JPH0967315A - ４−アシロキシ−１−ブタナールの製造方法 - Google Patents
４−アシロキシ−１−ブタナールの製造方法Info
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- JPH0967315A JPH0967315A JP24550495A JP24550495A JPH0967315A JP H0967315 A JPH0967315 A JP H0967315A JP 24550495 A JP24550495 A JP 24550495A JP 24550495 A JP24550495 A JP 24550495A JP H0967315 A JPH0967315 A JP H0967315A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 ４−アシロキシ−１−ブタノールをＮ−
オキシル化合物の存在下に、次亜塩素酸塩で酸化する。 【効果】 ４−アシロキシ−１−ブタナールを工業的に
有利に製造することができる。
オキシル化合物の存在下に、次亜塩素酸塩で酸化する。 【効果】 ４−アシロキシ−１−ブタナールを工業的に
有利に製造することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、４−アシロキシ−
１−ブタナールの製造方法に関する。本発明により提供
される４−アシロキシ−１−ブタナ−ルは、第二級アミ
ン塩存在下にホルムアルデヒドと反応させ、さらに異性
化反応を行なうことにより、ビタミンＡや種々の香料の
合成中間体として有用な４−アシロキシ−２−メチル−
２−ブテン−１−ア−ルへと変換することができる（例
えば、特開平６−３３６４５６号公報など参照）。
１−ブタナールの製造方法に関する。本発明により提供
される４−アシロキシ−１−ブタナ−ルは、第二級アミ
ン塩存在下にホルムアルデヒドと反応させ、さらに異性
化反応を行なうことにより、ビタミンＡや種々の香料の
合成中間体として有用な４−アシロキシ−２−メチル−
２−ブテン−１−ア−ルへと変換することができる（例
えば、特開平６−３３６４５６号公報など参照）。
【０００２】
【０００３】従来、４−アシロキシ−１−ブタナ−ルの
製造方法としては下記の〜の方法が知られている。 アリルアセテ−トをコバルト触媒存在下、一酸化炭素
および水素でヒドロホルミル化する方法［J. Amer. Che
m. Soc.、７１巻、３０５３頁（１９４９年）参照］。 アリルカルボキシレ−トをロジウム触媒存在下、一酸
化炭素および水素でヒドロホルミル化する方法［特開平
6-336456号公報、J. Chem. Soc. Chem. Commun.、３１
６頁（１９９３年）など参照］。 ５−アセトキシ−１−ペンテンをオゾン分解する方法
［Synth. Commun.、２３巻、１００９頁、（１９９３
年）参照］。 １−アセトキシ−４−ブロモブタンをトリメチルアミ
ンＮ−オキシドで酸化する方法［Tetrahedron Lett. 、
３１巻、４８２５頁、（１９９０年）参照］。 ４−アセトキシ−１−ブタノ−ルを、オキサリルクロ
リドを活性化剤としてＤＭＳＯで酸化する方法［J. Or
g. Chem. 、５６巻、１３９３頁、（１９９１年）参
照］。 ４−アセトキシ−１−ブタノ−ルをクロロクロム酸ピ
リジニウムで酸化する方法［Tetrahedron 、４８巻、９
８０１頁、（１９９２年）参照］。 四酢酸鉛存在下、シクロブタノ−ルと酢酸を反応させ
る方法［Tetrahedron 、２４巻、４９４７頁、（１９６
８年）参照］。 １−アセトキシ−４，５−ジヒドロキシペンタンを四
酢酸鉛で酸化する方法［Bull. Soc. Chim. Fr.、２０１
頁、（１９４８年）参照］。
製造方法としては下記の〜の方法が知られている。 アリルアセテ−トをコバルト触媒存在下、一酸化炭素
および水素でヒドロホルミル化する方法［J. Amer. Che
m. Soc.、７１巻、３０５３頁（１９４９年）参照］。 アリルカルボキシレ−トをロジウム触媒存在下、一酸
化炭素および水素でヒドロホルミル化する方法［特開平
6-336456号公報、J. Chem. Soc. Chem. Commun.、３１
６頁（１９９３年）など参照］。 ５−アセトキシ−１−ペンテンをオゾン分解する方法
［Synth. Commun.、２３巻、１００９頁、（１９９３
年）参照］。 １−アセトキシ−４−ブロモブタンをトリメチルアミ
ンＮ−オキシドで酸化する方法［Tetrahedron Lett. 、
３１巻、４８２５頁、（１９９０年）参照］。 ４−アセトキシ−１−ブタノ−ルを、オキサリルクロ
