JP3017181B1 - Semiconductor integrated circuit wiring method - Google Patents

Semiconductor integrated circuit wiring method

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JP3017181B1
JP3017181B1 JP10289334A JP28933498A JP3017181B1 JP 3017181 B1 JP3017181 B1 JP 3017181B1 JP 10289334 A JP10289334 A JP 10289334A JP 28933498 A JP28933498 A JP 28933498A JP 3017181 B1 JP3017181 B1 JP 3017181B1
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康隆 植西
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日本電気アイシーマイコンシステム株式会社
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Abstract

【要約】 【課題】 細い配線を多用しているため、配線グリッド
間のスペースが無駄な空間となり、これを回避するに
は、自動配線ではなく、マニュアルで配線せざるを得な
い。 【解決手段】 大規模機能セル(マクロ)から入出力部
(I/O部)までの配線において、分岐ブロックをマク
ロ近くの任意の場所に配置することによって、I/O部
から分岐ブロックまでを任意の配線幅の太幅配線で自動
配線し、分岐ブロックからマクロまでは細幅配線で自動
配線する。
[PROBLEMS] Because thin wiring is frequently used, a space between wiring grids becomes a useless space. To avoid this, manual wiring must be used instead of automatic wiring. SOLUTION: In a wiring from a large-scale function cell (macro) to an input / output unit (I / O unit), a branch block is arranged at an arbitrary position near a macro, so that a connection from the I / O unit to the branch block is obtained. Automatic wiring is performed with a wide wiring of an arbitrary wiring width, and automatic wiring is performed with a narrow wiring from a branch block to a macro.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
大規模機能セルと他の大規模機能セル、または大規模機
能セルと入出力部分とを自動配線する方法に関する。
The present invention relates to a method for automatically wiring a large-scale function cell of a semiconductor integrated circuit and another large-scale function cell, or a large-scale function cell and an input / output portion.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年のLSIプロセスの微細化のめざま
しい進歩により、LSIチップの集積規模は年々増加し
ており、配線幅も縮小されている。このため、特に電源
配線の配線幅は電位ドロップによる電源電圧の低下を避
けるため、太い配線で接続する必要性がある。また一方
でLSIチップの回路規模の増大により、人手によるレ
イアウト設計は現実的に不可能であり、自動配置配線ツ
ールが設計に必要不可欠となっている。
2. Description of the Related Art With the remarkable progress in miniaturization of LSI processes in recent years, the scale of integration of LSI chips has been increasing year by year, and wiring widths have been reduced. Therefore, in particular, the wiring width of the power supply wiring needs to be connected with a thick wiring in order to avoid a reduction in the power supply voltage due to the potential drop. On the other hand, due to the increase in the circuit scale of the LSI chip, manual layout design is practically impossible, and an automatic placement and routing tool is indispensable for the design.

【0003】しかしながら、現状の自動配置配線ツール
の配線方法は、ツールが配線する配線層と配線幅をツー
ルのライブラリーとしてあらかじめ定義し、その規則を
守り実行していた。
However, in the current wiring method of the automatic placement and routing tool, a wiring layer and a wiring width to be wired by the tool are defined in advance as a library of tools, and the rules are followed and executed.

【0004】このため、ツールの仕様 及び 制限をあら
かじめ設計者が考慮し、最適なパラメータを自動配置配
線ツールに設定しないとLSIチップ内に配置不可能な
デッドスペースや未配線が生じてしまう。
[0004] For this reason, unless the designer considers the specifications and limitations of the tool in advance and sets the optimal parameters in the automatic placement and routing tool, dead space or unwiring that cannot be arranged in the LSI chip occurs.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】以上の背景より、従来
の大規模機能セル(以下「マクロ」と呼ぶ)の自動配線
の方法と問題点を以下に説明する。すなわち図6にその
一例を示す従来技術においては、入出力部(以下「I/
O部」と呼ぶ)5からマクロまでの配線を例にとってみ
ると、従来は配線26の配線幅を配線途中から任意の配
線幅に変えることが出来なかったため、エレクトロマイ
グレーション条件を満たすように予め複数本で自動配線
することにより、電位ドロップによる電源電圧の低下を
防がなければならなかった。図6において、符号7はマ
クロ内部からの配線、8はマクロの周回リングを示す。
From the above background, a method and problems of the conventional automatic wiring of a large-scale function cell (hereinafter referred to as "macro") will be described below. That is, in the prior art of which an example is shown in FIG.
Taking the wiring from 5 to the macro as an example, the wiring width of the wiring 26 could not be changed to an arbitrary wiring width in the middle of the wiring in the past, so that a plurality of wirings were previously set to satisfy the electromigration condition. The automatic wiring by the book had to prevent the power supply voltage from dropping due to the potential drop. In FIG. 6, reference numeral 7 denotes a wiring from inside the macro, and 8 denotes a loop ring of the macro.

