JPH095719A - プラズマアドレス表示装置 - Google Patents

プラズマアドレス表示装置

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JPH095719A
JPH095719A JP7158064A JP15806495A JPH095719A JP H095719 A JPH095719 A JP H095719A JP 7158064 A JP7158064 A JP 7158064A JP 15806495 A JP15806495 A JP 15806495A JP H095719 A JPH095719 A JP H095719A
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discharge electrode
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133374Constructional arrangements; Manufacturing methods for displaying permanent signs or marks

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ダミーバリアリブの形成を良好に行うことが
できるプラズマアドレス表示装置を提供する。 【構成】 ダミーバリアリブ2は、放電電極32と平行
したストライプ状のパターンで、取出電極40およびガ
ラス基板31の上に形成してある。放電電極32の上に
はバリアリブ33aが形成してあり、バリアリブ33a
相互間にストライプ状のプラズマ室34が形成される。
放電電極32と取出電極40との接合部には、カバーガ
ラス31が形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプラズマアドレス表示装
置に関し、特にダミーバリアリブの形成パターンに特徴
を有するプラズマアドレス表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、電気光学セルとして液晶セルを用
いたマトリクスタイプの電気光学装置、例えば液晶表示
装置を高解像度化、高コントラスト化するための手段と
しては、各画素毎に薄膜トランジスタなどのスイッチン
グ素子を設け、これを線順次で駆動するアクティブマト
リクスアドレス方式が一般に知られている。
【0003】しかしながら、この場合、薄膜トランジス
タの様な半導体素子を基板上に多数設ける必要があり、
特に大面積化した時に製造歩留りが悪くなるという短所
がある。このため、最近、薄膜トランジスタなどがから
なるスイッチング素子に代えてプラズマ放電に基づくス
イッチを利用して電気光学セルを駆動するプラズマスイ
ッチを利用する方式が提唱されている。
【0004】このプラズマアドレス表示装置は、ガラス
基板の上に複数のストライプ状のバリアリブおよび放電
電極が相互に平行なパターンで形成してあり、放電電極
によってバリアリブ相互間に設けられたプラズマ室内に
放電を発生させて誘電体シートを略アノード電位とし、
誘電体シートとデータ電極との間の電位差によって液晶
層を駆動する。
【0005】図7は、従来のプラズマアドレス表示装置
において考えられる構成の平面図である。図7に示すよ
うに、プラズマアドレス表示装置は、ガラス基板31の
表面に、ストライプ方向(図中左右方向)に延び、ニッ
ケル(Ni)を用いた放電電極32と銀(Ag)を用い
た取出電極40とが接合して形成してある。また、放電
電極32と取出電極40との接合部には、絶縁性のカバ
ーガラス41が堆積してある。放電電極32の上には、
図中左右方向に延びるストライプ状のバリアリブ33a
が形成してある。バリアリブ33aの相互間にストライ
プ状のプラズマ室34が形成される。取出電極40の上
には、バリアリブ33aと所定の間隔を置いてフリット
シール35が形成してある。フリットシール35に対し
てバリアリブ33aとは反対側には、フリットシール時
に薄板ガラスが割れることを防止するために、薄板ガラ
ス全体を水平に支持するダミーバリアリブ43を形成す
る必要がある。このダミーバリアリブ43の形成パター
