JPH095714A - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚
の基板の間に、（１）液晶材料、（２）重合性組成物及
び（３）重合開始剤を含有する調光層形成材料を介在さ
せた後、活性光線を照射することによって前記重合性組
成物を重合させることにより、液晶材料と透明性固体物
質から成る調光層を有する液晶デバイスの製造方法にお
いて、活性光線を照射する際に、基板の外周縁部分に付
着した調光層形成材料を遮蔽する液晶デバイスの製造方
法。 【効果】 本発明の製造方法は、基板周縁部に付着した
調光層形成材料中の光重合性化合物の重合硬化を防止す
ることができるので、付着物を容易に除去することがで
きる結果、液晶デバイスの製造工程が効率的となり、生
産性が大幅に向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、大面積になし得る液晶
デバイスの製造方法に関し、更に詳しくは、視野の遮
断、開放及び明かりもしくは照明光の透過制限、遮断、
透過を電気的に操作し得るものであって、建物の窓やシ
ョーウインドウなどで視野遮断のスクリーンや、採光コ
ントロールのカーテンに利用されると共に、文字や図形
を表示し、高速応答性を以って電気的に表示を切り換え
ることによって、ＯＡ機器のディスプレイやプロジェク
ション用デバイス等のハイインフォーメーション表示体
や広告板、案内板、装飾表示板等として利用される液晶
デバイスの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】偏光板及び配向処理を要さず、明るくコ
ントラストの良い、大型で廉価な液晶デバイスとして、
特表昭５８−５０１６３１号公報、米国特許第４，４３
５，０４７号明細書、特表昭６１−５０１３４５号公
報、特開昭６２−４８７８９号公報には、液晶のカプセ
ル化により、ポリマー中に液晶滴を分散させ、そのポリ
マーをフィルム化したものを調光層として用いる液晶デ
バイスが開示されている。

【０００３】上記の明細書中で開示された技術において
は、ポリビニルアルコールによってカプセル化された液
晶分子は、それが薄層中で正の誘電率異方性を有するも
のであれば、電界の存在下でその液晶分子は電界の方向
に配列し、液晶の常光屈折率ｎ_oとポリマーの屈折率ｎ_p
が等しいときには、透明性を発現する。電界が除かれる
と、液晶分子はランダム配列に戻り、液晶滴の屈折率が
ｎ_oよりずれるため、液晶滴はその境界面で光を散乱
し、光の透過を遮断するので、薄層体は白濁する。

【０００４】このように、カプセル化された液晶を分散
包蔵したポリマーを薄膜とする技術は上記のもの以外に
もいくつか知られており、例えば、特表昭６１-５０２
１２０８号公報には、液晶がエポキシ樹脂中に分散した
もの、特願昭６１-３０５５２８号の願書に添付された
明細書及び特開昭６２-２２３１号公報には、光硬化性
樹脂と液晶の混合液に紫外線を照射することによって、
液晶と光硬化性樹脂とを相分離させて、液晶が樹脂中に
分散した調光層を形成する方法が報告されている。

【０００５】このような調光層を有する液晶デバイスに
おける駆動電圧は、約２０Ｖ以上も必要であり、多くの
場合４０Ｖ以上の高電圧を必要とするものであった。

【０００６】更に、液晶デバイスに必要な光散乱性能、
光透過性能を得るためには、液晶材料と樹脂成分の屈折
率の一致、不一致を最適化しなければならず、液晶材料
と樹脂材料の組合せを選択する上で制限があった。

【０００７】このような問題点から、前述の如き液晶デ
バイスの実用化に要求される重要な特性である低電圧駆
動特性、高コントラスト、時分割駆動を可能にするため
に、特開平１−１９８７２５号公報及び特開平２−８５
８２２号公報には、液晶材料が連続層を形成し、この連
続層中に、三次元網目状の高分子物質を形成して成る調
光層を有する液晶デバイスが開示されている。

【０００８】このような液晶デバイスは、電極層を有す
る透明な２枚の基板間に、液晶材料、光重合性組成物及
び光重合開始剤を含有する調光層形成材料を介在させ、
調光層形成材料の等方性液体状態において光を照射して
前記光重合性組成物を重合させることによって、前述の
ような液晶材料と透明性高分子物質から成る調光層を有
する高性能な液晶デバイスを製造することができるもの
である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】これらの液晶デバイス
の製造方法において、予め２枚の電極付き基板を、注入
孔を設け周縁部をシール剤で固め貼り合わせた空セル
に、真空注入法を用いて調光層形成材料を注入電極付き
基板間に調光層形成材料を介在させ、更に光硬化性封孔
剤を注入孔部分に塗布した後に、紫外線等の活性光線を
照射する方法が採られている。

