JPH0957600A - Sample thinning method and device - Google Patents

Sample thinning method and device

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JPH0957600A
JPH0957600A JP20563895A JP20563895A JPH0957600A JP H0957600 A JPH0957600 A JP H0957600A JP 20563895 A JP20563895 A JP 20563895A JP 20563895 A JP20563895 A JP 20563895A JP H0957600 A JPH0957600 A JP H0957600A
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JP
Japan
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sample
polishing
thinning
fixed
rotating
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Application number
JP20563895A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Matsunaga
和夫 松永
Fumikazu Ohira
文和 大平
Mitsuo Kajita
三夫 梶田
Masahiro Seki
昌浩 関
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N T T ADVANCE TECHNOL KK
NTT Advanced Technology Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
N T T ADVANCE TECHNOL KK
NTT Advanced Technology Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
Application filed by N T T ADVANCE TECHNOL KK, NTT Advanced Technology Corp, Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical N T T ADVANCE TECHNOL KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simultaneously perform a sample thinning and recessing by replacing and taking over the dimpling tool to a working position by integrally turning the polishing tool and the dimpling tool after completing polishing work. SOLUTION: A batten 9 is formed by freely positioning for rotating by 180 deg. about an intermediate rotation vertical shaft 20 or the sliding and rotating vertical shaft 12 so that, in the case of polishing work, the center of a sample stuck jig holding hole 15 loaded with a sample stuck jig 4 is made to face to the axis of a rotary disc 2 and in dimpling work, the center of a polishing wheel 1 is made to face to the axis of the rotary disc 2. After the batten 9 is polished by a polishing film sheet 8, it is positioned by horizontally turning to 180 deg., the surface of a sample Si substrate transcribes the shape of an osculating circle of the polishing wheel 1, and both of them are rotated with each other so that the sample is formed into a spherical recessed face.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、透過型電子の薄片試料
の作製において、薄片化を行うと同時に、試料の中央部
を凹面化することが可能であり、さらに薄片試料を冷却
および加熱しながら作製する試料薄片化方法及び装置に
関する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention makes it possible to make a thin piece sample of a transmission electron, and at the same time, to make the central part of the sample concave, and to cool and heat the thin piece sample. The present invention relates to a method and an apparatus for thinning a sample.

【0002】[0002]

【従来の技術】透過型電子顕微鏡において、試料内の欠
陥の様子を観察するために、通常市販されている200
KVの電子顕微鏡では、Si等半導体材料の場合、50
0nm程度以下、さらに特別に、原子レベルの像を観察
するには、この厚みの1/10以下の50nm程度の薄
さにしなければ鮮明な像の観察が出来ない。また特別な
超高圧電子顕微鏡(1000KV)においても、1μm
程度の厚みに試料を薄片化することが必要である。
2. Description of the Prior Art In order to observe the appearance of defects in a sample in a transmission electron microscope, a commercially available 200
In the case of a semiconductor material such as Si, it is 50
In order to observe an image at an atomic level of about 0 nm or less, more specifically, at a thickness of about 50 nm, which is 1/10 or less of this thickness, a clear image cannot be observed. Even with a special ultra-high voltage electron microscope (1000 KV), 1 μm
It is necessary to thin the sample to a certain thickness.

【0003】従来、Si基板上に異種半導体をヘテロエ
ピタキシャル成長させた場合の従来の工程について図1
6にもとづいて説明する。図16(a)に示すように、
先ず、観察試料αの観察試料部分を5mm角に切り出
し、これを接着剤βで張り合わせる[図16(b)]さ
らに、補強板γを貼り付け[16(c)]た後、これを
600μmの厚さに切り出し、これを研磨砥粒の異なる
研磨液を順次用いて、研磨機により薄片化を行い、厚み
が100μm程度まで鏡面状に薄片化する[16
(b)]。
FIG. 1 shows a conventional process for heteroepitaxially growing a heterogeneous semiconductor on a Si substrate.
An explanation will be given based on 6. As shown in FIG. 16 (a),
First, the observation sample portion of the observation sample α is cut into a 5 mm square, and this is pasted with an adhesive β [FIG. 16 (b)]. Further, a reinforcing plate γ is attached [16 (c)], and then this is 600 μm. To a thickness of about 100 μm, and a thin film is cut into pieces with a polishing machine by sequentially using polishing liquids having different polishing abrasive grains, and the pieces are cut into mirror-like pieces [16].
(B)].

【0004】そして、電子顕微鏡の試料ホルダーの形状
に合わせて打ち抜き[16(e)]、さらに、この中心
部を回転工具の研磨ホイール1でデンプリングし、20
μm程度に凹面化する[16(f)]この試料δをイオ
ンミーリング装置により、中心に穴εをあけ、その薄片
部分を電顕観察試料δとして用いていた[図16
(g)]。
Then, punching is performed according to the shape of the sample holder of the electron microscope [16 (e)], and further, the center portion is depleted by the polishing wheel 1 of the rotary tool, and 20
This sample δ is made concave to about μm [16 (f)] A hole ε is made in the center by an ion milling device, and the thin section is used as an electron microscope observation sample δ [FIG.
(G)].

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】以上の工程で明らかな
ように、薄片化の工程を切断、加工、研磨、デンプリン
グ、イオンミーリングによる薄片加工と各加工装置が画
然と分かれていた。また、生体等柔らかい材料は、前記
工程を使用するときには染色と同時に包埋を行い固定す
る必要があった。従って多工程のため作業が複雑化し、
各作業工程毎に加工装置を用意して注意深く試料αやδ
をセット又は取り出し極めて高度の熟練を必要としてい
た。特に研磨工程とデンプリング工程は精密加工が要求
され研磨加工では研磨液の飛散により加工効率の低下や
作業環境が汚れやすく、しかも取扱や加工時、試料破損
を惹き起こすことも屡あった。
As is clear from the above steps, the thinning process is divided into cutting, cutting, polishing, demping, ion milling, and thinning. In addition, when a soft material such as a living body is used, it is necessary to embed and fix the material at the same time as dyeing when using the above process. Therefore, the work is complicated due to multiple processes,
Prepare processing equipment for each work process and carefully sample α and δ.
Was required to be set or taken out and required extremely high skill. In particular, precision processing is required in the polishing step and the depressing step, and in the polishing processing, the scattering of the polishing liquid lowers the processing efficiency and the working environment is easily contaminated, and often causes the sample to be damaged during handling or processing.

【0006】ここにおいて、本発明の解決すべき主要な
目的は、次の通りである。本発明の第1の目的は、簡便
迅速に薄片化を行い、工程の短縮と清浄化を行う試料薄
片化方法および装置を提供せんとするものである。
Here, the main objects to be solved by the present invention are as follows. A first object of the present invention is to provide a sample thinning method and apparatus for performing thinning in a simple and quick manner, shortening the steps and cleaning.

【0007】本発明の第2の目的は、試料の切り出し後
の薄片化工程である研磨工程とデンプリング工程とを同
一装置で行う試料薄片化方法および装置を提供せんとす
るものである。
A second object of the present invention is to provide a sample thinning method and apparatus in which a polishing step, which is a thinning step after cutting out a sample, and a demping step are performed by the same apparatus.

【0008】本発明の第3の目的は、前記第2の目的実
行に当り、試料の冷却硬化状態で行う試料薄片化方法お
よび装置を提供せんとするものである。
A third object of the present invention is to provide a sample thinning method and apparatus for carrying out the second object in the cooling and hardening state of the sample.

【0009】本発明の第4の目的は、前記第3の目的実
行に当り、氷点下以下の状態で研磨を行い氷状で研磨す
る試料薄片化方法および装置を提供せんとするものであ
る。
A fourth object of the present invention is to provide a sample thinning method and apparatus for carrying out the third object, which comprises polishing in a condition below freezing and polishing in an ice state.

【0010】本発明の第5の目的は、前記第2の目的実
行に当り、研磨工程で試料を加熱して、工程の反応を促
進し工程を迅速化する試料薄片化方法および装置を提供
せんとするものである。
A fifth object of the present invention is to provide a sample thinning method and apparatus for heating the sample in the polishing step to promote the reaction of the step and accelerate the step in carrying out the second object. It is what

【0011】本発明のその他の目的は、明細書、図面、
特に特許請求の範囲の記載から自ずと明らかとなろう。
[0011] Other objects of the present invention are as follows:
In particular, it will be obvious from the description of the appended claims.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明方法の第1の特徴
は、試料を切断、加工、研磨、デンプリングおよびイオ
ンミーリングして、試料を薄片化するに当り、研磨加工
具とデンプリング加工具とを一台の装置に180゜対応
位置に取り付けるとともに一つの加工作業位置を設け、
当該加工作業位置で研磨加工終了後は引続き前記研磨加
工具と前記デンプリング加工具とを一体的に180゜旋
回して当該デンプリング加工具を当該加工作業位置に置
き換え持来し、その後、デンプリング加工を続行するこ
とにより、前記研磨加工と当該テンプリング加工とを一
台の装置で行ってなる試料薄片化方法にある。
A first feature of the method of the present invention is that when a sample is sliced by cutting, processing, polishing, dempling and ion milling to thin the sample, a polishing tool and a dempling tool are provided. Is attached to one device at a position corresponding to 180 ° and one machining work position is provided.
After the polishing work is completed at the processing work position, the polishing work tool and the dempling work tool are integrally rotated by 180 ° to replace the dempling work tool with the working work position and bring the dempling work. By continuing, there is a sample thinning method in which the polishing process and the templating process are performed by one device.

【0013】本発明方法の第2の特徴は、前記本発明方
法の第1の特徴における研磨加工とデンプリング加工
が、試料を冷却硬化して行ってなる試料薄片化方法にあ
る。
A second feature of the method of the present invention resides in a sample thinning method in which the polishing process and the dempling process in the first feature of the method of the present invention are performed by cooling and hardening the sample.

【0014】本発明方法の第3の特徴は、前記本発明方
法の第1又は第2の特徴における研磨加工が、氷点下以
下の状態で氷状研磨を行ってなる試料薄片化方法にあ
る。
The third feature of the method of the present invention resides in a method for thinning a sample, in which the polishing process according to the first or second feature of the method of the present invention is performed by ice-like polishing under a temperature below freezing point.

【0015】本発明方法の第4の特徴は、前記本発明方
法の第1、第2又は第3の特徴における研磨加工が、試
料を加熱して加工の反応を促進してなる試料薄片化方法
にある。
The fourth feature of the method of the present invention is that the polishing process according to the first, second or third feature of the method of the present invention heats the sample to accelerate the reaction of the sample. It is in.

【0016】本発明方法の第5の特徴は、前記本発明方
法の第1、第2、第3又は第4の特徴における研磨加工
とデンプリング加工が、−20゜Cから+40゜C下の
冷間又は温間加工を行ってなる試料薄片化方法にある。
A fifth characteristic of the method of the present invention is that the polishing and depressing processing in the first, second, third or fourth characteristic of the method of the present invention is performed at a temperature below -20 ° C to + 40 ° C. It is a method for thinning a sample by performing hot or warm working.

【0017】本発明方法の第6の特徴は、前記本発明方
法の第1、第2、第3、第4又は第5の特徴における研
磨加工が、試料を水平に揺動振幅しながら行ってなる試
料薄片化方法にある。
A sixth feature of the method of the present invention is that the polishing process in the first, second, third, fourth or fifth feature of the method of the present invention is performed while the sample is horizontally swinging and swinging. There is another method for thinning a sample.

【0018】本発明方法の第7の特徴は、前記本発明方
法の第1、第2、第3、第4、第5又は第6の特徴にお
けるデンプリング加工が、試料を軸回転かつ水平揺動振
幅して行ってなる試料薄片化方法にある。
The seventh feature of the method of the present invention is that the dempling process according to the first, second, third, fourth, fifth or sixth feature of the method of the present invention causes the sample to be rotated and horizontally rocked. This is a method for thinning a sample by performing amplitude.

【0019】本発明方法の第8の特徴は、前記本発明方
法の第1、第2、第3、第4、第5、第6又は第7の特
徴におけるデンプリング加工が、試料を固定し、デンプ
リング工具を、水平回転かつ水平揺動振幅して行ってな
る試料薄片化方法にある。
An eighth feature of the method of the present invention is that the sample is fixed by the dempling process according to the first, second, third, fourth, fifth, sixth or seventh feature of the method of the present invention, It is a method for thinning a sample, which is performed by horizontally rotating and horizontally swinging a dempling tool.

【0020】本発明方法の第9の特徴は、前記本発明方
法の第6、第7又は第8の特徴における揺動振幅が、振
幅幅を可変切換自在としてなる試料薄片化方法にある。
The ninth feature of the method of the present invention resides in the method for thinning a sample in which the swing width of the sixth, seventh or eighth feature of the method of the present invention is variable and variable.

【0021】本発明装置の第1の特徴は、駆動トルク伝
動歯車列機構と、試料の研磨とデンプリングの測定加工
とを行う薄片化加工機構と、当該駆動トルク伝動歯車列
機構のトルクを当該薄片化加工機構に加工回転力や回転
揺動力として伝達する伝達回転軸機構からなり、当該伝
達回転軸機構は、研磨工具又は試料を接着した試料接着
治具を保持する加工作業用回転円板を回転する円板回転
縦軸と、デンプリング工具の回転力を中継伝達するとと
もに、前記薄片化加工機構を回転揺動する中間回転縦軸
と、前記薄片化加工機構を回転揺動する揺動回転縦軸と
を、備えてなる試料薄片化装置にある。
The first feature of the device of the present invention is that the drive torque transmission gear train mechanism, the thinning processing mechanism for polishing the sample and measuring the demp ring, and the torque of the drive torque transmission gear train mechanism for the thin piece. It consists of a transmission rotary shaft mechanism that transmits it to the chemical processing mechanism as a processing rotational force or rotational oscillating force.The transmission rotational shaft mechanism rotates a rotary disk for processing work that holds a polishing tool or a sample bonding jig to which a sample is bonded. A vertical axis of rotation of the disk, an intermediate vertical axis of rotation that oscillates the thinning processing mechanism while relaying the rotational force of the demping tool, and a vertical axis of rotation that oscillates the thinning processing mechanism. And a sample thinning device.

【0022】本発明装置の第2の特徴は、前記本発明装
置の第1の特徴における薄片化加工機構が、中間部に直
交状に揺動回転縦軸の上部を貫通して梃動自在に枢着し
た梃板と、当該梃板の一端寄りかつ回転円板中心軸に臨
む部位に貫設した試料接着治具保持孔と、前記梃板の中
間部片側寄りに植立したネジ棒に螺合する締結ナットの
回転により一体に上下変位動するアームの先端に貫着す
るとともにプランジャにて前記試料接着治具保持孔に装
填した試料接着治具上面を押圧し、その押圧力を表示す
るダイヤルゲージと、前記梃板の他端に回転自在に取付
け、中間回転縦軸とプーリー・ベルト伝達機構にてトル
ク伝達自在に連結したデンプリング工具とを、備えてな
る試料薄片化装置にある。
A second feature of the device of the present invention is that the thinning processing mechanism in the first feature of the device of the present invention is slidable by penetrating the upper part of the oscillating rotation vertical axis orthogonal to the intermediate part. The lever plate that is pivotally attached, the sample bonding jig holding hole that is provided at one end of the lever plate and faces the center axis of the rotating disc, and the screw rod that is erected near one side of the intermediate part of the lever plate. A dial that penetrates the tip of an arm that moves up and down as a result of rotation of the matching fastening nut, and presses the upper surface of the sample bonding jig loaded in the sample bonding jig holding hole with a plunger to display the pressing force. A sample thinning device is provided with a gauge and a depressing tool that is rotatably attached to the other end of the lever plate and is connected to an intermediate rotation axis and a pulley / belt transmission mechanism so that torque can be transmitted.

