JPH095519A - 偏光板 - Google Patents
偏光板Info
- Publication number
- JPH095519A JPH095519A JP17565195A JP17565195A JPH095519A JP H095519 A JPH095519 A JP H095519A JP 17565195 A JP17565195 A JP 17565195A JP 17565195 A JP17565195 A JP 17565195A JP H095519 A JPH095519 A JP H095519A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polarizing plate
- fluorine compound
- transmittance
- orthogonal
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】耐熱、耐湿熱性に優れた偏光板を提供する。
【構成】偏光板の支持体層の外側に、一分子中に少なく
とも一個のイソシアネート基を有するフッ素化合物と、
該フッ素化合物と反応可能な化合物との反応皮膜層を有
し、６５℃、９５％ＲＨ、４００時間の耐湿熱性試験に
おける、下記式により求められる、直交透過率の変化率
が４０以下である偏光板。 直交透過率の変化率＝（Ｔh −Ｔ0 ）／Ｔ0 Ｔh ：ｈ時間経過後の直交透過率（２枚の偏光フィルム
の延伸方向が直交した場合の透過率） Ｔ0 ：初期の直交透過率
とも一個のイソシアネート基を有するフッ素化合物と、
該フッ素化合物と反応可能な化合物との反応皮膜層を有
し、６５℃、９５％ＲＨ、４００時間の耐湿熱性試験に
おける、下記式により求められる、直交透過率の変化率
が４０以下である偏光板。 直交透過率の変化率＝（Ｔh −Ｔ0 ）／Ｔ0 Ｔh ：ｈ時間経過後の直交透過率（２枚の偏光フィルム
の延伸方向が直交した場合の透過率） Ｔ0 ：初期の直交透過率
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は耐熱性、耐湿熱性および
光学特性に優れた偏光板に関する。
光学特性に優れた偏光板に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、偏光板としてはヨウ素や二色性色
素を吸着させたポリビニルアルコールの一軸延伸フィル
ムがよく用いられている。しかしながら、二色性物質と
してヨウ素化合物を用いた場合は高温、高湿の環境下で
は退色が起こり偏光性能が低下するという問題があっ
た。
素を吸着させたポリビニルアルコールの一軸延伸フィル
ムがよく用いられている。しかしながら、二色性物質と
してヨウ素化合物を用いた場合は高温、高湿の環境下で
は退色が起こり偏光性能が低下するという問題があっ
た。
【０００３】これに対して、耐久性を向上させるため
に、特開平１−１０５２０４号、特開平４−２０４８０
２号、特開平５−２４５８５７号公報等にみられるよう
な偏光素子に用いられるポリビニルアルコールフィルム
を改良する方法や、特開昭５６−４８６０１号、特開昭
６１−３６２０３号公報等にみられるような偏光素子に
金属イオンやヨウ素塩等を添加する方法や、特開平３−
１０３８０１号公報等にみられるような偏光素子をトリ
アセチルセルロース等の支持フィルムに挟持する際に用
いる接着剤中にハロゲンイオン等を添加する方法や、特
開昭５６−５０３０１号公報等にみられるような支持フ
ィルムを処理することで、接着力を強固にする方法や、
特開昭５７−３０８０８号、特開昭５９−１５１０９号
公報等にみられるような透湿性の低い保護膜や支持フィ
ルムを用いる方法や、偏光フィルムの表面に撥水性に優
れたフッ素系化合物からなるコート剤等を塗布する方法
等が提案されている。
に、特開平１−１０５２０４号、特開平４−２０４８０
２号、特開平５−２４５８５７号公報等にみられるよう
な偏光素子に用いられるポリビニルアルコールフィルム
を改良する方法や、特開昭５６−４８６０１号、特開昭
６１−３６２０３号公報等にみられるような偏光素子に
金属イオンやヨウ素塩等を添加する方法や、特開平３−
１０３８０１号公報等にみられるような偏光素子をトリ
アセチルセルロース等の支持フィルムに挟持する際に用
いる接着剤中にハロゲンイオン等を添加する方法や、特
開昭５６−５０３０１号公報等にみられるような支持フ
ィルムを処理することで、接着力を強固にする方法や、
特開昭５７−３０８０８号、特開昭５９−１５１０９号
公報等にみられるような透湿性の低い保護膜や支持フィ
ルムを用いる方法や、偏光フィルムの表面に撥水性に優
れたフッ素系化合物からなるコート剤等を塗布する方法
等が提案されている。
【０００４】
【発明の解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法を用いても充分な耐熱、耐湿熱性を維持すること
はできず、さらなる耐久性の向上が望まれている。ま
た、偏光フィルムの表面に撥水性に優れたコート剤等を
塗布する方法は、加工が容易で、しかも他の耐久性を向
上させる方法と組み合わせることでさらに耐久性を向上
させることができるため有用な方法であるが、コート剤
がフッ素系化合物であることが多く、このため密着性に
乏しく、容易に剥がれてしまうという問題があった。
の方法を用いても充分な耐熱、耐湿熱性を維持すること
はできず、さらなる耐久性の向上が望まれている。ま
た、偏光フィルムの表面に撥水性に優れたコート剤等を
塗布する方法は、加工が容易で、しかも他の耐久性を向
上させる方法と組み合わせることでさらに耐久性を向上
させることができるため有用な方法であるが、コート剤
がフッ素系化合物であることが多く、このため密着性に
乏しく、容易に剥がれてしまうという問題があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記問題点について鋭意
研究を重ねた結果、支持フィルムをコロナ放電処理、紫
外線−オゾン処理、プラズマ処理、あるいはプライマー
処理、およびこれらを組み合わせた複合的な処理によ
り、支持フィルム表面を活性化した後、一分子中に少な
くとも１個のイソシアネート基を有するフッ素化合物
と、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物
