JPH095660A - Ｒｏｓシステムにおいてレーザーダイオードのパワー出力を制御するための手段 - Google Patents
Ｒｏｓシステムにおいてレーザーダイオードのパワー出力を制御するための手段Info
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- JPH095660A JPH095660A JP8154615A JP15461596A JPH095660A JP H095660 A JPH095660 A JP H095660A JP 8154615 A JP8154615 A JP 8154615A JP 15461596 A JP15461596 A JP 15461596A JP H095660 A JPH095660 A JP H095660A
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- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/127—Adaptive control of the scanning light beam, e.g. using the feedback from one or more detectors
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
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- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
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- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザーダイオードの個々のエミッタからの
出力パワーの量を、連続的に比較的高速応答時間で個別
的にモニタすることができるようなモニタリングシステ
ムを提供すること。 【解決手段】 本発明の目的は、モニタされるレーザー
ダイオードの前端部すなわち放出端部に比較的近接して
二つの小さなフォトダイオードを配置することにより実
現される。光学要素は、フォトダイオードへ向かうレー
ザーダイオード出力放射の一部を反射して戻すように、
ポリゴン前光学系に配置される。一つの実施態様におい
ては、フォトダイオードは、レーザーダイオードヒート
シンクアセンブリの上に取り付けられ、光は、傾斜ビー
ムスプリッタにより反射してフォトダイオードの上に戻
される。
出力パワーの量を、連続的に比較的高速応答時間で個別
的にモニタすることができるようなモニタリングシステ
ムを提供すること。 【解決手段】 本発明の目的は、モニタされるレーザー
ダイオードの前端部すなわち放出端部に比較的近接して
二つの小さなフォトダイオードを配置することにより実
現される。光学要素は、フォトダイオードへ向かうレー
ザーダイオード出力放射の一部を反射して戻すように、
ポリゴン前光学系に配置される。一つの実施態様におい
ては、フォトダイオードは、レーザーダイオードヒート
シンクアセンブリの上に取り付けられ、光は、傾斜ビー
ムスプリッタにより反射してフォトダイオードの上に戻
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、概して半導体レー
ザーダイオードの出力パワーのモニタリングに関し、特
に、ラスタ出力走査（ＲＯＳ）システムにおいて使用さ
れる二重ビームレーザーダイオードの出力パワーのモニ
タリングに関する。
ザーダイオードの出力パワーのモニタリングに関し、特
に、ラスタ出力走査（ＲＯＳ）システムにおいて使用さ
れる二重ビームレーザーダイオードの出力パワーのモニ
タリングに関する。
【０００２】
【従来の技術】光学的に整形されてＲＯＳシステムにお
いて走査するために使用されるコヒーレントなレーザビ
ームを生成するために、レーザーダイオードを使用する
ことは、走査技術分野で周知である。マルチプルビーム
を生成するために、マルチプルレーザーダイオードを使
用することも知られており、各々の個々のビームは映像
信号により独立に変調され、マルチプルビームは記録表
面上で変調されたビームとして走査される。これらのマ
ルチプルビーム用途のためには、密接して配置されたレ
ーザーダイオードのアレイを使用すると好都合であるこ
とが判っている。密接して配置されたダイオードによ
り、マルチプルビーム処理が可能となり、これにより、
連続波、単一ビームのガス、または、レーザーダイオー
ドを使用するシステムと比べて、データスループットが
改善される。
いて走査するために使用されるコヒーレントなレーザビ
ームを生成するために、レーザーダイオードを使用する
ことは、走査技術分野で周知である。マルチプルビーム
を生成するために、マルチプルレーザーダイオードを使
用することも知られており、各々の個々のビームは映像
信号により独立に変調され、マルチプルビームは記録表
面上で変調されたビームとして走査される。これらのマ
ルチプルビーム用途のためには、密接して配置されたレ
ーザーダイオードのアレイを使用すると好都合であるこ
とが判っている。密接して配置されたダイオードによ
り、マルチプルビーム処理が可能となり、これにより、
連続波、単一ビームのガス、または、レーザーダイオー
ドを使用するシステムと比べて、データスループットが
改善される。
【０００３】典型的には、マルチプルビームシステムに
おけるレーザーダイオードは、個別的にアドレス可能で
ある。一般に、個々にアドレスを可能とするためには、
各々のダイオードが、ダイオードを駆動すなわち変調す
る分離した電流源を有していることが必要である。動作
において、各々のドライバは、レーザー光の放射に誘起
するのに十分な電流をダイオードを通して流す。ドライ
バが出力する電流の量は、その特定の要素を駆動するデ
ジタル入力データにより部分的に決定される。異なった
レーザーダイオードは、所定の駆動電流に応じて異なっ
た出力パワー特性を有しているので、各々のレーザーダ
イオードからの出力パワーの量をモニタすることが望ま
しい。
おけるレーザーダイオードは、個別的にアドレス可能で
ある。一般に、個々にアドレスを可能とするためには、
各々のダイオードが、ダイオードを駆動すなわち変調す
る分離した電流源を有していることが必要である。動作
において、各々のドライバは、レーザー光の放射に誘起
するのに十分な電流をダイオードを通して流す。ドライ
バが出力する電流の量は、その特定の要素を駆動するデ
ジタル入力データにより部分的に決定される。異なった
レーザーダイオードは、所定の駆動電流に応じて異なっ