【0023】本発明装置の第3の特徴は、前記本発明装
置の第1又は第2の特徴における中間回転縦軸が、下端
に従動偏心カムを上端に揺動振幅アジャストカラーをそ
れぞれ固着した揺動回転縦軸の軸心を軸回転自在に貫通
するとともに貫通上端部に原動プーリーと揺動振幅アジ
ャストカラーをそれぞれ固着し、かつ中間部に従動偏心
カムを固着してなる試料薄片化装置にある。
A third feature of the device of the present invention is that the vertical axis of the intermediate rotation in the first or second feature of the device of the present invention is such that the lower end driven eccentric cam is fixed to the upper end and a swing amplitude adjusting collar is fixed. This is a sample thinning device in which the axial center of the dynamic rotational axis is rotatably pierced through, the driving pulley and the swing amplitude adjusting collar are fixed to the upper end of the penetrating shaft, and the driven eccentric cam is fixed in the middle. .

【0024】本発明装置の第4の特徴は、前記本発明装
置の第1、第2又は第3の特徴における駆動トルク伝動
歯車列機構が、トルク出力を揺動回転縦軸の従動偏心カ
ムか中間回転縦軸の従動偏心カムのいずれかに選択的に
切換伝達するクラッチ機構を備えてなる試料薄片化装置
にある。
A fourth feature of the device of the present invention is that the drive torque transmission gear train mechanism according to the first, second or third feature of the device of the present invention is a driven eccentric cam of which the torque output is a oscillating rotation vertical axis. The sample thinning device is provided with a clutch mechanism for selectively transmitting the change to any of the driven eccentric cams on the vertical axis of the intermediate rotation.

【0025】本発明装置の第5の特徴は、前記本発明装
置の第1、第2、第3又は第4の特徴における駆動トル
ク伝動歯車列機構が、モータ軸と円板回転縦軸と中継連
動軸と最終連動軸とにそれぞれ固着され、前記円板回転
縦軸には、前記モータ軸に固着したモータ歯車と外接噛
合う円板回転歯車を固着し、前記中継連動軸には、円板
回転歯車と外接噛合う中継歯車を固着するとともにスプ
ライン部をクラッチ機構により上下摺動変位する切換歯
車を取付け、前記最終連動軸には、上部に、揺動回転縦
軸の従動偏心カムに対応外接する出力原動偏心カムを固
着しかつ中間回転縦軸の従動偏心カムに対応外接する出
力原動偏心カムを空転自在に取付けるとともに、下部に
前記切換歯車と選択的に外接噛合う一対の選択歯車の一
方を固着し、他方を前記空転自在な出力原動偏心カムと
一体的に回転するよう空転自在に取付けてなる試料薄片
化装置にある。
A fifth feature of the device of the present invention is that the drive torque transmitting gear train mechanism according to the first, second, third or fourth feature of the device of the present invention relays with the motor shaft and the disc rotation vertical axis. A disk rotary gear fixed to the interlocking shaft and the final interlocking shaft, respectively, is fixed to the disk rotation vertical axis, and is fixed to the motor gear fixed to the motor shaft. A relay gear that circumscribes externally with the rotating gear is fixed, and a switching gear that vertically slides the spline section by a clutch mechanism is attached.The final interlocking shaft has an external contact that corresponds to the driven eccentric cam on the vertical axis of the swing rotation. The output driving eccentric cam is fixedly attached, and the output driving eccentric cam corresponding to the driven eccentric cam on the longitudinal axis of the intermediate rotation is rotatably attached to the output eccentric cam, and one of a pair of selection gears which selectively engages the switching gear with the external contact at the lower portion. Stick to the other In the sample thinned device comprising mounted for idly to rotate said idle freely output driving the eccentric cam and integrally.

【0026】本発明装置の第6の特徴は、前記本発明装
置の第2、第3、第4又は第5の特徴における梃板が、
研磨加工の時には、試料接着治具を装填した試料接着治
具保持孔中心を回転円板の中心軸に臨ませ、デンプリン
グ加工時には、デンプリング工具中心を前記回転円板の
中心軸に臨むよう、中間回転縦軸又は揺動回転縦軸を中
心に180゜旋回位置決め自在に形成してなる試料薄片
化装置にある。
A sixth feature of the device of the present invention is that the lever in the second, third, fourth or fifth feature of the device of the present invention is
During polishing, the center of the sample bonding jig holding hole loaded with the sample bonding jig should face the center axis of the rotating disk, and during demping, the center of the depressing tool should face the center axis of the rotating disk. This is a sample thinning device which is formed so that it can be pivotally positioned by 180 ° around a rotation vertical axis or a swing rotation vertical axis.

【0027】本発明装置の第7の特徴は、前記本発明装
置の第2、第3、第4、第5又は第6の特徴における薄
片化加工機構が、デンプリング加工時、梃板の試料接着
治具保持孔に装填した回転ボール取付治具のボールを受
ける受座ブロックを嵌合する凹部を陥設した台板を駆動
トルク伝動歯車列機構を内蔵する筺体上に設けてなる試
料薄片化装置にある。
A seventh feature of the device of the present invention is that the thinning processing mechanism in the second, third, fourth, fifth or sixth feature of the device of the present invention adheres the sample of the lever plate during the demping process. A sample thinning device in which a base plate having a recess for fitting a receiving block for receiving a ball of a rotary ball mounting jig loaded in a jig holding hole is provided on a housing containing a drive torque transmission gear train mechanism. It is in.

【0028】本発明装置の第8の特徴は、前記本発明装
置の第2、第3、第4、第5又は第6の特徴における試
料接着治具保持孔が、装填した試料接着治具又は回転ボ
ール取付治具を回転保持自在にボール軸受を内嵌してな
る試料薄片化装置にある。
The eighth feature of the device of the present invention is that the sample bonding jig holding hole in the second, third, fourth, fifth or sixth feature of the device of the present invention is loaded with the sample bonding jig or It is a sample thinning device in which a ball bearing is internally fitted so that a rotating ball mounting jig can be held in rotation.

【0029】本発明装置の第9の特徴は、前記本発明装
置の第1、第2、第3、第4、第5第6、第7又は第8
の特徴における回転円板は、上面中央に試料接着治具嵌
合孔を凹陥設してなる試料薄片化装置にある。
The ninth feature of the device of the present invention is the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh or eighth of the device of the present invention.
The rotating disk in the above feature is a sample thinning device in which a sample bonding jig fitting hole is recessed in the center of the upper surface.

【0030】本発明装置の第10の特徴は、前記本発明
装置の第9の特徴における回転円板が、試料接着治具嵌
合孔の外周を囲繞する上面に砥粒水溶液溜め用環溝を掘
設するとともに上面外周縁全長にリブを縁取ってなる試
料薄片化装置にある。
A tenth feature of the device of the present invention is that the rotating disk in the ninth feature of the device of the present invention has an annular groove for accumulating an aqueous solution of abrasive grains on the upper surface surrounding the outer periphery of the fitting hole of the sample bonding jig. This is a sample thinning device that is formed by digging and rimging ribs along the entire length of the outer peripheral edge of the upper surface.

【0031】本発明装置の第11の特徴は、前記本発明
装置の第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7又は
第8の特徴における研磨工具が、研磨円板であって、中
央部を囲繞する上面に砥粒水溶液溜め用環溝を掘設する
とともに上面外周縁全長にリブを縁取ってなる試料薄片
化装置にある。
An eleventh feature of the device of the present invention is that the polishing tool according to the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh or eighth feature of the device of the present invention is a polishing circle. This is a sample thinning device in which an annular groove for accumulating an aqueous solution of abrasive grains is dug in an upper surface of a plate surrounding a central portion and ribs are trimmed along the entire length of the outer peripheral edge of the upper surface.

【0032】本発明装置の第12の特徴は、前記本発明
装置の第9又は第10の特徴における回転円板は、試料
接着治具嵌合孔の下部内面を形成囲繞してベルチェ効果
素子を埋蔵するとともに当該ベルチェ効果素子と前記回
転円板外周全長に環設した摺動リングとリード線で接続
する一方、当該摺動リングに常時摺擦自在に接触する摺
動ブラシを前記回転円板の一側に近設してなる試料薄片
化装置にある。
The twelfth feature of the device of the present invention is that the rotating disk in the ninth or tenth feature of the device of the present invention forms and surrounds the lower inner surface of the fitting hole of the sample bonding jig to form a Peltier effect element. While being buried and connected to the Peltier effect element by a lead wire with a sliding ring provided around the entire circumference of the rotating disk, a sliding brush that is always in slidable contact with the sliding ring is provided on the rotating disk. It is in a sample thinning device that is installed near one side.

【0033】本発明装置の第13の特徴は、前記本発明
装置の第2、第3、第4、第5、第6、第7、第9、第
10、第11又は第12の特徴における梃板は、試料接
着治具保持孔の中間内面を形成囲繞してベルチェ効果素
子を埋蔵するとともに当該ベルチェ効果素子にリード線
を接続引出してなる試料薄片化装置にある。
The thirteenth feature of the device of the present invention resides in the second, third, fourth, fifth, sixth, seventh, ninth, tenth, eleventh or twelfth feature of the device of the present invention. The lever plate is a sample thinning device in which a Peltier effect element is embedded by surrounding and forming an intermediate inner surface of the sample bonding jig holding hole, and a lead wire is connected and drawn out to the Peltier effect element.

【0034】本発明装置の第14の特徴は、前記本発明
装置の第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第
8、第9、第10、第11、第12又は第13の特徴に
おけるデンプリング工具が、研磨ホイール、ペン型研磨
工具、回転軸下端の鍔端に固着したボールのいずれかで
ある試料薄片化装置にある。
The fourteenth feature of the device of the present invention is that the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh, eighth, ninth, tenth and eleventh parts of the device of the present invention. The 12th or 13th characteristic dempling tool is any one of a polishing wheel, a pen-type polishing tool, and a ball fixed to the flange end at the lower end of the rotary shaft.

【0035】本発明装置の第15の特徴は、前記本発明
装置の第14の特徴における研磨ホイールが、梃板他端
に突設する二股ブラケットに一端に従動プーリーを固着
して回転自在に貫通した当該二股ブラケット間のホイー
ル軸に固着してなる試料薄片化装置にある。
A fifteenth feature of the device of the present invention is that the polishing wheel according to the fourteenth feature of the device of the present invention is rotatably penetrated by fixing a driven pulley at one end to a bifurcated bracket projecting at the other end of the lever plate. The sample thinning device is fixed to the wheel shaft between the forked brackets.

【0036】本発明装置の第16の特徴は、前記本発明
装置の第14の特徴におけるペン型研磨工具が、従動プ
ーリーを上部に固着したペン軸を先端部に回転自在に貫
通支承したペン軸支持板基端側部を梃板一端片側の切欠
部に結合連設し、前記従動プーリーと中間回転縦軸の原
動プーリー間に亙ってベルトを無端張架してトルク伝達
自在としてなる試料薄片化装置にある。
A sixteenth feature of the device of the present invention is that the pen type polishing tool according to the fourteenth feature of the device of the present invention has a pen shaft having a driven pulley fixed to the upper portion thereof rotatably supported at its tip end. A thin sample piece in which the base end side of the support plate is connected and connected to the notch on one side of the lever plate, and the belt is endlessly stretched between the driven pulley and the drive pulley of the intermediate rotation vertical axis to transmit torque. It is in the computerization device.

【0037】本発明装置の第17の特徴は、前記本発明
装置の第14の特徴における回転軸下端の鍔端に固着し
たボールが、梃板の一端に直立しかつ垂直ガイド溝を貫
設延在した可動ガイド板とこれに重合摺接自在に筺体上
に直立しかつ半円弧状ガイド溝を貫設延在した分度器形
固定ガイド円弧板の当該半円弧状ガイド溝と前記垂直ガ
イド溝に亙って後端を貫通し、当該後端に常時突出習性
を弾性付勢したスライドロッドの前端に固着する軸受ブ
ロックに上端に従動プーリーを固着した前記回転軸を貫
通支承する一方、当該軸受ブロック下面と鍔端間のかつ
当該軸受ブロック上面と前記従動プーリー直下のスプリ
ング受けカラー間のそれぞれ回転軸に各圧縮コイルスプ
リングを捲着介装し、他方、梃板他端に直立したスタン
ド支柱上端部に基端を回転自在に片持突設し常時中立元
状位置習性を弾性付勢された腕杆の先端部に空転自在に
突立するプーリー軸に固着したバックアッププーリーと
中間回転縦軸の原動プーリーと前記回転軸の従動プーリ
ーに亙り無端ベルトを張架して回転トルクを前記ボール
に伝達自在とした試料薄片化装置にある。
The seventeenth feature of the device of the present invention is that the ball fixed to the flange end at the lower end of the rotary shaft in the fourteenth feature of the device of the present invention stands upright at one end of the lever plate and extends through the vertical guide groove. The existing movable guide plate and the protractor-type fixed guide arc plate which is upright on the housing so as to be capable of overlapping sliding contact therewith and extends through the semi-arc guide groove. Through the rear end, and the rear end of the bearing block fixed to the front end of the slide rod that elastically biases the projection habit at the rear end and the driven shaft fixed to the upper end of the driven shaft. Each compression coil spring is wound around the rotary shaft between the upper end of the bearing block and the spring receiving collar just below the driven pulley, and on the other hand, on the upper end of the stand column upright on the other end of the lever plate. Basis A cantilever is rotatably and cantilevered so that it always has a neutral position. The backup pulley is fixed to the pulley shaft that freely stands up at the tip of the arm rod that is elastically urged, and the intermediate pulley is the drive pulley on the vertical axis. There is provided a sample thinning device in which an endless belt is stretched over a driven pulley of a shaft so that a rotational torque can be transmitted to the balls.

【0038】本発明装置の第18の特徴は、前記本発明
装置の第17の特徴における軸受ブロックが、回転軸下
端の鍔端に固着したボールに代えて、上端に従動プーリ
ーを固着するとともに下端に試料接着治具ホルダーを固
着した回転軸を貫通支承してなる試料薄片化装置にあ
る。
The eighteenth feature of the device of the present invention is that the bearing block according to the seventeenth feature of the device of the present invention has a follower pulley fixed at the upper end and a lower end instead of the ball fixed at the flange end at the lower end of the rotating shaft. It is a sample thinning device in which a rotating shaft having a sample bonding jig holder fixed thereto is supported through.

