JPH09504383A - 直接工作隆起構造再帰反射性コーナキューブ物品と製作方法 - Google Patents

直接工作隆起構造再帰反射性コーナキューブ物品と製作方法

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JPH09504383A JP7512200A JP51220095A JPH09504383A JP H09504383 A JPH09504383 A JP H09504383A JP 7512200 A JP7512200 A JP 7512200A JP 51220095 A JP51220095 A JP 51220095A JP H09504383 A JPH09504383 A JP H09504383A
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Abstract

(57)【要約】 コーナキューブ物品と、この物品を一連の直接工作可能一体化基体(140)から製作する方法。この製作方法は再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期一体化直接工作可能基体を準備する工程を含む。次に、第1コーナキューブ素子領域(142)がコーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を有する領域として形成される。この領域は平行な溝の少なくとも2種の溝セットを基体に直接工作することによって作られる。コーナキューブ素子列体領域のレプリカは再帰反射性面を形成するのに適した追加の一体化基体として形成される。レプリカ基体材料は部分的に除去される。これらの部分的除去は少なくとも溝セットにより形成されたコーナキューブ素子の深さまでの側壁によって境界付けられる少なくとも2個の交差するキャビティをレプリカに形成する。各キャビティは他方の交差キャビティの最深度に実質的に等しい深さまでレプリカに延入している少なくとも1つの側壁を含んで成る。

Description

【発明の詳細な説明】 直接工作隆起構造再帰反射性コーナキューブ物品と製作方法関連出願との前後参照 本出願は1993年10月20日出願の「直接工作隆起構造再帰反射性コーナキューブ 物品と製作方法」の名称になる米国特許出願第08/139,563号の1部継続出願であ る。発明の分野 本発明はプリズム式再帰反射性素子を有する再帰反射性物品に関する。背景 多数のタイプの再帰反射性物品が知られており、これらは多様な方法で作られ る。通常のタイプの再帰反射性物品は透明なミクロ球、代表的には半球形再帰反 射体をその上に備えている斯かるミクロ球を使用する。このタイプの再帰反射体 の事例は米国特許第2,407,680号(Palmguist)、米国特許第3,190,178号(McKenzi e)及び米国特許第4,025,159号(McGrath)に開示されている。 別のタイプの再帰反射性物品はコーナキューブとして一般に知られている1以 上の構造を組込んだプリズム式デザインを含む。コーナキューブ型反射性素子を 採用した再帰反射性シーテイング(板体)は周知である。この種のデザインの例 は米国特許第3,684,348号(Rowland)に示されている。 再帰反射性コーナキューブ素子アレイ(列体)の製作はピン束ね法として知ら れる方法と直接工作法を包含するこれとは異なる技法 にって作られたモールドを用いて達成される。ピン束ね法(pin bundling)法を 用いて作られるモールドは、コーナキューブ再帰反射性素子の特徴を備えた形状 の端部を各ピンが有している、斯かる個別のピンを一緒に組合せることによって 作られる。例えば、特定のピン束ね列体(アレイ)の念入りな組立により種々の ピン構造の形態にすることが出来るが、これらのタイプの列体はミクロキューブ 構造が小さく形成されるに従って著しく作成するのが難しくなる。米国特許第3, 926,402号(Heenan他)と米国特許第3,632,695号(Howell)はピン束ね法の事例 である。 直接工作法は有力なものとして一般に知られており、これは溝が交差してコー ナキューブ素子を形成する斯かる溝のパターンを生み出す基体の切削部分を含ん で成る。この溝付き基体はマスターモールドと称され、このモールドから一連の 刻印、即ちレプリカが形成され得る。ある種の場合には、このマスターは再帰反 射性物品として有用であるが、多数の積成レプリカを含むレプリカは再帰反射性 物品として一層一般的に使用される。直接工作法は小さなミクロキューブアレイ 用のマスターモールドを製作するための優れた方法である。小さなミクロキュー ブ列体は向上した可撓性を備えた薄いレプリカ列体として、シーテイング用の連 続ロール品等を作るのに特に有益である。ミクロキューブアレイは連続プロセス の製作を一段と助成する。大きな列体の製作のプロセスは直接工作法を用いるの で他の方法よりも相対的に容易である。直接工作法の1例は米国特許第4,588,25 8号(Hoopman)に示されている。 ある種の再帰反射性物品はうね状構造を含んで成る。ピン束ねの分野では、こ れらのタイプの構造は米国特許第4,243,618号(VanArnam)、第4,202,600号(Burk e 他)、第4,726,706号(Attar)、第4,208,090号(Heenan)、第4,498,733号(Fl anagan)、第3,9 22,065号(Schultz)、第3,417,959号(Schultz)及び第3,924,929号(Holmen)に示 されている。再帰反射性物品のもう1つのうね状構造は米国特許第4,025,159号( McGrath)において、ミクロ球やビード付きシーテイングの構造体用として教示さ れている。 上述のうね状構造に類似な他の構造は米国特許第4,801,193号(Martin)、第4 ,618,518号(Pricone)、第5,171,624号(Walter)に記述されている。しかし、こ れらの特許はうね状構造として、再帰反射性シーテイングにこの構造の隣りのキ ューブの形成とは独立して形成される斯かるうね状構造を開示しているに過ぎな い。代表的には、これらの構造はキューブと同時に直接工作と複製によって一体 成形されるよりも、むしろシーテイング上に鋳込み(カスト)成形される。発明の要旨 本発明はコーナキューブ物品を製作する方法として、再帰反射性面を形成する のに適した材料の初期一体化直接工作可能基体を準備する工程、及びこの基体に 平行な溝の少なくとも2種の溝セットを直接工作することによってコーナキュー ブ素子を含む複数の幾何学的構造を基体に作る工程を含んで成る斯かるコーナキ ューブ物品の製作方法を表現している。コーナキューブ素子列体領域のレプリカ を再帰反射性面の形成に適した追加の一体化基体として作成する。次に、このレ プリカを含む基体材料の部分的削除によって、少なくとも溝セットによって形成 されているコーナキューブ素子の深さの側壁によって境界付けられた少なくとも 1つのキャビティをレプリカに形成する。このレプリカを複製することにより、 再帰反射性面を形成するのに適した追加の一体化直接工作可能基体を作成する。 この基体は少なくとも初期平行溝によって形成されているコーナキ ューブ素子の高さになる側壁を有する少なくとも1つの隆起セクションを含んで 成る。次に、少なくとも1つの隆起セクションを直接工作することにより、平行 溝の少なくとも2種の溝セットによって境界付けられているコーナキューブ素子 を含む複数の幾何学的構造を含んで成る追加の領域を形成する。 本発明は更に、再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期の一体化直接工 作可能基体を準備する工程;及び平行溝の少なくとも2種の溝セットを初期基体 に直接工作することによって、コーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を 含んで成る第1のコーナキューブ素子列体領域を初期基体に作る工程を含んで成 るコーナキューブ物品を製作する方法を表現している。 コーナキューブ素子列体領域のレプリカを、再帰反射性面を作成するのに適し た追加の一体化基体として作成する。次いで、このレプリカを含んで成る基体材 料を部分的に削除することにより、少なくとも溝セットによって形成されている コーナキューブ素子の深さの側壁によって境界付けられた少なくとも2個の交差 するキャビティをレプリカに形成する。各キャビティは他のいづれの交差キャビ ティの最深度に実質的に等しい深さまでレプリカに延入している少なくとも1つ の側壁を含んで成る。 本発明は更に、再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期の直接工作可能 基体を準備する工程;及び平行溝の少なくとも2種の溝セットを初期基体に直接 工作することによって、コーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を含んで 成る第1のコーナキューブ素子列体領域を作る工程を含んで成る、コーナキュー ブ物品を製作する方法を表現している。コーナキューブ素子列体領域のレプリカ を再帰反射性面を形成するのに適した追加の一体化基体として作成する。このレ プリカを含んで成る基体材料を部分的に削除すること により、少なくとも溝セットによって形成されているコーナキューブ素子の深さ にある側壁によって境界付けられた少なくとも1つのキャビティをレプリカに形 成する。各キャビティは溝セットの1種と平行に整合した状態に形成される。 本発明は更に、再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期の一体化直接工 作可能基体を準備する工程;及び初期基体に平行溝の少なくとも2種の溝セット を直接工作することによって、コーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を 含んで成るコーナキューブ素子列体領域を作る工程を含んで成る、コーナキュー ブシーテイングを製作する方法を表現している。コーナキューブ素子列体領域の レプリカを再帰反射性面を形成するのに適した追加の一体化基体として作成する 。このレプリカを含んで成る基体材料を部分的に削除することにより、少なくと も溝セットによって形成されているコーナキューブ素子の深さの側壁によって境 界付けられている少なくとも1つのキャビティをレプリカに形成する。次に、こ のレプリカを複製することによって、少なくとも初期平行溝によって形成されて いるコーナキューブ素子の高さの側壁を有する少なくとも1つの隆起セクション とシーテイングの強度を高めるための応力消散手段とを含んで成る一体化コーナ キューブシーテイングを作成する。 