た出力パワー特性を有しているので、各々のレーザーダ
イオードからの出力パワーの量をモニタすることが望ま
しい。
【０００４】出力パワーのモニタに課せられた要求は、
第２のダイオードの光出力から独立して、第１のダイオ
ードからの光出力が検出されなければならないことであ
る。二重ビームレーザーダイオードの出力パワーをモニ
タし、制御するための一つの先行技術の方法は、図１に
示されるように、各々のレーザーダイオードの背面ファ
セットから放出された放射を検出することである。
第２のダイオードの光出力から独立して、第１のダイオ
ードからの光出力が検出されなければならないことであ
る。二重ビームレーザーダイオードの出力パワーをモニ
タし、制御するための一つの先行技術の方法は、図１に
示されるように、各々のレーザーダイオードの背面ファ
セットから放出された放射を検出することである。
【０００５】図１は、ダイオード出力を制御するために
背面ファセット検出フィードバックを利用する先行技術
のＲＯＳシステムの側面概略図を示す。入力映像データ
は、コヒーレントな光の変調された分散ビームを出力す
る低電力固体レーザーダイオードのような自己変調型光
源１２に伝達される。ダイオードは、ＥＳＳ１７に入力
されて処理された画像信号に従って駆動される。ビーム
は、球面のコリメートレンズ１４によりコリメートさ
れ、次に、シリンドリカルレンズ１５に入射し、このシ
リンドリカルレンズ１５は、少なくとも一つの鏡面ファ
セット２１を有している回転ポリゴン２０上に主走査方
向にライン画像へ光を集束させる。鏡面ファセットの回
転によりビームが偏向され、これにより、感光体ドラム
２４として示される感光性の画像部材を横切って偏向さ
れる。走査後光学系２２は、ファセット２１により反射
されたビームを、円形或いは楕円の断面へ再構成し、ビ
ームをドラム２４の表面上の適切な点へ再集束させ、そ
して、走査非直線性（ｆ−シータ補正）の補正を行う。
１倍（または、他の作用倍率）のトロイダルレンズ２８
或いはシリンドリカルミラー（図示せず）は、ぐらつき
（スキャナ運動或いはファセット誤差）に関して補正す
るために、走査デバイス２０と感光体２４との間の適当
なところに配置される。
背面ファセット検出フィードバックを利用する先行技術
のＲＯＳシステムの側面概略図を示す。入力映像データ
は、コヒーレントな光の変調された分散ビームを出力す
る低電力固体レーザーダイオードのような自己変調型光
源１２に伝達される。ダイオードは、ＥＳＳ１７に入力
されて処理された画像信号に従って駆動される。ビーム
は、球面のコリメートレンズ１４によりコリメートさ
れ、次に、シリンドリカルレンズ１５に入射し、このシ
リンドリカルレンズ１５は、少なくとも一つの鏡面ファ
セット２１を有している回転ポリゴン２０上に主走査方
向にライン画像へ光を集束させる。鏡面ファセットの回
転によりビームが偏向され、これにより、感光体ドラム
２４として示される感光性の画像部材を横切って偏向さ
れる。走査後光学系２２は、ファセット２１により反射
されたビームを、円形或いは楕円の断面へ再構成し、ビ
ームをドラム２４の表面上の適切な点へ再集束させ、そ
して、走査非直線性（ｆ−シータ補正）の補正を行う。
１倍（または、他の作用倍率）のトロイダルレンズ２８
或いはシリンドリカルミラー（図示せず）は、ぐらつき
（スキャナ運動或いはファセット誤差）に関して補正す
るために、走査デバイス２０と感光体２４との間の適当
なところに配置される。
【０００６】レーザーダイオード１２は、正面と背面フ
ァセットを有している。レーザー光の大部分が正面ファ
セットから出る一方、幾分かの放射は、ダイオードの背
面ファセットから放出される。この放射は、フィードバ
ック回路４４に送られる出力信号を生成するフォトダイ
オード３２により検出される。この信号は、レーザーダ
イオードの所望のパワー出力と対応する所定の電圧レベ
ルと比較される。もし補正が必要とされれば、信号は、
エミッタパワー出力を増加或いは減少するために、レー
ザーダイオード駆動回路に送られる。
ァセットを有している。レーザー光の大部分が正面ファ
セットから出る一方、幾分かの放射は、ダイオードの背
面ファセットから放出される。この放射は、フィードバ
ック回路４４に送られる出力信号を生成するフォトダイ
オード３２により検出される。この信号は、レーザーダ
イオードの所望のパワー出力と対応する所定の電圧レベ
ルと比較される。もし補正が必要とされれば、信号は、
エミッタパワー出力を増加或いは減少するために、レー
ザーダイオード駆動回路に送られる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】この先行技術のシステ
ムにおいては、いくつかの問題がある。一つは、検出及
びフィードバックシステムの応答時間が遅いので、走査
ラインに沿った露光変動を除去するために必要なリアル
タイムの画素毎の制御が、高速印刷速度では不可能であ
ることである。リアルタイム制御の問題に加えて、単一
のフォトダイオードで、他方のレーザーダイオードが変
調されている間に、レーザーダイオードの一方からの出
力をモニタしなければならないという制限がある。
ムにおいては、いくつかの問題がある。一つは、検出及
びフィードバックシステムの応答時間が遅いので、走査
ラインに沿った露光変動を除去するために必要なリアル
タイムの画素毎の制御が、高速印刷速度では不可能であ
ることである。リアルタイム制御の問題に加えて、単一
のフォトダイオードで、他方のレーザーダイオードが変
調されている間に、レーザーダイオードの一方からの出
力をモニタしなければならないという制限がある。
【０００８】背面ファセット検出パワー出力制御方法
は、満足な結果を提供するが、一つの欠点は、全体のレ
ーザーダイオード出力の小部分（約０．５％）のみを検
出しているので、フォトダイオードの非常に正確な較正
が必要であるということである。各々のレーザーダイオ
ードの出力ビーム経路内に、すなわち、レーザーダイオ
ードの前面ファセットから放出される光の経路内に配置
されたフォトダイオードを使用することにより、レーザ
ーダイオード出力パワーレベルを制御することが望まし
い。これを実施するためには、各々のフォトダイオード
を、同時にモニタされないようにレーザーダイオードか
ら分離するだけでなく、ポリゴン前光学系に配置された
光学構成部品からの迷走光からも分離することが必要と
なる。
は、満足な結果を提供するが、一つの欠点は、全体のレ
ーザーダイオード出力の小部分（約０．５％）のみを検
出しているので、フォトダイオードの非常に正確な較正
が必要であるということである。各々のレーザーダイオ
ードの出力ビーム経路内に、すなわち、レーザーダイオ
ードの前面ファセットから放出される光の経路内に配置