【0039】本発明装置の第19の特徴は、前記本発明
装置の第18の特徴における回転円板が、当該回転円板
上面に嵌合設定した研磨フィルム張着用円盤の中央に嵌
合直立する支えロッド上端に固着したボールに被装した
研磨フィルムの裾外周縁を前記円盤外周縁に挾着して当
該研磨フィルムを緊張するフィルム押えリングを当該円
盤上面外周縁に亙って被嵌してなる試料薄片化装置にあ
る。
A nineteenth feature of the device of the present invention is that the rotary disc in the eighteenth feature of the device of the present invention is fitted and erected at the center of the abrasive film tensioning disc set to fit on the upper face of the rotary disc. A film holding ring is attached over the outer peripheral edge of the upper surface of the disk by sandwiching the outer peripheral edge of the hem of the abrasive film attached to the ball fixed to the upper end of the support rod to the outer peripheral edge of the disk to tension the abrasive film. It is in the sample thinning device.

【0040】本発明装置の第20の特徴は、前記本発明
装置の第19の特徴における研磨フィルムが、ダイヤモ
ンド砥粒を埋め込んだ樹脂シートである試料薄片化装置
にある。
The twentieth feature of the device of the present invention is the sample thinning device in which the polishing film in the nineteenth feature of the device of the present invention is a resin sheet in which diamond abrasive grains are embedded.

【0041】[0041]

【作用】本発明は、前記のような新規な手法及び手段を
講じているので、以下のような作用をなす。先ず第一
に、本発明では、同一装置において平面研磨で試料を薄
く加工した後、続いて平面研磨工具とは反対側に伸びた
梃板に設けたデンプリング工具をを180度回転させる
ことにより、前記試料δの中央に中心をおいた同心円状
の凹球面を形成させることができる。
The present invention takes the following actions because it takes the novel method and means as described above. First of all, in the present invention, after thinly processing a sample by flat polishing in the same device, subsequently, by rotating a dempling tool provided on a lever plate extending on the side opposite to the flat polishing tool by 180 degrees, A concentric concave spherical surface centered on the center of the sample δ can be formed.

【0042】第二に、先端にペン先に微小球で加工面積
の小さいデンプリング工具を取付て、弧の小さい面積内
でわずかに試料δと工具との相対的な運動をさせて接触
させながら加工させることにより、直径2mmの凹球面
を加工試料である薄片試料の表面に形成できる。
Secondly, the tip of the pen is attached with a small spherical dempring tool having a small processing area, and the sample δ is slightly moved in the small area of the arc while the tool is brought into contact with the tool for processing. By doing so, a concave spherical surface having a diameter of 2 mm can be formed on the surface of a thin sample which is a processed sample.

【0043】第三に、加工試料を固定し、デンプリング
工具の表面を円柱体表面として回転させ、しかもわずか
に左右に揺動させながら接触、加工させると凹円柱状面
を加工試料である薄片試料δの表面に形成できる。
Thirdly, when the processed sample is fixed, the surface of the demping tool is rotated as the surface of a cylindrical body, and when contacting and processing are performed while slightly swinging to the left and right, the concave cylindrical surface is a thin sample which is the processed sample. It can be formed on the surface of δ.

【0044】第四に、研磨および回転可能な微小回転体
である球面状デンプリング工具を取り付け、加工試料と
相対運動させてデンプリング加工させることにより、加
工試料である薄片試料に凹球面を形成することができ
る。
Fourth, to form a concave spherical surface on a thin sample, which is a processed sample, by attaching a spherical demping tool, which is a minute rotating body that can be polished and rotated, and performs relative motion with respect to the processed sample for demping. You can

【0045】第五に、球面状デンプリング工具と加工試
料との間にプラスチックフィルムを挟んで、プラスチッ
クフィルムの形成された球表面を加工試料である薄片試
料の表面に押し当てて、相対運動させながらデンプリン
グ加工させることにより、薄片試料δの表面の凹球面を
形成させることができる。
Fifthly, a plastic film is sandwiched between the spherical dimple tool and the processed sample, and the spherical surface on which the plastic film is formed is pressed against the surface of the thin sample, which is the processed sample, while performing relative movement. A concave spherical surface on the surface of the thin sample δ can be formed by performing the demping process.

【0046】第六に、研磨円板や回転円板や試料接着治
具を加熱及び冷却させることができる素子をとりつける
ことで、熱の化学反応的な加工の促進効果及び冷却で生
体の柔らかい材料の凍結硬化状態での加工を可能とす
る。
Sixth, by mounting an element capable of heating and cooling a polishing disc, a rotating disc, and a sample bonding jig, a chemical-reactive process promoting effect of heat and a soft material of a living body by cooling can be obtained. It enables processing in the freeze-cured state.

【0047】第七に、研磨液の液溜め用環溝及びリブを
回転円板や研磨円板に設けることで、液が飛散して、加
工効率が低下することを防げる。
Seventh, by providing a ring groove and a rib for storing a polishing liquid on a rotating disk or a polishing disk, it is possible to prevent the liquid from scattering and the processing efficiency from being lowered.

【0048】[0048]

【実施例】以下、添付図面を参照し、本発明をその装置
例及び方法例に基づいて、より詳細に説明する。なお、
本装置例及び方法例は、主として透過形電子顕微鏡の試
料を薄片化し、更に中心部を薄く凹球面化するものとし
て具体的に説明するが、これら試料の薄片化技術だけに
制限するものではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings on the basis of its apparatus and method. In addition,
The present apparatus example and method example will be specifically described as a method of thinning a sample of a transmission electron microscope and further thinning the central portion into a concave spherical surface, but the invention is not limited to the thinning technology of these samples. .

【0049】(装置例1)本発明装置の第1装置例を図
面について説明する。図1は本装置例の平面図、図2は
薄片化加工機構と伝達回転軸機構の一部切欠正面図、図
3(a)はデンプリング加工時の薄片化加工機構の正面
図、同図(b)は、回転円板上の試料の拡大斜面図、図
4は駆動トルク伝動歯車列機構の配列状態平面図、図5
乃至図7は図4中V−V、VI−VI、VII−VIIそれ
ぞれ線視断面図である。
(Device Example 1) A first device example of the device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of this apparatus example, FIG. 2 is a partially cutaway front view of a thinning processing mechanism and a transmission rotary shaft mechanism, and FIG. 3A is a front view of a thinning processing mechanism at the time of demping. b) is an enlarged oblique view of the sample on the rotating disk, FIG. 4 is a plan view of the arrangement state of the drive torque transmission gear train mechanism, and FIG.
7 to 7 are sectional views taken along line VV, VI-VI, VII-VII in FIG.

【0050】図中、Aは本装置例の試料薄片化装置、A
aは薄片化加工機構、Abは伝達回転軸機構、Acは駆
動トルク伝動歯車列機構、1はデンプリング工具として
の研磨ホイール、2は回転円板で、研磨円板3を保持
し、自転できる。4は試料接着治具で、δは試料Si基
板で、5mm角、約500μm厚である。5は円板回転
縦軸で、回転円板2と研磨円板3を回転させるための支
持軸である。
In the figure, A is a sample thinning device of this device example, A
a is a thinning processing mechanism, Ab is a transmission rotary shaft mechanism, Ac is a drive torque transmission gear train mechanism, 1 is a grinding wheel as a depressing tool, 2 is a rotating disc, and the polishing disc 3 can be held and rotated. Reference numeral 4 is a sample bonding jig, and δ is a sample Si substrate, which is 5 mm square and about 500 μm thick. Reference numeral 5 denotes a disc rotation axis, which is a support shaft for rotating the rotation disc 2 and the polishing disc 3.

【0051】6はダイヤルゲージで、プランジャ7が試
料接着治具4の一端面に接触して、加圧される。この結
果、試料δが研磨円板3の表面に貼着された薄い研磨フ
ィルムシート8に接触させ、研磨加工圧を与えることを
意味する。9は梃板で、ダイヤレルゲージ6を架設して
いると共に、梃板9に取り付けたネジ棒10にナット1
1で締結している。
Reference numeral 6 is a dial gauge, and the plunger 7 is brought into contact with one end surface of the sample bonding jig 4 and pressed. As a result, it means that the sample δ is brought into contact with the thin polishing film sheet 8 attached to the surface of the polishing disc 3 to apply polishing processing pressure. Reference numeral 9 is a lever plate, on which a dialrel gauge 6 is installed, and a nut 1 is attached to a screw rod 10 attached to the lever plate 9.
It is concluded with 1.

【0052】加工研磨が進むと、ダイヤルゲージ6の指
針の値が減少する。12は揺動回転縦軸で、梃板9が水
平揺動して、試料δが研磨円板3の上を揺動しながら接
触することによって、研磨加工できる。13は梃ピン
で、揺動回転縦軸12に梃板9を枢着するものである。
14はアーム、15は試料接着治具保持孔、16〜19
はボール軸受、20は中間回転縦軸、21は従動大偏心
カム、22は従動小偏心カムである。
As the processing and polishing progress, the value of the pointer of the dial gauge 6 decreases. Reference numeral 12 denotes a swing rotation vertical axis, and the lever plate 9 horizontally swings, and the sample δ is brought into contact with the polishing disc 3 while swinging, whereby polishing can be performed. Reference numeral 13 is a lever pin for pivotally attaching the lever plate 9 to the oscillating rotation vertical axis 12.
14 is an arm, 15 is a sample bonding jig holding hole, 16-19
Is a ball bearing, 20 is a vertical axis of intermediate rotation, 21 is a driven large eccentric cam, and 22 is a driven small eccentric cam.

【0053】23はベルトで、中間回転縦軸20に取り
付けた原動プーリー24と研磨ホイール1に取り付けた
従動プーリー25とにつながれている。26はアイドラ
ーでベルト23が原動プーリー24と従動プーリー25
とから外れないようにするためにある。27は受座ブロ
ック、28は凹部、29は基板、30は筺体、31、3
2は揺動振幅アジャストカラー、33はU字型クラン
プ、34は二股ブラケット、35は研磨ホイール軸であ
る。
Reference numeral 23 denotes a belt, which is connected to a driving pulley 24 attached to the intermediate rotary shaft 20 and a driven pulley 25 attached to the polishing wheel 1. 26 is an idler, and the belt 23 is a driving pulley 24 and a driven pulley 25.
It's there to keep it from going off. 27 is a seat block, 28 is a recess, 29 is a substrate, 30 is a housing, 31, 3
2 is a swing amplitude adjusting collar, 33 is a U-shaped clamp, 34 is a bifurcated bracket, and 35 is a grinding wheel shaft.

【0054】36はモータ、37はモータ軸、38はモ
ータ歯車、39は円板回転歯車、40は中継連動軸、4
0aはスプライン部、41は中継歯車、42はクラッチ
機構、42aはクラッチフレーム、42bはクラッチレ
バー、43はレバーガイド、43aは上切換設定ガイ
ド、43bは下切換設定ガイド、44はスリーブガイ
ド、45は切換歯車、46は最終連動軸、47、48は
上下一対の選択歯車、49は空転スリーブである。
36 is a motor, 37 is a motor shaft, 38 is a motor gear, 39 is a disc rotary gear, 40 is a relay interlocking shaft, 4
0a is a spline part, 41 is a relay gear, 42 is a clutch mechanism, 42a is a clutch frame, 42b is a clutch lever, 43 is a lever guide, 43a is an upper switching setting guide, 43b is a lower switching setting guide, 44 is a sleeve guide, 45 Is a switching gear, 46 is a final interlocking shaft, 47 and 48 are a pair of upper and lower selection gears, and 49 is an idle sleeve.

【0055】50は空転スリーブ49とキー51で固着
した原動大偏心カム52は最終連動軸46にキー53で
固着した原動小偏心カム、54はキー、55〜60はヴ
ァーティカル軸受、61〜65はボール軸受である。
Reference numeral 50 denotes a large driving eccentric cam fixed to the idle sleeve 49 with a key 51, a small driving eccentric cam fixed to the final interlocking shaft 46 with a key 53, 54 keys 55 to 60 vertical bearings, and 61 to 65. Is a ball bearing.

【0056】本装置例(A)は試料δの研磨とデンプリ
ングの測定加工とを行う薄片化加工機構Aaと駆動トル
ク伝動歯車列機構Acと、駆動トルク伝動歯車列機構A
cのトルクを薄片化加工機構Aaに加工回転力や回転揺
動力として伝達する伝達回転軸機構Abからなる。
The example of this apparatus (A) is a thinning processing mechanism Aa for polishing a sample δ and measuring and processing a demp ring, a drive torque transmission gear train mechanism Ac, and a drive torque transmission gear train mechanism A.
It is composed of a transmission rotary shaft mechanism Ab for transmitting the torque of c to the thinning processing mechanism Aa as a processing rotational force and a rotational oscillating force.

【0057】伝達回転軸機構Abは、研磨工具である研
磨円板3を保持する回転円板2を回転する円板回転縦軸
5と、デンプリング工具としての研磨ホイール1の回転
力を中継伝達するとともに梃板9を回転揺動する中間回
転縦軸20と、梃板9を回転揺動する揺動回転縦軸12
とを備える。
The transmission rotary shaft mechanism Ab relays and transmits the rotational force of the disc rotating vertical axis 5 for rotating the rotary disc 2 which holds the polishing disc 3 which is the polishing tool, and the rotational force of the polishing wheel 1 which is the depressing tool. Along with this, an intermediate rotation vertical axis 20 that rotates and swings the lever plate 9, and a swing rotation vertical axis 12 that rotates and swings the lever plate 9.
With.

【0058】薄片化加工機構Aaは、中間部に直交状に
揺動回転縦軸12の上部を貫通して梃動自在に枢着した
梃板9と、梃板9の右端寄りかつ回転円板7中心軸に臨
む部位に貫設した試料接着治具保持孔15と、梃板9の
中間部片側寄りに植立したネジ棒10に螺合する締結ナ
ット11の回転により一体に上下変位動するアーム14
の先端に貫着するとともにプランジャ7にて試料接着治
具保持孔15に装填した試料接着治具4上面を押圧し、
その押圧を表示するダイヤルゲージ6と、梃板9の左端
に回転自在に取付け、中間回転縦軸20と上端に固着し
た原動プーリー24と途中アイドルプーリー26を係接
して研磨ホイール軸35に固着した従動プーリー25間
に亙りベルト23を無端張架してトルク伝達される研磨
ホイール1とを具備する。
The thinning processing mechanism Aa includes a lever plate 9 which pivotally pivots through an upper portion of a swinging rotary ordinate 12 in an orthogonal manner to an intermediate portion, and a rotating disc which is located near the right end of the lever plate 9 and is rotatable. 7 The sample bonding jig holding hole 15 penetrating through the portion facing the central axis and the fastening nut 11 screwed to the screw rod 10 planted near the one side of the intermediate portion of the lever plate 9 are integrally displaced vertically. Arm 14
And the upper surface of the sample bonding jig 4 loaded in the sample bonding jig holding hole 15 is pressed by the plunger 7.
A dial gauge 6 for displaying the pressing force and a lever plate 9 are rotatably attached to the left end of the lever plate 9, and an intermediate rotation vertical shaft 20, a driving pulley 24 fixed to the upper end, and an idler pulley 26 in the middle are engaged and fixed to a polishing wheel shaft 35. The grinding wheel 1 is provided with a belt 23 extending endlessly between the driven pulleys 25 to transmit torque.