【００１０】この方法において、注入時に、重合性組成
物を含んだ調光層形成材料が注入孔部分の外側周縁部に
付着し、紫外線照射によって重合性化合物が硬化してし
まい、その部分の付着物を除去することが困難であっ
た。

【００１１】本発明が解決しようとする課題は、液晶空
パネルに調光層形成材料を注入する際、パネルの外側周
縁部分に付着した調光層形成材料部分を容易に除去可能
な液晶デバイスの製造方法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、本発明に至った。

【００１３】即ち、本発明は上記課題を解決するため
に、電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚の基板
の間に、（１）液晶材料、（２）重合性組成物及び
（３）重合開始剤を含有する調光層形成材料を介在させ
た後、活性光線を照射することによって前記重合性組成
物を重合させることにより、液晶材料と透明性固体物質
から成る調光層を有する液晶デバイスの製造方法におい
て、活性光線を照射する際に、調光層形成材料が付着し
た基板の外周縁部分を遮蔽することを特徴とする液晶デ
バイスの製造方法を提供する。

【００１４】また、本発明は上記課題を解決するため
に、電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚の基板
と該基板の注入孔部分を除く、周縁部がシール剤で封止
されて成るパネルに、（１）液晶材料、（２）重合性組
成物及び（３）重合開始剤を含有する調光層形成材料を
介在させた後、活性光線を照射することによって前記重
合性組成物を重合させることにより、液晶材料と透明性
固体物質から成る調光層を有する液晶デバイスの製造方
法において、活性光線を照射する際に、調光層形成材料
が付着したパネルの外周縁部分を遮蔽することを特徴と
する液晶デバイスの製造方法を提供する。

【００１５】更に、本発明は上記課題を解決するため
に、注入された調光層形成材料と封孔剤を同時に活性光
線照射によって重合硬化させる液晶デバイスの製造方法
においては、注入孔部分を除いた基板周縁部であって、
調光層形成材料が付着したパネルの外周縁部を遮蔽した
状態で活性光線を照射する液晶デバイスの製造方法を提
供する。

【００１６】本発明で使用する基板は、堅固な材料、例
えば、ガラス、金属等であってもよく、柔軟性を有する
材料、例えば、プラスチックフィルムの如きものであっ
ても良い。そして、基板は２枚が対向して適当な間隔を
隔て得るものであり、その少なくとも一方は透明性を有
し、その２枚の間に挟持される液晶層及び透明性固体物
質を有する層から成る調光層を外界から視覚させるもの
でなければならない。但し、完全な透明性を必須とする
ものではない。もし、この液晶デバイスが、デバイスの
一方の側から他方の側へ通過する光に対して作用させる
ために使用される場合には、２枚の基板は共に適宜な透
明性が与えられる。この基板には、目的に応じて透明、
不透明の適宜な電極が、その全面又は部分的に配置され
ても良い。

【００１７】尚、２枚の基板間には、液晶材料及び透明
性固体物質から成る調光層が介在されるが、この２枚の
基板間には、通常、周知の液晶デバイスと同様、間隔保
持用のスペーサーを介在させることもできる。

【００１８】スペーサーとしては、例えば、マイラー、
アルミナ、ポリマービ−ズ等種々の液晶セル用のものを
用いることができる。

【００１９】本発明で使用する液晶材料は、単一の液晶
化合物であることを要しないのは勿論であり、２種以上
の液晶化合物や液晶化合物以外の物質を含んだ混合物で
あってもよく、通常この技術分野で液晶材料として認識
されるものであればよく、そのうちの正の誘電率異方性
を有するものが好ましい。用いる液晶としては、ネマチ
ック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が好
ましく、ネマチック液晶が特に好ましい。その性能を改
善するために、コレステリック液晶、キラルネマチック
液晶、キラルスメクチック液晶やキラル化合物や２色性
色素等が適宜含まれていてもよい。

