JPH0992726A - Wiring method for semiconductor device - Google Patents

Wiring method for semiconductor device

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JPH0992726A
JPH0992726A JP7250601A JP25060195A JPH0992726A JP H0992726 A JPH0992726 A JP H0992726A JP 7250601 A JP7250601 A JP 7250601A JP 25060195 A JP25060195 A JP 25060195A JP H0992726 A JPH0992726 A JP H0992726A
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signal
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Rie Nishimura
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress delay of signals by enlarging the interval between a clock wiring or a critical wiring and other wiring automatically when the wiring pattern of a gate array or a standard cell is determined, based on a net list. SOLUTION: A net of a clock signal or a critical path is searched for based on a net list (Step 105), a flag is affixed to a net thus obtained (Step 106), a flagged net is wired with a large width and the unflagged net is wired with normal width (Step 109) and then the wiring (wide wiring) of the flagged net is made thin (Step 112).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ゲートアレイやス
タンダードセルなどの論理集積回路の設計方法に関し、
特に、与えられたネットリストから各ネットの配線パタ
ーンを決定する半導体装置の配線方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for designing a logic integrated circuit such as a gate array or standard cell,
In particular, the present invention relates to a wiring method of a semiconductor device for determining a wiring pattern of each net from a given net list.

【0002】[0002]

【従来の技術】ゲートアレイなどのマスタスライス型集
積回路やスタンダードセルなどの、いわゆるセミカスタ
ム型の半導体論理集積回路では、論理合成シミュレータ
などから出力されたネットリストに基づき自動配置配線
ツールを用いることによって、各セル間の配線パターン
が決定される。近年、ゲートアレイやスタンダードセル
におけるゲート数やセル数が増大し、配線パターンが微
細化してきており、配線パターンの微細化に伴って配線
間の寄生容量(ストレーキャパシタンス)も増大し、こ
のために生じる信号遅延は高速動作をさせるときには無
視できなくなってきている。
2. Description of the Related Art In a so-called semi-custom type semiconductor logic integrated circuit such as a master slice type integrated circuit such as a gate array or a standard cell, an automatic placement and routing tool should be used based on a netlist output from a logic synthesis simulator or the like. Thus, the wiring pattern between the cells is determined. In recent years, the number of gates and cells in a gate array and standard cells has increased, and wiring patterns have become finer. As the wiring patterns become finer, parasitic capacitance (stray capacitance) between wirings also increases. The resulting signal delay cannot be ignored when operating at high speed.

【0003】特開平4−207071号公報には、同一
幅の信号配線パターンがほぼ等間隔で複数本配設された
ゲートアレイ方式の集積回路を改良し、クロック信号配
線とこのクロック信号配線に隣接する信号配線との配線
間隔を他の部分の2倍以上とすることにより、クロック
信号配線と隣接する配線との間の容量を減少させて配線
容量を低減し、クロック信号の遅延を抑制する技術が開
示されている。この技術によれば、クロック信号配線の
位置によって生じる信号伝達時間のばらつきが抑えら
れ、タイミング設計が容易になる。
Japanese Laid-Open Patent Publication No. 4-207071 discloses an improved gate array type integrated circuit in which a plurality of signal wiring patterns having the same width are arranged at substantially equal intervals, and the clock signal wiring and the adjacent clock signal wiring are provided. A technique for reducing the capacitance between the clock signal wiring and the adjacent wiring to reduce the wiring capacitance by suppressing the delay of the clock signal by making the wiring interval between the wiring and the signal wiring to be twice or more that of the other portion. Is disclosed. According to this technique, the variation in signal transmission time caused by the position of the clock signal wiring is suppressed, and the timing design is facilitated.

