JPH0974061A - 除振装置及び露光装置 - Google Patents
除振装置及び露光装置Info
- Publication number
- JPH0974061A JPH0974061A JP7251888A JP25188895A JPH0974061A JP H0974061 A JPH0974061 A JP H0974061A JP 7251888 A JP7251888 A JP 7251888A JP 25188895 A JP25188895 A JP 25188895A JP H0974061 A JPH0974061 A JP H0974061A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vibration
- sensor
- displacement
- acceleration
- vibration isolation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 除振台が傾くことによる影響を受けることな
く、外乱振動の抑制（制振）効果を向上させる。 【解決手段】 除振台が揺れた場合に、制御装置１１の
振動制御系では６つの変位センサ１０及び６つの振動セ
ンサ５の出力に基づいて除振台の振動を抑制するように
アクチュエータ７Ａ〜７Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃを駆動制御
する。この場合において、振動補償系では、３つの鉛直
方向変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｘの出力に基
づいて得られる水平面に対する傾斜方向変位θx 、θy
がアンプ６４ａ、６４ｂによってｇ倍され、加算器（６
０，６２）、６８に入力され、これらの加算器によって
各水平方向加速度センサ５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの検出値
に含まれる重力加速度成分が除去される。
く、外乱振動の抑制（制振）効果を向上させる。 【解決手段】 除振台が揺れた場合に、制御装置１１の
振動制御系では６つの変位センサ１０及び６つの振動セ
ンサ５の出力に基づいて除振台の振動を抑制するように
アクチュエータ７Ａ〜７Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃを駆動制御
する。この場合において、振動補償系では、３つの鉛直
方向変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｘの出力に基
づいて得られる水平面に対する傾斜方向変位θx 、θy
がアンプ６４ａ、６４ｂによってｇ倍され、加算器（６
０，６２）、６８に入力され、これらの加算器によって
各水平方向加速度センサ５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの検出値
に含まれる重力加速度成分が除去される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、除振装置及び露光
装置に係り、更に詳しくは、除振台の振動を打ち消すよ
うにアクチュエータにより除振台を駆動するいわゆるア
クティブ方式の除振装置及びこの除振装置を備えた露光
装置に関する。
装置に係り、更に詳しくは、除振台の振動を打ち消すよ
うにアクチュエータにより除振台を駆動するいわゆるア
クティブ方式の除振装置及びこの除振装置を備えた露光
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ステップ・アンド・リピート方式の縮小
投影型露光装置、即ちいわゆるステッパ等の精密機器の
高精度化に伴い、設置床から定盤（除振台）に作用する
微振動をマイクロＧレベルで絶縁する必要が生じてい
る。除振装置の除振台を支持する除振パッドとしてはダ
ンピング液中に圧縮コイルバネを入れた機械式ダンパや
空気式ダンパ等種々のものが使用され、除振パッド自体
がある程度のセンタリング機能を備えている。特に、空
気式ダンパを備えた空気バネ除振装置はバネ定数を小さ
く設定でき、約１０Ｈｚ以上の振動を絶縁することか
ら、精密機器の支持に広く用いられている。また、最近
では従来のパッシブ除振装置の限界を打破するために、
アクティブ除振装置が提案されている（例えば、本願と
同一出願人に係る特願平７−８３５７７号等参照）。こ
れは、除振台の振動をセンサで検出し、このセンサの出
力に基づいてアクチュエータを駆動することにより振動
制御を行う除振装置であり、低周波制御帯域に共振ピー
クの無い理想的な振動絶縁効果を持たせることができる
ものである。
投影型露光装置、即ちいわゆるステッパ等の精密機器の
高精度化に伴い、設置床から定盤（除振台）に作用する
微振動をマイクロＧレベルで絶縁する必要が生じてい
る。除振装置の除振台を支持する除振パッドとしてはダ
ンピング液中に圧縮コイルバネを入れた機械式ダンパや
空気式ダンパ等種々のものが使用され、除振パッド自体
がある程度のセンタリング機能を備えている。特に、空
気式ダンパを備えた空気バネ除振装置はバネ定数を小さ
く設定でき、約１０Ｈｚ以上の振動を絶縁することか
ら、精密機器の支持に広く用いられている。また、最近
では従来のパッシブ除振装置の限界を打破するために、
アクティブ除振装置が提案されている（例えば、本願と
同一出願人に係る特願平７−８３５７７号等参照）。こ
れは、除振台の振動をセンサで検出し、このセンサの出
力に基づいてアクチュエータを駆動することにより振動
制御を行う除振装置であり、低周波制御帯域に共振ピー
クの無い理想的な振動絶縁効果を持たせることができる
ものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ステッパ等では、大き
な加減速を行うＸＹステージ（ウエハステージ）が除振
パッドに保持された定盤（除振台）上に搭載されてお
り、ステージ急加速時、急減速時等に外乱力により定盤
が大きな振幅で揺らされる。アクティブ除振装置では、
振動センサとして加速度センサが用いられることが多
く、特に露光装置では除振パッド上に水平に保持された
定盤上に水平面内のＸＹ２次元方向の加速度を検出する
水平方向加速度センサが配置されることがある。かかる
場合に、前述した如く、除振台が大きな振幅で揺らさ
れ、傾いた場合に、水平方向加速度センサは、本来の検
出方向の加速度と共に定盤の傾き量に比例した重力加速
度成分を検出してしまう。この重力加速度成分は振動制
御ループに悪影響を与えることからできるだけ小さく抑
えることが望ましいが、従来のアクティブ除振装置で
は、重力加速度成分までも考慮したものは見受けられな
い。
な加減速を行うＸＹステージ（ウエハステージ）が除振
パッドに保持された定盤（除振台）上に搭載されてお
り、ステージ急加速時、急減速時等に外乱力により定盤
が大きな振幅で揺らされる。アクティブ除振装置では、
振動センサとして加速度センサが用いられることが多
く、特に露光装置では除振パッド上に水平に保持された
定盤上に水平面内のＸＹ２次元方向の加速度を検出する
水平方向加速度センサが配置されることがある。かかる
場合に、前述した如く、除振台が大きな振幅で揺らさ
れ、傾いた場合に、水平方向加速度センサは、本来の検
出方向の加速度と共に定盤の傾き量に比例した重力加速
度成分を検出してしまう。この重力加速度成分は振動制
御ループに悪影響を与えることからできるだけ小さく抑
えることが望ましいが、従来のアクティブ除振装置で
は、重力加速度成分までも考慮したものは見受けられな
い。
【０００４】本発明は、かかる事情の下になされたもの
で、その目的は除振台が傾くことによる影響を受けるこ
となく、外乱振動の抑制（制振）効果を向上させること
ができる除振装置及びこれを備えた露光装置を提供する
ことにある。
で、その目的は除振台が傾くことによる影響を受けるこ
となく、外乱振動の抑制（制振）効果を向上させること
ができる除振装置及びこれを備えた露光装置を提供する
ことにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明に
係る除振装置は、少なくとも３個の除振パッドを介して
水平に保持された除振台と；前記除振台を異なる箇所で
鉛直方向に駆動する少なくとも３つのアクチュエータを
含む複数のアクチュエータと；前記除振台の異なる点の
鉛直方向変位を検出する少なくとも３つの鉛直方向変位
センサを含む複数の変位センサと；前記除振台の水平面
内の所定の方向の加速度を検出する水平方向加速度セン
サを少なくとも一つ含む複数の振動センサと；前記変位
センサ及び振動センサの出力に基づいて前記除振台の振
動を抑制するように前記各アクチュエータを駆動制御す
る振動制御系と；前記３つの変位センサの出力に基づい
て得られる水平面に対する傾斜方向変位に基づいて前記
各水平方向加速度センサの検出値に含まれる重力加速度
成分を除去する振動補償系とを有する。
係る除振装置は、少なくとも３個の除振パッドを介して
水平に保持された除振台と；前記除振台を異なる箇所で
鉛直方向に駆動する少なくとも３つのアクチュエータを
含む複数のアクチュエータと；前記除振台の異なる点の
鉛直方向変位を検出する少なくとも３つの鉛直方向変位