【0059】駆動トルク伝動歯車列機構Acは、モータ
軸37と円板回転縦軸5と中継連動軸40と最終連動軸
46とにそれぞれ固着され、円板回転縦軸5には、モー
タ軸37に固着したモータ歯車38と外接噛合う円板回
転歯車39を固着し、中継連動軸40には、円板回転歯
車39と外接噛合う中継歯車41を固着するとともにス
プライン部40aをクラッチ機構42のクラッチレバー
42b上下操作により上下摺動変位する切換歯車45を
取付け、最終連動軸46には、上部に、揺動回転縦軸1
2の従動大偏心カム21に対応外接する出力原動小偏心
カム52を固着しかつ中間回転縦軸20の従動小偏心カ
ム22に対応外接する出力原動大偏心カム50を空転自
在に取付けるとともに、下部に、切換歯車45と選択的
に外接噛合う一対の上選択歯車48を固着し、下選択歯
車48を空転自在な出力原動大偏心カム50と空転スリ
ーブ49を一体介して回転するよう空転自在に取付けて
なる。
The drive torque transmission gear train mechanism Ac is fixed to the motor shaft 37, the disc rotation vertical axis 5, the relay interlocking shaft 40 and the final interlocking shaft 46, respectively, and the disc rotation vertical axis 5 has the motor shaft 37. A disk rotating gear 39 externally meshed with the motor gear 38 fixed to the motor gear 38 is fixed to the relay interlocking shaft 40, and a relay gear 41 externally meshing with the disk rotating gear 39 is fixed to the relay interlocking shaft 40. A switching gear 45, which is vertically displaced by vertical movement of the clutch lever 42b, is attached.
The output driving large eccentric cam 50, which is circumscribing corresponding to the driven large eccentric cam 21 of FIG. In addition, a pair of upper selection gears 48 selectively meshing with the switching gear 45 are fixedly fixed, and the lower selection gears 48 are idled so as to rotate through an output driving large eccentric cam 50 and an idler sleeve 49 which are freely rotatable. Install it.

【0060】梃板9は、研磨加工の時には、試料接着治
具4を装填した試料接着治具保持孔15中心を回転円板
2の中心軸に臨ませ、デンプリング加工時には研磨ホイ
ール1中心を回転円板2の中心軸に臨むよう、中間回転
縦軸20又は揺動回転縦軸12を中心に180゜旋回位
置決め自在に形成してなる。
In the polishing plate 9, during polishing, the center of the sample bonding jig holding hole 15 loaded with the sample bonding jig 4 faces the central axis of the rotating disc 2, and during polishing, the center of the polishing wheel 1 is rotated. It is formed so as to be pivotally positioned by 180 ° about the intermediate rotation vertical axis 20 or the swing rotation vertical axis 12 so as to face the central axis of the disc 2.

【0061】薄片化加工機構Aaは、デンプリング加工
時、梃板9の試料接着治具保持孔15に装填した回転ボ
ール取付治具66のボール67を受ける受座ブロック2
7を嵌合する凹部28を陥設した台板29を駆動トルク
伝動歯車列機構Acを内蔵する筺体30上面左端上に片
持突設してなる。
The thinning mechanism Aa is a receiving block 2 that receives the balls 67 of the rotating ball mounting jig 66 loaded in the sample bonding jig holding holes 15 of the lever plate 9 during the demping process.
A base plate 29 having a recessed portion 28 into which 7 is fitted is cantileveredly provided on the upper left end of the upper surface of a housing 30 containing the drive torque transmission gear train mechanism Ac.

【0062】回転円板2は、上面中央に試料接着治具嵌
合孔68を凹陥設するとともに、試料接着治具保持孔1
5は、装填した試料接着治具4又は回転ボール取付治具
66を回転保持自在にボール軸受16を内嵌してなる。
The rotating disc 2 has a sample bonding jig fitting hole 68 recessed in the center of the upper surface thereof, and the sample bonding jig holding hole 1
Reference numeral 5 has a ball bearing 16 fitted therein so that the loaded sample bonding jig 4 or rotating ball mounting jig 66 can be held in rotation.

【0063】本装置例の仕様はこのような具体的実施態
様を呈し、その加工作業方法を図面を参照して説明す
る。図2では、研磨円板3が回転円板2の上に固定して
いる。ダイヤルゲージ6を保持しているアーム14をネ
ジ棒10に締結ナット11で固定する。試料接着治具4
及びこれに接着している試料Si基板δがダイヤルゲー
ジ6のプランジャ7の先端からスプリング反力で加圧さ
れている。
The specifications of this example of the apparatus present such a concrete embodiment, and the working method thereof will be described with reference to the drawings. In FIG. 2, the polishing disc 3 is fixed on the rotating disc 2. The arm 14 holding the dial gauge 6 is fixed to the screw rod 10 with a fastening nut 11. Sample bonding jig 4
Also, the sample Si substrate δ bonded to this is pressed by the spring reaction force from the tip of the plunger 7 of the dial gauge 6.

【0064】この結果、試料Si基板δは研磨円板3に
加圧されながら接触し、更に回転し、試料Si基板δが
自転可能なので、試料Si基板δは研磨円板3に貼付さ
れている研磨フィルムシート8によって、平面に薄く約
100μmの板厚に研磨される。この場合k、試料Si
基板δの板厚の減少変化はダイヤルゲージ6の指針の変
化として表示されるので、ダイヤルゲージ6は加工研磨
量の変化を監視するモニターとなる。
As a result, the sample Si substrate δ comes into contact with the polishing disc 3 while being pressed, and further rotates, so that the sample Si substrate δ can rotate, so that the sample Si substrate δ is attached to the polishing disc 3. The polishing film sheet 8 is used to polish the surface to a thin thickness of about 100 μm. In this case k, sample Si
Since the change in the thickness of the substrate δ is displayed as a change in the pointer of the dial gauge 6, the dial gauge 6 serves as a monitor for monitoring the change in the amount of processing and polishing.

【0065】このように、研磨工程終了後、梃板9を1
80゜水平旋回位置決めるする前に、研磨円板3を回転
円板2上から取り外すとともに試料接着治具4を試料接
着治具保持孔15から取り出し回転円板2の試料接着治
具嵌合孔68に倒立して嵌合セットし、試料接着接着保
持孔15にボール取付治具66を装填し、図3(a)の
ように設定する。
Thus, after the polishing process, the lever plate 9
Prior to the 80 ° horizontal swivel positioning, the polishing disc 3 is removed from the rotating disc 2 and the sample adhering jig 4 is taken out from the sample adhering jig holding hole 15 and the sample adhering jig fitting hole of the rotating disc 2 is removed. The tube 68 is inverted and fitted and set, the ball attachment jig 66 is loaded in the sample adhesive bond holding hole 15, and the setting is performed as shown in FIG.

【0066】次いで、デンプリング加工に当り、ダイヤ
ルゲージ6を保持しているアーム14をネジ棒10に締
結ナット11で締結固定すると、ブランジャ4はボール
取付治具66端にダイヤルゲージ6の内蔵のスプリング
反力、加熱力を付加しながら接触する。この結果、ダイ
ヤルゲージ6に指針はある決まった文字盤上の数字を指
し示す。
When the arm 14 holding the dial gauge 6 is tightened and fixed to the threaded rod 10 with the tightening nut 11 in the demping process, the blanker 4 is attached to the end of the ball mounting jig 66 and the spring of the dial gauge 6 built-in. Contact while adding reaction force and heating force. As a result, the pointer on the dial gauge 6 indicates a certain number on the dial.

【0067】このプランジャ6のスプリング反力で梃ピ
ン13の軸を中心として、梃板9が天秤機能を担う結
果、スプリング反力は研磨ホイール1を図3のように回
転できる試料Si基板δの表面に加圧力を加えながら接
触させることになる。研磨ホイール1は回転し、更に試
料Si基板δもともに回転し、互いに接触しながら、加
圧力が加わっているので、試料Si基板δの表面は研磨
ホイール1の接触円弧の形を転写し、しかも互いに回転
しているために、球面状の凹面に形成される。
With the spring reaction force of the plunger 6, the lever plate 9 performs the balance function about the axis of the lever pin 13, so that the spring reaction force causes the polishing wheel 1 to rotate as shown in FIG. The surface is brought into contact while applying pressure. The polishing wheel 1 rotates, and the sample Si substrate δ also rotates together, and the pressing force is applied while contacting each other, so that the surface of the sample Si substrate δ transfers the shape of the contact arc of the polishing wheel 1, and Because they rotate with respect to each other, they are formed into spherical concave surfaces.

【0068】内蔵のモータ36から駆動回転された中間
回転縦軸20及び原動プーリー24によって、ベルト2
3が作動し、アイドラー26により緊張されながら従動
プーリー25そして研磨ホイール1が回転する。一方、
円板回転縦軸5が内蔵の電動モータ36から同じように
内蔵の歯車列機構Acを介して駆動回転されて、回転円
板2および試料接着治具4と試料Si基板δとがともに
回転される。
The belt 2 is driven by the intermediate rotation vertical axis 20 and the driving pulley 24 which are driven and rotated by the built-in motor 36.
3 is operated, the driven pulley 25 and the grinding wheel 1 rotate while being tensioned by the idler 26. on the other hand,
The disk rotation vertical axis 5 is likewise driven and rotated by the built-in electric motor 36 via the built-in gear train mechanism Ac, so that the rotary disk 2, the sample bonding jig 4, and the sample Si substrate δ are rotated together. It

【0069】揺動振幅アジャスト31、揺動振幅アジャ
ストカラー32は、中間回転縦軸20と揺動回転縦軸1
2に対して自由に選択して、取付とりはずすことができ
る。揺動振幅アジャストカラー31、32はそれぞれ回
転角内を往復回転する。そのため従動大偏心カム21と
原動小偏心カム52が、従動小偏心カム22と原動大偏
心カム50とが外接するように位置合わせしてある。
The swing amplitude adjust 31 and the swing amplitude adjust collar 32 are provided on the intermediate rotation vertical axis 20 and the swing rotation vertical axis 1.
2 can be freely selected and attached or detached. The swing amplitude adjusting collars 31 and 32 reciprocally rotate within a rotation angle. Therefore, the driven large eccentric cam 21 and the driving small eccentric cam 52 are aligned so that the driven small eccentric cam 22 and the driving large eccentric cam 50 are circumscribed.

【0070】従動小偏心カム22と従動大偏心カム21
とは偏心量がそれぞれ1mmおよび25.5mmなの
で、梃板9の揺動振幅アジャストカラー31あるいは3
2に取り付けると、揺動振幅アジャストカラー31では
揺動幅は1.5mm、揺動振幅アジャストカラー32で
は揺動幅50mmになって梃板9を水平振幅駆動させ
る。
The driven small eccentric cam 22 and the driven large eccentric cam 21.
Since the eccentricity amounts are 1 mm and 25.5 mm, respectively, the swing amplitude adjusting collar 31 or 3 of the lever plate 9 is
2, the swing amplitude adjusting collar 31 has a swing width of 1.5 mm, and the swing amplitude adjusting collar 32 has a swing width of 50 mm to drive the lever plate 9 in a horizontal amplitude.

【0071】このように、平行平面に薄く研磨加工され
た試料Si基板δの表面の直径約2mmに付いて、板厚
100μmの平行平面の薄片試料の中央部の板厚が1〜
2μmになるまで凹球面状にデンプリング研磨加工す
る。すなわち一つの装置で平面研磨と凹球面研磨が可能
である。
As described above, the diameter of the surface of the sample Si substrate δ thinly polished to the parallel plane is about 2 mm, and the plate thickness of the central portion of the thin plate sample of the parallel plane having the plate thickness of 100 μm is 1 to 1.
Dimple ring polishing is performed on the concave spherical surface until it becomes 2 μm. That is, flat polishing and concave spherical polishing can be performed with one device.

【0072】(装置例2)本発明装置の第2装置例を図
面について説明する。図8(a)は本装置例の一部切欠
平面図、図8(b)は、同・薄片加工機構の一部切欠正
面図である。
(Device Example 2) A second device example of the device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 8A is a partially cutaway plan view of the present apparatus example, and FIG. 8B is a partially cutaway front view of the same thin piece processing mechanism.

【0073】図中、Bは本装置例の試料薄片化装置、6
9はデンプリング工具としてのペン型研磨工具、69a
はペン軸、70はペン軸支持板、9aは切欠部、71は
従動プーリー、72はベルト、73は結合ボルト、74
はペン研磨工具押えボルトである。なお、図3の前記第
1装置例と同一部材は同一符号を付して説明の重複を避
けた。
In the figure, B is a sample thinning device of this device example, 6
9 is a pen-type polishing tool as a depressing tool, 69a
Is a pen shaft, 70 is a pen shaft support plate, 9a is a notch, 71 is a driven pulley, 72 is a belt, 73 is a connecting bolt, 74
Is a pen polishing tool holding bolt. The same members as those of the first device example of FIG. 3 are designated by the same reference numerals to avoid duplication of description.

【0074】ペン型研磨工具69は、従動プーリー71
を上部に固着したペン軸69aを先端部に回転自在に貫
通し押えボルト74で支承したペン軸支持板70の基端
側部を梃板9一端片側の切欠部9aに結合ボルト73に
て結合連設し、従動プーリー71と中間回転縦軸20の
原動プーリー24間に亙ってベルト72を無端張架して
トルク伝達自在とする。
The pen type polishing tool 69 includes a driven pulley 71.
The pen shaft 69a fixed to the upper part is rotatably penetrated to the tip end, and the base end side part of the pen shaft support plate 70 supported by the presser bolt 74 is connected to the notch 9a on one side of the lever plate 9 with the connecting bolt 73. The belt 72 is continuously provided, and the belt 72 is stretched endlessly between the driven pulley 71 and the driving pulley 24 of the intermediate rotation vertical axis 20 so that torque can be transmitted.

【0075】円板回転軸5の回転駆動が回転円板2を回
転する一方、原動プーリー24と従動プーリー71の間
にベルト72がつながっているので、中間回転縦軸20
の回転駆動がペン軸69aの回転に、そしてペン型研磨
工具69の回転を生じさせる。前記第1装置例で説明し
たのと同様に、ダイヤルゲージ6のプランジャ4がボー
ル取付治具66を介して受座ブロック27に接触させた
際のスプリング反力が、梃ピン13を支点に自由に傾き
可能とした梃板9に回転モーメントを起して、結局、ペ
ン型研磨工具69の先端ボール69bの試料Si基板δ
の表面に加圧されて接触される。
While the rotary drive of the disk rotating shaft 5 rotates the rotating disk 2, the belt 72 is connected between the driving pulley 24 and the driven pulley 71, so that the intermediate rotating vertical axis 20
Rotation drive causes the rotation of the pen shaft 69a and the rotation of the pen type polishing tool 69. As described in the first device example, the spring reaction force when the plunger 4 of the dial gauge 6 is brought into contact with the seat block 27 via the ball mounting jig 66 is free with the lever pin 13 as a fulcrum. A rotation moment is generated in the lever plate 9 which can be tilted to the end, and eventually the tip Si 69b of the tip ball 69b of the pen-shaped polishing tool 69
Is pressed against the surface of.