リドを活性化剤としてＤＭＳＯで酸化する方法［J. Or
g. Chem. 、５６巻、１３９３頁、（１９９１年）参
照］。 ４−アセトキシ−１−ブタノ−ルをクロロクロム酸ピ
リジニウムで酸化する方法［Tetrahedron 、４８巻、９
８０１頁、（１９９２年）参照］。 四酢酸鉛存在下、シクロブタノ−ルと酢酸を反応させ
る方法［Tetrahedron 、２４巻、４９４７頁、（１９６
８年）参照］。 １−アセトキシ−４，５−ジヒドロキシペンタンを四
酢酸鉛で酸化する方法［Bull. Soc. Chim. Fr.、２０１
頁、（１９４８年）参照］。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
およびに記載された４−アシロキシ−１−ブタナ−ル
の製造方法は、金属触媒のコストが高いことや、異性体
の副生といった問題点があり、また、上記およびに
記載された４−アシロキシ−１−ブタナ−ルの製造方法
は、目的物の収率が低く、いずれの方法も工業的に有利
な方法とはいい難い。また、上記に記載された４−ア
シロキシ−１−ブタナ−ルの製造方法は、悪臭の発生を
伴うという問題点があり、工業的規模で実施するには難
点がある。さらに上記、およびに記載された４−
アシロキシ−１−ブタナ−ルの製造方法は、反応に使用
する重金属の後処理の問題がある。
およびに記載された４−アシロキシ−１−ブタナ−ル
の製造方法は、金属触媒のコストが高いことや、異性体
の副生といった問題点があり、また、上記およびに
記載された４−アシロキシ−１−ブタナ−ルの製造方法
は、目的物の収率が低く、いずれの方法も工業的に有利
な方法とはいい難い。また、上記に記載された４−ア
シロキシ−１−ブタナ−ルの製造方法は、悪臭の発生を
伴うという問題点があり、工業的規模で実施するには難
点がある。さらに上記、およびに記載された４−
アシロキシ−１−ブタナ−ルの製造方法は、反応に使用
する重金属の後処理の問題がある。
【０００５】以上のように、従来知られている４−アシ
ロキシ−１−ブタナ−ルの製造方法は、いずれも工業的
に実施するには適した方法とはいえず、４−アシロキシ
−１−ブタナ−ルを工業的に有利に製造できる方法はい
まだ確立されていないのが現状である。
ロキシ−１−ブタナ−ルの製造方法は、いずれも工業的
に実施するには適した方法とはいえず、４−アシロキシ
−１−ブタナ−ルを工業的に有利に製造できる方法はい
まだ確立されていないのが現状である。
【０００６】しかして、本発明は、前記のような問題点
を伴うことなく、工業的規模で有利に４−アシロキシ−
１−ブタナ−ルを製造する方法を提供することを課題と
する。
を伴うことなく、工業的規模で有利に４−アシロキシ−
１−ブタナ−ルを製造する方法を提供することを課題と
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記課
題は、一般式（２）
題は、一般式（２）
【０００８】
【化３】
【０００９】（式中、Ｒはアルキル基またはアリール基
を表す）で示される４−アシロキシ−１−ブタノールを
Ｎ−オキシル化合物の存在下に、次亜塩素酸塩で酸化す
ることを特徴とする一般式（１）
を表す）で示される４−アシロキシ−１−ブタノールを
Ｎ−オキシル化合物の存在下に、次亜塩素酸塩で酸化す
ることを特徴とする一般式（１）
【００１０】
【化４】
【００１１】（式中、Ｒは前記定義のとおりである）で
示される４−アシロキシ−１−ブタナールの製造方法を
提供することによって解決される。
示される４−アシロキシ−１−ブタナールの製造方法を
提供することによって解決される。
【００１２】上記一般式（１）および（２）において、
Ｒが表すアルキル基としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基などが挙げられる。また、Ｒが表すアリー
ル基としては、例えば、フェニル基、トリル基などが挙
げられる。
Ｒが表すアルキル基としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基などが挙げられる。また、Ｒが表すアリー
ル基としては、例えば、フェニル基、トリル基などが挙
げられる。
【００１３】本発明において原料として用いられる４−
アシロキシ−１−ブタノ−ルは、例えば、１，４−ブタ
ンジオ−ルの一方の水酸基を、酢酸、プロピオン酸、ブ
タン酸、2-メチルプロピオン酸、ペンタン酸、ヘキサン
酸、ヘプタン酸等のカルボン酸によりエステル化する方
法で製造することができる。
アシロキシ−１−ブタノ−ルは、例えば、１，４−ブタ
ンジオ−ルの一方の水酸基を、酢酸、プロピオン酸、ブ
タン酸、2-メチルプロピオン酸、ペンタン酸、ヘキサン