されたフォトダイオードを使用することにより、レーザ
ーダイオード出力パワーレベルを制御することが望まし
い。これを実施するためには、各々のフォトダイオード
を、同時にモニタされないようにレーザーダイオードか
ら分離するだけでなく、ポリゴン前光学系に配置された
光学構成部品からの迷走光からも分離することが必要と
なる。
【０００９】このように、マルチプルレーザーダイオー
ド構成において、個々のエミッタから放出される光の量
が、対応するフォトダイオードにより検出されるような
出力パワー検出システムを構築するという必要性があ
る。
ド構成において、個々のエミッタから放出される光の量
が、対応するフォトダイオードにより検出されるような
出力パワー検出システムを構築するという必要性があ
る。
【００１０】したがって、本発明の第１の目的は、レー
ザーダイオードの個々のエミッタからの出力パワーの量
を、連続的に比較的高速応答時間で個別的にモニタする
ことができるようなモニタリングシステムを提供するこ
とである。
ザーダイオードの個々のエミッタからの出力パワーの量
を、連続的に比較的高速応答時間で個別的にモニタする
ことができるようなモニタリングシステムを提供するこ
とである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この目的及び他の目的
は、モニタされるレーザーダイオードの前端部すなわち
放出端部に比較的近接して二つの小さなフォトダイオー
ドを配置することにより実現される。光学要素は、フォ
トダイオードへ向かうレーザーダイオード出力放射の一
部を反射して戻すように、ポリゴン前光学系に配置され
る。一つの実施態様においては、フォトダイオードは、
レーザーダイオードヒートシンクアセンブリの上に取り
付けられ、光は、傾斜ビームスプリッタにより反射して
フォトダイオードの上に戻される。
は、モニタされるレーザーダイオードの前端部すなわち
放出端部に比較的近接して二つの小さなフォトダイオー
ドを配置することにより実現される。光学要素は、フォ
トダイオードへ向かうレーザーダイオード出力放射の一
部を反射して戻すように、ポリゴン前光学系に配置され
る。一つの実施態様においては、フォトダイオードは、
レーザーダイオードヒートシンクアセンブリの上に取り
付けられ、光は、傾斜ビームスプリッタにより反射して
フォトダイオードの上に戻される。
【００１２】別の実施態様においては、フォトダイオー
ドは、コリメータレンズに隣接して配置され、光は、傾
斜した湾曲開口板により反射してフォトダイオードに戻
される。特に本発明は、少なくとも一つのレーザーダイ
オードからの変調されたレーザービームにより画像面を
走査するための走査光学系であって、レーザーダイオー
ドが所定のパワーレベルにおいて変調された出力ビーム
を提供し、出力ビームがコリメータレンズによりコリメ
ートされビーム整形光学系を通ってビーム走査装置によ
り結像面で走査され、走査光学系が更にレーザーダイオ
ードパワーレベルをモニタして調整するためのモニタ手
段を含んでおり、前記モニタが、フォトダイオードへ向
かうコリメートされた光の一部を反射して戻すように、
コリメータレンズとビーム走査装置との間に配置された
光学的反射要素と、前記光学的反射要素から反射された
前記光の少なくとも一部を遮って、検出された光の量に
関連した出力信号を生成するように配置された検出器手
段と、フォトダイオードの出力信号をモニタして、出力
を前記所定のパワーレベルに維持するようにレーザーダ
イオード出力を調整するフィードバック回路手段とを含
む走査光学系に関する。
ドは、コリメータレンズに隣接して配置され、光は、傾
斜した湾曲開口板により反射してフォトダイオードに戻
される。特に本発明は、少なくとも一つのレーザーダイ
オードからの変調されたレーザービームにより画像面を
走査するための走査光学系であって、レーザーダイオー
ドが所定のパワーレベルにおいて変調された出力ビーム
を提供し、出力ビームがコリメータレンズによりコリメ
ートされビーム整形光学系を通ってビーム走査装置によ
り結像面で走査され、走査光学系が更にレーザーダイオ
ードパワーレベルをモニタして調整するためのモニタ手
段を含んでおり、前記モニタが、フォトダイオードへ向
かうコリメートされた光の一部を反射して戻すように、
コリメータレンズとビーム走査装置との間に配置された
光学的反射要素と、前記光学的反射要素から反射された
前記光の少なくとも一部を遮って、検出された光の量に
関連した出力信号を生成するように配置された検出器手
段と、フォトダイオードの出力信号をモニタして、出力
を前記所定のパワーレベルに維持するようにレーザーダ
イオード出力を調整するフィードバック回路手段とを含
む走査光学系に関する。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下の説明は、当業者が本発明を
実施し使用することができるように提示されており、ま
た、特定の用途及びその要求に従って提供されている。
好適な実施態様への様々な修正は、当業者にとって容易
であり、ここで規定された一般的な原理は、特許請求の
範囲で規定されたように、本発明の精神と範囲から外れ
ることなく、他の実施態様及び用途に適用することがで
きる。このように、本発明は、示された実施態様に制限
されることを意図するものではなく、ここに開示された
原理及び特徴と一致するもっとも広い範囲に合致すべき
である。
実施し使用することができるように提示されており、ま
た、特定の用途及びその要求に従って提供されている。
好適な実施態様への様々な修正は、当業者にとって容易
であり、ここで規定された一般的な原理は、特許請求の
範囲で規定されたように、本発明の精神と範囲から外れ
ることなく、他の実施態様及び用途に適用することがで
きる。このように、本発明は、示された実施態様に制限
されることを意図するものではなく、ここに開示された
原理及び特徴と一致するもっとも広い範囲に合致すべき
である。
【００１４】それぞれ側面図、平面図、及び正面図であ
る図２、図３、及び図４を参照すると、本発明の一つの
実施態様を示している。アレイ５０は、レーザーダイオ
ード５２，５４から成っている。アレイ５０は、たとえ
ば、米国特許第４，７９６，９６４号に開示された形式
のＲＯＳシステムにおいてビームを走査する目的で使用
されるビーム５６，５８を提供するために使用すること
ができる。図３で示されるように、二つのフォトダイオ
ード５２Ａ，５４Ａは、図２におけるページの面からず
れてヒートシンク６４の前面の上に取り付けられる。二
つのフォトダイオード５２Ａ，５４Ａは、好適な実施態
様においては、サイズと応答時間において、モトローラ
ＭＲＤ ５００検出器（０．０２５ｍｍ2）と同様であ
る。レーザーダイオード５２，５４からフォトダイオー
