JPH0981618A - 半導体素子形状シミュレーション装置及びその方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 一連の工程の形状シミュレーション結果から
問題のある工程を効率よく特定する。 【解決手段】 入力装置３からの入力の制御を行う入力
制御部５と、半導体素子の所定の製作工程のシミュレー
ションを行うシミュレーション実行部７と、このシミュ
レーション実行部７にて出力された所定のシミュレーシ
ョン結果を保持するシミュレーション結果保持部９と、
前記シミュレーション結果保持部９に対して前記所定の
シミュレーション結果を保持するように、前記シミュレ
ーション実行部においてシミュレーションを行う前に予
め命令する保持命令部１１と、前記保持されたシミュレ
ーション結果を用いて、前記工程の進行方向の順方向ま
たは逆方向にシミュレーション結果を逐次または連続表
示する表示部１３とを備えてある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は半導体素子形状シ
ミュレーション装置及びその方法に関し、特に、半導体
素子を評価する際に用いられる形状シミュレーション装
置及びその方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】集積回路の高集積化に伴い、製造工程数
が増大し、工程そのものも複雑になっている。このた
め、試作回数が増大し、開発コストが上昇している。こ
の様な状況に対処するため、シミュレータを用いてあら
かじめ試作条件を絞り込み、試作回数を削減し、試作期
間を短縮する努力がなされている。

【０００３】例えば、半導体素子の形状シミュレーショ
ンの場合、従来から図４に示すような方法で形状のシミ
ュレーションを行っていた。まず、シミュレーション実
行ステップにおいて、素子形状を予測し、その結果に基
づいて所望の形状が得られるように試作のプロセスパラ
メータを決定し、各工程のシミュレーションを行う（Ｓ
１）。次に、評価判定ステップにて、シミュレーション
結果が所望の形状となったか否かの判定を行う（Ｓ
２）。このときシミュレーション結果が所望の形状と異
なる場合には、まずその原因となる工程を特定し、その
工程のプロセスパラメータを変更する必要がある。

【０００４】ここで、原因となる工程を特定するのに、
従来の途中の工程のパラメータを変えながら順方向に何
度も繰り返し実行するか、順方向に１工程づつ実行して
はその結果を吟味するという方法を取っていた。このた
め工程数が数百もある場合には、問題点の特定に非常に
時間がかかった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述の如く、従来の半
導体素子形状シミュレーションでは、指定した工程後の
シミュレーション結果を表示することが出来たが、順方
向に１工程づつ実行してはその結果を吟味するという方
法を取っていたため、問題の原因となる工程の特定が効
率よく出来なかった。このため、最近の集積回路素子の
ように工程数が数百もある場合には、膨大な時間をかけ
てシミュレーションをする必要があり、問題点の特定に
非常に手間と時間がかかった。

【０００６】また、各工程後のシミュレーション結果ま
たはその一部が記憶されていれば、その結果を利用して
効率よく所望のシミュレーションを行うことが原理的に
は可能であった。しかしながら、シミュレータのユーザ
がこの様な操作を行うのは非常に煩雑であり、誤操作を
行う可能性も高かった。

【０００７】本発明の上記事情に鑑みてなされたもので
あり、その目的とするところは、半導体素子の形状シミ
ュレーション結果から問題のある工程を効率よく特定す
ることができ、また、煩雑な操作をすることなく効率よ
くシミュレーションを行う半導体素子形状シミュレーシ
ョン装置及びその方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の発明者は、各工
程のシミュレーション結果が全て記憶されており、任意
の工程から工程順または逆方向に各工程のミシュレーシ
ョン結果が順次高速に表示できれば、問題となる工程を
効率よく特定することができるのではと考えた。また、
所望の形状が得られるようにそのプロセスパラメータを
調整した場合には、再度シミュレーションする必要があ
るが、このとき、各工程のシミュレーション結果が記憶
してあれば、当該工程以降の工程だけ再度シミュレーシ
ョンすればよいと考えた。更に、本発明の発明者は、全
ての工程後のシミュレーション結果を記憶せず、任意の
工程後、例えば、奇数番目の工程後のシミュレーション
結果のみを記憶するようにして、もしある偶数番目の工
程後のシミュレーション結果が必要になれば、当該工程
の直前の奇数番工程のシミュレーション結果から実行す
れば、シミュレーション結果の保持領域も縮小させるこ
とができ、効率よく短時間に所望の結果が得られるので
一気に上記の問題点が解消できるはずと考えた。そこで
本発明の発明者は慎重な研究を重ねた結果、本発明を完
成させることができた。