酸、ヘプタン酸等のカルボン酸によりエステル化する方
法で製造することができる。
【００１４】本発明において一般式（２）で示される４
−アシロキシ−１−ブタノールはＮ−オキシル化合物の
存在下に、次亜塩素酸塩で酸化されるが、その際、４−
アシロキシ−１−ブタノールに対して量論量の酸化剤を
必要とする。収率よく反応を進めるためには当モル付近
の酸化剤の使用が好ましい。酸化剤として用いられる次
亜塩素酸塩は、例えば、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩
素酸カリウムおよび次亜塩素酸カルシウムなどであり、
工業的に安価に入手できる水溶液（例えば、次亜塩素酸
ナトリウムの１３％水溶液）または粉末（例えば、さら
し粉）をそのまま、あるいは水で希釈して使用すること
ができる。
−アシロキシ−１−ブタノールはＮ−オキシル化合物の
存在下に、次亜塩素酸塩で酸化されるが、その際、４−
アシロキシ−１−ブタノールに対して量論量の酸化剤を
必要とする。収率よく反応を進めるためには当モル付近
の酸化剤の使用が好ましい。酸化剤として用いられる次
亜塩素酸塩は、例えば、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩
素酸カリウムおよび次亜塩素酸カルシウムなどであり、
工業的に安価に入手できる水溶液（例えば、次亜塩素酸
ナトリウムの１３％水溶液）または粉末（例えば、さら
し粉）をそのまま、あるいは水で希釈して使用すること
ができる。
【００１５】本発明においては、次亜塩素酸塩と組み合
わせて、触媒としてＮ−オキシル化合物を用いることが
必要である。Ｎ−オキシル化合物は、いわゆるヒンダー
ドアミンのＮ−オキシル化合物であり、例えば、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ（ＴＥＭ
ＰＯ）、４−アセトキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジニルオキシ、４−アセトアミド−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ、４−ベンゾ
イルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ
ルオキシ、４−メトキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジニルオキシ、４−ベンジルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ等である。Ｎ
−オキシル化合物の使用量は、４−アシロキシ−１−ブ
タノ−ルに対して０．０１モル％以上であることが好ま
しい。なお、Ｎ−オキシル化合物の使用量が少ない場合
には、ハロゲン化副生物の生成量が増加する。従って、
反応および経済的観点からＮ−オキシル化合物の使用量
は４−アシロキシ−１−ブタノ−ルに対して０．１〜２
モル％の範囲内にすることがより好ましい。
わせて、触媒としてＮ−オキシル化合物を用いることが
必要である。Ｎ−オキシル化合物は、いわゆるヒンダー
ドアミンのＮ−オキシル化合物であり、例えば、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ（ＴＥＭ
ＰＯ）、４−アセトキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジニルオキシ、４−アセトアミド−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ、４−ベンゾ
イルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ
ルオキシ、４−メトキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジニルオキシ、４−ベンジルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ等である。Ｎ
−オキシル化合物の使用量は、４−アシロキシ−１−ブ
タノ−ルに対して０．０１モル％以上であることが好ま
しい。なお、Ｎ−オキシル化合物の使用量が少ない場合
には、ハロゲン化副生物の生成量が増加する。従って、
反応および経済的観点からＮ−オキシル化合物の使用量
は４−アシロキシ−１−ブタノ−ルに対して０．１〜２
モル％の範囲内にすることがより好ましい。
【００１６】酸性条件下、４−アシロキシ−１−ブタノ
−ルの次亜塩素酸塩による酸化はＮ−オキシル化合物が
反応系に存在しなくても反応が進行する。しかしなが