ンとしては、例えば図7に示すように、取出電極40を
横切るように形成することも考えられる。
【0006】図8は、従来のプラズマアドレス表示装置
において考えられるその他の構成の平面図である。図8
に示すプラズマアドレス表示装置では、ガラス基板31
の表面に、放電電極32と平行してストライプ方向に延
びるように、ダミーバリアリブ53が形成してある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した図
7に示すプラズマアドレス表示装置では、取出電極40
を横切るようにダミーバリアリブ43を形成しているこ
とから、取出電極40とガラス基板31との段差部Aに
おいてダミーバリアリブ43の強度が弱くなってしま
う。そのため、製造過程において、液晶ギャップを均一
にするためにバリアリブの表面を平滑化する研磨工程を
行ったときに、この段差部Aにおいてダミーバリアリブ
43が破損することがある。この破損したダミーバリア
リブ43の粒子は、研磨工程中に、他のバリアリブの表
面にキズを付け、このキズによって放電漏れによる不正
データの書き込みや液晶ギャップの不均一部分の発生が
誘発されるという問題がある。
【0008】また、上述した図8に示すプラズマアドレ
ス表示装置では、取出電極40を形成した後に、ダミー
バリアリブ53が形成されることから、ガラス基板31
の表面にリブ用ペーストが接触する面積が小さくなり、
最終的に形成されたダミーバリアリブ53のガラス基板
31に対する密着強度が弱くなるという問題がある。す
なわち、図9に示すように、スクリーン60のメッシュ
60bを透過したリブ用ペースト61が、乳剤部60a
の開口部60a2からガラス基板31に向かって押し出
されるときに、ガラス基板31に既に形成されている取
出電極40によって、乳剤部60aの下面60a1とガ
ラス基板31の表面との間に取出電極40の厚みに相当
する距離だけ隙間が生じ、開口部60a2から押し出さ
れるリブ用ペースト61がガラス基板31に接触する面
積が小さくなってしまう。このとき、スキージの押し込
み量を増加させてリブ用ペースト61の吐出量を増加さ
せることで接触面積を大きくすることも考えられるが、
これはスクリーン60のライフの観点から好ましくな
い。
【0009】本発明は、上述した問題点に鑑みてなさ
れ、十分な強度のダミーバリアリブを有するプラズマア
ドレス表示装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上述した問題点を解決
し、上述した目的を達成するために、本発明のプラズマ
アドレス表示装置は、列方向にストライプ状に形成さ
れ、カソードおよびアノードとなる複数の放電電極と、
前記列方向にストライプ状に形成され、放電可能な気体
が封入してあるプラズマ室と、前記プラズマ室を前記ス
トライプ方向に仕切る第1の絶縁性バリアリブと、前記
プラズマ室に対して基板と対向する側に設けられ両側の
電位差によって駆動される電気光学材料層と、前記電気
光学材料層の一方の側と前記プラズマ室との間に介在す
る誘電体シートと、前記電気光学材料層の他方の側にお
いて行方向にストライプ状に形成され、データ電圧が印
加されるデータ電極と、前記第1の絶縁性バリアリブを
内側に囲み、前記プラズマ室内を封止するように、前記
基板と前記誘電体シートとの間に形成されたシール手段
と、前記放電電極と接合され、放電電極に電圧を供給す
る取出電極と、前記シール手段の外側に設けられた第2
の絶縁性バリアリブとを有し、前記第2の絶縁性バリア
リブが前記取出電極を横切らないパターンで形成してあ
る。
【0011】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、好ましくは、前記第1の絶縁性バリアリブと前記第
2の絶縁性バリアリブとは、同じペーストを用いて形成
されている。
【0012】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、好ましくは、前記第2の絶縁性バリアリブは、前記
放電電極と平行したストライプ状のパターンで形成して
ある。
【0013】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、好ましくは、前記第2の絶縁性バリアリブは、前記