【0006】また図8に示す他の従来例では、マクロ内
部からの配線7がマクロの周回リング8に接続してお
り、I/O部5からの配線29がマクロの周回リング8
に接続している例である。この構成においては、図9に
示すように配線7の間隔が重文に広ければ、I/O部か
らの配線31は太く自動配線できたが、図8のように配
線7の間隔が狭い場合には、従来の自動配線では、1種
類の配線幅でしか配線できなかったため、細い配線29
になってしまっていた。
In another conventional example shown in FIG. 8, a wiring 7 from the inside of the macro is connected to a circling ring 8 of the macro, and a wiring 29 from the I / O section 5 is connected to the circling ring 8 of the macro.
This is an example of connecting to. In this configuration, as shown in FIG. 9, if the interval between the wirings 7 was wide in multiple sentences, the wiring 31 from the I / O unit could be automatically thickened, but when the interval between the wirings 7 was narrow as shown in FIG. In conventional automatic wiring, only one kind of wiring width can be used.
Had become.

【0007】さらに図6の従来例では、細い配線を多用
しているため、配線グリッド間のスペース25が無駄な
空間となってしまう。このような欠点を回避するには、
自動配線ではなく、図7のようなマニュアルで配線27
を配線せざるを得なかった。
Further, in the conventional example shown in FIG. 6, since a large number of thin wires are used, the space 25 between the wiring grids becomes a useless space. To avoid these drawbacks,
Instead of automatic wiring, manual wiring 27 as shown in FIG.
Had to be wired.

【0008】本発明の目的は、電源配線、信号配線にお
いて、配線幅が太く形成された配線を複数の接続部に自
動で分岐配線する配置配線方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide an arrangement and wiring method for automatically branching a wiring having a large wiring width to a plurality of connection portions in a power supply wiring and a signal wiring.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、半導体集積回
路の機能セルに対して、自動接続によって配線する半導
体集積回路の配線方法において、前記機能セルの近傍に
分岐ブロックを設け、前記機能セルへの分岐配線を細幅
配線により、前記機能セルと分岐ブロックの間で、ま
た、前記分岐ブロックへの配線を太幅配線により、それ
ぞれ、自動接続で実現していることを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a wiring method for a semiconductor integrated circuit, wherein wiring is performed by automatic connection to a functional cell of the semiconductor integrated circuit. The present invention is characterized in that the branch wiring to the functional cell and the branch block is realized by a narrow wiring, and the wiring to the branch block is realized by a wide wiring by automatic connection.

【0010】この場合、本発明の実施の形態として、前
記機能セルをLSIチップに配置すると共に、分岐され
る前記細幅配線の線幅の総和について、これに対応する
前記太幅配線を、エレクトロマイグレーション条件を満
たして電位ドロップによる電源電圧の低下が起きないよ
うな配線幅に設定し、また、デザインルールに従って、
前記細幅配線の配線幅および分岐本数を設定し、予め数
種類用意された相互接続が可能な分岐ブロックライブラ
リから、前記分岐本数に応じたダミーブロックを選択
し、該ダミーブロックの配置を決定し、その後、前記太
幅配線および細幅配線を自動接続する方法が有効であ
る。
In this case, as an embodiment of the present invention, the functional cells are arranged on an LSI chip, and the line width corresponding to the total of the narrow line widths of the branched narrow line lines is changed to an electronic line. Set the wiring width so that the power supply voltage does not decrease due to the potential drop by satisfying the migration condition.
Set the wiring width and the number of branches of the narrow wiring, select a dummy block according to the number of branches from a plurality of types of interconnectable branch block library prepared in advance, determine the arrangement of the dummy block, Thereafter, a method of automatically connecting the wide wiring and the narrow wiring is effective.