【0004】図7は特開平4−207071号公報の自
動配線技術によって決定された配線レイアウトの例を示
す平面図である。ここでは2層の配線が行われており、
図示左右方向に延びる配線パターンが1層目であり、図
示上下方向に延びる配線パターンが2層目である。そし
て、1層目の配線31と2層目の配線41,42がスル
ーホール51,52を介して接続し、一続きのクロック
信号配線を形成している。そして、クロック以外の一般
の信号のために1層目には配線32〜34が設けられ、
2層目には配線43〜47が設けられている。このうち
配線32と配線44とはスルーホール53を介して接続
している。図示3A〜3Eは、自動配線プログラムがク
ロック信号配線を考慮して1層目の信号配線を配設する
ためのチャネルであり、図示4A〜4Hは同様にクロッ
ク信号配線を考慮して2層目の信号配線を配設するため
のチャネルである。1層目においてクロック信号の配線
31の両側には一般の信号の配線33,34が配置して
おり、配線31と配線33の配線間隔d4と、配線31
と配線34の間隔d5とは相互に等しくなっている。さ
らにこれらの配線間隔d4,d5は、一般の信号のため
の隣接する2配線(例えば配線32,33)の配線間隔
d6の2倍となっている。同様に、2層目において、ク
ロック信号の配線41とその両側の通常の信号の配線4
3,44との配線間隔L4,L5、クロック信号の配線4
2とその両側の通常の信号の配線45,46との配線間
隔L6,L7は、それぞれ、通常の信号の配線間の配線
間隔L8の2倍となっている。
FIG. 7 is a plan view showing an example of a wiring layout determined by the automatic wiring technique disclosed in JP-A-4-207071. There are two layers of wiring here,
The wiring pattern extending in the horizontal direction in the drawing is the first layer, and the wiring pattern extending in the vertical direction in the drawing is the second layer. The first-layer wiring 31 and the second-layer wirings 41 and 42 are connected through the through holes 51 and 52 to form a series of clock signal wirings. Wirings 32 to 34 are provided in the first layer for general signals other than clocks,
Wirings 43 to 47 are provided on the second layer. Of these, the wiring 32 and the wiring 44 are connected via a through hole 53. 3A to 3E are channels for the automatic wiring program to arrange the signal wiring of the first layer in consideration of the clock signal wiring, and FIGS. 4A to 4H are the second layer in the same manner in consideration of the clock signal wiring. This is a channel for arranging the signal wiring of. In the first layer, general signal wirings 33 and 34 are arranged on both sides of the clock signal wiring 31, and the wiring distance d4 between the wirings 31 and 33 and the wiring 31
And the distance d5 between the wirings 34 are equal to each other. Further, the wiring distances d4 and d5 are twice the wiring distance d6 between two adjacent wirings (for example, the wirings 32 and 33) for general signals. Similarly, in the second layer, the clock signal wiring 41 and the normal signal wiring 4 on both sides thereof are provided.
Wiring intervals L4 and L5 with 3,44, and clock signal wiring 4
The wiring distances L6 and L7 between the wiring 2 and the normal signal wirings 45 and 46 on both sides thereof are each twice the wiring distance L8 between the normal signal wirings.

【0005】このように、特開平4−207071号公
報に開示された技術では、通常の信号の配線の幅と間隔
は、それぞれ、微細加工技術によって決定される最小配
線幅、最小配線間隔とし、クロック信号配線は、隣接す
る配線に対して予め指定した配線間隔(最小配線間隔よ
り大きい)を満足するように配設する。このようにし
て、クロック信号配線に付随する隣接配線間容量を減少
させ、クロック信号の遅延と波形のなまりとを防止して
いる。
As described above, in the technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 207071/1992, the width and interval of the normal signal wiring are the minimum wiring width and the minimum wiring interval determined by the fine processing technique, respectively, The clock signal wirings are arranged so as to satisfy a wiring distance (larger than the minimum wiring distance) designated in advance with respect to the adjacent wirings. In this way, the capacitance between adjacent wirings associated with the clock signal wiring is reduced, and the delay of the clock signal and the blunting of the waveform are prevented.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開平4−207071号公報には、クロック信号配線
と他の配線との配線間隔を通常の2倍以上に広げるとい
う考え方は示されているが、実際の自動配線の際にどの
ようにして配線間隔を広げるかについてまでは言及され
ていない。ゲートアレイやスタンダードセルに従来より
適用されている自動レイアウト技術は、微細加工技術上
の観点から予め決定されている配線間隔で配線格子を設
け、この配線格子を用いて無差別に配線を行うためもの
であるため、このままでは選択的に配線間隔が広げられ
たレイアウトを自動的に生成することを簡単に実現する
ことができない。
However, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-207071 discloses the idea of increasing the wiring interval between the clock signal wiring and the other wirings to at least twice the normal spacing. No mention is made of how to increase the wiring interval in the actual automatic wiring. The automatic layout technology that has been conventionally applied to gate arrays and standard cells provides wiring grids at wiring intervals that are predetermined from the viewpoint of microfabrication technology, and uses this wiring grid to perform wiring indiscriminately. Therefore, it is not possible to easily realize the automatic generation of the layout in which the wiring interval is widened as it is.

【0007】また、上述の例ではクロック信号配線に関
してのみ配線間隔を広げて寄生容量を減らしているが、
通常の信号の配線の中にも信号の遅延に対する条件が厳
しいものいわゆるクリティカルパスが存在するので、ク
リティカルパスについても配線間隔を自動的に広げられ
るようにすることが望まれる。
In the above example, the wiring space is widened only for the clock signal wiring to reduce the parasitic capacitance.
Since there is a so-called critical path in which the conditions for signal delay are severe even in normal signal wiring, it is desirable to be able to automatically widen the wiring interval even for the critical path.