ド５２Ａ，５４Ａの中心へのライン迄の距離は、約１．
０ｍｍである。出力ビーム５６，５８は、コリメートレ
ンズ６６によりコリメートされる。レンズ６６と走査装
置６８との間には、部分反射ビームスプリッタミラー７
０が挿入されている。コリメートされたビームの一部を
反射して、レーザーダイオード５２，５４からの光をフ
ォトダイオード５２Ａ，５４Ａ上に再結像させるよう
に、レンズ６６を通して戻すために、ミラー７０は、約
５．７度の角度だけ傾斜されている。フォトダイオード
５２Ａと５４Ａは、ヒートシンク６４の前面から数ｍｍ
離れて配置される。このように、ビームスプリッタによ
り反射された光が、フォトダイオード上に再結像される
ときには、十分焦点がずれて双方のレーザーダイオード
からの光で双方のフォトダイオードを照らすことができ
る。
る図２、図３、及び図４を参照すると、本発明の一つの
実施態様を示している。アレイ５０は、レーザーダイオ
ード５２，５４から成っている。アレイ５０は、たとえ
ば、米国特許第４，７９６，９６４号に開示された形式
のＲＯＳシステムにおいてビームを走査する目的で使用
されるビーム５６，５８を提供するために使用すること
ができる。図３で示されるように、二つのフォトダイオ
ード５２Ａ，５４Ａは、図２におけるページの面からず
れてヒートシンク６４の前面の上に取り付けられる。二
つのフォトダイオード５２Ａ，５４Ａは、好適な実施態
様においては、サイズと応答時間において、モトローラ
ＭＲＤ ５００検出器（０．０２５ｍｍ2）と同様であ
る。レーザーダイオード５２，５４からフォトダイオー
ド５２Ａ，５４Ａの中心へのライン迄の距離は、約１．
０ｍｍである。出力ビーム５６，５８は、コリメートレ
ンズ６６によりコリメートされる。レンズ６６と走査装
置６８との間には、部分反射ビームスプリッタミラー７
０が挿入されている。コリメートされたビームの一部を
反射して、レーザーダイオード５２，５４からの光をフ
ォトダイオード５２Ａ，５４Ａ上に再結像させるよう
に、レンズ６６を通して戻すために、ミラー７０は、約
５．７度の角度だけ傾斜されている。フォトダイオード
５２Ａと５４Ａは、ヒートシンク６４の前面から数ｍｍ
離れて配置される。このように、ビームスプリッタによ
り反射された光が、フォトダイオード上に再結像される
ときには、十分焦点がずれて双方のレーザーダイオード
からの光で双方のフォトダイオードを照らすことができ
る。
【００１５】この実施態様では、レーザーダイオード５
２の出力は垂直に偏光され、ダイオード５４の出力は水
平に偏光される。偏光子は、各々のフォトダイオードの
上に置かれる。フォトダイオード５２Ａの上の偏光子５
２Ｂは、レーザーダイオード５２から放出されるビーム
の偏光の方向と平行する、すなわち、垂直の伝達軸を有
する。フォトダイオード５４Ａの上の偏光子５４Ｂは、
レーザーダイオード５４から放出されるビームの偏光の
方向と平行する、すなわち、水平の伝達軸を有する。こ
の構成は、レーザーダイオード５２からの出力ビームが
フォトダイオード５２Ａに到着することを防止し、レー
ザーダイオード５４からの出力ビームがフォトダイオー
ド５４Ａに到着するのを防止する。この構成は、ビーム
を垂直或いは水平に偏光できるモノリシック二重レーザ
ーダイオードとともに使用することができ、また、直交
して偏光された複合二重ダイオード対とともに使用する
こともできる。ビームスプリッタ７０により反射されな
ければならない光の小部分は、別の集束レンズの必要な
しに、フォトダイオード５２Ａ，５４Ａからの十分な信
号を提供するために選択される。
２の出力は垂直に偏光され、ダイオード５４の出力は水
平に偏光される。偏光子は、各々のフォトダイオードの
上に置かれる。フォトダイオード５２Ａの上の偏光子５
２Ｂは、レーザーダイオード５２から放出されるビーム
の偏光の方向と平行する、すなわち、垂直の伝達軸を有
する。フォトダイオード５４Ａの上の偏光子５４Ｂは、
レーザーダイオード５４から放出されるビームの偏光の
方向と平行する、すなわち、水平の伝達軸を有する。こ
の構成は、レーザーダイオード５２からの出力ビームが
フォトダイオード５２Ａに到着することを防止し、レー
ザーダイオード５４からの出力ビームがフォトダイオー
ド５４Ａに到着するのを防止する。この構成は、ビーム
を垂直或いは水平に偏光できるモノリシック二重レーザ
ーダイオードとともに使用することができ、また、直交
して偏光された複合二重ダイオード対とともに使用する
こともできる。ビームスプリッタ７０により反射されな
ければならない光の小部分は、別の集束レンズの必要な
しに、フォトダイオード５２Ａ，５４Ａからの十分な信
号を提供するために選択される。
【００１６】各々のフォトダイオード５２Ａ，５４Ａ
は、陰極で正電圧（＋Ｖｃｃ）に逆バイアスされ、フィ
ードバック回路７２は、レーザーダイオードのパッケー
ジ構造の中へ構築することができる。
は、陰極で正電圧（＋Ｖｃｃ）に逆バイアスされ、フィ
ードバック回路７２は、レーザーダイオードのパッケー
ジ構造の中へ構築することができる。
【００１７】この構成は、各々のレーザーダイオードか
ら放出された光のかなりの部分を集める。各々のフォト
ダイオードの最大感度は、このように実現される。各々
のレーザーダイオード出力が別々のフォトダイオードに
より検出されるので、各々のレーザーダイオードの出力
を他のものから独立して検出することができる。
ら放出された光のかなりの部分を集める。各々のフォト
ダイオードの最大感度は、このように実現される。各々
のレーザーダイオード出力が別々のフォトダイオードに
より検出されるので、各々のレーザーダイオードの出力
を他のものから独立して検出することができる。
【００１８】このように、各々のフォトダイオード５２
Ａ，５４Ａは、ダイオード５２，５４のパワー出力に比
例する出力信号をそれぞれ生成する。直交して方向付け
られている偏光子は、どのような迷走光も検出されるの
を防止する。
Ａ，５４Ａは、ダイオード５２，５４のパワー出力に比
例する出力信号をそれぞれ生成する。直交して方向付け
られている偏光子は、どのような迷走光も検出されるの
を防止する。
【００１９】図２から図４で示された実施態様において
は、フォトダイオードとレーザーダイオードとの間の厳
密な位置決めに関する要求は、ビームスプリッタ７０か
らの反射光をダイオードに一杯に照射させることによ
り、緩和することができる。コリメータレンズ６６は、
戻りビームを伝達して集束するのに十分大きな直径とフ
ィールド角度となるように設計される。フォトダイオー
ドの上の光の集束は、完全であるべきである。実際に
は、フォトダイオードの上の光配分は、ダイオードを一
杯に照射するため、及び、精密な位置合わせの必要を避
けるために、かなり焦点をずらすべきである。一杯に照
