JPH0961054A - 真空オ−ブンチャンバ−のヒ−タ構造 - Google Patents

真空オ−ブンチャンバ−のヒ−タ構造

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JPH0961054A
JPH0961054A JP24255195A JP24255195A JPH0961054A JP H0961054 A JPH0961054 A JP H0961054A JP 24255195 A JP24255195 A JP 24255195A JP 24255195 A JP24255195 A JP 24255195A JP H0961054 A JPH0961054 A JP H0961054A
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正人 竹内
Tsutomu Shoji
勉 東海林
Shigeyuki Kubo
茂幸 久保
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 キャリア上に搭載され,内部にチップを収納
したパッケ−ジを真空中で加熱乾燥するための真空オー
ブンチャンバ−のヒ−タ構造を提供すること。 【解決手段】 キャリア上に搭載され,内部にチップを
収納したパッケ−ジに,キャップを溶接するための溶接
工程の前工程における真空オーブンチャンバ−内にキャ
リアを搬入してパッケ−ジを真空中で加熱乾燥するため
の真空オーブンチャンバ−において,両側部をヒ−タを
埋設したヒ−タブロックで形成するとともに,このヒ−
タブロックに熱伝導率の良好な部材で形成した棚板を支
持して成る棚体と,この棚体を真空オ−ブンチャンバ−
内に配置するとともに,ヒ−タブロックからの伝導熱に
より加熱された棚体の棚板上に,パッケ−ジを搭載した
キャリアを載置してパッケ−ジを加熱乾燥するようにし
たものである。 【効果】 高価なヒ−タは従来のものに比べて格段に少
なく,その上,構造も簡単であり装置全体の価格が安く
なる。棚板全体の温度分布は均一となり,パッケ−ジの
加熱温度のばらつきをなくすことが出来る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は,キャリア上に搭
載され,内部にチップを収納したパッケ−ジを真空中で
加熱乾燥するための真空オーブンチャンバ−のヒ−タ構
造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に,チップを収納するためのパッケ
−ジとしては,セラミック基板に金属製のシ−ルフレ−
ムを接合したセラミック製のパッケ−ジや,全体が金属
で形成されている金属製のパッケ−ジ等があり,内部に
チップが収納され,リ−ドとの内部配線をしたこれらの
パッケ−ジは,キャリア上に位置決めされて多数搭載さ
れている。
【0003】このように,キャリア上に搭載されたパッ
ケ−ジは,まず,真空オ−ブンチャンバ−内に搬入され
て加熱乾燥される。次いで,このパッケ−ジの開口端部
にキャップが載置された後,このキャップはパッケ−ジ
にスポット溶接により仮止めされる。スポット溶接によ
り仮止めされたパッケ−ジとキャップとの接合部は,キ
ャップの互いに対向する周縁に沿って回転する一対のロ
−ラ電極により加圧,通電されて,接合部に発生するジ
ュ−ル熱によりパッケ−ジ開口端部とキャップとがシ−
ム溶接される。
【0004】このようにして,パッケ−ジとキャップと
をシ−ム溶接する場合,このシ−ム溶接工程の前工程に
おいて,パッケ−ジを搭載したキャリアは,上記のよう
に真空オ−ブンチャンバ−内に搬入して,一定時間,真
空中で加熱乾燥しなければならない。このように,パッ
ケ−ジを加熱乾燥するために,図4,図5に示すよう
に,従来の真空オ−ブンチャンバ−は,内部に側板1に
支持された多数の棚2が設けられており,この棚2の上
にトレ−3を載置し,このトレ−3の中にパッケ−ジ4
を多数搭載したキャリア5を載置して,棚2を加熱して
パッケ−ジが加熱乾燥されるように構成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら,パッケ
−ジ4を加熱乾燥する際に,各パッケ−ジ4の加熱温度
にばらつきがあると,パッケ−ジ4内に収納されている
チップの特性が変化してしまう。そのため,従来は,各
段の棚2の温度分布を一定にするために,上下2枚のス
テンレス製の上棚板2aおよび下棚板2bとの間に,ヒ
−タ6が配設された構造の棚2が用いられていた。
【0006】従って,棚2の段数分だけ高価なヒ−タ6
が必要となるとともに,その構造も複雑となり,それだ
け,装置全体の価格が高くなるという問題があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明は,キャリア上
に搭載され,内部にチップを収納したパッケ−ジに,キ
ャップを溶接するための溶接工程の前工程における真空
オーブンチャンバ−内にキャリアを搬入してパッケ−ジ
を真空中で加熱乾燥するための真空オーブンチャンバ−
において,両側部をヒ−タを埋設したヒ−タブロックで
形成するとともに,このヒ−タブロックに熱伝導率の良