とを支持フィルム上で反応させることによって、イソシ
アネート基を有するフッ素化合物が、イソシアネート基
と反応する官能基を有する化合物だけでなく、支持フィ
ルムとも接触面で反応するため、生成したフッ素化合物
の皮膜は密着性に優れており、その結果、長期に亙って
偏光フィルムに耐湿熱性を付与するだけでなく、驚くべ
きことに耐熱性にも優れた効果を発揮することを新規に
見いだし、本発明に至った。即ち本発明は、密着性、耐
湿熱性および耐熱性に優れた、（１）偏光板の支持体層
の外側に、一分子中に少なくとも一個のイソシアネート
基を有するフッ素化合物と、該フッ素化合物と反応可能
な化合物との反応皮膜層を有し、６５℃、９５％ＲＨ、
４００時間の耐湿熱性試験における、下記式（１）によ
り求められる、直交透過率の変化率が４０以下である偏
光板、（２）偏光板の支持体層の外側に、一分子中に少
なくとも一個のイソシアネート基を有するフッ素化合物
と、該フッ素化合物と反応可能な化合物との反応皮膜層
を有し、１００℃、４００時間の乾燥耐熱試験におけ
る、下記式（１）により求められる、直交透過率の変化
率が４０以下である偏光板、（３）偏光板の支持体に表
面加工が施された（１）または（２）の偏光板、（４）
表面加工が、表面に微細な凸凹処理（ノングレア処
理）、プリズム加工、フレネル加工、エンボス加工、ハ
ードコート加工あるいは蒸着加工である（３）の偏光
板、（５）一分子中に少なくとも一個のイソシアネート
基を有するフッ素化合物と、該フッ素化合物と反応可能
な化合物とを、支持体表面が活性化された偏光板上に塗
布下後、反応させることを特徴とするフッ素化合物の皮
膜を有する偏光板の製造方法、に関する。
研究を重ねた結果、支持フィルムをコロナ放電処理、紫
外線−オゾン処理、プラズマ処理、あるいはプライマー
処理、およびこれらを組み合わせた複合的な処理によ
り、支持フィルム表面を活性化した後、一分子中に少な
くとも１個のイソシアネート基を有するフッ素化合物
と、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物
とを支持フィルム上で反応させることによって、イソシ
アネート基を有するフッ素化合物が、イソシアネート基
と反応する官能基を有する化合物だけでなく、支持フィ
ルムとも接触面で反応するため、生成したフッ素化合物
の皮膜は密着性に優れており、その結果、長期に亙って
偏光フィルムに耐湿熱性を付与するだけでなく、驚くべ
きことに耐熱性にも優れた効果を発揮することを新規に
見いだし、本発明に至った。即ち本発明は、密着性、耐
湿熱性および耐熱性に優れた、（１）偏光板の支持体層
の外側に、一分子中に少なくとも一個のイソシアネート
基を有するフッ素化合物と、該フッ素化合物と反応可能
な化合物との反応皮膜層を有し、６５℃、９５％ＲＨ、
４００時間の耐湿熱性試験における、下記式（１）によ
り求められる、直交透過率の変化率が４０以下である偏
光板、（２）偏光板の支持体層の外側に、一分子中に少
なくとも一個のイソシアネート基を有するフッ素化合物
と、該フッ素化合物と反応可能な化合物との反応皮膜層
を有し、１００℃、４００時間の乾燥耐熱試験におけ
る、下記式（１）により求められる、直交透過率の変化
率が４０以下である偏光板、（３）偏光板の支持体に表
面加工が施された（１）または（２）の偏光板、（４）
表面加工が、表面に微細な凸凹処理（ノングレア処
理）、プリズム加工、フレネル加工、エンボス加工、ハ
ードコート加工あるいは蒸着加工である（３）の偏光
板、（５）一分子中に少なくとも一個のイソシアネート
基を有するフッ素化合物と、該フッ素化合物と反応可能
な化合物とを、支持体表面が活性化された偏光板上に塗
布下後、反応させることを特徴とするフッ素化合物の皮
膜を有する偏光板の製造方法、に関する。
【０００６】上記のフッ素化合物の反応皮膜を形成する
ために用いられる、一分子中に少なくとも１個のイソシ
アネート基を有するフッ素化合物、およびそれと反応可
能な化合物は、基板が劣化、変色等を起こさない反応条
件で反応し、反応後に生成するフッ素化合物が皮膜を形
成するものであればいかなるものであっても良い。一分
子中に少なくとも１個のイソシアネート基を有するフッ
素化合物としては、平均分子量が１００以上の高分子、
好ましくは５００〜２００００程度の高分子が良く、例
えば、４フッ化エチレンと酸素を光化学反応により重合
させたパーフルオロポリエーテルに２個の芳香族イソシ
アネート基を導入したＦＯＭＢＬＩＮＺ ＤＩＳＯＣ
（アウジモント製）、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ Ｂ（フッ
素含有量５４％：アウジモント製）等が挙げられる。
ために用いられる、一分子中に少なくとも１個のイソシ
アネート基を有するフッ素化合物、およびそれと反応可
能な化合物は、基板が劣化、変色等を起こさない反応条
件で反応し、反応後に生成するフッ素化合物が皮膜を形
成するものであればいかなるものであっても良い。一分
子中に少なくとも１個のイソシアネート基を有するフッ
素化合物としては、平均分子量が１００以上の高分子、
好ましくは５００〜２００００程度の高分子が良く、例
えば、４フッ化エチレンと酸素を光化学反応により重合
させたパーフルオロポリエーテルに２個の芳香族イソシ
アネート基を導入したＦＯＭＢＬＩＮＺ ＤＩＳＯＣ
（アウジモント製）、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ Ｂ（フッ
素含有量５４％：アウジモント製）等が挙げられる。
【０００７】一分子中に少なくとも１個のイソシアネー
ト基を有するフッ素化合物と反応可能な化合物として
は、例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル
基等のイソシアネート基と反応する官能基を有する化合
物が好ましく、例えばメチルアミン、エチルアミン、ジ
メチルアミン、ジエチルアミン、メチルエチルアミン等
のアルキルアミン、エチレンジアミン等のアルキレンジ
アミン、メチルアミノエチルアミン等のアルキルアミノ
アルキルアミン、アニリン、エチルアニリン等の芳香族
アミン、水、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ール等の脂肪族アルコール類、フェノール、レゾルシノ