射して、焦点をずらした条件においても、ビームスプリ
ッタ７０により反射された光の大部分は、フォトダイオ
ードを照射する。このように、フォトダイオードの放射
照度レベルは、フォトダイオードが、レーザーダイオー
ドの前面のファセットを振り返る光学開口に隣接して配
置されている場合に比べて一層高くなり、こうして、十
分な信号が各々のフォトダイオードから得られるように
なる。
は、フォトダイオードとレーザーダイオードとの間の厳
密な位置決めに関する要求は、ビームスプリッタ７０か
らの反射光をダイオードに一杯に照射させることによ
り、緩和することができる。コリメータレンズ６６は、
戻りビームを伝達して集束するのに十分大きな直径とフ
ィールド角度となるように設計される。フォトダイオー
ドの上の光の集束は、完全であるべきである。実際に
は、フォトダイオードの上の光配分は、ダイオードを一
杯に照射するため、及び、精密な位置合わせの必要を避
けるために、かなり焦点をずらすべきである。一杯に照
射して、焦点をずらした条件においても、ビームスプリ
ッタ７０により反射された光の大部分は、フォトダイオ
ードを照射する。このように、フォトダイオードの放射
照度レベルは、フォトダイオードが、レーザーダイオー
ドの前面のファセットを振り返る光学開口に隣接して配
置されている場合に比べて一層高くなり、こうして、十
分な信号が各々のフォトダイオードから得られるように
なる。
【００２０】別案として、図５で示されるように、ビー
ムスプリッタは、開口板８０と置き換えられる。板８０
は、本質的には、開口として機能する透明なウィンドウ
を備えたミラーである。板８０は、光学軸に対してわず
かな角度をもって取り付けられ、光学系開口を通らない
光をわずかな角度をもって反射して、コリメータレンズ
に戻す。板８０の反射側は、平坦な表面或いは凸状の球
面の曲面のいずれか一方を有することができる。もし、
板８０の反射側が平坦ならば、開口板からの戻りビーム
が、両方のフォトダイオードを、両方のレーザーから放
出される光で一杯に照射することを確実にするために、
フォトダイオードは、図５においてレーザーダイオード
放出開口の左側に十分離れて配置されなければならな
い。もし、板８０の反射側が球面の曲面を有していれ
ば、両方のフォトダイオードが両方のレーザーから放出
される光で一杯に照射されることを確実にするために、
この表面の曲面の半径は、フォトダイオードにおいて焦
点がずれるように設計される。コリメータレンズは、光
をフォトダイオードの上に集束することになる。コリメ
ータレンズは、戻りビームを伝達して集束するのに十分
大きな直径となるように設計される。
ムスプリッタは、開口板８０と置き換えられる。板８０
は、本質的には、開口として機能する透明なウィンドウ
を備えたミラーである。板８０は、光学軸に対してわず
かな角度をもって取り付けられ、光学系開口を通らない
光をわずかな角度をもって反射して、コリメータレンズ
に戻す。板８０の反射側は、平坦な表面或いは凸状の球
面の曲面のいずれか一方を有することができる。もし、
板８０の反射側が平坦ならば、開口板からの戻りビーム
が、両方のフォトダイオードを、両方のレーザーから放
出される光で一杯に照射することを確実にするために、
フォトダイオードは、図５においてレーザーダイオード
放出開口の左側に十分離れて配置されなければならな
い。もし、板８０の反射側が球面の曲面を有していれ
ば、両方のフォトダイオードが両方のレーザーから放出
される光で一杯に照射されることを確実にするために、
この表面の曲面の半径は、フォトダイオードにおいて焦
点がずれるように設計される。コリメータレンズは、光
をフォトダイオードの上に集束することになる。コリメ
ータレンズは、戻りビームを伝達して集束するのに十分
大きな直径となるように設計される。
【００２１】レーザーダイオード５４が図６及び図７に
おいてページの面から外れて配置されている、図２〜図
４の実施態様の他の変形例においては、レーザーダイオ
ード５２，５４の出力は、両方とも図６におけるページ
の面に平行に偏光される。各々のフォトダイオード５２
Ａ，５４Ａのビームを分離して検出するために、以下の
変更が行われる。図６及び図７を参照すると、半波長板
７２は、レーザーダイオード５２の出力表面に非常に近
接して配置され、その主平面は、レーザーダイオードの
偏光の方向に対して４５°に傾斜される。この半波長板
は、レーザーダイオード５４により放出されたビームを
遮らないように、レーザーダイオード５２に非常に近接
して配置されなければならない。表面の半分の液晶半波
長コーティングを有する透明基板を使用することができ
た。偏光子は、各々のフォトダイオード５２Ａ，５４Ａ
の上に配置される。フォトダイオード５２Ａの上の偏光
子５２Ｂは、ページの面と直交する伝達軸を有する。フ
ォトダイオード５４Ａの上の偏光子５４Ｂは、ページの
面と平行する垂直な伝達軸を有する。周知のように、レ
ーザーダイオード５２により放出されたビームの偏光の
方向は、半波長板により９０°回転され、このようにし
て、ページの面と直交させ、また、偏光子５２Ｂの伝達
軸と平行する。この構成は、レーザーダイオード５２か
らのビームがフォトダイオード５４Ａに到着することを
防止し、レーザーダイオード５４からのビームがフォト
ダイオード５２Ａに到着するのを防止する。次いで、フ
ォトダイオード５２Ａ，５４Ａからの出力は、それぞれ
レーザーダイオード５２，５４の出力レベルを制御する
ために、フィードバック回路７２に送り戻される。この
配置は、図示されるように、モノリシック二重ダイオー
ドで動作するが、複合二重ダイオード対でも動作する。
それは、ページの面と直交して両方が偏光されたレーザ
ーダイオード対でも動作する。
おいてページの面から外れて配置されている、図２〜図
４の実施態様の他の変形例においては、レーザーダイオ
ード５２，５４の出力は、両方とも図６におけるページ
の面に平行に偏光される。各々のフォトダイオード５２
Ａ，５４Ａのビームを分離して検出するために、以下の
変更が行われる。図６及び図７を参照すると、半波長板
７２は、レーザーダイオード５２の出力表面に非常に近
接して配置され、その主平面は、レーザーダイオードの
偏光の方向に対して４５°に傾斜される。この半波長板
は、レーザーダイオード５４により放出されたビームを
遮らないように、レーザーダイオード５２に非常に近接
して配置されなければならない。表面の半分の液晶半波
長コーティングを有する透明基板を使用することができ
た。偏光子は、各々のフォトダイオード５２Ａ，５４Ａ
の上に配置される。フォトダイオード５２Ａの上の偏光
子５２Ｂは、ページの面と直交する伝達軸を有する。フ
ォトダイオード５４Ａの上の偏光子５４Ｂは、ページの