取出電極の表面に形成してある。
【0014】さらに、本発明のプラズマアドレス表示装
置は、列方向にストライプ状に形成され、カソードおよ
びアノードとなる複数の放電電極と、前記列方向にスト
ライプ状に形成され、放電可能な気体が封入してあるプ
ラズマ室と、前記プラズマ室を前記ストライプ方向に仕
切る第1の絶縁性バリアリブと、前記プラズマ室に対し
て基板と対向する側に設けられ両側の電位差によって駆
動される電気光学材料層と、前記電気光学材料層の一方
の側と前記プラズマ室との間に介在する誘電体シート
と、前記電気光学材料層の他方の側において行方向にス
トライプ状に形成され、データ電圧が印加されるデータ
電極と、前記第1の絶縁性バリアリブを内側に囲み、前
記プラズマ室内を封止するように、前記基板と前記誘電
体シートとの間に形成されたシール手段と、前記放電電
極と接合され、放電電極に電圧を供給する取出電極と、
前記シール手段の外側に設けられた第2の絶縁性バリア
リブと、前記取出電極の表面の一部に形成されたカバー
ガラスと、を有し、前記第2の絶縁性バリアリブは、前
記カバーガラスの表面に形成してある。
【0015】
【作用】本発明のプラズマアドレス表示装置では、第2
の絶縁性バリアリブが前記取出電極を横切らないパター
ンで形成してあることから、その製造工程において、第
2の絶縁性バリアリブを段差部分に形成することがなく
なり、十分な強度を持つ第2の絶縁性バリアリブを得る
ことができる。
【0016】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
では、第2の絶縁性バリアリブを、取出電極の表面や、
取出電極の表面の一部に形成されたカバーガラスの表面
に形成することで、第2の絶縁性バリアリブを形成する
際に、形成対象面とスクリーンと近接して配置すること
ができ、ペーストを形成対象面に十分な接触面積を持っ
た状態で押し出すことができる。そのため、形成対象面
と第2の絶縁性バリアリブとの密着強度を高めることが
できる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例に係わるプラズマアド
レス表示装置について説明する。第1実施例 図1は、本実施例に係わるプラズマアドレス表示装置の
平面図である。図1に示すように、本実施例に係わるプ
ラズマアドレス表示装置は、ガラス基板31の表面に、
ストライプ方向(図中左右方向)に延び、ニッケル(N
i)を用いた放電電極32と銀(Ag)を用いた取出電
極40とが接合して形成してある。また、放電電極32
と取出電極40との接合部には、絶縁性のカバーガラス
41が堆積してある。放電電極32の上には、図中左右
方向に延びるストライプ状のバリアリブ33aが形成し
てある。バリアリブ33aの相互間にストライプ状のプ
ラズマ室34が形成される。取出電極40の上には、バ
リアリブ33aと所定の間隔を置いてフリットシール3
5が形成してある。フリットシール35に対してバリア
リブ33aとは反対側のガラス基板31および取出電極
40の上には、放電電極32と平行したストライプ状の
パターンでダミーバリアリブ2が形成してある。ダミー
バリアリブ2は、フリットシール時に薄板ガラスが割れ
ることを防止するために、薄板ガラス全体を水平に支持
する役割を果たす。
【0018】以下、図1に示すプラズマアドレス表示装
置の製造方法について説明する。図2は、本実施例に係
わるプラズマアドレス表示装置の製造工程を説明するた
めの断面図である。本実施例においては、まず、図1に
示すように、ストライプ状の取出電極40をガラス基板
31の表面に形成する。形成方法は、スクリーン印刷法
が一般的である。次に、図1,図2(A)に示すよう
に、ストライプ状の放電電極32を取出電極40と等ピ
ッチで、末端を一部取出電極40と重ねて形成する。形
成方法は、スクリーン印刷法が一般的である。取出電極
40は例えば銀(Ag)を用いて形成する。
【0019】次に、図1に示すように、絶縁性のカバー
ガラス41を放電電極32と取出電極40との接合部を
覆うように形成する。カバーガラス41の形成方法は、
スクリーン印刷法が普通であり、材質はガラスを用いる
のが一般的である。そして、図2(B)に示すように、
バリヤリブ33aを放電電極32の上にストライプ状に