【０００９】本発明の半導体素子形状シミュレーション
方法の第１の特徴は、半導体素子の形状のシミュレーシ
ョンを行う方法において、前記半導体素子の製作工程に
ついて連続してシミュレーションを行うステップと、任
意の前記工程でシミュレーションを停止するステップ
と、各工程後、若しく一部の工程後のシミュレーション
結果を保持するステップと、前記保持されたシミュレー
ション結果を用いて、前記工程の進行の順方向または逆
方向にシミュレーション結果を逐次または連続表示する
ステップとを有することである。

【００１０】また、本発明の半導体素子形状シミュレー
ション方法の第２の特徴は、半導体素子の形状のシミュ
レーションを行う方法において、前記半導体素子の製作
工程について連続してシミュレーションを行うステップ
と、任意の前記工程でシミュレーションを停止するステ
ップと、各工程後、若しくは一部の工程後のシミュレー
ション結果を保持するステップと、前記保持されたシミ
ュレーション結果を用いて、前記工程の進行の順方向ま
たは逆方向にシミュレーション結果を逐次または連続表
示するステップと、表示された前記シミュレーション結
果に基づいて、前記工程の一部を変更するステップとを
備え、前記保持されたシミュレーション結果のうち、前
記変更した工程より前の工程のシミュレーション結果を
用いて前記工程の一部を変更し、さらに、変更した工程
より後の工程のみついてシミュレーションを行うことで
ある。

【００１１】なお、前記変更した工程より後の工程のみ
についてシミュレーションを行い、その結果をさらに保
持するステップと、前記保持されたシミュレーション結
果を用いて、前記工程の進行の順方向または逆方向にシ
ミュレーション結果を逐次または連続表示するステップ
とをさらに有することが好ましく、これらの工程を複数
回繰り返すことがさらに好ましい。

【００１２】ここで、一部の工程後のシミュレーション
結果を保持し、保持しなかった工程後のシミュレーショ
ンが必要になった場合、シミュレーション結果が保持さ
れている当該工程以前の工程の中で当該工程に最も近い
工程後のシミュレーション結果から自動的にシミュレー
ションを行うようにしてもよい。

【００１３】また、一部の工程後のシミュレーション結
果を保持し、工程の逆方向にシミュレーション結果を逐
次または連続表示する場合、保持していない工程のシミ
ュレーションを自動的に行いながら表示するようにして
もよい。

【００１４】また、シミュレーション結果の保持は、シ
ミュレーション結果をファイルとして記憶するようにし
てもよい。この装置としては、例えば高速Ｉ／Ｏが可能
なメモリであってもよいし、永久に保存可能なディスク
であってもよい。

【００１５】次に、本発明に係る半導体素子形状シミュ
レーション装置の特徴は、半導体素子の製作工程の形状
シミュレーションを行う装置において、入力装置からの
入力の制御を行う入力制御部と、半導体素子の所定の製
作工程のシミュレーションを行うシミュレーション実行
部と、このシミュレーション実行部にて出力された所定
のシミュレーション結果を保持するシミュレーション結
果保持部と、このシミュレーション結果保持部に対して
前記所定のシミュレーション結果を保持するように、前
記シミュレーション実行部においてシミュレーションを
行う前に予め命令する保持命令部と、前記保持されたシ
ミュレーション結果を用いて、前記工程の進行方向の順
方向または逆方向にシミュレーション結果を逐次または
連続表示する表示部と、を備えることである。