本発明は更に再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期の一体化直接工作 可能基体を準備する工程、及びこの基体に平行溝の初期溝セットを直接工作する 工程を含んで成る、コーナキューブ物品を製作する方法を表現している。基体材 料を部分的に削除することにより、少なくとも平行溝の第1セットの深さの側壁 によって境界付けられた少なくとも1つのキャビティを基体に形成する。再帰反 射性面を形成するのに適した初期基体の一体化レプリカとして、少なくとも1つ の隆起セクションを含んで成る斯かるレプリカを作成 する。次に、このレプリカに追加の溝を直接工作し、それによって平行溝の2種 のセットによって境界付けられたコーナキューブ素子を含む幾何学的構造の複数 の領域を形成する。 本発明は更に、一連の一体化基体を直接工作することによって形成されている 領域化された一体化基体のレプリカであるコーナキューブ物品を表現している。 この領域化物品は平行溝の少なくとも2種のセットによって形成されたコーナキ ューブ素子を含む幾何学的構造の複数の領域を有している。 本発明は更に、一連の一体化基体を直接工作することによって形成されている 領域化された一体化基体のレプリカである再帰反射性コーナキューブ物品シーテ イングを表現している。このシーテイングはコーナキューブ素子を含む幾何学的 構造の複数の領域を含んで成り、コーナキューブ素子は平行溝の少なくとも2種 のセットを用いて形成されている。このシーテイングは少なくとも2種の隣り合 う領域を含んで成り、各領域は実質的に同一の幾何学的構造を有する複数のコー ナキューブ素子を含んで成る。隣り合う領域は異なる光学性能を呈する。 本発明は更に、一連の一体化基体を直接工作することによって形成されている コーナキューブ物品を表現している。この物品はコーナキューブ素子を含む幾何 学的構造の1領域を含んで成り、コーナキューブ素子は平行溝の少なくとも2種 のセットを用いて形成されている。この物品は少なくとも最深幾何学的構造の深 さのキャビティ深度を有する側壁によって境界付けられている少なくとも2個の 交差したキャビティを含んで成る。各交差キャビティの深さは実質的に等しい。図面の簡単な説明 図1は再帰反射性シーテイングを製作するための従来の3本の溝付き直接工作 マスターの平面図である。 図2は図1の線2−2に沿った断面図である。 図3は図1に示すマスターの再帰反射性レプリカの平面図である。 図4は図3の線4−4に沿った断面図である。 図5は異なる高度で交差する隆起セクションを含んで成る既知の再帰反射性シ ーテイングの平面図である。 図6は図5の線6−6に沿った断面図である。 図7は図5の線7−7に沿った断面図である。 図8は図5に示すものに類似した物品であるが、コーナキューブ素子と隆起セ クションの破壊を伴う分離を受けている物品の側面図である。 図9は初期の直接工作可能基体としてこれに形成されている溝セットの1つと 平行に整合した状態に形成されたキャビティ部分を含んで成る斯かる初期基体の 平面図である。 図10は図9の線10−10に沿った断面図である。 図11は図9に示す基体を複製することによって形成された追加の直接工作可能 な基体の平面図である。 図12は図11の線12−12に沿った断面図である。 図13は等高度で交差している複数の隆起セクションを含んで成る直接工作可能 基体の平面図である。 図14は図13の線14−14に沿った断面図である。 図15は精密製作された隆起セクションとシール媒体を、予め溶融された形態で 示される超音波エネルギー集中手段を具備した状態で示す側面図である。 図16は応力を受けている隆起セクションからコーナキューブ素子が分離するの を阻止する応力消散手段の効果を表現している、図13 に示すものに類似の構造の側面図である。 図17は基体内のコーナキューブ素子を含む幾何学的構造の複数の領域が示され ている斯かる基体の平面図である。 図18は図17の線18−18に沿った断面図である。 図19は幾何学的構造の複数の領域と交差する隆起セクションとを含んで成る直 接工作された基体の平面図である。 図20は図19の線20−20に沿った断面図である。 図21は一連の非一体化基体を直接工作することにより形成された領域化された 一体化基体のレプリカである直接工作コーナキューブ物品の平面図である。 図22は図21の線22−22に沿った断面図である。 図23は多様なコーナキューブ構造と方位を有する再帰反射性コーナキューブ素 子の複数の領域であって、1つの隆起領域を含んでいる、斯かる領域を含んで成 る直接工作されたコーナキューブ物品の平面図である。 図24は図23の線24−24に沿った断面図である。 図25は相違する幾何学的形状を有する再帰反射性素子の複数の領域であって、 少なくとも1つの隆起セクションを含んでいる、斯かる領域を含んで成る直接工 作されたコーナキューブ物品の平面図である。 図26は図25の線26−26に沿った断面図である。 図27は再帰反射性コーナキューブ素子を含む幾何学的構造の複数の領域であっ て、隣り合う領域のコーナキューブ素子より大きな高度を有しているコーナキュ ーブ素子を含む1つの領域を含む斯かる複数の領域を含んで成る直接工作された コーナキューブ物品の平面図である。 図28は図27の線28−28に沿った断面図である。 図29は複数の再帰反射性コーナキューブ素子と1つの隆起セクションとを含ん で成る直接工作されたコーナキューブ物品の平面図である。 図30は図29の線30−30に沿った断面図である。 図31は再帰反射性コーナキューブ素子を含む幾何学的構造の複数の領域と、隣 りの領域のコーナキューブ構造より高いピークを有しているコーナキューブ素子 を含んで成る1つの隆起領域とを含んで成る直接工作されたコーナキューブ物品 の平面図である。 図32は図31の線32−32に沿った断面図である。 図33は再帰反射性コーナキューブ素子を含む幾何学的構造の複数の領域と、互 いに干渉しない複数の隆起領域とを含んで成る直接工作されたコーナキューブ物 品の平面図である。 図34は図33の線34−34に沿った断面図である。 図35は図33の線35−35に沿った断面図である。 図36は基体に平行な溝の1セットを直接工作することによって複数の幾何学的 構造が形成されている初期の直接工作可能な基体の平面図である。 図37は図36の線37−37に沿った断面図である。 図38は図36の線38−38に沿った断面図である。 図39は図36の線39−39に沿った断面図である。 図40は図39の線40−40に沿った断面図である。 図41は図39の線41−41に沿った断面図である。 図42は図39に示すレプリカ物品として、初期溝セットの方位内の隆起セクショ ンに形成されている追加の溝を含んで成る斯かるレプリカ物品の平面図である。 図43は図42の線43−43に沿った断面図である。 図44は図42の線44−44に沿った断面図である。 図45は再帰反射性コーナキューブ素子の複数の領域を含んで成る直接工作され た2種溝セット式コーナキューブ物品の平面図である。 図46は図45の線46−46に沿った断面図である。 図47は図45の線47−47に沿った断面図である。 図48は隆起領域と分離面の境界エッジを形成するコーナキューブ素子とを含む 幾何学的構造の複数の領域を有している直接工作されたコーナキューブ物品の断 面図である。 図49は隆起領域として、その他の領域の少なくとも1個の幾何学的構造の上方 にシール媒体を保持するために適した斯かる隆起領域を含む幾何学的構造の複数 の領域を含んで成る直接工作されたコーナキューブ物品の断面図である。 図50は複数の隆起領域を含んで成り、且つ幾何学的構造の再帰反射性面を含ん で成る領域の上方にシール媒体を保持するのに適している複数の隆起セクション を含む直接工作されたコーナキューブ物品の断面図である。説明例の詳細な説明 直接工作法は小さなミクロキューブ列体群のためのマスターモールドを効率的 に作成するための好ましい方法としてしばしば適用される。これは向上した可撓 性を有する薄いレプリカ列体群の製作において直接工作された基体に由来する利 益と、ピン束ね法(pin bundling)と比較したときに相対的に格段と効率的な製 作工程となることとによるものである。直接工作基体の1例は米国特許第3,712, 706号(Stamm)に教示されている。このスタマン特許と米国特許第4,588,258号(Ho opman)は夫々、基体にコーナキューブ光学面を形成するための溝を切るために対 立する2つの切削刃面を有する工作工具の単回或いは複数回のパスによって形成 された構造の事例であ る。 直接工作溝は複数の個別の平行な溝を含んで成る溝セットとして工作されるの が好ましいと認識されている。上記引用の特許例では、少なくとも3種の溝セッ トが要求される。しかし、米国特許第4,349,598号(White)と米国特許第4,895,42 8号(Nelson他)には溝の2種のセットのみに関係する直接工作法の事例が示さ れている。 再帰反射性コーナキューブ列体は代表的には、コーナキューブ再帰反射性素子 の適合対、即ち図1の直接工作コーナキューブ物品16内に示されるコーナキュー ブ12とコーナキューブ14等の幾何学的に合同であって、180°転位されているキ ューブに由来する。 物品16のコーナキューブは同一溝深さを有する溝によって境界付けられていて 、同一素子長のものである。従来の三溝式列体の最高点はキューブピーク20によ って規定される。物品16内の全素子は図2に示すように共通標準平面18の上方に 同一の高度にある。従来のキューブ列体に関するこの基体的な適合対のコンセン プトのその他の事例は米国特許第3,712,706(Stamm)、米国特許第4,588,258号(Ho opman)、米国特許第1,591,572号(Stimson)、米国特許第2,310,790号(Jungersen) 及び米国特許第5,122,902号(Benson)及びドイツ特許文献DE4242264(Gubela)に 示されている。 図1,2においては、従来の非傾コーナキューブ素子の1例が示されているが 、これは平面視のときに3辺を有し、そして各コーナキューブ素子の基部に等辺 三角形を有している。これらのコーナキューブ反射性素子は基体に直接工作され た3種の溝セットによって形成されている。図1はマスターモールドとして有用 な直接工作コーナキューブ物品の平面図を示しており、このマスターモールドは 次に複製され、或いはめっきされて、図3,4に示すような直接工作コーナキュ ーブ物品22を形成する。図1において、両非平行溝セ ットにおける溝25は代表的な個所27で互いに交差している。 図1,2は平図18に直角な個別の対称軸を有する非傾キューブを含んで成るコ ーナキューブ素子再帰反射性列体を開示している。