【0011】このような配線方法では、機能セル(例え
ば、マクロと称する大規模機能セル)から入出力部(I
/O部)までの配線において、分岐ブロックを機能セル
近くの任意の場所に配置することによって、I/O部か
ら分岐ブロックまでを所要の配線幅の太幅配線で自動配
線し、分岐ブロックからマクロまでは細幅配線で自動配
線することができる。しかも、太幅配線と細幅配線の総
配線幅とは変わらないので、エレクトロマイグレーショ
ン条件を満足したままで、自動配線することが可能であ
る。
In such a wiring method, a function cell (for example, a large-scale function cell called a macro) is connected to an input / output unit (I / O).
By arranging the branch block at an arbitrary position near the functional cell in the wiring up to the / O section), the wiring from the I / O section to the branch block is automatically wired with a wide wiring having a required wiring width, and from the branch block. Up to macros can be automatically wired with narrow wiring. In addition, since the total wiring width of the wide wiring and the narrow wiring does not change, automatic wiring can be performed while satisfying the electromigration conditions.

【0012】また、複数本の同電位の配線がある場合、
分岐ブロックを使用し、1本の配線に束ねて自動配線す
ることが可能となり、複数本の信号配線を使用していた
時に配線間にできる無駄なスペースが無くなり、配線領
域を増大させることができる。また、複数本の配線を1
本の配線に束ねることによって、基盤に対する配線の側
面容量を低減することができる。
When there are a plurality of wirings having the same potential,
By using a branch block, it is possible to perform automatic wiring by bundling into one wiring, and there is no useless space between wirings when a plurality of signal wirings are used, and it is possible to increase the wiring area. . In addition, a plurality of wires
By bundling the wirings in a book, the lateral capacitance of the wirings with respect to the board can be reduced.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態を図面を参
照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0014】図1は、入出力部(I/O部)5から大規
模機能セル(マクロ)までの配線を、分岐ブロック2を
用いて太幅配線4および細幅配線6を用いて自動配線し
たものを例示している。符号1は配線グリッド、7はマ
クロ内側からの配線、8はマクロの周回リング、37は
スルーホールを示す。
FIG. 1 is a diagram showing an example in which wiring from an input / output unit (I / O unit) 5 to a large-scale function cell (macro) is automatically wired using a wide wiring 4 and a narrow wiring 6 using a branch block 2. This is illustrated. Reference numeral 1 denotes a wiring grid, 7 denotes a wiring from inside the macro, 8 denotes a circling ring of the macro, and 37 denotes a through hole.

【0015】分岐ブロック2をマクロ近くの任意の場所
に配置することによって、I/O部から分岐ブロック2
までを任意の配線幅3の太幅配線4で自動配線し、分岐
ブロックからマクロまでは細幅配線6で自動配線するこ
とができる。太幅配線4と細幅配線6の総配線幅は変わ
らないので、エレクトロマイグレーション条件を満足し
たままで自動配線することができる。
By arranging the branch block 2 at an arbitrary position near the macro, the branch block 2 is removed from the I / O section.
Can be automatically wired with a wide wire 4 having an arbitrary wire width 3 and a narrow wire 6 can be automatically wired from a branch block to a macro. Since the total wiring width of the wide wiring 4 and the narrow wiring 6 does not change, automatic wiring can be performed while satisfying the electromigration conditions.

【0016】また図6のように、複数本の同電位の配線
26がある場合、図1のように分岐ブロック2を使用
し、1本の配線4に束ねて自動配線することが可能とな
り、図6の複数本の信号配線26を使用していた時に配
線間にできる無駄なスペース25が無くなり、配線領域
を増大させる事ができる。
When there are a plurality of wirings 26 having the same potential as shown in FIG. 6, it is possible to use the branch block 2 as shown in FIG. When the plurality of signal wirings 26 shown in FIG. 6 are used, there is no needless space 25 between the wirings, and the wiring area can be increased.