【００１６】なお、前記表示部は、前記シミュレーショ
ン結果保持部にて保持された所定のシミュレーション結
果及び工程データを出力するシミュレーション制御部
と、工程データを表示する第１表示部と、この第１表示
部にて表示された工程データに係る半導体素子の形状を
表示する第２表示部とを備えることが好ましい。

【００１７】本発明に係る半導体形状シミュレーション
方法の構成によれば、一連の工程の全ての工程後のシミ
ュレーション結果または一部の工程のシミュレーション
結果を自動的に保持し、この保持されたシミュレーショ
ン結果を利用することで、効率よくシミュレーションを
行うようにしたものである。

【００１８】例えば、最終工程の近くに問題があると予
測されるときには、最終工程から最初の工程に向かって
工程を遡りながら各工程のシミュレーション結果を表示
し、問題の工程を特定する。一方、最初の工程の近くに
問題があると考えられるときには、最初の工程から出発
して、各工程のシミュレーション結果を表示することに
より、問題の工程を特定する。

【００１９】また、一連の工程の各工程のミシュレーシ
ョン結果が保持されており、例えば、ある工程のプロセ
スパラメータを変更して再度シミュレーションを行う場
合、シミュレータは保持されている当該工程以前の工程
のシミュレーション結果、更に好ましくは当該工程以前
の中で当該工程に一番近い工程のシミュレーション結果
からシミュレーションを開始する。当該工程に一番近い
工程のシミュレーション結果からシミュレーションを開
始することで、更に、効率良くシミュレーションを行う
ことができる。

【００２０】また、一連の工程の一部の工程のミシュレ
ーション結果が保持されており、例えば、シミュレーシ
ョン結果が保持されていない工程後のある工程のプロセ
スパラメータを変更して再度シミュレーションを行う場
合、シミュレーション結果が保持されている当該工程以
前の工程の中で当該工程に一番近い工程後のシミュレー
ション結果を用いてシミュレーションを行う。また、シ
ミュレーション結果が保存されていない工程のシミュレ
ーション結果が必要な場合には、シミュレーション結果
が保存されている当該工程以前の工程のなかで当該工程
に一番近い工程後のシミュレーション結果を用いてシミ
ュレーションを行うようにすることで効率良くシミュレ
ーションを行うことができる。

【００２１】さらに、一連の工程の一部の工程のシミュ
レーション結果が保持されており、例えば、各工程の計
算結果を逆方向に表示する必要がある場合、シミュレー
ション結果が保存されていない工程は、当該工程以前の
工程のなかで当該工程に一番近い工程後のシミュレーシ
ョン結果を用いてシミュレーションを行い、その結果を
逆方向に表示するようすることで効率良くシミュレーシ
ョンを行うことができる。

【００２２】以上のように本発明によれば、シミュレー
タに保持されたシミュレーション結果を有効に使用する
機能を付加するので、ユーザは煩雑な操作をすることな
く効率よくミシュレーションを行うことができ、集積回
路の試作回数を削減できるので、大幅な試作期間の短縮
とコストの低減が可能となるのである。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る半導体素子形
状シミュレーション装置及びその方法について実施の形
態を図面を用いて詳細に説明する。本発明に係る半導体
素子形状シミュレーション装置１は図１に示す通り、入
力装置３からの入力の制御を行う入力制御部５と、半導
体素子の所定の製作工程のシミュレーションを行うシミ
ュレーション実行部７と、このシミュレーション実行部
７にて出力されたシミュレーション結果を保持するシミ
ュレーション結果保持部９と、前記入力制御部５からの
入力により前記シミュレーション実行部７に前記所定の
工程のシミュレーション命令を出力し、前記シミュレー
ション結果保持部９にて保持された所定のシミュレーシ
ョン結果及び工程データを出力するシミュレーション制
御部１１と、工程データを表示する第１表示部１３ａ
と、この第１表示部１３ａにて表示された工程データに
係る半導体素子の形状を表示画面第２表示部と１３ｂと
を備えるようにしてある。