ール等のオキシ酸、フタル酸等の芳香族カルボン酸アミ
ノ酸等があげられる。さらに好ましくは上記イソシアネ
ート基を有するフッ素化合物との相溶性、反応性等か
ら、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等の官
能基を有するフッ素化合物が良い。そのような化合物と
しては、４フッ化エチレンと酸素を光化学反応により重
合させたパーフルオロポリエーテルに４個のヒドロキシ
ル基を導入したＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＴＥＴＲＡＯＬ
（アウジモント製）、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ Ｔ（平均
分子量２３００：フッ素含有量５８％：アウジモント
製）、２個のヒドロキシル基を導入したＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ ＤＯＬ（平均分子量２０００：アウジモント
製）、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ Ｅ（平均分子量２１０
０：アウジモント製）、２個のカルボキシル基を導入し
たＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ（平均分子量２００
０：アウジモント製）等が挙げられる。
ト基を有するフッ素化合物と反応可能な化合物として
は、例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル
基等のイソシアネート基と反応する官能基を有する化合
物が好ましく、例えばメチルアミン、エチルアミン、ジ
メチルアミン、ジエチルアミン、メチルエチルアミン等
のアルキルアミン、エチレンジアミン等のアルキレンジ
アミン、メチルアミノエチルアミン等のアルキルアミノ
アルキルアミン、アニリン、エチルアニリン等の芳香族
アミン、水、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ール等の脂肪族アルコール類、フェノール、レゾルシノ
ール等のオキシ酸、フタル酸等の芳香族カルボン酸アミ
ノ酸等があげられる。さらに好ましくは上記イソシアネ
ート基を有するフッ素化合物との相溶性、反応性等か
ら、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等の官
能基を有するフッ素化合物が良い。そのような化合物と
しては、４フッ化エチレンと酸素を光化学反応により重
合させたパーフルオロポリエーテルに４個のヒドロキシ
ル基を導入したＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＴＥＴＲＡＯＬ
（アウジモント製）、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ Ｔ（平均
分子量２３００：フッ素含有量５８％：アウジモント
製）、２個のヒドロキシル基を導入したＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ ＤＯＬ（平均分子量２０００：アウジモント
製）、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ Ｅ（平均分子量２１０
０：アウジモント製）、２個のカルボキシル基を導入し
たＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ（平均分子量２００
０：アウジモント製）等が挙げられる。
【０００８】本発明において、支持フィルム表面にフッ
素化合物の皮膜を形成するには、上記の化合物を単独、
あるいは混合物の状態で、例えばフロリナートＦＣ−７
５（３Ｍ製）、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベ
ンゼン等の溶剤を用いて適当な濃度（例えば、０．０１
〜２０％、好ましくは０．１〜１０％、より好ましくは
０．５〜５％）に希釈した後、基板上に形成されるフッ
素化合物の厚さが光学特性を低減しない厚さ（例えば、
０．０１〜５００μｍ、好ましくは０．１〜１００μ
ｍ、より好ましくは０．１〜１０μｍ）となるように塗
布し、その後溶剤を除去、さらに基板が劣化、変色等を
起こさない条件で加熱（例えば４０〜２００℃）、また
は湿熱処理（例えば３０〜１００℃、湿度３０〜９５％
ＲＨ）を行い、反応を完結させることにより得ることが
できる。また、イソシアネート化フッ素化合物もしくは
官能基を有する化合物の一方を塗布した後、他方を塗布
して反応させても良い。両者の使用割合は、皮膜を形成
するのであれば特に制限はないが、例えばイソシアネー
ト化フッ素化合物としてＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＳＯ
Ｃ、これと反応させる化合物としてＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ
ＴＥＴＲＡＯＬを使用した場合、ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ
ＴＥＴＲＡＯＬ１重量分に対して、ＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ ＤＩＳＯＣを１〜１００重量部、好ましくは２〜５
０重量部、さらに好ましくは４〜２０重量部とするのが
よい。また、反応速度を速めるために触媒を添加するこ
とも可能である。触媒としては有機金属化合物が好まし
く用いられ、より好ましくは例えば、ジラウリン酸ジ−
ｎ−ブチル錫（IV）等の有機錫化合物が用いられる。添
加する触媒の量は特に制限はなく、例えば、イソシアネ
ート化フッ素化合物としてＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＳ
ＯＣを８０重量部、官能基を有する化合物としてＦＯＭ
ＢＬＩＮ Ｚ ＴＥＴＲＡＯＬを２０重量部使用した場
合、触媒としてジラウリン酸ジ−ｎ−ブチル錫（IV）を
好ましくは０．００１〜１０重量部、より好ましくは