センサを含む複数の変位センサと；前記除振台の水平面
内の所定の方向の加速度を検出する水平方向加速度セン
サを少なくとも一つ含む複数の振動センサと；前記変位
センサ及び振動センサの出力に基づいて前記除振台の振
動を抑制するように前記各アクチュエータを駆動制御す
る振動制御系と；前記３つの変位センサの出力に基づい
て得られる水平面に対する傾斜方向変位に基づいて前記
各水平方向加速度センサの検出値に含まれる重力加速度
成分を除去する振動補償系とを有する。
【０００６】これによれば、除振台が揺れた場合に、振
動制御系では変位センサ及び振動センサの出力に基づい
て除振台の振動を抑制するように各アクチュエータを駆
動制御する。この場合において、振動補償系では、３つ
の鉛直方向変位センサの出力に基づいて得られる水平面
に対する傾斜方向変位に基づいて各水平方向加速度セン
サの検出値に含まれる重力加速度成分を除去する。従っ
て、振動制御系では重力加速度成分が除かれた水平方向
加速度センサの出力に基づいて各アクチュエータを駆動
制御しているので、除振台が傾くことによる影響を受け
ることなく、外乱振動の抑制（制振）効果が向上する。
動制御系では変位センサ及び振動センサの出力に基づい
て除振台の振動を抑制するように各アクチュエータを駆
動制御する。この場合において、振動補償系では、３つ
の鉛直方向変位センサの出力に基づいて得られる水平面
に対する傾斜方向変位に基づいて各水平方向加速度セン
サの検出値に含まれる重力加速度成分を除去する。従っ
て、振動制御系では重力加速度成分が除かれた水平方向
加速度センサの出力に基づいて各アクチュエータを駆動
制御しているので、除振台が傾くことによる影響を受け
ることなく、外乱振動の抑制（制振）効果が向上する。
【０００７】請求項２に記載の発明は、マスクに形成さ
れたパターンを投影光学系を介して基板ステージ上の前
記感光基板に転写する露光装置であって、前記請求項１
に記載の除振装置を前記基板ステージが搭載された露光
本体部の除振装置として具備することを特徴とする。
れたパターンを投影光学系を介して基板ステージ上の前
記感光基板に転写する露光装置であって、前記請求項１
に記載の除振装置を前記基板ステージが搭載された露光
本体部の除振装置として具備することを特徴とする。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１ないし図４に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
【０００９】図１には、一実施例に係るステップ・アン
ド・スキャン型の露光装置１００の概略斜視図が示され
ている。この図１において、設置面としての床上に長方
形板状の台座２が設置され、この台座２上に除振パッド
４Ａ〜４Ｄ（但し、図１では紙面奥側の除振パッド４Ｄ
は図示せず）が設置され、これらの除振パッド４Ａ〜４
Ｄ上に除振台としての長方形状の定盤６が設置されてい
る。ここで、後述するように本実施例では投影光学系Ｐ
Ｌが使用されているため、投影光学系ＰＬの光軸に平行
にＺ軸を取り、Ｚ軸に直交する平面内で定盤６の長手方
向にＸ軸を、これに直交する方向にＹ軸を取る。また、
それぞれの軸回りの回転方向をＺθ、Ｘθ、Ｙθ方向と
定める。なお、以下の説明において、必要に応じ、図１
中のＸ、Ｙ、Ｚ軸を示す各矢印の示す方向を＋Ｘ、＋
Ｙ、＋Ｚ方向、これと反対の方向を−Ｘ、−Ｙ、−Ｚ方
向と区別して用いるものとする。
ド・スキャン型の露光装置１００の概略斜視図が示され
ている。この図１において、設置面としての床上に長方
形板状の台座２が設置され、この台座２上に除振パッド
４Ａ〜４Ｄ（但し、図１では紙面奥側の除振パッド４Ｄ
は図示せず）が設置され、これらの除振パッド４Ａ〜４
Ｄ上に除振台としての長方形状の定盤６が設置されてい
る。ここで、後述するように本実施例では投影光学系Ｐ
Ｌが使用されているため、投影光学系ＰＬの光軸に平行
にＺ軸を取り、Ｚ軸に直交する平面内で定盤６の長手方
向にＸ軸を、これに直交する方向にＹ軸を取る。また、
それぞれの軸回りの回転方向をＺθ、Ｘθ、Ｙθ方向と
定める。なお、以下の説明において、必要に応じ、図１
中のＸ、Ｙ、Ｚ軸を示す各矢印の示す方向を＋Ｘ、＋
Ｙ、＋Ｚ方向、これと反対の方向を−Ｘ、−Ｙ、−Ｚ方
向と区別して用いるものとする。
【００１０】除振パッド４Ａ〜４Ｄは、それぞれ定盤６
の長方形の底面の４個の頂点付近に配置されている。本
実施例では、除振パッド４Ａ〜４Ｄとして空気式ダンパ
が使用され、空気の圧力により除振パッド４Ａ〜４Ｄの
高さを調整できるため、その空気式ダンパは上下動機構
の役目をも兼ねている。勿論、上下動機構を別に設けて
ダンピング液中に圧縮コイルばねを入れた機械式ダンパ
等を除振パッドとして使用してもよい。
の長方形の底面の４個の頂点付近に配置されている。本
実施例では、除振パッド４Ａ〜４Ｄとして空気式ダンパ
が使用され、空気の圧力により除振パッド４Ａ〜４Ｄの
高さを調整できるため、その空気式ダンパは上下動機構
の役目をも兼ねている。勿論、上下動機構を別に設けて
ダンピング液中に圧縮コイルばねを入れた機械式ダンパ
等を除振パッドとして使用してもよい。
【００１１】台座２と定盤６との間に除振パッド４Ａと
並列にアクチュエータ７Ａが設置されている。アクチュ
エータ７Ａは、台座２上に固定された固定子９Ａと定盤
６の底面に固定された可動子８Ａとから構成され、制御
装置１１（図１では図示省略、図３参照）からの指示に
応じて台座２から定盤６の底面に対するＺ方向の付勢
力、又は定盤６の底面から台座２に向かう吸引力を発生
する。他の除振パッド４Ｂ〜４Ｄにおいても、除振パッ
ド４Ａと同様にそれぞれ並列にアクチュエータ７Ｂ〜７
Ｄが設置され（但し、図１では紙面奥側のアクチュエー
タ７Ｃ、７Ｄは図示せず）、これらのアクチュエータ７
Ｂ〜７Ｄの付勢力又は吸引力もそれぞれ制御装置１１
（図１では図示省略、図３参照）により設定される。ア
クチュエータ７Ａ〜７Ｄの制御方法については、後述す
る。
並列にアクチュエータ７Ａが設置されている。アクチュ
エータ７Ａは、台座２上に固定された固定子９Ａと定盤
６の底面に固定された可動子８Ａとから構成され、制御
装置１１（図１では図示省略、図３参照）からの指示に
応じて台座２から定盤６の底面に対するＺ方向の付勢
力、又は定盤６の底面から台座２に向かう吸引力を発生
する。他の除振パッド４Ｂ〜４Ｄにおいても、除振パッ
ド４Ａと同様にそれぞれ並列にアクチュエータ７Ｂ〜７
Ｄが設置され（但し、図１では紙面奥側のアクチュエー
タ７Ｃ、７Ｄは図示せず）、これらのアクチュエータ７
Ｂ〜７Ｄの付勢力又は吸引力もそれぞれ制御装置１１
（図１では図示省略、図３参照）により設定される。ア
クチュエータ７Ａ〜７Ｄの制御方法については、後述す
る。
【００１２】次に、アクチュエータ７Ａの具体的構成に
ついて図２に基づいて説明する。
ついて図２に基づいて説明する。
【００１３】図２（ａ）には、アクチュエータ７Ａの構
成の一例が示されている。この図２（ａ）において、固
定子９Ａは、Ｎ極の軸９Ａａの両側にＳ極の軸９Ａｂ，
９Ａｃが形成された発磁体よりなる。また、可動子８Ａ
は、軸９Ａａに遊嵌する内筒１２、この内筒１２の外側
に巻回されたコイル１３、及びこのコイル１３を覆う外
筒１４より構成され、コイル１３に流れる電流を調整す
ることにより、固定子９Ａと可動子８Ａとの間に軸９Ａ
ａに平行な方向（±Ｚ方向）の力が発生する。
成の一例が示されている。この図２（ａ）において、固
定子９Ａは、Ｎ極の軸９Ａａの両側にＳ極の軸９Ａｂ，
９Ａｃが形成された発磁体よりなる。また、可動子８Ａ
は、軸９Ａａに遊嵌する内筒１２、この内筒１２の外側
に巻回されたコイル１３、及びこのコイル１３を覆う外
筒１４より構成され、コイル１３に流れる電流を調整す
ることにより、固定子９Ａと可動子８Ａとの間に軸９Ａ
ａに平行な方向（±Ｚ方向）の力が発生する。
【００１４】図２（ｂ）には、アクチュエータ７Ａの別
の例が示されている。この図２（ｂ）において、第１部
材１５に磁性体の固定子１６が固定され、第２部材１７
に固定子１６を挟むように内筒１８Ａ及び１８Ｂが固定
され、内筒１８Ａ及び１８Ｂの外側にそれぞれコイル１
９Ａ及び１９Ｂが巻回されている。この場合も、コイル
１９Ａ及び１９Ｂに流す電流を調整することにより、第
１部材１５と第２部材１７との間の吸引力のバランスを
変化させて力を発生する。その他のアクチュエータ７Ｂ
〜７Ｄもアクチュエータ７Ａと同様に構成されている。
の例が示されている。この図２（ｂ）において、第１部
材１５に磁性体の固定子１６が固定され、第２部材１７
に固定子１６を挟むように内筒１８Ａ及び１８Ｂが固定
され、内筒１８Ａ及び１８Ｂの外側にそれぞれコイル１
９Ａ及び１９Ｂが巻回されている。この場合も、コイル
１９Ａ及び１９Ｂに流す電流を調整することにより、第
１部材１５と第２部材１７との間の吸引力のバランスを
変化させて力を発生する。その他のアクチュエータ７Ｂ
〜７Ｄもアクチュエータ７Ａと同様に構成されている。
【００１５】図１に戻り、定盤６の＋Ｙ方向側の側面に
は、定盤６のＺ方向加速度を検出する振動センサとして
の加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 が取り付けられている。
また、定盤６上面の＋Ｙ方向端部には定盤６のＹ方向加