【００２０】本発明で使用する液晶材料は、以下に示し
た化合物群から選ばれる１種以上の化合物から成る配合
組成物が好ましく、液晶材料の特性、即ち、等方性液体
と液晶の相転移温度、融点、粘度、屈折率異方性（Δ
ｎ）、誘電率異方性（Δε）、及び重合性組成物との溶
解性等を考慮して、適宜選択、配合して用いることがで
きる。

【００２１】そのような液晶材料としては、安息香酸エ
ステル系、シクロヘキシルカルボン酸エステル系、ビフ
ェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン
系、ビフェニルシクロヘキサン系、ピリミジン系、ピリ
ジン系、ジオキサン系、シクロヘキサンシクロヘキサン
エステル系、シクロヘキシルエタン系、トラン系、アル
ケニル系等の各種液晶化合物が使用される。

【００２２】本発明で使用する液晶材料を具体的に示す
と、例えば、４−置換安息香酸４’−置換フェニルエス
テル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸４′−置換フ
ェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸
４′−置換ビフェニルエステル、４−（４−置換シクロ
ヘキサンカルボニルオキシ）安息香酸４′−置換フェニ
ルエステル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸
４′−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘ
キシル）安息香酸４′−置換シクロヘキシルエステル、
４−置換４′−置換ビフェニル、４−置換フェニル４′
−置換シクロヘキサン、４−置換４″−置換ターフェニ
ル、４−置換ビフェニル４′−置換シクロヘキサン、２
−（４−置換フェニル）−５−置換ピリミジンなどを挙
げることができる。

【００２３】調光層形成材料中の液晶材料及び重合性組
成物の含有割合は、重量比で６０：４０〜９５：５の範
囲が好ましく、７５：２５〜８５：１５の範囲が特に好
ましい。これは液晶材料が多すぎたり少なすぎる場合、
液晶材料と透明性固体物質の分散状態が均一にならない
ので、光散乱による調光機能が発現しなくなり、好まし
くない。

【００２４】前記調光層中に形成される透明性固体物質
は、ポリマー中に液晶材料が液滴状となって分散するも
のでもよいが、三次元網目状構造を有するものがより好
ましい。

【００２５】液晶材料の連続層中で透明性固体物質が三
次元網目状に形成されていることが好ましく、液晶材料
の無秩序な配向状態を形成することにより、光学的境界
面を形成し、光の強い散乱を発現させることができる。

【００２６】本発明の透明性固体物質としては、合成樹
脂が好適である。三次元網目状構造を与えるものとして
は、高分子形成性モノマー、オリゴマー又はそれらの配
合組成物を重合させて得られる光硬化型樹脂が好適であ
る。

【００２７】基板間に形成される透明性固体物質が三次
元網目状構造を形成する方法としては、パネル中に封入
された調光層形成材料を等方性液体状態に保持しながら
活性光線を照射し、光重合性組成物を重合させる方法が
挙げられる。

【００２８】透明性固体物質を形成する高分子形成性モ
ノマ−としては、例えば、スチレン、クロロスチレン、
α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン：メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、
オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデ
シル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブ
トキシエチル、フェノキシエチル、アルリル、メタリ
ル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキ
シプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジ
メチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル等の如き置
換基を有するアクリレート、メタクリレート又はフマレ
ート；エチレングリコール、ポリエチレングリコール、
プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
１，３−ブチレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、トリメチロールプロパン、グリセリン及びペンタエ
リスリトール等のモノ（メタ）アクリレート又はポリ
（メタ）アクリレート；酢酸ビニル、酪酸ビニル又は安
息香酸ビニル、アクリロニトリル、セチルビニルエーテ
ル、リモネン、シクロヘキセン、ジアリルフタレート、
ジアリルイソフタレート、２−、３−又は４−ビニルピ
リジン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、
メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミ
ド又はＮ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド及びそれ
らのアルキルエーテル化合物、トリメチロールプロパ
ン、１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくは
プロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又
はトリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール
１モルに２モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロ
ピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート１モルとフェニルイソシアネート若しくはｎ−ブチ
ルイソシアネート１モルとの反応生成物、ジペンタエリ
スリトールのポリ（メタ）アクリレート、トリス−（ヒ
ドロキシエチル）−イソシアヌル酸のポリ（メタ）アク
リレート、トリス−（ヒドロキシエチル）−リン酸のポ
リ（メタ）アクリレート、ジ−（ヒドロキシエチル）−
ジシクロペンタジエンのモノ（メタ）アクリレート又は
ジ（メタ）アクリレート、ピバリン酸ネオペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒ
ドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、直鎖脂肪族ジ（メタ）アクリレート、ポ
リオレフィン変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）ア
クリレート等を挙げることができる。