対称軸は素子面によって規定 される内角或いは二面角の三等分線である中心軸或いは光学軸一である。しかし 、ある種の用途では、コーナキューブ再帰反射性素子の適合対の対称軸を基平面 に直角ではない方位に傾けることは有利である。その結果の傾いたコーナキュー ブ素子は併せて入射角の広範囲に亘って再帰反射する列体を作り出す。これは米 国特許第4,588,258号(Hoopman)に教示されており、この後にその他の図面との関 係で示される。傾きは前方でも、後方であってもよい。このフープマン特許は1. 5の屈折率に対し13°までの傾き量を有している構造の開示を含む。フープマン は更に9.736°の傾きのあるキューブを開示している。この外形(ジオメトリ) は溝切り工具がキューブ光学面を損傷させる前の従来の列体におけるキューブの 最大前傾を表現している。この損傷は常態では、工具が第3の溝を形成する際の 隣り合う素子のエッジ部分を削除するときに生起する。米国特許第2,310,790号( Jungerson)はフープマン特許に示されるものとは反対の方向に傾いた構造を開示 している。 これらの従来式列体(アレイ)では、光学性能は便宜的に、実際に再帰反射性 のある表面域の割合によって規定される。即ち、この表面域は有効面域或いは実 働開口(アパーチア)を含んで成る。実働開口割合(度)は傾量、屈折率及び入 射角の関数として変化する。 非ゼロ入射角では、従来の列体はせいぜい、概略類似のサイズの異なる開口形 状を表す。これらの事態は従来式コーナキューブ素子の幾何学的合同の適合対の 単一タイプから結果としてもたらされる ものである。傾いた従来式コーナキューブ列体は、開口形状が傾度によって左右 されるとはいえ、類似の傾向を呈す。 ある種の従来式コーナキューブ列体は、多分に傾きや、或いはその他のデザイ ン上の特徴からもたらされることになる、追加の光学的制約の下で製作されて、 ある種の環境の下での非常に特異な性能を与える。この1例は米国特許第4,895, 428号(Nelson他)に開示の構造であり、これは以下に挙げる幾つかの図面中の 多重領域変形の形態に示される。これらの外形においては、コーナキューブ素子 は夫々後方向へ基部三角形の夫々が消滅する点まで傾いている。 従来の列体に関して、再度参照していえば、米国特許第4,202,600号(Burk他 )と第4,243,618号(Van Arnam)がスタム(Stamm)に示される三角形に基づくコー ナキューブ反射性素子或いはプリズムを開示し、且つ参考として言及している。 バーク(Burke)他の特許は少なくとも最小の期待される視距離から高入射角度で 視たときに眼に均等の輝度の外観を作り出すために多数の異方位領域にこれらの プリズムが傾いていることを開示している。バンアルナム(Van Arnam)の文献は ピン束ね法を用いて、コーナキューブ三角錐ピラミッドの方位が混乱しているパ ターンを作ること、及び溝の格子を束ねられたピンによって形成されているモー ルドに削成することを開示している。このようにして、ピンはモールドから成形 されたシーテイングが背材をこのシーテイングに結合させるための隆起格子を含 有するように切断され得る。ピン束ね法による再帰反射性物品におけるうね状構 造の別の例は米国特許第3,632,695号(Howell)に示されており、そこでは各う ね状構造が光源からの光を反射するよりはむしろ透過させるレンズ面域として外 形付けられる。 再帰反射性直接工作コーナキューブ物品は多くの場合に、空気等の低屈折率材 料を再帰反射性素子の隣りに維持して、性能を改良す るために、再帰反射性物品に施こされるシール用フイルムを受け入れるように設 計される。金属化処理やその他の反射性性被覆も再帰反射性コーナキューブ素子 物品に有利に利用される。 図5はなかんずくReflexite Corporation、ニューブリテン、コネチカットに よって商標DURABRITEの下で販売されたものが代表的であるコーナキューブシー テイング29の1部の平面図であり、これは多分に直接工作法を用いて形成される 。コーナキューブ物品シーテイング29は複数のコーナキューブ素子30と複数の隆 起セクション33,35とを含んで成る。コーナキューブ物品シーテイング29におけ る隆起セクションの配置、寸法、方位及び品質は物品の不必要な性能ロスの原因 になっている。例えば、多くのキューブの損傷が領域38,39等の隆起セクション に隣接した面域において光学性能のロスをもたらしている。隆起セクションの大 きなテーパ角度はこの大きなテーパを収めるのに必要な再帰反射性素子の局部或 いは全部の除去により再帰反射度を過剰に失う原因となっている。もう1つの問 題は隆起セクションのそれに隣接する構造に対する高さに関するものである。大 きなテーパ角と非常に高い隆起セクションの組合せは物品の有効な再帰反射性面 域を低減させる。大きな高度比も望ましくないハンドリング性と硬直性を有する シーテイングを生み出す。 不良光学性能の領域を生み出すことに加えて、シーテイングの構成は異なる高 度で交差する隆起セクションの局部をもたらす。これは図6,7の断面図に明瞭 に示されている。両図は明らかに隆起セクション33,35の局部が異なる高度にあ り、隆起セクションの全体的高さの約16%までの相違がシーテイング見本におい て交差部分で生じている。この高度差はこの構造で以って作られた製品の耐久力 をこれらの隆起セクションに対する媒体37等のシール媒体の結合力の低下によっ て直接的に悪化させるきらいがある。これは高位セク ションと、シール媒体と少なくとも1つの隆起セクションとの間の結果的不良結 合や非結合とのブリッヂ効果によって起きる。シール媒体のこのシーテイングに 対する結合の信頼度も、隆起セクションの頂面の丸められた、不正確な且つ不調 和な形状によって劣化させられる。 シーテイング29のその他の構造上の問題は極端に薄いランド42と隆起セクショ ンの具体的な寸法に関係している。この薄いランド42は多分に、米国特許第3,68 9,346号(Rowland)、第3,810,804号(Rowland)及び第3,811,983号(Rowland)に図示 され且つ記述されているように効率の良いものとして認識されている具体的な製 作プロセスの結果である。しかしながら、この種の薄いランド構成は現実に、コ ーナキューブと支持層の境界に数多くの鋭いノッチを生み出し、これが溝25等の 溝の下に応力破損点を多分に生み出す。 図8はボテイフイルム/オーバレイ層と称される支持層48、薄いランド42、複 数のコーナキューブ素子30、隆起セクション33及びシール媒体37を含む構成のコ ーナキューブ物品シーテイング29を描いている。コーナキューブ物品シーテイン グ29は隆起セクション33に接着剤50と共に付設され且つ基体53に接着剤55と共に 付設されたシール媒体37を有する状態で示されている。図8はシーテイング29の 幾つかの問題を表している。その第1の問題は溝25の個所に生じる応力破損の1 つである。これはその後に支持層48を隆起セクション33から分離する事態に導く 。これは、隆起セクション33のうね(リッジ)面57に付設されているシール媒体 37の比較的強い結合力と比較して、隆起セクション33の下の非常に薄いランド領 域の比較的弱い強度と、隆起セクション33の基部(ベース)56の非常に鋭い境界 における高応力集中の存在とにより生起する。 このタイプの破損は環境に関係した、即ちらんぼうな事態によっ て悪化させられ、再帰反射性コーナキューブ素子の大半或いは全部の離脱によっ てシーテイングの関係面域における再帰反射性を完全に失う事態に至る。 もう1つの問題は隆起セクションの不正確度を補う結合層を生み出すのに必要 な接着剤量が大きくなることである。図8に示すように、この結合層は現実にテ ーパ状側面60に沿って実質的な距離に亘って延在している。接着剤のこの移動は 隆起セクションに隣接する結合層に生じるネッキング効果により弱い面域を追加 的に生み出す。 本発明は直接工作コーナキューブ物品の技術水準を実質的に越えている再帰反 射性直接工作コーナキューブ物品とシーテイング、並びにその製作方法を含んで 成る。これは新規な製作プロセスと、再帰反射性能と製品の全体的耐久性を大き く高める直接工作コーナキューブ物品デザインとを用いることから結果的に生れ る。これらの物品は一連の一体化基体から作製され、新規な隆起構造を有する列 体(アレイ)を生成する。 図9と図10は夫々、例えば図3に示すシーテイング22のような初期直接工作可 能な一体化基体のレプリカ70の平面図と断面図である。レプリカ70は個別の素子 75等の同一コーナキューブ素子群を含む複数の幾何学的構造を有する領域73を含 んで成る。基体材料は部分的に削除され、それにより図10の断面図に示すような 基部78と側壁79によって境界付けられた(規定された)少なくとも1つのキャビ ティ77を基体に形成する。側壁79は深さD′まで工作されるが、この深さは少な くとも平行な溝の初期セットの深さD″である。以下に論じる好適基体材料を使 用することに加えて、原パターン或いは基体からレプリカを分離させることが出 来なければならない。ある種のケースでは、これは原(オリジナル)基体とレプ リカ基体の間 に分離用層(パーテイング層)の使用を要求する。分離用層はオリジナルとレプ リカの基体材料間の接着を阻止することによってレプリカの分離を可能にする。 分離用層は表面酸化層、中間の薄い金属性被覆物、化学銀めっき或いは異なる材 料と被覆物の組合せ等の多様の材料から成り得る。 次に図11に示すように、直接工作可能レプリカ70のレプリカ80として、追加の 一体化基体を形成する。適宜の追加一体化基体の選定は、初期基体の特徴の複製 精度の要求、再帰反射性コーナキューブ素子を含む幾何学的構造を形成するため の追加一体化基体の妥当性、及び幾何学的特徴を害することなく初期基体から追 加基体を分離する能力を配慮しなければならない。初期一体化基体、一体化レプ リカ70或いは一体化レプリカ80は夫々再帰反射性面を作るのに適した材料で作ら れるのが好ましい。本発明に係る再帰反射性面を形成するのに適した基体は直接 工作された溝或いは溝セットを形成するのに適した材料を包含し得る。適当な材 料はバリを作ることなくクリーンな状態に工作し、低延性と低粒状性を呈し、そ して溝形成の後に寸法精度を維持すべきである。工作可能なプラスチックや金属 等の多様な材料を利用することが出来る。適当なプラスチックはアクリルやその 他の材料等の熱可塑性或いは熱硬化性の材料を包含する。適当な金属はアルミ、 黄銅、ニッケル及び銅を包含する。好ましい金属は非鉄金属を包含する。好まし い工作用工具材料は溝の形成時に切削工具の摩耗を最小限度に抑えるものである べきである。