速度を検出する振動センサとしての加速度センサ５
Ｙ1 、５Ｙ2 が取り付けられ、定盤６上面の＋Ｘ方向端
部には定盤６のＸ方向加速度を検出する振動センサとし
ての加速度センサ５Ｘが取り付けられている。これらの
加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘと
しては、例えばピエゾ抵抗効果型あるいは静電容量型の
半導体式加速度センサが使用される。これらの加速度セ
ンサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの出力も制
御装置１１（図１では図示省略、図３参照）に供給され
ている。
は、定盤６のＺ方向加速度を検出する振動センサとして
の加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 が取り付けられている。
また、定盤６上面の＋Ｙ方向端部には定盤６のＹ方向加
速度を検出する振動センサとしての加速度センサ５
Ｙ1 、５Ｙ2 が取り付けられ、定盤６上面の＋Ｘ方向端
部には定盤６のＸ方向加速度を検出する振動センサとし
ての加速度センサ５Ｘが取り付けられている。これらの
加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘと
しては、例えばピエゾ抵抗効果型あるいは静電容量型の
半導体式加速度センサが使用される。これらの加速度セ
ンサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの出力も制
御装置１１（図１では図示省略、図３参照）に供給され
ている。
【００１６】また、定盤６の＋Ｙ方向側の側面には、所
定面積の矩形の金属板（導電性材料）２３1 、２３2 が
貼り付けられている。本実施例では、定盤６として非導
電性材料であるセラミックス製の定盤が使用されてお
り、金属板２３1 、２３2 に対向する位置に定盤のＹ方
向変位を検出する変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2 （図１
では図面の錯綜をさけるため図示省略、図３参照）が設
けられている。これらの変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2
としては、例えば、渦電流変位センサが使用される。こ
の渦電流変位センサによれば、予め絶縁体に巻いたコイ
ルに交流電圧を加えておき、導電性材料（導電体）から
成る測定対象に近づけると、コイルによって作られた交
流磁界によって導電体に渦電流が発生し、この渦電流に
よって発生する磁界は、コイルの電流によって作られた
磁界と逆方向であり、これら２つの磁界が重なり合っ
て、コイルの出力に影響を与え、コイルに流れる電流の
強さ及び位相が変化する。この変化は、対象がコイルに
近いほど大きくなり、逆に遠いほど小さくなるので、コ
イルから電気信号を取り出すことにより、対象の位置、
変位を知る事ができる。この他、変位センサとして、静
電容量がセンサの電極と測定対象物間の距離に反比例す
ることを利用して非接触でセンサと測定対象物間の距離
を検出する静電容量式非接触変位センサを使用しても良
い。なお、背景光の影響を阻止できる構成にすれば、変
位センサとしてＰＳＤ（半導体光位置検出器）を使用す
ることも可能である。
定面積の矩形の金属板（導電性材料）２３1 、２３2 が
貼り付けられている。本実施例では、定盤６として非導
電性材料であるセラミックス製の定盤が使用されてお
り、金属板２３1 、２３2 に対向する位置に定盤のＹ方
向変位を検出する変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2 （図１
では図面の錯綜をさけるため図示省略、図３参照）が設
けられている。これらの変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2
としては、例えば、渦電流変位センサが使用される。こ
の渦電流変位センサによれば、予め絶縁体に巻いたコイ
ルに交流電圧を加えておき、導電性材料（導電体）から
成る測定対象に近づけると、コイルによって作られた交
流磁界によって導電体に渦電流が発生し、この渦電流に
よって発生する磁界は、コイルの電流によって作られた
磁界と逆方向であり、これら２つの磁界が重なり合っ
て、コイルの出力に影響を与え、コイルに流れる電流の
強さ及び位相が変化する。この変化は、対象がコイルに
近いほど大きくなり、逆に遠いほど小さくなるので、コ
イルから電気信号を取り出すことにより、対象の位置、
変位を知る事ができる。この他、変位センサとして、静
電容量がセンサの電極と測定対象物間の距離に反比例す
ることを利用して非接触でセンサと測定対象物間の距離
を検出する静電容量式非接触変位センサを使用しても良
い。なお、背景光の影響を阻止できる構成にすれば、変
位センサとしてＰＳＤ（半導体光位置検出器）を使用す
ることも可能である。
【００１７】また、定盤６上面の＋Ｙ方向端部には所定
面積の金属版２３3 、２３4 が貼り付けられている。こ
れらの金属板２３3 、２３4 に対向して定盤６のＺ方向
変位を検出する渦電流変位センサから成る変位センサ１
０Ｚ1 、１０Ｚ2 （図１では図示省略、図３参照）が設
けられている。さらに、定盤６上面の＋Ｘ方向の側面に
は所定面積の金属板２３5 が貼り付けられ、この金属板
２３5 に対向して定盤６のＸ方向変位を検出する渦電流
変位センサから成る変位センサ１０Ｘ（図１では図示省
略、図３参照）が設けられている。変位センサ１０
Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｘの出力も
制御装置１１（図１では図示省略、図３参照）に供給さ
れている。
面積の金属版２３3 、２３4 が貼り付けられている。こ
れらの金属板２３3 、２３4 に対向して定盤６のＺ方向
変位を検出する渦電流変位センサから成る変位センサ１
０Ｚ1 、１０Ｚ2 （図１では図示省略、図３参照）が設
けられている。さらに、定盤６上面の＋Ｘ方向の側面に
は所定面積の金属板２３5 が貼り付けられ、この金属板
２３5 に対向して定盤６のＸ方向変位を検出する渦電流
変位センサから成る変位センサ１０Ｘ（図１では図示省
略、図３参照）が設けられている。変位センサ１０
Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｘの出力も
制御装置１１（図１では図示省略、図３参照）に供給さ
れている。
【００１８】定盤６上には図示しない駆動手段によって
ＸＹ２次元方向に駆動される基板ステージとしてのＸＹ
ステージ２０が載置されている。更に、このＸＹステー
ジ２０上にＺレベリングステージ、θステージ（いずれ
も図示省略）及びウエハホルダ２１を介して感光基板と
してのウエハＷが吸着保持されている。定盤６上でＸＹ
ステージ２０を囲むように第１コラム２４が植設され、
第１コラム２４の上板の中央部に投影光学系ＰＬが固定
され、第１コラム２４の上板に投影光学系ＰＬを囲むよ
うに第２コラム２６が植設され、第２コラム２６の上板
の中央部にレチクルステージ２７を介してマスクとして
のレチクルＲが載置されている。
ＸＹ２次元方向に駆動される基板ステージとしてのＸＹ
ステージ２０が載置されている。更に、このＸＹステー
ジ２０上にＺレベリングステージ、θステージ（いずれ
も図示省略）及びウエハホルダ２１を介して感光基板と
してのウエハＷが吸着保持されている。定盤６上でＸＹ
ステージ２０を囲むように第１コラム２４が植設され、
第１コラム２４の上板の中央部に投影光学系ＰＬが固定
され、第１コラム２４の上板に投影光学系ＰＬを囲むよ
うに第２コラム２６が植設され、第２コラム２６の上板
の中央部にレチクルステージ２７を介してマスクとして
のレチクルＲが載置されている。
【００１９】ＸＹステージ２０のＹ方向の移動位置は、
位置計測手段としてのＹ軸用レーザ干渉計３０Ｙによっ
て計測され、ＸＹステージ２０のＸ方向の移動位置は、
位置計測手段としてのＸ軸用レーザ干渉計３０Ｘによっ
て計測されるようになっており、これらのレーザ干渉計
３０Ｙ、３０Ｘの出力は図示しない主制御装置に入力さ
れている。Ｚレベリングステージは、Ｚ軸方向の駆動及
びＺ軸に対する傾斜が調整可能に構成され、θステージ
はＺ軸回りの微小回転が可能に構成されている。従っ
て、ＸＹステージ２０、Ｚレベリングステージ及びθス
テージによって、ウエハＷは３次元的に位置決めが可能
となっている。
位置計測手段としてのＹ軸用レーザ干渉計３０Ｙによっ
て計測され、ＸＹステージ２０のＸ方向の移動位置は、
位置計測手段としてのＸ軸用レーザ干渉計３０Ｘによっ
て計測されるようになっており、これらのレーザ干渉計
３０Ｙ、３０Ｘの出力は図示しない主制御装置に入力さ
れている。Ｚレベリングステージは、Ｚ軸方向の駆動及
びＺ軸に対する傾斜が調整可能に構成され、θステージ
はＺ軸回りの微小回転が可能に構成されている。従っ
て、ＸＹステージ２０、Ｚレベリングステージ及びθス
テージによって、ウエハＷは３次元的に位置決めが可能
となっている。
【００２０】レチクルステージ２７は、レチクルＲのＹ
軸方向の微調整、及び回転角の調整が可能に構成されて
いる。また、このレチクルステージ２７は、図示しない
駆動手段によってＸ方向に駆動されるようになってお