【0008】本発明の目的は、配線パターンの自動レイ
アウト時にクロック配線やクリティカルパスに関して隣
接配線との配線間隔を広げることができる具体的な配線
方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a specific wiring method capable of widening a wiring interval between adjacent wirings with respect to clock wirings and critical paths during automatic layout of wiring patterns.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の製
造方法は、回路のネットリストに基づいて各ネットの配
線パターンを決定する半導体装置の配線方法であって、
前記ネットリストに基づいて、信号伝達を遅延させたく
ない信号が伝わるネットを探索する第1のステップと、
前記第1のステップで探索されたネットに対してフラグ
を付加する第2のステップと、前記フラグが付加された
ネットの配線とそれに隣接する配線との配線間隔が通常
の配線相互の配線間隔よりも大きくなるように、前記各
ネットの配線のレイアウトを行う第3のステップと、を
有する。
A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention is a method of wiring a semiconductor device, which determines a wiring pattern of each net based on a net list of a circuit.
A first step of searching for a net carrying a signal which the user does not want to delay signal transmission based on the net list;
The second step of adding a flag to the net searched in the first step, and the wiring distance between the wiring of the net to which the flag is added and the wiring adjacent to the net is smaller than the wiring distance between normal wirings. The third step of laying out the wiring of each net so that

【0010】第3のステップとしては、具体的には、
フラグが付加されたネットの配線を太幅として各ネット
の配線のレイアウトを行い、フラグが付加されたネット
の配線の少なくとも周囲の配線のレイアウトが終了した
時点で、太幅でレイアウトされた配線を任意の幅に細線
化するステップを用いたり、フラグが付加されたネッ
トの配線を挟むように平行にダミー配線が伴った状態で
前記フラグが付加されたネットの配線をレイアウトし、
その他のネットの配線をレイアウトし、フラグが付加さ
れたネットの配線及びダミー配線の少なくとも周囲の配
線のレイアウトが終了した時点で、ダミー配線を取り外
すステップを用いたり、あるいは、フラグが付加され
たネットの配線の周囲に隣接禁止領域を自動発生させな
がらフラグが付加されたネットの配線を他のネットの配
線よりも優先してレイアウトし、各ネットの配線のレイ
アウトを完了させるステップを用いたりすることができ
る。
As the third step, specifically,
The layout of the wiring of each net is performed with the wiring of the flag added net as a thick width, and the layout of the thick width is performed at least when the layout of the wiring around the net of the flag is completed. Using the step of thinning to an arbitrary width, or laying out the wiring of the flag-added net in parallel with dummy wiring so as to sandwich the wiring of the flag-added net,
After laying out the wiring of other nets and finishing the layout of at least the wiring of the net to which the flag is added and the wiring of the dummy wiring, the step of removing the dummy wiring is used, or the net to which the flag is added is used. Using the step of laying out the wiring of the net to which the flag is added while giving priority to the wiring of other nets while automatically generating the adjoining prohibited area around the wiring of each net, and completing the layout of the wiring of each net. You can

【0011】本発明において、信号伝達を遅延させたく
ない信号としては例えばクロック信号が挙げられ、この
場合には、第1のステップにおいてクロックツリー手法
を用いることによって、クロック信号の伝わるネットを
探索することができる。あるいは、信号伝達を遅延させ
たくない信号のネットとして、クリティカルパスを探索
するようにしてもよい。
In the present invention, a signal which is not desired to delay the signal transmission is, for example, a clock signal. In this case, the clock tree method is used in the first step to search for a net through which the clock signal is transmitted. be able to. Alternatively, the critical path may be searched for as a net of signals that the signal transmission is not desired to be delayed.

【0012】本発明では、信号伝達を信号を遅延させた
くない信号のネット、例えばクロック配線やクリティカ
ルパスのネットを探索してフラグを付加し、各ネットの
配線のレイアウトを行う場合に、フラグが付加されたネ
ット(フラグ付きネット)の配線と他の配線との配線間
隔が通常配線相互の配線間隔よりも広がるようにしてい
るので、クロック配線やクリティカルパスの配線と隣接
する配線との間の寄生容量が減少し、クロックやクリテ
ィカルパスを通過する信号の遅延が低減する。また、こ
のレイアウト処理は自動配置配線ツールなどで自動的に
行われる。
According to the present invention, when a signal net whose signal transmission is not desired to be delayed is searched for, for example, a clock wiring or a critical path net is added with a flag and the wiring of each net is laid out, the flag is set. Since the wiring interval between the added net (flagged net) and other wiring is set to be wider than the normal wiring mutual wiring, the wiring between clock wiring and critical path wiring and adjacent wiring The parasitic capacitance is reduced, and the delay of the signal passing through the clock and the critical path is reduced. Further, this layout process is automatically performed by an automatic placement and routing tool or the like.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0014】《第1の実施の形態》図1は本発明の第1
の実施の形態での半導体装置の配線方法の手順を示すフ
ローチャートである。ここでは、ネットリストからクロ
ック配線のネットを探索してクロック配線と隣接する配
線との配線間隔を広げて自動レイアウトを実行する。も
ちろん、クロック配線だけでなくクリティカルパスと隣
接する配線との配線間隔を広げることにも応用できる。
<< First Embodiment >> FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
5 is a flowchart showing the procedure of the wiring method of the semiconductor device in the embodiment. Here, the net of the clock wiring is searched from the net list, and the wiring interval between the clock wiring and the adjacent wiring is widened to execute the automatic layout. Of course, it can be applied not only to the clock wiring but also to widening the wiring interval between the critical path and the adjacent wiring.