【0076】この試料Si基板δの表面に細かい砥粒の
水溶液δをぬらすと、ペン型研磨工具69と試料Si基
板δとはともに回転しているので、試料Si基板δは凹
球面状に研磨加工される。この際揺動振幅アジャストカ
ラー31に梃板9をつなぐと揺動振幅1.5mmの揺動
が研磨加工に加わる結果、直径2mmの凹球面形状が形
成される。
When the aqueous solution δ of fine abrasive grains is wetted on the surface of the sample Si substrate δ, both the pen-shaped polishing tool 69 and the sample Si substrate δ are rotated, so that the sample Si substrate δ is polished into a concave spherical surface. Is processed. At this time, when the lever plate 9 is connected to the swing amplitude adjusting collar 31, a swing having a swing amplitude of 1.5 mm is added to the polishing process, so that a concave spherical shape having a diameter of 2 mm is formed.

【0077】ペン型研磨工具69の先端についているボ
ール69bの大きさは直径は0.5mm位と非常に小さ
い。ペン型研磨工具69の先端のボール69bの代わり
に図示しないフェルトチップを取り替え、更に細かい砥
粒例えばダイヤモンド0.1μm粒径とかコロイダルシ
リカなどを使うと、鏡面の凹球面形状に仕上がる。
The size of the ball 69b attached to the tip of the pen type polishing tool 69 is as small as about 0.5 mm in diameter. If a felt tip (not shown) is replaced in place of the ball 69b at the tip of the pen-type polishing tool 69 and finer abrasive grains such as diamond 0.1 μm grain size or colloidal silica are used, a concave spherical surface with a mirror surface is obtained.

【0078】あらかじめ、ボール69bを付けたペン型
研磨工具69で研磨加工し、もっとも凹んだ中心部で厚
さ約10μmと薄くなるまで加工したあと、フェルトチ
ップを付けたペン型研磨工具69で研磨加工し、薄く、
中心部で板厚1〜2μmと透けて見えるくらいにまで研
磨加工すると電顕試料として砥粒の研磨加工を終了す
る。ダイヤルゲージ6は板厚の減少を観察するためのモ
ニターとして使える。
In advance, a pen-type polishing tool 69 provided with balls 69b was used to perform polishing until the thickness became as thin as about 10 μm at the most recessed center portion, and then a pen-type polishing tool 69 provided with a felt tip was used for polishing. Processed, thin,
When polishing is performed to a thickness of 1 to 2 μm at the center so that it can be seen through, polishing of abrasive grains as an electron microscope sample is completed. The dial gauge 6 can be used as a monitor for observing the reduction in plate thickness.

【0079】(装置例3)本発明装置の第3装置例を図
面につき説明する。図9(a)は本装置例の平面図、図
9(b)は同・薄片化加工機構の一部切欠正面図であ
る。図中Cは、本装置例の試料薄片化装置、75は電磁
接手、76は電磁ブレーキである。なお図3(a)に示
す前記第1装置例と同一部材は、同一符号を付して説明
の重複をさけた。
(Device Example 3) A third device example of the device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 9A is a plan view of this apparatus example, and FIG. 9B is a partially cutaway front view of the same thinning processing mechanism. In the figure, C is a sample thinning device of this device example, 75 is an electromagnetic contact, and 76 is an electromagnetic brake. The same members as those of the first device example shown in FIG. 3A are designated by the same reference numerals to avoid redundant description.

【0080】同図中、回転円板2を電磁接手75を解勢
し、電磁ブレーキ76を付勢制動して回転を拘束し、固
定する。一方、研磨ホイール1は、前記第1装置例と同
様に、原動プーリー24および従動プーリー25そして
ベルト23の駆動伝達で回転させる。
In the same figure, the rotary disc 2 is deenergized by the electromagnetic joint 75, and the electromagnetic brake 76 is urged and braked to restrain and fix the rotation. On the other hand, the polishing wheel 1 is rotated by the drive transmission of the driving pulley 24, the driven pulley 25, and the belt 23, as in the first device example.

【0081】更に、わずかな1.5mm幅の振り揺動を
与えるために、揺動振幅アジャストカラー31をえらん
で、梃板9の梃ピン13を揺動振幅アジャストカラー3
1あるいは32のピン穴01あるいは02に合わせて、
結合させる。なお、梃板9が揺動振幅アジャストカラー
31又は32と嵌合し、摺動が自由なように梃板9に図
示しない穴があいている機構になっている。
Further, in order to give a swinging swing of a slight 1.5 mm width, the swing amplitude adjusting collar 31 is selected, and the lever pin 13 of the lever plate 9 is moved to the swing amplitude adjusting collar 3.
According to the pin hole 01 or 02 of 1 or 32,
To combine. The lever plate 9 is fitted with the swing amplitude adjusting collar 31 or 32, and the lever plate 9 has a hole (not shown) so that it can slide freely.

【0082】研磨ホイール1が回転を拘束された試料S
i基板δの表面に前記第1装置例と同様に加圧、接触さ
せ、砥粒を加えると、研磨ホイール1が回転しながら、
1.5mm幅揺動し、加工研磨がはじまる。その結果、
試料Si基板δには円柱面状の凹形状が形成され、中心
で10μm位の板厚まで加工できる。
Sample S in which the polishing wheel 1 is restrained from rotating
When the surface of the i substrate δ is pressed and brought into contact with the surface of the i substrate δ in the same manner as in the first example, and abrasive grains are added, the polishing wheel 1 rotates,
It swings with a width of 1.5 mm, and processing and polishing starts. as a result,
The sample Si substrate δ has a cylindrical concave shape, and can be processed to a plate thickness of about 10 μm at the center.

【0083】次の工程では、研磨ホイール1にフェルト
状のやわらかい円輪を研磨ホイール1の外周にはめ代
え、更に細かい0.1μmダイヤモンド砥粒懸濁液で加
工すると、1〜2μmの板厚に中心部が薄く透けて見え
る位に加工でき、鏡面状に前記円柱凹形状面が形成され
る。この段階で、電顕試料δの研磨・デンプリング加工
が終了する。ダイヤルゲージ6は同様に加工進行の板厚
減少量を観察するためのモニターとして使える。
In the next step, a felt-like soft circular ring was fitted to the polishing wheel 1 on the outer periphery of the polishing wheel 1 and processed with a finer 0.1 μm diamond abrasive grain suspension to obtain a plate thickness of 1 to 2 μm. The center part can be processed so that it can be seen through thinly, and the cylindrical concave surface is formed in a mirror surface. At this stage, the polishing / dempling process of the electron microscope sample δ is completed. Similarly, the dial gauge 6 can be used as a monitor for observing the amount of reduction in plate thickness during the progress of processing.

【0084】(装置例4)本発明装置の第4装置例を図
面につき説明する。図10は本装置例の薄片化加工機構
の正面図、図11は同・右側面図、図11は同・中央縦
断拡大正面図である。
(Device Example 4) A fourth device example of the device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 10 is a front view of the thinning processing mechanism of this apparatus example, FIG. 11 is a right side view of the same, and FIG. 11 is a central longitudinal enlarged front view of the same.

【0085】図中、Dは本装置例の試料薄片化装置、7
7は回転軸、77aは下端の鍔端77bにボール77c
を固着したデンプリング工具、78は直板型可動ガイド
板、79は垂直ガイド溝、80は分度器型固定ガイド円
弧板、81はは半円弧状ガイド溝、82はスライドロッ
ド、82aは雄螺子部、82bは鍔、82cは雌螺子
筒、83は圧縮コイルスプリング、84は軸受ブロッ
ク、85、86は圧縮コイルスプリング、87はスプリ
ング受カラーである。
In the figure, D is a sample thinning device of this device example, 7
7 is a rotating shaft, and 77a is a ball 77c on the lower brim end 77b.
, 78 is a straight plate type movable guide plate, 79 is a vertical guide groove, 80 is a protractor type fixed guide circular arc plate, 81 is a semi-circular arc shaped guide groove, 82 is a slide rod, 82a is a male screw part, and 82b is Is a collar, 82c is a female screw cylinder, 83 is a compression coil spring, 84 is a bearing block, 85 and 86 are compression coil springs, and 87 is a spring receiving collar.

【0086】88はスタンド支柱、89は腕杆、90は
捩りコイルスプリング、91はボルト、92はナット、
93バックアッププーリー、94はプーリー軸、95は
半円弧カバー、96は従動プーリー、97はベルト、9
8〜107はボール軸受である。なお図1〜3に示すよ
うに前記第1実施例と同一部材は、同一符号を付して説
明の重複を避けた。
Reference numeral 88 is a stand column, 89 is an arm rod, 90 is a torsion coil spring, 91 is a bolt, 92 is a nut,
93 backup pulley, 94 pulley shaft, 95 semi-circular arc cover, 96 driven pulley, 97 belt, 9
8 to 107 are ball bearings. As shown in FIGS. 1 to 3, the same members as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals to avoid duplication of description.

【0087】回転軸77a下端の鍔77b端にボール7
7cを固着したデンプリング工具77は、梃板9の右端
に直立しかつ垂直ガイド溝79を貫設延在した可動ガイ
ド板78とこれに重合摺接自在に筺体30上に直立し、
半円弧状ガイド溝81を貫設延在した固定円弧板80の
の半円弧状ガイド溝81と垂直ガイド溝79に亙って鍔
80c付雌螺子筒82aを貫通し、圧縮コイルスプリン
グ83にて雌螺子筒82aに突出習性付勢したスライド
ロッド82の前端に固着する軸受ブロック84に、上端
に従動プーリー96を固着したし回転軸77aを貫通支
承する一方、軸受ブロック84下面と鍔77b杆の回転
軸77aにかつ軸受ブロック84の上面とスプリング受
けカラー87間のそれぞれ回転軸77aに圧縮コイルス
プリング85、86をそれぞれ捲着介装し、他方、梃板
9左端上に直立したスタンド支柱88上端部に基端を回
転自在に片持突設し、常時元状中立位置戻り習性を捩り
コイルスプリング90にて付勢された腕杆89の先端部
に空転自在に突立するプーリー軸94に固着したバック
アッププーリー93と中間回転縦軸20の原動プーリー
24と回転軸77aの従動プーリー96に亙り無端ベル
ト97を張架して回転トルクをボール77cに伝達自在
としてなる。
The ball 7 is attached to the end of the collar 77b at the lower end of the rotary shaft 77a.
The dimple ring tool 77 to which 7c is fixed stands upright on the right end of the lever plate 9 and the movable guide plate 78 extending through the vertical guide groove 79, and upright on the housing 30 so as to be superposed and slidable.
The semi-circular guide groove 81 of the fixed arc plate 80 extending through the semi-circular guide groove 81 and the vertical guide groove 79 penetrate through the female screw cylinder 82a with the brim 80c, and the compression coil spring 83 is used. The driven block 96 is fixed to the upper end of the bearing block 84 that is fixed to the front end of the slide rod 82 that is biased to project into the female screw cylinder 82a, and the rotary shaft 77a is pierced and supported while the lower surface of the bearing block 84 and the collar 77b rod are connected. Compression coil springs 85 and 86 are respectively wound around the rotary shaft 77a and between the upper surface of the bearing block 84 and the spring receiving collar 87, while the upper end of a stand column 88 standing upright on the left end of the lever plate 9. The base end is rotatably and cantileveredly protruded to the tip of the arm rod 89 urged by the torsion coil spring 90 so that it always returns to its original neutral position. And backup pulley 93 fixed to the pulley shaft 94 and the driving pulley 24 of the intermediate rotary vertical shaft 20 over the driven pulley 96 of the rotary shaft 77a by stretching the endless belt 97 becomes as freely transmit rotational torque to the ball 77c that.

【0088】本装置例の仕様はこのような具体的実施態
様を呈し、以下図面を参照して加工作業方法を説明す
る。回転軸77aは、軸受ブロック84に支えられてい
る。軸受ブロック84は、図11の正面図で表すよう
に、紙面の二次元平面内にある程度自由に軸受ブロック
84の座標を変えることができる。すなわち、軸受ブロ
ック84は固定ガイド円弧板20内の半円弧状ガイド溝
81に案内拘束されて円弧状に位置を変えることができ
る。円弧状以外の位置に移動できない。
The specifications of the present apparatus example show such a concrete embodiment, and the working method will be described below with reference to the drawings. The rotating shaft 77a is supported by the bearing block 84. As shown in the front view of FIG. 11, the bearing block 84 can freely change the coordinates of the bearing block 84 within a two-dimensional plane of the paper. That is, the bearing block 84 can be guided and constrained by the semi-arcuate guide groove 81 in the fixed guide arc plate 20 to change its position in an arc shape. Cannot move to a position other than an arc.

【0089】更に、可動ガイド板78の垂直ガイド溝7
9にも嵌合していて、半円弧状ガイド溝81の円弧の直
径方向への軸受ブロック84の移動は垂直ガイド溝79
で拘束された範囲内で自由に動ける。揺動振幅アジャス
トカラー32に結合していて50mm揺動する結果、可
動ガイド板78は左右に幅50mm揺動する。
Further, the vertical guide groove 7 of the movable guide plate 78
9 is also fitted, and the movement of the bearing block 84 in the diametrical direction of the arc of the semi-circular guide groove 81 is caused by the vertical guide groove 79.
You can move freely within the range restricted by. As a result of being connected to the swing amplitude adjusting collar 32 and swinging by 50 mm, the movable guide plate 78 swings horizontally by 50 mm.

【0090】このため、梃板9の揺動動作に応じて、半
円弧状ガイド溝81の円弧状に沿って軸受ブロック84
は動作する。圧縮コイルスプリング85は鍔77bと軸
受ブロック84との間に反発力を生じて、ボール77c
が試料Si基板δに接触する際に加圧力を与える。
Therefore, according to the swinging motion of the lever plate 9, the bearing block 84 is moved along the arc shape of the semi-arc guide groove 81.
Works. The compression coil spring 85 generates a repulsive force between the collar 77b and the bearing block 84, and the ball 77c.
Applies a pressing force when the sample contacts the sample Si substrate δ.

【0091】試料Si基板δとボール77cとの接触の
方法は前記第1乃至第3装置例と同様に、ダイヤルゲー
ジ6の操作で行う。ボール77cは半円弧状ガイド溝8
1によって、およそ試料Si基板δとの接触点を中心と
した同心円状に円弧を描く一方、回転軸77aで自転
し、試料Si基板δも自転するので、研磨加工されて、
試料Si基板δは凹球面となる。
The method of contacting the sample Si substrate δ and the ball 77c is performed by operating the dial gauge 6 as in the first to third device examples. The ball 77c has a semi-circular guide groove 8
1 draws an arc in a concentric circle centered on the contact point with the sample Si substrate δ, while rotating on the rotating shaft 77a and also rotating the sample Si substrate δ, it is polished,
The sample Si substrate δ has a concave spherical surface.