り、このレチクルステージ２７のＸ方向位置は位置計測
手段としてのレチクルレーザ干渉計３０Ｒによって計測
され、このレチクルレーザ干渉計３０Ｒの出力も図示し
ない主制御装置に入力されている。
軸方向の微調整、及び回転角の調整が可能に構成されて
いる。また、このレチクルステージ２７は、図示しない
駆動手段によってＸ方向に駆動されるようになってお
り、このレチクルステージ２７のＸ方向位置は位置計測
手段としてのレチクルレーザ干渉計３０Ｒによって計測
され、このレチクルレーザ干渉計３０Ｒの出力も図示し
ない主制御装置に入力されている。
【００２１】更に、レチクルＲの上方には、図示しない
照明光学系が配置され、図示しない主制御装置ではレチ
クルＲ及びウエハＷの相対位置合わせ（アライメント）
及び図示しない焦点検出系によるオートフォーカスを行
ないつつ、照明光学系からの露光用の照明光ＥＬの下
で、レチクルＲのパターンの投影光学系ＰＬを介した像
をウエハＷの各ショット領域に順次露光するようになっ
ている。本実施例では、各ショット領域の露光に際して
は主制御装置によりＸＹステージ２０とレチクルステー
ジ２７とがそれぞれの駆動手段を介してＸ軸方向（走査
方向）に沿って所定の速度比で相対走査される。
照明光学系が配置され、図示しない主制御装置ではレチ
クルＲ及びウエハＷの相対位置合わせ（アライメント）
及び図示しない焦点検出系によるオートフォーカスを行
ないつつ、照明光学系からの露光用の照明光ＥＬの下
で、レチクルＲのパターンの投影光学系ＰＬを介した像
をウエハＷの各ショット領域に順次露光するようになっ
ている。本実施例では、各ショット領域の露光に際して
は主制御装置によりＸＹステージ２０とレチクルステー
ジ２７とがそれぞれの駆動手段を介してＸ軸方向（走査
方向）に沿って所定の速度比で相対走査される。
【００２２】第１コラム２４は、４本の脚部２４ａ〜２
４ｄ（但し、図１では紙面奥側の脚部２４ｄは図示せ
ず）により定盤６上に接触している。脚部２４ｂの＋Ｘ
方向の側面には、第１コラム２４のＺ方向の加速度を検
出する加速度センサ５Ｚ3 が取り付けられている。この
加速度センサ５Ｚ3 としては、例えばピエゾ抵抗効果型
あるいは静電容量型の半導体式加速度センサが使用され
る。この加速度センサ５Ｚ3 の出力も制御装置１１（図
１では図示省略、図３参照）に入力されている。また、
第１コラム２４の上板上面の＋Ｙ方向端部でかつ＋Ｘ方
向端部となるコーナーの部分には、所定面積の金属板２
３6 が貼り付けられている。この金属板２３6 に対向し
て第１コラム２４のＺ方向変位を検出する渦電流変位セ
ンサから成る変位センサ１０Ｚ3 （図１では図示省略、
図３参照）が設けられている。
４ｄ（但し、図１では紙面奥側の脚部２４ｄは図示せ
ず）により定盤６上に接触している。脚部２４ｂの＋Ｘ
方向の側面には、第１コラム２４のＺ方向の加速度を検
出する加速度センサ５Ｚ3 が取り付けられている。この
加速度センサ５Ｚ3 としては、例えばピエゾ抵抗効果型
あるいは静電容量型の半導体式加速度センサが使用され
る。この加速度センサ５Ｚ3 の出力も制御装置１１（図
１では図示省略、図３参照）に入力されている。また、
第１コラム２４の上板上面の＋Ｙ方向端部でかつ＋Ｘ方
向端部となるコーナーの部分には、所定面積の金属板２
３6 が貼り付けられている。この金属板２３6 に対向し
て第１コラム２４のＺ方向変位を検出する渦電流変位セ
ンサから成る変位センサ１０Ｚ3 （図１では図示省略、
図３参照）が設けられている。
【００２３】更に、第１コラム２４の−Ｘ方向の側面に
可動軸３５Ａが埋め込まれ、可動軸３５Ａと床上に固定
された図示しない支柱との間にアクチュエータ３２Ａが
取り付けられている。アクチュエータ３２Ａは、アクチ
ュエータ７Ａと同様に、図示しない支柱に固定された発
磁体よりなる固定子３４Ａと、可動軸３５Ａに取り付け
られたコイルを含む可動子３３Ａとから構成され、制御
装置１１から可動子３３Ａ内のコイルに流れる電流を調
整することにより、可動軸３５Ａに対して±Ｙ方向に力
を与えることができる。同様に、第１コラム２４の＋Ｘ
方向の側面に可動軸３５Ｂが埋め込まれ、可動軸３５Ｂ
と床上に固定された図示しない支柱との間に、アクチュ
エータ３２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｂが取り
付けられ、制御装置１１からの指示により可動軸３５Ｂ
に対して±Ｙ方向に力を与えることができるようになっ
ている。また、第１コラム２４の＋Ｘ方向の側面の中央
部と床上の図示しない支柱との間に、アクチュエータ３
２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｃが設置され、制
御装置１１からの指示によりアクチュエータ３２Ｃを介
して第１コラム２４に対して±Ｘ方向に力を与えること
ができる。制御装置１１による、アクチュエータ３２Ａ
〜３２Ｃの制御方法についても後述する。
可動軸３５Ａが埋め込まれ、可動軸３５Ａと床上に固定
された図示しない支柱との間にアクチュエータ３２Ａが
取り付けられている。アクチュエータ３２Ａは、アクチ
ュエータ７Ａと同様に、図示しない支柱に固定された発
磁体よりなる固定子３４Ａと、可動軸３５Ａに取り付け
られたコイルを含む可動子３３Ａとから構成され、制御
装置１１から可動子３３Ａ内のコイルに流れる電流を調
整することにより、可動軸３５Ａに対して±Ｙ方向に力
を与えることができる。同様に、第１コラム２４の＋Ｘ
方向の側面に可動軸３５Ｂが埋め込まれ、可動軸３５Ｂ
と床上に固定された図示しない支柱との間に、アクチュ
エータ３２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｂが取り
付けられ、制御装置１１からの指示により可動軸３５Ｂ
に対して±Ｙ方向に力を与えることができるようになっ
ている。また、第１コラム２４の＋Ｘ方向の側面の中央
部と床上の図示しない支柱との間に、アクチュエータ３
２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｃが設置され、制
御装置１１からの指示によりアクチュエータ３２Ｃを介
して第１コラム２４に対して±Ｘ方向に力を与えること
ができる。制御装置１１による、アクチュエータ３２Ａ
〜３２Ｃの制御方法についても後述する。
【００２４】ここで、露光装置１００の設置時の定盤６
の高さ及び水平レベルの調整について簡単に説明する
と、変位センサ１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｚ3 で計測さ
れた定盤６のＺ方向変位（高さ）が図示しない除振パッ
ド４Ａ〜４Ｄの制御系（図示省略）に伝えられ、これら
のデータを基に除振パッド４Ａ〜４Ｄの制御系は、定盤
６の高さを予め設定されている値にすると共に水平レベ
ルを維持するための各除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さを算
出する。その後、この制御系は、除振パッド４Ａ〜４Ｄ
の高さをそれぞれその算出された高さに設定する。その
後、除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さはそれぞれその設定値
に維持される。これにより、定盤６に歪みが生ずること
がなく、定盤６上のＸＹステージ２０の位置決め精度等
が高精度に維持される。
の高さ及び水平レベルの調整について簡単に説明する
と、変位センサ１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｚ3 で計測さ
れた定盤６のＺ方向変位（高さ）が図示しない除振パッ
ド４Ａ〜４Ｄの制御系（図示省略）に伝えられ、これら
のデータを基に除振パッド４Ａ〜４Ｄの制御系は、定盤
６の高さを予め設定されている値にすると共に水平レベ
ルを維持するための各除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さを算
出する。その後、この制御系は、除振パッド４Ａ〜４Ｄ
の高さをそれぞれその算出された高さに設定する。その
後、除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さはそれぞれその設定値
に維持される。これにより、定盤６に歪みが生ずること
がなく、定盤６上のＸＹステージ２０の位置決め精度等
が高精度に維持される。
【００２５】本実施例では、定盤６、ＸＹステージ２
０、ウエハホルダ２１、第１コラム２４、投影光学系Ｐ
Ｌ、第２コラム２６、及びレチクルステージ２７等によ
り露光本体部４０（図３参照）が構成されている。
０、ウエハホルダ２１、第１コラム２４、投影光学系Ｐ
Ｌ、第２コラム２６、及びレチクルステージ２７等によ
り露光本体部４０（図３参照）が構成されている。
【００２６】次に、この露光本体部４０の除振のための
アクチュエータ７Ａ〜７Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃの制御系に
ついて、制御装置１１を中心に、図３のブロック図に基
づいて説明する。
アクチュエータ７Ａ〜７Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃの制御系に