好な部材で形成した棚板を支持して成る棚体と,この棚
体を真空オ−ブンチャンバ−内に配置するとともに,ヒ
−タブロックからの伝導熱により加熱された棚体の棚板
上に,パッケ−ジを搭載したキャリアを載置してパッケ
−ジを加熱乾燥するようにしたものである。
【0008】さらにこの発明は,棚板の上面に,この棚
板を保護する補助棚板を固定し,この補助棚板の上に,
キャリアを載置したトレ−を載置するとともに,棚板を
補助棚板及びトレ−より熱容量の大きな部材で形成する
ようにしたものであり,さらにこの発明は棚板を銅製部
材で形成するとともに,補助棚板はステンレス製部材で
形成したものである。
【0009】
【発明の実施の形態】この発明の実施例を,図1〜図3
に基づいて詳細に説明する。図1はこの発明の実施例を
示す正面図,図2は図1の平面図,図3は要部拡大説明
図である。なお,従来例と同一のものは同一名称を使用
するとともに,同一番号を付し,その説明を省略する。
【0010】図1〜図3において,10は真空オ−ブン
チャンバ−23内に配置されている棚体で,両側部にヒ
−タ11を埋設したヒ−タブロック12と,このヒ−タ
ブロック12に支持されている棚板13とにより構成さ
れている。ヒ−タブロック12には,任意の数のヒ−タ
11が埋設されて加熱源となっているとともに,熱伝導
率の良好な銅等の金属部材で形成された棚板13が間隙
を介在させて複数支持されている。この実施例の場合に
は,ヒ−タ11は片側につき3本程度使用された。な
お,棚板13の板厚は厚いものが熱容量が大となるか
ら,温度分布が均一となり好適である。
【0011】棚板13の上面には,底面が棚板13と同
一形状を有する皿状に形成されているステンレス製の補
助棚板14がねじ15により棚板13に固着されてい
る。この補助棚板14は,棚板13が銅等のように熱伝
導率は高いが軟性の部材で形成された場合,棚板13が
切削されるのを防止するためのもので,棚板13が硬度
の高い部材で形成されている場合には,必ずしも必要で
はない。又,補助棚板14はその表面が円滑に形成され
ているので,トレ−3を出し入れする際のガイドとして
の役割も果たしている。なお,棚板13は,補助棚板1
4およびトレ−3より大きな熱容量を有することが必要
である。
【0012】16,17はそれぞれ窒素ガス注入用およ
び排気用の電磁弁で,それぞれ窒素ガスの注入,排気の
際に制御ユニット22に制御されて開閉される。18,
19はヒ−タ11への加熱電流の入力端および出力端,
20は冷却パイプで,この実施例の場合には冷却水が循
環している。21は空気の排気バルブ,22は制御ユニ
ットで,棚板13の加熱温度,加熱時間の制御,真空オ
−ブンチャンバ−23内への窒素ガスの注入,排気の制
御,冷却水の温度制御,空気の排気のための排気バルブ
21の制御等この真空オ−ブンチャンバ−23の各部の
制御が行われている。
【0013】24は支持柱で,真空オ−ブンチャンバ−
23は本体(図示せず)に固定されるとともに,制御ユ
ニット22にも支持柱24で固定されている。25は真
空オ−ブンチャンバ−23の前面扉である。
【0014】このように構成されているので,まず,棚
板13と補助棚板14とからなる棚の各段に,パッケ−
ジ4を搭載したトレ−3がそれぞれ載置された後,排気
バルブ21から真空オ−ブンチャンバ−23内部の空気
が排気されて,内部が真空にされる。真空オ−ブンチャ
ンバ−23内部が所定の真空度に達すると,窒素ガス注
入用の電磁弁16が開放されて真空オ−ブンチャンバ−
23内部に窒素ガスが注入される。
【0015】次いで,制御ユニット22からの指令によ
り,ヒ−タ11に加熱電流が給電されてヒ−タ11が加
熱され,ヒ−タブロック12が全体として加熱されて,
棚板13の加熱源となる。各棚板13は熱伝導率の良好
な部材で形成されているので,ヒ−タブロック12から
の伝導熱により,各棚板13およびその補助棚板14と
一体となって均一に加熱され,平坦な温度分布が得られ
る。この際,真空オ−ブンチャンバ−23内には,窒素
ガスが充填されているので,内部に対流熱も発生し,棚
板13の加熱時間を短縮することが出来る。
【0016】このようにして,棚板13および補助棚板
14が所定温度まで加熱されると,制御ユニット22か
らの指令により,窒素ガス排気用の電磁弁17が動作し
て真空オ−ブンチャンバ−23内部の窒素ガスが排気さ
れ,再び真空オ−ブンチャンバ−23内部は真空に維持
される。この状態で,トレ−3上のキャリア5に搭載さ
れているパッケ−ジ4は,所定時間,所定温度で加熱乾
燥される。
【0017】所定時間が経過すると,真空オ−ブンチャ
ンバ−23の前面扉25を開放するために,制御ユニッ
ト22からの指令により,窒素ガス注入用の電磁弁16
が動作して真空オ−ブンチャンバ−23内に窒素ガスが
注入される。充分窒素ガスが注入されると制御ユニット
22からの指令により,電磁弁16が閉鎖され,真空オ
−ブンチャンバ−23の前面扉25が開放されて内部か
らトレ−3が搬出され,次の仮止め工程へと搬送され
る。
【0018】
【発明の効果】この発明は,キャリア上に搭載され,内
部にチップを収納したパッケ−ジに,キャップを溶接す
るための溶接工程の前工程における真空オ−ブンチャン
