JPH0948833A - Production of phenolic resin - Google Patents

Production of phenolic resin

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JPH0948833A
JPH0948833A JP19837395A JP19837395A JPH0948833A JP H0948833 A JPH0948833 A JP H0948833A JP 19837395 A JP19837395 A JP 19837395A JP 19837395 A JP19837395 A JP 19837395A JP H0948833 A JPH0948833 A JP H0948833A
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phenol
acid
acid catalyst
producing
unreacted
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嘉久 曽根
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  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a high-purity phenolic resin by using a specific acid catalyst and also treating the reaction mixture after reaction to efficiently remove the acid catalyst and unreacted phenol. SOLUTION: First, a phenolic compound (pref. phenol or o-cresol) is reacted with a xylylene compound of the formula (R<+> and R<2> are each H, a 1-4C alkyl, etc.) (pref. xylylene glycol) in the presence of an acid catalyst, i.e., a haloalkanesulfonic acid (e.g. trifluoromethanesulfonic acid) or a haloalkanecarboxylic acid (e.g. trichloroacetic acid), <=250 deg.C in boiling point. After completing the condensation reaction, the acid catalyst as well as unreacted phenolic compound is removed from the system by distillation under reduced pressures. Furthermore, the remaining acid catalyst is neutralized with at least equivalent of a tertiary amine [pref. 1,8-diazabicyclo(5, 4, 0)undecene-7[ or its phenolic salt or an imidazole compound (pref. 2-ethyl-4-methyl-imidazole).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各種バインダー、
コーティング材、積層材料、成形材料等に有用なフェノ
ール系重合体の製造方法に関する。特に電子材料用のエ
ポキシ硬化剤やエポキシ樹脂の原料に好適な、不純物の
少ない高純度の重合体を効率的に得る製造方法に関する
ものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to various binders,
The present invention relates to a method for producing a phenolic polymer useful as a coating material, a laminated material, a molding material and the like. In particular, the present invention relates to a production method for efficiently obtaining a high-purity polymer containing few impurities, which is suitable as a raw material for an epoxy curing agent or an epoxy resin for electronic materials.

【0002】[0002]

【従来の技術】フェノールホルムアルデヒド樹脂は、安
価な耐熱性樹脂として各種の用途に広く使用されてい
る。また、通常のフェノール樹脂の各特性を向上する目
的で開発された、構造の異なる各種の樹脂が知られてい
る。特に、特公昭47−15111号公報などに記載
の、α,α’−ジメトキシp−キシレンなどのアラルキ
ル化合物とフェノール類との縮合反応によって得られる
重縮合物はフェノールアラルキル樹脂として良く知られ
ており、優れた耐熱性、電気特性、耐湿耐薬品性によ
り、各種用途に広く使用されている。更に、近年ではI
Cの高密度化、小型薄型化、表面実装化に伴い、耐湿性
が要求される封止材分野での硬化剤としての利用が広が
っている。
2. Description of the Related Art Phenol formaldehyde resin is widely used for various purposes as an inexpensive heat resistant resin. Further, various resins having different structures, which have been developed for the purpose of improving the properties of ordinary phenol resins, are known. Particularly, a polycondensate obtained by a condensation reaction between an aralkyl compound such as α, α'-dimethoxy p-xylene and a phenol described in JP-B-47-15111 is well known as a phenol aralkyl resin. Widely used in various applications due to its excellent heat resistance, electrical characteristics, and humidity and chemical resistance. Furthermore, in recent years I
Along with higher density, smaller size and thinner surface mounting of C, and surface mounting, the use of C as a curing agent is expanding in the field of encapsulating materials that require moisture resistance.

【0003】上記フェノールアラルキル樹脂の製造方法
に関しては、従来より多数の方法が開示されている。最
も一般的な製造方法として、例えば特公昭47−151
11号公報や特公昭和48−10960公報では、アラ
ルキルハライドまたはアラルキルアルコール誘導体に対
し、過剰モルのフェノールを、フリーデルクラフツ型触
媒やジエチル硫酸などの存在下で反応させる方法が記載
されている。この反応の触媒としてp−トルエンスルホ
ン酸(特公昭63−238129号)、メタンスルホン
酸(特公昭63−238129号)なども開示されてい
る。
Regarding the method for producing the above-mentioned phenol aralkyl resin, many methods have been disclosed in the past. The most general manufacturing method is, for example, Japanese Patent Publication No. 47-151.
Japanese Patent Publication No. 11 and Japanese Patent Publication No. Showa 48-10960 describe a method of reacting an aralkyl halide or an aralkyl alcohol derivative with an excess molar amount of phenol in the presence of a Friedel-Crafts type catalyst or diethyl sulfuric acid. As a catalyst for this reaction, p-toluenesulfonic acid (Japanese Patent Publication No. 63-238129), methanesulfonic acid (Japanese Patent Publication No. 63-238129) and the like are also disclosed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の公報に開示されている方法では、触媒を反応生成物か
ら完全に分離することは困難で、得られる樹脂は酸性物
質を大なり小なり含有している。そのため、不純物を特
に嫌う様な用途にはそのままでは適用できず、水洗によ
る触媒の除去などが必要である。また、残存する酸性物
質が製造過程や使用中に分子量分布の変化、粘度上昇、
フェノール類モノマーの再生などの問題を引き起こし、
品質が安定しないという欠点を有している。
However, in the methods disclosed in these publications, it is difficult to completely separate the catalyst from the reaction product, and the resin obtained contains more or less acidic substances. ing. Therefore, it cannot be applied as it is to the use where impurities are particularly disliked, and it is necessary to remove the catalyst by washing with water. In addition, the residual acidic substance changes in the molecular weight distribution, increases in viscosity during the manufacturing process and use,
Causing problems such as regeneration of phenolic monomers,
It has the drawback that the quality is not stable.

【0005】生成物から実質的に問題が無くなる程度に
酸性物質を除去する目的で、塩化水素を触媒として連続
的または間欠的に添加し反応を完結させ、その後減圧下
で未反応フェノール化合物を回収する際に同時に触媒を
除去する方法が報告されている(特開平5−24718
3)。しかしながらこの方法では塩化水素の腐食性のた
め、反応器、凝縮器等の製造設備をガラス等の腐食され
ない材質にする必要がある。
For the purpose of removing an acidic substance from the product to the extent that there is substantially no problem, hydrogen chloride is continuously or intermittently added as a catalyst to complete the reaction, and then the unreacted phenol compound is recovered under reduced pressure. At the same time, a method for removing the catalyst has been reported (JP-A-5-24718).
3). However, in this method, since hydrogen chloride is corrosive, it is necessary to use glass or other non-corrosive materials for manufacturing equipment such as reactors and condensers.

【0006】製造過程や使用時における粘度上昇や分子
量変化を防止するためには中和処理が効果的であるが、
アルカリ金属化合物やアルカリ土類化合物などで中和し
た場合、生成する塩が不純物として問題になるケースが
多く品質上好ましくない。
Neutralization treatment is effective in order to prevent viscosity increase and molecular weight change during the production process and during use.
When neutralized with an alkali metal compound, an alkaline earth compound or the like, the salt produced is often problematic as an impurity, which is not preferable in terms of quality.