ついて、制御装置１１を中心に、図３のブロック図に基
づいて説明する。
【００２７】制御装置１１は、変位センサ１０Ｚ1 、１
０Ｚ2 、１０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｘ及び加
速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、
５Ｘの出力に基づいて定盤６を含む露光本体部４０の振
動を抑制するようにアクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、
７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃを駆動制御する振動制御
系と、Ｚ方向変位を検出する３つの変位センサ１０
Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｚ3の出力に基づいて得られる水
平面に対する傾斜方向変位に基づいて水平方向加速度セ
ンサとしての加速度センサ５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの検出
値に含まれる重力加速度成分を除去する振動補償系とを
有する。
０Ｚ2 、１０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｘ及び加
速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、
５Ｘの出力に基づいて定盤６を含む露光本体部４０の振
動を抑制するようにアクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、
７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃを駆動制御する振動制御
系と、Ｚ方向変位を検出する３つの変位センサ１０
Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｚ3の出力に基づいて得られる水
平面に対する傾斜方向変位に基づいて水平方向加速度セ
ンサとしての加速度センサ５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの検出
値に含まれる重力加速度成分を除去する振動補償系とを
有する。
【００２８】これを更に詳述すると、振動制御系は、変
位センサ１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１
０Ｙ2 、１０Ｘの出力を図示しないＡ／Ｄコンバータを
それぞれ介して入力し、露光本体部４０の重心Ｇの６自
由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｘθ、Ｙθ、Ｚθ：図１参照）
の変位量（ｘ、ｙ、ｚ、θx 、θy 、θz ）に変換する
第１の座標変換部４２と、この第１の座標変換部４２で
変換後の重心の６自由度方向の変位量（ｘ、ｙ、ｚ、θ
x 、θy 、θz ）を目標値出力部４４から入力される６
自由度方向の重心位置の目標値（ｘ0 、ｙ0 、ｚ0 、θ
x0 、θy0 、θz0）からそれぞれ減じて６自由度のそれ
ぞれの方向の位置偏差（Δｘ＝ｘ0 −ｘ、Δｙ＝ｙ0 −
ｙ、Δｚ＝ｚ0 −ｚ、Δθx ＝θx0−θx 、Δθy ＝θ
y0−θy、Δθz ＝θz0−θz ）をそれぞれ算出する６
つの減算器４６ａ〜４６ｆと、６自由度のそれぞれの方
向の位置偏差Δｘ、Δｙ、Δｚ、Δθx 、Δθy 、Δθ
zを動作信号として制御動作を行なうＰＩコントローラ
から成る６自由度のそれぞれの方向の位置コントローラ
ＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰ
Ｉと、加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、
５Ｙ2 、５Ｘの出力を図示しないＡ／Ｄコンバータをそ
れぞれ介して入力し、重心Ｇの６自由度方向の加速度
（ｘ”、ｙ”、ｚ”、θx ”、θy ”、θz ”）に変換
する第２の座標変換部４８と、この第２の座標変換部４
８で変換後の重心Ｇの６自由度方向の加速度ｘ”、
ｙ”、ｚ”、θx ”、θy ”、θz ”をそれぞれ積分し
てそれぞれの方向の重心Ｇの速度ｘ’、ｙ’、ｚ’、θ
x ’、θy ’、θz ’に変換する６つの積分器５０ａ〜
５０ｆと、位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、
ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩの出力を速度指令値
ｘ0 ’、ｙ0 ’、ｚ0 ’、θx0’、θy0’、θz0’にそ
れぞれ変換する速度変換ゲイン５２ａ〜５２ｆと、この
変換後の速度指令値ｘ0 ’、ｙ0 ’、ｚ0 ’、θx0’、
θy0’、θz0’から積分器５０ａ〜５０ｆの出力ｘ’、
ｙ’、ｚ’、θx ’、θy ’、θz ’をそれぞれ減じて
６自由度方向のそれぞれの方向の速度偏差（Δｘ’＝ｘ
0 ’−ｘ’、Δｙ’＝ｙ0 ’−ｙ’、Δｚ’＝ｚ0 ’−
ｚ’、Δθx ’＝θx0’−θx ’、Δθy ’＝θy0’−
θy ’、Δθz ’＝θz0’−θz ’）を算出する６つの
減算器５４ａ〜５４ｆと、６自由度のそれぞれの方向の
速度偏差Δｘ’、Δｙ’、Δｚ’、Δθx ’、Δ
θy ’、Δθz ’を動作信号として制御動作を行なうＰ
Ｉコントローラから成る６自由度のそれぞれの方向の速
度コントローラＶＸＰＩ、ＶＹＰＩ、ＶＺＰＩ、ＶＸθ
ＰＩ、ＶＹθＰＩ、ＶＺθＰＩと、 これらのコントロ
ーラで演算された６自由度のそれぞれの方向の速度制御
量を各アクチュエータの位置で発生すべき速度指令値に
変換するための非干渉化演算を行なう非干渉化計算部５
６と、この非干渉化計算部５６で変換後の各アクチュエ
ータの位置で発生すべき速度指令値を各アクチュエータ
で発生すべき推力にそれぞれ変換する推力ゲイン５８ａ
〜５８ｇとを有する。
位センサ１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１
０Ｙ2 、１０Ｘの出力を図示しないＡ／Ｄコンバータを
それぞれ介して入力し、露光本体部４０の重心Ｇの６自
由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｘθ、Ｙθ、Ｚθ：図１参照）
の変位量（ｘ、ｙ、ｚ、θx 、θy 、θz ）に変換する
第１の座標変換部４２と、この第１の座標変換部４２で
変換後の重心の６自由度方向の変位量（ｘ、ｙ、ｚ、θ
x 、θy 、θz ）を目標値出力部４４から入力される６
自由度方向の重心位置の目標値（ｘ0 、ｙ0 、ｚ0 、θ
x0 、θy0 、θz0）からそれぞれ減じて６自由度のそれ
ぞれの方向の位置偏差（Δｘ＝ｘ0 −ｘ、Δｙ＝ｙ0 −
ｙ、Δｚ＝ｚ0 −ｚ、Δθx ＝θx0−θx 、Δθy ＝θ
y0−θy、Δθz ＝θz0−θz ）をそれぞれ算出する６
つの減算器４６ａ〜４６ｆと、６自由度のそれぞれの方
向の位置偏差Δｘ、Δｙ、Δｚ、Δθx 、Δθy 、Δθ
zを動作信号として制御動作を行なうＰＩコントローラ
から成る６自由度のそれぞれの方向の位置コントローラ
ＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰ
Ｉと、加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、
５Ｙ2 、５Ｘの出力を図示しないＡ／Ｄコンバータをそ
れぞれ介して入力し、重心Ｇの６自由度方向の加速度
（ｘ”、ｙ”、ｚ”、θx ”、θy ”、θz ”）に変換
する第２の座標変換部４８と、この第２の座標変換部４
８で変換後の重心Ｇの６自由度方向の加速度ｘ”、
ｙ”、ｚ”、θx ”、θy ”、θz ”をそれぞれ積分し
てそれぞれの方向の重心Ｇの速度ｘ’、ｙ’、ｚ’、θ
x ’、θy ’、θz ’に変換する６つの積分器５０ａ〜
５０ｆと、位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、
ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩの出力を速度指令値
ｘ0 ’、ｙ0 ’、ｚ0 ’、θx0’、θy0’、θz0’にそ
れぞれ変換する速度変換ゲイン５２ａ〜５２ｆと、この
変換後の速度指令値ｘ0 ’、ｙ0 ’、ｚ0 ’、θx0’、
θy0’、θz0’から積分器５０ａ〜５０ｆの出力ｘ’、
ｙ’、ｚ’、θx ’、θy ’、θz ’をそれぞれ減じて
６自由度方向のそれぞれの方向の速度偏差（Δｘ’＝ｘ
0 ’−ｘ’、Δｙ’＝ｙ0 ’−ｙ’、Δｚ’＝ｚ0 ’−
ｚ’、Δθx ’＝θx0’−θx ’、Δθy ’＝θy0’−
θy ’、Δθz ’＝θz0’−θz ’）を算出する６つの
減算器５４ａ〜５４ｆと、６自由度のそれぞれの方向の
速度偏差Δｘ’、Δｙ’、Δｚ’、Δθx ’、Δ
θy ’、Δθz ’を動作信号として制御動作を行なうＰ
Ｉコントローラから成る６自由度のそれぞれの方向の速
度コントローラＶＸＰＩ、ＶＹＰＩ、ＶＺＰＩ、ＶＸθ
ＰＩ、ＶＹθＰＩ、ＶＺθＰＩと、 これらのコントロ
ーラで演算された６自由度のそれぞれの方向の速度制御