【0017】また図2に示す複数本の配線9を、図3の
ように1本の配線11に束ねることによって、無駄なス
ペース38がなくなり、また基盤10に対する配線の側
面容量を低減することが出来る。
Also, by bundling the plurality of wirings 9 shown in FIG. 2 into one wiring 11 as shown in FIG. 3, unnecessary space 38 is eliminated, and the lateral capacitance of the wiring with respect to the base 10 is reduced. I can do it.

【0018】つぎに、レイアウト図を示す図1と対応さ
せながら、本発明の配線方法について図4に示すフロー
チャートを参照して説明する。図1はI/O部5からマ
クロまでの配線4、6を分岐ブロック2を用いて太幅配
線で自動接続した半導体集積回路の一部を示す。図1に
おいて、符号1は配線グリッド、7はマクロ内側からの
配線、8はマクロの周回リング、37はスルーホールを
示す。
Next, the wiring method of the present invention will be described with reference to the flowchart shown in FIG. 4 while corresponding to FIG. 1 showing a layout diagram. FIG. 1 shows a part of a semiconductor integrated circuit in which wirings 4 and 6 from an I / O unit 5 to a macro are automatically connected by a wide wiring using a branch block 2. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a wiring grid, 7 denotes a wiring from inside the macro, 8 denotes a circling ring of the macro, and 37 denotes a through hole.

【0019】図4に示したフローチャートにしたがって
説明すると、まず、マクロ配置工程12において、LS
Iチップにマクロを配置する。次にエレクトロマイグレ
ーション条件を満たし、電位ドロップによる電源電圧の
低下が起きないような配線幅3を工程13で決定する。
例えば、図6に示す細い配線26の総和を太幅配線の配
線幅3とすることで、エレクトロマイグレーション条件
を満足したままで自動配線が出来る。
Referring to the flowchart shown in FIG. 4, first, in the macro arrangement step 12, LS
A macro is arranged on the I chip. Next, a wiring width 3 that satisfies the electromigration conditions and does not cause a reduction in the power supply voltage due to the potential drop is determined in step 13.
For example, by setting the sum of the thin wirings 26 shown in FIG. 6 to the wiring width 3 of the thick wiring, automatic wiring can be performed while satisfying the electromigration conditions.

【0020】次に、太幅配線幅をデザインルールの最小
配線幅で割り、太幅配線を何本の細幅配線に分岐するか
を工程14で決定する。この本数の決定結果と、予め数
種類用意された相互接続が可能な分岐ブロックライブラ
リ15とから、分岐数に応じたN分割用の分岐ブロック
選択を工程16で行う。すなわち、デザインルールの最
小配線幅、または任意の接続可能な最小の配線幅で太幅
配線4をN分割する。
Next, the width of the wide wiring is divided by the minimum wiring width of the design rule, and the number of narrow wirings into which the wide wiring is branched is determined in step 14. In step 16, a branch block for N division according to the number of branches is selected from the result of the determination of the number and the branch block library 15 prepared in advance, which can be interconnected. That is, the wide wiring 4 is divided into N by the minimum wiring width of the design rule or the minimum connectable wiring width.

【0021】次に工程17において、分岐ブロックの配
置位置決定をする。図5の20、21、22は、それぞ
れ2分岐用、3分岐用、4分岐用の分岐ブロックの一例
である。23,24は入出力ポートを示す。分岐ブロッ
クの配置位置決定は、分岐ブロックからターゲットとす
るマクロまで、細幅配線可能な最小領域を確保してター
ゲットブロックに一番近い位置に分岐ブロックを配置す
るように行われる。
Next, in step 17, the arrangement position of the branch block is determined. 5, 20, 21 and 22 are examples of branch blocks for 2-branch, 3-branch, and 4-branch, respectively. Reference numerals 23 and 24 indicate input / output ports. The determination of the arrangement position of the branch block is performed such that a minimum area capable of narrow wiring is secured from the branch block to the target macro, and the branch block is arranged at a position closest to the target block.