【0092】薄く凹球面に加工した後、鏡面に仕上げる
には、前記第1乃至第3装置例と同様に、ボール77c
の材質をやわらかい材質の別の球に着脱可能として、と
りかえ、砥粒をも更に細かいのととりかえて行う。ボー
ル77cの材質は銅、黄銅、すず、ほか軟質金属かある
いはプラスチックフェルト、人口皮革などを選ぶ。
After the thin concave spherical surface is processed, the ball 77c is formed in the same manner as in the first to third device examples in order to finish the mirror surface.
The material of can be attached to and detached from another soft ball, and the abrasive grains can be replaced with finer particles. The material of the ball 77c is copper, brass, tin, soft metal, plastic felt, artificial leather, or the like.

【0093】(装置例5)本発明装置の第5装置例を図
面につき説明する。図13は本装置例の薄片化加工機構
の一部切欠右側面図である。図中、Eは本装置例の試料
薄片化装置、108はホルダー、109は研磨フィルム
張着用円盤、109aは中央凹部、109bはリブ、1
09cは設定凸部、110は支えロッド、111はボー
ル、112は研磨フィルム、113はフィルム押えリン
グ、114は設定凹孔である。なお、図11乃至12に
示す前記第4実施例と同一部材は同一符号付して説明の
重複を避けた。
(Example 5 of Device) A fifth example of the device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 13 is a partially cutaway right side view of the thinning mechanism of this apparatus example. In the figure, E is a sample thinning device of this device example, 108 is a holder, 109 is a polishing film tension disc, 109a is a central recess, 109b is a rib, 1
Reference numeral 09c is a setting convex portion, 110 is a supporting rod, 111 is a ball, 112 is a polishing film, 113 is a film pressing ring, and 114 is a setting concave hole. The same members as those in the fourth embodiment shown in FIGS. 11 to 12 are designated by the same reference numerals to avoid duplication of description.

【0094】回転円板2は、上面中央の設定凹孔114
に下面中央の設定凸部109cを嵌合設定した研磨フィ
ルム張着用内盤109中央凹部109aに嵌合直立する
支えロッド110上端に固着したボール111に被装し
た研磨フィルム112の裾外周縁を円盤109外周リブ
109bに挾着して研磨フィルム112を緊張するフィ
ルム押えリング113を外周リブ109bに亙って被嵌
する。
The rotary disc 2 has a setting recess 114 at the center of the upper surface.
The outer peripheral edge of the skirt of the polishing film 112 fitted to the ball 111 fixed to the upper end of the support rod 110 which is fitted upright in the central recess 109a of the polishing film tensioning inner plate 109 in which the setting convex portion 109c of the center of the lower surface is fitted and set into a disk. 109 A film pressing ring 113 that clings to the outer peripheral rib 109b and tensions the polishing film 112 is fitted over the outer peripheral rib 109b.

【0095】本装置例の仕様は、このような具体的実施
態様を呈し、その加工作業方法を説明する。回転軸77
aの下端にとりつけた試料ホルダー108に試料接着治
具4を保持する。一方、研磨フィルム112をボール1
11で押して張力を与えながら、フィルム押えリング1
13で研磨フィルム112を押さえ、研磨フィルム11
2はダイヤモンドの20、10、3、1、0.1μm粒
径という粒径を選んで、砥粒を埋め込んだ樹脂シート
で、やわらかくたわむ。リブ109bにフィルム押さえ
リング113で張力を発生させ、ボール111の球面を
転写させて、球表面を研磨フィルム112に転写、形成
する。
The specifications of the present apparatus example present such a concrete embodiment, and the working method thereof will be described. Rotating shaft 77
The sample bonding jig 4 is held by the sample holder 108 attached to the lower end of a. On the other hand, the polishing film 112 is attached to the ball 1
While pressing 11 to apply tension, the film retainer ring 1
The polishing film 112 is pressed by 13 and the polishing film 11 is pressed.
2 is a resin sheet in which abrasive grains of 20, 3, 3, 1 or 0.1 μm grain size are selected and abrasive grains are embedded therein, which is soft and flexible. Tension is generated on the rib 109b by the film pressing ring 113, the spherical surface of the ball 111 is transferred, and the spherical surface is transferred and formed on the polishing film 112.

【0096】試料Si基板δは回転軸77aの回転と共
に回転し、一方研磨フィルム112は回転円板2の回転
と共に回転する。前記第1乃至4装置例と同様に、ダイ
ヤルゲージ6の操作で、試料Si基板δを研磨フィルム
112に接触させて、加圧させることで研磨加工がなさ
れ、試料Si基板δの表面は研磨フィルム112の表面
の球面形状が転写されて、凹球面となる。
The sample Si substrate δ rotates with the rotation of the rotating shaft 77a, while the polishing film 112 rotates with the rotation of the rotating disk 2. As in the first to fourth apparatus examples, the sample Si substrate δ is brought into contact with the polishing film 112 by the operation of the dial gauge 6 and pressure is applied to perform polishing, and the surface of the sample Si substrate δ is the polishing film. The spherical shape of the surface of 112 is transferred and becomes a concave spherical surface.

【0097】先端形状のボール111の半径を選べば、
転写されて相対的にできる試料Si基板δの加工面の凹
球面形状は直径2mmで深さ約68μmとすることがで
きる。試料Si基板δの板厚はこの際、約70μmであ
る。この後、鏡面に仕上げる方法は、研磨フィルム11
2をとりかえることで行う。そして、凹球面の中心の薄
い板厚は1〜2μmに仕上げる。
If the radius of the tip-shaped ball 111 is selected,
The concave spherical surface shape of the processed surface of the sample Si substrate δ that is transferred and can be relatively set to have a diameter of 2 mm and a depth of about 68 μm. At this time, the plate thickness of the sample Si substrate δ is about 70 μm. After that, the polishing film 11 is used for finishing the mirror surface.
Do by replacing 2. Then, the thin plate thickness at the center of the concave spherical surface is finished to 1 to 2 μm.

【0098】(装置例6)本発明装置の第6装置例を図
面について説明する。図14(a)は本装置例の研磨加
工時の回転円板と梃板右側の断面図、図14(b)は同
・デンプリング加工時の回転円板の切断図である。
(Device Example 6) A sixth device example of the device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 14A is a cross-sectional view of the rotary disk and the lever plate on the right side during the polishing process of this apparatus example, and FIG. 14B is a cutaway view of the rotary disk during the same dempling process.

【0099】図中、Fは本装置例の試料薄片化装置、1
15はペルチェ効果素子、116はリード線、117は
ペルチェ効果素子、118はリード線、119は摺動リ
ング、120は摺動ブラシ、121はリード線、122
はスタンドブラケットである。なお、図2に示すよう前
記第1装置例の部材と同一部材は同一符号を付して説明
の重複を避けた。
In the figure, F is a sample thinning device of this device example, 1
15 is a Peltier effect element, 116 is a lead wire, 117 is a Peltier effect element, 118 is a lead wire, 119 is a sliding ring, 120 is a sliding brush, 121 is a lead wire, 122
Is a stand bracket. In addition, as shown in FIG. 2, the same members as those of the first device example are designated by the same reference numerals to avoid duplication of description.

【0100】梃板9は、試料接着治具保持孔15の中間
内面を形成囲繞してペルチェ効果素子117を埋蔵する
とともにペルチェ効果素子117にリード線116を接
続引出してなる。
The lever plate 9 forms and surrounds the intermediate inner surface of the sample bonding jig holding hole 15 to embed the Peltier effect element 117 and to connect the lead wire 116 to the Peltier effect element 117 and draw it out.

【0101】回転円板2は、試料接着治具嵌合孔15の
下部内面を形成囲繞してペルチェ効果素子117を埋蔵
するとともにペルチェ効果素子117と回転円板2外周
全長に環設した摺動リング119とリード線118で接
続する一方、摺動リング119に常時摺擦自在に接続す
る摺動ブラシ120を取付けたスタンドブラケット12
2を回転円板2の一側に近設してなる。
The rotary disc 2 forms and surrounds the lower inner surface of the sample bonding jig fitting hole 15 to embed the Peltier effect element 117 therein, and slides around the Peltier effect element 117 and the entire outer circumference of the rotary disc 2. The stand bracket 12 to which a sliding brush 120 is attached, which is connected to the sliding ring 119 at all times while being connected to the ring 119 by a lead wire 118.
2 is provided near one side of the rotary disc 2.

【0102】本装置例の仕様は、このような具体的実施
態様を呈し、その加工作業方法を図を参照して説明す
る。送電器摺動ブラシ120によって、外部から摺動リ
ング119に送電器摺動ブラシ120を接触させて、電
圧を掛けると、回転円板2は回転したままで試料接着治
具保持孔15は固定したままで試料Si基板δを加工し
ながら、ベルチェ効果により、試料接着治具4と回転円
板2を冷却したり、暖めたり出来る。
The specifications of this apparatus example show such a concrete embodiment, and the working method thereof will be described with reference to the drawings. When the power transmitter sliding brush 120 is brought into contact with the sliding ring 119 from the outside by the power transmitter sliding brush 120 and a voltage is applied, the rotating disk 2 is kept rotating and the sample bonding jig holding hole 15 is fixed. While the sample Si substrate δ is processed, the sample bonding jig 4 and the rotary disc 2 can be cooled or warmed by the Peltier effect.

【0103】更に、試料接着治具4および回転円板2の
温度の調整を冷風又は温風を送るあるいは冷水又は温水
を送るパイプを装置に組むことを可能とする。−20゜
Cから+40゜Cまでの範囲でこれにより、加工を冷間
及び温間の温度の効果を生かしながら行うことが出来
る。又、これにより、試料δを氷点下とし、生体等の柔
かい物質の研磨ができ、透過電子顕微鏡で分析すること
が可能になる。
Further, the temperature of the sample bonding jig 4 and the rotary disc 2 can be adjusted by installing cold air or hot air or a pipe for sending cold water or hot water in the apparatus. In the range from -20 ° C to + 40 ° C, this allows processing to be carried out while taking advantage of cold and warm temperatures. Further, this makes it possible to polish the soft substance such as a living body by making the sample δ below the freezing point and analyze it with a transmission electron microscope.

【0104】(装置例7)本発明装置の第7装置例を図
面について説明する。図15(a)は研磨円板の中央縦
断面図、図15(b)は回転円板の中央縦断面図であ
る。
(Device Example 7) A seventh device example of the device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 15A is a central longitudinal sectional view of the polishing disc, and FIG. 15B is a central longitudinal sectional view of the rotating disc.

【0105】図中、123は砥粒水溶液溜め用環溝、1
24はリブ、125は砥粒水溶液溜め用環溝、126は
リブ、Lは砥粒水溶液である。なお、図2に示すよう前
記第1装置例の研磨円板3と図14(b)に示すよう前
記第6装置例の回転円板2とそれぞれ同一部材は同一符
号を付して説明の重複を避けた。
In the figure, reference numeral 123 is a ring groove for storing an aqueous solution of abrasive grains, 1
Reference numeral 24 is a rib, 125 is an annular groove for storing an abrasive grain aqueous solution, 126 is a rib, and L is an abrasive grain aqueous solution. The same members as those of the polishing disk 3 of the first apparatus example as shown in FIG. 2 and the rotating disk 2 of the sixth apparatus example as shown in FIG. Avoided.

【0106】回転円板2は、試料接着治具嵌合孔68の
外周を囲繞する上面に砥粒水溶液溜め用環溝125を掘
設するとともに上面外周縁全長にリブ126を縁取って
なる。
The rotary disc 2 is formed by digging a ring groove 125 for accumulating an aqueous solution of abrasive grains on the upper surface surrounding the outer periphery of the sample bonding jig fitting hole 68 and edging a rib 126 on the entire length of the outer peripheral edge of the upper surface.

【0107】研磨工具たる研磨円板3は、中央部を囲繞
する上面に砥粒水溶液溜め用環溝123を掘設するとと
もに上面外周縁全長にリブ124を縁取ってなる。
The polishing disc 3, which is a polishing tool, has a ring groove 123 for accumulating an aqueous solution of abrasive grains, which is dug in the upper surface surrounding the central portion, and a rib 124 is trimmed along the entire length of the outer peripheral edge of the upper surface.

【0108】本装置例の研磨円板3及び回転円板2の仕
様はこのような具体的実施態様を呈するので、回転円板
2の上の研磨円板3の表面に、図15(a)に表すよう
な砥粒水溶液溜め用環溝123あるいはリブ124をわ
ずかに段差として形成することによって、あるいは水溶
液Lの溜まりとすることが出来る。これにより、砥粒水
溶液Lを装置外に飛ばすことなく、清浄に作業が行うこ
とが可能にある。
Since the specifications of the polishing disc 3 and the rotating disc 2 of this example of the apparatus show such a specific embodiment, the surface of the polishing disc 3 on the rotating disc 2 is shown in FIG. It is possible to form the pool of the aqueous solution L by forming the abrasive grain aqueous solution accumulating ring groove 123 or the rib 124 as a slight step as shown in FIG. As a result, it is possible to perform a clean operation without causing the abrasive grain aqueous solution L to fly outside the apparatus.

【0109】同様に回転円板2にも砥粒水溶液溜め環溝
125あるいはリブ126をわずかに段差を形成し清浄
に作業を行うことが可能になる。
Similarly, it becomes possible to form a slight step difference in the abrasive grain aqueous solution accumulating ring groove 125 or the rib 126 on the rotary disc 2 to perform clean work.

【0110】[0110]

【発明の効果】以上本発明の装置及び方法を用いること
により、透過電子顕微鏡の試料薄片化と凹面が同時に簡
便、迅速あた清浄に出来るので、工程の短縮、研磨及び
デンプリング工程の費用の節減に多大の効果がある。ま
た、常温以外で、氷点下での研磨及びデンプリング工程
では、生体等の柔らかい物質の研磨、デンプリングが容
易にできることになる。一方、加熱した研磨、デンプリ
ング工程では、化学反応の促進により、研磨、デンプリ
ング速度の加速が可能になり、試料処理の迅速化に多大
の効果がある。
As described above, by using the apparatus and method of the present invention, thinning of a sample and a concave surface of a transmission electron microscope can be carried out easily and quickly at the same time, so that the process can be shortened and the cost of the polishing and demping process can be reduced. Has a great effect on. In addition, at a temperature other than room temperature, in the polishing and demping processes below freezing, it is possible to easily polish and depress a soft substance such as a living body. On the other hand, in the heated polishing and demping steps, the chemical reaction is promoted, so that the polishing and dempling speeds can be accelerated, which is very effective in accelerating the sample processing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1装置例を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a first device example of the present invention.

【図2】同上の薄片化加工機構および伝達回転軸機構の
一部切欠・省略した正面図である。
FIG. 2 is a partially cutaway and omitted front view of the above-described thinning processing mechanism and transmission rotary shaft mechanism.

【図3】(a)は同上のデンプリング加工時の薄片化加
工機構の一部切欠正面図、(b)は試料の拡大斜面図で
ある。
FIG. 3 (a) is a partially cutaway front view of the thinning processing mechanism at the time of dempling, and FIG. 3 (b) is an enlarged oblique view of the sample.