量を各アクチュエータの位置で発生すべき速度指令値に
変換するための非干渉化演算を行なう非干渉化計算部５
６と、この非干渉化計算部５６で変換後の各アクチュエ
ータの位置で発生すべき速度指令値を各アクチュエータ
で発生すべき推力にそれぞれ変換する推力ゲイン５８ａ
〜５８ｇとを有する。
【００２９】即ち、本実施例の振動制御系は、変位セン
サ、位置コントローラ等を含んで構成される位置制御ル
ープの内側に、その内部ループとして加速度センサ、積
分器、速度コントローラ等を含んで構成される速度制御
ループを有する多重ループ制御系となっている。
サ、位置コントローラ等を含んで構成される位置制御ル
ープの内側に、その内部ループとして加速度センサ、積
分器、速度コントローラ等を含んで構成される速度制御
ループを有する多重ループ制御系となっている。
【００３０】また、振動補償系は、第２の座標変換部４
８の入力段にそれぞれ設けられた減算器６０、６２、６
８と、第１の座標変換部４２から出力されるＸ軸回りの
傾斜成分（即ち、Ｙ方向の傾斜成分）θx の出力線と減
算器６０、６２との間に設けられたゲインｇのアンプ６
４ａと、第１の座標変換部４２から出力されるＹ軸回り
の傾斜成分（即ち、Ｘ方向の傾斜成分）θy の出力線と
減算器６８との間に設けられたゲインｇのアンプ６４ｂ
とから構成されている。
８の入力段にそれぞれ設けられた減算器６０、６２、６
８と、第１の座標変換部４２から出力されるＸ軸回りの
傾斜成分（即ち、Ｙ方向の傾斜成分）θx の出力線と減
算器６０、６２との間に設けられたゲインｇのアンプ６
４ａと、第１の座標変換部４２から出力されるＹ軸回り
の傾斜成分（即ち、Ｘ方向の傾斜成分）θy の出力線と
減算器６８との間に設けられたゲインｇのアンプ６４ｂ
とから構成されている。
【００３１】これによれば、減算器６０では加速度セン
サ５Ｙ1 の出力とアンプ６４ａの出力であるｇθx との
差を演算し、この差が第２の座標変換部４８に出力され
る。ここで、この意義を、図４を用いて簡単に説明す
る。
サ５Ｙ1 の出力とアンプ６４ａの出力であるｇθx との
差を演算し、この差が第２の座標変換部４８に出力され
る。ここで、この意義を、図４を用いて簡単に説明す
る。
【００３２】加速度センサ５Ｙ1 で検出されるべき本来
の加速度がａ（矢印ＡＢ）である場合に、定盤６がＸ軸
回りに角度θ傾斜した場合、重力加速度成分ｇ（矢印Ｂ
Ｃ）が加算された矢印ＡＣで示す加速度を加速度センサ
５Ｙ1 は検出することになる。すると、本来の加速度ａ
より線分ＤＣで示されるｇ・ｓｉｎθだけ大きな加速度
を加速度センサ５Ｙ1 が検出することになる。ここで、
θは通常、微小角度であると考えられるので、ＡＤ＝Ａ
Ｂ＝ａ、かつＤＣ＝ｇθと考えて差し支えない。従っ
て、加速度センサ５Ｙ1 の出力からｇθを減じれば、本
来検出すべき加速度、すなわち重力加速度成分ｇの影響
を除去した加速度ａが、加速度センサ５Ｙ1 の検出値と
して第２の座標変換部４８に入力されることになる。
の加速度がａ（矢印ＡＢ）である場合に、定盤６がＸ軸
回りに角度θ傾斜した場合、重力加速度成分ｇ（矢印Ｂ
Ｃ）が加算された矢印ＡＣで示す加速度を加速度センサ
５Ｙ1 は検出することになる。すると、本来の加速度ａ
より線分ＤＣで示されるｇ・ｓｉｎθだけ大きな加速度
を加速度センサ５Ｙ1 が検出することになる。ここで、
θは通常、微小角度であると考えられるので、ＡＤ＝Ａ
Ｂ＝ａ、かつＤＣ＝ｇθと考えて差し支えない。従っ
て、加速度センサ５Ｙ1 の出力からｇθを減じれば、本
来検出すべき加速度、すなわち重力加速度成分ｇの影響
を除去した加速度ａが、加速度センサ５Ｙ1 の検出値と
して第２の座標変換部４８に入力されることになる。
【００３３】このため、減算器６０では、加速度センサ
５Ｙ1 の出力とアンプ６４ａの出力であるｇ・θx との
差を演算し、この差が第２の座標変換部４８に出力され
るようにしているのである。ここで、θx はＸ軸回りの
傾斜（Ｙ方向の傾斜）であり、図４のθに相当するもの
である。
５Ｙ1 の出力とアンプ６４ａの出力であるｇ・θx との
差を演算し、この差が第２の座標変換部４８に出力され
るようにしているのである。ここで、θx はＸ軸回りの
傾斜（Ｙ方向の傾斜）であり、図４のθに相当するもの
である。
【００３４】同様の意義から、減算器６２では、加速度
センサ５Ｙ2 の出力とアンプ６４ａの出力であるｇ・θ
x との差を演算し、また、加算器６８では加速度センサ
５Ｘの出力とアンプ６４ｂの出力であるｇ・θy との差
を演算し、この差が第２の座標変換部４８に出力され
る。ここで、θy はＹ軸回りの傾斜（Ｘ方向の傾斜）で
ある。
センサ５Ｙ2 の出力とアンプ６４ａの出力であるｇ・θ
x との差を演算し、また、加算器６８では加速度センサ
５Ｘの出力とアンプ６４ｂの出力であるｇ・θy との差
を演算し、この差が第２の座標変換部４８に出力され
る。ここで、θy はＹ軸回りの傾斜（Ｘ方向の傾斜）で
ある。
【００３５】以上のようにして構成された本実施例の露
光装置１００によれば、例えば、スキャン露光の際に、
ＸＹステージ２０、レチクルステージ２７がＸ軸方向に
沿って走査され、このステージの移動により露光本体部
４０が振動すると、変位センサ１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１
０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｘ、加速度センサ５
Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの出力に
基づいて制御装置１１の振動制御系によりアクチュエー
タ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃが
駆動制御され、露光本体部４０の振動が効果的に抑制さ
れる。この場合において、定盤６が水平面に対して傾斜
すると、第１の座標変換部４２からのその時のＸ軸回り
の傾斜角（Ｙ方向の傾斜角）θx がそれぞれアンプ６４
ａでｇ倍され、重力加速度成分ｇ・θx が減算器６０、
６２に入力し、これらの減算器６０、６２では加速度セ
ンサ５Ｙ1 、５Ｙ2 の検出値から重力加速度成分ｇ・θ
xをそれぞれ減じて第２の座標変換部４８に対し出力す
る。同様に、第１の座標変換部４２からその時のＹ軸回
りの傾斜角（Ｘ方向の傾斜角）θy がアンプ６４ｂでｇ
倍され、重力加速度成分ｇ・θy が減算器６８に入力
し、この減算器６８では加速度センサ５Ｘの検出値から
重力加速度成分ｇ・θy を減じて第２の座標変換部４８
に対し出力する。これにより、第２の座標変換部４８で
は定盤６の傾斜による重力加速度成分が除去された加速
度センサ５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの検出値に基づいて重心
Ｇの速度への変換を行なうので、結果的に定盤６の傾き
に起因する水平方向加速度センサの検出値に含まれる重
力加速度成分に影響を受けることなく、アクチュエータ
が適正な指令値により駆動される。
光装置１００によれば、例えば、スキャン露光の際に、
ＸＹステージ２０、レチクルステージ２７がＸ軸方向に
沿って走査され、このステージの移動により露光本体部
４０が振動すると、変位センサ１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１
０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｘ、加速度センサ５
Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの出力に
基づいて制御装置１１の振動制御系によりアクチュエー
タ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃが
駆動制御され、露光本体部４０の振動が効果的に抑制さ
れる。この場合において、定盤６が水平面に対して傾斜
すると、第１の座標変換部４２からのその時のＸ軸回り
の傾斜角（Ｙ方向の傾斜角）θx がそれぞれアンプ６４
ａでｇ倍され、重力加速度成分ｇ・θx が減算器６０、
６２に入力し、これらの減算器６０、６２では加速度セ
ンサ５Ｙ1 、５Ｙ2 の検出値から重力加速度成分ｇ・θ
xをそれぞれ減じて第２の座標変換部４８に対し出力す
る。同様に、第１の座標変換部４２からその時のＹ軸回
りの傾斜角（Ｘ方向の傾斜角）θy がアンプ６４ｂでｇ
倍され、重力加速度成分ｇ・θy が減算器６８に入力
し、この減算器６８では加速度センサ５Ｘの検出値から
重力加速度成分ｇ・θy を減じて第２の座標変換部４８
に対し出力する。これにより、第２の座標変換部４８で
は定盤６の傾斜による重力加速度成分が除去された加速
度センサ５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの検出値に基づいて重心
Ｇの速度への変換を行なうので、結果的に定盤６の傾き
に起因する水平方向加速度センサの検出値に含まれる重
力加速度成分に影響を受けることなく、アクチュエータ
が適正な指令値により駆動される。
【００３６】以上説明したように、本実施例によると、
定盤６が傾斜することによる影響を受けることなく、外
乱振動の抑制（制振）効果を向上させることができる。