しかし、初期基体はコーナキューブ素子ではない幾何学的構造を有 していてもよい。 一体化基体、即ち材料の単体片から成る基体の使用は、ピン束ねによる形態か ら由来するこれらの基体等の非一体化基体を越えて極めて有益である。例えば、 一体化基体は無数の小さいピンのハンド リング、切削、次いで組立の必要性を回避する。これは製作の容易性と効率を高 めることに役立ち、そして製作中のキューブ損傷を低減させる。それ故に、一体 化基体の使用は大きな面域列体の直接工作に一層貢献する。そうでなければ、不 変の光学性能を発揮しなければならない非常に数の多いピンの正確なハンドリン グ、切削及び組立を要求する事態となる。キャビティ79が初期の直接工作可能一 体化基体のレプリカに形成される結果として、一体化レプリカ80は図11,12に示 す少なくとも1つの隆起セクション100を含んで成る。次に、追加の溝及び/或 いはキャビティをレプリカ80或いは多重幾何学的模様一体化レプリカに直接に切 削工作し、それによって以下に論じる平行な溝の少なくとも2種の溝セットによ って境界付けられたコーナキューブ素子75を含む幾何学的構造の複数の領域を形 成する。 隆起セクション100の側壁104の高さD′はキャビティ側壁79の深さD′に相当 する。好ましくは、側壁104の高さD′と隆起セクションに隣接する基体面域に ある最高位のコーナキューブ素子75の高さD″との比は、約1.1:1と約2:1 との間にあるのが好ましい。しかし、この比は隆起セクションが下記の他の新規 特徴との組合せで作成、使用されたときには越えてもよい。 本発明の1例は少なくとも1つの幾何学的構造を有するレプリカを含んで成る 基体材料を部分的に削除し、それによって側壁によって境界付けられた少なくと も2個の交差するキャビティをレプリカに形成する工程を含んで成る。これらの 交差キャビティは好ましくは少なくとも溝セットによって形成されたコーナキュ ーブ素子の深さで形成される。更に、各キャビティは他の交差キャビティの最深 度に実質的に等しい深さ(深度)だけレプリカ内に延在している少なくとも1つ の側壁を含んで成る。図13と図14は夫々平面視と断面 視で、一体化初期基体の一体化レプリカ100であって、本方法によって作成され た単一領域(ゾーン)116と隆起セクションを有している斯かるレプリカを開示 している。図示のように、2個の交差した隆起セクション123,125は物品110に 、隆起セクションが平坦であって、高精度に作成された頂部を含んで成るように 工作される。これは物品を作る基体材料に対しシール媒体の結合力を最適なもの にする。隆起セクションの均等に平坦な頂面の精密製作はある範囲の材料とシー ル媒体付設のプロセスの使用を許容する。例えば、図15は予め溶融した形態にお いて、超音波エネルギー集中手段127の使用を図示している。この集中手段127を 含んで成るシール方法を使用することによるある種の利点は小量の接着剤の使用 ですむこと、製作効率が良くなること及び耐久度が向上することを含む。これら の利点を得るためには、隆起セクションを正確に且つ均斉に作成し、それによっ て集中手段127の全部がシール媒体37に接触させることが必要である。この正確 度は既知の構造とその製作法を用いては達成され得ない。図16はエネルギー集中 手段127の音波溶融後にシール媒体37に対し隆起セクション123が平坦且つ均等に 接触している状態を示している。 隆起セクション132,125は1.27×10-2mm(0.5mil)、好ましくは7.62×10-3mm (0.3mil)、最も好ましくは5.08×10-3mm(0.2mil)以下の本質的に均斉な高さ を有しているのが好ましい。これの結果として、シール媒体或いはシグネイジバ ッキング(signage backing)等の他の基体が隆起セクションに均等に接触して いる物品が得られる。これはシール媒体と隆起セクションの間のギャップを阻止 することによりシール媒体を隆起セクションから分離させないようにするために 、隆起セクションの交差個所において特に重要となる特徴である。更に、これは シール媒体を隆起セクションの平坦頂面に 結合させるのに要する結合層があるならば、この層における接着剤の量を低減さ せる。 図13は更に物品の光学性能を最適化するために高度に調整可能である隆起セク ション123,125を開示している。例えば、隆起セクションは溝によって境界付け られ得るし、或いは隆起セクションを境界付ける溝を隆起セクションに隣接する 領域116にある溝セットに平行に配向させ得る。更に、隆起セクションが溝によ って境界付けられるとき、各隆起セクションを境界付ける溝の間の距離は各隆起 セクションを囲む領域にある溝セットの溝間距離の整数倍になるようにして、溝 スペーシングを一定にする。これは図13に示されており、そこでは各隆起セクシ ョン123,125が隣接領域116の溝間のスペーシング幅Wの2倍となる、境界溝間 のスペーシング幅2Wを有している。この結果は、僅かの数の再帰反射性素子し か製作プロセス中に損傷せず、それ故にこの構成を使用する再帰反射性シーテイ ングの性能を著しく向上させることになる。 図14は図13の構造の断面図であり、これは本質的に同一高さの隆起セクション 123,125を際立たせている。それに加えて、図14は隆起セクションの1例を示し ており、本例では側壁104が物品110の基平面128に対する法線から約30°未満の テーパ角度で以って形成されている。ある種の例では好ましい角度は約5°と約 10°の間の範囲にある。テーパを減じると、削除されたり、損傷したりする再帰 反射性素子の数を最少限度に抑えながら、一層幅広の隆起セクション頂面126が 与えられる。この低減テーパは更に白さを減ずることなく物品の輝度を高める。 図13,14は物品を強化する応力消散手段をも開示している。図14に示すように 、応力消散手段の1例はセクション123等の隆起セクションと隣接する領域の幾 何学的構造との間に延在する湾曲面131 を含んで成る。好ましくは、この湾曲面は少なくとも約0.254mm(100ミクロンイ ンチ)の半径を有している。1例ではこの湾曲面は初期キャビティをマスター或 いはレプリカに、基体に形成された或いは形成されるべきキューブの基部レベル に等しい深さまで切込むことによって形成され得る。このタイプの応力消散手段 は図8に示して、それとの関係で説明されたような、これらの個所に生起する破 壊性の応力集中の可能性を低減させる。図16は再帰反射性シーテイング等の物品 を強化するための応力消散手段の別の例を開示している。これは少なくとも0.02 54mm(1mil)の実質的に均一な厚さTを有するランド135の使用を含んで成る。 これはコーナキューブと支持層の境界に沿った応力集中をこれらの境界において 鋭いノッチを湾曲化させることによって低減させ、それによってシーテイングの 強度を増大させることに貢献することが出来る。これはシーテイングの構造の完 全性を高める。この増大した強度はコーナキューブ素子等の接合している幾何学 的構造から隆起セクションを分離することになる可能性を低減させる。 図17と図18は夫々、追加の直接工作可能一体化基体140が領域142,146を含む コーナキューブ素子の領域群を含んで成る、本発明の別の例を示す平面図と断面 図である。領域146は始めから隆起セクションとして形成し、次いで3種溝セッ トパターンを用いて直接工作することが出来る。隆起セクションの直接工作は少 なくとも平行溝の2種セットによって境界付けられたコーナキューブ素子を含む 複数の幾何学的構造を含んで成る1領域を作る。図18に示すような1例では、少 なくとも1つの隆起領域146にある最深溝の底は共通標準平面151に対し、即ちこ の平面を基準にして、当該隆起領域に隣接する領域にある最高位の構造よりも高 い値の深さまで工作される。図19と図20は夫々、同じく3種溝セットパターンを 用いて作ら れた複数の交差する隆起領域146を含んで成る基体160を平面視と断面視で開示し ている。 図17〜20に示すように、隆起領域における溝セットの少なくとも1種のセット は好ましくは当該隆起領域に隣接した領域の少なくとも1種の溝セットと平行で ある。また、隆起領域の全幅は好ましくは当該領域に隣接する領域の溝セットの 溝間距離の整数倍である。これは1例では、第1コーナキューブ素子列体領域に おける1種の溝セットからの溝によって境界付けられる隆起セクションを形成す るのに適したキャビティを有するように初期基体を作ることによって達成される 。これは隣り合う領域のキューブが同じ幾何学的模様(外形)であるがサイズが 異なる、即ち幾何学的に類似したものであるときに、特に有用である。この結果 は、僅かな再帰反射性素子しか製作プロセス中に損傷を被るものがなく、従って この構成を用いている再帰反射性シーテイングの性能を向上させることになる。 それに加えて、隆起領域の工作は基体面を隆起セクションの製作時のように高い 平坦度になるように工作することを始めから要求しない。 従来のコーナキューブ再帰反射性素子デザインはこれらの隆起構造のコーナキ ューブ再帰反射性素子構造とその製作法を用いることによって克服され得る構造 上の制約と光学上の制約を含む。この新規なクラスの再帰反射性コーナキューブ 素子構造とその製作法の使用は多様なコーナキューブ素子形状を許容する。例え ば、単一列体のキューブを異なる高さ或いは異なる形状を有する隆起した不連続 な幾何学的構造を有するように容易に製作され得る。これらの方法と構造の使用 は高度に調整可能な光学性能を有するキューブ列体(アレイ)の製作をも可能に する。例えば、ゼロ入射角度を含む多くの入射角において隆起多重構造列体は、 高い割合の実働開口(アク ティブ アパーチア)形状を呈することにより、或いは向上した発散プロフィー ルを与えることにより、或いはその両方によって従来の列体より性能の優れたも のになる。隆起多重構造製作法は異なる実働開口形状とサイズを備えた密度の高 い離間配位した混合キューブからもたらされる向上した光学性能を生み出す。こ れは日中と夜間の両方の観察条件の下で広範囲の視距離に亘って隆起多重構造列 体の一層均一化した外観を呈する。隆起多重構造コーナキューブ素子と領域のこ れらの利益はこれらの特徴を有する物品の有用性を高める。このような物品は例 えば、交通制御材料、再帰反射性自動車マーキング、光電センサ、方位反射器、 可撓性再帰反射性列体、及び人間或いは動物用の反射性衣服(ガーメント)を包 含する。 上述したように、従来のコーナキューブ素子デザインの数多くの制約のある事 例は隆起多重構造製作法の使用によって優れたものになる。図17の基体140に示 すような特定の隆起多重構造デザインにおいては、特定の従来式キューブ外形( 幾何学的模様)を有しているキューブ面は単一列体における複数のキューブタイ プの1部として存在してもよい。