【００２４】ここで、入力装置３はキーボード、マウ
ス、ライトペン、又はフレキシブルディスク装置等を含
むものとする。また、入力制御部５は入力装置３の入力
をシミュレーション制御部１１への出力を制御するため
のものである。

【００２５】シミュレーション実行部７は、シミュレー
ション制御部１１からのシミュレーション命令によりシ
ミュレーションを行うためのものである。前記シミュレ
ーション命令にはどの工程のシミュレーションを行うか
のシミュレーション命令や、連続的にシミュレーション
を行うか逐次的に行うか等の各種の制御命令を含むもの
とする。

【００２６】シミュレーション結果保持部９は、シミュ
レーション実行部７のシミュレーション結果を保持する
ためのものである。保持動作は自動的に行われるように
してもよいし、必ずしも自動的におこなわれる場合に限
らず、手動による命令によりその度に保持動作を行うよ
うにしてもよい。この保持には、全ての工程後のシミュ
レーション結果を保持してもよいし、例えば、奇数番目
の工程後のシミュレーション結果のみを保持するように
してもよい。これらの保持のための設定は予め設定して
おいてもよいし、必要に応じてユーザが入力装置３より
保持の命令を入力してもよい。これらの保持の制御はシ
ミュレーション制御部１１にて行われる。

【００２７】また、シミュレーション制御部１１は、入
力制御部５からの入力により、シミュレーションの実行
の制御や、シミュレーション結果保持部９に保持された
シミィレーション結果を第１表示部１３ａや第２表示部
１３ｂへ表示するための制御を行うためのものである。
例えば、シミュレーション結果保持部９に対して前記所
定のシミュレーション結果を保持するように、前記シミ
ュレーション実行部７においてシミュレーションを行う
前に予め命令を行う。

【００２８】また、第１及び第２表示部１３ａ，ｂは、
保持されたシミュレーション結果を用いて、前記工程の
進行方向の順方向または逆方向にシミュレーション結果
を逐次または連続表示する。ここで、第１及び第２表示
部１３ａ，ｂは、このグラフィックス端末を有する計算
機上で対話的に実行される。この表示部には図２で示さ
れる工程データ表示画面と図３で示される形状表示画面
が表示されるようにしてある。ここで、この表示部に
は、いわゆるウインドウ表示画面のように１つの表示機
器（例えばＣＲＴ）に２種類の表示画面を同時に表示す
れば、さらに効率良くシミュレーションを行うことがで
きる。また、この２種類の表示を切り替えて１つの表示
機器で表示してもよいし、２つの表示機器を用いてもよ
い。

【００２９】図２は、第１表示部１３ａの実施の形態と
して、工程データ表示画面を示した図である。この表示
画面では、シミュレータの入力データの表示を行い、上
部のメニューボタンで、入力データファイルの指定、表
示のスクロール、データの編集などを行う。以下に各メ
ニューの説明を行う。

【００３０】“ｆｉｌｅ”ボタン：工程データを保存す
るファイルを指定する “ｅｄｉｔ”ボタン：編集モード／表示モードの切り替
えを行う “ｓａｖｅ”ボタン：工程データを保存する “ｕｐ”ボタン：工程データ表示をスクロールアップす
る “ｄｏｗｎ”ボタン：工程データ表示をスクロールダウ
ンする “ｂｅｇｉｎ”ボタン：表示の始点を設定を行う “ｓｔｏｐ”ボタン：表示の終点を設定を行う “ｎｅｗ／ｄｏｗｎ”表示：既にシミュレーションされ
ているか否かを表示する “ｂｅｇｉｎ”マーカ：表示の始点を示す “ｓｔｏｐ”マーカ：表示の終点を示す “◆”マーカ：シミュレーションまたは表示が行われて
いる位置を示す また、１５で示した画面は工程データを表示するための
ものである。この画面１５は、工程データが相当量の場
合にはスクロール機能を有するようにしてある。