ら、本発明における酸化反応は、次亜塩素酸塩とＮ−オ
キシル化合物とを組み合わせて使用する点に特徴を有し
ており、１−オキソピペリジウム塩を経由して反応が進
行する（例えば、有機合成化学協会誌、第５１巻、９１
０頁（１９９３年）などを参照）。かかる点において本
発明はＮ−オキシル化合物の不存在下での次亜塩素酸塩
による酸化反応とは相違しており、ハロゲン化副生物の
生成が抑制される。
−ルの次亜塩素酸塩による酸化はＮ−オキシル化合物が
反応系に存在しなくても反応が進行する。しかしなが
ら、本発明における酸化反応は、次亜塩素酸塩とＮ−オ
キシル化合物とを組み合わせて使用する点に特徴を有し
ており、１−オキソピペリジウム塩を経由して反応が進
行する（例えば、有機合成化学協会誌、第５１巻、９１
０頁（１９９３年）などを参照）。かかる点において本
発明はＮ−オキシル化合物の不存在下での次亜塩素酸塩
による酸化反応とは相違しており、ハロゲン化副生物の
生成が抑制される。
【００１７】本発明では、溶媒は必須ではないが、酸化
反応を阻害しない限り溶媒の使用は差し支えない。その
際に使用し得る溶媒としては、例えば、トルエン、ベン
ゼン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、キシレ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素溶媒、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエ
タン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が挙げ
られるが、なかでも塩化メチレン等のハロゲン化炭化水
素溶媒が好ましい。溶媒の使用量は特に限定されない
が、生産効率面などから４−アシロキシ−１−ブタノ−
ルに対して０．１〜１０倍容量が好ましい。
反応を阻害しない限り溶媒の使用は差し支えない。その
際に使用し得る溶媒としては、例えば、トルエン、ベン
ゼン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、キシレ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素溶媒、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエ
タン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が挙げ
られるが、なかでも塩化メチレン等のハロゲン化炭化水
素溶媒が好ましい。溶媒の使用量は特に限定されない
が、生産効率面などから４−アシロキシ−１−ブタノ−
ルに対して０．１〜１０倍容量が好ましい。
【００１８】本発明では、反応系のｐＨ（水素イオン濃
度）を調節するために、塩を添加することができる。反
応系のｐＨは３〜９に保持しておくことが好ましい。ま
た添加する塩としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、リン酸一水素ナトリウム、リン酸一
水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素
カリウム等が挙げられる。塩の使用量は、添加する塩の
種類によって異なるが、例えばリン酸二水素ナトリウム
の場合は、４−アシロキシ−１−ブタノ−ルに対して５
〜２０モル％が好ましい。なお、これらの塩は通常５０
％以内の水溶液として使用される。
度）を調節するために、塩を添加することができる。反
応系のｐＨは３〜９に保持しておくことが好ましい。ま
た添加する塩としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、リン酸一水素ナトリウム、リン酸一
水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素
カリウム等が挙げられる。塩の使用量は、添加する塩の
種類によって異なるが、例えばリン酸二水素ナトリウム
の場合は、４−アシロキシ−１−ブタノ−ルに対して５
〜２０モル％が好ましい。なお、これらの塩は通常５０
％以内の水溶液として使用される。
【００１９】また本発明では、反応を促進する目的で、
臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨ
ウ化カリウム等のハロゲン化塩を添加することができ
る。これらのハロゲン化塩の使用量は、４−アシロキシ
−１−ブタノ−ルに対して０．１〜１０モル％が好まし
い。
臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨ
ウ化カリウム等のハロゲン化塩を添加することができ
る。これらのハロゲン化塩の使用量は、４−アシロキシ
−１−ブタノ−ルに対して０．１〜１０モル％が好まし
い。
【００２０】本発明にしたがう反応は、一般に４−アシ
ロキシ−１−ブタノ−ル及びＮ−オキシル化合物、必要
により、ｐＨ調節のための塩、溶媒、反応促進のための
ハロゲン化塩を予め投入した攪拌機付の反応容器中に、
次亜塩素酸塩を所定の反応温度に維持しながら徐々に添
加することによって行われる。反応温度は好ましくは−
１０〜５０℃、より好ましくは１０〜３０℃である。な
お、次亜塩素酸塩の添加中および反応中は、攪拌を激し
く行うことが好ましい。酸化反応は次亜塩素酸塩の添加
と同時に進行し、添加終了後、通常２時間以内に終了す
る。酸化反応の進行はガスクロマトグラフィー等により
確認することができる。
ロキシ−１−ブタノ−ル及びＮ−オキシル化合物、必要
により、ｐＨ調節のための塩、溶媒、反応促進のための
ハロゲン化塩を予め投入した攪拌機付の反応容器中に、
次亜塩素酸塩を所定の反応温度に維持しながら徐々に添
加することによって行われる。反応温度は好ましくは−
１０〜５０℃、より好ましくは１０〜３０℃である。な
お、次亜塩素酸塩の添加中および反応中は、攪拌を激し
く行うことが好ましい。酸化反応は次亜塩素酸塩の添加
と同時に進行し、添加終了後、通常２時間以内に終了す
る。酸化反応の進行はガスクロマトグラフィー等により
確認することができる。
【００２１】反応終了後、目的生成物は、反応混合物を
蒸留するか、あるいは反応混合物から有機溶媒によって
抽出し、次いで該有機溶媒を常圧又は減圧下に留去する
ことにより単離される。その際に用いる有機溶媒として
は、例えば、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、キ
シレン、メチルシクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、
オクタンなどの炭化水素溶媒、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロルエタン、クロロベンゼンな
どのハロゲン化炭化水素溶媒、エチルエーテル、ｉ−プ
ロピルエーテル、ブチルエーテルなどのエーテル溶媒を
使用することができる。抽出物は所望により通常の洗浄
処理が施された後、溶媒が留去される。上記の方法で得
られた目的物は、必要により、減圧蒸留、クロマトグラ
フィーなどによってさらに純度を高めることができる。
蒸留するか、あるいは反応混合物から有機溶媒によって
抽出し、次いで該有機溶媒を常圧又は減圧下に留去する
ことにより単離される。その際に用いる有機溶媒として
は、例えば、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、キ
シレン、メチルシクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、
オクタンなどの炭化水素溶媒、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロルエタン、クロロベンゼンな
どのハロゲン化炭化水素溶媒、エチルエーテル、ｉ−プ
ロピルエーテル、ブチルエーテルなどのエーテル溶媒を
使用することができる。抽出物は所望により通常の洗浄
処理が施された後、溶媒が留去される。上記の方法で得
られた目的物は、必要により、減圧蒸留、クロマトグラ
フィーなどによってさらに純度を高めることができる。
【００２２】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
が、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２３】実施例１ ２リットルの３口フラスコに、４−アセトキシ−１−ブ
タノ−ル２００ｇ（１．５１ｍｏｌ）、蒸留水２００
ｇ、塩化メチレン４００ｇ、リン酸二水素カリウム１
０．３ｇ、４−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジニルオキシ３．９６ｇ（０．０１５１
ｍｏｌ）および臭化ナトリウム７．８ｇを仕込み、激し
く攪拌しながら、内温を８〜１２℃に保って、滴下ロー
トから１３％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液８９０ｇ
（１．５５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。滴下終了
後、同温度で０．５時間激しく攪拌した。反応混合物を