【００２９】高分子形成性オリゴマーとしては、例え
ば、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メ
タ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレー
ト、ポリエーテル（メタ）アクリレート等を用いること
ができる。

【００３０】重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製
「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジル
ジメチルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア
６５１」）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フ
ェニル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイ
ギー社製「イルガキュア９０７」）、２，４−ジエチル
チオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴ
Ｘ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬
社製「カヤキュア−ＥＰＡ」）との混合物、イソプロピ
ルチオキサントン（ワードプレキンソップ社製「カンタ
キュアＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
との混合物等が挙げられる。

【００３１】活性光線としては、紫外線、ＥＢ（エレク
トロンビーム）、可視光線等がある。

【００３２】本発明の製造方法によって得られる液晶デ
バイスの調光層の厚みは、５〜１００μｍの範囲が好ま
しく、８〜５０μｍの範囲が特に好ましい。

【００３３】調光層形成材料を、注入孔部分を除いた周
辺部をシール材で固めた２枚の基板より成る空セル中に
介在させるには、当該空セル中に調光層形成材料を注入
する方法が挙げられる。空セルに調光層形成材料を注入
する方法としては、一般の液晶セルに用いられている真
空注入法であっても良く、また、空セルに複数の孔を設
け、一方の孔を減圧系に接続し、残りの孔を調光層形成
材料に漬けながら減圧系からの吸引力を用いて空セル中
に調光層形成材料を注入する方法であっても良い。

【００３４】基板の注入孔部分を除いた周辺部をシール
するシール材としては、通常の液晶デバイスに用いられ
るものを特に制限なく用いることができる。

【００３５】シール剤の市販品としては、例えば、ロデ
ィック社製の「ＤＳＡ−００１」、「ＤＳＡ−００
２」、「ＤＳＡ−０１７」、三井東圧化学社製の「スト
ラクトボンドＸＮ−５Ａ−Ｃ」、長瀬チバ社製の「アラ
ルダイトＸＮＲ５６０２−１」、積水ファインケミカル
社製の「Ａ−３０３」等が挙げられる。

【００３６】調光層形成材料を注入した後、注入孔は、
封孔剤を用いて封孔される。封孔剤としては、通常の液
晶デバイスに用いられるものを特に制限なく用いること
ができるが、活性光線の照射によって、調光層の形成と
同時に封孔できる光硬化型封孔剤を用いることが好まし
い。

【００３７】光硬化型封孔剤は、活性光線を照射するこ
とによって硬化するモノマーであればよく、液晶材料と
混合し難いものが好ましく、また、耐湿性に優れている
ものが好ましく、更に、硬化後に基板との密着性に優れ
るものが好ましい。

【００３８】光硬化性封孔剤の市販品としては、例え
ば、スリーボンド社製の「スリーボンド３００６」、
「スリーボンド３０１４Ｃ」、「スリーボンド３０３
３」、「スリーボンド３０５１」、「スリーボンド３０
５２Ｃ」、「スリーボンド３０５６Ｃ」、「スリーボン
ド３０８０」、東邦化成社製の「ハイロック２００」、
「ハイロック５７０」、「ハイロック５８０」、「ハイ
ロック５９０」、「ハイロック５９１」、「ハイロック
６００」、電気化学工業社製の「ハードロックＯＰ−１
０３０Ｍ」、「ハードロックＯＰ−５０２０ＦＢ」、ソ
ニーボンド社製の「ＵＶ１００３」、日本ロックタイト
社製の「ロックタイト３５０」、「ロックタイト３５
２」、「ロックタイト３５８」、「ロックタイト３５
９」、「ロックタイト３５２１」、「ロックタイト３６
３」、大日本インキ化学工業(株)製の「ユニディック−
５５００」、「ユニディック−５５０２」、「ディック
ライトＵＥ８１００」、「ディックライトＵＥ８２０
０」、ノーランド社製の「ＶＵＳ−９１」、セメダイン
社製の「ＥＡ６０１−６」、チバガイギー社製の「ＨＶ
９５３Ｕ／ＡＷ１０６」、「ＨＶ９５３／ＡＷ１２
３」、「ＨＷ２９５１／ＡＷ２１０１」、「ＨＷ２９３
４／ＡＷ２１０４」等が挙げられる。