【0015】まず、論理合成シミュレータなどを用いて
トップダウン手法で回路設計、タイミング設計を行い、
回路のネットリストを生成する。そして、このネットリ
ストの解析を行い(ステップ101)、自動配置配線ツ
ールを用いてトランジスタ素子部の配置を行う(ステッ
プ102)。続いて、クロックツリー手法を用いてフリ
ップフロップのクラスタを形成し(ステップ103)、
クロックの最適分配のためにクロックツリー用のバッフ
ァを挿入する(ステップ104)。このとき、バッファ
を挿入したために、ネットリストは更新され、クロック
ツリー用のバッファ名、新ネット名が追加されている。
そして、クロックの伝わるネット(クロック配線)を更
新後のネットリストから探索し(ステップ105)、探
索されたネットにフラグを付加し(ステップ106)、
自動配置配線ツールにこれらの配線情報を引き渡す。バ
ックアノテーション後にレイアウトを行う場合であれ
ば、ステップ105においてバックアノテーション結果
に基づいてクリティカルパスを抽出し、ステップ106
においては抽出されたクリティカルパスにフラグを付加
するようにしてもよい。クロック配線とクリティカルパ
スの両方にフラグを付加してもよい。なお、クリティカ
ルパスは、例えば、所与の遅延時間条件を満たさなかっ
たパスを探索することによって抽出される。
First, a circuit design and a timing design are performed by a top-down method using a logic synthesis simulator,
Generate a circuit netlist. Then, the netlist is analyzed (step 101), and the transistor element portion is arranged using the automatic placement and routing tool (step 102). Subsequently, a cluster of flip-flops is formed using the clock tree method (step 103),
Insert a clock tree buffer for optimal clock distribution (step 104). At this time, since the buffer is inserted, the net list is updated, and the buffer name for the clock tree and the new net name are added.
Then, the net through which the clock is transmitted (clock wiring) is searched from the updated net list (step 105), and a flag is added to the searched net (step 106).
Pass these wiring information to the automatic place and route tool. If the layout is performed after the back annotation, the critical path is extracted based on the back annotation result in step 105, and step 106 is executed.
In the above, a flag may be added to the extracted critical path. A flag may be added to both the clock wiring and the critical path. The critical path is extracted, for example, by searching for a path that does not satisfy the given delay time condition.

【0016】自動配置配線ツールでは、まず、引き渡さ
れた配線情報からフラグ付きネットが検出される(ステ
ップ107)。そして、検出されたネットを太幅でレイ
アウトするための配線幅入力を行い(ステップ10
8)、フラグ付きネットはこの太幅で、フラグなしネッ
トは通常幅でレイアウトする(ステップ109)。そし
て、全配線のレイアウトが完了したかを判定し(ステッ
プ110)、完了していない場合にはステップ109を
繰返し実行し、完了している場合には、太幅でレイアウ
トを行った配線を微細加工技術の制約内において任意の
幅に細くするための細らせ幅の入力を行い(ステップ1
11)、その後、太幅でレイアウトを行った配線(クロ
ック配線など)をこの細らせ幅にまで細線化する(ステ
ップ112)。
In the automatic placement and routing tool, first, a flagged net is detected from the delivered wiring information (step 107). Then, the wiring width is input to lay out the detected net with a wide width (step 10).
8) The flagged nets are laid out in this wide width, and the non-flagged nets are laid out in the normal width (step 109). Then, it is determined whether the layout of all wirings is completed (step 110). If not completed, step 109 is repeatedly executed. If completed, the wirings laid out with a wide width are finely divided. Input the narrowing width to narrow it to the desired width within the constraints of the processing technology (Step 1
11) After that, the wiring (clock wiring or the like) laid out with a thick width is thinned to a thin width (step 112).

【0017】図2は、このようにして配線を行った場合
のレイアウトの例である。ここでは2層の配線が行われ
ており、図示左右方向に延びる配線パターンが1層目で
あり、図示上下方向に延びる配線パターンが2層目であ
る。1層目には配線10〜14が配置され、2層目には
配線20〜29が配置されている。これらの配線のう
ち、配線21と配線11と配線29とが接続してクロッ
ク配線を構成しており、他の配線は一般の信号の伝達に
使用されている。図示正方形「□」は、そこでスルーな
どを介してホール1層目の配線と2層目の配線が接続し
ていることを示している。図示1A〜1Dは、自動配線
プログラムがクロック信号配線を考慮して1層目の信号
配線を配設するためのチャネルであり、図示2A〜2H
は同様にクロック信号配線を考慮して2層目の信号配線
を配設するためのチャネルである。
FIG. 2 shows an example of the layout when wiring is performed in this way. Here, two layers of wiring are provided, the wiring pattern extending in the horizontal direction in the drawing is the first layer, and the wiring pattern extending in the vertical direction in the drawing is the second layer. The wirings 10 to 14 are arranged on the first layer, and the wirings 20 to 29 are arranged on the second layer. Of these wirings, the wiring 21, the wiring 11, and the wiring 29 are connected to form a clock wiring, and the other wirings are used for general signal transmission. The square “□” in the drawing indicates that the wiring of the first layer of the hole and the wiring of the second layer are connected therethrough through. 1A to 1D are channels for the automatic wiring program to arrange the signal wiring of the first layer in consideration of the clock signal wiring, and 2A to 2H in the drawings.
Is a channel for similarly arranging the second-layer signal wiring in consideration of the clock signal wiring.