【0022】分岐ブロックの配置が決まれば、分岐ブロ
ックを配置し、工程18においてダミーブロックから分
岐ブロックまでの太幅自動配線を実行し、ついで工程1
9において分岐ブロックからバッファまでの細幅自動配
線を実行する。
When the arrangement of the branch blocks is determined, the branch blocks are arranged, and in step 18, wide automatic wiring from the dummy block to the branch block is executed.
At 9, a narrow automatic wiring from the branch block to the buffer is executed.

【0023】このように分岐ブロックを使用することに
より、エレクトロマイグレーション条件を満たす配線幅
を変えることなく自動で配線ができ、一本の太い配線に
束ねることによって細い配線同士の間にできていた無駄
なスペースを有効なスペースとして効率よく使うことが
でき、図2からわかるように、側面容量も低減される。
As described above, by using the branch block, wiring can be automatically performed without changing the wiring width satisfying the electromigration condition, and the waste formed between thin wirings by being bundled into one thick wiring. The space can be efficiently used as an effective space, and as can be seen from FIG. 2, the lateral capacitance is also reduced.

【0024】次に工程19において、分岐ブロックから
バッファまで、細幅自動配線を行う。
Next, in step 19, narrow automatic wiring is performed from the branch block to the buffer.

【0025】次に、本発明の他の実施の形態について図
10を参照して説明する。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0026】図10は、バッファ35からバッファ33
までを、分岐ブロック34を用いて自動接続させた例で
ある。従来は、図11に示すように、バッファ35から
バッファ33を複数本の細い配線36で接続していた
が、分岐ブロック34を使用することで、任意の配線幅
32で自動配線することが出来る。
FIG. 10 shows that the buffer 35
This is an example of automatic connection using the branch block 34. Conventionally, as shown in FIG. 11, the buffer 35 to the buffer 33 are connected by a plurality of thin wirings 36. However, by using the branch block 34, automatic wiring can be performed with an arbitrary wiring width 32. .

【0027】図2の場合と同様に、4本の配線36を1
本の配線32に束ねることによって、側面容量が4分の
1に減り、また配線間の無駄なスペースが配線を束ねる
ことによって使用可能配線スペースが増える。
As in the case of FIG. 2, four wires 36
By bundling the wires 32, the lateral capacitance is reduced to a quarter, and the useless wiring space is increased by bundling the wasted space between the wires.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、分岐ブロックを使用することにより、以前までは一
種類の配線幅でしかできなかった機能セルとの自動接続
を、分岐ブロックを挿入することによって、例えば、エ
レクトロマイグレーション条件を満足した状態で、太幅
配線と、分岐された細幅配線とについて、自動配線させ
ることができるという効果が得られる。
As described above, according to the present invention, by using the branch block, the automatic connection with the function cell, which was previously possible only with one kind of wiring width, can be performed by using the branch block. By inserting, for example, it is possible to obtain an effect that the wide wiring and the branched narrow wiring can be automatically wired in a state where the electromigration condition is satisfied.

【0029】また、配線を太幅化することによって、配
線間の無駄なスペースがなくなり、有効グリッド数が増
え、配線領域が増える。
Further, by increasing the width of the wiring, there is no useless space between the wirings, the number of effective grids increases, and the wiring area increases.

【0030】さらに、図2の細い配線9を図3の太い配
線11のように束ねることによって、基盤10に対する
配線の側面容量を低減できる。配線の遅延時間は小さく
なり、実行電流密度は配線の断面積が同じため、変わら
ない。
Further, by bundling the thin wiring 9 in FIG. 2 like the thick wiring 11 in FIG. 3, the side capacitance of the wiring with respect to the substrate 10 can be reduced. The wiring delay time is reduced, and the effective current density does not change because the cross-sectional area of the wiring is the same.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にしたがって配線された大規模機能セル
から入出力部5までの配線を例示する平面図。
FIG. 1 is a plan view illustrating a wiring from a large-scale function cell to an input / output unit 5 wired according to the present invention.

【図2】(A)は複数本の配線の平面図、(B)はその
配置と基板との関係を示す断面図。
FIG. 2A is a plan view of a plurality of wirings, and FIG. 2B is a cross-sectional view showing a relationship between the arrangement and a substrate.

【図3】(A)は束ねられた配線の平面図、(B)はそ
の配置と基板との関係を示す断面図。
3A is a plan view of a bundled wiring, and FIG. 3B is a cross-sectional view showing a relationship between the arrangement and a substrate.