面と平行する垂直な伝達軸を有する。周知のように、レ
ーザーダイオード５２により放出されたビームの偏光の
方向は、半波長板により９０°回転され、このようにし
て、ページの面と直交させ、また、偏光子５２Ｂの伝達
軸と平行する。この構成は、レーザーダイオード５２か
らのビームがフォトダイオード５４Ａに到着することを
防止し、レーザーダイオード５４からのビームがフォト
ダイオード５２Ａに到着するのを防止する。次いで、フ
ォトダイオード５２Ａ，５４Ａからの出力は、それぞれ
レーザーダイオード５２，５４の出力レベルを制御する
ために、フィードバック回路７２に送り戻される。この
配置は、図示されるように、モノリシック二重ダイオー
ドで動作するが、複合二重ダイオード対でも動作する。
それは、ページの面と直交して両方が偏光されたレーザ
ーダイオード対でも動作する。
【００２２】図８及び図９は、二重ビームレーザーダイ
オード出力パワーモニタ構造の他の実施態様を示す。こ
の実施態様については、二つの検出フォトダイオード
が、レーザーダイオードに近い平面内のレーザーダイオ
ードに隣接した位置から物理的に取り除かれ、コリメー
タレンズに隣接した位置に移動された。ビームスプリッ
タ７０の代わりに、湾曲した開口板９０が、フォトダイ
オードへ向かって放出された光の一部を反射し、集束す
るために使用される。
オード出力パワーモニタ構造の他の実施態様を示す。こ
の実施態様については、二つの検出フォトダイオード
が、レーザーダイオードに近い平面内のレーザーダイオ
ードに隣接した位置から物理的に取り除かれ、コリメー
タレンズに隣接した位置に移動された。ビームスプリッ
タ７０の代わりに、湾曲した開口板９０が、フォトダイ
オードへ向かって放出された光の一部を反射し、集束す
るために使用される。
【００２３】平面図である図８、及び、前端図である図
９を参照すると、二つのフォトダイオード５２Ａ，５４
Ａは、レーザーダイオードアレイ５０から分離されたア
センブリ７８上で組み立てられる。アセンブリ７８のた
めの好適な位置は、コリメータレンズ６６に隣接してい
る。開口板９０は、開口として機能する透明な切欠を備
え、コリメータレンズに面するミラー表面の残りが高反
射被覆で覆われた湾曲した金属製のミラーである。板９
０は、光学軸に対してわずかな角度をもって取り付けら
れ、開口を通らない光をフォトダイオードへ向かって反
射することになる。レーザーダイオード出力偏光は、図
２〜図４の実施態様と同様であり、たとえば、レーザー
ダイオード５２はページの面に平行に偏光され、レーザ
ーダイオード５４の出力は、ページの面に直交して偏光
される。このように、フォトダイオード５２Ａ，５４
Ａ、及び、関連する偏光子５２Ｂ，５４Ｂは、モニタさ
れる関連するレーザーダイオードのみからの光を伝達す
るために、図３で示されるように形成した。
９を参照すると、二つのフォトダイオード５２Ａ，５４
Ａは、レーザーダイオードアレイ５０から分離されたア
センブリ７８上で組み立てられる。アセンブリ７８のた
めの好適な位置は、コリメータレンズ６６に隣接してい
る。開口板９０は、開口として機能する透明な切欠を備
え、コリメータレンズに面するミラー表面の残りが高反
射被覆で覆われた湾曲した金属製のミラーである。板９
０は、光学軸に対してわずかな角度をもって取り付けら
れ、開口を通らない光をフォトダイオードへ向かって反
射することになる。レーザーダイオード出力偏光は、図
２〜図４の実施態様と同様であり、たとえば、レーザー
ダイオード５２はページの面に平行に偏光され、レーザ
ーダイオード５４の出力は、ページの面に直交して偏光
される。このように、フォトダイオード５２Ａ，５４
Ａ、及び、関連する偏光子５２Ｂ，５４Ｂは、モニタさ
れる関連するレーザーダイオードのみからの光を伝達す
るために、図３で示されるように形成した。
【００２４】この点まで発明を要約すると、二重レーザ
ーダイオードアレイの出力パワーをモニタし、調整する
ための方法のいくつかの実施態様が述べられた。各々の
実施態様は、光学路中の反射要素を利用して、光を光源
に向かって反射して戻し、レーザーダイオードアレイを
支持するヒートシンク、或いは、他の実施態様において
は、コリメータレンズに隣接して配置されたフォトダイ
オードのいずれかに取り付けられた一対のフォトダイオ
ードに衝突させる。図２〜図４に示された実施態様にお
いては、傾斜ビームスプリッタは、光学的な反射要素で
ある。モニタされる各々のレーザーダイオードからの光
の分離は、フォトダイオードへ適切な偏光コーティング
を施すことにより達成される。次いで、フォトダイオー
ドは、適切なレーザーダイオードに対して適切な出力調
整信号を出力するフィードバック回路を通って送られ
る。フォトダイオードに衝突する光は、フォトダイオー
ドを一杯に照射する。
ーダイオードアレイの出力パワーをモニタし、調整する
ための方法のいくつかの実施態様が述べられた。各々の
実施態様は、光学路中の反射要素を利用して、光を光源
に向かって反射して戻し、レーザーダイオードアレイを
支持するヒートシンク、或いは、他の実施態様において
は、コリメータレンズに隣接して配置されたフォトダイ
オードのいずれかに取り付けられた一対のフォトダイオ
ードに衝突させる。図２〜図４に示された実施態様にお
いては、傾斜ビームスプリッタは、光学的な反射要素で
ある。モニタされる各々のレーザーダイオードからの光
の分離は、フォトダイオードへ適切な偏光コーティング
を施すことにより達成される。次いで、フォトダイオー
ドは、適切なレーザーダイオードに対して適切な出力調
整信号を出力するフィードバック回路を通って送られ
る。フォトダイオードに衝突する光は、フォトダイオー
ドを一杯に照射する。
【００２５】図５で示されるように、反射する要素は、
傾斜開口板とすることができる。図６及び図７は、半波
長板が、レーザーダイオード出力ビームの一つの偏光を
変更するために使用される別の実施態様を示す。図８及
び図９は、フォトダイオードが、逆向きに光を反射して
いる要素へ物理的に近接して移動された実施態様を示
す。
傾斜開口板とすることができる。図６及び図７は、半波
長板が、レーザーダイオード出力ビームの一つの偏光を
変更するために使用される別の実施態様を示す。図８及
び図９は、フォトダイオードが、逆向きに光を反射して
いる要素へ物理的に近接して移動された実施態様を示
す。
【００２６】これらの実施態様の全ては、二重ビーム走
査システムにおいて、二つのレーザーダイオードの光出
力をモニタし、制御するための、改良された装置と方法
を目指すものである。本発明は、単一のダイオードがモ
ニタされるシステムにおいても使用することができる。
図１０は、単一ビームのエミッタではあるが、図１の形
式のシステムの状況で、単一のレーザーダイオードが図