【0018】本実施の形態では、配線21,11,29が
フラグ付きネットに対応し、その他の配線10,12〜
14,20,22〜28がフラグなしネットに対応する。
そこでまず、このフラグ付きネットを3格子にまたがる
太幅配線A(図示点線)としていったん自動配置配線ツ
ールに認識させておき、この状態で各ネットの配線のレ
イアウトを行う。したがって、太幅配線Aと通常幅であ
る配線10,12〜14,20,22〜28とが混在する
ことになる。このとき、1層目において、通常幅の配線
どうしの配線間隔d1と通常幅の配線と太幅配線Aの配
線間隔d2とが等しくなり、2層目において、通常幅の
配線どうしの配線間隔L3と通常幅の配線と太幅配線A
の配線間隔L2とが等しくなる。これらの配線間隔d
1,d2,L2,L3は、いずれも、微細加工技術上の条
件から一律に決定される間隔である。続いて、太幅配線
Aを通常の配線幅にまで細らすと、図示するように一続
きの配線21,11,29が、その両側の1格子分だけ配
線が抜けた状態で、通常の配線幅で配置される。1層目
において、フラグ付きネットの配線11と一般の信号用
の配線14との配線間隔d3は通常配線間の配線間隔d
1の2倍以上となっており、また、2層目において、フ
ラグ付きネットの配線21と一般の信号用の配線20と
の配線間隔L1は通常配線間の配線間隔L3の2倍以上
となっている。これによって、クロック配線(配線2
1,11,29)を伝わるクロックの遅延が抑えられる。
In the present embodiment, the wirings 21, 11, 29 correspond to the flagged net, and the other wirings 10, 12-
14, 20, 22 to 28 correspond to nets without flags.
Therefore, first, the automatic net placement and routing tool recognizes the flagged net as a thick wiring A (dotted line in the figure) that extends over three grids, and in this state the wiring of each net is laid out. Therefore, the wide wiring A and the wirings 10, 12 to 14, 20, 22 to 28 having the normal width are mixed. At this time, in the first layer, the wiring interval d1 between the normal-width wirings and the wiring interval d2 between the normal-width wirings and the wide-width wiring A become equal, and in the second layer, the wiring interval L3 between the normal-width wirings. And normal width wiring and thick wiring A
The wiring interval L2 is equal to. These wiring intervals d
All 1, d2, L2, and L3 are intervals that are uniformly determined from the conditions in the microfabrication technology. Then, when the thick wiring A is thinned to a normal wiring width, as shown in the drawing, the continuous wirings 21, 11, and 29 are removed in the normal wiring state with one wiring on both sides thereof removed. Arranged according to the wiring width. In the first layer, the wiring distance d3 between the wiring 11 of the flagged net and the general signal wiring 14 is the wiring distance d between the normal wirings.
1 or more, and the wiring distance L1 between the wiring 21 of the flagged net and the general signal wiring 20 in the second layer is twice or more than the wiring distance L3 between the normal wirings. ing. This allows clock wiring (wiring 2
The delay of the clock transmitted through (1, 11, 29) is suppressed.

【0019】《第2の実施の形態》図3は本発明の第2
の実施の形態での半導体装置の配線方法の手順を示すフ
ローチャートである。この実施の形態では、クロック配
線やクリティカルパスの両側にダミー配線が設けられる
ようにしてレイアウトを行い、レイアウト終了後にダミ
ー配線を取り払うことによって、クロック配線やクリテ
ィカルパスと通常の配線との間隔が広げられた配線レイ
アウトが得られる。
<< Second Embodiment >> FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention.
5 is a flowchart showing the procedure of the wiring method of the semiconductor device in the embodiment. In this embodiment, the layout is performed so that the dummy wirings are provided on both sides of the clock wiring or the critical path, and the dummy wirings are removed after the layout is completed, so that the distance between the clock wiring or the critical path and the normal wiring is widened. The obtained wiring layout is obtained.