０．００５〜５重量部、さらに好ましくは０．０１〜１
重量部とするのがよい。
素化合物の皮膜を形成するには、上記の化合物を単独、
あるいは混合物の状態で、例えばフロリナートＦＣ−７
５（３Ｍ製）、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベ
ンゼン等の溶剤を用いて適当な濃度（例えば、０．０１
〜２０％、好ましくは０．１〜１０％、より好ましくは
０．５〜５％）に希釈した後、基板上に形成されるフッ
素化合物の厚さが光学特性を低減しない厚さ（例えば、
０．０１〜５００μｍ、好ましくは０．１〜１００μ
ｍ、より好ましくは０．１〜１０μｍ）となるように塗
布し、その後溶剤を除去、さらに基板が劣化、変色等を
起こさない条件で加熱（例えば４０〜２００℃）、また
は湿熱処理（例えば３０〜１００℃、湿度３０〜９５％
ＲＨ）を行い、反応を完結させることにより得ることが
できる。また、イソシアネート化フッ素化合物もしくは
官能基を有する化合物の一方を塗布した後、他方を塗布
して反応させても良い。両者の使用割合は、皮膜を形成
するのであれば特に制限はないが、例えばイソシアネー
ト化フッ素化合物としてＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＳＯ
Ｃ、これと反応させる化合物としてＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ
ＴＥＴＲＡＯＬを使用した場合、ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ
ＴＥＴＲＡＯＬ１重量分に対して、ＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ ＤＩＳＯＣを１〜１００重量部、好ましくは２〜５
０重量部、さらに好ましくは４〜２０重量部とするのが
よい。また、反応速度を速めるために触媒を添加するこ
とも可能である。触媒としては有機金属化合物が好まし
く用いられ、より好ましくは例えば、ジラウリン酸ジ−
ｎ−ブチル錫（IV）等の有機錫化合物が用いられる。添
加する触媒の量は特に制限はなく、例えば、イソシアネ
ート化フッ素化合物としてＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＳ
ＯＣを８０重量部、官能基を有する化合物としてＦＯＭ
ＢＬＩＮ Ｚ ＴＥＴＲＡＯＬを２０重量部使用した場
合、触媒としてジラウリン酸ジ−ｎ−ブチル錫（IV）を
好ましくは０．００１〜１０重量部、より好ましくは
０．００５〜５重量部、さらに好ましくは０．０１〜１
重量部とするのがよい。
【０００９】本発明において、支持フィルム表面に上記
化合物を塗布する方法には特に制限はないが、例えば、
ディップコート法、グラビアコート法、リップコート
法、スピンコート法、ロールコート法、スプレーコート
法等が挙げられる。しかしながら、生産性、及び偏光板
の光学特性を低下させない厚さに塗工する必要があるな
どの面から、リップコート法、あるいはディップコート
法が好ましい。
化合物を塗布する方法には特に制限はないが、例えば、
ディップコート法、グラビアコート法、リップコート
法、スピンコート法、ロールコート法、スプレーコート
法等が挙げられる。しかしながら、生産性、及び偏光板
の光学特性を低下させない厚さに塗工する必要があるな
どの面から、リップコート法、あるいはディップコート
法が好ましい。
【００１０】本発明において、支持体上に形成されるフ
ッ素化合物層の厚さは、偏光板の光学特性を低下させな
い厚さであれば特に制限はないが、好ましくは０．００
１〜１００μｍ、より好ましくは０．０１〜１μｍ、さ
らに好ましくは、０．０５〜０．５μｍが好ましい。
ッ素化合物層の厚さは、偏光板の光学特性を低下させな
い厚さであれば特に制限はないが、好ましくは０．００
１〜１００μｍ、より好ましくは０．０１〜１μｍ、さ
らに好ましくは、０．０５〜０．５μｍが好ましい。
【００１１】本発明において、偏光板の支持体としては
偏光板の光学特性を低下させないものであれば特に制限
はなく、例えばプラスチック板、プラスチックフィルム
等があげられるがプラスチックフィルムが好ましい。プ
ラスチックとしては、例えば、トリアセチルセルロース
等のセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン
等のポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート
等のポリエステル樹脂、ポリスチレン、ポリウレタン、
塩化ビニル、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹
脂、アクリレート系樹脂等が挙げられる。また、表面に
微細な凸凹処理（ノングレア処理）を施したものや、シ
リコーン系、アクリル系などのハードコート層が形成さ
れたもの（ハードコート加工）、さらにプリズム加工や
フレネルレンズ加工、エンボス加工、あるいは蒸着処理
等の各種加工が施されたプラスチックフィルムであって
もよい。支持体の厚さは、好ましくは１０〜１００μ
ｍ、さらに好ましくは３０〜９０μｍ程度がよい。
偏光板の光学特性を低下させないものであれば特に制限
はなく、例えばプラスチック板、プラスチックフィルム
等があげられるがプラスチックフィルムが好ましい。プ
ラスチックとしては、例えば、トリアセチルセルロース
等のセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン
等のポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート
等のポリエステル樹脂、ポリスチレン、ポリウレタン、
塩化ビニル、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹
脂、アクリレート系樹脂等が挙げられる。また、表面に
微細な凸凹処理（ノングレア処理）を施したものや、シ
リコーン系、アクリル系などのハードコート層が形成さ
れたもの（ハードコート加工）、さらにプリズム加工や
フレネルレンズ加工、エンボス加工、あるいは蒸着処理
等の各種加工が施されたプラスチックフィルムであって
もよい。支持体の厚さは、好ましくは１０〜１００μ