しかし、従来のキューブ形状と性能の正規の限 界は隆起多重構造製作法と構造を用いても同様には限定されない。 図21と図22は夫々、2種溝セット式の直接工作一体化基体のレプリカである、 別の例の基体200の平面図と断面図である。基体200は外形類似のコーナキューブ 素子212,216の複数の領域206,208を含んで成る。基体200はコーナキューブ素 子212を含む複数の幾何学的構造を含んで成る隆起領域208を含み、そのコーナキ ューブ素子は領域206のコーナキューブ素子216とは共通標準平面214の上方で異 なる高さにある。基体200は舗道マーカー、アプローチマーカ、チアンネルマー カー、道路分離器、バリア及び類似の用途、等の高入射角度での高い輝度を要求 する用途において特に有用である 。 図23と図24は夫々、3種溝セットにより直接工作された一体化基体のレプリカ である別の例の基体250の平面図と断面図である。基体250は少なくとも1つの隆 起領域を含む複数の領域252,254を含んで成る。隆起領域254はサイズと形状が 異なり、且つ共通標準平面263の上方の高さが領域252のコーナキューブ素子265 とは異なるコーナキューブ素子260を含む複数の幾何学的構造を含んで成る。隆 起領域254は隣接領域の溝と平行な関係にある直接工作された二次的溝266を有す る1つの二次的溝セットを有するように図示されている。本例では、隆起領域25 4に隣接する領域の溝の二本は隆起領域254の全幅が当該隆起領域に隣接した領域 の溝セットの溝間距離の整数倍になるように、隆起領域254を境界付ける。直接 工作された二次的溝267を有するもう1つ別の二次的溝セットは隣り合う領域の いづれの溝とも非平行の関係に配置される。一次的溝セットの溝268も隣り合う 領域のいづれの溝とも非平行の関係に配置される。いづれの溝も所望方位に依存 して隣りの領域の溝と平行に整合するように設計することも出来る。これはコー ナキューブ素子260の方位を光学性能の最適化のために実質的にいかようにも変 えることを許容する。これは隣りの領域252の構造に損傷を被らせずに達成され る。 図23は、少なくとも1つの領域254として、一次的溝268が二次的溝266,267の 相互に交差する個所(点)269で二次的溝を通らない斯かる領域254を有する隆起 多重構造キューブ列体250を更に開示している。一次的溝268は等間隔で、且つ二 次的溝交差点269を通る。列体250は隆起多重構造コーナキューブ法のもう1つ別 の新な特徴を表している。具体的には、コーナキューブ物品を溝の非平行、非相 互交差セットを直接工作することによって製作する方法が 開示される。好ましくは、これらの溝セットは90°未満の内角度で交差するのが 好ましい。しかし、本発明のこの局面は作為的な実質的分離に係るものである。 例えば、2種の溝セットの溝と第3の溝セットの少なくとも1本の溝との交差点 の間の分離距離は約0.01mmより大きいが、この距離はこの特徴の利益を多分に与 える。しかし、正確な最小分離距離は具体的な工具、基体、プロセス制御、及び 所望の求める光学性能に依存する。 非相互交差溝セットは実働開口のサイズと形状が異なる個別のコーナキューブ 素子を含む多重幾何学的構造を生み出す。列体250等の全部の列体は相互交差し た溝セットと非相互交差溝セットの組合せによって生み出されるコーナキューブ を有するようにさえ形成され得る。溝セットの位置は入射角の所望範囲に亘って 最大の全光回帰性能を生み出すように制御される。また、少なくとも1つの溝セ ットにおける溝間距離は少なくとも別の1種の溝セットにおける溝距離に等しい ものでなくてもよい。また、平行な溝の少なくとも1種のセットとして、繰返し 法によって、溝セットの各工作の度に任意に変え得る溝間距離を含む、斯かる溝 セットを基体に工作することが可能である。更に、いづれの溝も、その1部分を その他の溝の少なくとも1本の深さとは異なる深さにまで工作してもよい。 図25と図26は夫々、もう1つ別の例の基体270として、2種の溝セットと3種 の溝セットの混成セットにより直接工作された一体化基体のレプリカである、斯 かる基体の平面図と断面図である。基体270は少なくとも1つの隆起領域を含む 複数の領域274,276を含んで成る。隆起領域276はサイズと寸法が相違し且つ共 通標準平面283の上方の高さが領域274のコーナキューブ素子285とは異なるコー ナキューブ素子280を含む複数の幾何学的構造を含んで成る。事実、隆起領域276 は共通標準平面283に対して隣りの領域274の最 高位構造、例えばキューブ285より高い値の深さにまで工作されている溝を含ん で成る。基体270は高入射角で回帰光量のピークをもたらすように具体的に調整 されているコーナキューブ素子を含んで成る。もっとも、その他の組合せも有用 である。 図27と図28は夫々、もう1つ別の例の基体290として、直接工作された一体化 基体のレプリカである斯かる基体の平面図と断面図である。隆起領域295はコー ナキューブ素子297を含む複数の幾何学的構造を含んで成る。コーナキューブ素 子297とコーナキューブ素子293は共通基標準平面300を分け合っており、この平 面は物品の加工処理において非常に役立つものである。コーナキューブ素子297 は領域293のコーナキューブ素子303とは、サイズが相違すると共に、共通標準平 面300上方の高さの違うピークを有している。基体290は他の構造より高位の特定 の構造を含んで成り、この特定構造はレプリカの処理とハンドリングの際のキュ ーブの損傷を最小限度に抑えるの役立つ。図27,28は隆起領域に隣接する領域の 溝セットの溝スペーシングWと、隆起領域の溝セットの対応する溝スペーシング 2Wとを示している。この工作法を使用することは、物品が隆起領域に隣接する 面域の溝セットの溝の溝スペーシングの整数倍となる隆起領域の溝セットの溝の 溝スペーシングを有する直接工作コーナキューブ素子を具備した斯かる隆起領域 を有することが出来ることから望ましい。この製作法は隆起領域に隣接した光学 構造に対する損傷を著しく低減させるか、或いは消滅させることが出来る。 溝セット内の溝スペーシングは変動させることにより追加の有益な特徴のある 隆起多重構造キューブ列体を作るのに利用され得る。この場合、二次的溝交差点 に対する溝セット内の一次的溝のスペーシングを全体的に繰返しパターンの列体 において変動させ得る。広 範囲の開口サイズと形状はこの列体において、屈折による再帰反射光の発散パタ ーン或いは回帰エネルギーパターンの均一度合を改良させる結果をもたらす。溝 の適正配置は設計に際し、所定用途のための最適製品性能を与えるために有利に 利用され得る。もう1つの有利な特徴は隆起領域に隣接した列体の部分における コーナキューブ素子と実質的に同じ形状であるコーナキューブ素子を有する隆起 領域であって、列体の隣接部分のコーナキューブ素子とは異なる光学性能を発揮 する斯かる隆起領域を製作することを含む。 隆起セクションと隆起領域は図29,30に示す、本発明の方法を用いて異なる形 状に作成され得る。図において、六辺隆起セクション315は基体319に形成される 。隆起セクション315は複数のコーナキューブ素子325を有する領域322によって 包囲されている。隆起セクション315は初期一体化基体の変形レプリカを複写す ることによって製作される。変形レプリカの基体材料を部分的に削除し、それに よって少なくとも1つのキャビティを形成する。このキャビティは、放電工作法 、ホトエッチング法、その他の精密技法等の既知技法を用いて形成される。この キャビティはレプリカにおいて、隣りの面域にある少なくとも溝セットによって 形成されたコーナキューブ素子の深さまでの側壁によって境界付けられている。 次に、このレプリカは複製され、それによって領域322と、少なくとも隣りの領 域に形成されたコーナキューブ素子の高さまでの側壁を有する当該領域に隣接し た少なくとも1つの隆起セクション315とを含んで成るコーナキューブ物品を作 成する。 図31と図32は図29,30に示す隆起セクション物品に類似した隆起領域物品とし て、その領域形状が溝セットの溝によって境界付けされていない斯かる隆起領域 を有している物品を開示している。基体330はコーナキューブ素子335を含む複数 の幾何学的構造を有する 隆起領域333を含んで成る。図31と32の事例では、コーナキューブ素子335,340 は幾何学的に類似している。しかし、領域内のコーナキューブ素子は多様な幾何 学的模様と方位を有することによって光学性能特性を制御することが出来るし、 そして共通標準平面341に対する異なる高度に配位させることが出来る。本発明 は再帰反射性コーナキューブ素子デザインとその製作の先行技術の範囲内では知 られておらず、且つ不可能な構造の数多くの組合せを可能にする。 図33〜35は基体350として、直接工作された一体化基体のレプリカであって、 それに多重独立、不連続、隆起領域352,354にコーナキューブ素子を含む異なる パターンが繰返されて成る複数の幾何学的構造が形成されている斯かる基体を開 示している。領域の1部分は領域の別の部分から、隆起セクション或いは隆起領 域等のその他の構造によって分離してもよい。1領域の全ての部分は同時に作成 されるべきであり、且つその他の隆起構造の工作と干渉し合わないようにしなけ ればならない。この多重、独立領域の能力は2個より多い領域を有する列体を作 成するのに必要な複写サイクル回数を減少させる。隆起領域は複数のコーナキュ ーブ素子370を有する隣接領域365によって境界付けられている。 図36〜38は初期溝セット398が初期隆起面域395に工作されている初期一体化基 体390を開示している。基体390は初期凹状面域393を有してもよいし、或いはこ れらの面域を溝セット398の工作後に形成することを要求してもよい。図39〜41 は工作基体390のレプリカ402を開示している。レプリカ402において基体390の特 徴は溝セット398により形成された溝が隣り合う領域410より低い領域406におい てピークになるように逆転位される。 図42〜44は基体402として、追加の溝417を備えるように更に工作され、それに よって複数の工作隆起セクション415を作成してい る斯かる基体を開示している。工作隆起セクション415は夫々隣りの領域の類似 構造の基平面424より高い基平面421を分け合っている構造を有している。また、 隣り合う領域の構造のピーク高は同じである。これは図46にも示されている。図 45〜47は夫々基体402として、複数の溝427を含んで成る追加の溝セットを備える ように更に工作され、それによってコーナキューブ素子の領域を形成している斯 かる基体を開示している。