バ−内にキャリアを搬入してパッケ−ジを真空中で加熱
乾燥するための真空オーブンチャンバ−において,両側
部をヒ−タを埋設したヒ−タブロックで形成するととも
に,このヒ−タブロックに熱伝導率の良好な部材で形成
した棚板を支持して成る棚体と,この棚体を真空オ−ブ
ンチャンバ−内に配置するとともに,ヒ−タブロックか
らの伝導熱により加熱された棚体の棚板上に,パッケ−
ジを搭載したキャリアを載置してパッケ−ジを加熱乾燥
するようにしたので,高価なヒ−タはヒ−タブロックに
埋設されているだけであるからその数も従来のものに比
べて格段に少なく,その上,構造も簡単であり装置全体
の価格が安くなり,経済的であるとともに,スペ−ス効
率もよくなる。その上,棚板はヒ−タブロックからの伝
導熱により加熱されるので,棚板全体の温度分布は均一
となり,パッケ−ジの加熱温度のばらつきをなくすこと
が出来る。
【0019】又,この発明は,棚板の上面に,この棚板
を保護する補助棚板を固定し,この補助棚板の上に,キ
ャリアを載置したトレ−を載置するとともに,棚板を補
助棚板及びトレ−より熱容量の大きな部材で形成するよ
うにしたので,トレ−の出し入れに際して,棚板が損傷
されることもなく,その上,円滑に出し入れすることが
出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例を示す正面図である。
【図2】この発明の実施例を示すもので,図1の平面図
である。
【図3】この発明の実施例を示すもので,要部拡大説明
図である。
【図4】従来例を示す説明図である。
【図5】真空オ−ブンチャンバ−内に搬入されるパッケ
−ジ4の状態を示す説明図である。
【符号の説明】
3 トレ− 4 パッケ−ジ 5 キャリア 10 棚体 11 ヒ−タ 12 ヒ−タブロック 13 棚板 14 補助棚板 23 真空オ−ブンチャンバ−

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 キャリア上に搭載され,内部にチップを
    収納したパッケ−ジに,キャップを溶接するための溶接
    工程の前工程におけるチャンバ−内に前記キャリアを搬
    入して前記パッケ−ジを真空中で加熱乾燥するための真
    空オーブンチャンバ−において,両側部をヒ−タを埋設
    したヒ−タブロックで形成するとともに,このヒ−タブ
    ロックに熱伝導率の良好な部材で形成した棚板を支持し
    て成る棚体と,この棚体を前記真空オ−ブンチャンバ−
    内に配置するとともに,前記ヒ−タブロックからの伝導
    熱により加熱された前記棚体の前記棚板上に,前記パッ
    ケ−ジを搭載した前記キャリアを載置して前記パッケ−
    ジを加熱乾燥することを特徴とする真空オーブンチャン
    バ−のヒ−タ構造。
  2. 【請求項2】 前記棚板の上面に,この棚板を保護する
    補助棚板を固定し,この補助棚板の上に,前記キャリア
    を載置したトレ−を載置するとともに,前記棚板は,前
    記補助棚板及び前記トレ−より熱容量の大きな部材で形
    成したことを特徴とする請求項1に記載の真空オーブン
    チャンバ−のヒ−タ構造。
  3. 【請求項3】 前記棚板は,銅製部材で形成するととも
    に,前記補助棚板はステンレス製部材で形成したことを
    特徴とする請求項2に記載の真空オーブンチャンバ−の
    ヒ−タ構造。
JP24255195A 1995-08-28 1995-08-28 真空オ−ブンチャンバ−のヒ−タ構造 Expired - Lifetime JP3476286B2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001055658A1 (fr) * 2000-01-25 2001-08-02 Japan Field Co., Ltd. Methode et dispositif de sechage post-lavage
JP2007303707A (ja) * 2006-05-10 2007-11-22 Tokyo Rika Kikai Kk 乾燥器
JP2008124204A (ja) * 2006-11-10 2008-05-29 Epson Toyocom Corp 製造対象物の熱処理装置および熱処理方法、並びに圧電デバイスの製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001055658A1 (fr) * 2000-01-25 2001-08-02 Japan Field Co., Ltd. Methode et dispositif de sechage post-lavage
JP2007303707A (ja) * 2006-05-10 2007-11-22 Tokyo Rika Kikai Kk 乾燥器
JP2008124204A (ja) * 2006-11-10 2008-05-29 Epson Toyocom Corp 製造対象物の熱処理装置および熱処理方法、並びに圧電デバイスの製造方法

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