ｍ、さらに好ましくは３０〜９０μｍ程度がよい。
【００１２】本発明において、支持体表面と上記フッ素
化合物ポリマー皮膜層の密着性を発現させるために、支
持体表面を活性化する必要がある。この活性化は支持体
表面と上記フッ素化合物ポリマーとの相互作用を高める
ことで、例えば支持体表面を一分子中に少なくとも１個
のイソシアネート基を有するフッ素化合物と反応可能な
状態にできる方法であればいかなる方法であってもよ
い。そのような処理方法としては、好ましくはコロナ放
電処理、紫外線−オゾン処理、プラズマ処理、薬品処
理、あるいはプライマー処理、さらに好ましくはこれら
を組み合わせた複合的な処理等が挙げられる。コロナ放
電処理は、絶縁された電極と接地された誘電体ロールと
の間に高周波、高電圧を印加し、空気を絶縁破壊してイ
オン化し、コロナ放電を発生させ、表面を酸化する方法
である。コロナ放電による処理時間は、例えば１２５
Ｗ．ｍｉｎ．／ｍ2 の照射量に対して、好ましくは０．
０１〜１０秒、さらに好ましくは０．０５〜５秒程度が
良い。紫外線−オゾン処理は、紫外線照射でオゾンを発
生させ、このオゾンで表面を酸化させる方法である。薬
品処理は、例えば、ポリエチレンやポリプロピレンなど
のポリオレフィンの場合に、クロム酸等の酸化剤により
表面を酸化する方法である。プライマー処理は、表面に
密着性を向上させるような物質を塗布する方法で、用い
られる物質としては、例えば、Ｎ−β（アミノエチル）
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミ
ノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（メ
タクリロキシプロピル）トリメトキシシラン等の反応性
官能基を有するシランカップリング剤、イソプロピルト
リオクタノイルチタネート、テトラ（２，２−ジアリル
オキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシル）ホス
ファイトチタネート、ジクミルフェニルオキシアセテー
トチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート
等のチタネートカップリング剤、または、イソブチルメ
タクリレート、グリシジルメタクリレート、ポリプロピ
ルグリコールメタクリレート、グリセロールモノメタク
リレートのようなメタクリレート系モノマーを用いるこ
とができる。そしてこれらをアルコール等の溶剤を用い
て適当な濃度（例えば、０．０１〜２０％、好ましくは
０．１〜１０％、より好ましくは０．５〜５％）に希釈
した後、基板上に形成されるプライマー層の厚さが光学
特性を低下させない厚さとなるように塗布し、その後溶
剤を除去、さらに基板が劣化、変色等を起こさない条件
で加熱（例えば４０〜２００℃）、または湿熱処理（例
えば３０〜１００℃、湿度３０〜９５％ＲＨ）を行いプ
ライマー層を形成する。
化合物ポリマー皮膜層の密着性を発現させるために、支
持体表面を活性化する必要がある。この活性化は支持体
表面と上記フッ素化合物ポリマーとの相互作用を高める
ことで、例えば支持体表面を一分子中に少なくとも１個
のイソシアネート基を有するフッ素化合物と反応可能な
状態にできる方法であればいかなる方法であってもよ
い。そのような処理方法としては、好ましくはコロナ放
電処理、紫外線−オゾン処理、プラズマ処理、薬品処
理、あるいはプライマー処理、さらに好ましくはこれら
を組み合わせた複合的な処理等が挙げられる。コロナ放
電処理は、絶縁された電極と接地された誘電体ロールと
の間に高周波、高電圧を印加し、空気を絶縁破壊してイ
オン化し、コロナ放電を発生させ、表面を酸化する方法
である。コロナ放電による処理時間は、例えば１２５
Ｗ．ｍｉｎ．／ｍ2 の照射量に対して、好ましくは０．
０１〜１０秒、さらに好ましくは０．０５〜５秒程度が
良い。紫外線−オゾン処理は、紫外線照射でオゾンを発
生させ、このオゾンで表面を酸化させる方法である。薬
品処理は、例えば、ポリエチレンやポリプロピレンなど
のポリオレフィンの場合に、クロム酸等の酸化剤により
表面を酸化する方法である。プライマー処理は、表面に
密着性を向上させるような物質を塗布する方法で、用い
られる物質としては、例えば、Ｎ−β（アミノエチル）
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミ
ノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（メ
タクリロキシプロピル）トリメトキシシラン等の反応性
官能基を有するシランカップリング剤、イソプロピルト
リオクタノイルチタネート、テトラ（２，２−ジアリル
オキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシル）ホス
ファイトチタネート、ジクミルフェニルオキシアセテー
トチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート
等のチタネートカップリング剤、または、イソブチルメ
タクリレート、グリシジルメタクリレート、ポリプロピ
ルグリコールメタクリレート、グリセロールモノメタク
リレートのようなメタクリレート系モノマーを用いるこ
とができる。そしてこれらをアルコール等の溶剤を用い
て適当な濃度（例えば、０．０１〜２０％、好ましくは
０．１〜１０％、より好ましくは０．５〜５％）に希釈
した後、基板上に形成されるプライマー層の厚さが光学
特性を低下させない厚さとなるように塗布し、その後溶
剤を除去、さらに基板が劣化、変色等を起こさない条件
で加熱（例えば４０〜２００℃）、または湿熱処理（例
えば３０〜１００℃、湿度３０〜９５％ＲＨ）を行いプ
ライマー層を形成する。
【００１３】また本発明に用いられる偏光板は、例え
ば、ポリビニルアルコール等のフィルムを延伸処理した
後、ヨウ素、二色性染料で染色する方法、あるいはヨウ
素、二色性染料で染色後延伸処理する方法等により形成
された偏光素子の両面もしくは片面に支持体を、例えば
接着剤により積層したもの等が挙げられる。
ば、ポリビニルアルコール等のフィルムを延伸処理した
後、ヨウ素、二色性染料で染色する方法、あるいはヨウ
素、二色性染料で染色後延伸処理する方法等により形成
された偏光素子の両面もしくは片面に支持体を、例えば