【0020】まず、上述の第1の実施の形態のステップ
101〜107と同じ手順によってステップ201〜2
07を実行し、フラグ付きネットの検出までを行う。そ
して、フラグ付きネットの両側にそれぞれ配置すべきダ
ミー配線の本数を入力する(ステップ208)。続い
て、フラグ付きネットとダミー配線とフラグなしネット
とを通常幅でレイアウトする(ステップ209)。この
際、フラグ付きネットを配置する各層ごとに、フラグ付
きネットが常に両側からダミー配線で挟まれ、かつフラ
グ付きネットとダミー配線との間には他のダミー配線以
外の配線が介在しないように、フラグ付きネットとダミ
ー配線を配置する。フラグ付き配線の各側に配置される
ダミー配線の本数はステップ208で入力された本数で
ある。ダミー配線とフラグ付きネットの配線との配線間
隔や、ダミー配線とそれに隣接する通常配線との配線間
隔は、通常配線相互の配線間隔と同一である。そして、
全配線のレイアウトが完了したかを判定し(ステップ2
10)、完了していない場合にはステップ209を繰返
し実行し、完了している場合には、ダミー配線のみを削
除する(ステップ211)。
First, steps 201 and 202 are performed by the same procedure as steps 101 to 107 of the above-described first embodiment.
07 is executed and detection of a flagged net is performed. Then, the number of dummy wirings to be arranged on both sides of the flagged net is input (step 208). Subsequently, the flagged net, the dummy wiring, and the non-flagged net are laid out in the normal width (step 209). At this time, for each layer in which the flagged nets are arranged, the flagged nets are always sandwiched by dummy wirings from both sides, and no wiring other than the dummy wirings is interposed between the flagged nets and the dummy wirings. Place flagged nets and dummy wiring. The number of dummy wirings arranged on each side of the flagged wiring is the number input in step 208. The wiring distance between the dummy wiring and the wiring of the flagged net, and the wiring distance between the dummy wiring and the normal wiring adjacent thereto are the same as the wiring distance between the normal wirings. And
It is judged whether the layout of all wiring is completed (Step 2
10) If not completed, step 209 is repeated, and if completed, only dummy wiring is deleted (step 211).

【0021】図4は、このようにして配線を行った場合
のレイアウトの例であり、ここでは図2の場合と同様に
2層の配線が行われている。また、フラグ付きネットの
配線の各側に配置されるダミー配線の本数は、それぞれ
1本としている。図2に示す例と異なるのは、フラグ付
きネットの配線21,11,29とこれに対して挟むよう
に平行に設けられる1対のダミー配線B,Cとからなる
3本の配線の束を自動配置配線ツールが認識し、この状
態でレイアウトを行って3本の配線の束を太幅領域の代
りに配置し、その後、ダミー配線B,Cが取り除かれる
点である。1層目におけるダミー配線と通常配線の配線
間隔d2は通常配線相互の配線間隔d1と等しく、これ
によって、ダミー配線除去後のフラグ付きネットの配線
と通常の配線との配線間隔d3は、通常の配線間隔d1
の2倍以上となっている。同様に、2層目におけるダミ
ー配線と通常配線の配線間隔L2は通常配線相互の配線
間隔L3と等しく、ダミー配線除去後のフラグ付きネッ
トの配線と通常の配線との配線間隔L1は、通常の配線
間隔L3の2倍以上となっている。結局、図4に示され
るように、第2の実施の形態によっても第1の実施の形
態(図2参照)と同様の配線レイアウトが得られたこと
になる。
FIG. 4 shows an example of a layout in which wiring is performed in this manner. Here, two layers of wiring are provided as in the case of FIG. The number of dummy wirings arranged on each side of the wiring of the flagged net is one. The difference from the example shown in FIG. 2 is that a bundle of three wirings consisting of wirings 21, 11 and 29 of a flagged net and a pair of dummy wirings B and C provided in parallel so as to sandwich the wirings are provided. The point is that the automatic placement and routing tool recognizes and lays out in this state to place a bundle of three wirings in place of the wide area, and then the dummy wirings B and C are removed. The wiring distance d2 between the dummy wiring and the normal wiring in the first layer is equal to the wiring distance d1 between the normal wirings. Therefore, the wiring distance d3 between the wiring of the flagged net and the normal wiring after the dummy wiring is removed is the normal wiring distance d3. Wiring interval d1
It is more than twice that. Similarly, the wiring distance L2 between the dummy wiring and the normal wiring in the second layer is equal to the wiring distance L3 between the normal wirings, and the wiring distance L1 between the flagged net wiring after the dummy wiring is removed and the normal wiring is the normal wiring distance L1. It is more than twice the wiring interval L3. After all, as shown in FIG. 4, the wiring layout similar to that of the first embodiment (see FIG. 2) is obtained by the second embodiment.

【0022】《第3の実施の形態》図5は本発明の第3
の実施の形態での半導体装置の配線方法の手順を示すフ
ローチャートである。この実施の形態では、クロック配
線やクリティカルパスの配線のレイアウトに際しこれら
の配線の周囲に隣接禁止領域を自動発生させながらこれ
らの配線を他の配線よりも優先してレイアウトする。こ
れによって、クロック配線やクリティカルパスと通常の
配線との間隔が広げられた配線レイアウトが得られる。
<< Third Embodiment >> FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention.
5 is a flowchart showing the procedure of the wiring method of the semiconductor device in the embodiment. In this embodiment, when laying out the clock wiring and the wiring of the critical path, these wirings are laid out with priority over other wirings while automatically generating the adjoining prohibited area around these wirings. As a result, a wiring layout in which the distance between the clock wiring or the critical path and the normal wiring is widened can be obtained.