静置して塩化メチレン層を分液した後、水層を塩化メチ
レン３００ｇで抽出した。塩化メチレン層を一つにした
後、エバポレータにより塩化メチレンを留去し、粗生成
物１８３ｇを得た。この粗生成物を減圧下に蒸発させる
ことにより、４−アセトキシ−１−ブタナ−ル（沸点４
４−４６℃／０．５−０．８mmHg、純度９６％以上）１
４６ｇを得た。仕込んだ４−アセトキシ−１−ブタノ−
ル基準での転化率は９４％、選択率は７６％であった。
タノ−ル２００ｇ（１．５１ｍｏｌ）、蒸留水２００
ｇ、塩化メチレン４００ｇ、リン酸二水素カリウム１
０．３ｇ、４−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジニルオキシ３．９６ｇ（０．０１５１
ｍｏｌ）および臭化ナトリウム７．８ｇを仕込み、激し
く攪拌しながら、内温を８〜１２℃に保って、滴下ロー
トから１３％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液８９０ｇ
（１．５５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。滴下終了
後、同温度で０．５時間激しく攪拌した。反応混合物を
静置して塩化メチレン層を分液した後、水層を塩化メチ
レン３００ｇで抽出した。塩化メチレン層を一つにした
後、エバポレータにより塩化メチレンを留去し、粗生成
物１８３ｇを得た。この粗生成物を減圧下に蒸発させる
ことにより、４−アセトキシ−１−ブタナ−ル（沸点４
４−４６℃／０．５−０．８mmHg、純度９６％以上）１
４６ｇを得た。仕込んだ４−アセトキシ−１−ブタノ−
ル基準での転化率は９４％、選択率は７６％であった。
【００２４】実施例２ ２リットルの３口フラスコに、４−アセトキシ−１−ブ
タノ−ル２００ｇ、蒸留水２００ｇ、塩化メチレン４０
０ｇ、炭酸水素ナトリウム１２．７ｇ、４−アセトキシ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ
３．２３ｇ（０．０１５１ｍｏｌ）および臭化ナトリウ
ム７．８ｇを仕込み、激しく攪拌しながら、内温を２５
〜３０℃に保って、滴下ロートから１３％の次亜塩素酸
ナトリウム水溶液８９０ｇを１時間かけて滴下した。滴
下終了後、同温度で０．５時間激しく攪拌した。反応混
合物を静置して塩化メチレン層を分液した後、水層を塩
化メチレン３００ｇで抽出した。塩化メチレン層を一つ
にした後、エバポレータにより塩化メチレンを留去し
て、粗生成物１９２ｇを得た。この粗生成物を減圧下に
蒸発させることにより、４−アセトキシ−１−ブタナ−
ル（純度９５％以上）１５２ｇを得た。仕込んだ４−ア
セトキシ−１−ブタノ−ル基準での転化率は９１％、選
択率は８１％であった。
タノ−ル２００ｇ、蒸留水２００ｇ、塩化メチレン４０
０ｇ、炭酸水素ナトリウム１２．７ｇ、４−アセトキシ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシ
３．２３ｇ（０．０１５１ｍｏｌ）および臭化ナトリウ
ム７．８ｇを仕込み、激しく攪拌しながら、内温を２５
〜３０℃に保って、滴下ロートから１３％の次亜塩素酸
ナトリウム水溶液８９０ｇを１時間かけて滴下した。滴
下終了後、同温度で０．５時間激しく攪拌した。反応混
合物を静置して塩化メチレン層を分液した後、水層を塩
化メチレン３００ｇで抽出した。塩化メチレン層を一つ
にした後、エバポレータにより塩化メチレンを留去し
て、粗生成物１９２ｇを得た。この粗生成物を減圧下に
蒸発させることにより、４−アセトキシ−１−ブタナ−
ル（純度９５％以上）１５２ｇを得た。仕込んだ４−ア
セトキシ−１−ブタノ−ル基準での転化率は９１％、選
択率は８１％であった。
【００２５】実施例３ ２リットルの３口フラスコに、４−アセトキシ−１−ブ
タノ−ル２００ｇ、蒸留水２００ｇ、塩化メチレン４０
０ｇ、炭酸水素ナトリウム１２．７ｇ、４−ベンジルオ
キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキ
シ３．９６ｇおよび臭化ナトリウム７．８ｇを仕込み、
激しく攪拌しながら、内温を２５〜３０℃に保って、滴
下ロートから１３％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液８９
０ｇを１時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度で
０．５時間激しく攪拌した。反応混合物を静置して塩化
メチレン層を分液した後、水層を塩化メチレン３００ｇ
で抽出した。塩化メチレン層を一つにした後、エバポレ
ータにより塩化メチレンを留去して、粗生成物１９６ｇ