接着剤により積層したもの等が挙げられる。
【００１４】また本発明に用いられる偏光板は、偏光素
子、接着剤、支持体等に種々の耐久性向上のための処理
を加えたものであってもよい。これらの処理を加えた偏
光板と本発明の手法を組み合わせることにより耐久性を
さらに向上させることができる。
子、接着剤、支持体等に種々の耐久性向上のための処理
を加えたものであってもよい。これらの処理を加えた偏
光板と本発明の手法を組み合わせることにより耐久性を
さらに向上させることができる。
【００１５】本発明の偏光板の用途として、液晶ディス
プレイ、例えば液晶テレビ、液晶プロジェクター、ワー
プロ用ディスプレイ、パソコン用ディスプレイ、ＯＡ機
器端末ディスプレイ、航空機や自動車のインパネ用ディ
スプレイ、ナビゲーション用ディスプレイのほかフィル
ター、サングラス、窓ガラス、各種ライトの防眩用、各
種センサー等に用いた場合、高温、高湿の条件下による
光学特性の変化を低減することができる。但し、これら
の用途例示が本発明を限定するものでないことは言うま
でもない。本発明の、フッ素化合物の皮膜を有する偏光
板（フィルム）は、例えば、ポリビニルアルコール等の
フィルムにヨウ素のような二色性色素を吸着させて配向
させた偏光子を挟持する際に用いるトリアセチルセルロ
ース等の支持フィルムの少なくとも一面において、該面
上をコロナ放電処理、紫外線−オゾン処理、プラズマ処
理、あるいはプライマー処理、およびこれらを組み合わ
せた複合的な処理により、支持体（フィルム）表面を一
分子中に少なくとも一個のイソシアネート基を有するフ
ッ素化合物と反応可能な状態にした後、該フッ素化合物
と反応可能な化合物とを支持フィルム上で反応させるこ
とによって得られる。
プレイ、例えば液晶テレビ、液晶プロジェクター、ワー
プロ用ディスプレイ、パソコン用ディスプレイ、ＯＡ機
器端末ディスプレイ、航空機や自動車のインパネ用ディ
スプレイ、ナビゲーション用ディスプレイのほかフィル
ター、サングラス、窓ガラス、各種ライトの防眩用、各
種センサー等に用いた場合、高温、高湿の条件下による
光学特性の変化を低減することができる。但し、これら
の用途例示が本発明を限定するものでないことは言うま
でもない。本発明の、フッ素化合物の皮膜を有する偏光
板（フィルム）は、例えば、ポリビニルアルコール等の
フィルムにヨウ素のような二色性色素を吸着させて配向
させた偏光子を挟持する際に用いるトリアセチルセルロ
ース等の支持フィルムの少なくとも一面において、該面
上をコロナ放電処理、紫外線−オゾン処理、プラズマ処
理、あるいはプライマー処理、およびこれらを組み合わ
せた複合的な処理により、支持体（フィルム）表面を一
分子中に少なくとも一個のイソシアネート基を有するフ
ッ素化合物と反応可能な状態にした後、該フッ素化合物
と反応可能な化合物とを支持フィルム上で反応させるこ
とによって得られる。
【００１６】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに具体的に説
明するが、これらの実施例が本発明を限定するものでな
いことは言うまでもない。
明するが、これらの実施例が本発明を限定するものでな
いことは言うまでもない。
【００１７】コート液の調製例 ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＳＯＣ（アウジモント製）
０．４ｇ、ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＴＥＴＲＡＯＬ（アウ
ジモント製）０．１ｇを１，４−ビス（トリフルオロメ
チル）ベンゼン２０ｇおよび、フロリナートＦＣ−７５
（住友３Ｍ製）６０ｇに溶解させた。 この溶液に０．
１％のジラウリン酸ジ−ｎ−ブチル錫（IV）のトリフル
オロトルエン溶液０．５ｇを加えた溶液Ａを調製した。
０．４ｇ、ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＴＥＴＲＡＯＬ（アウ
ジモント製）０．１ｇを１，４−ビス（トリフルオロメ
チル）ベンゼン２０ｇおよび、フロリナートＦＣ−７５
（住友３Ｍ製）６０ｇに溶解させた。 この溶液に０．
１％のジラウリン酸ジ−ｎ−ブチル錫（IV）のトリフル
オロトルエン溶液０．５ｇを加えた溶液Ａを調製した。
【００１８】実施例１ ヨウ素系偏光フィルム（ＳＫＮ−１８２４３Ｐ−ＨＣ：
ポラテクノ製）をコロナ処理した後、溶液Ａをディップ
コート法により塗布した後、１００℃で１時間加熱する
ことによって該フィルムの表面に反応生成物の薄膜を形
成し、本発明の偏光板を得た。得られた偏光板の単体透
過率は４４．６７％、偏光度は９９．７２％であった。
この偏光板を８０℃の雰囲気下に放置し放置時間と直交
透過率の変化の関係を測定した。放置時間と直交透過率
の変化率の関係を図１に示した。直交透過率の変化率は
下記式（１）により求めた値である。 直交透過率の変化率＝（Ｔh −Ｔ0 ）／Ｔ0 （１） Ｔh ：ｈ時間経過後の直交透過率（２枚の偏光フィルム
の延伸方向が直交した場合の透過率） Ｔ0 ：初期の直交透過率
ポラテクノ製）をコロナ処理した後、溶液Ａをディップ
コート法により塗布した後、１００℃で１時間加熱する
ことによって該フィルムの表面に反応生成物の薄膜を形
成し、本発明の偏光板を得た。得られた偏光板の単体透
過率は４４．６７％、偏光度は９９．７２％であった。
この偏光板を８０℃の雰囲気下に放置し放置時間と直交
透過率の変化の関係を測定した。放置時間と直交透過率
の変化率の関係を図１に示した。直交透過率の変化率は
下記式（１）により求めた値である。 直交透過率の変化率＝（Ｔh −Ｔ0 ）／Ｔ0 （１） Ｔh ：ｈ時間経過後の直交透過率（２枚の偏光フィルム
の延伸方向が直交した場合の透過率） Ｔ0 ：初期の直交透過率
【００１９】実施例２ 実施例１で得られた偏光板を１００℃の雰囲気下に放置
し、実施例１と同様に評価した。結果を図２に示した。
し、実施例１と同様に評価した。結果を図２に示した。
【００２０】実施例３ 実施例１で得られた偏光板を６０℃、９０％ＲＨの雰囲
気下に放置し、実施例１と同様に評価した。結果を図３
に示した。
気下に放置し、実施例１と同様に評価した。結果を図３
に示した。
【００２１】実施例４ 実施例１で得られた偏光板を６０℃、９５％ＲＨの雰囲