【0007】アルカリ土類化合物については、本発明者
は先に、残存するスルホン酸類の中和剤として、バリウ
ムの水酸化物、酸化物または炭酸塩を用いれば、生成す
るスルホン酸塩が不溶化することに着目し、イオン成分
が少なく腐食性の低減した樹脂組成物を得ることが出来
ることを提案した(特開平3−128922号公報)。
しかし、この方法を本発明の課題解決の目的に使用した
場合、中和剤が僅かでも過剰量になった場合、バリウム
の水酸化物や酸化物が不純物として問題になり、逆に中
和剤が僅かでも不足すると中和の効果が低減する。その
ため中和剤の添加量を厳密にコントロールする必要があ
り、工業的に効率よく製造するには難しい状況である。
Regarding the alkaline earth compound, the present inventor previously uses a hydroxide, oxide or carbonate of barium as a neutralizing agent for the remaining sulfonic acids to insolubilize the produced sulfonate. Focusing on this, it was proposed that a resin composition having a small amount of ionic components and a reduced corrosiveness can be obtained (JP-A-3-128922).
However, when this method is used for the purpose of solving the problem of the present invention, if the neutralizing agent is in a slight excess, barium hydroxide or oxide becomes a problem as an impurity, and conversely the neutralizing agent is used. If even a small amount is insufficient, the effect of neutralization decreases. Therefore, it is necessary to strictly control the addition amount of the neutralizing agent, which is a difficult situation for industrially efficient production.

【0008】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、不純物が少なく高純度で、かつ製品の粘度な
ど、品質が安定したフェノールアラルキル系樹脂を効率
的に得る製造方法を提供することをその目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a production method for efficiently obtaining a phenol aralkyl-based resin having a small amount of impurities, high purity, and stable product quality such as viscosity. That is the purpose.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため、触媒種の検討や除去方法、および中和剤
種の選択やその方法などについて鋭意検討した結果、上
記の課題を解決し、高純度でかつ品質の安定したフェノ
ールアラルキル系樹脂の製造法を見いだし、本発明に到
達した。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention has achieved the above-mentioned problems as a result of earnestly studying the examination and removal method of catalyst species, selection of neutralizing agent species and the method thereof. As a result, a method for producing a phenol aralkyl-based resin having high purity and stable quality was found, and the present invention was achieved.

【0010】即ち本発明の第1の発明は、フェノール類
と、下記一般式(1)
That is, the first aspect of the present invention is to provide phenols and the following general formula (1):

【化3】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に、水素原子また
はC1 〜C4 のアルキル基、またはC2 〜C4 のアシル
基である)で表されるキシリレン化合物とを、酸触媒の
存在下で反応させて、フェノールアラルキル樹脂を製造
する方法において、 酸触媒として、沸点が250℃以下のハロゲノアルカ
ンスルホン酸またはハロゲノアルカンカルボン酸を用
い、 減圧蒸留処理により未反応フェノールとともに酸触媒
を除去し、 残存した酸触媒を等量以上の3級アミン類またはその
フェノール塩またはイミダゾール類で中和することを特
徴とする、実質的に酸触媒および未反応フェノールを含
まないフェノール系樹脂の製造方法である。
Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a C 1 to C 4 alkyl group, or a C 2 to C 4 acyl group), and a xylylene compound In the method for producing a phenol aralkyl resin by reacting in the presence of an acid catalyst, a halogenoalkanesulfonic acid or a halogenoalkanecarboxylic acid having a boiling point of 250 ° C. or less is used, and the acid catalyst is removed together with unreacted phenol by vacuum distillation treatment. Then, the remaining acid catalyst is neutralized with an equal amount or more of a tertiary amine or its phenol salt or imidazole, and a method for producing a phenolic resin containing substantially no acid catalyst and unreacted phenol. Is.

【0011】本発明はまた、上記減圧蒸留処理工程を2
段階にわけ、第1段階の減圧蒸留処理工程では未反応フ
ェノール量が特定の範囲に達した段階で止め、これを本
発明の前記中和剤で中和した後、更に未反応フェノール
がなくなるまで減圧蒸留処理を行うこともできる。この
方法により更に製品品質の優れたフェノール系樹脂が得
られる。本発明は上記改良方法である第2の発明を包含
する。
The present invention also includes the above vacuum distillation treatment step.
In the first step, the vacuum distillation treatment step is stopped when the amount of unreacted phenol reaches a specific range and neutralized with the above-mentioned neutralizing agent of the present invention, until the unreacted phenol disappears. A vacuum distillation treatment can also be performed. By this method, a phenolic resin having an excellent product quality can be obtained. The present invention includes a second invention which is the above-mentioned improved method.

【0012】即ち第2の発明はフェノール類と、下記一
般式(1)
That is, the second aspect of the present invention is to provide phenols and the following general formula (1):

【化4】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に、水素原子また
はC1〜C4のアルキル基、またはC2〜C4のアシル
基である)で表されるキシリレン化合物とを、酸触媒の
存在下で反応させて、フェノールアラルキル樹脂を製造
する方法において、 酸触媒として、沸点が250℃以下のハロゲノアルカ
ンスルホン酸または、ハロゲノアルカンカルボン酸を用
い、 反応生成物を第1段の減圧蒸留処理工程により、未反
応フェノールが10wt%未満、3wt%以上になるま
で未反応フェノールと酸触媒とを除去し、 残存した酸触媒を等量以上の3級アミン類またはその
フェノール塩またはイミダゾール類で中和した後、 更に未反応フェノールがなくなるまで第2段の減圧蒸
留処理を行うことを特徴とする、実質的に酸触媒および
未反応フェノールを含まないフェノールアラルキル樹脂
の製造方法である。 以下、本発明を詳細に説明する。
Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C4 alkyl group, or a C2 to C4 acyl group) are reacted with a xylylene compound in the presence of an acid catalyst. In the method for producing a phenol aralkyl resin, a halogenoalkanesulfonic acid having a boiling point of 250 ° C. or lower or a halogenoalkanecarboxylic acid is used as an acid catalyst, and the reaction product is treated by the first-stage vacuum distillation treatment step. After the unreacted phenol and the acid catalyst are removed until the reaction phenol is less than 10 wt% and 3 wt% or more, and the remaining acid catalyst is neutralized with an equal amount or more of a tertiary amine or its phenol salt or imidazole, Further, the second step vacuum distillation treatment is carried out until the unreacted phenol is exhausted, which is substantially the acid catalyst and the unreacted phenol. A method for producing a phenol aralkyl resin free. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明のフェノール系樹脂に原料
として用いられるフェノール類は、芳香族環に結合した
ヒドロキシル基を1個または2個以上有する各種の単環
型、多核型、または縮合多環型芳香族化合物が使用でき
る。具体例としては、フェノール;クレゾール、キシレ
ノール、エチルフェノール、ブチルフェノール、フェニ
ルフェノール、ハロゲン化フェノール、などの置換フェ
ノール類;レゾルシン、カテコール、ジヒドロキシビフ
ェニル、テトラメチルジヒドロキシビフェニル、ビスフ
ェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノールFなど
の2価フェノール類;α−ナフトールやβ−ナフトー
ル、ナフタレンジオールなどの縮合多環型フェノール類
が挙げられ、これらを1種もしくは2種以上使用するこ
とができる。これらのフェノール類の中でも好ましくは
フェノール、o−クレゾール、p−クレゾール、p−フ
ェニルフェノール、カテコール、4,4’−ジヒドロキ
シビフェニル、α−またはβ−ナフトールが用いられ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Phenols used as a raw material for the phenolic resin of the present invention are various monocyclic type, polynuclear type, or condensed polycyclic type having one or more hydroxyl groups bonded to an aromatic ring. A cyclic aromatic compound can be used. Specific examples include phenol; substituted phenols such as cresol, xylenol, ethylphenol, butylphenol, phenylphenol, halogenated phenol; resorcin, catechol, dihydroxybiphenyl, tetramethyldihydroxybiphenyl, bisphenol A, bisphenol S, bisphenol F, etc. And condensed polycyclic phenols such as α-naphthol, β-naphthol, and naphthalenediol. These can be used alone or in combination of two or more. Among these phenols, phenol, o-cresol, p-cresol, p-phenylphenol, catechol, 4,4′-dihydroxybiphenyl, α- or β-naphthol are preferably used.

【0014】本発明のフェノール系樹脂製造の原料とし
て用いられるキシリレン化合物は下記一般式(1)で示
される。
The xylylene compound used as a raw material for producing the phenolic resin of the present invention is represented by the following general formula (1).

【化5】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に、水素原子また
はC1〜C4のアルキル基、またはC2〜C4のアシル
基である)
Embedded image (In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a C1-C4 alkyl group, or a C2-C4 acyl group)

【0015】この様なキシリレン化合物としては、キシ
リレングリコールの他、R1 及びR2 の種類により、各
種のキシレングリコールモノまたはジエーテル及びキシ
レングリコールモノまたはジエステルを包含する。キシ
リレングリコールエーテルとしては、キシリレングリコ
ールジメチルエーテル、キシリレングリコールジエチル
エーテル、キシリレングリコールジプロピルエーテル、
キシリレングリコールジブチルエーテル、キシリレング
リコールモノメチルエーテル、キシリレングリコールモ
ノエチルエーテルなどが挙げられ、またキシリレングリ
コールエステルとしては、キシリレングリコールジ酢酸
エステル、キシリレングリコールジプロピオン酸エステ
ル、キシリレングリコールジ酪酸エステル、キシリレン
グリコールモノ酢酸エステル等が挙げられる。これらの
中では特にキシリレングリコール、キシリレングリコー
ルジメチルエーテル等が好適である。上記(1)式中の
−CH2 ORの置換位置は、オルト、メタ、パラのいず
れでもよいが、一般的に好ましいのはパラ位またはメタ
位であり、パラ単独、または用途によってはメタキシリ
レン化合物とパラキシリレン化合物の混合系、特にメタ
/パラ比が1/9〜9/1である混合キシリレン化合物
が耐湿性、耐熱性等が優れたフェノール系樹脂が得られ
るので好ましい。
Such xylylene compounds include, in addition to xylylene glycol, various xylene glycol mono or diethers and xylene glycol mono or diesters depending on the types of R 1 and R 2 . As the xylylene glycol ether, xylylene glycol dimethyl ether, xylylene glycol diethyl ether, xylylene glycol dipropyl ether,
Examples thereof include xylylene glycol dibutyl ether, xylylene glycol monomethyl ether, and xylylene glycol monoethyl ether, and examples of the xylylene glycol ester include xylylene glycol diacetic acid ester, xylylene glycol dipropionic acid ester, and xylylene glycol diethyl ester. Examples include butyric acid ester and xylylene glycol monoacetic acid ester. Of these, xylylene glycol and xylylene glycol dimethyl ether are particularly preferable. The substitution position of —CH 2 OR in the above formula (1) may be any of ortho, meta and para, but a para position or a meta position is generally preferred, and a para-xylamine compound or a meta-xylylene compound may be used depending on the use. And a para-xylylene compound, especially a mixed xylylene compound having a meta / para ratio of 1/9 to 9/1 is preferable because a phenol resin having excellent moisture resistance and heat resistance can be obtained.

【0016】フェノール類に対するキシリレン化合物
は、モル比で0.1〜0.8が好ましい。このモル比が
0.1未満では、未反応のフェノール類が多くなり収率
が下がるため好ましくない。0.8を越えると生成樹脂
の分子量が増大し、軟化温度が上昇し成形時の流動性の
低下を招き易いため好ましくない。より好ましい割合は
0.2〜0.7である。
The molar ratio of the xylylene compound to the phenols is preferably 0.1 to 0.8. If this molar ratio is less than 0.1, unreacted phenols increase and the yield decreases, which is not preferable. When it exceeds 0.8, the molecular weight of the produced resin increases, the softening temperature rises, and the fluidity at the time of molding tends to be lowered, which is not preferable. A more preferable ratio is 0.2 to 0.7.

【0017】本発明では酸触媒として沸点が250℃以
下のハロゲノアルカンスルホン酸またはハロゲノアルカ
ンカルボン酸を用いる。沸点が250℃以下であれば、
樹脂反応後、未反応原料のフェノール類を減圧蒸留など
によって回収する際に同時に除去できるため、水洗洗浄
などの面倒な工程の追加が不要になる。具体例として
は、トリフルオロメタンスルホン酸(b.p.162
℃)やトリクロロ酢酸(b.p.197.5℃)が挙げ
られる。
In the present invention, a halogenoalkanesulfonic acid or a halogenoalkanecarboxylic acid having a boiling point of 250 ° C. or lower is used as the acid catalyst. If the boiling point is 250 ° C or lower,
After the resin reaction, the unreacted raw material phenols can be removed at the same time when they are recovered by vacuum distillation or the like, so that it is not necessary to add troublesome steps such as washing with water. As a specific example, trifluoromethanesulfonic acid (bp 162)
C.) and trichloroacetic acid (bp 197.5 ° C.).

【0018】酸触媒の使用量には特に制限はないが、触
媒や原料の種類によりフェノール類およびキシリレン化
合物の合計量に対して、0.001〜5重量%の範囲内
で適正量添加する事が好ましい。添加する際、触媒を水
や適当な溶剤に希釈して添加することは、触媒の均一分
散や触媒の実効量の微調整という観点で好ましい方法で
ある。
The amount of the acid catalyst used is not particularly limited, but it should be added in an appropriate amount within the range of 0.001 to 5% by weight with respect to the total amount of phenols and xylylene compounds depending on the type of catalyst and raw materials. Is preferred. At the time of addition, diluting the catalyst with water or an appropriate solvent and adding it is a preferable method from the viewpoint of uniform dispersion of the catalyst and fine adjustment of the effective amount of the catalyst.

【0019】本発明におけるフェノール類とキシリレン
化合物との反応は、通常100〜180℃、好ましくは
110〜160℃の温度範囲で行う。反応時間は一般に
1〜10時間である。
The reaction between the phenols and the xylylene compound in the present invention is usually carried out in the temperature range of 100 to 180 ° C, preferably 110 to 160 ° C. The reaction time is generally 1 to 10 hours.

【0020】フェノール類とキシリレン化合物とを反応
させるとき、キシリレン化合物を同時に加えて反応を進
めても良く、また、必要に応じて逐次添加して反応させ
てもよい。
When the phenols and the xylylene compound are reacted, the xylylene compound may be added at the same time to proceed the reaction, or if necessary, they may be sequentially added and reacted.

【0021】この反応は、縮合反応であり、縮合によっ
て生成する水、又は使用するキシリレン化合物の種類に
よっては、アルコールまたはカルボン酸を生成しながら
進行する。
This reaction is a condensation reaction and proceeds while forming water or alcohol or carboxylic acid depending on the type of xylylene compound used.

【0022】縮合反応が完結した後、系内の酸触媒は未
反応のフェノール類と共に減圧下で留去させるか、また
は不活性ガスを吹き込みながら減圧蒸留するなどの適当
な方法によって留去される。
After the condensation reaction is completed, the acid catalyst in the system is distilled off together with unreacted phenols under reduced pressure, or by a suitable method such as distillation under reduced pressure while blowing an inert gas. .

【0023】減圧蒸留処理後、重合物中に僅かに残った
酸触媒を完全に失活する目的で、残存酸量に対し等量以
上の中和剤を用いて中和を行う。本発明においてはこの
場合の中和剤として、3級アミン類またはそのフェノー
ル塩、またはイミダゾール類を用いる。
After the distillation under reduced pressure, for the purpose of completely deactivating the acid catalyst slightly remaining in the polymer, neutralization is carried out using a neutralizing agent in an amount equal to or more than the residual acid amount. In the present invention, as a neutralizing agent in this case, a tertiary amine or a phenol salt thereof, or an imidazole is used.

【0024】3級アミン類およびそのフェノール塩とし
て具体的には、トリエチルアミン、トリエチレンジアミ
ン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、
トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、トリス
(ジメチルアミノ)フェノール、1,8−ジアザビシク
ロ(5,4,0)ウンデセン−7またはそのフェノール
塩等が挙げられるが特に1,8−ジアザビシクロ(5,4,
0 )ウンデセン−7またはそのフェノール塩が好まし
い。
Specific examples of the tertiary amines and their phenol salts include triethylamine, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine,
Examples thereof include tris (dimethylaminomethyl) phenol, tris (dimethylamino) phenol, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 or a phenol salt thereof, but particularly 1,8-diazabicyclo (5,4,
0) Undecene-7 or its phenolic salt is preferred.

【0025】イミダゾール類としては2−メチルイミダ
ゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ヘプタデシル
イミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−エ
チル4−メチルイミダゾール、2−フェニル4−メチル
イミダゾール等が挙げられるが、特に2−エチル4−メ
チルイミダゾールが好ましい。これらの中和剤は1種も
しくは2種以上で併用することも出来る。
Examples of the imidazoles include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl4-methylimidazole and the like. Particularly preferred is 2-ethyl 4-methylimidazole. These neutralizing agents may be used alone or in combination of two or more.

【0026】中和剤の添加量については残存した酸量に
対し等量以上が必要であり、もし中和剤の添加量が、残
存した酸量に対し不足する場合には、熱安定性が不足
し、使用の際に熱履歴を受けると、粘度上昇、分子量分
布の増大、未反応フェノールの再生などの問題が生じる
ので、製品品質上好ましくない。
The amount of the neutralizing agent added needs to be equal to or more than the amount of the remaining acid. If the amount of the neutralizing agent added is insufficient with respect to the amount of the remaining acid, the thermal stability will be poor. If insufficient and subjected to heat history during use, problems such as increase in viscosity, increase in molecular weight distribution and regeneration of unreacted phenol occur, which is not preferable in terms of product quality.

【0027】本発明の中和剤を用いた場合、その中和剤
の添加量が残存する酸量に対して等量を超えた場合でも
実用上全く問題が起こらない。実作業においては、中和
直前の樹脂中の酸量を改めて定量せず、酸触媒が仕込量
の全量残っていると仮定しその量に対して等量の中和剤
を添加した場合、実際には中和剤が過剰に添加されてい
るが、半導体封止用のエポキシ樹脂硬化剤など不純物が
極めて厳しく規制される用途においても全く問題なく適
用できる。従って中和剤添加量のコントロールは容易で
あり、これが本発明の中和剤を用いることによる優れた
効果である。
When the neutralizing agent of the present invention is used, even if the added amount of the neutralizing agent exceeds the equivalent amount with respect to the residual acid amount, no problem occurs in practical use. In actual work, when the amount of acid in the resin just before neutralization was not quantified again and it was assumed that the acid catalyst remained in the total amount charged, and an equal amount of neutralizing agent was added to that amount, Although a neutralizing agent is excessively added to the above, it can be applied without any problems even in applications where impurities are extremely strictly regulated, such as an epoxy resin curing agent for semiconductor encapsulation. Therefore, it is easy to control the amount of the neutralizing agent added, which is an excellent effect of using the neutralizing agent of the present invention.

【0028】中和剤の添加法についても、酸触媒添加時
と同様の目的で、中和剤を水や適当な溶剤に希釈して添
加することが好ましい。
Regarding the method of adding the neutralizing agent, it is preferable to add the neutralizing agent after diluting it with water or a suitable solvent for the same purpose as when adding the acid catalyst.

【0029】第2の発明は第1の発明において、減圧蒸
留による触媒およびフェノール類の除去を厳密にコント
ロールし、中和処理と触媒およびフェノール類の除去工
程のタイミングを更に規定した改良方法である。
A second invention is an improved method according to the first invention, wherein the removal of the catalyst and the phenols by vacuum distillation is strictly controlled, and the timing of the neutralization treatment and the steps of removing the catalyst and the phenols is further defined. .

【0030】フェノール類などの原料種の違いによる脱
フェノール類工程の温度条件や、触媒量などの配合条件
によっては、縮合反応完結後のフェノール類および触媒
の除去工程における熱履歴により、分子量分布の増大、
粘度の上昇、未反応フェノール類の再生が起こり、しば
しば製品の品質が安定しないことがある。
Depending on the temperature conditions in the dephenoling step due to the difference in the raw materials such as phenols and the blending conditions such as the amount of catalyst, the thermal history in the step of removing phenols and catalyst after completion of the condensation reaction may cause Increase,
Increased viscosity and regeneration of unreacted phenols often result in unstable product quality.

【0031】分子量分布の増大、粘度の上昇、未反応フ
ェノール類の再生などの現象は、僅かに残存した酸触媒
による重合体分子の解裂・再重合によって引き起こされ
ることが判明している。
It has been found that phenomena such as an increase in molecular weight distribution, an increase in viscosity, and the regeneration of unreacted phenols are caused by the cleavage and repolymerization of polymer molecules with a slight residual acid catalyst.

【0032】上記の現象を本発明における減圧蒸留処理
による未反応フェノールと酸触媒の除去操作との関係に
ついて検討した結果、脱触媒/脱フェノール類工程の最
終段階で系内のフェノール類が3%以下になった頃から
この現象が起こり始めることが分かった。そこでこの問
題について本発明の改良方法を更に検討した結果、この
ような現象が起こる直前で未反応フェノール量が特定の
範囲に達した時に一旦減圧蒸留による脱触媒・脱フェノ
ール処理工程を中断し、その時点で僅かに残存した酸を
中和処理した後、更にフェノールが実質的に含まれなく
なるまで除去を継続すれば上記の問題を回避できること
を見出した。その結果、溶融粘度や分子量分布がきわめ
て再現よく安定し、フェノール類モノマーも殆ど残存し
ない最終重合物が得ることができる。減圧蒸留について
は、減圧度や、選択するフェノール類の種類により異な
るが、例えばフェノールを使用した場合、中和前の処理
温度は150℃以下にすることが好ましい。150℃を
超えると系内のフェノール量が特定の範囲に達する以前
に重合体分子の開裂、再重合が引き起こされることがあ
るため、好ましくない。
As a result of examining the relationship between the above-mentioned phenomenon and the operation of removing the unreacted phenol and the acid catalyst by the distillation under reduced pressure in the present invention, the phenols in the system were 3% at the final stage of the decatalysis / dephenolization process. It became clear that this phenomenon began to occur when the following became true. Therefore, as a result of further studying the improved method of the present invention with respect to this problem, when the amount of unreacted phenol reached a specific range immediately before such a phenomenon, the decatalysis / dephenol treatment step by vacuum distillation was once interrupted, It was found that the above problem can be avoided by neutralizing the slightly remaining acid at that point and then continuing the removal until the phenol is substantially not contained. As a result, it is possible to obtain a final polymerized product in which the melt viscosity and the molecular weight distribution are extremely reproducibly stable and the phenolic monomer hardly remains. The vacuum distillation varies depending on the degree of vacuum and the type of phenols selected, but when phenol is used, for example, the treatment temperature before neutralization is preferably 150 ° C. or lower. If the temperature exceeds 150 ° C., cleavage and repolymerization of polymer molecules may occur before the amount of phenol in the system reaches a specific range, which is not preferable.

【0033】第2の発明は具体的には、第1の発明と同
様の条件でフェノール類とキシリレン化合物の縮合反応
を完結させた後、減圧蒸留処理工程を2段階にわけ、第
1段階の減圧蒸留処理工程では系内中の未反応フェノー
ル類の含有量が10重量%未満〜3重量%以上の範囲に
達した段階で減圧蒸留を一旦中断し、その時点で、中和
剤により僅かに残存している酸触媒を中和・失活させた
後、第2段の減圧蒸留により未反応フェノール類が実質
的に含有しなくなるまで再度除去処理を行うことによっ
て、目的のフェノール系樹脂を得る。中和剤の種類及び
量については、第1の発明と同様に行なうことが出来
る。
In the second invention, specifically, after the condensation reaction of the phenols and the xylylene compound is completed under the same conditions as in the first invention, the vacuum distillation treatment step is divided into two steps, and the first step is performed. In the vacuum distillation treatment step, the vacuum distillation is temporarily interrupted when the content of unreacted phenols in the system reaches the range of less than 10% by weight to 3% by weight or more, and at that time, the amount of the unreacted phenols is slightly reduced by the neutralizing agent. After neutralizing and deactivating the remaining acid catalyst, the target phenolic resin is obtained by performing the removal treatment again by the second-stage vacuum distillation until substantially no unreacted phenols are contained. . The type and amount of the neutralizing agent can be the same as in the first invention.

【0034】第2の発明による改良法に従えば、更に不
純物が少なく高純度で、かつ粘度などの品質がより安定
したフェノールアラルキル系樹脂を効率的に得ることが
出来る。
According to the improved method of the second invention, it is possible to efficiently obtain a phenol aralkyl-based resin which has less impurities, is highly pure, and has a more stable quality such as viscosity.

【0035】本発明方法により得られたフェノール系樹
脂は各種バインダー、コーティング材、積層材料、成形
材料等や半導体封止用エポキシ樹脂硬化剤及び各種レジ
スト剤等に広く応用することができるが、不純物が少な
く高純度で品質が安定しているので、特に半導体封止用
エポキシ樹脂硬化剤やエレクトロニクス用レジスト剤に
適した高品質のフェノール系樹脂の製法として有用であ
る。
The phenolic resin obtained by the method of the present invention can be widely applied to various binders, coating materials, laminating materials, molding materials, epoxy resin curing agents for semiconductor encapsulation and various resist agents. Since it is low in purity and stable in quality, it is particularly useful as a method for producing a high-quality phenolic resin suitable for an epoxy resin curing agent for semiconductor encapsulation and a resist agent for electronics.

【0036】[0036]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。なお実施例、比較例で得られた製品の物性測定法、
熱安定テストの方法は以下のとおりである。 (1)電気伝導度 微粉サンプル8gを純水80g
中、95℃×20hrs 抽出し、抽出水の電気伝導率を測
定 (2)残フェノール類含量:ガスクロマト法による (3)溶融粘度:ICI溶融粘度計使用 150℃ (4)熱安定性テスト:160℃×5hrs 熱処理後、上
記(2)(3)の残フェノール類含量及び溶融粘度を測
The present invention will be described below in detail with reference to examples. Incidentally, the method for measuring the physical properties of the products obtained in Examples and Comparative Examples,
The method of heat stability test is as follows. (1) Electric conductivity 80 g of fine powder sample was added to 80 g of pure water.
Measured at 95 ℃ x 20hrs and measured the electric conductivity of the extracted water. (2) Content of residual phenols: by gas chromatography (3) Melt viscosity: ICI melt viscometer 150 ℃ (4) Thermal stability test: After heat treatment at 160 ℃ for 5hrs, measure residual phenol content and melt viscosity in (2) and (3) above.

【0037】[実施例1]撹拌装置、コンデンサー、及
び窒素ガス導入管を備えたステンレス製反応釜に、フェ
ノール59950重量部、p−キシリレングリコールジ
メチルエーテル55050重量部、トリフルオロメタン
スルホン酸6.9重量部を1wt%の水溶液に希釈して
添加し、窒素ガス気流下、130〜140℃に加熱し、
反応で生成するメタノールを除去しながら、縮合物の発
生が認められなくなるまで3時間の反応を行った。
Example 1 In a stainless steel reaction kettle equipped with a stirrer, a condenser, and a nitrogen gas introducing tube, 59,950 parts by weight of phenol, 55,050 parts by weight of p-xylylene glycol dimethyl ether, and 6.9 parts by weight of trifluoromethanesulfonic acid. Part was diluted and added to a 1 wt% aqueous solution, and heated to 130 to 140 ° C. under a nitrogen gas stream,
While removing methanol produced by the reaction, the reaction was carried out for 3 hours until generation of a condensate was not observed.

【0038】その後、50torr以下の減圧下、窒素
をバブリングさせながら110℃から140℃まで昇温
しながら7時間蒸留し、系内のトリフルオロメタンスル
ホン酸と未反応フェノールを除去した。その後7.0重
量部の1,8−ジアザビシクロ(5,4,0 )ウンデセン−
7(トリフルオロメタンスルホン酸の仕込量に対し、等
モル(2倍等量))を1wt%の水溶液に希釈して添加
し、5分間撹拌することにより中和と希釈水の除去を行
い、反応釜からの抜き出しにより69920重量部の目
的物を得た。得られたフェノール樹脂の性状を表1に示
す。
Then, under reduced pressure of not more than 50 torr, distillation was carried out for 7 hours while heating from 110 ° C. to 140 ° C. while bubbling nitrogen to remove trifluoromethanesulfonic acid and unreacted phenol in the system. Then, 7.0 parts by weight of 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-
7 (equimolar amount (2 times equivalent amount) to the charged amount of trifluoromethanesulfonic acid) is diluted and added to a 1 wt% aqueous solution, and the mixture is stirred for 5 minutes to neutralize and remove diluted water, and then the reaction By extracting from the kettle, 69920 parts by weight of the desired product was obtained. Table 1 shows the properties of the obtained phenol resin.

【0039】[実施例2]実施例1で用いたと同じ反応
釜に水蒸気導入管を設置し、フェノール59950重量
部、p−キシリレングリコールジメチルエーテル550
50重量部、トリフルオロメタンスルホン酸6.9重量
部を1wt%の水溶液に希釈して添加し、水蒸気気流
下、130〜140℃に加熱し、反応で生成するメタノ
ールを除去しながら、縮合物の発生が認められなくなる
まで3時間の反応を行った。縮合反応が終了した時点で
の釜内重合物中の未反応フェノール含有率は19.7w
t%であった。
Example 2 A steam introducing tube was installed in the same reaction vessel as used in Example 1, and 59950 parts by weight of phenol and 550 p-xylylene glycol dimethyl ether were added.
50 parts by weight and 6.9 parts by weight of trifluoromethanesulfonic acid were diluted and added to an aqueous solution of 1 wt% and heated to 130 to 140 ° C. under a steam flow to remove methanol produced by the reaction while removing the condensate. The reaction was carried out for 3 hours until generation was not observed. The content of unreacted phenol in the polymerization product in the kettle at the time when the condensation reaction was completed was 19.7 w.
It was t%.

【0040】その後、未反応フェノールとトリフルオロ
メタンスルホン酸を除去するため、50torr以下の
減圧下、水蒸気をバブリングさせながら110℃より昇
温させ1.5時間の蒸留処理を行った(温度は136℃
まで上昇)。その時点で一旦蒸留を中断し中和を行っ
た。中和は、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0 )ウンデ
セン−7を7.0重量部(トリフルオロメタンスルホン
酸の仕込量に対し、等モル(2倍等量))を2wt%の
水溶液に希釈して添加して実施した。中和直前の釜内重
合物中の残フェノール含有量は5.4wt%、中和滴定
法による残トリフルオロメタンスルホン酸含有量は24
ppmであった。
After that, in order to remove unreacted phenol and trifluoromethanesulfonic acid, distillation treatment was carried out under reduced pressure of 50 torr or less while bubbling steam up to 110 ° C. for 1.5 hours (temperature is 136 ° C.).
Up). At that time, the distillation was once interrupted to carry out neutralization. Neutralization was performed by adding 7.0 parts by weight of 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 (equimolar amount (2 times equivalent amount) to the charged amount of trifluoromethanesulfonic acid) to a 2 wt% aqueous solution. It was carried out by diluting and adding. Immediately before neutralization, the residual phenol content in the kettle polymer was 5.4 wt% and the residual trifluoromethanesulfonic acid content by the neutralization titration method was 24.
It was ppm.

【0041】中和処理に引き続き、減圧蒸留を再開し、
3時間の処理を実施し(温度は145℃まで昇温後、キ
ープ)69950重量部の目的物を得た。得られたフェ
ノール樹脂の性状を表1に示す。
Following the neutralization treatment, vacuum distillation is restarted,
The treatment was carried out for 3 hours (the temperature was raised to 145 ° C. and then kept) to obtain 69950 parts by weight of the desired product. Table 1 shows the properties of the obtained phenol resin.

【0042】[実施例3]原料仕込量を、フェノール6
2840重量部とし、キシリレン化合物としてp−キシ
リレングリコールジメチルエーテル52160重量部を
用い、また中和剤を1,8−ジアザビシクロ(5,4,0 )
ウンデセン−7の代わりに2−エチル4−メチルイミダ
ゾール5.1重量部用いた以外は、実施例2と同様にし
て、フェノール樹脂の製造及び触媒と未反応フェノール
の除去を行ない、フェノール樹脂65110重量部を得
た。
[Example 3] The amount of raw material charged was changed to phenol 6
2840 parts by weight, p-xylylene glycol dimethyl ether 52160 parts by weight as a xylylene compound, and a neutralizing agent of 1,8-diazabicyclo (5,4,0)
Production of a phenol resin and removal of the catalyst and unreacted phenol were carried out in the same manner as in Example 2 except that 5.1 parts by weight of 2-ethyl 4-methylimidazole was used in place of undecene-7. I got a part.

【0043】なお、反応釜内の生成物中の未反応フェノ
ール量は、縮合反応終了時に23.0wt%、中和処理
前で6.2wt%であった。また、中和処理前のトリフ
ルオロメタンスルホン酸の含有量は24ppmであっ
た。得られたフェノール樹脂の性状を表1に示す。
The amount of unreacted phenol in the product in the reaction vessel was 23.0 wt% at the end of the condensation reaction and 6.2 wt% before the neutralization treatment. Further, the content of trifluoromethanesulfonic acid before the neutralization treatment was 24 ppm. Table 1 shows the properties of the obtained phenol resin.

【0044】[実施例4]仕込原料の内、p−キシリレ
ングリコールジメチルエーテル55050重量部のかわ
りにm−キシリレングリコールジメチルエーテル413
00重量部とp−キシリレングリコールジメチルエーテ
ル13750重量部の混合物を用いた以外は、実施例2
と同様にして、縮合反応、第1段減圧蒸留、中和、第2
段減圧蒸留を逐次行なって、触媒と未反応フェノールの
除去を行ない、69950重量部の目的物を得た。中和
処理前の未反応フェノール量は6.7wt%であった。
得られたフェノール樹脂の性状を表1に示す。
[Example 4] Of the charged raw materials, m-xylylene glycol dimethyl ether 413 was used instead of 55,050 parts by weight of p-xylylene glycol dimethyl ether.
Example 2 except that a mixture of 00 parts by weight and 13750 parts by weight of p-xylylene glycol dimethyl ether was used.
In the same manner as above, condensation reaction, first-stage vacuum distillation, neutralization, second
The catalyst and unreacted phenol were removed by successively performing staged vacuum distillation to obtain 69950 parts by weight of the desired product. The amount of unreacted phenol before the neutralization treatment was 6.7 wt%.
Table 1 shows the properties of the obtained phenol resin.

【0045】[実施例5]撹拌装置、コンデンサー及び
窒素ガス導入管を備えたセパラブルフラスコに、カテコ
ール645重量部、m−キシリレングリコールジメチル
エーテル379重量部、p−キシリレングリコールジメ
チルエーテル126重量部を仕込み、窒素ガス気流下、
130まで昇温した。 トリクロロ酢酸1.7重量部を
10wt%水溶液に希釈し、2時間かけて滴下しなが
ら、130〜140℃で4時間の縮合反応を行った。反
応で生成するメタノールは系外に除去しコンデンサーで
濃縮した。縮合反応が終了した時点での釜内重合物中の
未反応カテコール含有率は20.1wt%であった。
Example 5 A separable flask equipped with a stirrer, a condenser and a nitrogen gas inlet tube was charged with 645 parts by weight of catechol, 379 parts by weight of m-xylylene glycol dimethyl ether and 126 parts by weight of p-xylylene glycol dimethyl ether. Preparation, under nitrogen gas flow,
The temperature was raised to 130. 1.7 parts by weight of trichloroacetic acid was diluted with a 10 wt% aqueous solution, and a condensation reaction was carried out at 130 to 140 ° C. for 4 hours while adding dropwise over 2 hours. The methanol produced by the reaction was removed outside the system and concentrated with a condenser. The content of unreacted catechol in the polymerization product in the kettle at the time when the condensation reaction was completed was 20.1 wt%.

【0046】その後、未反応カテコールと残存している
トリクロロ酢酸を除去するため、20torr以下の減
圧下、窒素をバブリングさせながら110℃より昇温さ
せ2.5時間の蒸留処理を行った(温度は165℃まで
上昇)。その時点で一旦減圧蒸留を中断し、縮合反応お
よびそれまでの減圧処理によって系外へ揮発しコンデン
サーで冷却トラップされた留出物の重量と原料仕込重量
の差から、中和直前のフラスコ内生成物の重量を求め
(820重量部)、またフラスコ内生成物中のトリクロ
ロ酢酸含有率(30ppm)を中和滴定法で求めること
により、釜内に残存しているトリクロロ酢酸の絶対量
0.025重量部を算出した。
Thereafter, in order to remove the unreacted catechol and the remaining trichloroacetic acid, a distillation treatment was performed for 2.5 hours while raising the temperature from 110 ° C. while bubbling nitrogen under a reduced pressure of 20 torr or less. Up to 165 ° C). At that point, the vacuum distillation was interrupted once, and due to the difference between the weight of the distillate volatilized out of the system due to the condensation reaction and the previous vacuum treatment and cooled and trapped in the condenser, and the weight of the raw material charged, it was generated in the flask immediately before neutralization. By determining the weight of the product (820 parts by weight) and the content of trichloroacetic acid (30 ppm) in the product in the flask by the neutralization titration method, the absolute amount of trichloroacetic acid remaining in the kettle was 0.025. Parts by weight were calculated.

【0047】次に残存するトリクロロ酢酸に対し、4倍
当量(0.046重量部)の1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0 )ウンデセン−7を過剰のフェノールと反応さ
せたフェノール塩として添加し、中和を行った。なお中
和処理前の未反応カテコールの含有量は、釜内生成物に
対し8.0wt%であった。
Then, 4-fold equivalent (0.046 parts by weight) of 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 was added to the remaining trichloroacetic acid as a phenol salt obtained by reacting with excess phenol. Then, neutralization was performed. The content of unreacted catechol before the neutralization treatment was 8.0 wt% with respect to the product in the kettle.

【0048】その後、中和処理に引続き、減圧蒸留を再
開し、5時間の処理を実施して(温度は190℃まで昇
温後、キープ)、わずかに残ったカテコールを昇華させ
て除去し、73200重量部の目的物を得た。得られた
フェノール系樹脂の性状を表1に示す。
Then, following the neutralization treatment, vacuum distillation was restarted, treatment was carried out for 5 hours (the temperature was raised to 190 ° C. and kept), and a small amount of catechol remaining was removed by sublimation. 73,200 parts by weight of the desired product was obtained. The properties of the obtained phenolic resin are shown in Table 1.

【0049】[比較例1]1,8−ジアザビシクロ(5,
4,0 )ウンデセン−7による中和処理を施さなかった以
外は、実施例1と同様の操作により、フェノール樹脂の
製造及び触媒と未反応フェノールの除去を行ない、フェ
ノール樹脂69910重量部を得た。得られた製品の性
状を表1に示す。
Comparative Example 1 1,8-diazabicyclo (5,
4,0) Undecene-7 was not used for the neutralization treatment, and the same procedure as in Example 1 was carried out to produce a phenol resin and remove the catalyst and unreacted phenol to obtain 69910 parts by weight of a phenol resin. . Table 1 shows the properties of the obtained product.

【0050】[比較例2]実施例1と同様の装置で、同
様の原料仕込量・合成条件のもと、縮合反応を実施し
た。その後、実施例1と同様の減圧蒸留条件で未反応フ
ェノールとトリフルオロメタンスルホン酸の除去を行っ
たところ、生成物中の未反応フェノール含有量は0.8
wt%であった。これを更に減圧蒸留を続けることによ
り生成物中の未反応フェノール量の減少を試み、140
〜150℃/50torrの減圧蒸留を追加継続した。
[Comparative Example 2] A condensation reaction was carried out in the same apparatus as in Example 1 under the same raw material charge and synthesis conditions. After that, unreacted phenol and trifluoromethanesulfonic acid were removed under reduced pressure distillation conditions similar to those in Example 1, and the unreacted phenol content in the product was 0.8.
It was wt%. Attempts were made to reduce the amount of unreacted phenol in the product by further continuing the distillation under reduced pressure.
Vacuum distillation at 150 ° C / 50 torr was additionally continued.

【0051】ところが、3時間の蒸留処理を追加して
も、フェノールモノマーの含有量は減少せず、逆に1.
2wt%に上昇した。更に2時間の追加処理を実施した
が、フェノールモノマーは更に1.6wt%まで上昇
し、併せて溶融粘度の増加も認められたので、処理を終
了し、68530重量部のフェノール樹脂を得た。この
生成物の性状を表1に示す。
However, the addition of the distillation treatment for 3 hours did not reduce the content of the phenol monomer, and conversely 1.
It increased to 2 wt%. After an additional treatment of 2 hours, the phenol monomer further increased to 1.6 wt% and the melt viscosity was also increased. Therefore, the treatment was terminated to obtain 68530 parts by weight of a phenol resin. The properties of this product are shown in Table 1.

【0052】[比較例3]実施例2で使用した装置で、
実施例2と同様の原料仕込量・合成条件のもと、縮合反
応を実施した。その後、実施例2と同様に、50tor
r以下の減圧下、水蒸気をバブリングさせながら110
℃より昇温させ1.5時間の蒸留処理を行った。
[Comparative Example 3] In the apparatus used in Example 2,
The condensation reaction was carried out under the same raw material charging amount and synthesis conditions as in Example 2. Then, as in Example 2, 50 torr
110 under reduced pressure below r while bubbling steam.
The temperature was raised from ° C and the distillation treatment was performed for 1.5 hours.

【0053】この時点で一旦蒸留を中断し、縮合反応お
よびそれまでの減圧処理によって系外へ揮発しコンデン
サーで冷却トラップされた留出物の重量と原料仕込重量
の差から、中和直前の釜内生成物の重量を求め(758
40重量部)、また釜内生成物中のトリフルオロメタン
スルホン酸含有率(27ppm)を中和滴定法で求める
ことにより、釜内に残存しているトリフルオロメタンス
ルホン酸の絶対量2.05重量部を算出した。
At this point, the distillation was temporarily stopped, and the difference between the weight of the distillate volatilized out of the system by the condensation reaction and the pressure reduction treatment up to that time and cooled and trapped by the condenser and the weight of the raw material charged, the kettle just before neutralization was determined. Calculate the weight of internal products (758
40 parts by weight), and the trifluoromethanesulfonic acid content (27 ppm) in the product in the kettle was determined by the neutralization titration method to give an absolute amount of trifluoromethanesulfonic acid remaining in the kettle of 2.05 parts by weight. Was calculated.

【0054】次に水酸化バリウム8水和物を2wt%の
水溶液に希釈し中和を行った。水酸化バリウムの添加量
は、残存トリフルオロメタンスルホン酸量の定量精度を
勘案し、水酸化バリウムの過剰配合による残存水酸化バ
リウムの悪影響を考慮し、残存トリフルオロメタンスル
ホン酸の計算値に対し、0.85当量(4.31重量
部)とした。
Next, barium hydroxide octahydrate was diluted with a 2 wt% aqueous solution to neutralize it. The amount of barium hydroxide added is 0 relative to the calculated value of residual trifluoromethanesulfonic acid in consideration of the accuracy of quantitative determination of the amount of residual trifluoromethanesulfonic acid and the adverse effect of residual barium hydroxide due to excessive blending of barium hydroxide. It was set to 0.85 equivalent (4.31 parts by weight).

【0055】その後、中和処理に引続き、減圧蒸留を再
開し、3時間の処理を実施し(温度は145℃まで昇温
後、キープ)69940重量部の生成物を得た。得られ
たフェノール樹脂の性状を表1に示す。
Then, following the neutralization treatment, vacuum distillation was restarted and treatment was carried out for 3 hours (the temperature was raised to 145 ° C. and kept) to obtain 69940 parts by weight of a product. Table 1 shows the properties of the obtained phenol resin.

【0056】[0056]

【表1】 [Table 1]

【0057】表1の結果から明らかなように、実施例1
〜5ではいずれも残存フェノール類の少ない高純度のフ
ェノール系樹脂が得られ、熱履歴による製品品質の変化
もなかった。これに反し、中和剤不使用または本発明以
外の中和剤を用いた比較例の方法ではいずれも熱安定性
が悪い。また比較例2から明らかなように、減圧蒸留を
長時間行なっても残存フェノール量は却って増加し、溶
融粘度も増加する傾向を示した。
As is clear from the results shown in Table 1, Example 1
In all of Nos. 5 to 5, high-purity phenolic resins with less residual phenols were obtained, and there was no change in product quality due to heat history. On the contrary, the heat stability is poor in any of the comparative examples using no neutralizing agent or using a neutralizing agent other than the present invention. Further, as is clear from Comparative Example 2, the residual phenol amount rather increased and the melt viscosity also tended to increase even after long-time vacuum distillation.

【0058】[比較例4]実施例2で使用した装置で、
実施例2と同様の原料仕込量・合成条件のもと、縮合反
応を実施した。その後、実施例2と同様に、50tor
r以下の減圧下、水蒸気をバブリングさせながら110
℃より昇温させ1.5時間の蒸留処理を行った。
[Comparative Example 4] In the apparatus used in Example 2,
The condensation reaction was carried out under the same raw material charging amount and synthesis conditions as in Example 2. Then, as in Example 2, 50 torr
110 under reduced pressure below r while bubbling steam.
The temperature was raised from ° C and the distillation treatment was performed for 1.5 hours.

【0059】この時点で一旦蒸留を中断し、水酸化バリ
ウム8水和物を中和剤と中和を行なった。水酸化バリウ
ムの添加量は、実施例2と同様にトリフルオロメタンス
ルホン酸の仕込量に対し、等モル(2倍当量)の14.
5重量部を2wt%水溶液に希釈して添加した。なお中
和直前の釜内重合物の残フェノール含有量および残トリ
フルオロメタンスルホン酸含有量を事後に確認したとこ
ろ、各々5.9wt%及び21ppmであった。
At this point, the distillation was once stopped, and barium hydroxide octahydrate was neutralized with a neutralizing agent. The addition amount of barium hydroxide was equal to that of trifluoromethanesulfonic acid as in Example 2 (14 times equivalent).
5 parts by weight was diluted with a 2 wt% aqueous solution and added. When the residual phenol content and residual trifluoromethanesulfonic acid content of the kettle polymer immediately before neutralization were confirmed after the fact, they were 5.9 wt% and 21 ppm, respectively.

【0060】中和処理に引続き、実施例2と同様の条件
で減圧蒸留を再実施し、69940重量部のフェノール
樹脂を得た。このフェノール樹脂を微粉にし、8gを純
水80g中、95℃×20hrs の条件で抽出した。抽出
水のICP分析により、樹脂ベースで64ppmのBa
イオンが抽出された。これはバリウムの水酸化物等が不
純物として残留していることを意味していおり、高品質
のものではない。
Following the neutralization treatment, vacuum distillation was carried out again under the same conditions as in Example 2 to obtain 69940 parts by weight of a phenol resin. This phenol resin was made into a fine powder, and 8 g was extracted in 80 g of pure water under the condition of 95 ° C. × 20 hrs. According to ICP analysis of the extracted water, Ba of 64 ppm on resin basis
Ions were extracted. This means that the hydroxide of barium and the like remains as impurities and is not of high quality.

【0061】[実施例6、比較例5]実施例2及び比較
例1をそれぞれ繰り返し製造した場合の製品物性の再現
性(物性のバラツキ)を調べた。結果を表2に示す。
[Example 6 and Comparative Example 5] The reproducibility of the physical properties of the product (variation in the physical properties) when Example 2 and Comparative Example 1 were repeatedly manufactured was examined. Table 2 shows the results.

【0062】[0062]

【表2】 [Table 2]

【0063】[実施例7、比較例6]1.5m3 の反応
釜を用い実施例2及び比較例1の10倍スケールで反応
させ、スケールを変更した場合の樹脂物性の再現性を調
べた。実施例2及び比較例1の結果とともにそれぞれ表
3に示す。
[Example 7, Comparative Example 6] Using a 1.5 m 3 reaction kettle, the reaction was carried out on a 10-fold scale of Example 2 and Comparative Example 1, and the reproducibility of the resin physical properties when the scale was changed was examined. . The results are shown in Table 3 together with the results of Example 2 and Comparative Example 1.

【0064】[0064]

【表3】スケールアップ時の性状への影響 [Table 3] Effects on properties during scale-up

【0065】実施例6及び実施例7では繰り返し、ある
いはスケールアップによる再現性は良好であるが、比較
例5及び比較例6では良好な再現性は得られない。
In Examples 6 and 7, reproducibility by repeating or scaling up is good, but in Comparative Examples 5 and 6, good reproducibility is not obtained.

【0066】[0066]

【発明の効果】特定の触媒で樹脂化を行ない、減圧蒸留
処理と特定の中和剤による中和処理を行なうことによ
り、触媒や未反応フェノール類等の酸性イオン物質を効
率的に除去することができ、高性能を要求される不純物
の少ない高純度のフェノール系樹脂を得ることができ
る。
EFFECTS OF THE INVENTION To efficiently remove acidic ionic substances such as catalysts and unreacted phenols by carrying out resinification with a specific catalyst and performing vacuum distillation treatment and neutralization treatment with a specific neutralizing agent. It is possible to obtain a high-purity phenolic resin with few impurities that requires high performance.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フェノール類と、下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に、水素原子また
はC1 〜C4 のアルキル基、またはC2 〜C4 のアシル
基である)で表されるキシリレン化合物とを、酸触媒の
存在下で反応させて、フェノールアラルキル樹脂を製造
する方法において、 酸触媒として、沸点が250℃以下のハロゲノアルカ
ンスルホン酸またはハロゲノアルカンカルボン酸を用
い、 減圧蒸留処理により未反応フェノールとともに酸触媒
を除去し、 残存した酸触媒を等量以上の3級アミン類またはその
フェノール塩またはイミダゾール類で中和することを特
徴とする、実質的に酸触媒および未反応フェノールを含
まないフェノール系樹脂の製造方法。
1. Phenols and the following general formula (1): (Wherein R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a C 1 to C 4 alkyl group, or a C 2 to C 4 acyl group), and a xylylene compound In the method for producing a phenol aralkyl resin by reacting in the presence of an acid catalyst, a halogenoalkanesulfonic acid or a halogenoalkanecarboxylic acid having a boiling point of 250 ° C. or less is used, and the acid catalyst is removed together with unreacted phenol by vacuum distillation treatment. Then, the remaining acid catalyst is neutralized with an equal amount or more of a tertiary amine or its phenol salt or imidazole, and a method for producing a phenolic resin containing substantially no acid catalyst and unreacted phenol. .
【請求項2】 3級アミン類またはそのフェノール塩が
1,8−ジアザビシクロ(5,4,0 )ウンデセン−7、ま
たはそのフェノール塩である請求項1記載のフェノール
系樹脂の製造方法。
2. The method for producing a phenolic resin according to claim 1, wherein the tertiary amine or its phenol salt is 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, or its phenol salt.
【請求項3】 イミダゾール類が2−エチル4−メチル
イミダゾールである請求項1〜2に記載のフェノール系
樹脂の製造方法。
3. The method for producing a phenolic resin according to claim 1, wherein the imidazole compound is 2-ethyl 4-methylimidazole.
【請求項4】 フェノール類と、下記一般式(1) 【化2】 (式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に、水素原子また
はC1〜C4のアルキル基、またはC2〜C4のアシル
基である)で表されるキシリレン化合物とを、酸触媒の
存在下で反応させて、フェノールアラルキル樹脂を製造
する方法において、 酸触媒として、沸点が250℃以下のハロゲノアルカ
ンスルホン酸またはハロゲノアルカンカルボン酸を用い 反応生成物を第1段の減圧蒸留処理工程により、未反
応フェノール類が10wt%未満、3wt%以上になる
まで未反応フェノール類と酸触媒とを除去し、 残存した酸触媒を等量以上の3級アミン類またはその
フェノール塩またはイミダゾール類で中和した後、 更に未反応フェノール類がなくなるまで第2段の減圧
蒸留処理を行うことを特徴とする、実質的に酸触媒およ
び未反応フェノールを含まないフェノールアラルキル樹
脂の製造方法。
4. Phenols and the following general formula (1): (Wherein R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C4 alkyl group, or a C2 to C4 acyl group) are reacted with a xylylene compound in the presence of an acid catalyst. In the method for producing a phenol aralkyl resin, a halogenoalkanesulfonic acid or a halogenoalkanecarboxylic acid having a boiling point of 250 ° C. or lower is used as an acid catalyst, and the reaction product is subjected to a first-stage vacuum distillation treatment step to obtain an unreacted phenol. After the unreacted phenols and the acid catalyst are removed until the amount of the compounds is less than 10 wt% and 3 wt% or more, and the remaining acid catalyst is neutralized with an equal amount or more of the tertiary amine or its phenol salt or imidazole, Further, the second step vacuum distillation treatment is carried out until the unreacted phenols are exhausted. Method for producing a phenol aralkyl resin containing no.
【請求項5】 3級アミン類またはそのフェノール塩が
1,8−ジアザビシクロ(5,4,0 )ウンデセン−7、ま
たはそのフェノール塩である請求項4記載のフェノール
系樹脂の製造方法。
5. The method for producing a phenolic resin according to claim 4, wherein the tertiary amine or its phenol salt is 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 or its phenol salt.
【請求項6】 イミダゾール類が2−エチル4−メチル
イミダゾールである請求項4〜5に記載のフェノール系
樹脂の製造方法。
6. The method for producing a phenolic resin according to claim 4, wherein the imidazole is 2-ethyl-4-methylimidazole.
【請求項7】 キシリレン化合物が、メタ/パラ比1/
9〜9/1のメタキシリレン化合物とパラキシリレン化
合物の混合物である請求項1〜6に記載のフェノール系
樹脂の製造方法。
7. The xylylene compound has a meta / para ratio of 1 /
The method for producing a phenolic resin according to claim 1, which is a mixture of a 9-9 / 1 meta-xylylene compound and a para-xylylene compound.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1837364A1 (en) * 2006-03-20 2007-09-26 A. Weber (Société Anonyme) Process for neutralization of residual acids in phenolic compositions
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JP2016094543A (en) * 2014-11-14 2016-05-26 三菱レイヨン株式会社 Method of reducing metal amount in polymer solution and method for producing polymer solution for semiconductor lithography
US20220403586A1 (en) * 2014-03-14 2022-12-22 Si Group, Inc. Methods of using a phenolic fatty acid compound on a synthetic fabric material

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