形成すると共に、放電電極32と平行したストライプ状
のパターンでダミーバリアリブ2をガラス基板31およ
び取出電極40の上にスクリーン印刷法などで形成す
る。そして、放電電極32、取出電極40、ダミーバリ
アリブ2およびバリヤリブ33aを焼成する。
【0020】本実施例に係わるプラズマアドレス表示装
置では、放電電極32および取出電極40と平行したス
トライプ状のパターンで、ダミーバリアリブ2をガラス
基板31および取出電極40の上に形成することから、
ダミーバリアリブ2が取出電極40を横切ることはな
い。そのため、プラズマアドレス表示装置におけるダミ
ーバリアリブ2の強度を高めることができ、研磨工程中
にダミーバリアリブ2が破損することが抑制され、放電
漏れ等を誘発するキズが他のバリアリブに生じることを
回避できる。
【0021】次に、図2(C)に示すように、フリット
シール35をディスペンサーなどを用いて低融点ガラス
などを塗布して形成する。その後は、誘電体シート4と
ガラス基板31とをフリットシール35を介して貼り合
わせる。次に、真空ポンプ(図示せず)でフリットシー
ル35で囲まれた密封室内を真空にする。更に放電可能
なガスを注入した後、水銀蒸気を密封室内に拡散させ
る。
【0022】次に、図示しない配向処理を行い、図2
(D)に示したように、液晶層を均一の厚さにするため
のスペーサー24を散布した後、図2(E)に示すよう
に、液晶シール材22を介してカラーフィルタ21を誘
電体シート4に接合して、液晶室を形成し、その後液晶
を注入してプラズマアドレス表示装置を得ることができ
る。尚、カラーフィルタ21の液晶室側には、データ電
圧が印加されるストライプ状のデータ電極(図示せず)
が放電電極52と直交する向きに形成してある。
【0023】上述したように製造されたプラズマアドレ
ス表示装置は、放電電極32に所定の電圧が印加される
と、そのプラズマ室34の部分の気体が選択的にイオン
化されてプラズマ放電が発生し、その内部は略アノード
電位に維持される。この状態で、データ電極にデータ電
圧が印加されると、そのプラズマ室34に対応して列方
向に並ぶ画素の液晶層に誘電体シート4を介してデータ
電圧が書き込まれる。プラズマ放電が終了すると、プラ
ズマ室34は浮遊電位となり、対応する画素の液晶層に
書き込まれた電圧は、次の書き込み期間(例えば1フレ
ーム後)まで保持される。このとき、プラズマ室34は
サンプリングスイッチとして機能し、各画素の液晶層は
サンプリングキャパシタとして機能している。
【0024】各画素の液晶層に対してデータ電極から書
き込まれたデータ電圧によって液晶が動作することから
画素単位で表示が行われる。従って、プラズマ放電を発
生させて列方向に並ぶ複数の画素の液晶層にデータ電圧
を書き込むプラズマ室34を行方向に順次走査していく
ことで、二次元画像の表示を行うことができる。
【0025】以上説明した本実施例に係わるプラズマア
ドレス表示装置によれば、ダミーバリアリブ2の強度を
高めることができ、研磨工程中にダミーバリアリブ2が
破損することが抑制され、放電漏れ等を誘発するキズが
他のバリアリブに生じることを回避できる。
【0026】第2実施例 図3は本実施例に係わるプラズマアドレス表示装置の平
面図、図4は図3に示すプラズマアドレス表示装置の部
分断面図である。図3,図4に示すように、本実施例に
係わるプラズマアドレス表示装置は、ガラス基板31の
表面に、ストライプ方向(図中左右方向)に延び、ニッ
ケル(Ni)を用いた放電電極32と銀(Ag)を用い
た取出電極40とが接合して形成してある。また、放電
電極32と取出電極40との接合部には、絶縁性のカバ
ーガラス41が堆積してある。放電電極32の上には、
図中左右方向に延びるストライプ状のバリアリブ33a
が形成してある。バリアリブ33aの相互間にストライ
プ状のプラズマ室34が形成される。取出電極40およ
びカバーガラス41の上には、バリアリブ33aと所定
の間隔を置いてフリットシール35が形成してある。フ
リットシール35に対してバリアリブ33aとは反対側
の取出電極40の上には、放電電極32と平行したスト
ライプ状のパターンでダミーバリアリブ3が形成してあ
る。
【0027】図3,図4に示すプラズマアドレス表示装