【図4】同上の伝達回転軸機構および駆動トルク伝達歯
車列機構の配列状態を説明する平面図である。
FIG. 4 is a plan view illustrating an arrangement state of the transmission rotary shaft mechanism and the drive torque transmission gear train mechanism of the above.

【図5】図4中V−V線視相当部分の断面図である。5 is a cross-sectional view of a portion corresponding to line VV in FIG.

【図6】図4中VI−VI線視相当部分の断面図であ
る。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a portion corresponding to line VI-VI in FIG.

【図7】図4中VII−VII線視相当部分の断面図であ
る。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a portion corresponding to the line VII-VII in FIG.

【図8】本発明の第2装置例で、(a)は一部切欠平面
図、(b)は薄片化加工機構の一部切欠正面図である。
FIG. 8 is a partially cutaway plan view of the second device example of the present invention, and FIG. 8B is a partially cutaway front view of the thinning processing mechanism.

【図9】本発明の第3装置例で、(a)はデンプリング
加工時の平面図、(b)は同・薄片化加工機構の一部切
欠正面図、(c)は試料の拡大斜面図である。
9A and 9B are a third device example of the present invention, in which FIG. 9A is a plan view during demping, FIG. 9B is a partially cutaway front view of the same thinning processing mechanism, and FIG. Is.

【図10】本発明の第4装置例の薄片化加工機構の正面
図である。
FIG. 10 is a front view of a thinning mechanism of a fourth apparatus example of the present invention.

【図11】同上の右側面図である。FIG. 11 is a right side view of the above.

【図12】同上の中央縦断面正面図である。FIG. 12 is a front view of the central longitudinal section of the above.

【図13】本発明の第5装置例の薄片化加工機構の一部
切欠右側面図である。
FIG. 13 is a partially cutaway right side view of the thinning mechanism of the fifth device example of the present invention.

【図14】本発明の第6装置例で、(a)は研磨加工時
における回転円板および梃板右側の中央縦断正面図、
(b)はデンプリング加工時における回転円板の中央縦
断正面図である。
FIG. 14 is a sixth apparatus example of the present invention, in which (a) is a central longitudinal front view on the right side of the rotary disc and lever plate during polishing;
(B) is a central vertical sectional front view of the rotating disk at the time of dempling.

【図15】本発明の第7装置例で、(a)は研磨円板の
中央縦断正面図、(b)は回転円板の中央縦断正面図で
ある。
FIG. 15A is a central longitudinal sectional front view of a polishing disk, and FIG. 15B is a central longitudinal sectional front view of a rotating disk in a seventh apparatus example of the present invention.

【図16】(a)〜(g)は順次試料の薄片化工程を示
す図である。
16 (a) to 16 (g) are views showing a step of sequentially thinning a sample.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A…試料薄片化装置 Aa…薄片化加工機構 Ab…伝達回転軸機構 Ac…駆動トルク伝動歯車列機構 L…砥粒水溶液 δ…試料 1…研磨ホイール 2…回転円板 3…研磨円板 4…試料接着治具 5…円板回転縦軸 6…ダイヤルゲージ 7…プランジャ 8…研磨フィルムシート 9…梃板 9a…切欠 10…ネジ棒 11…締結ナット 12…揺動回転縦軸 13…梃ピン 14…アーム 15…試料接着治具保持孔 16〜19…ボール軸受 20…中間回転縦軸 21…従動大偏心カム 22…従動小偏心カム 23…ベルト 24…原動プーリー 25…従動プーリー 26…アイドラー 27…受座ブロック 28…凹部 29…基板 30…筐体 31、32…揺動振幅アジャストカラー 33…U字型クランプ 34…二股ブランケット 35…研磨ホイール軸 36…モータ 37…モータ軸 38…モータ歯車 39…円板回転歯車 40…中継連動軸 40a…スプライン部 41…中継歯車 42…クラッチ機構 42a…クラッチフレーム 42b…クラッチレバー 43…レバーガイド 43a…上切換設定ガイド 43b…下切換設定ガイド 44…スリーブガイド 45…切換歯車 46…最終連動軸 47、48…選択歯車 49…空転スリーブ 50…原動大偏心カム 51…キー 52…原動小偏心カム 53、54…キー 55〜60…ヴァーティカル軸受 60〜65…ボール軸受 66…回転ボール取付治具 67…ボール 68…試料接着治具嵌合孔 69…ペン型研磨具 69a…ペン軸 70…ペン軸支持板 71…従動プリー 72…ベルト 73…結合ボルト 74…ペン研磨具押えボルト 75…電磁接手 76…電磁ブレーキ 77…デンプリング工具 77a…回転軸 78…可動ガイド板 79…垂直ガイド溝 80…固定ガイド円弧板 81…半円弧状ガイド溝 82…スライドロッド 82a…雄螺子部 82b…雌螺子筒 82c…鍔 83、85、86…圧縮コイルスプリング 84…軸受ブロック 87…スプリング受カラー 88…スタンド支枢 89…腕杆 90…捩りコイルスプリング 91…ボルト 92…ナット 93…バックアッププーリー 94…プーリー軸 95…半円弧カバー 96…プーリー 97…ベルト 98〜107…ボール軸受 108…ホルダー 109…研磨フィルム張着用円盤 109a…中央凹部 109b…リブ 109c…設定凸部 110…支えロッド 111…ボール 112…研磨フィルム 113…フィルム押えリング 114…設定凹孔 115、117…ペルチエ効果素子 116、118、121…リード線 119…揺動リング 120…揺動ブラシ 122…スタンドブラケット 123、125…砥粒水溶液溜め用環溝 124、126…リブ A ... Sample thinning device Aa ... Thinning processing mechanism Ab ... Transmission rotary shaft mechanism Ac ... Drive torque transmission gear train mechanism L ... Abrasive grain aqueous solution δ ... Sample 1 ... Polishing wheel 2 ... Rotating disc 3 ... Polishing disc 4 ... Specimen bonding jig 5 ... Disk rotation axis 6 ... Dial gauge 7 ... Plunger 8 ... Abrasive film sheet 9 ... Lever plate 9a ... Notch 10 ... Screw rod 11 ... Fastening nut 12 ... Oscillating rotation vertical axis 13 ... Lever pin 14 ... Arm 15 ... Sample bonding jig holding hole 16 to 19 ... Ball bearing 20 ... Intermediate rotation vertical axis 21 ... Followed large eccentric cam 22 ... Followed small eccentric cam 23 ... Belt 24 ... Driving pulley 25 ... Followed pulley 26 ... Idler 27 ... Seat block 28 ... Recess 29 ... Substrate 30 ... Enclosure 31, 32 ... Swing amplitude adjustment collar 33 ... U-shaped clamp 34 ... Bifurcated blanket 35 ... Polishing wheel shaft 36 ... motor 37 ... motor shaft 38 ... motor gear 39 ... disk rotary gear 40 ... relay interlocking shaft 40a ... spline part 41 ... relay gear 42 ... clutch mechanism 42a ... clutch frame 42b ... clutch lever 43 ... lever guide 43a ... upper switching setting Guide 43b ... Lower switching setting guide 44 ... Sleeve guide 45 ... Switching gear 46 ... Final interlocking shaft 47, 48 ... Selection gear 49 ... Idle sleeve 50 ... Large eccentric cam 51 ... Key 52 ... Small eccentric cam 53,54 ... Key 55-60 ... Vertical bearing 60-65 ... Ball bearing 66 ... Rotating ball mounting jig 67 ... Ball 68 ... Sample bonding jig fitting hole 69 ... Pen type polishing tool 69a ... Pen shaft 70 ... Pen shaft support plate 71 ... Driven pulley 72 ... Belt 73 ... Coupling bolt 74 ... Pen polishing tool holding bolt 75 ... Electromagnetic joint 76 ... Magnetic brake 77 ... Dimple ring tool 77a ... Rotating shaft 78 ... Movable guide plate 79 ... Vertical guide groove 80 ... Fixed guide arc plate 81 ... Semi-arc guide groove 82 ... Slide rod 82a ... Male screw part 82b ... Female screw cylinder 82c ... Tsuba 83, 85, 86 ... Compression coil spring 84 ... Bearing block 87 ... Spring receiving collar 88 ... Stand pivot 89 ... Arm rod 90 ... Torsion coil spring 91 ... Bolt 92 ... Nut 93 ... Backup pulley 94 ... Pulley shaft 95 ... Half arc Cover 96 ... Pulley 97 ... Belt 98 to 107 ... Ball bearing 108 ... Holder 109 ... Abrasion film tension disc 109a ... Center recess 109b ... Rib 109c ... Setting protrusion 110 ... Support rod 111 ... Ball 112 ... Abrasion film 113 ... Film presser Ring 114 ... Setting Holes 115 and 117 ... Peltier effect elements 116,118,121 ... leads 119 ... swinging ring 120 ... swing brush 122 ... stand bracket 123, 125 ... abrasive solution reservoir for ring grooves 124, 126 ... rib

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大平 文和 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 梶田 三夫 東京都武蔵野市御殿山1丁目1番3号 エ ヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株 式会社内 (72)発明者 関 昌浩 東京都武蔵野市御殿山1丁目1番3号 エ ヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株 式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Fumiwa Ohira 1-1-6 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nihon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Mitsuo Kajita 1-3-1 Gotenyama, Musashino-shi, Tokyo No. NTT Advanced Technology Co., Ltd. (72) Inventor Masahiro Seki No. 1-3 Gotenyama, Musashino City, Tokyo NTT Advanced Technology Co., Ltd.

