徴
とする帯電防止プラスチックプレートの製造方法。
【請求項２】上記処理ガスが、酸素含有ガス、窒素含
有ガス及びフッ素含有ガスの群から選ばれたガスであ
り、上記不活性ガスが、ヘリウム、ネオン、アルゴン、
クリプトン、キセノン及びラドンの群から選ばれた希ガ
スであることを特徴とする請求項１記載の帯電防止プラ
スチックプレートの製造方法。
【請求項３】上記グロー放電プラズマ処理が、少なく
とも一方の電極面に固体状誘電体が被覆されている一対
の対向する金属電極間に電圧を印加して発生するグロー
放電プラズマをプラスチックプレートの表面に被曝させ
て行われることを特徴とする請求項１記載の帯電防止プ
ラスチックプレートの製造方法。