気下に放置し、実施例１と同様に評価した。結果を図４
に示した。
気下に放置し、実施例１と同様に評価した。結果を図４
に示した。
【００２２】比較例１ 実施例１で用いた偏光板（単体透過率；４３．０９％、
偏光度；９９．８７％）に溶液Ａを塗布せずに８０℃の
雰囲気下に放置し、同様の評価を行った。結果を図１に
示した。
偏光度；９９．８７％）に溶液Ａを塗布せずに８０℃の
雰囲気下に放置し、同様の評価を行った。結果を図１に
示した。
【００２３】比較例２ 比較例１で用いた偏光板を１００℃の雰囲気下に放置
し、同様の評価を行った。結果を図２に示した。
し、同様の評価を行った。結果を図２に示した。
【００２４】比較例３ 比較例１で用いた偏光板を６０℃、９０％ＲＨの雰囲気
下に放置し、同様の評価を行った。結果を図３に示し
た。
下に放置し、同様の評価を行った。結果を図３に示し
た。
【００２５】比較例４ 比較例１で用いた偏光板を６０℃、９５％ＲＨの雰囲気
下に放置し、同様の評価を行った。結果を図４に示し
た。
下に放置し、同様の評価を行った。結果を図４に示し
た。
【００２６】これらの図から、本発明によるフッ素化合
物の皮膜を形成させた偏光板は、未処理のものに比し、
高温、高湿熱の雰囲気下に長時間放置しても脱色等によ
る直交透過率の変化が少なく、耐熱、耐湿熱性に優れて
いることがわかる。
物の皮膜を形成させた偏光板は、未処理のものに比し、
高温、高湿熱の雰囲気下に長時間放置しても脱色等によ
る直交透過率の変化が少なく、耐熱、耐湿熱性に優れて
いることがわかる。
【００２７】密着性試験 ＴＥＦＬＯＮ ＡＦ（デュポン製、屈折率１．３０）の
１％フロリナートＦＣ−７５（住友スリーエム製）溶液
を用いた以外は、実施例１と同様に操作し、ＴＥＦＬＯ
Ｎ ＡＦの皮膜を有する偏光板を得た。この偏光板と実
施例１で得られた本発明の偏光板をティッシュペーパー
で２５０ｇ／ｃｍ2 の荷重下で１０往復擦傷させたとこ
ろ、ＴＥＦＬＯＮ ＡＦの皮膜を有する偏光板は、皮膜
が完全に剥離したのに対し、本発明の偏光板は全く剥離
しなかった。
１％フロリナートＦＣ−７５（住友スリーエム製）溶液
を用いた以外は、実施例１と同様に操作し、ＴＥＦＬＯ
Ｎ ＡＦの皮膜を有する偏光板を得た。この偏光板と実
施例１で得られた本発明の偏光板をティッシュペーパー
で２５０ｇ／ｃｍ2 の荷重下で１０往復擦傷させたとこ
ろ、ＴＥＦＬＯＮ ＡＦの皮膜を有する偏光板は、皮膜
が完全に剥離したのに対し、本発明の偏光板は全く剥離
しなかった。
【００２８】
【発明の効果】本発明は通常の偏光板の表面に、該表面
上で反応により特定のフッ素化合物の皮膜を形成した偏
光板を提唱するものである。この偏光板を用いることに
より、密着性、耐湿熱性および耐熱性を向上させること
ができる。
上で反応により特定のフッ素化合物の皮膜を形成した偏
光板を提唱するものである。この偏光板を用いることに
より、密着性、耐湿熱性および耐熱性を向上させること
ができる。
【図１】乾燥８０℃における、実施例１と比較例１の経
過時間と直交透過率の変化率との関係を示す図である。
過時間と直交透過率の変化率との関係を示す図である。
【図２】乾燥１００℃における、実施例２と比較例２の
経過時間と直交透過率の変化率との関係を示す図であ
る。
経過時間と直交透過率の変化率との関係を示す図であ
る。
【図３】６０℃、９０％ＲＨにおける、実施例３と比較
例３の経過時間と直交透過率の変化率との関係を示す図
である。
例３の経過時間と直交透過率の変化率との関係を示す図
である。
【図４】６０℃、９５％ＲＨにおける、実施例４と比較
例４の経過時間と直交透過率の変化率との関係を示す図
である。
例４の経過時間と直交透過率の変化率との関係を示す図
である。
Claims (5)
- 【請求項１】偏光板の支持体層の外側に、一分子中に少
なくとも一個のイソシアネート基を有するフッ素化合物
と、該フッ素化合物と反応可能な化合物との反応皮膜層
を有し、６５℃、９５％ＲＨ、４００時間の耐湿熱性試
験における、下記式により求められる、直交透過率の変
化率が４０以下である偏光板。 直交透過率の変化率＝（Ｔh −Ｔ0 ）／Ｔ0 Ｔh ：ｈ時間経過後の直交透過率（２枚の偏光板の延伸
方向が直交した場合の透過率） Ｔ0 ：初期の直交透過率 - 【請求項２】偏光板の支持体層の外側に、一分子中に少
なくとも一個のイソシアネート基を有するフッ素化合物
と、該フッ素化合物と反応可能な化合物との反応皮膜層
を有し、１００℃、４００時間の乾燥耐熱試験におけ
る、下記式により求められる、直交透過率の変化率が４
０以下である偏光板。 直交透過率の変化率＝（Ｔh −Ｔ0 ）／Ｔ0 Ｔh ：ｈ時間経過後の直交透過率（２枚の偏光板の延伸
方向が直交した場合の透過率） Ｔ0 ：初期の直交透過率 - 【請求項３】偏光板の支持体に表面加工が施された請求
項１または２の偏光板。 - 【請求項４】表面加工が、表面に微細な凸凹処理（ノン
グレア処理）、プリズム加工、フレネル加工、エンボス
加工、ハードコート加工あるいは蒸着加工である請求項
３の偏光板。 - 【請求項５】一分子中に少なくとも一個のイソシアネー
ト基を有するフッ素化合物と、該フッ素化合物と反応可
能な化合物とを、支持体表面が活性化された偏光板上に
塗布した後、反応させることを特徴とするフッ素化合物
の皮膜を有する偏光板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17565195A JPH095519A (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 偏光板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17565195A JPH095519A (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 偏光板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH095519A true JPH095519A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=15999830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17565195A Pending JPH095519A (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 偏光板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH095519A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4994829A (en) * | 1989-07-10 | 1991-02-19 | Nikon Corporation | Waterproof camera and lens mount therefore |