置では、取出電極40の表面のみにダミーバリアリブ3
を形成していることから、その製造工程においてバリア
リブ3を形成する際に、スクリーン印刷による印刷対象
面である取出電極40の表面とスクリーンとを近接して
位置させることができる。そのため、スクリーンの開口
部を介して押し出されるペーストと取出電極40の表面
との間の接触面積を大きくすることができ、十分な強度
を持つダミーバリアリブ3を得ることができる。また、
本実施例に係わるプラズマアドレス表示装置によれば、
その製造工程において、スキージの押し込み量を従来と
同じにすることができ、スクリーンの使用可能な回数が
減ることはない。
【0028】第3実施例 図5は本実施例に係わるプラズマアドレス表示装置の平
面図、図6は図5に示すプラズマアドレス表示装置の部
分断面図である。図5,図6に示すように、本実施例に
係わるプラズマアドレス表示装置は、ガラス基板31の
表面に、ストライプ方向(図中左右方向)に延び、ニッ
ケル(Ni)を用いた放電電極32と銀(Ag)を用い
た取出電極40とが接合して形成してある。また、放電
電極32と取出電極40との接合部には絶縁性のカバー
ガラス41aが堆積してあり、フリットシール35に対
してバリアリブ33aと反対側に位置する取出電極40
の表面の一部には絶縁性のカバーガラス41bが堆積し
てある。放電電極32の上には、図中左右方向に延びる
ストライプ状のバリアリブ33aが形成してある。バリ
アリブ33aの相互間にストライプ状のプラズマ室34
が形成される。取出電極40の表面とカバーガラス41
aの表面とに跨がるように、バリアリブ33aと所定の
間隔を置いてフリットシール35が形成してある。フリ
ットシール35に対してバリアリブ33aとは反対側に
は、カバーガラス41bの上に放電電極32と平行した
ストライプ状のパターンでダミーバリアリブ4が形成し
てある。
【0029】図5,図6に示すプラズマアドレス表示装
置では、取出電極40の上に形成されたカバーガラス4
1bの表面のみにダミーバリアリブ4を形成しているこ
とから、その製造工程においてダミーバリアリブ4を形
成する際に、スクリーン印刷による印刷対象面であるカ
バーガラス41bの表面とスクリーンとを近接して位置
させることができる。そのため、スクリーンの開口部を
介して押し出されるペーストとカバーガラス41bの表
面との間の接触面積を大きくすることができ、十分な強
度を持つダミーバリアリブ4を得ることができる。
【0030】尚、図5,図6に示すプラズマアドレス表
示装置においては、取出電極40の上にカバーガラス4
1bを介してダミーバリアリブ4を形成した例について
説明したが、例えば、取出電極40が形成されていない
ガラス基板31の上に、カバーガラス41bを介してダ
ミーバリアリブ4を形成する構成にしてもよい。また、
ダミーバリアリブ4を、カバーガラス41bを介して、
ガラス基板31と取出電極40とを横切るように形成し
てもよい。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
アドレス表示装置によれば、第2の絶縁性バリアリブ
(ダミーバリアリブ)の強度を高めることができる。す
なわち、本発明のプラズマアドレス表示装置によれば、
第2の絶縁性バリアリブとそれが形成される対象面との
間の密着強度を高めることができ、その製造過程におい
て、第2の絶縁性バリアリブを形成した後の工程におい
て、第2の絶縁性バリアリブが倒れたりすることはな
く、放電漏れや液晶ギャップの不均一部分は生じない。
また、本発明のプラズマアドレス表示装置によれば、そ
の製造工程において、スキージの押し込み量を従来と同
じにすることができ、スクリーンの使用可能な回数が減
ることはない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係わるのプラズマアドレ
ス表示装置の平面図である。
【図2】図1に示すプラズマアドレス表示装置の製造工
程を説明するための断面図である。
【図3】本発明の第2実施例に係わるのプラズマアドレ
ス表示装置の平面図である。
【図4】図3に示すプラズマアドレス表示装置の部分断
面図である。
【図5】本発明の第3実施例に係わるのプラズマアドレ
ス表示装置の平面図である。
【図6】図5に示すプラズマアドレス表示装置の部分断