なお、本実施例では、位置制御ループのゲインを高くす
ることなく、露光本体部４０の傾斜の影響を除去するこ
とができるので、床振動を本体に伝えるという不都合を
回避することができる。従って、除振性能を損なうこと
がない。
定盤６が傾斜することによる影響を受けることなく、外
乱振動の抑制（制振）効果を向上させることができる。
なお、本実施例では、位置制御ループのゲインを高くす
ることなく、露光本体部４０の傾斜の影響を除去するこ
とができるので、床振動を本体に伝えるという不都合を
回避することができる。従って、除振性能を損なうこと
がない。
【００３７】なお、上記実施例では本発明に係る除振装
置がステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の投
影露光装置に適用される場合を例示したが、本発明の除
振装置は、ステッパ方式の投影露光装置であっても、除
振パッドに保持された除振台としての定盤を有し、定盤
の水平面に対する傾斜を検出するセンサと、定盤の水平
面内の振動を検出する加速度センサを具備する場合には
好適に適用できるものである。
置がステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の投
影露光装置に適用される場合を例示したが、本発明の除
振装置は、ステッパ方式の投影露光装置であっても、除
振パッドに保持された除振台としての定盤を有し、定盤
の水平面に対する傾斜を検出するセンサと、定盤の水平
面内の振動を検出する加速度センサを具備する場合には
好適に適用できるものである。
【００３８】また、上記実施例では、７つのアクチュエ
ータを用いて露光本体部の６自由度方向の揺れを抑制す
る場合について例示したが、本発明はこれに限定される
ものではなく、例えば、定盤６の傾斜を補正するために
は、アクチュエータとしては、Ｚ方向のアクチュエータ
が少なくとも３つあれば良い。
ータを用いて露光本体部の６自由度方向の揺れを抑制す
る場合について例示したが、本発明はこれに限定される
ものではなく、例えば、定盤６の傾斜を補正するために
は、アクチュエータとしては、Ｚ方向のアクチュエータ
が少なくとも３つあれば良い。
【００３９】さらに、水平面に対する傾斜成分（θy 、
θx ）の検出は、Ｚ方向の変位を検出する変位センサが
３つあれば良いので、変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、
１０Ｘを必ずしも全部設ける必要は無く、除振台の傾斜
を検出し、これを用いて水平方向加速度センサの検出値
に含まれる重力加速度成分の影響を除去してアクチュエ
ータを駆動制御するという本発明の解決原理は、装置本
体の６自由度方向の揺れを阻止する場合にのみ適用され
るものではない。例えば、ステージが装置本体の重心位
置上を移動するように構成されている場合には、ステー
ジが移動しても装置本体は必ずしも６自由度方向に揺動
しないが、かかる場合であっても本発明の解決原理は、
有効に機能することは明かだからである。
θx ）の検出は、Ｚ方向の変位を検出する変位センサが
３つあれば良いので、変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、
１０Ｘを必ずしも全部設ける必要は無く、除振台の傾斜
を検出し、これを用いて水平方向加速度センサの検出値
に含まれる重力加速度成分の影響を除去してアクチュエ
ータを駆動制御するという本発明の解決原理は、装置本
体の６自由度方向の揺れを阻止する場合にのみ適用され
るものではない。例えば、ステージが装置本体の重心位
置上を移動するように構成されている場合には、ステー
ジが移動しても装置本体は必ずしも６自由度方向に揺動
しないが、かかる場合であっても本発明の解決原理は、
有効に機能することは明かだからである。
【００４０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
除振台が傾斜することによる影響を受けることなく、外
乱振動の抑制（制振）効果を向上させることができると
いう従来にない優れた効果がある。
除振台が傾斜することによる影響を受けることなく、外
乱振動の抑制（制振）効果を向上させることができると
いう従来にない優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施例に係る投影露光装置を示す斜視図であ
る。
る。
【図２】（ａ）はアクチュエータ７Ａの一例を示す拡大
断面図、（ｂ）はアクチュエータ７Ａの他の例を示す拡
大断面図である。
断面図、（ｂ）はアクチュエータ７Ａの他の例を示す拡
大断面図である。
【図３】アクチュエータの制御系の構成を示す制御ブロ
ック図である。
ック図である。
【図４】水平方向加速度センサの検出値に含まれる重力
加速度成分の影響を除去する原理を説明するための図で
ある。
加速度成分の影響を除去する原理を説明するための図で
ある。
４Ａ〜４Ｃ 除振パッド ５Ｚ1 〜５Ｚ3 加速度センサ（振動センサ） ５Ｙ1 ，５Ｙ2，５Ｘ 水平方向加速度センサ（振動
センサ） ６ 定盤（除振台） ７Ａ〜７Ｄ，３２Ａ〜３２Ｃ アクチュエータ １０Ｚ1 〜１０Ｚ3 ，１０Ｙ1 ，１０Ｙ2，１０Ｘ
変位センサ １１ 制御装置（振動制御系、振動補償系） ２０ ＸＹステージ（基板ステージ） ４０ 露光本体部 １００ 露光装置 Ｒ レチクル（マスク） ＰＬ 投影光学系 Ｗ ウエハ（感光基板）
センサ） ６ 定盤（除振台） ７Ａ〜７Ｄ，３２Ａ〜３２Ｃ アクチュエータ １０Ｚ1 〜１０Ｚ3 ，１０Ｙ1 ，１０Ｙ2，１０Ｘ
変位センサ １１ 制御装置（振動制御系、振動補償系） ２０ ＸＹステージ（基板ステージ） ４０ 露光本体部 １００ 露光装置 Ｒ レチクル（マスク） ＰＬ 投影光学系 Ｗ ウエハ（感光基板）
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくとも３個の除振パッドを介して水
平に保持された除振台と；前記除振台を異なる箇所で鉛
直方向に駆動する少なくとも３つのアクチュエータを含
む複数のアクチュエータと；前記除振台の異なる点の鉛
直方向変位を検出する少なくとも３つの鉛直方向変位セ
ンサを含む複数の変位センサと；前記除振台の水平面内
の所定の方向の加速度を検出する水平方向加速度センサ
を少なくとも一つ含む複数の振動センサと；前記変位セ
ンサ及び振動センサの出力に基づいて前記除振台の振動
を抑制するように前記各アクチュエータを駆動制御する
振動制御系と；前記３つの変位センサの出力に基づいて
得られる水平面に対する傾斜方向変位に基づいて前記各
水平方向加速度センサの検出値に含まれる重力加速度成
分を除去する振動補償系とを有する除振装置。 - 【請求項２】 マスクに形成されたパターンを投影光学
系を介して基板ステージ上の前記感光基板に転写する露
光装置であって、 前記請求項１に記載の除振装置を前記基板ステージが搭
載された露光本体部の除振装置として具備することを特
徴とする露光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25188895A JP3629772B2 (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 除振装置、ステージ装置、露光装置及び走査型露光装置 |
| US08/707,216 US5812420A (en) | 1995-09-05 | 1996-09-03 | Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus |
| KR1019960038169A KR100396860B1 (ko) | 1995-09-05 | 1996-09-04 | 제진장치및노광장치 |
| US09/476,211 US6392741B1 (en) | 1995-09-05 | 1999-12-30 | Projection exposure apparatus having active vibration isolator and method of controlling vibration by the active vibration isolator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25188895A JP3629772B2 (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 除振装置、ステージ装置、露光装置及び走査型露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0974061A true JPH0974061A (ja) | 1997-03-18 |
| JP3629772B2 JP3629772B2 (ja) | 2005-03-16 |
Family