【００３１】図３は、第２表示部１３ｂの実施の形態と
して、半導体素子の形状表示画面を示した図である。こ
の表示画面では、シミュレータ結果の表示を行い、上部
のメニューボタンでシミュレータの起動、停止、表示方
向の設定などを行う。

【００３２】“ｓｔａｒｔ”ボタン：シミュレーショ
ン、表示を開始する “ｂｕｒｓｔ”ボタン：連続モード（連続的にシミュレ
ーションを行うモード）を指定する “ｓｔｅｐ”ボタン：逐次モード（逐次的にシミュレー
ションを行うモード）を指定する “ｉｎｔｅｒｖａｌ”ボタン：各シミュレーション結果
の最小表示時間の指定する “ｐａｕｓｅ”ボタン：シミュレーションの実行を一時
停止する “ｎｅｘｔ”ボタン：順方向モード指定する “ｐｒｅｖ”ボタン：逆方向モード指定する “ｑｕｉｔ”ボタン：終了する また、１７で示した画面は半導体素子の形状を表示する
ためのものである。この画面１７に表示された半導体素
子の形状は、画面１５に示された工程と連動するように
表示するようにしてある。

【００３３】次に本発明に係る半導体素子形状シミュレ
ーション装置及びその方法の具体的な動作を説明する。
工程データ表示画面はシミュレーションを行うための入
力データである工程データを表示し、その編集を行うの
に用いられる。この画面の上部にあるメニューボタン
を、例えばマウスのポインタで指し示し、マウスのボタ
ンをクリックすると当該メニューに対応した機能が実行
される。“ｆｉｌｅ”ボタンは工程データが保存されて
いるファイルを指定するのに用いる。この指定にはキー
ボードから直接所望のファイル名を入力してもよいし、
プルダウンメニュにて選択的に指定してもよい。また、
このファイルはシミュレーション結果を保存する場合に
用いてもよい。“ｕｐ”、“ｄｏｗｎ”ボタンは工程デ
ータのスクロールを行う。“ｅｄｉｔ”ボタンはトグル
形式になっており、クリックすると“ｅｄｉｔ”表示が
強調表示になり、下部の工程データ画面は編集モードに
変わりキーボードを用いてデータの編集をすることが出
来る。なおデータ編集は、ＧＵＩ( Graphical User Int
erface) を用いて行ってもよい。

【００３４】“ｅｄｉｔ”ボタンをもう一度クリックす
ると“ｅｄｉｔ”表示は普通表示になり、工程データ画
面は表示モードになる。“ｓａｖｅ”ボタンをクリック
すると工程データ表示画面に表示されている工程データ
が“ｆｉｌｅ”ボタンで指定したファイルに記憶にされ
る。後で述べるように、例えばこのファイルにはシミュ
レーション結果を一緒に保存してよい。全ての工程のシ
ミュレーション結果を保存する場合には、“ｓａｖｅ”
ボタンの右隣に１を入力し、１つおきに保存する場合に
は２と入力する。このように工程のシミュレーション結
果の保存はユーザが選択的に設定できるようにしてもよ
い。ファイルを記憶する装置は、例えば高速Ｉ／Ｏが可
能なメモリであってもよいし、永久に保存可能なディス
クであってもよい。“ｂｅｇｉｎ”ボタンはシミュレー
ション結果の画像を形状表示画面に表示を開始する位置
を指定するのに用いられ、“ｓｔｏｐ”ボタンはシミュ
レーションまたは画像の表示を停止する位置を指定する
のに用いられる。