【００３９】調光層形成材料が付着した部分を活性光線
より遮蔽する方法としては、活性光線遮蔽性の紙等で型
取りし、周縁部分のみを遮蔽する方法、遮蔽部分に不透
明性テープを貼る方法等が挙げられる。遮蔽部材は、活
性光線を遮蔽すればよく、透明不透明に限定されずに選
択できる。

【００４０】シール部の外周縁部分と調光層の見切り部
分との間隔が通常２mm程度以上あり、遮蔽する精度は必
要ないが、セルが小さい場合、その間隔が１mm以下の場
合もあるので精度が要求されることがある。この場合
は、通常のレジスト露光方法等の手段を用いて精度よく
周縁部分を活性光線より遮蔽することができる。

【００４１】なお、予め決まったパターンでシール部分
外の大きさのパターンの遮蔽部材を作成しておくこと
は、生産性の面から好ましい方法である。その場合、シ
ール部分から活性光線が漏れ、その外側であって、本
来、重合を防止すべき調光層形成材料を重合させること
があり、シール部分に活性光線を遮蔽する微粒子や色素
等の物質を混合する等の方法を施すことが好ましい。

【００４２】活性光線を照射した後、パネルの外周縁部
に付着した未硬化の調光層形成材料は、液晶材料及び重
合性組成物を溶解し得る溶剤であって、かつ、硬化した
シール剤及び封孔剤を溶解しない溶剤を用いて洗浄さ
れ、パネルの外周部から除去される。

【００４３】そのような溶剤としては、経済性の面から
メタノール、エタノールの如きアルコール系溶剤が好ま
しい。

【００４４】基板の外周縁部分に付着した調光層形成材
料を遮蔽しながら活性光線を照射する方法は、２枚の基
板間に調光層形成材料を介在させる方法として、一方の
基板に適当な溶液塗布機又はスピンコーター等を用いて
調光層構成材料を均一に塗布し、次いで他方の基板を重
ね合わせ、圧着させる方法を採用した場合に、基板の外
側にはみ出した過剰の調光層形成材料に対しても適用で
きる。

【００４５】

【実施例】以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に
具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。

【００４６】なお、以下の実施例において、「部」及び
「％」は各々『重量部』及び『重量％』を表わす。ま
た、評価特性の各々は以下の記号及び内容を意味する。 （１）白濁度：Ｔ₀ ；印加電圧０の時の光透過率
（％） （２）透明度：Ｔ₁₀₀；印加電圧を増加させていき光透
過率がほとんど増加しなくなった時の光透過率（％） （３）飽和電圧：Ｖ₉₀；同上光透過率が９０％となる印
加電圧（Ｖ_rms）

【００４７】また、紫外線の照度は、ウシオ電機社製の
受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤ付きユニメータ（ＵＩＴ−１
０１）を用いて測定した。

【００４８】（実施例１）ＩＴＯ電極を有する厚み１．
１mmの２０cm×３０cm角の２枚の透明ガラス基板の一方
の基板のＩＴＯ電極を有する面上に１２μｍのポリマー
ビーズ（積水ファインケミカル社製ミクロパールＳＰ２
１０）から成るスペーサーを散布し、他方の基板のＩＴ
Ｏ電極を有する面の周縁部であって、短辺方向の端部中
央部に設定した５mmの大きさの注入孔部分を除いた周縁
部にシール剤（ロディック社製「ＤＳＡ−００１」）を
塗布し、２枚の基板を貼り合わせた後、シール剤を焼成
硬化させて、２０cm×３０cm角、セル厚１２μｍの空セ
ルを作製した。

【００４９】次に、液晶組成物「ＰＮ−００１」（ロデ
ィック社製）７９％、光重合性組成物「カヤラッドＨＸ
６２０」（日本化薬社製カプロラクトン変性ヒドロキシ
ピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレ
ート）１０．２％、ラウリルアクリレート（東京化成社
製）１０．０％及び光重合開始剤「イルガキュア６５
１」（チバガイギー社製ベンジルジメチルケタ−ル）
０．８％から成る調光層形成材料を調製した。