を得た。この粗生成物を減圧下に蒸発させることによ
り、４−アセトキシ−１−ブタナ−ル（純度９６％以
上）１７１ｇを得た。仕込んだ４−アセトキシ−１−ブ
タノ−ル基準での転化率は９１％、選択率は８１％であ
った。
タノ−ル２００ｇ、蒸留水２００ｇ、塩化メチレン４０
０ｇ、炭酸水素ナトリウム１２．７ｇ、４−ベンジルオ
キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキ
シ３．９６ｇおよび臭化ナトリウム７．８ｇを仕込み、
激しく攪拌しながら、内温を２５〜３０℃に保って、滴
下ロートから１３％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液８９
０ｇを１時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度で
０．５時間激しく攪拌した。反応混合物を静置して塩化
メチレン層を分液した後、水層を塩化メチレン３００ｇ
で抽出した。塩化メチレン層を一つにした後、エバポレ
ータにより塩化メチレンを留去して、粗生成物１９６ｇ
を得た。この粗生成物を減圧下に蒸発させることによ
り、４−アセトキシ−１−ブタナ−ル（純度９６％以
上）１７１ｇを得た。仕込んだ４−アセトキシ−１−ブ
タノ−ル基準での転化率は９１％、選択率は８１％であ
った。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、４−アシロキシ−１−
ブタノ−ルから、ビタミンＡや種々の香料の合成中間体
として有用な４−アシロキシ−１−ブタナ−ルを工業的
に有利に製造することができる。
ブタノ−ルから、ビタミンＡや種々の香料の合成中間体
として有用な４−アシロキシ−１−ブタナ−ルを工業的
に有利に製造することができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（２） 【化１】 （式中、Ｒはアルキル基またはアリール基を表す）で示
される４−アシロキシ−１−ブタノールをＮ−オキシル
化合物の存在下に、次亜塩素酸塩で酸化することを特徴
とする一般式（１） 【化２】 （式中、Ｒは前記定義のとおりである）で示される４−
アシロキシ−１−ブタナールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24550495A JPH0967315A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | ４−アシロキシ−１−ブタナールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24550495A JPH0967315A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | ４−アシロキシ−１−ブタナールの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0967315A true JPH0967315A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=17134661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24550495A Pending JPH0967315A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | ４−アシロキシ−１−ブタナールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0967315A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008290974A (ja) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Koei Chem Co Ltd | Ｎ−置換−ホルミルピペリジン類の製造方法 |
-
1995
- 1995-08-30 JP JP24550495A patent/JPH0967315A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008290974A (ja) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Koei Chem Co Ltd | Ｎ−置換−ホルミルピペリジン類の製造方法 |
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