【００３５】形状表示画面はシミュレーション結果の表
示とシミュレータの制御に用いられる。“ｓｔａｒｔ”
ボタンをクリックするとシミュレーションまたは結果の
表示が開始され、“ｐａｕｓｅ”ボタンはこれらを停止
する。“ｂｕｒｓｔ”、“ｓｔｅｐ”ボタンは対になっ
ており、シミュレーションまたは表示を連続実行するか
工程毎に行うかいずれか一方を指定する。“ｎｅｘ
ｔ”、“ｐｒｅｖ”ボタンも対になっており、形状表示
を順方向または逆方向に行う指定をする。通常、シミュ
レーションは高速に行われるので、各工程の表示時間が
短すぎて表示が見づらくなる場合がある。このような場
合には図３の“ｉｎｔｅｒｖａｌ”ボタンの右隣の小ウ
ィンドに各工程の最小表示時間を入力し、“ｉｎｔｅｒ
ｖａｌ”ボタンをクリックすることによって最小表示時
間の設定を行う。“ｑｕｉｔ”ボタンはシミュレーショ
ンそのものを終了する。

【００３６】シミュレーションを実行するには、ユーザ
はまず工程データ表示画面上部の“ｆｉｌｅ”メニュー
をクリックしたのち、例えばキーボードまたはファイル
管理ツールなどを用いてシミュレーションする工程デー
タを指定する。シミュレーションに用いる工程データ
は、試作システムの工程データから自動的に生成する手
段がある場合もあるが、そうでない場合にはユーザがエ
ディタなどを用いて準備する必要がある。この工程デー
タが既にシミュレーションされておりその結果が記憶装
置に記憶されている場合には、工程データ表示部に“ｄ
ｏｎｅ”と表示される。まだシミュレーションが行われ
ていない場合には、“ｎｅｗ”と表示される。

【００３７】工程データには、次にシミュレーションま
たは結果の表示が行われる工程であることを示す“◆”
マーカが図２のように表示される。シミュレーションま
たは結果の表示を行う最初の工程データには｜ｂｅｇｉ
ｎ＞マーカが設定され、シミュレーションまたは結果の
表示を停止する工程には｜ｓｔｏｐ＞マーカが付けられ
る。ユーザが特に指定しなければ、｜ｂｅｇｉｎ＞マー
カは最初の工程に、｜ｓｔｏｐ＞マーカは最後の工程に
付けられる。｜ｂｅｇｉｎ＞マーカを移動するには、移
動したい工程データをマウスのポインターで指し示し、
マウスボタンをクリックしてそのデータを強調表示した
のち、“ｂｅｇｉｎ”ボタンをクリックするとマーカは
新しい位置に移動する。同様の方法で｜ｓｔｏｐ＞移動
することができる。

【００３８】ユーザは｜ｂｅｇｉｎ＞、｜ｓｔｏｐ＞マ
ーカを所望の位置に設定したのち、形状表示画面でシミ
ュレーション方法の設定を行う。例えば、“ｂｕｒｓ
ｔ”ボタンを用いてシミュレーションを連続に行う設定
をしたり、“ｓｔｅｐ”ボタンを用いて１工程ずつ行う
設定をする。また、“ｎｅｘｔ”ボタンを用いてシミュ
レーションを順方向に行う指示をしたり、“ｐｒｅｖ”
ボタンを用いてシミュレーションを逆方向に行う指示を
する。連続に行う場合には、例えば“ｉｎｔｅｒｖａ
ｌ”ボタンを用いて各工程の結果を少なくとも１秒間表
示する設定を行う。

【００３９】まだシミュレーションが行われていない場
合、“ｓｔａｒｔ”メニューをクリックすると工程デー
タに従ってシミュレーションが行われ、その結果を形状
表示部に表示するとともに、各工程ごとにその結果が前
述のファイルに保存される。ここでシミュレーションで
得られた形状データはデータ圧縮して保存される。工程
データ表示部は、シミュレーションの進行に伴い自動的
にスクロールされる。