面図である。
【図7】従来のプラズマアドレス表示装置において考え
られる構成の平面図である。
【図8】従来のプラズマアドレス表示装置において考え
られるその他の構成の平面図である。
【図9】図8に示すプラズマアドレス表示装置の製造工
程における問題点を説明するための断面図である。
【符号の説明】
4… 薄板ガラス 2,3,4,43,53… ダミーバリアリブ 31… ガラス基板 32… 放電電極 33a… バリアリブ 35… フリットシール 40… 取出電極 41… カバーガラス

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】列方向にストライプ状に形成され、カソー
    ドおよびアノードとなる複数の放電電極と、 前記列方向にストライプ状に形成され、放電可能な気体
    が封入してあるプラズマ室と、 前記プラズマ室を前記ストライプ方向に仕切る第1の絶
    縁性バリアリブと、 前記プラズマ室に対して基板と対向する側に設けられ両
    側の電位差によって駆動される電気光学材料層と、 前記電気光学材料層の一方の側と前記プラズマ室との間
    に介在する誘電体シートと、 前記電気光学材料層の他方の側において行方向にストラ
    イプ状に形成され、データ電圧が印加されるデータ電極
    と、 前記第1の絶縁性バリアリブを内側に囲み、前記プラズ
    マ室内を封止するように、前記基板と前記誘電体シート
    との間に形成されたシール手段と、 前記放電電極と接合され、放電電極に電圧を供給する取
    出電極と、 前記シール手段の外側に設けられた第2の絶縁性バリア
    リブとを有し、 前記第2の絶縁性バリアリブが前記取出電極を横切らな
    いパターンで形成してあるプラズマアドレス表示装置。
  2. 【請求項2】前記第1の絶縁性バリアリブと前記第2の
    絶縁性バリアリブとは、同じペーストを用いて形成され
    ている請求項1に記載のプラズマアドレス表示装置。
  3. 【請求項3】前記第2の絶縁性バリアリブは、前記放電
    電極と平行したストライプ状のパターンで形成してある
    請求項1または2に記載のプラズマアドレス表示装置。
  4. 【請求項4】前記第2の絶縁性バリアリブは、前記取出
    電極の表面に形成してある請求項1〜3のいずれかに記
    載のプラズマアドレス表示装置。
  5. 【請求項5】列方向にストライプ状に形成され、カソー
    ドおよびアノードとなる複数の放電電極と、 前記列方向にストライプ状に形成され、放電可能な気体
    が封入してあるプラズマ室と、 前記プラズマ室を前記ストライプ方向に仕切る第1の絶
    縁性バリアリブと、 前記プラズマ室に対して基板と対向する側に設けられ両
    側の電位差によって駆動される電気光学材料層と、 前記電気光学材料層の一方の側と前記プラズマ室との間
    に介在する誘電体シートと、 前記電気光学材料層の他方の側において行方向にストラ
    イプ状に形成され、データ電圧が印加されるデータ電極
    と、 前記第1の絶縁性バリアリブを内側に囲み、前記プラズ
    マ室内を封止するように、前記基板と前記誘電体シート
    との間に形成されたシール手段と、 前記放電電極と接合され、放電電極に電圧を供給する取
    出電極と、 前記シール手段の外側に設けられた第2の絶縁性バリア
    リブと、 前記取出電極の表面の一部に形成されたカバーガラスと
    を有し、 前記第2の絶縁性バリアリブは、前記カバーガラスの表
    面に形成してあるプラズマアドレス表示装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100545021B1 (ko) * 1999-12-31 2006-01-24 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자와 그 제조 방법
KR100682834B1 (ko) * 2004-12-01 2007-02-15 엘지전자 주식회사 유기 전계발광 표시소자 및 그 제조방법

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