領域436はコーナキューブ素子438を含んで成り、領域 442はコーナキューブ素子445を含んで成る。図36〜47に開示の方法は1複写工程 のみを用いて図45〜47の領域化されたコーナキューブ物品を製作する。 図48は初期直接工作一体化基体のレプリカとして上述の通りに製作された基体 455の断面図である。基体455は高さと外形が相違しているコーナキューブ素子を 含む幾何学的構造の領域を含んで成る。図48は構造459,460等の複数の幾何学的 構造として、各々が溝セットの1本の溝によって形成された横面461,462を含ん で成る斯かる構造を示している。少なくとも1つの領域には、幾何学的構造の横 面が分離面466の境界エッジ463を形成している。横面はコーナキューブ或いは他 の幾何学的構造上のコーナキューブ光学面並びに非光学面を含み得る。分離面46 6は断面視で、平坦な或いは湾曲化した部分を有している。 本方法の他の実施例は再帰反射光パターンの形状を更に変形させる、物品の作 成と物品のレプリカの作成を含む。これらの例は溝側によって規定される素子の 他面との直交を生み出すのに必要な角度とは相違している少なくとも1種の溝セ ットにおける少なくとも1つの溝側角を含んで成る。同様に、少なくとも1種の 溝セットは互いに異なる少なくとも2種の溝側角の繰返しパターンを含み得る。 溝切り工具の形状やその他の技法はコーナキューブ素子として、少 なくともキューブのある種のものの少なくとも1つのコーナキューブ素子光学面 の少なくとも1つの大局部が円弧になっている斯かるコーナキューブ素子を作る ことが出来る。この円弧面は凹状でも凸状でもよい。円弧面は溝セットの1種に おける溝の1本によって初期に形成されたものであるが、この面は当該溝に実質 的に平行な方向に平坦である。円弧面は該溝に平行な円筒軸線を有する円筒形で もよいし、該溝に直角な方向に変化する曲率半径を有していてもよい。 隆起多重構造外形は、交通制御材料、再帰反射性自動車マーキング、光電セン サ、標識、内部照明再帰反射性物品、反射性衣服及び再帰反射性マーキング等の 、実質的に全光回帰性能を有する再帰反射性シーテイングを要求する用途におい て特に有益である。隆起多重構造法とコンセプトからもたらされる高められた光 学性能とデザインのフレキシビリテイとが製品性能、コスト効率及び市場利益を 向上させるのに直に関係している。 再帰反射性シーテイングにおける全光回帰性能は実働開口度と再帰反射光線の 強度の積から得られる。キューブ外形、入射角及び屈折率のある種の組合せによ れば、光強度の著しい低減は、実働開口度(割合)が比較的に高いとしても、全 光回帰性能を相対的に低下させる。1例は再帰反射光線の全内部反射に依存して いる再帰反射コーナキューブ素子列体である。光強度は全内部反射のための臨界 角がキューブ面の1つで越えられるならば、実質的に低減される。メタライズや その他の反射性被覆物を列体の1部分に施こすことは、この種の事情において有 利に利用され得る。例えば、シール媒体に接触するキューブ面を有する特殊な隆 起領域はキューブ面が反射性被覆物を有しているときに多くの場合に一層反射す ることになる。この部分は列体全部であってもよい。 分離面は可撓性シーテイングを包含するシーテイングにおける。光透過性、即 ち透明性を、隆起構造或いは多重領域再帰反射性コーナキューブ素子列体を利用 して増大せしめるために有利に利用され得る。例えば、これは通常では射出成形 法を用いて作成される標識や自動車信号光反射器等の内部照明再帰反射性物品に 特に有用である。 再帰反射性直接工作コーナキューブ素子物品は多くの場合に、再帰反射性素子 の隣りに性能向上のための空気等の低屈折率材料を維持するために再帰反射性物 品に施こされるシール媒体を受け入れるように設計される。従来の列体において は、この媒体は多くの場合、全光再帰性能を劣化させるやり方になるようなコー ナキューブ素子との直接の接触状態に配置される。しかし、隆起多重構造の構成 を用いると、シール媒体は低位の再帰反射性コーナキューブ素子に接触すること がなく、この低位素子の光学物性を劣化させることのないように、列体の最高位 面に配置される。この最高位面はコーナキューブ素子、非再帰反射性角錐、台形 、ポスト(柱)或いはその他の構造を包含する。僅かな高さのバラツキが工作公 差や非直交性の意図的誘引により溝の位置やコーナキューブ素子の内角度の僅か な不均等度から生れるとはいえ、これらのバラツキは本発明で開示され、そして 教示されているバラツキとは類似性はない。シール媒体を使用する列体では、最 高位面はコーナキューブ素子の上方の媒体の保持とシーテイングの光透過度の増 大の両方のために面取りされ得る。シーテイングの光透過度は透明或いは部分的 透明シール媒体の使用によって増大され得る。 本発明の方法に従って作られた物品は再帰反射性コーナキューブ素子とシール 媒体の接触を最小限度に抑えるために有用である。図49はコーナキューブ素子を 含む幾何学的構造の複数の領域を有する 基体470の1例を開示している。第1領域は別の領域のキューブ475より高い高度 を有するキューブ473を含んで成る。キューブ473等の相対的に高位の幾何学的構 造は低位の幾何学的構造の上方へ離間させられるシール媒体477のための支持手 段を提供する。同様に、図5は、図49に示す幾何学的構造に加えて隆起セクショ ン484をも含んで成る基体481を示している。隆起セクション484はコーナキュー ブ素子473,475を含むその他の全ての幾何学的構造の上方でシール媒体477を支 持するのに適している。隆起セクション484はシーテイングの光透過度、即ち透 明度を増大させるためにも有利に利用することが出来る。 本発明の再帰反射性の物品やシーテイングに適した材料は好ましくは寸法安定 性、耐久性並びに耐候性があり、且つ所望形態のものに容易に複製され得る透明 材料である。適当な材料の例はガラス;Rohm and Hass Comparyによって製造さ れたPlexiglas ブランドの樹脂等の約1.5の屈折率を有するアクリル;約1.57の 屈折率を有するポリカーボネート;米国特許第4,576,850号、第4,582,885号及び 第4,668,558号に教示されているような反応性材料;SURLYNのブランド名の下でE .I.Dupont de Nemours and Co,Inc.によって市販されているもの等のポリエ チレン基イオノマー;ポリエステル、ポリウレタン;及びセルローズアセテート ブチレートを包含する。ポリカーボネートは一般に入射角の広範囲に亘って再帰 反射性能を向上させるのに貢献するそのタフネスと相対的高い屈折率のために特 に適している。これらの材料は更に、染料、着色剤、顔料、UV安定剤、或いはそ の他の添加剤を包含する。材料の透明性は分離面或いは面取り面が物品やシーテ イングのこれらの部分を通じて光を透過させることを保証する。 隆起セクション及び/或いは分離面の組込みは物品の再帰反射性 を消滅させず、むしろ物品全体を部分的に透明にする。部分的に透明な材料を要 求するある種の用途では、物品の低屈折率が物品を通る光の範囲を改良する。こ れらの用途では、高い光伝達範囲のアクリル(屈折率約1.5)が望ましい。完全再 帰反射性物品では、高屈折率を有する材料が好ましい。これらの用途では、約1. 5の屈折率を有するポリカーボネート等の材料が材料の屈折率と空気の屈折率の 差を高め、従って再帰反射度を増大させるために使用される。更に、ポリカーボ ネートは一般にその温度安定性と衝撃抵抗性のために好ましい材料となる。 本発明の種々の変形と変更は本発明の範囲と精神から逸脱することなく、当業 者にとっては明らかになる。
【手続補正書】特許法第184条の8 【提出日】1995年12月18日 【補正内容】 請求の範囲 1.少なくとも1つの隆起構造を有するコーナキューブ物品を作成する方法で あって: 工作可能な一体化基体を準備し; 該一体化基体に、少なくとも2種の交差する溝のセットによって形成された少 なくとも1つのコーナキューブ素子列体を含んで成る構造面を工作し; 工作可能基体(70)に該構造面のネガコピーを作成し; 該ネガコピーから該基体(70)の第1部分を除去し、それによって該構造面に 第1キャビティ(70)として、該構造面にある2本の平行溝に平行に且つその間 に延在する斯かるキャビティを形成し; 該基体(70)の第2部分を除去し、それによって該構造面に第2キャビティと して、該第1キャビティ(77)の深さと略等しい深さを有する斯かる第2キャビ ティを形成し;そして 該ネガコピーからポジコピーを作成し、それによって該物品が該キャビティ( 77)の逆コピーである少なくとも2種の隆起構造(123,125)を含んで成るよう にした、 以上の諸工程を含んで成る斯かるコーナキューブ物品の製作方法。 2.該基体(70)の第1、第2部分を除去する該工程は該構造面に少なくとも 2個のキャビティ(77)を直接工作する工程を含んで成る、請求項1の方法。 3.分離用層が該コーナキューブ素子列体のコピーを作成する該工程において 使用される、請求項1或いは2の方法。 4.少なくとも1つの隆起構造の表面にコーナキューブ素子(146)の列体を工 作する、請求項1〜3のいづれか1項の方法。 5.該キャビティ(77)が該コーナキューブ素子(75)の高さD″に少なくと も等しい寸法の深さD′を有している側壁(78)によって境界付けられている、 請求項1〜4のいづれか1項の方法。 6.請求項1〜5のいづれか1項に従って製作された物品。 7.基平面(128)に配位する基面と当該基面の反対側の構造面とを有する実質 的に光透明性基体(135)として: 該基体に少なくとも2種のセットの交差する溝によって形成されたコーナキュ ーブ素子の第1列体(116); 該基体に少なくとも2種のセットの交差する溝によって形成されたコーナキュ ーブ素子の第2列体(116);及び 該第1、第2列体の間に延在する第1隆起構造(12); 該第1隆起構造(123)と交差する第2隆起構造(125)を含んで成る斯かる光透明 性基体(135)を含んで成る再帰反射性シーテイングにおいて、 該隆起構造(123,125)が該構造面上の2本の溝に平行に且つその間に延在し ていることを特徴とする再帰反射性シーテイング。 8.該第1隆起構造(123)に隣接して配位する応力分散手段(131)を更に含んで 成る、請求項7に係る再帰反射性シーテイング。 9.該構造面上の最高位コーナキューブ素子が基準平面の上方に高さD″だけ 延在しており;該隆起構造(123)が該基準平面の上方に高さD′だけ延在してお り;そしてD′:D″の比が1.1:1と2.0:1の間の値になる、請求項7或いは 8に係る再帰反射性シーテイング。 10.該隆起構造(123)がその表面上に複数のコーナキューブ素子を含んで成る 、請求項7,8或いは9に係る再帰反射性シーテイング。 11.