【００４０】もし最終形状が所望の形状でない場合に
は、不都合のある工程を特定してそのプロセスパラメー
タを修正する必要がある。工程の前半に問題が有りそう
な場合には、最初の工程から順方向にシミュレーション
結果を連続表示すればよい。

【００４１】以上のように、一連の工程の全ての工程後
のシミュレーション結果または一部の工程のシミュレー
ション結果を自動的に記憶し、記憶したシミュレーショ
ン結果を利用することで、効率よくシミュレーションを
行うことができる。

【００４２】

【発明の効果】以上説明してきたように本発明に係る半
導体素子シミュレーション装置及びその方法を用いれ
ば、ユーザは効率よく問題点の特定をすることができ
る。また、煩雑な操作をすることなく短時間で効率よく
シミュレーションを行うことができるので、集積回路の
試作開発時間とコストを大幅に低減できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る半導体シミュレーション装置のブ
ロック図を示した図である。

【図２】工程データ表示画面を示した図である。

【図３】半導体素子の形状表示画面を示した図である。

【図４】従来の半導形状シミュレーションのフローチャ
ートを示した図である。

【符号の説明】

１ 半導体素子形状シミュレーション装置 ３ 入力装置 ５ 入力制御部 ７ シミュレション実行部 ９ シミュレーション結果保持部 １１ シミュレーション制御部 １３ａ，１３ｂ 表示部 １５ 工程表示画面 １７ 半導体形状表示画面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０６Ｆ 15/20 Ｄ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 半導体素子の形状のシミュレーションを
   行う方法において、 前記半導体素子の製作工程について連続してシミュレー
   ションを行うステップと、 任意の前記工程でシミュレーションを停止するステップ
   と、 各工程後、若しく一部の工程後のシミュレーション結果
   を保持するステップと、 前記保持されたシミュレーション結果を用いて、前記工
   程の進行の順方向または逆方向にシミュレーション結果
   を逐次または連続表示するステップと、 を有することを特徴とする半導体素子形状シミュレーシ
   ョン方法。
2. 【請求項２】 半導体素子の形状のシミュレーションを
   行う方法において、 前記半導体素子の製作工程について連続してシミュレー
   ションを行うステップと、 任意の前記工程でシミュレーションを停止するステップ
   と、 各工程後、若しくは一部の工程後のシミュレーション結
   果を保持するステップと、 前記保持されたシミュレーション結果を用いて、前記工
   程の進行の順方向または逆方向にシミュレーション結果
   を逐次または連続表示するステップと、 表示された前記シミュレーション結果に基づいて、前記
   工程の一部を変更するステップとを備え、 前記保持されたシミュレーション結果のうち、前記変更
   した工程より前の工程のシミュレーション結果を用いて
   前記工程の一部を変更し、さらに、変更した工程より後
   の工程のみついてシミュレーションを行うことを特徴と
   する半導体素子形状シミュレーション方法。
3. 【請求項３】 半導体素子の製作工程の形状シミュレー
   ションを行う装置において、 入力装置からの入力の制御を行う入力制御部と、 半導体素子の所定の製作工程のシミュレーションを行う
   シミュレーション実行部と、 このシミュレーション実行部にて出力された所定のシミ
   ュレーション結果を保持するシミュレーション結果保持
   部と、 このシミュレーション結果保持部に対して前記所定のシ
   ミュレーション結果を保持するように、前記シミュレー
   ション実行部においてシミュレーションを行う前に予め
   命令する保持命令部と、 前記保持されたシミュレーション結果を用いて、前記工
   程の進行方向の順方向または逆方向にシミュレーション
   結果を逐次または連続表示する表示部と、 を備えることを特徴とする半導体形状シミュレーション
   装置。