【0023】まず、上述の第1の実施の形態のステップ
101〜107と同じ手順によってステップ301〜3
07を実行し、フラグ付きネットの検出までを行い、さ
らに、隣接禁止領域の幅の入力を行う(ステップ30
8)。続いて、フラグ付きネットの配線を1ネットず
つ、その配線に該当する層において隣接禁止領域を自動
発生させながら、優先して配置する(ステップ30
9)。隣接禁止領域の幅は先に入力されている幅とす
る。全てのフラグ付きネットの配線のレイアウトが完了
したら、次にフラグなしネットの配線を行う(ステップ
310)。
First, steps 301 to 301 are performed by the same procedure as steps 101 to 107 of the above-described first embodiment.
07, the detection of the flagged net is performed, and the width of the adjoining prohibited area is input (step 30).
8). Then, the wiring of the flagged net is preferentially arranged one by one while automatically generating the adjacent prohibition area in the layer corresponding to the wiring (step 30).
9). The width of the adjacent prohibition area is the width that has been input previously. When the wiring layout of all the flagged nets is completed, the unflagged nets are wired next (step 310).

【0024】図6は、このようにして配線を行った場合
のレイアウトの例であり、ここでは図2の場合と同様に
2層の配線が行われている。フラグ付きネットの配線2
1,11,29を優先してレイアウトし、さらにこれらの
フラグ付きネットの配線21,11,29の周囲の同層上
に配線禁止領域(隣接禁止領域)Dを生成することで、
フラグ付きネットの配線と通常の信号配線との間隔を広
げ、結果として図2に示すものと同等のレイアウトを実
現している。図6において配線禁止領域Dは斜線の枠で
囲まれた領域である。図示されるように、各層における
フラグ付きネットの配線と通常配線との配線間隔d3,
L3は、それぞれ、通常配線の配線間隔d1,L1の2
倍以上となっている。
FIG. 6 shows an example of a layout in which wiring is carried out in this way, and here two layers of wiring are carried out as in the case of FIG. Flagged net wiring 2
By laying out 1, 11, 29 preferentially, and further generating the wiring prohibited area (adjacent prohibited area) D on the same layer around the wires 21, 11, 29 of these flagged nets,
The spacing between the flagged net wiring and the normal signal wiring is widened, and as a result, a layout equivalent to that shown in FIG. 2 is realized. In FIG. 6, the wiring prohibited area D is an area surrounded by a shaded frame. As shown in the figure, the wiring distance d3 between the wiring of the flagged net and the normal wiring in each layer,
L3 is 2 of the wiring interval d1 and L1 of the normal wiring, respectively.
More than doubled.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上の説明したように本発明は、クロッ
ク信号配線やクリティカルパスのネットを探索してフラ
グを付加し、フラグ付きネットに対しては、例えば、太
幅で配線したり、ダミー配線を随伴させたり、近傍に配
線禁止領域を設定したりしてレイアウトを行い、その
後、細線化、ダミー配線の除去などを行うことにより、
クロック信号配線やクリティカルパスの周囲の配線間隔
だけを自動的に広げることが可能になり、クロック信号
やクリティカルパスを伝搬する信号の遅延を低減するこ
とができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, a clock signal wiring or a net of a critical path is searched for and a flag is added to the flagged net. By accommodating wiring or setting a wiring prohibited area in the vicinity to perform layout, then by thinning, removing dummy wiring, etc.,
Only the wiring interval around the clock signal wiring and the critical path can be automatically widened, and the delay of the clock signal and the signal propagating through the critical path can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態での自動配置配線の
処理を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a process of automatic placement and routing according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施の形態でのレイアウト例を示す平面
図である。
FIG. 2 is a plan view showing a layout example according to the first embodiment.

【図3】第2の実施の形態での自動配置配線の処理を示
すフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart showing processing of automatic placement and routing in the second embodiment.

【図4】第2の実施の形態でのレイアウト例を示す平面
図である。
FIG. 4 is a plan view showing a layout example according to the second embodiment.

【図5】第3の実施の形態での自動配置配線の処理を示
すフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart showing a process of automatic placement and routing in the third embodiment.

【図6】第3の実施の形態でのレイアウト例を示す平面
図である。
FIG. 6 is a plan view showing a layout example according to a third embodiment.