該構造面に隣接配位するシール媒体(477)を更に含んで成る 、請求項7〜10のいづれか1項に係る再帰反射性シーテイング。 12.該隆起構造(123)は: 該基平面(128)に対し60度と90度の間の値となる角度で該基体(135)の溝から延 在する第1側壁(104); 該基平面に略平行に該第1側壁から延在する頂面(126);及び 該基平面(128)に対し60度と90度の間の値になる角度で該基体(135)の溝まで該 頂面から延在する第2側壁を含んで成る、請求項7〜11のいづれか1項に係る再 帰反射性シーテイング。 13.該頂面(126)が超音波エネルギー集中手段(127)を含む、請求項13に係る再 帰反射性シーテイング。 14.基面と当該基面の反対側の構造面とを含んで成る再帰反射性シーテイング であって、当該構造面は; 少なくとも2種の交差する溝セットによって形成され且つ基準平面(151)の上 方の第1高度に配位している複数のコーナキューブ素子を有する第1領域(142) ;及び 少なくとも2種の交差する溝セットによって形成され且つ基準平面(151)の上 方の該第1高度とは異なる第2高度に配位する複数のコーナキューブ素子を有す る第2領域(146)を含む斯かる再帰反射性シーテイングにおいて、 該第2領域(146)の最深溝の底が共通標準平面を基準にして、該第1領域(142) の最高面より高いことを特徴とする再帰反射性シート。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スミス,ケネス エル. アメリカ合衆国,ミネソタ 55133―3427, セント ポール,ポスト オフィス ボッ クス 33427 (番地なし) (72)発明者 ケリハー,ジョン シー. アメリカ合衆国,ミネソタ 55133―3427, セント ポール,ポスト オフィス ボッ クス 33427 (番地なし) (72)発明者 ガーディナー,マーク イー. アメリカ合衆国,ミネソタ 55133―3427, セント ポール,ポスト オフィス ボッ クス 33427 (番地なし)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.コーナキューブ物品を製作する方法であって: a)再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期一体化直接工作可能基体を 準備し; b)該初期基体にコーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を含んで成る 第1のコーナキューブ素子列体領域を、少なくとも平行な溝の2種のセットを該 基体に直接工作することによって作り; c)再帰反射面を形成するのに適した追加の一体化基体としてコーナキューブ 素子列体領域のレプリカを作成し; d)該レプリカを含んで成る基体材料を部分的に除去し、それによって少なく とも溝セットによって形成されているコーナキューブ素子の深さの側壁によって 境界付けられている少なくとも1つのキャビティをレプリカに形成し; e)レプリカを複製し、それによって再帰反射性面を形成するのに適した追加 の一体化直接工作可能基体として、少なくとも初期平行溝によって形成されてい るコーナキューブ素子の高さの側壁を有する少なくとも1つの隆起セクションを 含んで成る斯かる追加基体を作成し;そして f)少なくとも1つの隆起セクションを直接工作し、それによって平行な溝の 少なくとも2種の溝セットによって境界付けられているコーナキューブ素子を含 む複数の幾何学的構造を含んで成る追加の領域を形成する、 以上の諸工程を含んで成る、斯かるコーナキューブ物品の製作方法。 2.コーナキューブ物品を製作する方法であって: a)再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期一体化直接工 作可能基体を準備し; b)該初期基体に少なくとも2セットの平行溝を直接工作することによって、 該基体にコーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を含んで成る第1のコー ナキューブ素子列体領域を作り; c)再帰反射性面を形成するのに適した追加の一体化基体としてコーナキュー ブ素子列体領域のレプリカを作成し;そして d)該レプリカを含んで成る基体材料を部分的に除去し、それによって少なく とも溝セットによって形成されているコーナキューブ素子の深さの側壁によって 境界付けられている少なくとも2個の互いに交差するキャビティとして、各キャ ビティが他の交差するキャビティの最深度に実質的に等しい深度までレプリカの 中へ延在する少なくとも1つの側壁を含んで成る、斯かる互いに交差するキャビ ティをレプリカに形成する、 以上の諸工程を含んで成る、斯かるコーナキューブ物品の製作方法。 3.キャビティ側壁は側壁間に延在するキャビティ基部として、キャビティか ら複製された隆起セクションの平滑頂面を作るのに適している平滑面を含んで成 る斯ゝるキャビティ基部を形成している、請求項2の方法。 4.複製された隆起セクションの頂面のみが結合用層との結合接触を本質的に 全域で受ける、請求項3の方法。 5.キャビティ側壁が側壁間に延在するキャビティ基部として、キャビティか ら複製された隆起セクションの頂面に超音波エネルギー集中手段を作るのに適し た一定寸法の超音波エネルギー集中手段の形状を含んで成る斯ゝるキャビティを 形成している、請求項2の方法。 6.コーナキューブ物品を製作する方法であって: a)再帰反射性面の形成に適した材料の初期一体化直接工作可能基体を準備し ; b)平行な溝の少なくとも2種のセットを該初期基体に直接工作することによ って、コーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を含んで成る第1のコーナ キューブ素子列体領域を該基体に作り; c)再帰反射性面を形成するのに適した追加の一体化基体としてコーナキュー ブ素子列体領域のレプリカを作成し;そして d)該レプリカを含んで成る基体材料を部分的に除去し、それによって少なく とも溝セットによって形成されたコーナキューブ素子の深さまでの側壁によって 境界付けられている少なくとも1つのキャビティとして、各々が溝セットの1種 と平行整合した状態に形成されている斯かるキャビティを形成する、 以上の諸工程を含んで成る、斯かるコーナキューブ物品の製作方法。 7.レプリカを複製し、それによって再帰反射性面を有するシーテイングの形 成に使用するのに適している追加の一体化直接工作可能基体として、少なくとも 初期平行溝によって形成されているコーナキューブ素子の高さまでの高度の側壁 を有する少なくとも2個の交差する隆起セクションを含んで成る斯かる追加基体 を作成する工程を更に含んで成る、請求項2或いは6に記載の方法。 8.コーナキューブシーテイングを製作する方法であって: a)再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期一体化直接工作可能基体を 準備し; b)平行な溝の少なくとも2種のセットを基体に直接工作することにより、コ ーナキューブ素子を含む複数の幾何学的構造を含んで成るコーナキューブ素子列 体領域を作り; c)再帰反射性面を形成するのに適した追加の一体化基体として コーナキューブ素子列体領域のレプリカを作成し; d)該レプリカを含んで成る基体材料を部分的に除去し、それによって少なく とも溝セットによって形成されたコーナキューブ素子の深さまでの側壁によって 境界付けられた少なくとも1つのキャビティをレプリカに形成し;そして e)レプリカを複製し、それによって少なくとも初期平行溝によって形成され ているコーナキューブ素子の高さまでの側壁を有する少なくとも1つの隆起セク ションと、シーテイングの強度を高める応力消散手段とを含んで成る一体化コー ナキューブシーテイングを作成する、 以上の諸工程を含んで成る、斯かるコーナキューブシーテイングの製作方法。 9.幾何学的構造が複数の互いに異なる幾何学的構造を含む、請求項2の方法 。 10.応力消散手段が隆起セクションと隣りの幾何学的構造との間に延在する湾 曲面として、少なくとも約0.0254mm(100ミクロインチ)の半径を有する斯かる 湾曲面を含んで成る、請求項8の方法。 11.少なくとも1つの隆起セクションを直接工作し、それによって平行な溝の 少なくとも2種の溝セットによって境界付けられているコーナキューブ素子を含 む複数の幾何学的構造を含んで成る追加の領域を形成する工程を更に含んで成る 、請求項7の方法。 12.少なくとも1つの隆起領域にある最深溝の底が共通標準平面を基準にして 、当該隆起領域に隣接する領域の最高度の構造よりも高い深さまで工作されてい る、請求項11の方法。 13.少なくとも3種の溝セットを含んで成る、請求項1の方法。 14.レプリカを作成する該レプリカ工程が複製される表面と追加一体化基体の 表面との間に分離材層を使用することを含んで成る、 請求項7の方法。 15.2種の溝セット内における溝の交差点には第3種の溝セットの溝と一致す るものと、不一致のものとがある、請求項13の方法。 16.コーナキューブ物品の製作方法であって: a)再帰反射性面を形成するのに適した材料の初期一体化直接工作可能基体を 準備し; b)平行な溝の初期溝セットを基体に直接工作し且つ基体材料を部分的に削除 し、それによって少なくとも平行溝の第1種セットの深さまである側壁によって 境界付けられる少なくとも1つのキャビティを基体に形成し; c)再帰反射性面を形成するのに適した初期基体の一体化レプリカとして、少 なくとも1つの隆起セクションを含んで成る斯かるレプリカを作成し;そして d)追加の溝をレプリカに直接工作し、それによって平行な溝の2種のセット によって境界付けられたコーナキューブ素子を含む幾何学的構造の複数の領域を 形成する、 以上の諸工程を含んで成る、斯かるコーナキューブ物品の製作方法。 17.少なくとも1回の工作と複数の追加サイクルを更に含む、請求項1の方法 。 18.直接工作基体の複製によって作成されたシーテイングを強化するための応 力消散手段を形成するための構造を準備する工程を更に含んで成り、当該消散手 段は隆起セクションとその隣りの領域との間に延在し且つ少なくとも約0.00254m m(100ミクロインチ)の半径を有する湾曲面を含んで成る、請求項6の方法。 19.互いに交差する複数のキャビティとして、夫々が他の交差キャビティの最 深度と実質的に等しい深度までレプリカ内に延在して いる少なくとも1つの側壁を有するように形成されている斯かる交差キャビティ を含んで成る、請求項6の方法。 20.レプリカに初期溝セットに平行な追加の少なくとも1本の溝を工作する工 程を更に含んで成る、請求項16の方法。 21.