１の走査装置のための走査ビームを提供するために使用
される走査システムの平面図を示す。この実施態様にお
いては、単一エミッタレーザーダイオード１００からの
光ビームはコリメータレンズ１０２によりコリメートさ
れる。コリメートされた光線は、傾斜ビームスプリッタ
１０４により光学路に沿って逆向きに部分的に反射さ
れ、ヒートシンク１０８に取り付けられたフォトダイオ
ード１０６に衝突する。フォトダイオード１０６は、図
２〜図４の実施態様についての好適な実施態様として使
用されたモトローラＭＲＤ５ＯＯ検出器に等価なものと
することができる。レーザーダイオードからフォトダイ
オード１０６の中心までの距離は、約１ｍｍである。ビ
ームスプリッタ１０４は、レーザーダイオードのコリメ
ートされた光の一部をフォトダイオードの上で再結像す
るために、約５．７°の角度に傾斜される。フィードバ
ック回路は、上記の参照された同じ回路７２とすること
ができる。この検出システムの変形は、ビームスプリッ
タを図５で示された開口板８０と置き換えることだろ
う。図１１で示された別の変形においては、湾曲した開
口板１１０により示されるように、フォトダイオード
を、コリメータレンズに隣接した位置に移動させて、コ
リメートされた光の一部を反射して戻すことができる。
この構成は、単一のレーザーダイオードと単一のフォト
ダイオードが使用される点を除いて、図８の実施態様と
同様である。
査システムにおいて、二つのレーザーダイオードの光出
力をモニタし、制御するための、改良された装置と方法
を目指すものである。本発明は、単一のダイオードがモ
ニタされるシステムにおいても使用することができる。
図１０は、単一ビームのエミッタではあるが、図１の形
式のシステムの状況で、単一のレーザーダイオードが図
１の走査装置のための走査ビームを提供するために使用
される走査システムの平面図を示す。この実施態様にお
いては、単一エミッタレーザーダイオード１００からの
光ビームはコリメータレンズ１０２によりコリメートさ
れる。コリメートされた光線は、傾斜ビームスプリッタ
１０４により光学路に沿って逆向きに部分的に反射さ
れ、ヒートシンク１０８に取り付けられたフォトダイオ
ード１０６に衝突する。フォトダイオード１０６は、図
２〜図４の実施態様についての好適な実施態様として使
用されたモトローラＭＲＤ５ＯＯ検出器に等価なものと
することができる。レーザーダイオードからフォトダイ
オード１０６の中心までの距離は、約１ｍｍである。ビ
ームスプリッタ１０４は、レーザーダイオードのコリメ
ートされた光の一部をフォトダイオードの上で再結像す
るために、約５．７°の角度に傾斜される。フィードバ
ック回路は、上記の参照された同じ回路７２とすること
ができる。この検出システムの変形は、ビームスプリッ
タを図５で示された開口板８０と置き換えることだろ
う。図１１で示された別の変形においては、湾曲した開
口板１１０により示されるように、フォトダイオード
を、コリメータレンズに隣接した位置に移動させて、コ
リメートされた光の一部を反射して戻すことができる。
この構成は、単一のレーザーダイオードと単一のフォト
ダイオードが使用される点を除いて、図８の実施態様と
同様である。
【００２７】ここに開示された実施態様は好適なもので
あるが、この教示から、様々な代替案、修正、変更、ま
たは、改良が、当業者によりなされることは理解される
べきであり、それは、特許請求の範囲に含まれることを
意図するものである。
あるが、この教示から、様々な代替案、修正、変更、ま
たは、改良が、当業者によりなされることは理解される
べきであり、それは、特許請求の範囲に含まれることを
意図するものである。
【図１】 二つのレーザーダイオードに対する背面ファ
セットパワーモニタリングを示す先行技術の二重ビーム
ＲＯＳ走査システムの側面透視図である。
セットパワーモニタリングを示す先行技術の二重ビーム
ＲＯＳ走査システムの側面透視図である。
【図２】 二つのフォトダイオードが、フォトダイオー
ドへ向かう光学路に沿って光を反射して戻すビームスプ
リッタと共に使用される本発明の第１の実施態様の側面
図を示す。
ドへ向かう光学路に沿って光を反射して戻すビームスプ
リッタと共に使用される本発明の第１の実施態様の側面
図を示す。
【図３】 図２の検出システムの一部の平面図である。
【図４】 レーザーダイオードとこれらに隣接した配置
されたフォトダイオードの位置を示す図３の前端図であ
る。
されたフォトダイオードの位置を示す図３の前端図であ
る。
【図５】 レーザーダイオードアレイに隣接した配置さ
れた二つのフォトダイオードへ向かって光を反射して戻
す、傾斜開口板を示す本発明の第２の実施態様の平面図
である。
れた二つのフォトダイオードへ向かって光を反射して戻
す、傾斜開口板を示す本発明の第２の実施態様の平面図
である。
【図６】 エミッタの一つの出力偏光が半波長板により
回転させられる本発明の第３の実施態様の平面図を示
す。
回転させられる本発明の第３の実施態様の平面図を示
す。
【図７】 図６の前端図である。
【図８】 光をコリメータレンズに隣接して配置された
フォトダイオードに反射して戻すために、開口板が光学
路に置かれた本発明の別の実施態様の平面図を示す。
フォトダイオードに反射して戻すために、開口板が光学
路に置かれた本発明の別の実施態様の平面図を示す。
【図９】 図８の前端図を示す。
【図１０】 単一のレーザーダイオードの出力が、傾斜
ビームスプリッタ部材により背面を反射されて戻された
光を検出する単一のフォトダイオードによりモニタされ
る本発明の別の実施態様の平面図を示す。
ビームスプリッタ部材により背面を反射されて戻された
光を検出する単一のフォトダイオードによりモニタされ
る本発明の別の実施態様の平面図を示す。
【図１１】 コリメータレンズに隣接して配置されたフ
ォトダイオードへ向かって光を反射して戻すための湾曲
した開口板を使用する図１０の別の実施態様である。
ォトダイオードへ向かって光を反射して戻すための湾曲
した開口板を使用する図１０の別の実施態様である。
１２…光源（レーザーダイオード）、１４…コリメート
レンズ、１５…シリンドリカルレンズ、１７…ＥＳＳ、
２０…回転ポリゴン、２１…鏡面ファセット、２２…走
査後光学系、２４…感光体ドラム、２８…トロイダルレ
ンズ、３２…フォトダイオード、４４…フィードバック
回路、５０…アレイ、５２，５４…レーザーダイオー
ド、５２Ａ，５４Ａ…フォトダイオード、５２Ｂ，５４
Ｂ…偏光子、５６，５８…ビーム、６４…ヒートシン
ク、６６…コリメートレンズ、６８…走査装置、７０…
ビームスプリッタミラー、７２…フィードバック回路、
７２…半波長板、７８…アセンブリ、８０…開口板、９
０…開口板、１００…単一エミッタレーザーダイオー