【図7】従来の自動配線技術によるレイアウト例を示す
平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a layout example according to a conventional automatic wiring technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10〜14,20〜29 配線 1A〜1D,2A〜2H 配線チャネル A 太幅配線 B,C ダミー配線 D 配線禁止領域 101〜112,201〜211,301〜310
ステップ
10-14, 20-29 wiring 1A-1D, 2A-2H wiring channel A thick wiring B, C dummy wiring D wiring prohibited area 101-112, 201-211, 301-310
Steps

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路のネットリストに基づいて各ネット
の配線パターンを決定する半導体装置の配線方法であっ
て、 前記ネットリストに基づいて、信号伝達を遅延させたく
ない信号が伝わるネットを探索する第1のステップと、 前記第1のステップで探索されたネットに対してフラグ
を付加する第2のステップと、 前記フラグが付加されたネットの配線とそれに隣接する
配線との配線間隔が通常の配線相互の配線間隔よりも大
きくなるように、前記各ネットの配線のレイアウトを行
う第3のステップと、を有する半導体装置の配線方法。
1. A wiring method of a semiconductor device for determining a wiring pattern of each net based on a net list of a circuit, wherein a net through which a signal is desired to be delayed is transmitted based on the net list. A first step; a second step of adding a flag to the net searched in the first step; and a normal wire spacing between the wire of the flagged net and an adjacent wire. And a third step of laying out the wiring of each of the nets so that the wiring spacing is larger than the mutual wiring spacing.
【請求項2】 回路のネットリストに基づいて各ネット
の配線パターンを決定する半導体装置の配線方法であっ
て、 前記ネットリストに基づいて、信号伝達を遅延させたく
ない信号が伝わるネットを探索する第1のステップと、 前記第1のステップで探索されたネットに対してフラグ
を付加する第2のステップと、 前記フラグが付加されたネットの配線を太幅として前記
各ネットのレイアウトを行い、前記フラグが付加された
ネットの配線の少なくとも周囲の配線のレイアウトが終
了した時点で、前記太幅でレイアウトされた配線を任意
の幅に細線化する第3のステップと、を有する半導体装
置の配線方法。
2. A wiring method for a semiconductor device, which determines a wiring pattern of each net based on a net list of a circuit, wherein a net through which a signal is desired to be delayed is transmitted based on the net list. A first step; a second step of adding a flag to the net searched in the first step; and a layout of each net with the wiring of the net to which the flag is added being a wide width, The wiring of the semiconductor device, which comprises a third step of thinning the wiring laid out in the thick width into an arbitrary width at least when the layout of the wiring around the wiring of the net to which the flag is added is completed. Method.
【請求項3】 回路のネットリストに基づいて各ネット
の配線パターンを決定する半導体装置の配線方法であっ
て、 前記ネットリストに基づいて、信号伝達を遅延させたく
ない信号が伝わるネットを探索する第1のステップと、 前記第1のステップで探索されたネットに対してフラグ
を付加する第2のステップと、 前記フラグが付加されたネットの配線を挟むように平行
にダミー配線が伴った状態で前記フラグが付加されたネ
ットの配線をレイアウトし、その他のネットの配線をレ
イアウトし、前記フラグが付加されたネットの配線及び
前記ダミー配線の少なくとも周囲の配線のレイアウトが
終了した時点で、前記ダミー配線を取り外す第3のステ
ップと、を有する半導体装置の配線方法。
3. A wiring method for a semiconductor device, wherein a wiring pattern of each net is determined based on a net list of a circuit, wherein a net through which a signal is desired to be delayed is searched based on the net list. A first step, a second step of adding a flag to the net searched in the first step, and a state in which dummy wiring is provided in parallel so as to sandwich the wiring of the net to which the flag is added. At this point, the wiring of the net to which the flag is added is laid out, the wiring of other nets is laid out, and at least when the layout of the wiring of the net to which the flag is added and the wiring around at least the dummy wiring is completed, A third step of removing the dummy wiring, and a wiring method for a semiconductor device.
【請求項4】 回路のネットリストに基づいて各ネット
の配線パターンを決定する半導体装置の配線方法であっ
て、 前記ネットリストに基づいて、信号伝達を遅延させたく
ない信号が伝わるネットを探索する第1のステップと、 前記第1のステップで探索されたネットに対してフラグ
を付加する第2のステップと、 前記フラグが付加されたネットの配線の周囲に隣接禁止
領域を自動発生させながら前記フラグが付加されたネッ
トの配線を他のネットの配線よりも優先してレイアウト
し、前記各ネットの配線のレイアウトを完了させる第3
のステップと、を有する半導体装置の配線方法。
4. A wiring method of a semiconductor device for determining a wiring pattern of each net based on a net list of a circuit, wherein a net carrying a signal which is not desired to be delayed is searched for based on the net list. A first step; a second step of adding a flag to the net searched for in the first step; and a step of automatically generating an adjacency prohibited area around the wiring of the net to which the flag is added. The wiring of the net to which the flag is added is laid out with priority over the wiring of other nets, and the layout of the wiring of each net is completed.
And a wiring method for a semiconductor device.
【請求項5】 前記信号伝達を遅延させたくない信号が
クロック信号である請求項1乃至4いずれか1項に記載
の半導体装置の配線方法。
5. The wiring method for a semiconductor device according to claim 1, wherein the signal that is not desired to delay the signal transmission is a clock signal.
【請求項6】 前記第1のステップにおいてクロックツ
リー手法を用いることによって、前記クロック信号の伝
わるネットが探索される請求項5に記載の半導体装置の
配線方法。
6. The wiring method for a semiconductor device according to claim 5, wherein a net through which the clock signal is transmitted is searched by using a clock tree method in the first step.
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