初期溝セットに平行な追加の溝が隆起セクション内にある、請求項20の方 法。 22.キャビティ側壁が初期基体の基平面に対する法線から約30°未満の角度に 形成されている、請求項2の方法。 23.該角度が約5°と約10°の間の範囲にある、請求項22の方法。 24.側壁の高さと、隆起セクションに隣接する基体面域における最高位コーナ キューブ素子の高さとの比が約1.1:1と約2:1の間にある、請求項8の方法 。 25.側壁の高さと、隆起セクションに隣接した基体面域における最高位コーナ キューブ素子の高さとの比が約1.1:1と約2:1との間にある、請求項7の方 法。 26.工作隆起セクション内の溝セットが当該セクションに隣接した少なくとも 1つの領域における溝セットに平行であり、該セクションの溝セットが該セクシ ョンに隣接した少なくとも1つの領域にある溝セットの溝間距離の整数倍である 、請求項16の方法。 27.キャビティが1種の溝セットの溝によって境界付けられている、請求項1 の方法。 28.隆起領域の溝セットが当該隆起領域に隣接する領域の溝セットと平行であ り、隆起領域の溝セットの溝間距離が当該隆起領域に隣接する領域の溝セットの 溝間距離の整数倍である、請求項11の方法。 29.キャビティの少なくとも1つが基体の第1種の溝セットの1 つと整合したチアンネルの形状に形成されている、請求項1の方法。 30.交差するキャビティの側壁が約0.0127mm(0.5mil)以下の深さに形成され ている、請求項19の方法。 31.交差するキャビティの側壁が約7.62×10-3mm(0.3mil)以下の深さに形成 される、請求項30の方法。 32.隆起セクションの最深溝が当該隆起セクションに隣接する面域にある最高 度の幾何学的構造を越える寸法の深さに工作される、請求項1の方法。 33.請求項1,2,6,8或いは16の方法に従って製作されたコーナキューブ 物品。 34.請求項33の物品のレプリカであるコーナキューブ物品。 35.再帰反射性コーナキューブシーテイングである、請求項34の物品。 36.応力消散手段が少なくとも約0.0254mm(1mil)の実質的に均一な厚みのラ ンドを含んで成る、請求項34の方法。 37.交通制御材料、自動車マーキング、光電センサ、内部照明物品、部分光透 過性標識、方位反射器、衣服及びマーキングを包含する構造の群から選択された 構造を含んで成る、請求項35のシーテイング。 38.一連の一体化基体を直接工作することによって形成された領域化された一 体化基体のレプリカであるコーナキューブ物品であって、平行な溝の少なくとも 2種の溝セットによって形成されるコーナキューブ素子を含む幾何学的構造の複 数の領域を有している斯かるコーナキューブ物品。 39.少なくとも1つの隆起セクションとして、当該隆起セクションに隣接する 領域のいづれのコーナキューブ素子よりも高い高度ま で延在している側壁によって境界付けられている斯かる隆起セクションを更に含 んで成る、請求項38の物品。 40.少なくとも1つの隆起領域として、当該隆起領域に隣接した領域のいづれ のコーナキューブ素子よりも高い高度まで延在している側壁によって境界付けら れている斯かる隆起領域を含んで成る、請求項38の物品。 41.側壁が領域化物品の基平面に対する法線から約30°未満の角度で形成され ている、請求項39の物品。 42.該角度が約5°と約10°の間の範囲にある、請求項41の物品。 43.少なくとも1つの隆起領域を更に含んで成る、請求項38の物品。 44.少なくとも1つの隆起領域が当該隆起領域に隣接する領域における最高位 の構造よりも高い高度まで工作されている少なくとも1つの構造を含んで成る、 請求項43の物品。 45.少なくとも1つの隆起領域における最深溝の底が共通標準平面に対し、当 該隆起領域に隣接した領域の最高位構造よりも高い寸法の深さにまで工作されて いる、請求項43の物品。 46.コーナキューブ素子を含む幾何学的構造が平行な溝の2種の溝セットのみ によって形成されており、基体は基部高度とピーク高度を有する少なくとも1つ の幾何学的構造を含んで成る少なくとも1つの領域を含んで成り、隆起領域にお ける当該基部高度がその隣りの領域における構造の最高の基部高度よりも高く、 該ピーク高度がその隣りの領域における構造の最高のピーク高度と同じである、 請求項43の物品。 47.少なくとも1つの隆起セクションを更に含んで成る、請求項43の物品。 48.少なくとも1つの隆起セクションを更に含んで成る、請求項38の物品。 49.再帰反射性コーナキューブシーテイングである、請求項38の物品。 50.反射可能に被覆された部分を含んで成る、請求項50の物品。 51.シーテイングを強化するための応力消散手段として、少なくとも1mil(0. 0254mm)の実質的に均一な厚さを有するランドを含んで成る斯かる応力消散手段 を更に含んで成る、請求項50のシーテイング。 52.基体を強化するための応力消散手段として、隆起セクションとその隣りの 領域との間に延在する約0.00254mm(100ミクロインチ)の半径を有する湾曲面を 含んで成る斯かる応力消散手段を更に含んで成る、請求項48の基体。 53.基体を強化するための応力消散手段として、隆起領域とその隣りの領域と の間に延在する少なくとも約0.00254mm(100ミクロインチ)の半径を有する湾曲 面を含んで成る斯かる応力消散手段を更に含んで成る、請求項43の基体。 54.入射角がゼロにおいて、少なくとも2種の異なる実働開口形状を呈する、 請求項50のシーテイング。 55.少なくとも1つの領域における少なくとも1種の溝セットの少なくとも1 本の溝が分離面の境界エッジを形成する幾何学的構造の横面を規定している、請 求項50のシーテイング。 56.交通制御材料、自動車マーキング、光電センサ、内部照明物品、部分光透 明性標識、方位反射器、衣服及びマーキングを包含する構造の群から選択された 構造を含んで成る、請求項50のシーテイング。 57.多重の高度を有する幾何学的構造を含んで成り、複数の幾何 学的構造が相対的に下位の幾何学的構造の上方へ離間したシール媒体のための支 持手段を提供している、請求項50のシーテイング。 58.隆起領域における溝セットがその隣りの領域における溝セットと平行であ り、隆起領域における溝セットの溝間距離がその隣りの領域における溝セットの 溝間距離の整数倍である、請求項43の物品。 59.各隆起領域が溝セットに整合している、請求項43の物品。 60.各隆起セクションが溝セットと整合している、請求項48の物品。 61.幾何学的構造群が複数の異なる幾何学的構造のものを含む、請求項50の物 品。 62.一連の一体化基体を直接工作することによって形成されている領域化され た一体化基体のレプリカである再帰反射性コーナキューブシーテイングであって 、コーナキューブ素子を含む幾何学的構造の複数の領域を含んで成り、該コーナ キューブ素子が平行な溝の少なくとも2種の溝セットを用いて形成され、シーテ イングが実質的に同一の幾何学的構造を有する複数のコーナキューブ素子を夫々 が含んで成る少なくとも2個の隣り合う領域を含んで成り、当該隣り合う領域が 異なる光学性能を呈する、斯かる再帰反射性コーナキューブシーテイング。 63.シーテイングが少なくとも1つの領域の溝の少なくとも1種の溝セットに おける少なくとも1つの溝側角を有し、当該角が当該溝によって規定されている 素子の他面と直交する角とは相違している、請求項63のシーテイング。 64.少なくとも1つの領域における溝セットの少なくとも1セットが繰返しパ ターン状に互いに異なる少なくとも2種の溝側角を含む、請求項63のシーテイン グ。 65.一連の一体化基体を直接工作することによって形成されたコーナキューブ 物品であって、平行な溝の少なくとも2種の溝セットを用いて形成されているコ ーナキューブ素子を含む幾何学的構造の1領域を含んで成り、且つ少なくとも最 深度の幾何学的構造の深さのキャビティ深度を有する側壁によって境界付けられ た少なくとも2個の交差するキャビティを含んで成る、斯かる構成のコーナキュ ーブ物品。 66.請求項66の物品のレプリカである再帰反射性コーナキューブシーテイング 。 67.側壁の高さと当該側壁に隣接した基体面域にある最高位コーナキューブ素 子との比が約1.1:1と約2:1の間にある、請求項67のシーテイング。 68.物品の交差キャビティを複製しているシーテイングの1部が約0.0127mm( 0.5mil)以下の高度を有する交差する隆起セクションを含んで成る、請求項67の シーテイング。 69.物品の交差キャビティを複製しているシーテイングの1部が約7.62×10-3 mm(0.3mil)以下の高度を有する交差する隆起セクションを含んで成る、請求項 67のシーテイング。 70.交差キャビティがの各々が1種の溝セットに整合している、請求項66の物 品。 71.キャビティの少なくとも1個が1種の溝セットからの溝によって境界付け られている、請求項66の物品。 72.側壁が物品の基平面に対する法線から約30°未満の角度で形成されている 、請求項66の物品。 73.該角度が約5°と約10°の間の範囲にある、請求項73の物品。 74.側壁が隆起セクションを形成しており、該シーテイングがこ れを強化するための応力消散手段として隆起セクションとこれに隣接する基体面 域との間に延在する少なくとも約0.00254mm(100ミクロインチ)の半径を有する 湾曲面を含んで成る、斯かる応力消散手段を更に含んで成る、請求項67のシーテ イング。 75.シーテイング強化のための応力消散手段として、少なくとも約2.54×10-2 mm(1×10-3インチ)の実質的に均一な厚みを有するランドを含んで成る、斯か る応力消散手段を更に含んで成る、請求項67の物品。 76.少なくとも1つの領域における少なくとも1種の溝セットが繰返しパター ン状に互いに異なる少なくとも2種の溝側角を含む、請求項67のシーテイング。 77.交通制御材料、自動車マーキング、光電センサ、内部照明物品、部分光透 明性標識、方位反射器、衣服及びマーキングを包含する構造の群から選択された 構造を含んで成る、請求項67のシーテイング。 78.幾何学的構造群が複数の異なる幾何学的構造のものを含む、請求項66の物 品。 79.シーテイングが少なくとも1つの領域における溝の少なくとも1種の溝セ ットの少なくとも1種の溝側角として、当該溝によって規定されている素子の他 面と直交させている角度とは異なる斯かる溝側角を含んで成る、請求項50のシー テイング。 80.少なくとも1つの領域における溝の少なくとも1種の溝セットが繰返しパ ターン状に互いに異なる少なくとも2種の溝側角を含む、請求項50のシーテイン グ。
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