ド、１０２…コリメータレンズ、１０４…ビームスプリ
ッタ、１０６…フォトダイオード、１０８…ヒートシン
ク、１１０…開口板
レンズ、１５…シリンドリカルレンズ、１７…ＥＳＳ、
２０…回転ポリゴン、２１…鏡面ファセット、２２…走
査後光学系、２４…感光体ドラム、２８…トロイダルレ
ンズ、３２…フォトダイオード、４４…フィードバック
回路、５０…アレイ、５２，５４…レーザーダイオー
ド、５２Ａ，５４Ａ…フォトダイオード、５２Ｂ，５４
Ｂ…偏光子、５６，５８…ビーム、６４…ヒートシン
ク、６６…コリメートレンズ、６８…走査装置、７０…
ビームスプリッタミラー、７２…フィードバック回路、
７２…半波長板、７８…アセンブリ、８０…開口板、９
０…開口板、１００…単一エミッタレーザーダイオー
ド、１０２…コリメータレンズ、１０４…ビームスプリ
ッタ、１０６…フォトダイオード、１０８…ヒートシン
ク、１１０…開口板
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｓ 3/103 Ｇ０３Ｇ 15/04 １２０ // Ｇ０３Ｂ 27/72 (72)発明者 アーロン・ナックマン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14526 ペンフィールド バーニングツリーレー ン ５ (72)発明者 ロバート・エッチ・メリノ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14580 ウエブスター リシュエイニカレーン 816
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも一つのレーザーダイオードか
らの変調されたレーザービームにより画像面を走査する
ための走査光学系であって、レーザーダイオードが所定
のパワーレベルにおいて変調された出力ビームを提供
し、出力ビームがコリメータレンズによりコリメートさ
れビーム整形光学系を通ってビーム走査装置により結像
面で走査され、走査光学系が更にレーザーダイオードパ
ワーレベルをモニタして調整するためのモニタ手段を含
んでおり、前記モニタが、 フォトダイオードへ向かうコリメートされた光の一部を
反射して戻すように、コリメータレンズとビーム走査装
置との間に配置された光学的反射要素と、 前記光学的反射要素から反射された前記光の少なくとも
一部を遮って、検出された光の量に関連した出力信号を
生成するように配置された検出器手段と、 フォトダイオードの出力信号をモニタして、出力を前記
所定のパワーレベルに維持するようにレーザーダイオー
ド出力を調整するフィードバック回路手段とを含む走査
光学系。 - 【請求項２】 少なくとも一つのレーザーダイオードの
パワー出力レベルをモニタし、制御するための方法であ
って、 前記少なくとも一つのレーザーダイオードの光出力をコ
リメートするステップと、 反射性光学要素を前記コリメートする光出力の経路内に
配置するステップと、 検出された光を表す出力信号を生成するために前記反射
光の経路内に検出器を配置するステップと、 前記ダイオードのパワー出力における変化を決定するた
め前記検出器の出力をモニタするステップと、 所望の出力レベルを維持するためにレーザーダイオード
パワー出力を調整するステップとからなる方法。 - 【請求項３】 各々のダイオードが特有の光出力レベル
を有するレーザーダイオードのアレイにおいて、個々の
レーザーダイオードパワー出力をモニタする方法であっ
て、 レーザーダイオードと同じ平面に複数のフォトダイオー
ドを配置するステップと、 各々のレーザー出力と関連づけられたフォトダイオード
との間に偏光子を配置するステップであって、前記偏光
子が、前記偏光子の前記偏光と関連しない他のレーザー
ダイオードからの光が前記フォトダイオードにより感知
されるのを防止するステップと、 前記のレーザーダイオードへの所望の出力を維持するた
めに、フィードバック回路における出力をモニタするス
テップとからなる方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US492504 | 1983-05-06 | ||
| US08/492,504 US5659414A (en) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | Means for controlling the power output of laser diodes in a ROS system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH095660A true JPH095660A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=23956514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8154615A Pending JPH095660A (ja) | 1995-06-20 | 1996-06-14 | Ｒｏｓシステムにおいてレーザーダイオードのパワー出力を制御するための手段 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5659414A (ja) |
| JP (1) | JPH095660A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009223215A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| CN111193177A (zh) * | 2018-11-14 | 2020-05-22 | 方砾琳 | 一种激光回光噪声处理系统 |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IL118458A (en) * | 1995-05-30 | 2000-08-31 | Asahi Optical Co Ltd | Light intensity controlling device |
| US5710589A (en) * | 1996-01-11 | 1998-01-20 | Xerox Corporation | Laser diode beam intensity regulation method and apparatus |
| JPH09277591A (ja) * | 1996-04-16 | 1997-10-28 | Canon Inc | レーザ光量制御装置および画像形成装置 |
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