【図4】本発明の半導体集積回路の配線方法の工程の一
例を示すフローチャート。
FIG. 4 is a flowchart illustrating an example of steps of a wiring method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention.

【図5】(A),(B),(C)は、それぞれ異なる本
数の束ねられた配線を示す断面図。
FIGS. 5A, 5B, and 5C are cross-sectional views each showing a different number of bundled wirings.

【図6】従来の配線方法で配線された半導体集積回路の
平面図。
FIG. 6 is a plan view of a semiconductor integrated circuit wired by a conventional wiring method.

【図7】従来の他の配線方法で配線された半導体集積回
路の平面図。
FIG. 7 is a plan view of a semiconductor integrated circuit wired by another conventional wiring method.

【図8】従来の他の配線方法で配線された半導体集積回
路の平面図。
FIG. 8 is a plan view of a semiconductor integrated circuit wired by another conventional wiring method.

【図9】従来の他の配線方法で配線された半導体集積回
路の平面図。
FIG. 9 is a plan view of a semiconductor integrated circuit wired by another conventional wiring method.

【図10】本発明の配線方法で配線された半導体集積回
路を示す平面図。
FIG. 10 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit wired by the wiring method of the present invention.

【図11】従来の配線方法で配線された半導体集積回路
を示す平面図。
FIG. 11 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit wired by a conventional wiring method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 配線グリッド 2 分岐ブロック 3 配線幅 5 入出力部 4 太幅配線 6 細幅配線6 7 マクロ内側からの配線 8 周回リング 9 配線 10 基盤 11 配線 20,21,22 分岐ブロック 23,24 入出力ポート 32 配線幅 33,34 分岐ブロック 35 バッファ 37 スルーホール 38 間隔 REFERENCE SIGNS LIST 1 wiring grid 2 branch block 3 wiring width 5 input / output unit 4 wide wiring 6 narrow wiring 6 7 wiring from inside macro 8 circling ring 9 wiring 10 board 11 wiring 20, 21, 22 branch block 23, 24 input / output port 32 Wiring width 33,34 Branch block 35 Buffer 37 Through hole 38 Interval

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/82 G06F 15/60 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/82 G06F 15/60

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体集積回路の機能セルに対して、自
動接続によって配線する半導体集積回路の配線方法にお
いて、 前記機能セルの近傍に分岐ブロックを設け、前記機能セ
ルへの分岐配線を細幅配線により、前記機能セルと分岐
ブロックの間で、また、前記分岐ブロックへの配線を太
幅配線により、それぞれ、自動接続で実現していること
を特徴とする半導体集積回路の配線方法。
1. A wiring method for a semiconductor integrated circuit, wherein wiring is performed by automatic connection to a function cell of the semiconductor integrated circuit, wherein a branch block is provided near the function cell, and the branch wiring to the function cell is narrow-width wiring. Wherein the wiring between the functional cell and the branch block and the wiring to the branch block are realized by a wide-width wiring by automatic connection, respectively.
【請求項2】 前記機能セルをLSIチップに配置する
と共に、分岐される前記細幅配線の線幅の総和につい
て、これに対応する前記太幅配線を、エレクトロマイグ
レーション条件を満たして電位ドロップによる電源電圧
の低下が起きないような配線幅に設定し、また、デザイ
ンルールに従って、前記細幅配線の配線幅および分岐本
数を設定し、予め数種類用意された相互接続が可能な分
岐ブロックライブラリから、前記分岐本数に応じたダミ
ーブロックを選択し、該ダミーブロックの配置を決定
し、その後、前記太幅配線および細幅配線を自動接続す
ることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路の
配線方法。
2. A power supply by arranging the functional cell on an LSI chip and, with respect to the sum of the line widths of the branched narrow wirings, changing the corresponding wide wirings to a potential drop by satisfying an electromigration condition. The wiring width is set so as not to cause a voltage drop.The wiring width and the number of branches of the narrow wiring are set in accordance with the design rules. 2. The wiring of a semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a dummy block corresponding to the number of branches is selected, an arrangement of the dummy block is determined, and then the wide wiring and the narrow wiring are automatically connected. Method.
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