【００５０】調光層形成材料が満たされた液晶皿と空セ
ルを真空チャンバーに入れ、真空に引いた後、温度を４
０℃に保ちながら、空セルの注入孔を調光層形成材料に
漬けた後、真空をリークして、徐々に常圧に戻して、調
光層形成材料をセル中に注入した。

【００５１】このようにして注入したセルの注入孔に、
光硬化性封孔剤「スリーボンド３０５１」（スリーボン
ド社製）を塗布し、次いで、調光層形成材料が付着した
注入孔周縁部分であって、注入孔部分を除く部分を、赤
く着色されたビニールテープで覆った後、３６℃に保ち
ながら、基板の照射面の照度を４０ｍＷ／cm²となる紫
外線を３０秒間照射して、 調光層形成材料中の光重合
性組成物及び光硬化性封孔剤を硬化させて、白濁不透明
な調光層を有する液晶デバイスを得た。

【００５２】このようにして得た液晶デバイスの印加電
圧と光透過率の関係を測定した結果、Ｔ₀＝２．９％、
Ｔ₁₀₀＝８７．５％、Ｖ₉₀＝８．８Ｖ_rmsであった。

【００５３】このセルの注入孔の周囲に付着した調光層
形成材料は、エタノールを用いて軽く洗浄することによ
り、注入孔の周囲に付着した調光層形成材料は、きれい
に除くことができた。

【００５４】（比較例１）実施例１において、紫外線を
照射する際に、注入孔周囲の調光層形成材料付着部分を
遮蔽しなかった以外は、実施例１と同様にして調光層形
成材料中の光重合性組成物及び光硬化性封孔剤を硬化さ
せて、白濁不透明な調光層を有する液晶デバイスを得
た。

【００５５】実施例１と同様にして、このセルの注入孔
の周囲に付着した調光層形成材料とその硬化物をエタノ
ールを用いて洗浄を試みたが、かなりの硬化物が洗浄除
去されずに残った。

【００５６】

【発明の効果】本発明の液晶デバイスの製造方法は、基
板周縁部に付着した調光層形成材料中の光重合性化合物
の重合硬化を防止することができるので、付着物を容易
に除去することができる結果、液晶デバイスの製造工程
が効率的となり生産性が大幅に向上する。従って、本発
明の製造方法は、液晶デバイスの製造方法として有用で
ある。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電極層を有する少なくとも一方が透明な
   ２枚の基板の間に、（１）液晶材料、（２）重合性組成
   物及び（３）重合開始剤を含有する調光層形成材料を介
   在させた後、活性光線を照射することによって前記重合
   性組成物を重合させることにより、液晶材料と透明性固
   体物質から成る調光層を有する液晶デバイスの製造方法
   において、活性光線を照射する際に、基板の外周縁部分
   に付着した調光層形成材料を遮蔽することを特徴とする
   液晶デバイスの製造方法。
2. 【請求項２】 電極層を有する少なくとも一方が透明な
   ２枚の基板と該基板の注入孔部分を除く、周縁部がシー
   ル剤で封止されて成るパネルに、（１）液晶材料、
   （２）重合性組成物及び（３）重合開始剤を含有する調
   光層形成材料を介在させた後、活性光線を照射すること
   によって前記重合性組成物を重合させることにより、液
   晶材料と透明性固体物質から成る調光層を有する液晶デ
   バイスの製造方法において、活性光線を照射する際に、
   調光層形成材料が付着したパネルの外周縁部分を遮蔽す
   ることを特徴とする液晶デバイスの製造方法。
3. 【請求項３】 前記調光層形成材料を注入した後に、注
   入孔を光硬化性封孔剤で封止し、更に注入時に調光層形
   成材料と接触したセルの外周縁部分であって、注入孔部
   分を除く部分を遮蔽した状態で活性光線を照射し、重合
   性組成物を重合させると同時に、光硬化性封孔剤を硬化
   させることを特徴とする請求項２記載の液晶デバイスの
   製造方法。
4. 【請求項４】 前記活性光線が紫外線である、請求項
   １、２又は３記載の液晶デバイスの製造方法。
5. 【請求項５】 前記調光層形成材料が等方性液体状態に
   おいて活性光線を照射することを特徴とする請求項４記
   載の液晶デバイスの製造方法。