| US10359553B2 (en) | 2014-03-26 | 2019-07-23 | Lg Chem, Ltd. | Method for manufacturing polarizer having locally depolarized area, and polarizer, polarizing plate and image display device manufactured by using same |
-
1995
- 1995-06-20 JP JP17565195A patent/JPH095519A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4994829A (en) * | 1989-07-10 | 1991-02-19 | Nikon Corporation | Waterproof camera and lens mount therefore |
| US10359553B2 (en) | 2014-03-26 | 2019-07-23 | Lg Chem, Ltd. | Method for manufacturing polarizer having locally depolarized area, and polarizer, polarizing plate and image display device manufactured by using same |
| US10429560B2 (en) | 2014-03-26 | 2019-10-01 | Lg Chem, Ltd. | Methods for manufacturing polarizing element, polarizing element roll and single sheet type polarizing element having local bleaching areas |
| US10436960B2 (en) | 2014-03-26 | 2019-10-08 | Lg Chem, Ltd. | Methods for manufacturing polarizing element, polarizing element roll and single sheet type polarizing element having local bleaching areas |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3619915B2 (ja) | 偏光板用保護フィルム及び偏光板 | |
| US4759611A (en) | Liquid crystal display having silylated light polarizers | |
| JP2000162584A (ja) | 光学部材、セル基板及び液晶表示装置 | |
| JP5157032B2 (ja) | セルロースエステルフィルム、その製造方法、光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置 | |
| US6905640B2 (en) | Method of aligning liquid crystal compounds | |
| JPH10104403A (ja) | 防汚性及びハードコート性を有するシート | |
| JPH095519A (ja) | 偏光板 | |
| JP7335900B2 (ja) | 偏光板、液晶表示装置、有機電界発光装置 | |
| JPS6340283B2 (ja) | ||
| JPH08313702A (ja) | 反射防止体およびその製造方法 | |
| JP4265085B2 (ja) | 光学異方体及びその製造方法とそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 | |
| JPS6340285B2 (ja) | ||
| US5922459A (en) | Plasma-polymerized DMDAS anti-fogging film and method for manufacturing the same | |
| JP2007316592A (ja) | 複屈折フィルム及びその製造方法 | |
| JP2005336375A (ja) | セルロースアシレートフィルム、該フイルムを用いた光学フィルム及び画像表示装置 | |
| JP3400358B2 (ja) | 液晶配向膜とその製造方法およびそれを用いた液晶表示装置とその製造方法 | |
| JP3418447B2 (ja) | 視野角の改善された位相差フィルムの製造方法 | |
| JP3045579B2 (ja) | 光学用積層シートの製造法 | |
| JP2005290346A (ja) | セルロースアシレートフィルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 | |
| JP3302645B2 (ja) | 液晶配向膜およびこれを用いた液晶表示素子 | |
| JPS6340282B2 (ja) | ||
| JP3398592B2 (ja) | 偏光板 | |
| JP2004300320A (ja) | セルロースアシレートフィルム、その製造方法、及び該フイルムを用いた光学フィルム | |
| JPS6340284B2 (ja) | ||
| JPH08152515A (ja) | 光学補償シートの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040121 |