Claims (29)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】試料を切断、加工、研磨、デンプリングお
よびイオンミーリングして、試料を薄片化するに当り、 研磨加工具とデンプリング加工具とを一台の装置に18
0゜対応位置に取り付けるとともに一つの加工作業位置
を設け、 当該加工作業位置で研磨加工終了後は引続き前記研磨加
工具と前記デンプリング加工具とを一体的に180゜旋
回して当該デンプリング加工具を当該加工作業位置に置
き換え持来し、その後、デンプリング加工を続行するこ
とにより、前記研磨加工と当該テンプリング加工とを一
台の装置で行う、 ことを特徴とする試料薄片化方法。
1. When cutting, processing, polishing, depressing and ion milling a sample to thin the sample, a polishing tool and a demping tool are provided in one device.
It is installed at a position corresponding to 0 ° and one machining work position is provided, and after the polishing work is completed at the machining work position, the polishing work tool and the dempling work tool are turned integrally by 180 ° to turn the demping work tool. A method for thinning a sample, characterized in that the polishing process and the templating process are carried out by one device by bringing them to the processing work position and then continuing the dempling process.
【請求項2】研磨加工とデンプリング加工は、 試料を冷却硬化して行う、 ことを特徴とする請求項1に記載の試料薄片化方法。2. The sample thinning method according to claim 1, wherein the polishing process and the dempling process are performed by cooling and hardening the sample. 【請求項3】研磨加工は、 氷点下以下の状態で氷状研磨を行う、 ことを特徴とする請求項1又は2に記載の試料薄片化方
法。
3. The method of thinning a sample according to claim 1, wherein the polishing is performed in an ice-like state at a temperature below the freezing point.
【請求項4】研磨加工は、 試料を加熱して加工の反応を促進する、 ことを特徴とする請求項1、2又は3に記載の試料薄片
化方法。
4. The sample thinning method according to claim 1, 2 or 3, wherein in the polishing process, the sample is heated to accelerate the reaction of the process.
【請求項5】研磨加工とデンプリング加工は、 −20゜Cから+40゜C下の冷間又は温間加工を行
う、 ことを特徴とする請求項1、2、3又は4に記載の試料
薄片化方法。
5. The sample thin piece according to claim 1, 2, 3 or 4, wherein the polishing and dempling are cold or warm working at -20 ° C to + 40 ° C. Method.
【請求項6】研磨加工は、 試料を水平に揺動振幅しながら行う、 ことを特徴とする請求項1、2、3、4又は5に記載の
試料薄片化方法。
6. The sample thinning method according to claim 1, wherein the polishing is performed while horizontally swinging the sample.
【請求項7】デンプリング加工は、 試料を軸回転かつ水平揺動振幅して行う、 ことを特徴とする請求項1、2、3、4、5又は6に記
載の試料薄片化方法。
7. The method of thinning a sample according to claim 1, wherein the demping is performed by rotating the sample axially and swinging horizontally.
【請求項8】デンプリング加工は、 試料を固定し、 デンプリング工具を、水平回転かつ水平揺動振幅して行
う、 ことを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6又は7
に記載の試料薄片化方法。
8. The dempling process is performed by fixing a sample and performing a horizontal rotation and a horizontal swing amplitude of the dempling tool.
The method for thinning a sample according to.
【請求項9】揺動振幅は、 振幅幅を可変切換自在とする、 ことを特徴とする請求項6、7又は8に記載の試料薄片
化方法。
9. The method for thinning a sample according to claim 6, 7 or 8, wherein the swing amplitude is variable and variable in amplitude width.
【請求項10】駆動トルク伝動歯車列機構と、試料の研
磨とデンプリングの測定加工とを行う薄片化加工機構
と、当該駆動トルク伝動歯車列機構のトルクを当該薄片
化加工機構に加工回転力や回転揺動力として伝達する伝
達回転軸機構からなり、 当該伝達回転軸機構は、研磨工具又は試料を接着した試
料接着治具を保持する加工作業用回転円板を回転する円
板回転縦軸と、デンプリング工具の回転力を中継伝達す
るとともに、前記薄片化加工機構を回転揺動する中間回
転縦軸と、前記薄片化加工機構を回転揺動する揺動回転
縦軸とを、備える、 ことを特徴とする試料薄片化装置。
10. A drive torque transmission gear train mechanism, a thinning processing mechanism for polishing a sample and measuring a demp ring, and a torque of the drive torque transmission gear train mechanism for processing torque to the thinning processing mechanism. A transmission rotary shaft mechanism for transmitting as a rotational oscillating force, and the transmission rotary shaft mechanism has a disc rotation vertical axis for rotating a rotary disc for processing work holding a polishing tool or a sample bonding jig to which a sample is bonded, An intermediate rotation vertical axis for rotating and swinging the thinning processing mechanism and a swinging vertical axis for rotating and swinging the thinning processing mechanism while relaying the rotational force of the demping tool. Sample thinning device.
【請求項11】薄片化加工機構は、 中間部に直交状に揺動回転縦軸の上部を貫通して梃動自
在に枢着した梃板と、 当該梃板の一端寄りかつ回転円板中心軸に臨む部位に貫
設した試料接着治具保持孔と、 前記梃板の中間部片側寄りに植立したネジ棒に螺合する
締結ナットの回転により一体に上下変位動するアームの
先端に貫着するとともにプランジャにて前記試料接着治
具保持孔に装填した試料接着治具上面を押圧し、その押
圧力を表示するダイヤルゲージと、 前記梃板の他端に回転自在に取付け、中間回転縦軸とプ
ーリー・ベルト伝達機構にてトルク伝達自在に連結した
デンプリング工具とを、備える、 ことを特徴とする請求項10に記載の試料薄片化装置。
11. A thinning mechanism comprises a lever plate pivotally pivoted through an upper part of an oscillating rotary vertical axis orthogonal to an intermediate part, and a lever plate near one end of the lever plate and a center of a rotating disk. A sample bonding jig holding hole penetrating the part facing the axis and a tip of an arm that is vertically displaced integrally by rotation of a fastening nut screwed with a screw rod planted near the one side of the intermediate part of the lever plate. And a plunger to press the upper surface of the sample bonding jig loaded in the sample bonding jig holding hole with a plunger, and a dial gauge for displaying the pressing force, and rotatably attached to the other end of the lever plate, and an intermediate rotation length. The sample thinning device according to claim 10, further comprising: a shaft and a dempling tool that is connected by a pulley / belt transmission mechanism so as to freely transmit torque.
【請求項12】中間回転縦軸は、 下端に従動偏心カムを上端に揺動振幅アジャストカラー
をそれぞれ固着した揺動回転縦軸の軸心を軸回転自在に
貫通するとともに貫通上端部に原動プーリーと揺動振幅
アジャストカラーをそれぞれ固着し、かつ中間部に従動
偏心カムを固着する、 ことを特徴とする請求項10又は11記載の試料薄片化
装置。
12. The intermediate rotation vertical axis has a lower end driven eccentric cam fixed to the upper end and rocking amplitude adjusting collars respectively fixed thereto, and axially rotatably penetrates through the axial center of the swing rotation vertical axis. 12. The sample thinning device according to claim 10 or 11, wherein the rocking amplitude adjusting collar is fixed, and the driven eccentric cam is fixed in the intermediate portion.
【請求項13】駆動トルク伝動歯車列機構は、 トルク出力を揺動回転縦軸の従動偏心カムか中間回転縦
軸の従動偏心カムのいずれかに選択的に切換伝達するク
ラッチ機構を備える、 ことを特徴とする請求項10、11又は12に記載の試
料薄片化装置。
13. A drive torque transmission gear train mechanism is provided with a clutch mechanism for selectively switching and transmitting torque output to either a driven eccentric cam of a swing rotation vertical axis or a driven eccentric cam of an intermediate rotation vertical axis. The sample thinning device according to claim 10, 11, or 12.
【請求項14】駆動トルク伝動歯車列機構は、 モータ軸と円板回転縦軸と中継連動軸と最終連動軸とに
それぞれ固着され、 前記円板回転縦軸には、前記モータ軸に固着したモータ
歯車と外接噛合う円板回転歯車を固着し、 前記中継連動軸には、円板回転歯車と外接噛合う中継歯
車を固着するとともにスプライン部をクラッチ機構によ
り上下摺動変位する切換歯車を取付け、 前記最終連動軸には、上部に、揺動回転縦軸の従動偏心
カムに対応外接する出力原動偏心カムを固着しかつ中間
回転縦軸の従動偏心カムに対応外接する出力原動偏心カ
ムを空転自在に取付けるとともに、下部に前記切換歯車
と選択的に外接噛合う一対の選択歯車の一方を固着し、
他方を前記空転自在な出力原動偏心カムと一体的に回転
するよう空転自在に取付けることを特徴とする請求項1
0、11、12又は13に記載の試料薄片化装置。
14. A drive torque transmission gear train mechanism is fixed to a motor shaft, a disc rotation longitudinal axis, a relay interlocking shaft and a final interlocking shaft, respectively, and the disc rotation longitudinal axis is fixed to the motor shaft. A disk rotating gear that meshes externally with the motor gear is fixed, and a relay gear that externally meshes with the disk rotating gear is fixed to the relay interlocking shaft, and a switching gear that slides the spline part up and down by a clutch mechanism is attached. , An output driving eccentric cam which is circumscribing corresponding to the driven eccentric cam of the oscillating rotation vertical axis is fixed to the upper part of the final interlocking shaft, and an output driving eccentric cam which is circumscribing corresponding to the driven eccentric cam of the intermediate rotation longitudinal axis is idled. It is freely attached, and one of a pair of selection gears that selectively meshes with the switching gear is fixed to the lower part,
The other end is mounted so as to rotate freely so as to rotate integrally with the idle output power eccentric cam.
The sample thinning apparatus according to 0, 11, 12, or 13.
【請求項15】梃板は、 研磨加工の時には、試料接着治具を装填した試料接着治
具保持孔中心を回転円板の中心軸に臨ませ、 デンプリング加工時には、デンプリング工具中心を前記
回転円板の中心軸に臨むよう、中間回転縦軸又は揺動回
転縦軸を中心に180゜旋回位置決め自在に形成する、 ことを特徴とする請求項11、12、13又は14に記
載の試料薄片化装置。
15. The lever plate is such that during polishing, the center of the sample bonding jig holding hole loaded with the sample bonding jig faces the central axis of the rotating disk, and during the demping process, the center of the depressing tool is the rotating circle. 15. The sample slice according to claim 11, 12, 13 or 14, wherein the plate is formed so that it can be pivotally positioned by 180 ° around the intermediate rotation vertical axis or the swing rotation vertical axis so as to face the central axis of the plate. apparatus.
【請求項16】薄片化加工機構は、 デンプリング加工時、梃板の試料接着治具保持孔に装填
した回転ボール取付治具のボールを受ける受座ブロック
を嵌合する凹部を陥設した台板を駆動トルク伝動歯車列
機構を内蔵する筺体上に設ける、 ことを特徴とする請求項11、12、13、14、15
又は17に記載の試料薄片化装置。
16. The thinning mechanism has a base plate having a recessed portion into which a receiving block for receiving a ball of a rotary ball mounting jig loaded in a sample bonding jig holding hole of a lever plate at the time of demping is recessed. Is provided on a housing containing a drive torque transmission gear train mechanism.
Or the sample thinning apparatus as described in 17 above.
【請求項17】試料接着治具保持孔は、 装填した試料接着治具又は回転ボール取付治具を回転保
持自在にボール軸受を内嵌する、 ことを特徴とする請求項11、12、13、14、15
又は16に記載の試料薄片化装置。
17. A ball bearing is fitted into the sample bonding jig holding hole so that the loaded sample bonding jig or the rotating ball mounting jig can be rotatably held therein. 14, 15
Or the sample thinning apparatus as described in 16 above.
【請求項18】回転円板は、 上面中央に試料接着治具嵌合孔を凹陥設する、 ことを特徴とする請求項10、11、12、13、1
4、15、16又は17に記載の試料薄片化装置。
18. The rotating disk has a sample bonding jig fitting hole recessed in the center of the upper surface thereof.
The sample thinning device as described in 4, 15, 16 or 17.
【請求項19】回転円板は、 試料接着治具嵌合孔の外周を囲繞する上面に砥粒水溶液
溜め用環溝を掘設するとともに上面外周縁全長にリブを
縁取る、 ことを特徴とする請求項18に記載の試料薄片化装置。
19. The rotating disc has a ring groove for accumulating an aqueous solution of abrasive grains, which is formed on the upper surface surrounding the outer periphery of the fitting hole for the sample bonding jig, and a rib is trimmed along the entire length of the outer peripheral edge of the upper surface. The sample thinning device according to claim 18.
【請求項20】研磨工具は、 研磨円板であって、中央部を囲繞する上面に砥粒水溶液
溜め用環溝を掘設するとともに上面外周縁全長にリブを
縁取る、 ことを特徴とする請求項10、11、12、13、1
4、15、16又は17に記載の試料薄片化装置。
20. A polishing tool is a polishing disc, wherein an annular groove for accumulating an aqueous solution of abrasive grains is dug in an upper surface surrounding a central portion, and a rib is trimmed along the entire length of the outer peripheral edge of the upper surface. Claims 10, 11, 12, 13, 1
The sample thinning device as described in 4, 15, 16 or 17.
【請求項21】回転円板は、 試料接着治具嵌合孔の下部内面を形成囲繞してベルチェ
効果素子を埋蔵するとともに当該ベルチェ効果素子と前
記回転円板外周全長に環設した摺動リングとリード線で
接続する一方、 当該摺動リングに常時摺擦自在に接触する摺動ブラシを
前記回転円板の一側に近設する、 ことを特徴とする請求項18又は19に記載の試料薄片
化装置。
21. A rotating ring forms and surrounds a lower inner surface of a hole for fitting a sample bonding jig to embed a Peltier effect element, and a sliding ring provided around the Peltier effect element and the entire outer circumference of the rotating disc. The sample according to claim 18 or 19, wherein a sliding brush, which is connected to the sliding ring at all times while being in contact with the sliding ring, is provided near one side of the rotating disk while being connected to the sliding ring with a lead wire. Thinning device.
【請求項22】梃板は、 試料接着治具保持孔の中間内面を形成囲繞してベルチェ
効果素子を埋蔵するとともに当該ベルチェ効果素子にリ
ード線を接続引出してなる、 ことを特徴とする請求項11、12、13、14、1
5、16、18、19、20又は21に記載の試料薄片
化装置。
22. The lever plate is formed by surrounding and forming an intermediate inner surface of the sample bonding jig holding hole to embed the Peltier effect element, and connect and draw out a lead wire to the Peltier effect element. 11, 12, 13, 14, 1
The sample thinning device according to 5, 16, 18, 19, 20 or 21.
【請求項23】デンプリング工具は、 研磨ホイール、ペン型研磨工具、回転軸下端の鍔端に固
着したボールのいずれかである、 ことを特徴とする請求項10、11、12、13、1
4、15、16、17、18、19、20、21又は2
2に記載の試料薄片化装置。
23. The dempling tool is any one of a grinding wheel, a pen-shaped grinding tool, and a ball fixed to a flange end at a lower end of a rotary shaft.
4, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21 or 2
The sample thinning device as described in 2.
【請求項24】研磨ホイールは、 梃板他端に突設する二股ブラケットに一端に従動プーリ
ーを固着して回転自在に貫通した当該二股ブラケット間
のホイール軸に固着する、 ことを特徴とする請求項23に記載の試料薄片化装置。
24. The polishing wheel is characterized in that a follower pulley is fixed to a bifurcated bracket projecting from the other end of the lever plate and fixed to a wheel shaft between the bifurcated brackets rotatably pierced. Item 23. A sample thinning device.
【請求項25】ペン型研磨工具は、 従動プーリーを上部に固着したペン軸を先端部に回転自
在に貫通支承したペン軸支持板基端側部を梃板一端片側
の切欠部に結合連設し、前記従動プーリーと中間回転縦
軸の原動プーリー間に亙ってベルトを無端張架してトル
ク伝達自在とする、 ことを特徴とする請求項23に記載の試料薄片化装置。
25. A pen type polishing tool, wherein a pen shaft supporting plate having a driven pulley fixed to an upper portion thereof is rotatably supported at a tip end thereof and a base end side portion of the pen shaft supporting plate is connected to a notch portion on one side of the lever plate. 24. The sample thinning device according to claim 23, wherein the belt is stretched endlessly between the driven pulley and the driving pulley of the intermediate rotation longitudinal axis so that torque can be transmitted.
【請求項26】回転軸下端の鍔端に固着したボールは、 梃板の一端に直立しかつ垂直ガイド溝を貫設延在した可
動ガイド板とこれに重合摺接自在に筺体上に直立しかつ
半円弧状ガイド溝を貫設延在した分度器形固定ガイド円
弧板の当該半円弧状ガイド溝と前記垂直ガイド溝に亙っ
て後端を貫通し、当該後端に常時突出習性を弾性付勢し
たスライドロッドの前端に固着する軸受ブロックに上端
に従動プーリーを固着した前記回転軸を貫通支承する一
方、 当該軸受ブロック下面と鍔端間のかつ当該軸受ブロック
上面と前記従動プーリー直下のスプリング受けカラー間
のそれぞれ回転軸に各圧縮コイルスプリングを捲着介装
し、 他方、梃板他端に直立したスタンド支柱上端部に基端を
回転自在に片持突設し常時元状中立位置習性を弾性付勢
された腕杆の先端部に空転自在に突立するプーリー軸に
固着したバックアッププーリーと中間回転縦軸の原動プ
ーリーと前記回転軸上端の従動プーリーに亙り無端ベル
トを張架して回転トルクを前記ボールに伝達自在とし
た、 ことを特徴とする請求項23に記載の試料薄片化装置。
26. The ball fixed to the flange end at the lower end of the rotary shaft is erected upright on one end of the lever plate and the movable guide plate extending through the vertical guide groove, and upright on the casing so that the movable guide plate is superposed and slidable. In addition, the protractor-type fixed guide circular arc plate extending through the semi-circular guide groove penetrates the rear end over the semi-circular guide groove and the vertical guide groove, and the rear end is always elastic with protrusion habit. The bearing block fixed to the front end of the biased slide rod penetrates and supports the rotary shaft having the driven pulley fixed to the upper end, while the lower surface of the bearing block is between the flange end and the upper spring of the bearing block is directly below the driven pulley. Each compression coil spring is wound around each rotating shaft between the collars, while the base end is rotatably cantilevered on the upper end of the stand column standing upright on the other end of the lever plate to maintain the original neutral position. Elastically biased Endless belt is stretched over a backup pulley fixed to a pulley shaft that freely stands upright at the end of the rod, a driving pulley on the intermediate rotation vertical axis and a driven pulley on the upper end of the rotation shaft, and rotational torque can be transmitted to the ball. The sample thinning device according to claim 23, wherein:
【請求項27】軸受ブロックは、 回転軸下端の鍔端に固着したボールに代えて、上端に従
動プーリーを固着するとともに下端に試料接着治具ホル
ダーを固着した回転軸を貫通支承する、 ことを特徴とする請求項26に記載の試料薄片化装置。
27. In the bearing block, instead of the ball fixed to the flange end at the lower end of the rotary shaft, the driven pulley is fixed to the upper end and the rotary shaft having the sample bonding jig holder fixed to the lower end is pierced and supported. 27. The sample thinning device according to claim 26.
【請求項28】回転円板は、 当該回転円板上面に嵌合設定した研磨フィルム張着用円
盤の中央に嵌合直立する支えロッド上端に固着したボー
ルに被装した研磨フィルムの裾外周縁を前記円盤外周縁
に挾着して当該研磨フィルムを緊張するフィルム押えリ
ングを当該円盤上面外周縁に亙って被嵌する、 ことを特徴とする請求項27に記載試料薄片化装置。
28. The rotating disc has a hem outer peripheral edge of a polishing film mounted on a ball fixed to an upper end of a support rod fitted and set upright in the center of a polishing film tensioning disc fitted and set on the upper surface of the rotating disc. 28. The sample thinning device according to claim 27, wherein a film pressing ring that clings to the outer peripheral edge of the disk to tension the polishing film is fitted over the outer peripheral edge of the upper surface of the disk.
【請求項29】研磨フィルムは、 ダイヤモンド砥粒を埋め込んだ樹脂シートである、 ことを特徴とする請求項28に記載試料薄片化装置。29. The sample thinning device according to claim 28, wherein the polishing film is a resin sheet having diamond abrasive grains embedded therein.
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