ID=17229446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25188895A Expired - Fee Related JP3629772B2 (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | 除振装置、ステージ装置、露光装置及び走査型露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3629772B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0814279A2 (en) * | 1996-06-21 | 1997-12-29 | Ebara Corporation | Vibration cancellation apparatus |
| JPH10303112A (ja) * | 1997-04-22 | 1998-11-13 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| US6331885B1 (en) * | 1997-09-19 | 2001-12-18 | Nikon Corporation | Stage apparatus, scanning type exposure apparatus, and device produced with the same |
| US6522388B1 (en) | 1997-11-18 | 2003-02-18 | Nikon Corporation | Vibration eliminator, exposure apparatus and projection exposure method |
| JP2007315590A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-12-06 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 能動型振動絶縁システム |
| CN103226361A (zh) * | 2013-04-28 | 2013-07-31 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 通过主动隔振系统控制光学平台z方向的方法及结构 |
-
1995
- 1995-09-05 JP JP25188895A patent/JP3629772B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0814279A2 (en) * | 1996-06-21 | 1997-12-29 | Ebara Corporation | Vibration cancellation apparatus |
| EP0814279A3 (en) * | 1996-06-21 | 2000-07-26 | Ebara Corporation | Vibration cancellation apparatus |
| JPH10303112A (ja) * | 1997-04-22 | 1998-11-13 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| US6331885B1 (en) * | 1997-09-19 | 2001-12-18 | Nikon Corporation | Stage apparatus, scanning type exposure apparatus, and device produced with the same |
| US6906782B2 (en) | 1997-09-19 | 2005-06-14 | Nikon Corporation | Stage apparatus, scanning type exposure apparatus, and device produced with the same |
| US6522388B1 (en) | 1997-11-18 | 2003-02-18 | Nikon Corporation | Vibration eliminator, exposure apparatus and projection exposure method |
| JP2007315590A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-12-06 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 能動型振動絶縁システム |
| US8851250B2 (en) | 2006-04-11 | 2014-10-07 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Active vibration isolation system |
| CN103226361A (zh) * | 2013-04-28 | 2013-07-31 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 通过主动隔振系统控制光学平台z方向的方法及结构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3629772B2 (ja) | 2005-03-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5812420A (en) | Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus | |
| JPH1089403A (ja) | 防振装置 | |
| US6202492B1 (en) | Anti-vibration apparatus and exposure apparatus | |
| JP4209121B2 (ja) | デュアル分離されたシステムを有するリソグラフィーツールおよびそれを構成する方法 | |
| JPH10112433A (ja) | 除振装置及び露光装置 | |
| US6473159B1 (en) | Anti-vibration system in exposure apparatus | |
| JPH11294520A (ja) | 除振装置、これを用いた露光装置およびデバイス製造方法、ならびに除振方法 | |
| US6392741B1 (en) | Projection exposure apparatus having active vibration isolator and method of controlling vibration by the active vibration isolator | |
| US6684132B2 (en) | Active anti-vibration apparatus and exposure apparatus | |
| US6522388B1 (en) | Vibration eliminator, exposure apparatus and projection exposure method | |
| KR101788898B1 (ko) | 위치 계측 장치 및 패턴 형성 장치 | |
| JPH11150062A (ja) | 除振装置及び露光装置並びに除振台の除振方法 | |
| JP3629772B2 (ja) | 除振装置、ステージ装置、露光装置及び走査型露光装置 | |
| KR100483982B1 (ko) | 진동절연장치및노광장치 | |
| JP3707575B2 (ja) | 除振装置及び露光装置 | |
| JP2000216082A (ja) | ステ―ジ装置および露光装置 | |
| JP3807516B2 (ja) | 除振装置、除振方法及び露光装置 | |
| JP2000012435A (ja) | 除振装置および露光装置 | |
| JP2001140972A (ja) | 除振装置 | |
| JPH11102858A (ja) | ステージ位置決め制御装置および能動的除振装置 | |
| JP3636337B2 (ja) | 除振装置及び露光装置 | |
| JP2003280744A (ja) | 振動制御装置及びその制御方法、並びに、該振動制御装置を有する露光装置及び半導体デバイスの製造方法 | |
| JPH094677A (ja) | 防振方法 | |
| JP4229347B2 (ja) | 能動制振装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP3750263B2 (ja) | 除振装置及び露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040702 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040830 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041124 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041207 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071224 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101224 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |