JPH0948768A - ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール系化合物の合成方法 - Google Patents
２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール系化合物の合成方法Info
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- JPH0948768A JPH0948768A JP8169329A JP16932996A JPH0948768A JP H0948768 A JPH0948768 A JP H0948768A JP 8169329 A JP8169329 A JP 8169329A JP 16932996 A JP16932996 A JP 16932996A JP H0948768 A JPH0948768 A JP H0948768A
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D249/18—Benzotriazoles
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール系化合物の新規な合成方法を提供する。 【解決手段】 下記式（ＩＶ）： で示される化合物上の少なくとも−ＸＨ基を、−Ｘ（Ｐ
Ｇ）基〔ＰＧ基はＨ以外の基であり、続く閉環工程では
除去されない〕の形成により保護し、保護形の化合物を
生成させる保護工程と、上記化合物を還元剤と反応させ
て下記式（ＶＩ）： 〔式中、ＺはＨ又は保護基である〕で示される化合物を
生成させる閉環工程と、上記の化合物を、ＰＧをＨで置
換し且つＺがＨでない場合にはＺもＨで置換することに
より脱保護して、下記式（ＶＩＩ）の化合物を生成させ
る脱保護工程とを含む合成方法。 〔式中、Ｒ１〜Ｒ７は、Ｈ、ハロゲン、シアノなど、Ｘ
はＯ、Ｓ、ＮＲ８、Ｒ８はＨ、アルキルなどを示す〕
リアゾール系化合物の新規な合成方法を提供する。 【解決手段】 下記式（ＩＶ）： で示される化合物上の少なくとも−ＸＨ基を、−Ｘ（Ｐ
Ｇ）基〔ＰＧ基はＨ以外の基であり、続く閉環工程では
除去されない〕の形成により保護し、保護形の化合物を
生成させる保護工程と、上記化合物を還元剤と反応させ
て下記式（ＶＩ）： 〔式中、ＺはＨ又は保護基である〕で示される化合物を
生成させる閉環工程と、上記の化合物を、ＰＧをＨで置
換し且つＺがＨでない場合にはＺもＨで置換することに
より脱保護して、下記式（ＶＩＩ）の化合物を生成させ
る脱保護工程とを含む合成方法。 〔式中、Ｒ１〜Ｒ７は、Ｈ、ハロゲン、シアノなど、Ｘ
はＯ、Ｓ、ＮＲ８、Ｒ８はＨ、アルキルなどを示す〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線吸収性化合
物の合成において有用な前駆体である２−（２’−ヒド
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾール系化合物の合成方
法に関する。
物の合成において有用な前駆体である２−（２’−ヒド
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾール系化合物の合成方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】当該技術分野では、塗料、プラスチッ
ク、ポリマー及びコーティングに有用な紫外線吸収性化
合物として２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール系化合物が知られている。この化合物は、カ
ラー写真プリントにおけるイエロー、マゼンタ及びシア
ンの画像色素の退色を防止するのに特に有用なハロゲン
化銀写真要素に特に用いられている。このような化合物
のうち４’−又は５’−の位置にヒドロキシ又はアミノ
置換基を有するものが従来技術では公知であり、そして
４’−又は５’−置換基の様々な紫外線吸収性誘導体を
合成するのに用いられている。例えば、このような４’
−又は５’−ヒドロキシ又はアミノ置換化合物を使用す
ることが、米国特許第３，１２３，０５８号、同第３，
０７２，５８５号、欧州特許第０ １９０ ００３号、
米国特許第５，３７２，９２２号、特開昭６３−５５５
４２号、仏国特許第１，３３０，３７８号、同第１，３
２４，８９８号、同第１，３２４，８９７号、英国特許
第９９１ ２０４号、同第９９１ ３２０号、同第９９
１ １４２号、同第９９１ ６３０号及び同第９９１２
０４号並びにこれらの中に記載されている文献に記載さ
れている。下式（ＶＩＩＩ）：
ク、ポリマー及びコーティングに有用な紫外線吸収性化
合物として２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール系化合物が知られている。この化合物は、カ
ラー写真プリントにおけるイエロー、マゼンタ及びシア
ンの画像色素の退色を防止するのに特に有用なハロゲン
化銀写真要素に特に用いられている。このような化合物
のうち４’−又は５’−の位置にヒドロキシ又はアミノ
置換基を有するものが従来技術では公知であり、そして
４’−又は５’−置換基の様々な紫外線吸収性誘導体を
合成するのに用いられている。例えば、このような４’
−又は５’−ヒドロキシ又はアミノ置換化合物を使用す
ることが、米国特許第３，１２３，０５８号、同第３，
０７２，５８５号、欧州特許第０ １９０ ００３号、
米国特許第５，３７２，９２２号、特開昭６３−５５５
４２号、仏国特許第１，３３０，３７８号、同第１，３
２４，８９８号、同第１，３２４，８９７号、英国特許
第９９１ ２０４号、同第９９１ ３２０号、同第９９
１ １４２号、同第９９１ ６３０号及び同第９９１２
０４号並びにこれらの中に記載されている文献に記載さ
れている。下式（ＶＩＩＩ）：
【０００３】
【化４】
【０００４】で示される３’，５’−ジアルキル置換基
を含有する（又はアルキル置換基を１個しか若しくはま
ったく含まない）市販の２−（２’−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールは、その対応するアゾ色素から
公知の還元的閉環反応法によって容易に入手できるよう
である。他方、式（ＶＩＩＩ）の化合物と類似した化合
物であるが４’−又は５’−アミノ又はヒドロキシ置換
基をさらに有する化合物〔後記式（ＶＩＩ）を参照のこ
と〕を、その対応する下式（ＩＶ）のアゾ色素化合物の
還元的閉環反応によって高収率で合成することは難し
い。
を含有する（又はアルキル置換基を１個しか若しくはま
ったく含まない）市販の２−（２’−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールは、その対応するアゾ色素から
公知の還元的閉環反応法によって容易に入手できるよう
である。他方、式（ＶＩＩＩ）の化合物と類似した化合
物であるが４’−又は５’−アミノ又はヒドロキシ置換
基をさらに有する化合物〔後記式（ＶＩＩ）を参照のこ
と〕を、その対応する下式（ＩＶ）のアゾ色素化合物の
還元的閉環反応によって高収率で合成することは難し
い。
【０００５】
【化５】
【０００６】上式中、ＸはＯ、Ｓ又はＮＲ8 である。Au
stralian Journal of Chemistry, Vol. 40, pp. 1663-1
673 (1987)に掲載されている J. Rosevear及び J.F.K.
Wilshireによる論文の中に、対応する２’，４’−ジメ
トキシ置換基を有するアゾ色素を最初に合成する２−
（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ールの合成方法が記載されている。対応するアゾ色素を
次いでチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシドによって閉環さ
せる。この２’，４’−ジメトキシ置換色素は、対応す
るメトキシ置換アニリンと２−ニトロニトロソベンゼン
とを反応させて生成させる。しかしながら、上記の方法
には、得られる２’，４’−ジメトキシ置換アゾ色素の
収率が比較的低い（０〜６７％）という問題がある。さ
らに、その対応のジメトキシアニリンを出発試薬として
使用しなければならない。米国特許第３，０７２，５８
５号明細書に、２’，４’−ジヒドロキシ置換アゾ色素
を微粉状亜鉛を用いて閉環させることで対応するベンゾ
トリアゾール系化合物を生成させることが記載されてい
る。しかしながら、その得られる収率は比較的低い。さ
らに、微粉状亜鉛は環境的に問題がある状況が多い。
stralian Journal of Chemistry, Vol. 40, pp. 1663-1
673 (1987)に掲載されている J. Rosevear及び J.F.K.
Wilshireによる論文の中に、対応する２’，４’−ジメ
トキシ置換基を有するアゾ色素を最初に合成する２−
（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ールの合成方法が記載されている。対応するアゾ色素を
次いでチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシドによって閉環さ
せる。この２’，４’−ジメトキシ置換色素は、対応す
るメトキシ置換アニリンと２−ニトロニトロソベンゼン
とを反応させて生成させる。しかしながら、上記の方法
には、得られる２’，４’−ジメトキシ置換アゾ色素の
収率が比較的低い（０〜６７％）という問題がある。さ
らに、その対応のジメトキシアニリンを出発試薬として
使用しなければならない。米国特許第３，０７２，５８
５号明細書に、２’，４’−ジヒドロキシ置換アゾ色素
を微粉状亜鉛を用いて閉環させることで対応するベンゾ
トリアゾール系化合物を生成させることが記載されてい
る。しかしながら、その得られる収率は比較的低い。さ
らに、微粉状亜鉛は環境的に問題がある状況が多い。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、４’−又は
５’−ヒドロキシ又はアミノ置換基を有する２−（２’
−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール系化合物の
合成方法であって、全体収率を向上させることができ、
且つ環境に優しい別の合成方法が望まれている。
５’−ヒドロキシ又はアミノ置換基を有する２−（２’
−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール系化合物の
合成方法であって、全体収率を向上させることができ、
且つ環境に優しい別の合成方法が望まれている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、下式（ＶＩ
Ｉ）の化合物の合成において、保護されていないヒドロ
キシフェノール又はアミノフェノール（すなわち、−Ｏ
Ｈ、−ＮＨ2 又は−ＮＨＲ8 基）を含む対応する中間体
アゾ色素を最初に合成することを実現するものである。
次いで、これらの基を保護し、その後、還元的閉環反応
によって対応するベンゾトリアゾール系化合物を生成さ
せ、その保護基を除去することで化合物（ＶＩＩ）を得
る。本発明によると、下式（ＶＩＩ）：
Ｉ）の化合物の合成において、保護されていないヒドロ
キシフェノール又はアミノフェノール（すなわち、−Ｏ
Ｈ、−ＮＨ2 又は−ＮＨＲ8 基）を含む対応する中間体
アゾ色素を最初に合成することを実現するものである。
次いで、これらの基を保護し、その後、還元的閉環反応
によって対応するベンゾトリアゾール系化合物を生成さ
せ、その保護基を除去することで化合物（ＶＩＩ）を得
る。本発明によると、下式（ＶＩＩ）：
【０００９】
【化６】
【００１０】〔上式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 、Ｒ6 及びＲ7 は、各々独立に、Ｈ、ハロゲン、シ
アノ、−ＣＯ2 Ｙ（但し、ＹはＨ又は炭素原子数１〜１
２（好ましくは１〜６）個のアルキル若しくは炭素原子
数６〜１２（好ましくは６〜１０）個のアリール基であ
る）、炭素原子数１〜１２（好ましくは２〜９）個のカ
ルバモイル基、炭素原子数０〜１２（好ましくは２〜
４）個のスルホキシド基、炭素原子数０〜１２（好まし
くは１〜１０）個のスルホニル基、炭素原子数０〜１２
（好ましくは１〜１０）個のスルホナト基、炭素原子数
０〜１２（好ましくは１〜１０）個のスルホンアミド
基、炭素原子数１〜１８（好ましくは１〜１０）個のア
ルキル基、炭素原子数１〜１８（好ましくは１〜１０）
個のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０（好ましくは６
〜１０）個のアリール基、Ｏ、Ｎ若しくはＳから選ばれ
た異種原子１〜４（好ましくは１〜３）個を含む原子数
５〜２０（好ましくは５〜１０）個のヘテロアリール
基、又は炭素原子数６〜２０（好ましくは６〜１０）個
のアリールオキシ基であるか、或いはＲ1 〜Ｒ4 のうち
隣接しているいずれか２個以上の基が、又は互いに隣接
している場合のＲ6 とＲ7 若しくはＲ6 とＲ5 が、一緒
になって炭素原子数１〜１０個の脂環式基を形成する
か、又はそれらが結合しているベンゼン環の炭素原子と
一緒になって炭素原子数６〜２０（好ましくは６〜１
０）個の芳香族基又はＯ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異
種原子１〜４（好ましくは１〜３）個を含む原子数５〜
２０（好ましくは５〜１０）個のヘテロアリール基を完
成することができ、或いはＲ7 はＯＨであり、ＸはＯ、
Ｓ又はＮＲ8 であるが、但しＲ8 はＨ、炭素原子数１〜
１２（好ましくは１〜６）個のアルキル基、炭素原子数
６〜２０（好ましくは６〜１０）個のアリール基、又は
Ｏ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１〜４（好まし
くは１〜３）個を含む原子数５〜２０（好ましくは５〜
１０）個のヘテロアリール基である〕で示される化合物
の合成方法であって、下式（ＩＶ）：
Ｒ5 、Ｒ6 及びＲ7 は、各々独立に、Ｈ、ハロゲン、シ
アノ、−ＣＯ2 Ｙ（但し、ＹはＨ又は炭素原子数１〜１
２（好ましくは１〜６）個のアルキル若しくは炭素原子
数６〜１２（好ましくは６〜１０）個のアリール基であ
る）、炭素原子数１〜１２（好ましくは２〜９）個のカ
ルバモイル基、炭素原子数０〜１２（好ましくは２〜
４）個のスルホキシド基、炭素原子数０〜１２（好まし
くは１〜１０）個のスルホニル基、炭素原子数０〜１２
（好ましくは１〜１０）個のスルホナト基、炭素原子数
０〜１２（好ましくは１〜１０）個のスルホンアミド
基、炭素原子数１〜１８（好ましくは１〜１０）個のア
ルキル基、炭素原子数１〜１８（好ましくは１〜１０）
個のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０（好ましくは６
〜１０）個のアリール基、Ｏ、Ｎ若しくはＳから選ばれ
た異種原子１〜４（好ましくは１〜３）個を含む原子数
５〜２０（好ましくは５〜１０）個のヘテロアリール
基、又は炭素原子数６〜２０（好ましくは６〜１０）個
のアリールオキシ基であるか、或いはＲ1 〜Ｒ4 のうち
隣接しているいずれか２個以上の基が、又は互いに隣接
している場合のＲ6 とＲ7 若しくはＲ6 とＲ5 が、一緒
になって炭素原子数１〜１０個の脂環式基を形成する
か、又はそれらが結合しているベンゼン環の炭素原子と
一緒になって炭素原子数６〜２０（好ましくは６〜１
０）個の芳香族基又はＯ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異
種原子１〜４（好ましくは１〜３）個を含む原子数５〜
２０（好ましくは５〜１０）個のヘテロアリール基を完
成することができ、或いはＲ7 はＯＨであり、ＸはＯ、
Ｓ又はＮＲ8 であるが、但しＲ8 はＨ、炭素原子数１〜
１２（好ましくは１〜６）個のアルキル基、炭素原子数
６〜２０（好ましくは６〜１０）個のアリール基、又は
Ｏ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１〜４（好まし
くは１〜３）個を含む原子数５〜２０（好ましくは５〜
１０）個のヘテロアリール基である〕で示される化合物
の合成方法であって、下式（ＩＶ）：
【００１１】
【化７】
【００１２】〔上式中、Ｒ1 〜Ｒ7 及びＸは前記式（Ｖ
ＩＩ）で定義した通り〕で示される化合物上の少なくと
も−ＸＨ基を、−Ｘ（ＰＧ）基〔ここで、ＰＧ基はＨ以
外の基であって、続く閉環工程では除去されない〕の形
成により保護して、保護形の式（ＩＶ）の化合物を生成
させる保護工程と、前記保護形の式（ＩＶ）の化合物を
還元剤と反応させて下式（ＶＩ）：
ＩＩ）で定義した通り〕で示される化合物上の少なくと
も−ＸＨ基を、−Ｘ（ＰＧ）基〔ここで、ＰＧ基はＨ以
外の基であって、続く閉環工程では除去されない〕の形
成により保護して、保護形の式（ＩＶ）の化合物を生成
させる保護工程と、前記保護形の式（ＩＶ）の化合物を
還元剤と反応させて下式（ＶＩ）：
【００１３】
【化８】
【００１４】〔上式中、ＺはＨ又は保護基である〕で示
される化合物を生成させる閉環工程と、前記式（ＶＩ）
の化合物を、ＰＧをＨで置換し且つＺがＨでない場合に
はＺもＨで置換することにより脱保護して、前記式（Ｖ
ＩＩ）の化合物を生成させる脱保護工程とを含む合成方
法が提供される。発明の詳細な説明 （ＩＶ−Ａ）型及び（ＩＶ−Ｂ）型のｏ−ニトロアゾベ
ンゼンは共役系が長いためにケト型（ＩＸ）及びイミノ
型（Ｘ）で容易に存在することができる。
される化合物を生成させる閉環工程と、前記式（ＶＩ）
の化合物を、ＰＧをＨで置換し且つＺがＨでない場合に
はＺもＨで置換することにより脱保護して、前記式（Ｖ
ＩＩ）の化合物を生成させる脱保護工程とを含む合成方
法が提供される。発明の詳細な説明 （ＩＶ−Ａ）型及び（ＩＶ−Ｂ）型のｏ−ニトロアゾベ
ンゼンは共役系が長いためにケト型（ＩＸ）及びイミノ
型（Ｘ）で容易に存在することができる。
【００１５】
【化９】
【００１６】このため、還元的閉環反応が複雑となりＮ
−Ｎ単結合の切断により数種類の予想外の副生物が得ら
れたり、単にニトロ基がアミノ基に還元されたり、さら
に他の問題が生じることがある。こうした因子のため、
所望の生成物（ＶＩＩ）の収率が著しく低下しうる。限
定する意図はないが、上記したようにＯＨ基やＮＨ2 基
を（遊離のＨが結合されていないように）保護すると、
ケト型及びイミノ型の（ＩＶ−Ａ）及び（ＩＶ−Ｂ）の
形成が防止されることによって、ベンゾトリアゾールへ
の純度の高い有効な閉環反応が促進されると考えられ
る。保護されたアゾ色素の還元的閉環反応は、当該技術
分野で一般に用いられている還元剤、例えば、チオウレ
ア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド、触媒としてのフルオレノール
の存在下でのアルデヒド基を含有する糖類、Ｐｄ−Ｃの
存在下でのギ酸のアンモニウム塩、等によって容易に達
成することができる。このように、環境的に問題のあり
うる常用の微粉亜鉛を使用する必要がない。閉環反応後
の脱保護は、当該技術分野で公知の常用されている方法
によって達成することができる。
−Ｎ単結合の切断により数種類の予想外の副生物が得ら
れたり、単にニトロ基がアミノ基に還元されたり、さら
に他の問題が生じることがある。こうした因子のため、
所望の生成物（ＶＩＩ）の収率が著しく低下しうる。限
定する意図はないが、上記したようにＯＨ基やＮＨ2 基
を（遊離のＨが結合されていないように）保護すると、
ケト型及びイミノ型の（ＩＶ−Ａ）及び（ＩＶ−Ｂ）の
形成が防止されることによって、ベンゾトリアゾールへ
の純度の高い有効な閉環反応が促進されると考えられ
る。保護されたアゾ色素の還元的閉環反応は、当該技術
分野で一般に用いられている還元剤、例えば、チオウレ
ア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド、触媒としてのフルオレノール
の存在下でのアルデヒド基を含有する糖類、Ｐｄ−Ｃの
存在下でのギ酸のアンモニウム塩、等によって容易に達
成することができる。このように、環境的に問題のあり
うる常用の微粉亜鉛を使用する必要がない。閉環反応後
の脱保護は、当該技術分野で公知の常用されている方法
によって達成することができる。
【００１７】上記式においてＲ1 〜Ｒ7 のうち隣接して
いるものをさす場合、これらは示したベンゼン環又は
２’−ヒドロキシフェニル環の炭素原子に結合されてお
り、その炭素原子が互いに結合していることを意味す
る。また、Ｒ3 はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ、カルボキ
シ、カルボアルコキシ、炭素原子数１〜１８（好ましく
は１〜８）個のアルコキシ基又は炭素原子数０〜１２
（好ましくは１〜１０）個のスルホニル基であり、Ｒ7
はＨ又はＯＨであり、Ｒ5 及びＲ6 は各々独立に炭素原
子数１〜１２（好ましくは１〜８）個のアルキル又はＨ
であり、そしてＲ1 及びＲ2 は各々独立にＨ、Ｃｌ又は
炭素原子数１〜１８（好ましくは１〜８）個のアルコキ
シ基であることが好ましい。本発明の方法では、閉環工
程前に式（ＩＶ）上の−ＯＨ基も保護されて−Ｏ（ＰＧ
1 ）を形成する。ここでＰＧ1 は続く閉環工程中には除
去されないＨ以外の基であるか、又は炭素原子数１〜１
２（若しくは２〜１２、好ましくは１〜１０）個のアシ
ル基、炭素原子数１〜２４（好ましくは２〜１０）個の
カルバミル（カルバモイル）基若しくは炭素原子数１〜
１２（好ましくは１〜１０）個のスルホニル基である。
従って、ＰＧ1 はＰＧと同じであっても異なってもよ
い。
いるものをさす場合、これらは示したベンゼン環又は
２’−ヒドロキシフェニル環の炭素原子に結合されてお
り、その炭素原子が互いに結合していることを意味す
る。また、Ｒ3 はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ、カルボキ
シ、カルボアルコキシ、炭素原子数１〜１８（好ましく
は１〜８）個のアルコキシ基又は炭素原子数０〜１２
（好ましくは１〜１０）個のスルホニル基であり、Ｒ7
はＨ又はＯＨであり、Ｒ5 及びＲ6 は各々独立に炭素原
子数１〜１２（好ましくは１〜８）個のアルキル又はＨ
であり、そしてＲ1 及びＲ2 は各々独立にＨ、Ｃｌ又は
炭素原子数１〜１８（好ましくは１〜８）個のアルコキ
シ基であることが好ましい。本発明の方法では、閉環工
程前に式（ＩＶ）上の−ＯＨ基も保護されて−Ｏ（ＰＧ
1 ）を形成する。ここでＰＧ1 は続く閉環工程中には除
去されないＨ以外の基であるか、又は炭素原子数１〜１
２（若しくは２〜１２、好ましくは１〜１０）個のアシ
ル基、炭素原子数１〜２４（好ましくは２〜１０）個の
カルバミル（カルバモイル）基若しくは炭素原子数１〜
１２（好ましくは１〜１０）個のスルホニル基である。
従って、ＰＧ1 はＰＧと同じであっても異なってもよ
い。
【００１８】ＰＧ又はＰＧ1 が続く閉環工程中には除去
されないということは、閉環工程後であって脱保護工程
の前に式（ＶＩ）の化合物上での残存量が５０％を上回
る（好ましくは７０％を上回る、最も好ましくは９０％
を上回る）ことを意味する。ＰＧ及びＰＧ1 に適した各
種の基として、１〜６個の酸素、硫黄又は窒素原子が介
在していてもよい炭素原子数１〜１８（好ましくは１〜
１０）個のアルキル基、炭素原子数１〜１８（好ましく
は１〜１０）個のアシル基、炭素原子数１〜２４（好ま
しくは２〜１０）個のカルバミル基、炭素原子数１〜１
８（好ましくは１〜１０）個のスルホニル基、ベンジル
基、テトラヒドロピラニル基、及び炭素原子数３〜２０
（好ましくは３〜１０）個のトリアルキルシリル基が挙
げられる。このような基の例として、メチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ｔ−
ブチル、ｔ−アミル、メトキシメチル、メトキシエトキ
シメチル、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、ＳＯ2 Ｒ
10（Ｒ10はメチル、エチル、フェニル若しくはｐ−トル
エンスルホニルから選ばれる）、炭素原子数１〜１２個
のジアルキルカルバミル（例、ジメチルカルバミル若し
くはジエチルカルバミル）、ベンジル基、テトラヒドロ
ピラニル基、及び炭素原子数３〜２０個のトリアルキル
シリル基（例、トリメチルシリル）、又はＣＯＲ9 （Ｒ
9 はメチル、エチル若しくはフェニルである）、フェニ
ル基、ピリジニル、イミダゾイル、ピロリル、フリル及
びチエニルが挙げられる。
されないということは、閉環工程後であって脱保護工程
の前に式（ＶＩ）の化合物上での残存量が５０％を上回
る（好ましくは７０％を上回る、最も好ましくは９０％
を上回る）ことを意味する。ＰＧ及びＰＧ1 に適した各
種の基として、１〜６個の酸素、硫黄又は窒素原子が介
在していてもよい炭素原子数１〜１８（好ましくは１〜
１０）個のアルキル基、炭素原子数１〜１８（好ましく
は１〜１０）個のアシル基、炭素原子数１〜２４（好ま
しくは２〜１０）個のカルバミル基、炭素原子数１〜１
８（好ましくは１〜１０）個のスルホニル基、ベンジル
基、テトラヒドロピラニル基、及び炭素原子数３〜２０
（好ましくは３〜１０）個のトリアルキルシリル基が挙
げられる。このような基の例として、メチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ｔ−
ブチル、ｔ−アミル、メトキシメチル、メトキシエトキ
シメチル、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、ＳＯ2 Ｒ
10（Ｒ10はメチル、エチル、フェニル若しくはｐ−トル
エンスルホニルから選ばれる）、炭素原子数１〜１２個
のジアルキルカルバミル（例、ジメチルカルバミル若し
くはジエチルカルバミル）、ベンジル基、テトラヒドロ
ピラニル基、及び炭素原子数３〜２０個のトリアルキル
シリル基（例、トリメチルシリル）、又はＣＯＲ9 （Ｒ
9 はメチル、エチル若しくはフェニルである）、フェニ
ル基、ピリジニル、イミダゾイル、ピロリル、フリル及
びチエニルが挙げられる。
【００１９】式（ＶＩＩ）のＲ7 がＯＨである場合、式
（ＩＶ）上のそのＯＨもまた閉環工程前に保護されて−
Ｏ（ＰＧ1 ）を形成する。ここでＰＧ1 は続く閉環工程
中には除去されないＨ以外の基であるか、又は炭素原子
数１〜１２個のアシル基、炭素原子数１〜２４個のカル
バミル基若しくは炭素原子数１〜１２個のスルホニル基
である。好適なＰＧ1 の例は、上記したＰＧ1 について
列挙したものと同じである。本発明の方法は、下記合成
経路１に示すように、式（Ｉ）の化合物を酸性亜硝酸塩
水溶液でジアゾ化して式（ＩＩ）の化合物を得、その式
（ＩＩ）の化合物に式（ＩＩＩ）の化合物をカップリン
グさせて式（ＩＶ）の化合物を得るという式（ＩＶ）の
化合物の合成を包含することもできる。
（ＩＶ）上のそのＯＨもまた閉環工程前に保護されて−
Ｏ（ＰＧ1 ）を形成する。ここでＰＧ1 は続く閉環工程
中には除去されないＨ以外の基であるか、又は炭素原子
数１〜１２個のアシル基、炭素原子数１〜２４個のカル
バミル基若しくは炭素原子数１〜１２個のスルホニル基
である。好適なＰＧ1 の例は、上記したＰＧ1 について
列挙したものと同じである。本発明の方法は、下記合成
経路１に示すように、式（Ｉ）の化合物を酸性亜硝酸塩
水溶液でジアゾ化して式（ＩＩ）の化合物を得、その式
（ＩＩ）の化合物に式（ＩＩＩ）の化合物をカップリン
グさせて式（ＩＶ）の化合物を得るという式（ＩＶ）の
化合物の合成を包含することもできる。
【００２０】
【化１０】
【００２１】上式中、Ｒ1 〜Ｒ7 及びＸは先に式（ＶＩ
Ｉ）について定義したとおり。本発明は、当該技術分野
で公知の一般手順に従い２−ニトロアニリンをジアゾ化
して対応するレソルシノール、フロログルシノール、３
−アミノフェノール又は４−アミノフェノールを縮合さ
せることにより収率８７〜９９％で式（ＩＶ）の未保護
化合物を調製するためにジアゾ化工程を使用することが
できる。この一般手順の例として、米国特許第３，０７
２，５８５号、同第３，１５９，６４６号、同第３，８
１３，２５５号及び同第４，７８０，５４１号、係属中
の米国特許出願第０８／３１３，４９２号、仏国特許第
１，３３０，３７８号、同第１，３２４，８９８号、同
第１，３２４，８９７号、英国特許第９９１ ２０４
号、同９９１ ３２０号、同第９９１ １４２号、同第
９９１ ６３０号及び同第９９１ ２０４号並びにこれ
らの中に記載されている文献が挙げられる。本出願明細
書中に引用するこれらの文献及びその他の文献は、その
全体を本明細書中で援用する。
Ｉ）について定義したとおり。本発明は、当該技術分野
で公知の一般手順に従い２−ニトロアニリンをジアゾ化
して対応するレソルシノール、フロログルシノール、３
−アミノフェノール又は４−アミノフェノールを縮合さ
せることにより収率８７〜９９％で式（ＩＶ）の未保護
化合物を調製するためにジアゾ化工程を使用することが
できる。この一般手順の例として、米国特許第３，０７
２，５８５号、同第３，１５９，６４６号、同第３，８
１３，２５５号及び同第４，７８０，５４１号、係属中
の米国特許出願第０８／３１３，４９２号、仏国特許第
１，３３０，３７８号、同第１，３２４，８９８号、同
第１，３２４，８９７号、英国特許第９９１ ２０４
号、同９９１ ３２０号、同第９９１ １４２号、同第
９９１ ６３０号及び同第９９１ ２０４号並びにこれ
らの中に記載されている文献が挙げられる。本出願明細
書中に引用するこれらの文献及びその他の文献は、その
全体を本明細書中で援用する。
【００２２】式（ＩＶ）の化合物の保護に関しては、既
に説明した各種の保護基を使用することができる。採用
することができる正確な反応条件については使用する保
護基によって異なることは認識される。各種保護基の反
応条件は下記引用文献により詳細に記載されている。閉
環工程については、保護された式（ＩＶ）の化合物を、
塩基性水溶液中で、チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド及
び亜ジチオン酸塩（例、亜ジチオン酸ナトリウム又は亜
ジチオン酸カリウムのようなアルカリ金属塩）から選ば
れた還元剤と反応させることによって達成することが好
ましい。この水溶液はアルコール性水溶液であることが
好ましく、また反応温度は約６０〜８０℃に約２〜３時
間維持することができる。このアルコールは、例えば、
エタノール、メタノール及びイソプロパノールから選ぶ
ことができる。この溶液は、例えば、１〜６モル／Ｌ
（Ｎ）の水酸化物イオンを含むことができる。好適な溶
液はメタノール／水系（体積比５０／５０）の溶液に４
モル／Ｌ（Ｎ）の水酸化ナトリウムを含む溶液である。
に説明した各種の保護基を使用することができる。採用
することができる正確な反応条件については使用する保
護基によって異なることは認識される。各種保護基の反
応条件は下記引用文献により詳細に記載されている。閉
環工程については、保護された式（ＩＶ）の化合物を、
塩基性水溶液中で、チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド及
び亜ジチオン酸塩（例、亜ジチオン酸ナトリウム又は亜
ジチオン酸カリウムのようなアルカリ金属塩）から選ば
れた還元剤と反応させることによって達成することが好
ましい。この水溶液はアルコール性水溶液であることが
好ましく、また反応温度は約６０〜８０℃に約２〜３時
間維持することができる。このアルコールは、例えば、
エタノール、メタノール及びイソプロパノールから選ぶ
ことができる。この溶液は、例えば、１〜６モル／Ｌ
（Ｎ）の水酸化物イオンを含むことができる。好適な溶
液はメタノール／水系（体積比５０／５０）の溶液に４
モル／Ｌ（Ｎ）の水酸化ナトリウムを含む溶液である。
【００２３】閉環工程に関しては、既知の各種方法によ
って達成することができる。これらには、保護された式
（ＩＶ）の化合物の接触水素添加法が含まれる。接触水
素添加法は、一般に、パラジウム−炭素若しくは白金又
は白金とパラジウムの組合せのような触媒の存在下、高
圧（例、大気圧の２〜２０倍）の水素ガスを用いて達成
される。別の閉環工程として、触媒（例、パラジウム−
炭素系触媒）の存在下、ギ酸塩（例、ギ酸ナトリウム若
しくはギ酸カリウムのようなアルカリ金属塩又はギ酸ア
ンモニウム）のような適当な水素供与体を使用する方法
がある。閉環反応はまた、米国特許第３，０７２，５８
５号明細書に記載されているような常用の亜鉛還元法を
使用しても行うことができる。微粉状亜鉛による方法を
採用すると、未保護アゾ色素化合物を使用する場合より
も良好な結果が得られる。しかしながら、亜鉛の使用
は、その環境破壊の恐れからあまり望ましくないと考え
られている。脱保護工程に関しては、認識されるよう
に、採用すべき正確な条件は使用した個々の保護基によ
って変わってくる。２’−ヒドロキシ又はＲ7 がヒドロ
キシである場合のＲ7 を保護するために用いられる特定
の基（これらの基は本明細書中ではＰＧ1 と呼ばれる）
の場合、閉環工程中に脱保護されることがある。このよ
うな基として、炭素原子数１〜１２個のアシル基、炭素
原子数１〜２４個のカルバミル基、又は炭素原子数１〜
１２個のスルホニル基が挙げられる。これらの特定の基
は、（接触水素添加中以外の）閉環工程中に加水分解に
よって除去される。具体的には、上記の特定の基は、チ
オウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド又は亜ジチオン酸塩を用
いた閉環工程中に除去される。
って達成することができる。これらには、保護された式
（ＩＶ）の化合物の接触水素添加法が含まれる。接触水
素添加法は、一般に、パラジウム−炭素若しくは白金又
は白金とパラジウムの組合せのような触媒の存在下、高
圧（例、大気圧の２〜２０倍）の水素ガスを用いて達成
される。別の閉環工程として、触媒（例、パラジウム−
炭素系触媒）の存在下、ギ酸塩（例、ギ酸ナトリウム若
しくはギ酸カリウムのようなアルカリ金属塩又はギ酸ア
ンモニウム）のような適当な水素供与体を使用する方法
がある。閉環反応はまた、米国特許第３，０７２，５８
５号明細書に記載されているような常用の亜鉛還元法を
使用しても行うことができる。微粉状亜鉛による方法を
採用すると、未保護アゾ色素化合物を使用する場合より
も良好な結果が得られる。しかしながら、亜鉛の使用
は、その環境破壊の恐れからあまり望ましくないと考え
られている。脱保護工程に関しては、認識されるよう
に、採用すべき正確な条件は使用した個々の保護基によ
って変わってくる。２’−ヒドロキシ又はＲ7 がヒドロ
キシである場合のＲ7 を保護するために用いられる特定
の基（これらの基は本明細書中ではＰＧ1 と呼ばれる）
の場合、閉環工程中に脱保護されることがある。このよ
うな基として、炭素原子数１〜１２個のアシル基、炭素
原子数１〜２４個のカルバミル基、又は炭素原子数１〜
１２個のスルホニル基が挙げられる。これらの特定の基
は、（接触水素添加中以外の）閉環工程中に加水分解に
よって除去される。具体的には、上記の特定の基は、チ
オウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド又は亜ジチオン酸塩を用
いた閉環工程中に除去される。
【００２４】ＰＧ又はＰＧ1 が炭素原子数１〜１８個の
アルキル基又はベンジル基から選ばれた場合、式（Ｖ
Ｉ）の保護された化合物は、ハロゲン化炭化水素系溶剤
中、三ハロゲン化ホウ素の存在下で脱保護されることが
できる。好適なハロゲン化炭化水素系溶剤の例として、
塩化メチレン、クロロホルム及びジクロロエタンが挙げ
られる。さらに、いずれかがベンジル基である場合、鉱
酸水溶液によって又はパラジウム−炭素系触媒を用いた
接触水素添加によって脱保護することができる。ＰＧ
が、炭素原子数１〜１８個のアシル基、炭素原子数１〜
２４個のカルバミル基又は炭素原子数１〜１８個のスル
ホニル基から選ばれた場合、式（ＶＩ）の化合物は、例
えば、酸性水溶液又は塩基性水溶液による加水分解によ
って脱保護されることができる。
アルキル基又はベンジル基から選ばれた場合、式（Ｖ
Ｉ）の保護された化合物は、ハロゲン化炭化水素系溶剤
中、三ハロゲン化ホウ素の存在下で脱保護されることが
できる。好適なハロゲン化炭化水素系溶剤の例として、
塩化メチレン、クロロホルム及びジクロロエタンが挙げ
られる。さらに、いずれかがベンジル基である場合、鉱
酸水溶液によって又はパラジウム−炭素系触媒を用いた
接触水素添加によって脱保護することができる。ＰＧ
が、炭素原子数１〜１８個のアシル基、炭素原子数１〜
２４個のカルバミル基又は炭素原子数１〜１８個のスル
ホニル基から選ばれた場合、式（ＶＩ）の化合物は、例
えば、酸性水溶液又は塩基性水溶液による加水分解によ
って脱保護されることができる。
【００２５】
【化１１】
【００２６】ＰＧがベンジル基又はテトラヒドロピラニ
ル基から選ばれた場合、式（ＶＩ）の化合物は鉱酸水溶
液との反応によって脱保護されることができる。ＰＧが
炭素原子数３〜２０個のトリアルキルシリル基から選ば
れた場合、式（ＶＩ）の化合物は、有機共溶剤（好まし
くはテトラヒドロフラン）の存在下、水性フッ化物塩
（例、フッ化ナトリウム若しくはフッ化カリウムのよう
なアルカリ金属フッ化物又はフッ化テトラブチルアンモ
ニウム）との反応によって脱保護される。鉱酸の例とし
て硫酸、リン酸及び塩酸が挙げられる。本発明の合成工
程のすべてを、〔最終生成物である化合物（ＶＩＩ）を
除き〕生成物を単離することなく実施することが好まし
い。ここで「単離することなく」とは、溶剤やその他の
揮発性化合物は除去してもよいが、非揮発性化合物を除
去したり中間体を単離したりしないことを意味する。
ル基から選ばれた場合、式（ＶＩ）の化合物は鉱酸水溶
液との反応によって脱保護されることができる。ＰＧが
炭素原子数３〜２０個のトリアルキルシリル基から選ば
れた場合、式（ＶＩ）の化合物は、有機共溶剤（好まし
くはテトラヒドロフラン）の存在下、水性フッ化物塩
（例、フッ化ナトリウム若しくはフッ化カリウムのよう
なアルカリ金属フッ化物又はフッ化テトラブチルアンモ
ニウム）との反応によって脱保護される。鉱酸の例とし
て硫酸、リン酸及び塩酸が挙げられる。本発明の合成工
程のすべてを、〔最終生成物である化合物（ＶＩＩ）を
除き〕生成物を単離することなく実施することが好まし
い。ここで「単離することなく」とは、溶剤やその他の
揮発性化合物は除去してもよいが、非揮発性化合物を除
去したり中間体を単離したりしないことを意味する。
【００２７】ジアゾ化のために用いることができるニト
ロアニリンとして、２−ニトロアニリン、６−メトキシ
−２−ニトロアニリン、４−メトキシ−２−ニトロアニ
リン、４，５−ジメトキシ−２−ニトロアニリン、４−
クロロ−２−ニトロアニリン、４−フルオロ−２−ニト
ロアニリン、４−ブロモ−２−ニトロアニリン、４，５
−ジクロロ−２−ニトロアニリン、４−シアノ−２−ニ
トロアニリン、４−カルボキシ−２−ニトロアニリン、
等が挙げられるが、これらに限定はされない。カップリ
ング成分として使用することができるフェノールとし
て、３−アミノフェノール、レソルシノール、フロログ
ルシノール、４−クロロレソルシノール、４−フルオロ
レソルシノール、４−シアノレソルシノール、４−カル
ボキシレソルシノール、４−エチルレソルシノール、４
−メチルレソルシノール、４−プロピルレソルシノー
ル、等が挙げられるが、これらに限定はされない。
ロアニリンとして、２−ニトロアニリン、６−メトキシ
−２−ニトロアニリン、４−メトキシ−２−ニトロアニ
リン、４，５−ジメトキシ−２−ニトロアニリン、４−
クロロ−２−ニトロアニリン、４−フルオロ−２−ニト
ロアニリン、４−ブロモ−２−ニトロアニリン、４，５
−ジクロロ−２−ニトロアニリン、４−シアノ−２−ニ
トロアニリン、４−カルボキシ−２−ニトロアニリン、
等が挙げられるが、これらに限定はされない。カップリ
ング成分として使用することができるフェノールとし
て、３−アミノフェノール、レソルシノール、フロログ
ルシノール、４−クロロレソルシノール、４−フルオロ
レソルシノール、４−シアノレソルシノール、４−カル
ボキシレソルシノール、４−エチルレソルシノール、４
−メチルレソルシノール、４−プロピルレソルシノー
ル、等が挙げられるが、これらに限定はされない。
【００２８】式（ＩＶ）の２−ニトロアゾベンゼンの例
として、２−ニトロ−（２’，４’−ジヒドロキシフェ
ニル）アゾベンゼン、２−ニトロ−（２’−ヒドロキシ
−４’−アミノフェニル）アゾベンゼン、２−ニトロ−
（２’，４’，６’−トリヒドロキシフェニル）アゾベ
ンゼン、２−ニトロ−４−クロロ−（２’，４’−ジヒ
ドロキシフェニル）アゾベンゼン、２−ニトロ−４−フ
ルオロ−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）アゾベ
ンゼン、２−ニトロ−４−メトキシ−（２’，４’−ジ
ヒドロキシフェニル）アゾベンゼン、２−ニトロ−４，
５−ジメトキシ−（２’，４’−ジヒドロキシフェニ
ル）アゾベンゼン、２−ニトロ−４−メチル−（２’，
４’−ジヒドロキシフェニル）アゾベンゼン、２−ニト
ロ−（２’，４’−ジヒドロキシ−５’−クロロフェニ
ル）アゾベンゼン、２−ニトロ−（２’，４’−ジヒド
ロキシ−５’−フルオロフェニル）アゾベンゼン、２−
ニトロ−（２’，４’−ジヒドロキシ−５’−エチルフ
ェニル）アゾベンゼン及び２−ニトロ−４，６−ジクロ
ロ−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）アゾベンゼ
ンが挙げられるが、これらに限定はされない。本発明の
重要な特徴は、下記のように式（ＩＶ）のアゾ色素を
「直接保護」により式（Ｖ）の保護形アゾ色素を得るこ
とである。
として、２−ニトロ−（２’，４’−ジヒドロキシフェ
ニル）アゾベンゼン、２−ニトロ−（２’−ヒドロキシ
−４’−アミノフェニル）アゾベンゼン、２−ニトロ−
（２’，４’，６’−トリヒドロキシフェニル）アゾベ
ンゼン、２−ニトロ−４−クロロ−（２’，４’−ジヒ
ドロキシフェニル）アゾベンゼン、２−ニトロ−４−フ
ルオロ−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）アゾベ
ンゼン、２−ニトロ−４−メトキシ−（２’，４’−ジ
ヒドロキシフェニル）アゾベンゼン、２−ニトロ−４，
５−ジメトキシ−（２’，４’−ジヒドロキシフェニ
ル）アゾベンゼン、２−ニトロ−４−メチル−（２’，
４’−ジヒドロキシフェニル）アゾベンゼン、２−ニト
ロ−（２’，４’−ジヒドロキシ−５’−クロロフェニ
ル）アゾベンゼン、２−ニトロ−（２’，４’−ジヒド
ロキシ−５’−フルオロフェニル）アゾベンゼン、２−
ニトロ−（２’，４’−ジヒドロキシ−５’−エチルフ
ェニル）アゾベンゼン及び２−ニトロ−４，６−ジクロ
ロ−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）アゾベンゼ
ンが挙げられるが、これらに限定はされない。本発明の
重要な特徴は、下記のように式（ＩＶ）のアゾ色素を
「直接保護」により式（Ｖ）の保護形アゾ色素を得るこ
とである。
【００２９】
【化１２】
【００３０】保護基としては、例えば、メチル（Ｍ
ｅ）、イソプロピル（ｉ−Ｐｒ）、ベンジル（Ｂｚ）、
トリメチルシリル（ＴＭＳ）、テトラヒドロピラニル
（ＴＨＰ）、アセチル（Ａｃ）、ｐ−トルエンスルホニ
ル（ＰＴＳ）、ジメチルカルバミルのようなジアルキル
カルバミル、メトキシメチル（ＭＯＭ）、メトキシエト
キシメチル（ＭＥＭ）、ｔ−ブトキシメチル、ベンゾイ
ル、等の基を使用することができる。フェノール基及び
アミノ基の保護及び脱保護については当該技術分野では
周知である。これについての必要な詳細事項について
は、T.W. Greene, "ProtectiveGroups in Organic Synt
hesis", 第２版、Wiley Interscience, New York, 199
1を参照することができる。本発明において使用可能な
他の重要な文献として、例えば、フロログルシノールの
スルホニル化及び脱スルホニル化についてはR.S.-Obreg
on, G. Hurtado, H. Barrios, B. Ortiz and F. Yuste,
Organic Preparations and Procedures Internationa
l, Vol. 18(3), pp. 145-148 (1986)に記載されてお
り、四塩化ケイ素／ヨウ化ナトリウムによるフェノール
系エーテルの有効な脱メチル化についてはM.V. Bhatt a
nd S.S. El-Morey, Synthesis, p. 1048(1982) 及びC.
C. Kanakamら、Journal of Chemical Society, Perkin
Transaction I, p. 1907-1913 (1989)に記載されてお
り、アセトニトリル中で無水AlCl3を使用した同様の脱
メチル化についてはI. Rani, Indian Journal of Chemi
stry, Vol. 25B, p. 1251 (1986)に記載されており、脱
メチル化のために塩化メチレン中で三臭化ホウ素を使用
することがJ. Rosevear and J.F.K. Wilshire, Austral
ian Journal of Chemistry, Vol. 40, pp. 1663-1673
(1987)(この文献は本発明に最も近い従来技術の一つと
しても引用される) に記載されており、乾燥ジメチルホ
ルムアミド中で乾燥臭化水素ガスを使用することによる
ほぼ定量的な脱メチル化のための非常に安価な別の方法
がF. Xi, W. Basset, Jr. and O. Vogl, Makromolecula
r Chemistry, Vol. 185, pp. 2497-2509 (1984) に記載
されており、脱メチル化のために一定煮沸臭化水素酸(4
8%) を使用することがN.A. Evans,Australian Journal
of Chemistry, Vol. 34, pp. 691-695 (1981)に記載さ
れており、触媒としてReillex 425 塩化水素を使用した
テトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）基の保護についてはC.
C. Kanakamら、Journal of Chemical Society, Perkin
Transaction I, pp. 1907-1913 (1989) 及びR.D. Johns
ton ら、Synthesis-Stuttgart, Issue 5, pp. 393-394
(1988)に記載されている。表Ｉに記載したその他の保護
基は、当該技術分野で一般に知られている酸又は塩基加
水分解によって閉環工程後に容易に除去されることがで
きる。表Ｉに、式（ＶＡ）の保護された形のアゾ色素の
具体例を示すが、本発明の範囲はこれらに限定はされな
い。
ｅ）、イソプロピル（ｉ−Ｐｒ）、ベンジル（Ｂｚ）、
トリメチルシリル（ＴＭＳ）、テトラヒドロピラニル
（ＴＨＰ）、アセチル（Ａｃ）、ｐ−トルエンスルホニ
ル（ＰＴＳ）、ジメチルカルバミルのようなジアルキル
カルバミル、メトキシメチル（ＭＯＭ）、メトキシエト
キシメチル（ＭＥＭ）、ｔ−ブトキシメチル、ベンゾイ
ル、等の基を使用することができる。フェノール基及び
アミノ基の保護及び脱保護については当該技術分野では
周知である。これについての必要な詳細事項について
は、T.W. Greene, "ProtectiveGroups in Organic Synt
hesis", 第２版、Wiley Interscience, New York, 199
1を参照することができる。本発明において使用可能な
他の重要な文献として、例えば、フロログルシノールの
スルホニル化及び脱スルホニル化についてはR.S.-Obreg
on, G. Hurtado, H. Barrios, B. Ortiz and F. Yuste,
Organic Preparations and Procedures Internationa
l, Vol. 18(3), pp. 145-148 (1986)に記載されてお
り、四塩化ケイ素／ヨウ化ナトリウムによるフェノール
系エーテルの有効な脱メチル化についてはM.V. Bhatt a
nd S.S. El-Morey, Synthesis, p. 1048(1982) 及びC.
C. Kanakamら、Journal of Chemical Society, Perkin
Transaction I, p. 1907-1913 (1989)に記載されてお
り、アセトニトリル中で無水AlCl3を使用した同様の脱
メチル化についてはI. Rani, Indian Journal of Chemi
stry, Vol. 25B, p. 1251 (1986)に記載されており、脱
メチル化のために塩化メチレン中で三臭化ホウ素を使用
することがJ. Rosevear and J.F.K. Wilshire, Austral
ian Journal of Chemistry, Vol. 40, pp. 1663-1673
(1987)(この文献は本発明に最も近い従来技術の一つと
しても引用される) に記載されており、乾燥ジメチルホ
ルムアミド中で乾燥臭化水素ガスを使用することによる
ほぼ定量的な脱メチル化のための非常に安価な別の方法
がF. Xi, W. Basset, Jr. and O. Vogl, Makromolecula
r Chemistry, Vol. 185, pp. 2497-2509 (1984) に記載
されており、脱メチル化のために一定煮沸臭化水素酸(4
8%) を使用することがN.A. Evans,Australian Journal
of Chemistry, Vol. 34, pp. 691-695 (1981)に記載さ
れており、触媒としてReillex 425 塩化水素を使用した
テトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）基の保護についてはC.
C. Kanakamら、Journal of Chemical Society, Perkin
Transaction I, pp. 1907-1913 (1989) 及びR.D. Johns
ton ら、Synthesis-Stuttgart, Issue 5, pp. 393-394
(1988)に記載されている。表Ｉに記載したその他の保護
基は、当該技術分野で一般に知られている酸又は塩基加
水分解によって閉環工程後に容易に除去されることがで
きる。表Ｉに、式（ＶＡ）の保護された形のアゾ色素の
具体例を示すが、本発明の範囲はこれらに限定はされな
い。
【００３１】
【化１３】
【００３２】
【表１】
【００３３】表ＩＩに、式（ＶＢ）の保護された形のア
ゾ色素の具体例を示すが、本発明の範囲はこれらに限定
はされない。
ゾ色素の具体例を示すが、本発明の範囲はこれらに限定
はされない。
【００３４】
【化１４】
【００３５】
【表２】
【００３６】還元的閉環工程は、保護基（ＰＧ）が上記
反応条件下で水酸化ナトリウムのような塩基に対して安
定であるならば、チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシドのみ
を使用することによって優れた収率で下記経路２によっ
て達成することができる。
反応条件下で水酸化ナトリウムのような塩基に対して安
定であるならば、チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシドのみ
を使用することによって優れた収率で下記経路２によっ
て達成することができる。
【００３７】
【化１５】
【００３８】塩基安定性のある保護基を有する化合物
（Ｖ）の還元的閉環工程は、その他の還元剤、例えば、
J.K. Makrandi and V. Kumari, Synthetic Communicati
ons, Vol. 20(12), pp. 1885-1888 (1990)に記載されて
いる亜ジチオン酸ナトリウムの使用、特公平４−７８６
３３号に記載されているギ酸ナトリウムと亜ジチオン酸
ナトリウムとの併用、当該技術分野で広く実施されてい
る貴金属触媒水素化的閉環反応、米国特許第５，２６
２，５４１号明細書に記載されているアルデヒド含有糖
類、等によっても達成することができる。酸−塩基に不
安定な保護基、例えば、アセチル、ベンゾイル、スルホ
ニル、等を有する化合物（Ｖ）の還元的閉環反応は、ギ
酸のアンモニウム塩のような水素供与性試薬をＰｄ−Ｃ
と組み合わせることにより、又は当該技術分野で公知の
貴金属触媒閉環反応のようなほぼ中性の条件下で達成す
ることができる。
（Ｖ）の還元的閉環工程は、その他の還元剤、例えば、
J.K. Makrandi and V. Kumari, Synthetic Communicati
ons, Vol. 20(12), pp. 1885-1888 (1990)に記載されて
いる亜ジチオン酸ナトリウムの使用、特公平４−７８６
３３号に記載されているギ酸ナトリウムと亜ジチオン酸
ナトリウムとの併用、当該技術分野で広く実施されてい
る貴金属触媒水素化的閉環反応、米国特許第５，２６
２，５４１号明細書に記載されているアルデヒド含有糖
類、等によっても達成することができる。酸−塩基に不
安定な保護基、例えば、アセチル、ベンゾイル、スルホ
ニル、等を有する化合物（Ｖ）の還元的閉環反応は、ギ
酸のアンモニウム塩のような水素供与性試薬をＰｄ−Ｃ
と組み合わせることにより、又は当該技術分野で公知の
貴金属触媒閉環反応のようなほぼ中性の条件下で達成す
ることができる。
【００３９】
【実施例】下記実施例により本発明をさらに説明する。実施例１ （直接保護工程）
【００４０】
【化１６】
【００４１】先に引用した当該技術分野で公知の常用の
手順に従って、（２−ニトロアニリンを塩酸中で亜硝酸
ナトリウムでジアゾ化して得られた）２−ニトロフェニ
ルジアゾニウムクロリドをレソルシノールと縮合させる
ことにより未保護のアゾ色素（ＸＩ）を収率９９％で合
成した。このアゾ色素（ＸＩ）はＨＰＬＣ検定で９８〜
９９％の純度を示したので、この反応ではさらに結晶化
を行うことなく使用した。機械的スターラー、水凝縮器
及びアルゴンガス導入口を具備した２Ｌの三口丸底フラ
スコ中で未保護アゾ色素（ＸＩ）（２５．９ｇ、０．１
０モル）、硫酸ジメチル（３１．５３ｇ、０．２５モ
ル、２３．６６ｍＬ）、無水炭酸カリウム（６９．０
ｇ、０．５モル）及び乾燥アセトン（６００ｍＬ）の混
合物を還流した。この反応混合物を激しく機械攪拌しな
がら１６時間還流した。その反応混合物の監視を、展開
溶媒に塩化メチレンを使用したシリカゲル板ＴＬＣによ
って行った。また、ＨＰＬＣによると、保持時間１６．
３分を示す生成物（ＸＩＩ）に対応するピークが１本だ
け示された。この反応混合物を室温にまで冷却し、そし
て中多孔度の焼結ガラス漏斗で濾過して無機固形分を分
離し、これをアセトン（４×５０ｍＬ）で十分に洗浄
し、残留生成物と未反応の過剰量の硫酸ジメチルを濾液
中に追いやった。溶剤をロータリーエバポレーターで分
離した。明オレンジ色の固体物質を５００ｍＬの冷水中
に移し、３．０ｍＬ（過剰量の硫酸ジメチルと等価）の
水酸化アンモニウム溶液の存在下でスパチュラで粉砕
し、過剰量の硫酸ジメチルを中和した。１時間後、生成
物を焼結ガラス漏斗上に集め、冷水（３×３００ｍＬ）
で洗浄し、そして風乾した。収量は２８．２７ｇ（理論
量の９８．４％）であった。この粗物質はＨＰＬＣ検定
で９９％の純度を示し、還元的閉環工程のためにさらに
精製する必要はなかった。この粗生成物については以下
の分析結果が得られた。ＣＤＣｌ3 中の 1ＮＭＲ（内部
標準としてテトラメチルシランを使用）によると、δ
７．９（ｄ，１Ｈ，芳香族）、７．７５（ｄ，１Ｈ，芳
香族）、７．６５（ｍ，２Ｈ，芳香族）、７．５（ｍ，
１Ｈ，芳香族）、６．５５（２本の二重線，２Ｈ，芳香
族）、４．０（ｓ，３Ｈ，メトキシ）及び３．９（ｓ，
３Ｈ，メトキシ）におけるピークが示され、出発のアゾ
色素のフェノール性基の両方が完全にメチル化されたこ
とを示唆していた。この粗生成物試料の元素分析による
と、Ｃ14Ｈ13Ｎ3 Ｏ4 （分子量２８７．３）：理論値；
Ｃ＝５８．５３、Ｈ＝４．５６、Ｎ＝１４．６３：測定
値；Ｃ＝５８．３６、Ｈ＝４．５７、Ｎ＝１４．４７が
得られた。
手順に従って、（２−ニトロアニリンを塩酸中で亜硝酸
ナトリウムでジアゾ化して得られた）２−ニトロフェニ
ルジアゾニウムクロリドをレソルシノールと縮合させる
ことにより未保護のアゾ色素（ＸＩ）を収率９９％で合
成した。このアゾ色素（ＸＩ）はＨＰＬＣ検定で９８〜
９９％の純度を示したので、この反応ではさらに結晶化
を行うことなく使用した。機械的スターラー、水凝縮器
及びアルゴンガス導入口を具備した２Ｌの三口丸底フラ
スコ中で未保護アゾ色素（ＸＩ）（２５．９ｇ、０．１
０モル）、硫酸ジメチル（３１．５３ｇ、０．２５モ
ル、２３．６６ｍＬ）、無水炭酸カリウム（６９．０
ｇ、０．５モル）及び乾燥アセトン（６００ｍＬ）の混
合物を還流した。この反応混合物を激しく機械攪拌しな
がら１６時間還流した。その反応混合物の監視を、展開
溶媒に塩化メチレンを使用したシリカゲル板ＴＬＣによ
って行った。また、ＨＰＬＣによると、保持時間１６．
３分を示す生成物（ＸＩＩ）に対応するピークが１本だ
け示された。この反応混合物を室温にまで冷却し、そし
て中多孔度の焼結ガラス漏斗で濾過して無機固形分を分
離し、これをアセトン（４×５０ｍＬ）で十分に洗浄
し、残留生成物と未反応の過剰量の硫酸ジメチルを濾液
中に追いやった。溶剤をロータリーエバポレーターで分
離した。明オレンジ色の固体物質を５００ｍＬの冷水中
に移し、３．０ｍＬ（過剰量の硫酸ジメチルと等価）の
水酸化アンモニウム溶液の存在下でスパチュラで粉砕
し、過剰量の硫酸ジメチルを中和した。１時間後、生成
物を焼結ガラス漏斗上に集め、冷水（３×３００ｍＬ）
で洗浄し、そして風乾した。収量は２８．２７ｇ（理論
量の９８．４％）であった。この粗物質はＨＰＬＣ検定
で９９％の純度を示し、還元的閉環工程のためにさらに
精製する必要はなかった。この粗生成物については以下
の分析結果が得られた。ＣＤＣｌ3 中の 1ＮＭＲ（内部
標準としてテトラメチルシランを使用）によると、δ
７．９（ｄ，１Ｈ，芳香族）、７．７５（ｄ，１Ｈ，芳
香族）、７．６５（ｍ，２Ｈ，芳香族）、７．５（ｍ，
１Ｈ，芳香族）、６．５５（２本の二重線，２Ｈ，芳香
族）、４．０（ｓ，３Ｈ，メトキシ）及び３．９（ｓ，
３Ｈ，メトキシ）におけるピークが示され、出発のアゾ
色素のフェノール性基の両方が完全にメチル化されたこ
とを示唆していた。この粗生成物試料の元素分析による
と、Ｃ14Ｈ13Ｎ3 Ｏ4 （分子量２８７．３）：理論値；
Ｃ＝５８．５３、Ｈ＝４．５６、Ｎ＝１４．６３：測定
値；Ｃ＝５８．３６、Ｈ＝４．５７、Ｎ＝１４．４７が
得られた。
【００４２】J. Rosevear and J.F.K. Wilshire, Austr
alian Journal of Chemistry, Vol.40, pp. 1663-1673
(1987) では、保護されたアゾ色素（ＸＩＩ）の収率は
４９％にすぎないことが報告されているが、本発明によ
ると９８．４％の収率を達成することができる点に着目
されたい。この粗生成物である保護形アゾ色素（ＸＩ
Ｉ）は、下記実施例に記載した還元的閉環工程におい
て、さらに精製することなくそのまま使用した。実施例２ （還元的閉環工程）
alian Journal of Chemistry, Vol.40, pp. 1663-1673
(1987) では、保護されたアゾ色素（ＸＩＩ）の収率は
４９％にすぎないことが報告されているが、本発明によ
ると９８．４％の収率を達成することができる点に着目
されたい。この粗生成物である保護形アゾ色素（ＸＩ
Ｉ）は、下記実施例に記載した還元的閉環工程におい
て、さらに精製することなくそのまま使用した。実施例２ （還元的閉環工程）
【００４３】
【化１７】
【００４４】実施例１に記載した新規の「直接保護」工
程を行った後、この実施例２に記載の還元的閉環工程
を、J. Rosevear 及びJ.F.K. Wilshire の文献に記載さ
れている手順に従い、水酸化ナトリウムの存在下、チオ
ウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシドを利用して日常実験的に実
施した。こうして、粗生成物の保護形アゾ色素（ＸＩ
Ｉ）（１１．４９ｇ、０．０４モル）と、４モル／Ｌ
（Ｎ）の水酸化ナトリウム（１００ｍＬ、０．４モル）
と、メタノール（１００ｍＬ）との混合物を、アルゴン
雰囲気下、油浴中で機械的に攪拌した。この油浴温度が
８０℃に到達した時点でチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシ
ド（９．５２ｇ、０．０８８モル）を少量づつ添加し
た。１５〜２０分間の攪拌後、反応混合物は上清が暗褐
色の溶液で固形分が無色である懸濁液となった。次い
で、さらに多少のチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド
（４．７６ｇ、０．０４４モル）を少量づつ添加した。
直ぐに上清液が淡黄色になり、これを同じ温度において
さらに３０分間攪拌した。これを室温にまで冷却し、そ
して蒸発用フラスコに移し、残留物をアセトン（５０ｍ
Ｌ）で洗い流した。この混合物から有機溶剤をロータリ
ーエバポレーターで分離した。その水性残留物を塩化メ
チレン（５００ｍＬ）で抽出し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、これを濾過により除去し、そしてその濾液から
溶剤をロータリーエバポレーターで分離した。その明褐
色の粘性のある粗生成物を秤量したところ１０．２１ｇ
（理論値の１００％）あり、これはＴＬＣ板上で一つの
スポットを示した。このバッチを先の工程の別のバッチ
で得られたさらに別の粗生成物（ＸＩＩＩ）と一緒に
し、次の工程で使用した。このスポットのＵＶ光下での
青色蛍光は、保護形閉環ベンゾトリアゾール生成物（Ｘ
ＩＩＩ）の良好な指標であった。この粘性生成物は、少
量のペンタンによって粉砕して室温で２、３時間保持す
ると固化する。ＣＤＣｌ3 中の 1ＮＭＲ（内部標準とし
てテトラメチルシランを使用）によると、δ７．９５
（２本の二重線，２Ｈ，芳香族）、７．５５（ｄ，１
Ｈ，芳香族）、７．４（２本の二重線，２Ｈ，芳香
族）、６．６（ｍ，２Ｈ，芳香族）、３．８６（ｓ，３
Ｈ，メトキシ）及び３．８２（ｓ，３Ｈ，メトキシ）に
おけるピークが示された。実施例３ （脱保護工程）
程を行った後、この実施例２に記載の還元的閉環工程
を、J. Rosevear 及びJ.F.K. Wilshire の文献に記載さ
れている手順に従い、水酸化ナトリウムの存在下、チオ
ウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシドを利用して日常実験的に実
施した。こうして、粗生成物の保護形アゾ色素（ＸＩ
Ｉ）（１１．４９ｇ、０．０４モル）と、４モル／Ｌ
（Ｎ）の水酸化ナトリウム（１００ｍＬ、０．４モル）
と、メタノール（１００ｍＬ）との混合物を、アルゴン
雰囲気下、油浴中で機械的に攪拌した。この油浴温度が
８０℃に到達した時点でチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシ
ド（９．５２ｇ、０．０８８モル）を少量づつ添加し
た。１５〜２０分間の攪拌後、反応混合物は上清が暗褐
色の溶液で固形分が無色である懸濁液となった。次い
で、さらに多少のチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド
（４．７６ｇ、０．０４４モル）を少量づつ添加した。
直ぐに上清液が淡黄色になり、これを同じ温度において
さらに３０分間攪拌した。これを室温にまで冷却し、そ
して蒸発用フラスコに移し、残留物をアセトン（５０ｍ
Ｌ）で洗い流した。この混合物から有機溶剤をロータリ
ーエバポレーターで分離した。その水性残留物を塩化メ
チレン（５００ｍＬ）で抽出し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、これを濾過により除去し、そしてその濾液から
溶剤をロータリーエバポレーターで分離した。その明褐
色の粘性のある粗生成物を秤量したところ１０．２１ｇ
（理論値の１００％）あり、これはＴＬＣ板上で一つの
スポットを示した。このバッチを先の工程の別のバッチ
で得られたさらに別の粗生成物（ＸＩＩＩ）と一緒に
し、次の工程で使用した。このスポットのＵＶ光下での
青色蛍光は、保護形閉環ベンゾトリアゾール生成物（Ｘ
ＩＩＩ）の良好な指標であった。この粘性生成物は、少
量のペンタンによって粉砕して室温で２、３時間保持す
ると固化する。ＣＤＣｌ3 中の 1ＮＭＲ（内部標準とし
てテトラメチルシランを使用）によると、δ７．９５
（２本の二重線，２Ｈ，芳香族）、７．５５（ｄ，１
Ｈ，芳香族）、７．４（２本の二重線，２Ｈ，芳香
族）、６．６（ｍ，２Ｈ，芳香族）、３．８６（ｓ，３
Ｈ，メトキシ）及び３．８２（ｓ，３Ｈ，メトキシ）に
おけるピークが示された。実施例３ （脱保護工程）
【００４５】
【化１８】
【００４６】この工程は、最も近い従来技術における手
順に従い、脱保護試薬として三臭化ホウ素を用いて粗生
成物（ＸＩＩＩ）をさらに精製することなく実施した。
粗生成物（ＸＩＩＩ）（１３．９９ｇ、０．０５５モ
ル）を塩化メチレン（１００ｍＬ）に溶解し、そして機
械的スターラーと、氷浴と、ゴム製セプタムを介してア
ルゴン導入口を取り付けた水凝縮器と、５００ｍＬ容の
均圧滴下漏斗とを具備した１Ｌの三口丸底フラスコに移
した。この反応器をアルゴンガスでフラッシし、０℃に
冷却した。１０〜１５分後、１Ｍ三臭化ホウ素塩化メチ
レン溶液（２００ｍＬ、０．２モル、３．６モル当量）
を、均質な反応溶液に攪拌しながら１時間かけて滴下し
た。その添加工程の半ばすぎには、黄緑色の析出物が発
生した。それを２４時間攪拌しながら室温にまで温めさ
せた。その反応混合物を５００ｍＬの氷水中に注ぎ込
み、そして固体重炭酸ナトリウム（６７ｇ、０．８モ
ル）で少しずつ処理しながらガラス製ロッドで攪拌して
現場で生じる臭化水素酸を中和した。塩化メチレンをロ
ータリーエバポレーターで除去し、フラスコを室温にま
で冷却し、そして１モル／Ｌ（Ｎ）の塩酸でｐＨ３〜４
に酸性にした。固体生成物を焼結ガラス漏斗上に集め
た。それを水（２×２００ｍＬ）で洗浄し、風乾した。
粗生成物のＨＰＬＣ検定によると９８％を超える純度を
示した。収量は１１．７１ｇ（理論値の９４％）であっ
た。ＦＤ−ＭＳスペクトルによるとｍ／ｅ２２７に分子
イオンを示した。この生成物は（ＸＩＶ）の真正な試料
と同等であった。
順に従い、脱保護試薬として三臭化ホウ素を用いて粗生
成物（ＸＩＩＩ）をさらに精製することなく実施した。
粗生成物（ＸＩＩＩ）（１３．９９ｇ、０．０５５モ
ル）を塩化メチレン（１００ｍＬ）に溶解し、そして機
械的スターラーと、氷浴と、ゴム製セプタムを介してア
ルゴン導入口を取り付けた水凝縮器と、５００ｍＬ容の
均圧滴下漏斗とを具備した１Ｌの三口丸底フラスコに移
した。この反応器をアルゴンガスでフラッシし、０℃に
冷却した。１０〜１５分後、１Ｍ三臭化ホウ素塩化メチ
レン溶液（２００ｍＬ、０．２モル、３．６モル当量）
を、均質な反応溶液に攪拌しながら１時間かけて滴下し
た。その添加工程の半ばすぎには、黄緑色の析出物が発
生した。それを２４時間攪拌しながら室温にまで温めさ
せた。その反応混合物を５００ｍＬの氷水中に注ぎ込
み、そして固体重炭酸ナトリウム（６７ｇ、０．８モ
ル）で少しずつ処理しながらガラス製ロッドで攪拌して
現場で生じる臭化水素酸を中和した。塩化メチレンをロ
ータリーエバポレーターで除去し、フラスコを室温にま
で冷却し、そして１モル／Ｌ（Ｎ）の塩酸でｐＨ３〜４
に酸性にした。固体生成物を焼結ガラス漏斗上に集め
た。それを水（２×２００ｍＬ）で洗浄し、風乾した。
粗生成物のＨＰＬＣ検定によると９８％を超える純度を
示した。収量は１１．７１ｇ（理論値の９４％）であっ
た。ＦＤ−ＭＳスペクトルによるとｍ／ｅ２２７に分子
イオンを示した。この生成物は（ＸＩＶ）の真正な試料
と同等であった。
【００４７】以下の実施例、すなわち２−ニトロアニリ
ンのジアゾ化から始まるすべての工程を組み合わせた
「ワン・ポット」プロセスによって、その製造のための
実施可能性をさらに説明する。実施例４ （ワン・ポットプロセス）この方法は、同じ反応フラス
コを使用して、パートＡ〜Ｄのおいて下記のように０．
１モル規模の２−ニトロアニリンで実施した。この方法
の途中のいずれかの段階で予想される大量の反応混合物
を取り扱うために４Ｌの四口丸底フラスコを選定した。
ンのジアゾ化から始まるすべての工程を組み合わせた
「ワン・ポット」プロセスによって、その製造のための
実施可能性をさらに説明する。実施例４ （ワン・ポットプロセス）この方法は、同じ反応フラス
コを使用して、パートＡ〜Ｄのおいて下記のように０．
１モル規模の２−ニトロアニリンで実施した。この方法
の途中のいずれかの段階で予想される大量の反応混合物
を取り扱うために４Ｌの四口丸底フラスコを選定した。
【００４８】パートＡ：２−ニトロアニリン（１３．８
ｇ、０．１モル）を氷酢酸（７０ｍＬ）にホットプレー
ト上で加熱しながら溶解させた。それを室温にまで冷却
させた。濃塩酸（２８ｍＬ、３６％溶液）を加えて２−
ニトロアニリン塩酸塩のスラリーを形成させた。この工
程を５００ｍＬの三角フラスコで別々に行った。それを
氷塩乾燥氷浴（−１０℃）中で磁気攪拌のためにセット
した。次いで、その２−ニトロアニリン塩酸塩のスラリ
ーを攪拌したものに、２０ｍＬの蒸留水に亜硝酸ナトリ
ウム（６．９ｇ、０．１モル）を含む溶液を１５分間か
けて滴下した。ジアゾニウム塩の透明で明るい黄色の均
質溶液が得られた。これを同じ温度（−１０〜−５℃）
でさらに１０分間攪拌した。先の４Ｌの反応器において
２００ｍＬの水にレソルシノール（１２．０ｇ、約０．
１モル）を溶解させ、これを氷塩浴中で冷却しながら機
械的に攪拌し、次いで、滴下漏斗から前記ジアゾニウム
溶液を１０〜１５分間かけて滴下した。即座に明るい赤
色のアゾ色素が生成した。滴下完了後、反応器を氷浴中
の氷の融解に合わせて室温にまで温めさせた。２時間
後、それに１Ｌの水を加え、攪拌し、そして固体のアゾ
色素を４時間（攪拌せずに）沈降させた。水の部分をア
ゾ色素から慎重にデカントして廃棄した。このデカント
処理を２回以上繰り返して、大部分のＨＣｌ、酢酸及び
ＮａＣｌを除去した。反応器の残留水は２Ｌのトルエン
中で共沸還流させて追い出した。水が出てこなくなった
時点で、トルエンをできる限り多量に蒸留除去した。残
留トルエンは自家真空によって除去した。この時点でパ
ートＡは完了するが、アゾ色素を反応器からは取り出さ
なかった。
ｇ、０．１モル）を氷酢酸（７０ｍＬ）にホットプレー
ト上で加熱しながら溶解させた。それを室温にまで冷却
させた。濃塩酸（２８ｍＬ、３６％溶液）を加えて２−
ニトロアニリン塩酸塩のスラリーを形成させた。この工
程を５００ｍＬの三角フラスコで別々に行った。それを
氷塩乾燥氷浴（−１０℃）中で磁気攪拌のためにセット
した。次いで、その２−ニトロアニリン塩酸塩のスラリ
ーを攪拌したものに、２０ｍＬの蒸留水に亜硝酸ナトリ
ウム（６．９ｇ、０．１モル）を含む溶液を１５分間か
けて滴下した。ジアゾニウム塩の透明で明るい黄色の均
質溶液が得られた。これを同じ温度（−１０〜−５℃）
でさらに１０分間攪拌した。先の４Ｌの反応器において
２００ｍＬの水にレソルシノール（１２．０ｇ、約０．
１モル）を溶解させ、これを氷塩浴中で冷却しながら機
械的に攪拌し、次いで、滴下漏斗から前記ジアゾニウム
溶液を１０〜１５分間かけて滴下した。即座に明るい赤
色のアゾ色素が生成した。滴下完了後、反応器を氷浴中
の氷の融解に合わせて室温にまで温めさせた。２時間
後、それに１Ｌの水を加え、攪拌し、そして固体のアゾ
色素を４時間（攪拌せずに）沈降させた。水の部分をア
ゾ色素から慎重にデカントして廃棄した。このデカント
処理を２回以上繰り返して、大部分のＨＣｌ、酢酸及び
ＮａＣｌを除去した。反応器の残留水は２Ｌのトルエン
中で共沸還流させて追い出した。水が出てこなくなった
時点で、トルエンをできる限り多量に蒸留除去した。残
留トルエンは自家真空によって除去した。この時点でパ
ートＡは完了するが、アゾ色素を反応器からは取り出さ
なかった。
【００４９】パートＢ：上記アゾ色素を含有する反応器
に乾燥アセトン（６００ｍＬ）、無水炭酸カリウム（６
９．０ｇ、０．５モル、５モル当量、但し３モル当量で
十分であった）及び硫酸ジメチル（３１．５３ｇ、０．
２５モル、２３．７ｍＬ、密度＝１．３３３）を装填し
た。次いで、その反応器を加熱マントルで加熱還流しな
がら１６〜１８時間機械的に攪拌した。これを室温にま
で冷却させ、そして３．０ｍＬの水酸化アンモニウム溶
液で処理した。アセトンをできるだけ多量に蒸留除去し
た。残留アセトンは自家真空によって除去した。この時
点でパートＢは完了するが、メチル化された（保護され
た）アゾ色素を反応器からは取り出さなかった。
に乾燥アセトン（６００ｍＬ）、無水炭酸カリウム（６
９．０ｇ、０．５モル、５モル当量、但し３モル当量で
十分であった）及び硫酸ジメチル（３１．５３ｇ、０．
２５モル、２３．７ｍＬ、密度＝１．３３３）を装填し
た。次いで、その反応器を加熱マントルで加熱還流しな
がら１６〜１８時間機械的に攪拌した。これを室温にま
で冷却させ、そして３．０ｍＬの水酸化アンモニウム溶
液で処理した。アセトンをできるだけ多量に蒸留除去し
た。残留アセトンは自家真空によって除去した。この時
点でパートＢは完了するが、メチル化された（保護され
た）アゾ色素を反応器からは取り出さなかった。
【００５０】パートＣ：パートＢの固形物を含有する反
応器に、１Ｌの冷水を装填し、攪拌し、固形分を沈降さ
せ、そして水の部分を慎重にデカント廃棄した。次い
で、残った物質をメタノール（２５０ｍＬ）と４モル／
Ｌ（Ｎ）のＮａＯＨ（２５０ｍＬ）で希釈した。それを
機械攪拌して８０℃に加熱した。温度制御は、温度計ポ
ケットに挿入された熱電対検知プローブを有するサーモ
・ウォッチによって行った。温度は８０℃に維持した。
チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド（２１．６ｇ、０．２
モル）を１０〜１５分間かけて少量ずつ加えた。さらに
１５分間攪拌した後、再度チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキ
シド（１１．８８ｇ、０．１１モル）を５分間かけて少
量ずつ加えた。褐色の上清液が淡黄色に迅速に変化し
た。これを同じ温度でさらに３０分間攪拌した。これを
室温にまで冷却し、１Ｌの冷水で希釈し、そして１６時
間静置した。この環化した生成物は反応器の底部にゴム
のように沈降した。水層をデカント廃棄した。冷水（各
回５００ｍＬ）で２回以上洗浄、デカント廃棄を行っ
た。残留水はシクロヘキサン中で共沸還流して追い出し
た。水が分離されなくなった時点で、自家真空によって
シクロヘキサンを蒸留除去した。この時点でパートＣは
完了したが、生成物を反応器からは取り出さなかった。
応器に、１Ｌの冷水を装填し、攪拌し、固形分を沈降さ
せ、そして水の部分を慎重にデカント廃棄した。次い
で、残った物質をメタノール（２５０ｍＬ）と４モル／
Ｌ（Ｎ）のＮａＯＨ（２５０ｍＬ）で希釈した。それを
機械攪拌して８０℃に加熱した。温度制御は、温度計ポ
ケットに挿入された熱電対検知プローブを有するサーモ
・ウォッチによって行った。温度は８０℃に維持した。
チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド（２１．６ｇ、０．２
モル）を１０〜１５分間かけて少量ずつ加えた。さらに
１５分間攪拌した後、再度チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキ
シド（１１．８８ｇ、０．１１モル）を５分間かけて少
量ずつ加えた。褐色の上清液が淡黄色に迅速に変化し
た。これを同じ温度でさらに３０分間攪拌した。これを
室温にまで冷却し、１Ｌの冷水で希釈し、そして１６時
間静置した。この環化した生成物は反応器の底部にゴム
のように沈降した。水層をデカント廃棄した。冷水（各
回５００ｍＬ）で２回以上洗浄、デカント廃棄を行っ
た。残留水はシクロヘキサン中で共沸還流して追い出し
た。水が分離されなくなった時点で、自家真空によって
シクロヘキサンを蒸留除去した。この時点でパートＣは
完了したが、生成物を反応器からは取り出さなかった。
【００５１】パートＤ：加熱マントルを氷塩浴に置き換
えた。上記反応器に乾燥塩化メチレン（２００ｍＬ）を
装填し、機械的に攪拌して均質溶液を得た。次いで、１
Ｍ三臭化ホウ素塩化メチレン溶液（４００ｍＬ、０．４
モル、４モル当量）を静圧アルゴンガス下、滴下漏斗に
より１．５時間かけて滴下した。最初の均質溶液が黄緑
色の固体懸濁液に変わると同時に白色の発煙が発生した
が即座におさまった。攪拌しながら、２４時間かけて室
温にまで温めさせた。反応器の三口を開放した。氷塩浴
中で冷却しながら水をゆっくりと滴下した。水の添加は
ＨＢｒの発煙が止まるまで継続した。それまでに約２０
０ｍＬの水を要した。次いで、これを重炭酸ナトリウム
固体で少しずつ処理してｐＨを中性にした。この時点
で、フラスコの全内容物を蒸発用フラスコに移した。ロ
ータリーエバポレーターで有機溶剤を除去した。水性残
留物を３５０ｍＬの水でさらに希釈した。不溶性生成物
を焼結ガラス漏斗上に集め、冷水（３×１００ｍＬ）で
洗浄し、そして風乾した。収量は１９．９８ｇ（理論値
の８８％）であった。ヘキサン／酢酸エチルの１：１混
合物によるＴＬＣは、所望の生成物に対応する一つのス
ポットを示した。下記実施例は、本発明の方法の概要を
さらに説明するものである。実施例５ （直接保護工程）
えた。上記反応器に乾燥塩化メチレン（２００ｍＬ）を
装填し、機械的に攪拌して均質溶液を得た。次いで、１
Ｍ三臭化ホウ素塩化メチレン溶液（４００ｍＬ、０．４
モル、４モル当量）を静圧アルゴンガス下、滴下漏斗に
より１．５時間かけて滴下した。最初の均質溶液が黄緑
色の固体懸濁液に変わると同時に白色の発煙が発生した
が即座におさまった。攪拌しながら、２４時間かけて室
温にまで温めさせた。反応器の三口を開放した。氷塩浴
中で冷却しながら水をゆっくりと滴下した。水の添加は
ＨＢｒの発煙が止まるまで継続した。それまでに約２０
０ｍＬの水を要した。次いで、これを重炭酸ナトリウム
固体で少しずつ処理してｐＨを中性にした。この時点
で、フラスコの全内容物を蒸発用フラスコに移した。ロ
ータリーエバポレーターで有機溶剤を除去した。水性残
留物を３５０ｍＬの水でさらに希釈した。不溶性生成物
を焼結ガラス漏斗上に集め、冷水（３×１００ｍＬ）で
洗浄し、そして風乾した。収量は１９．９８ｇ（理論値
の８８％）であった。ヘキサン／酢酸エチルの１：１混
合物によるＴＬＣは、所望の生成物に対応する一つのス
ポットを示した。下記実施例は、本発明の方法の概要を
さらに説明するものである。実施例５ （直接保護工程）
【００５２】
【化１９】
【００５３】先に引用した当該技術分野で公知の常用の
手順に従い、（４−クロロ−２−ニトロアニリンを塩酸
中で亜硝酸ナトリウムによりジアゾ化して得られた）４
−クロロ−２−ニトロフェニルジアゾニウムクロリドを
レソルシノールと縮合させることにより収率９９％で未
保護のアゾ色素（ＸＶ）を合成した。このアゾ色素（Ｘ
Ｖ）は、ＨＰＬＣ検定で９８％の純度を示したので、さ
らに結晶化することなくこの反応で使用した。機械的ス
ターラーと、水凝縮器と、アルゴンガス導入口とを具備
した２Ｌの三口丸底フラスコにおいて、未保護アゾ色素
（ＸＶ）（１１０．８６ｇ、０．３８モル）、硫酸ジメ
チル（１４２．９ｇ、１．１３３モル、１０７ｍＬ）、
無水炭酸カリウム（１６８ｇ、１．２１６モル）及び乾
燥アセトン（２０００ｍＬ）の混合物を還流させた。こ
の反応混合物を激しく機械攪拌しながら１６時間還流さ
せた。その反応の監視は、展開溶剤として塩化メチレン
を使用したシリカゲル塗布ガラス板によるＴＬＣで行っ
た。反応混合物を室温まで冷却し、中多孔度の焼結ガラ
ス漏斗で濾過して無機固形分を分離し、これをアセトン
（４×５０ｍＬ）で十分に洗浄して残留生成物と未反応
の過剰量の硫酸ジメチルを濾液の中に送り込んだ。溶剤
をロータリーエバポレーターで除去した。明オレンジ色
の固体物を５００ｍＬの冷水中に移し、水酸化アンモニ
ウム溶液２０．０ｍＬ（過剰量の硫酸ジメチルと当量）
の存在下、スパチュラで粉砕した。１時間後、その生成
物焼結ガラス漏斗上に集め、冷水（３×３００ｍＬ）で
洗浄し、そして風乾した。収量は１１２．２４ｇ（理論
値の９２％）であった。この粗物質はＨＰＬＣ検定で保
持時間１８．３分、純度９９％を示した。これは、還元
的閉環反応のためにさらに精製する必要はなかった。
手順に従い、（４−クロロ−２−ニトロアニリンを塩酸
中で亜硝酸ナトリウムによりジアゾ化して得られた）４
−クロロ−２−ニトロフェニルジアゾニウムクロリドを
レソルシノールと縮合させることにより収率９９％で未
保護のアゾ色素（ＸＶ）を合成した。このアゾ色素（Ｘ
Ｖ）は、ＨＰＬＣ検定で９８％の純度を示したので、さ
らに結晶化することなくこの反応で使用した。機械的ス
ターラーと、水凝縮器と、アルゴンガス導入口とを具備
した２Ｌの三口丸底フラスコにおいて、未保護アゾ色素
（ＸＶ）（１１０．８６ｇ、０．３８モル）、硫酸ジメ
チル（１４２．９ｇ、１．１３３モル、１０７ｍＬ）、
無水炭酸カリウム（１６８ｇ、１．２１６モル）及び乾
燥アセトン（２０００ｍＬ）の混合物を還流させた。こ
の反応混合物を激しく機械攪拌しながら１６時間還流さ
せた。その反応の監視は、展開溶剤として塩化メチレン
を使用したシリカゲル塗布ガラス板によるＴＬＣで行っ
た。反応混合物を室温まで冷却し、中多孔度の焼結ガラ
ス漏斗で濾過して無機固形分を分離し、これをアセトン
（４×５０ｍＬ）で十分に洗浄して残留生成物と未反応
の過剰量の硫酸ジメチルを濾液の中に送り込んだ。溶剤
をロータリーエバポレーターで除去した。明オレンジ色
の固体物を５００ｍＬの冷水中に移し、水酸化アンモニ
ウム溶液２０．０ｍＬ（過剰量の硫酸ジメチルと当量）
の存在下、スパチュラで粉砕した。１時間後、その生成
物焼結ガラス漏斗上に集め、冷水（３×３００ｍＬ）で
洗浄し、そして風乾した。収量は１１２．２４ｇ（理論
値の９２％）であった。この粗物質はＨＰＬＣ検定で保
持時間１８．３分、純度９９％を示した。これは、還元
的閉環反応のためにさらに精製する必要はなかった。
【００５４】J. Rosevear 及びJ.F.K. Wilshire の文献
では保護形アゾ色素（ＸＶＩ）の収率は６３％にすぎな
かったが、本発明によると９２％の収率が得られること
に着目すべきである。この粗生成物の保護形アゾ色素
（ＸＶＩ）を、以下の実施例に記載する還元的閉環工程
においてさらに精製することなくそのまま使用した。実施例６ （還元的閉環工程）
では保護形アゾ色素（ＸＶＩ）の収率は６３％にすぎな
かったが、本発明によると９２％の収率が得られること
に着目すべきである。この粗生成物の保護形アゾ色素
（ＸＶＩ）を、以下の実施例に記載する還元的閉環工程
においてさらに精製することなくそのまま使用した。実施例６ （還元的閉環工程）
【００５５】
【化２０】
【００５６】実施例５に記載した新規の「直接保護」工
程を行った後、この実施例６に記載の還元的閉環工程
を、最も近い従来技術に記載されている手順に従い、水
酸化ナトリウムの存在下、チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキ
シドを利用して日常実験的に実施した。こうして、粗生
成物の保護形アゾ色素（ＸＶＩ）（９５．５ｇ、０．３
モル）と、４モル／Ｌ（Ｎ）の水酸化ナトリウム（１２
０ｇ、８００ｍＬ、３．０モル）と、メタノール（８０
０ｍＬ）との混合物を、アルゴン雰囲気下、油浴中で機
械的に攪拌した。この油浴温度が８０℃に到達した時点
でチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド（７１．３６ｇ、
０．６６モル）を少量づつ添加した。１５〜２０分間の
攪拌後、反応混合物は上清が暗褐色の溶液で固形分が無
色である懸濁液となった。次いで、さらに多少のチオウ
レア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド（３５．６８ｇ、０．３３モ
ル）を少量づつ添加した。直ぐに上清液が淡黄色にな
り、これを同じ温度においてさらに３０分間攪拌した。
これを室温にまで冷却し、そして蒸発用フラスコに移
し、残留物をアセトン（５０ｍＬ）で洗い流した。この
混合物から有機溶剤をロータリーエバポレーターで分離
した。その水性残留物を塩化メチレン（５００ｍＬ）で
抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、これを濾過によ
り除去し、そしてその濾液から溶剤をロータリーエバポ
レーターで分離した。その暗褐色の粘性のある（後に固
化した）粗生成物を秤量したところ７２．２１ｇ（理論
値の９２％）あり、これはＴＬＣ板上で一つのスポット
を示した。このスポットのＵＶ光下での青色蛍光は、保
護形閉環ベンゾトリアゾール生成物（ＸＶＩＩ）の良好
な指標であった。ＣＤＣｌ3 中の 1ＮＭＲ（内部標準と
してテトラメチルシランを使用）によると、δ７．９
（ｍ，２Ｈ，芳香族）、７．５５（ｄ，１Ｈ，芳香
族）、７．３８（ｄ，１Ｈ，芳香族）、６．６２（ｍ，
２Ｈ，芳香族）、３．９（ｓ，３Ｈ，メトキシ）及び
３．８５（ｓ，３Ｈ，メトキシ）におけるピークが示さ
れた。実施例７ （脱保護工程）
程を行った後、この実施例６に記載の還元的閉環工程
を、最も近い従来技術に記載されている手順に従い、水
酸化ナトリウムの存在下、チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキ
シドを利用して日常実験的に実施した。こうして、粗生
成物の保護形アゾ色素（ＸＶＩ）（９５．５ｇ、０．３
モル）と、４モル／Ｌ（Ｎ）の水酸化ナトリウム（１２
０ｇ、８００ｍＬ、３．０モル）と、メタノール（８０
０ｍＬ）との混合物を、アルゴン雰囲気下、油浴中で機
械的に攪拌した。この油浴温度が８０℃に到達した時点
でチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド（７１．３６ｇ、
０．６６モル）を少量づつ添加した。１５〜２０分間の
攪拌後、反応混合物は上清が暗褐色の溶液で固形分が無
色である懸濁液となった。次いで、さらに多少のチオウ
レア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド（３５．６８ｇ、０．３３モ
ル）を少量づつ添加した。直ぐに上清液が淡黄色にな
り、これを同じ温度においてさらに３０分間攪拌した。
これを室温にまで冷却し、そして蒸発用フラスコに移
し、残留物をアセトン（５０ｍＬ）で洗い流した。この
混合物から有機溶剤をロータリーエバポレーターで分離
した。その水性残留物を塩化メチレン（５００ｍＬ）で
抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、これを濾過によ
り除去し、そしてその濾液から溶剤をロータリーエバポ
レーターで分離した。その暗褐色の粘性のある（後に固
化した）粗生成物を秤量したところ７２．２１ｇ（理論
値の９２％）あり、これはＴＬＣ板上で一つのスポット
を示した。このスポットのＵＶ光下での青色蛍光は、保
護形閉環ベンゾトリアゾール生成物（ＸＶＩＩ）の良好
な指標であった。ＣＤＣｌ3 中の 1ＮＭＲ（内部標準と
してテトラメチルシランを使用）によると、δ７．９
（ｍ，２Ｈ，芳香族）、７．５５（ｄ，１Ｈ，芳香
族）、７．３８（ｄ，１Ｈ，芳香族）、６．６２（ｍ，
２Ｈ，芳香族）、３．９（ｓ，３Ｈ，メトキシ）及び
３．８５（ｓ，３Ｈ，メトキシ）におけるピークが示さ
れた。実施例７ （脱保護工程）
【００５７】
【化２１】
【００５８】この工程は、J. Rosevear 及びJ.F.K. Wil
shire の文献に記載の手順に従い、脱保護試薬として三
臭化ホウ素を用いて粗生成物（ＸＶＩＩ）をさらに精製
することなく実施した。粗生成物（ＸＶＩＩ）（４９．
０ｇ、０．１７モル）を塩化メチレン（３００ｍＬ）に
溶解し、そして機械的スターラーと、氷浴と、ゴム製セ
プタムを介してアルゴン導入口を取り付けた水凝縮器
と、５００ｍＬ容の均圧滴下漏斗とを具備した３Ｌの三
口丸底フラスコに移した。この反応器をアルゴンガスで
フラッシし、０℃に冷却した。１０〜１５分後、１Ｍ三
臭化ホウ素塩化メチレン溶液（６００ｍＬ、０．６モ
ル、３．５３モル当量）を、均質な反応溶液に攪拌しな
がら１時間かけて滴下した。その添加工程の半ばすぎに
は、黄緑色の析出物が発生した。それを２４時間攪拌し
ながら室温にまで温めさせた。その反応混合物を５００
ｍＬの氷水中に注ぎ込み、そして固体重炭酸ナトリウム
で少しずつ処理しながらガラス製ロッドで攪拌し、現場
で生じる臭化水素酸を中和した。塩化メチレンをロータ
リーエバポレーターで除去し、フラスコを室温にまで冷
却した。固体生成物を焼結ガラス漏斗上に集めた。それ
を水（２×２００ｍＬ）で洗浄し、風乾した。粗生成物
のＨＰＬＣ検定によると９８％を超える純度を示した。
収量は４３．２５ｇ（理論値の９７％）であった。ＦＤ
−ＭＳスペクトルによるとｍ／ｅ２６１に分子イオンを
示した。ＣＤＣｌ3 中の 1ＮＭＲ（内部標準としてテト
ラメチルシランを使用）によると、δ１０．２５（幅広
い１本線，２Ｈ，フェノール性ＯＨ）、８．１（ｓ，１
Ｈ，芳香族）、８．０（ｓ，１Ｈ，芳香族）、７．５
（ｄ，１Ｈ，芳香族）、７．２（ｄ，１Ｈ，芳香族）、
６．５（ｓ，１Ｈ，芳香族）及び６．４（ｄ，１Ｈ，芳
香族）におけるピークが示された。実施例８ （直接保護工程）
shire の文献に記載の手順に従い、脱保護試薬として三
臭化ホウ素を用いて粗生成物（ＸＶＩＩ）をさらに精製
することなく実施した。粗生成物（ＸＶＩＩ）（４９．
０ｇ、０．１７モル）を塩化メチレン（３００ｍＬ）に
溶解し、そして機械的スターラーと、氷浴と、ゴム製セ
プタムを介してアルゴン導入口を取り付けた水凝縮器
と、５００ｍＬ容の均圧滴下漏斗とを具備した３Ｌの三
口丸底フラスコに移した。この反応器をアルゴンガスで
フラッシし、０℃に冷却した。１０〜１５分後、１Ｍ三
臭化ホウ素塩化メチレン溶液（６００ｍＬ、０．６モ
ル、３．５３モル当量）を、均質な反応溶液に攪拌しな
がら１時間かけて滴下した。その添加工程の半ばすぎに
は、黄緑色の析出物が発生した。それを２４時間攪拌し
ながら室温にまで温めさせた。その反応混合物を５００
ｍＬの氷水中に注ぎ込み、そして固体重炭酸ナトリウム
で少しずつ処理しながらガラス製ロッドで攪拌し、現場
で生じる臭化水素酸を中和した。塩化メチレンをロータ
リーエバポレーターで除去し、フラスコを室温にまで冷
却した。固体生成物を焼結ガラス漏斗上に集めた。それ
を水（２×２００ｍＬ）で洗浄し、風乾した。粗生成物
のＨＰＬＣ検定によると９８％を超える純度を示した。
収量は４３．２５ｇ（理論値の９７％）であった。ＦＤ
−ＭＳスペクトルによるとｍ／ｅ２６１に分子イオンを
示した。ＣＤＣｌ3 中の 1ＮＭＲ（内部標準としてテト
ラメチルシランを使用）によると、δ１０．２５（幅広
い１本線，２Ｈ，フェノール性ＯＨ）、８．１（ｓ，１
Ｈ，芳香族）、８．０（ｓ，１Ｈ，芳香族）、７．５
（ｄ，１Ｈ，芳香族）、７．２（ｄ，１Ｈ，芳香族）、
６．５（ｓ，１Ｈ，芳香族）及び６．４（ｄ，１Ｈ，芳
香族）におけるピークが示された。実施例８ （直接保護工程）
【００５９】
【化２２】
【００６０】先に引用した当該技術分野で公知の常用の
手順に従い、（２−ニトロアニリンを塩酸中で亜硝酸ナ
トリウムによりジアゾ化して得られた）２−ニトロフェ
ニルジアゾニウムクロリドを３−アミノフェノールと縮
合させることにより収率９８％で未保護のアゾ色素（Ｘ
ＩＸ）を合成した。このアゾ色素（ＸＩＸ）は、ＨＰＬ
Ｃ検定で９７％の純度を示したので、さらに結晶化する
ことなくこの反応で使用した。未保護アゾ色素（ＸＩ
Ｘ）（１０．６２ｇ、０．０４１モル）、無水酢酸（４
０ｇ、過剰量）、トリエチルアミン（１６．１６ｇ、
０．１６モル、２２．３ｍＬ）及び４−ジメチルアミノ
ピリジン（ＤＭＡＰ）（０．４８８ｇ、０．００４モ
ル、１０モル％当量）のテトラヒドロフラン（２５０ｍ
Ｌ）中の混合物を還流下、３時間磁気攪拌した。この反
応の監視は、出発アゾ色素（ＸＩＸ）の消失についてＴ
ＬＣ（ＣＨ2 Ｃｌ2 ）で行った。溶剤をロータリーエバ
ポレーターで除去し、その残留物をアセトン（５０ｍ
Ｌ）で希釈し、そしてガラス棒で攪拌しながら冷水（５
００ｍＬ）に注ぎ込み、析出物を濾過し、冷水（２×２
００ｍＬ）で洗浄し、そして風乾した。この粗生成物は
ジアシル化アゾ色素（ＸＸ）とトリアシル化アゾ色素
（ＸＸＩ）の混合物であって、１２．９３ｇであった。
これらは、ＨＰＬＣ検定及び質量分析によるとほぼ１：
１の比率であった。必要に応じて、この反応を無水酢
酸、氷酢酸及び無水酢酸ナトリウムにおいて還流条件下
で実施してもよい。実施例９ （還元的閉環工程）
手順に従い、（２−ニトロアニリンを塩酸中で亜硝酸ナ
トリウムによりジアゾ化して得られた）２−ニトロフェ
ニルジアゾニウムクロリドを３−アミノフェノールと縮
合させることにより収率９８％で未保護のアゾ色素（Ｘ
ＩＸ）を合成した。このアゾ色素（ＸＩＸ）は、ＨＰＬ
Ｃ検定で９７％の純度を示したので、さらに結晶化する
ことなくこの反応で使用した。未保護アゾ色素（ＸＩ
Ｘ）（１０．６２ｇ、０．０４１モル）、無水酢酸（４
０ｇ、過剰量）、トリエチルアミン（１６．１６ｇ、
０．１６モル、２２．３ｍＬ）及び４−ジメチルアミノ
ピリジン（ＤＭＡＰ）（０．４８８ｇ、０．００４モ
ル、１０モル％当量）のテトラヒドロフラン（２５０ｍ
Ｌ）中の混合物を還流下、３時間磁気攪拌した。この反
応の監視は、出発アゾ色素（ＸＩＸ）の消失についてＴ
ＬＣ（ＣＨ2 Ｃｌ2 ）で行った。溶剤をロータリーエバ
ポレーターで除去し、その残留物をアセトン（５０ｍ
Ｌ）で希釈し、そしてガラス棒で攪拌しながら冷水（５
００ｍＬ）に注ぎ込み、析出物を濾過し、冷水（２×２
００ｍＬ）で洗浄し、そして風乾した。この粗生成物は
ジアシル化アゾ色素（ＸＸ）とトリアシル化アゾ色素
（ＸＸＩ）の混合物であって、１２．９３ｇであった。
これらは、ＨＰＬＣ検定及び質量分析によるとほぼ１：
１の比率であった。必要に応じて、この反応を無水酢
酸、氷酢酸及び無水酢酸ナトリウムにおいて還流条件下
で実施してもよい。実施例９ （還元的閉環工程）
【００６１】
【化２３】
【００６２】この反応は、還元剤としてチオウレア−
Ｓ，Ｓ−ジオキシドを使用し、実施例２に記載した一般
手順に従い実施した。保護形アゾ色素（ＸＸ）及び（Ｘ
ＸＩ）の混合物（１３．６９ｇ）とチオウレア−Ｓ，Ｓ
−ジオキシド（１４．２６ｇ、０．１３２モル）を使用
した。反応の一般的な仕上げにより７．８３ｇの粗生成
物が得られ、ＨＰＬＣ検定、ＨＰＬＣにおける各ＵＶ吸
収曲線形状及び質量分光分析により、（ＸＸＩＩ）（〜
６％）、モノアセチル化閉環生成物（ＸＸＩＩＩ）（〜
４７％）及びジアセチル化閉環生成物（ＸＸＩＶ）（〜
４７％）の混合物が示された。本発明者が認識している
この反応のさらなる利点は、（ＸＸＩＩＩ）と（ＸＸＩ
Ｖ）を単離することなく現場で１３０℃で３〜４時間塩
基加水分解することにより、しかもこれら２種のいずれ
もが９０％を超える収率で（ＸＸＩＩ）に転化され、同
じポット反応から目的の所望の生成物（ＸＸＩＩ）が容
易に得られることである。必要に応じて、閉環生成物の
粗混合物を単離した後、酸加水分解又は塩基加水分解を
施して所望の生成物（ＸＸＩＩ）を得た。下記の実施例
は、所望の目的の生成物をもたらす現場加水分解（この
場合はメタノリシス）のさらなる利点を例示するもので
ある。実施例１０
Ｓ，Ｓ−ジオキシドを使用し、実施例２に記載した一般
手順に従い実施した。保護形アゾ色素（ＸＸ）及び（Ｘ
ＸＩ）の混合物（１３．６９ｇ）とチオウレア−Ｓ，Ｓ
−ジオキシド（１４．２６ｇ、０．１３２モル）を使用
した。反応の一般的な仕上げにより７．８３ｇの粗生成
物が得られ、ＨＰＬＣ検定、ＨＰＬＣにおける各ＵＶ吸
収曲線形状及び質量分光分析により、（ＸＸＩＩ）（〜
６％）、モノアセチル化閉環生成物（ＸＸＩＩＩ）（〜
４７％）及びジアセチル化閉環生成物（ＸＸＩＶ）（〜
４７％）の混合物が示された。本発明者が認識している
この反応のさらなる利点は、（ＸＸＩＩＩ）と（ＸＸＩ
Ｖ）を単離することなく現場で１３０℃で３〜４時間塩
基加水分解することにより、しかもこれら２種のいずれ
もが９０％を超える収率で（ＸＸＩＩ）に転化され、同
じポット反応から目的の所望の生成物（ＸＸＩＩ）が容
易に得られることである。必要に応じて、閉環生成物の
粗混合物を単離した後、酸加水分解又は塩基加水分解を
施して所望の生成物（ＸＸＩＩ）を得た。下記の実施例
は、所望の目的の生成物をもたらす現場加水分解（この
場合はメタノリシス）のさらなる利点を例示するもので
ある。実施例１０
【００６３】
【化２４】
【００６４】触媒として４−ジメチルアミノピリジン及
び塩基としてトリエチルアミンの存在下、テトラヒドロ
フラン中又は塩化メチレン中、対応する未保護アゾ色素
を無水酢酸でジアシル化することにより、保護されたア
ゾ色素（ＸＸＶ）を定量的収率で合成した。こうして、
保護形アゾ色素（ＸＸＶ）（０．３４３ｇ、０．００１
モル）、無水ギ酸アンモニウム（０．６３ｇ、０．０１
モル）及び１０％Ｐｄ−Ｃの混合物を乾燥メタノール
中、室温で６〜１０時間攪拌した後、６〜１０時間還流
させ、ＨＰＬＣ−ＵＶ吸収曲線及び質量分光分析（ｍ／
ｅ２２７で分子イオン）によって閉環された未保護の所
望の生成物（ＸＩＶ）の生成を確認した。 実施例１１
び塩基としてトリエチルアミンの存在下、テトラヒドロ
フラン中又は塩化メチレン中、対応する未保護アゾ色素
を無水酢酸でジアシル化することにより、保護されたア
ゾ色素（ＸＸＶ）を定量的収率で合成した。こうして、
保護形アゾ色素（ＸＸＶ）（０．３４３ｇ、０．００１
モル）、無水ギ酸アンモニウム（０．６３ｇ、０．０１
モル）及び１０％Ｐｄ−Ｃの混合物を乾燥メタノール
中、室温で６〜１０時間攪拌した後、６〜１０時間還流
させ、ＨＰＬＣ−ＵＶ吸収曲線及び質量分光分析（ｍ／
ｅ２２７で分子イオン）によって閉環された未保護の所
望の生成物（ＸＩＶ）の生成を確認した。 実施例１１
【００６５】
【化２５】
【００６６】この実施例は、保護基としてｐ−トルエン
スルホニル基を使用する態様を説明するものである。機
械的スターラーと氷浴を具備した２Ｌの三口丸底フラス
コの中にアゾ色素（ＸＩ）（１２．６ｇ、０．０４８モ
ル）とｐ−トルエンスルホニルクロリド（２０．３８
ｇ、０．１０７モル）を入れた。アセトン（１，０００
ｍＬ）を加えて０℃で攪拌した。トリエチルアミン（１
２．３ｇ、０．１２２モル、１７ｍＬ）を１〜２分かけ
て添加した後、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン
（０．３１ｇ、０．００２５モル）を一度に加えた。３
０分後、氷浴を取り外し、室温にまで戻させた。反応は
２時間以内に完了し、ＴＬＣ（ＣＨ2 Ｃｌ2／ＭｅＯ
Ｈ：９９．８／０．２）による監視では一つのスポット
を示し、Ｒｆ＝０．５８であった。溶剤をロータリーエ
バポレーターで除去した。その残留物を１リットルの冷
水で希釈した。生成物は赤褐色の粘性油状物として得ら
れた。濁った上清液をデカント廃棄した。その残留物を
塩化メチレン（５００ｍＬ）で抽出し、ブライン（５０
０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。こ
れを濾過してその溶剤をロータリーエバポレーターで除
去した。所望の二箇所が保護されたアゾ色素（ＸＸＶ
Ｉ）の収量は２７．５６ｇ（理論値の９９．９％）であ
った。ＦＤ質量分析スペクトルによるとｍ／ｅ５６７に
分子イオンピークが示された。ＨＰＬＣ分析では保持時
間２０．４分でピークが認められた。ＨＰＬＣによる曲
線のλmax は３３３ｎｍであった。 1ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ）によると、δ７．９（ｔ，２Ｈ，芳香族）、７．７
（ｄ，２Ｈ，芳香族）、７．６（互いに重なる二重線，
４Ｈ，芳香族）、７．４４（ｄ，１Ｈ，芳香族）、７．
３８（ｄ，２Ｈ，芳香族）、７．１５（ｄ，１Ｈ，芳香
族）、７．０（ｓ，１Ｈ，芳香族）、６．９５（ｄ，１
Ｈ，芳香族）、２．５（ｓ，３Ｈ，ＣＨ3 ）及び２．３
（ｓ，３Ｈ，ＣＨ3 ）におけるピークが示された。実施例１２
スルホニル基を使用する態様を説明するものである。機
械的スターラーと氷浴を具備した２Ｌの三口丸底フラス
コの中にアゾ色素（ＸＩ）（１２．６ｇ、０．０４８モ
ル）とｐ−トルエンスルホニルクロリド（２０．３８
ｇ、０．１０７モル）を入れた。アセトン（１，０００
ｍＬ）を加えて０℃で攪拌した。トリエチルアミン（１
２．３ｇ、０．１２２モル、１７ｍＬ）を１〜２分かけ
て添加した後、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン
（０．３１ｇ、０．００２５モル）を一度に加えた。３
０分後、氷浴を取り外し、室温にまで戻させた。反応は
２時間以内に完了し、ＴＬＣ（ＣＨ2 Ｃｌ2／ＭｅＯ
Ｈ：９９．８／０．２）による監視では一つのスポット
を示し、Ｒｆ＝０．５８であった。溶剤をロータリーエ
バポレーターで除去した。その残留物を１リットルの冷
水で希釈した。生成物は赤褐色の粘性油状物として得ら
れた。濁った上清液をデカント廃棄した。その残留物を
塩化メチレン（５００ｍＬ）で抽出し、ブライン（５０
０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。こ
れを濾過してその溶剤をロータリーエバポレーターで除
去した。所望の二箇所が保護されたアゾ色素（ＸＸＶ
Ｉ）の収量は２７．５６ｇ（理論値の９９．９％）であ
った。ＦＤ質量分析スペクトルによるとｍ／ｅ５６７に
分子イオンピークが示された。ＨＰＬＣ分析では保持時
間２０．４分でピークが認められた。ＨＰＬＣによる曲
線のλmax は３３３ｎｍであった。 1ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ）によると、δ７．９（ｔ，２Ｈ，芳香族）、７．７
（ｄ，２Ｈ，芳香族）、７．６（互いに重なる二重線，
４Ｈ，芳香族）、７．４４（ｄ，１Ｈ，芳香族）、７．
３８（ｄ，２Ｈ，芳香族）、７．１５（ｄ，１Ｈ，芳香
族）、７．０（ｓ，１Ｈ，芳香族）、６．９５（ｄ，１
Ｈ，芳香族）、２．５（ｓ，３Ｈ，ＣＨ3 ）及び２．３
（ｓ，３Ｈ，ＣＨ3 ）におけるピークが示された。実施例１２
【００６７】
【化２６】
【００６８】この実施例は、還元的閉環反応及び脱保護
反応をワン・ポットで実施できることを例示するもので
ある。この反応は実施例６と同様の方法で実施した。水
酸化ナトリウム（３８．０８ｇ、０．９５モル）水溶液
（２３８ｍＬ）とメタノール（２３８ｍＬ）の存在下、
アゾ色素（ＸＸＶＩ）（２７．０ｇ、０．０４７６モ
ル）をチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド（１７．０７
ｇ、０．１５７モル）とアルゴン下、８０℃で約３時間
反応させた。そのアリコート（塩酸で酸性にした）のＨ
ＰＬＣ検定によると、所望の生成物（ＸＩＶ）（〜７０
％、保持時間１３．３分）とその４’−置換モノスルホ
ネート（〜２６％、保持時間１９．１５分）の混合物と
共に、汚染物として微量のＮ−オキシドが示された。温
度を１３０℃に上昇させて１６時間還流し、スルホネー
トエステル基の現場加水分解を完結させた。メタノール
を蒸留除去した。その水性残留物を０℃に冷却し、１０
００ｍＬの冷水で希釈し、そして濃塩酸でｐＨを３〜４
の酸性にした。内容物全体を分液漏斗に移し、酢酸エチ
ル（３×５００ｍＬ）で抽出した。その抽出物を無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過した。溶剤をロータ
リーエバポレーターで除去した。生成物（ＸＩＶ）が明
褐色の固形分として得られ、その重量は１０．２６ｇ
（理論値の９５％）であった。実施例１３
反応をワン・ポットで実施できることを例示するもので
ある。この反応は実施例６と同様の方法で実施した。水
酸化ナトリウム（３８．０８ｇ、０．９５モル）水溶液
（２３８ｍＬ）とメタノール（２３８ｍＬ）の存在下、
アゾ色素（ＸＸＶＩ）（２７．０ｇ、０．０４７６モ
ル）をチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド（１７．０７
ｇ、０．１５７モル）とアルゴン下、８０℃で約３時間
反応させた。そのアリコート（塩酸で酸性にした）のＨ
ＰＬＣ検定によると、所望の生成物（ＸＩＶ）（〜７０
％、保持時間１３．３分）とその４’−置換モノスルホ
ネート（〜２６％、保持時間１９．１５分）の混合物と
共に、汚染物として微量のＮ−オキシドが示された。温
度を１３０℃に上昇させて１６時間還流し、スルホネー
トエステル基の現場加水分解を完結させた。メタノール
を蒸留除去した。その水性残留物を０℃に冷却し、１０
００ｍＬの冷水で希釈し、そして濃塩酸でｐＨを３〜４
の酸性にした。内容物全体を分液漏斗に移し、酢酸エチ
ル（３×５００ｍＬ）で抽出した。その抽出物を無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過した。溶剤をロータ
リーエバポレーターで除去した。生成物（ＸＩＶ）が明
褐色の固形分として得られ、その重量は１０．２６ｇ
（理論値の９５％）であった。実施例１３
【００６９】
【化２７】
【００７０】この実施例は、ジメチルカルバミル基が有
効な保護基であることを例示するものである。機械的ス
ターラーと氷浴を具備した２Ｌの三口丸底フラスコにア
ゾ色素（ＸＶ）（５８．７４ｇ、０．２モル）とアセト
ン（１５００ｍＬ）を入れた。０℃で攪拌しながら、ジ
メチルカルバミルクロリド（４７．３２ｇ、０．４５モ
ル、４０．５ｍＬ）を２〜３分かけて添加した。その反
応混合物を攪拌しながら滴下漏斗からトリエチルアミン
（４５．５ｇ、０．４５モル、６３ｍＬ）をゆっくりと
１０〜１５分かけて添加した。この添加の初期には大量
の白色発煙が認められたが、約１０分後にはおさまっ
た。Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（２．４５ｇ、
０．０２モル）を一度に添加した。約１５分後に氷浴を
取り外し、反応混合物を室温にさせた。これを加熱マン
トルで２．５時間還流させた。ＴＬＣ（ＣＨ2 Ｃｌ2 ／
ＭｅＯＨ：９．５／０．５）により二箇所が保護された
アゾ色素（ＸＸＶＩＩ）のＲｆ＝０．９の一つのスポッ
トが示された。溶剤をロータリーエバポレーターで除去
した。その残留物を１０００ｍＬの冷水で粉砕した。不
溶性の生成物を焼結ガラス漏斗で濾過し、冷水（３×２
００ｍＬ）で洗浄した。泥色の固形分を風乾したところ
８３．２１ｇ（理論値の９５．４％）であった。その粗
物質は分析学的に純粋であった。そのＦＤ質量分析スペ
クトルによるとｍ／ｅ４３５に分子イオンピークが認め
られた。ＨＰＬＣによると保持時間１６．８分にピーク
が認められ、そのピーク面積率は９８．７％であった。
ＨＰＬＣによる吸収曲線のλmax は３５８ｎｍであり、
４４５ｎｍに突起部があった。その 1ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ）によると、δ７．９（ｓ，１Ｈ，芳香族）、７．６
（ｄ，１Ｈ，芳香族）、７．５（ｄ，１Ｈ，芳香族）、
７．２（ｓ，１Ｈ，芳香族）、７．１（ｄ，１Ｈ，芳香
族）、６．７８（ｄ，１Ｈ，芳香族）、３．１５（ｓ，
３Ｈ，ＮＣＨ3 ）、３．０８（ｓ，３Ｈ，ＮＣＨ3 ）及
び３．０２（ｓ，６Ｈ，Ｎ（ＣＨ3 ）2 ）におけるピー
クが示された。Ｃ18Ｈ18Ｃｌ1 Ｎ5 Ｏ6 の元素分析は理
論値；Ｃ＝４９．６１、Ｈ＝４．１６、Ｎ＝１６．０
７、Ｃｌ＝８．１３：測定値；Ｃ＝４９．７７、Ｈ＝
４．３１、Ｎ＝１５．８９、Ｃｌ＝８．０３であった。実施例１４
効な保護基であることを例示するものである。機械的ス
ターラーと氷浴を具備した２Ｌの三口丸底フラスコにア
ゾ色素（ＸＶ）（５８．７４ｇ、０．２モル）とアセト
ン（１５００ｍＬ）を入れた。０℃で攪拌しながら、ジ
メチルカルバミルクロリド（４７．３２ｇ、０．４５モ
ル、４０．５ｍＬ）を２〜３分かけて添加した。その反
応混合物を攪拌しながら滴下漏斗からトリエチルアミン
（４５．５ｇ、０．４５モル、６３ｍＬ）をゆっくりと
１０〜１５分かけて添加した。この添加の初期には大量
の白色発煙が認められたが、約１０分後にはおさまっ
た。Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（２．４５ｇ、
０．０２モル）を一度に添加した。約１５分後に氷浴を
取り外し、反応混合物を室温にさせた。これを加熱マン
トルで２．５時間還流させた。ＴＬＣ（ＣＨ2 Ｃｌ2 ／
ＭｅＯＨ：９．５／０．５）により二箇所が保護された
アゾ色素（ＸＸＶＩＩ）のＲｆ＝０．９の一つのスポッ
トが示された。溶剤をロータリーエバポレーターで除去
した。その残留物を１０００ｍＬの冷水で粉砕した。不
溶性の生成物を焼結ガラス漏斗で濾過し、冷水（３×２
００ｍＬ）で洗浄した。泥色の固形分を風乾したところ
８３．２１ｇ（理論値の９５．４％）であった。その粗
物質は分析学的に純粋であった。そのＦＤ質量分析スペ
クトルによるとｍ／ｅ４３５に分子イオンピークが認め
られた。ＨＰＬＣによると保持時間１６．８分にピーク
が認められ、そのピーク面積率は９８．７％であった。
ＨＰＬＣによる吸収曲線のλmax は３５８ｎｍであり、
４４５ｎｍに突起部があった。その 1ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ）によると、δ７．９（ｓ，１Ｈ，芳香族）、７．６
（ｄ，１Ｈ，芳香族）、７．５（ｄ，１Ｈ，芳香族）、
７．２（ｓ，１Ｈ，芳香族）、７．１（ｄ，１Ｈ，芳香
族）、６．７８（ｄ，１Ｈ，芳香族）、３．１５（ｓ，
３Ｈ，ＮＣＨ3 ）、３．０８（ｓ，３Ｈ，ＮＣＨ3 ）及
び３．０２（ｓ，６Ｈ，Ｎ（ＣＨ3 ）2 ）におけるピー
クが示された。Ｃ18Ｈ18Ｃｌ1 Ｎ5 Ｏ6 の元素分析は理
論値；Ｃ＝４９．６１、Ｈ＝４．１６、Ｎ＝１６．０
７、Ｃｌ＝８．１３：測定値；Ｃ＝４９．７７、Ｈ＝
４．３１、Ｎ＝１５．８９、Ｃｌ＝８．０３であった。実施例１４
【００７１】
【化２８】
【００７２】この実施例は、還元的閉環反応及び脱保護
反応をワン・ポットで実施できることを例示するもので
ある。この反応は、機械的スターラー、油浴及び還流用
凝縮器を介して取り付けたアルゴンガス導入口を具備し
た２Ｌの三口丸底フラスコにおいて実施例６と同様の方
法で実施した。水酸化ナトリウム（４８．０ｇ、１．２
モル）水溶液（３００ｍＬ）とメタノール（３００ｍ
Ｌ）の存在下、アゾ色素（ＸＸＶＩＩ）（５２．３ｇ、
０．１２モル）をチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド（４
２．８４ｇ、０．３９６モル）と８０℃で約３時間反応
させた。そのアリコート（塩酸で酸性にした）のＨＰＬ
Ｃ検定によると、所望の生成物（ＸＶＩＩＩ）（〜７５
％、保持時間１４．８６分）とその４’−置換モノカル
バメート（〜２５％、保持時間１３．８５分）の混合物
が示された。さらに水酸化ナトリウム（４０ｇ、０．１
モル）を加え、温度を１３０℃に上昇させて１６時間還
流し、カルバメートエステル基の現場加水分解を完結さ
せた。メタノールを蒸留除去した。その水性残留物を０
℃に冷却し、１０００ｍＬの冷水で希釈し、そして濃塩
酸でｐＨを３〜４の酸性にした。内容物全体を分液漏斗
に移し、酢酸エチル（３×５００ｍＬ）で抽出した。そ
の抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過し
た。溶剤をロータリーエバポレーターで除去した。生成
物（ＸＶＩＩＩ）が褐色の固形分として得られ、その重
量は２９．７５ｇ（理論値の９５％）であった。以下の
実施例で示した還元剤として亜ジチオン酸ナトリウム
（Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ4）によっても同じ変換が達成された。
反応をワン・ポットで実施できることを例示するもので
ある。この反応は、機械的スターラー、油浴及び還流用
凝縮器を介して取り付けたアルゴンガス導入口を具備し
た２Ｌの三口丸底フラスコにおいて実施例６と同様の方
法で実施した。水酸化ナトリウム（４８．０ｇ、１．２
モル）水溶液（３００ｍＬ）とメタノール（３００ｍ
Ｌ）の存在下、アゾ色素（ＸＸＶＩＩ）（５２．３ｇ、
０．１２モル）をチオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド（４
２．８４ｇ、０．３９６モル）と８０℃で約３時間反応
させた。そのアリコート（塩酸で酸性にした）のＨＰＬ
Ｃ検定によると、所望の生成物（ＸＶＩＩＩ）（〜７５
％、保持時間１４．８６分）とその４’−置換モノカル
バメート（〜２５％、保持時間１３．８５分）の混合物
が示された。さらに水酸化ナトリウム（４０ｇ、０．１
モル）を加え、温度を１３０℃に上昇させて１６時間還
流し、カルバメートエステル基の現場加水分解を完結さ
せた。メタノールを蒸留除去した。その水性残留物を０
℃に冷却し、１０００ｍＬの冷水で希釈し、そして濃塩
酸でｐＨを３〜４の酸性にした。内容物全体を分液漏斗
に移し、酢酸エチル（３×５００ｍＬ）で抽出した。そ
の抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過し
た。溶剤をロータリーエバポレーターで除去した。生成
物（ＸＶＩＩＩ）が褐色の固形分として得られ、その重
量は２９．７５ｇ（理論値の９５％）であった。以下の
実施例で示した還元剤として亜ジチオン酸ナトリウム
（Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ4）によっても同じ変換が達成された。
【００７３】実施例１５ この反応は、機械的スターラー、油浴及び還流用凝縮器
を介して取り付けたアルゴンガス導入口を具備した２５
０ｍＬの三口丸底フラスコにおいて実施例６と同様の方
法で実施した。水酸化ナトリウム（１６．０ｇ、０．４
モル）水溶液（５０ｍＬ）とメタノール（５０ｍＬ）の
存在下、アゾ色素（ＸＸＶＩＩ）（８．７ｇ、０．０２
モル）を亜ジチオン酸ナトリウム（１７．４ｇ、０．１
モル）とその結晶性粉末を少量ずつ添加することにより
８０℃で１０〜１５分かけて反応させた。亜ジチオン酸
ナトリウムの添加が完了した後、反応混合物の色は明褐
色から暗褐色に変化していた。１５分後、温度を１２０
℃に上昇させ、反応混合物の還流を開始させた。する
と、反応混合物の色が順次暗褐色から暗赤色、オレンジ
色、暗黄色、泥状黄色へと変化していった。その最終色
は、反応混合物を空気に晒さない限りそのままであっ
た。２時間の還流後、それを室温まで冷却させた。それ
を空気に開放すると、色が変化して暗緑色になった。メ
タノールを蒸留除去した。その暗緑色の水性残留物を５
００ｍＬの冷水で希釈し、そして濃塩酸でｐＨを３〜４
の酸性にした。そのゼラチン状析出物を酢酸エチル（５
００ｍＬ＋２００ｍＬ）で抽出した。抽出物を一緒にし
たものを無水硫酸ナトリウムで乾燥し、これを濾過して
除去し、そしてその溶剤をロータリーエバポレーターで
除去した。褐色の粘性物質が得られ、これを室温で保存
すると固化した。その重量は５．１ｇ（理論値の９７．
５％）であった。その粗生成物のＨＰＬＣ分析による
と、保持時間１４．７９分のピークが示され、そのピー
ク面積率は純度９５％を示した。以下の比較例は、未保
護アゾ色素を用いて還元的閉環反応を行うと、比較的低
い収率で又は望ましくない副生物を伴って閉環生成物が
得られたことを例示するものである。比較例１６
を介して取り付けたアルゴンガス導入口を具備した２５
０ｍＬの三口丸底フラスコにおいて実施例６と同様の方
法で実施した。水酸化ナトリウム（１６．０ｇ、０．４
モル）水溶液（５０ｍＬ）とメタノール（５０ｍＬ）の
存在下、アゾ色素（ＸＸＶＩＩ）（８．７ｇ、０．０２
モル）を亜ジチオン酸ナトリウム（１７．４ｇ、０．１
モル）とその結晶性粉末を少量ずつ添加することにより
８０℃で１０〜１５分かけて反応させた。亜ジチオン酸
ナトリウムの添加が完了した後、反応混合物の色は明褐
色から暗褐色に変化していた。１５分後、温度を１２０
℃に上昇させ、反応混合物の還流を開始させた。する
と、反応混合物の色が順次暗褐色から暗赤色、オレンジ
色、暗黄色、泥状黄色へと変化していった。その最終色
は、反応混合物を空気に晒さない限りそのままであっ
た。２時間の還流後、それを室温まで冷却させた。それ
を空気に開放すると、色が変化して暗緑色になった。メ
タノールを蒸留除去した。その暗緑色の水性残留物を５
００ｍＬの冷水で希釈し、そして濃塩酸でｐＨを３〜４
の酸性にした。そのゼラチン状析出物を酢酸エチル（５
００ｍＬ＋２００ｍＬ）で抽出した。抽出物を一緒にし
たものを無水硫酸ナトリウムで乾燥し、これを濾過して
除去し、そしてその溶剤をロータリーエバポレーターで
除去した。褐色の粘性物質が得られ、これを室温で保存
すると固化した。その重量は５．１ｇ（理論値の９７．
５％）であった。その粗生成物のＨＰＬＣ分析による
と、保持時間１４．７９分のピークが示され、そのピー
ク面積率は純度９５％を示した。以下の比較例は、未保
護アゾ色素を用いて還元的閉環反応を行うと、比較的低
い収率で又は望ましくない副生物を伴って閉環生成物が
得られたことを例示するものである。比較例１６
【００７４】
【化２９】
【００７５】この反応は、未保護アゾ色素（ＸＩＸ）
（２０．６０ｇ、０．０８モル）、チオウレア−Ｓ，Ｓ
−ジオキシド（２８．５３ｇ、０．２６４モル）、４モ
ル／Ｌ（Ｎ）ＮａＯＨ（１５０ｍＬ、０．４８モル）及
びＭｅＯＨ（１５０ｍＬ）を使用し、実施例９に記載し
たものと同等の条件下で実施した。反応混合物の通常の
仕上げにより４．２５ｇ（理論値の２４％）の所望の生
成物（ＸＸＩＩ）が得られた。実施例９での収率は９０
％を超えていた。最も近い従来技術の一つ〔H.S.Freema
n and J.C. Posey, Jr., Dyes and Pigments, Vol. 20,
pp. 171-195 (1992)を参照のこと〕では、（ＸＸＩ
Ｉ）の５−クロロ置換類似体の収率５９％が報告されて
いる。本発明者は、対応するアゾ色素のアミノ基又はフ
ェノール基とアミノ基の両方が保護された場合の高い収
率を予測した。この傾向は前記従来技術文献（第１７６
頁を参照のこと）において明示されているが、閉環反応
に対する保護の影響については言及されていない。比較例１７
（２０．６０ｇ、０．０８モル）、チオウレア−Ｓ，Ｓ
−ジオキシド（２８．５３ｇ、０．２６４モル）、４モ
ル／Ｌ（Ｎ）ＮａＯＨ（１５０ｍＬ、０．４８モル）及
びＭｅＯＨ（１５０ｍＬ）を使用し、実施例９に記載し
たものと同等の条件下で実施した。反応混合物の通常の
仕上げにより４．２５ｇ（理論値の２４％）の所望の生
成物（ＸＸＩＩ）が得られた。実施例９での収率は９０
％を超えていた。最も近い従来技術の一つ〔H.S.Freema
n and J.C. Posey, Jr., Dyes and Pigments, Vol. 20,
pp. 171-195 (1992)を参照のこと〕では、（ＸＸＩ
Ｉ）の５−クロロ置換類似体の収率５９％が報告されて
いる。本発明者は、対応するアゾ色素のアミノ基又はフ
ェノール基とアミノ基の両方が保護された場合の高い収
率を予測した。この傾向は前記従来技術文献（第１７６
頁を参照のこと）において明示されているが、閉環反応
に対する保護の影響については言及されていない。比較例１７
【００７６】
【化３０】
【００７７】この反応は、未保護アゾ色素（ＸＩ）（２
０．７３ｇ、０．０８モル）、チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジ
オキシド（２８．５３ｇ、０．２６４モル）、４モル／
Ｌ（Ｎ）ＮａＯＨ（２００ｍＬ、０．４８モル）及びＭ
ｅＯＨ（１５０ｍＬ）を使用し、実施例２に記載したも
のと同等の条件下で実施した。この反応中、出発の未保
護アゾ色素（ＸＩ）は１５分以内に完全に消費された。
（酸性にされたアリコートの）ＴＬＣによると、所望の
閉環生成物（ＸＩＶ）は少しも検出されなかったが、代
わりに、（ＸＸＶＩＩＩ）のような極性の高い物質に対
応するスポットが示され、これはＨＰＬＣ系ＵＶ−ＶＩ
Ｓ吸収曲線によりアミノ置換アゾ色素（ＸＸＶＩＩＩ）
のものであることが確認された。また、質量分析による
と、ｍ／ｅ２２９に分子イオンが示された。このことか
ら、アゾ色素が保護されていない場合には、そのニトロ
基が還元されてアミノ基となり、閉環反応はまったく起
こらないことが確認された。以下、本発明の好ましい実
施態様を項分け記載する。 〔１〕下式（ＶＩＩ）：
０．７３ｇ、０．０８モル）、チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジ
オキシド（２８．５３ｇ、０．２６４モル）、４モル／
Ｌ（Ｎ）ＮａＯＨ（２００ｍＬ、０．４８モル）及びＭ
ｅＯＨ（１５０ｍＬ）を使用し、実施例２に記載したも
のと同等の条件下で実施した。この反応中、出発の未保
護アゾ色素（ＸＩ）は１５分以内に完全に消費された。
（酸性にされたアリコートの）ＴＬＣによると、所望の
閉環生成物（ＸＩＶ）は少しも検出されなかったが、代
わりに、（ＸＸＶＩＩＩ）のような極性の高い物質に対
応するスポットが示され、これはＨＰＬＣ系ＵＶ−ＶＩ
Ｓ吸収曲線によりアミノ置換アゾ色素（ＸＸＶＩＩＩ）
のものであることが確認された。また、質量分析による
と、ｍ／ｅ２２９に分子イオンが示された。このことか
ら、アゾ色素が保護されていない場合には、そのニトロ
基が還元されてアミノ基となり、閉環反応はまったく起
こらないことが確認された。以下、本発明の好ましい実
施態様を項分け記載する。 〔１〕下式（ＶＩＩ）：
【００７８】
【化３１】
【００７９】〔上式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 、Ｒ6 及びＲ7 は、各々独立に、Ｈ、ハロゲン、シ
アノ、−ＣＯ2 Ｙ（但し、ＹはＨ又は炭素原子数１〜１
２個のアルキル若しくは炭素原子数６〜１２個のアリー
ル基である）、炭素原子数１〜１２個のカルバモイル
基、炭素原子数０〜１２個のスルホキシド基、炭素原子
数０〜１２個のスルホニル基、炭素原子数０〜１２個の
スルホナト基、炭素原子数０〜１２個のスルホンアミド
基、炭素原子数１〜１８個のアルキル基、炭素原子数１
〜１８個のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０個のアリ
ール基、Ｏ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１〜４
個を含む原子数５〜２０個のヘテロアリール基、又は炭
素原子数６〜２０個のアリールオキシ基であるか、或い
はＲ1 〜Ｒ4 のうち隣接しているいずれか２個以上の基
が、又は互いに隣接している場合のＲ6 とＲ7 若しくは
Ｒ6 とＲ5 が、一緒になって炭素原子数１〜１０個の脂
環式基を形成するか、又はそれらが結合しているベンゼ
ン環の炭素原子と一緒になって炭素原子数６〜２０個の
芳香族基又はＯ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１
〜４個を含む原子数５〜２０個のヘテロアリール基を完
成することができ、或いはＲ 7 はＯＨであり、ＸはＯ、
Ｓ又はＮＲ8 であるが、但しＲ8 はＨ、炭素原子数１〜
１２個のアルキル若しくはアリール基、又はＯ、Ｎ若し
くはＳから選ばれた異種原子１〜４個を含む原子数５〜
２０個のヘテロアリール基である〕で示される化合物の
合成方法であって、下式（ＩＶ）：
Ｒ5 、Ｒ6 及びＲ7 は、各々独立に、Ｈ、ハロゲン、シ
アノ、−ＣＯ2 Ｙ（但し、ＹはＨ又は炭素原子数１〜１
２個のアルキル若しくは炭素原子数６〜１２個のアリー
ル基である）、炭素原子数１〜１２個のカルバモイル
基、炭素原子数０〜１２個のスルホキシド基、炭素原子
数０〜１２個のスルホニル基、炭素原子数０〜１２個の
スルホナト基、炭素原子数０〜１２個のスルホンアミド
基、炭素原子数１〜１８個のアルキル基、炭素原子数１
〜１８個のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０個のアリ
ール基、Ｏ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１〜４
個を含む原子数５〜２０個のヘテロアリール基、又は炭
素原子数６〜２０個のアリールオキシ基であるか、或い
はＲ1 〜Ｒ4 のうち隣接しているいずれか２個以上の基
が、又は互いに隣接している場合のＲ6 とＲ7 若しくは
Ｒ6 とＲ5 が、一緒になって炭素原子数１〜１０個の脂
環式基を形成するか、又はそれらが結合しているベンゼ
ン環の炭素原子と一緒になって炭素原子数６〜２０個の
芳香族基又はＯ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１
〜４個を含む原子数５〜２０個のヘテロアリール基を完
成することができ、或いはＲ 7 はＯＨであり、ＸはＯ、
Ｓ又はＮＲ8 であるが、但しＲ8 はＨ、炭素原子数１〜
１２個のアルキル若しくはアリール基、又はＯ、Ｎ若し
くはＳから選ばれた異種原子１〜４個を含む原子数５〜
２０個のヘテロアリール基である〕で示される化合物の
合成方法であって、下式（ＩＶ）：
【００８０】
【化３２】
【００８１】〔上式中、Ｒ1 〜Ｒ7 及びＸは前記式（Ｖ
ＩＩ）で定義した通り〕で示される化合物上の少なくと
も−ＸＨ基を、−Ｘ（ＰＧ）基〔ここで、ＰＧ基はＨ以
外の基であって、続く閉環工程では除去されない〕の形
成により保護して、保護形の式（ＩＶ）の化合物を生成
させる保護工程と、前記保護形の式（ＩＶ）の化合物を
還元剤と反応させて下式（ＶＩ）：
ＩＩ）で定義した通り〕で示される化合物上の少なくと
も−ＸＨ基を、−Ｘ（ＰＧ）基〔ここで、ＰＧ基はＨ以
外の基であって、続く閉環工程では除去されない〕の形
成により保護して、保護形の式（ＩＶ）の化合物を生成
させる保護工程と、前記保護形の式（ＩＶ）の化合物を
還元剤と反応させて下式（ＶＩ）：
【００８２】
【化３３】
【００８３】〔上式中、ＺはＨ又は保護基である〕で示
される化合物を生成させる閉環工程と、前記式（ＶＩ）
の化合物を、ＰＧをＨで置換し且つＺがＨでない場合に
はＺもＨで置換することにより脱保護して、前記式（Ｖ
ＩＩ）の化合物を生成させる脱保護工程とを含む合成方
法。
される化合物を生成させる閉環工程と、前記式（ＶＩ）
の化合物を、ＰＧをＨで置換し且つＺがＨでない場合に
はＺもＨで置換することにより脱保護して、前記式（Ｖ
ＩＩ）の化合物を生成させる脱保護工程とを含む合成方
法。
【００８４】〔２〕閉環工程前に式（ＩＶ）上の−ＯＨ
基も保護されて−Ｏ（ＰＧ1 ）を形成し、その際ＰＧ1
は続く閉環工程中には除去されないＨ以外の基である
か、又は炭素原子数１〜１２個のアシル基、炭素原子数
１〜２４個のカルバミル基又は炭素原子数１〜１２個の
スルホニル基である、前記〔１〕項に記載の方法。 〔３〕ＰＧ1 が表しうるアシル基が炭素原子数２〜１２
個のアシル基である、前記〔２〕項に記載の方法。
基も保護されて−Ｏ（ＰＧ1 ）を形成し、その際ＰＧ1
は続く閉環工程中には除去されないＨ以外の基である
か、又は炭素原子数１〜１２個のアシル基、炭素原子数
１〜２４個のカルバミル基又は炭素原子数１〜１２個の
スルホニル基である、前記〔１〕項に記載の方法。 〔３〕ＰＧ1 が表しうるアシル基が炭素原子数２〜１２
個のアシル基である、前記〔２〕項に記載の方法。
【００８５】〔４〕ＰＧが１〜６個の酸素、硫黄又は窒
素原子が介在していてもよい炭素原子数１〜１８個のア
ルキル基、炭素原子数１〜１８個のアシル基、炭素原子
数１〜２４個のカルバミル基、炭素原子数１〜１８個の
スルホニル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、
及び炭素原子数３〜２０個のトリアルキルシリル基の中
から選ばれる、前記〔１〕項に記載の方法。 〔５〕ＰＧ及びＰＧ1 が、各々独立に、１〜６個の酸
素、硫黄又は窒素原子が介在していてもよい炭素原子数
１〜１８個のアルキル基、炭素原子数１〜１８個のアシ
ル基、炭素原子数１〜２４個のカルバミル基、炭素原子
数１〜１８個のスルホニル基、ベンジル基、テトラヒド
ロピラニル基、及び炭素原子数３〜２０個のトリアルキ
ルシリル基の中から選ばれる、前記〔２〕項に記載の方
法。
素原子が介在していてもよい炭素原子数１〜１８個のア
ルキル基、炭素原子数１〜１８個のアシル基、炭素原子
数１〜２４個のカルバミル基、炭素原子数１〜１８個の
スルホニル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、
及び炭素原子数３〜２０個のトリアルキルシリル基の中
から選ばれる、前記〔１〕項に記載の方法。 〔５〕ＰＧ及びＰＧ1 が、各々独立に、１〜６個の酸
素、硫黄又は窒素原子が介在していてもよい炭素原子数
１〜１８個のアルキル基、炭素原子数１〜１８個のアシ
ル基、炭素原子数１〜２４個のカルバミル基、炭素原子
数１〜１８個のスルホニル基、ベンジル基、テトラヒド
ロピラニル基、及び炭素原子数３〜２０個のトリアルキ
ルシリル基の中から選ばれる、前記〔２〕項に記載の方
法。
【００８６】〔６〕ＰＧがメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ｔ−ブチル、ｔ
−アミル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、
ホルミル、アセチル、ベンゾイル、ＳＯ2 Ｒ10（Ｒ10は
メチル、エチル、フェニル若しくはｐ−トルエンスルホ
ニルから選ばれる）、炭素原子数１〜１２個のジアルキ
ルカルバミル（例、ジメチルカルバミル若しくはジエチ
ルカルバミル）、ベンジル基、テトラヒドロピラニル
基、及び炭素原子数３〜２０個のトリアルキルシリル
基、又はＣＯＲ9 （Ｒ9 はメチル、エチル若しくはフェ
ニルである）、フェニル基、ピリジニル、イミダゾイ
ル、ピロリル、フリル及びチエニルの中から選ばれる、
前記〔１〕項に記載の方法。 〔７〕ＰＧ及びＰＧ1 が、各々独立に、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、
ｔ−ブチル、ｔ−アミル、メトキシメチル、メトキシエ
トキシメチル、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、ＳＯ
2 Ｒ10（Ｒ10はメチル、エチル、フェニル若しくはｐ−
トルエンスルホニルから選ばれる）、炭素原子数１〜１
２個のジアルキルカルバミル（例、ジメチルカルバミル
若しくはジエチルカルバミル）、ベンジル基、テトラヒ
ドロピラニル基、及び炭素原子数３〜２０個のトリアル
キルシリル基、又はＣＯＲ9 （Ｒ9 はメチル、エチル若
しくはフェニルである）、フェニル基、ピリジニル、イ
ミダゾイル、ピロリル、フリル及びチエニルの中から選
ばれる、前記〔２〕項に記載の方法。
ル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ｔ−ブチル、ｔ
−アミル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、
ホルミル、アセチル、ベンゾイル、ＳＯ2 Ｒ10（Ｒ10は
メチル、エチル、フェニル若しくはｐ−トルエンスルホ
ニルから選ばれる）、炭素原子数１〜１２個のジアルキ
ルカルバミル（例、ジメチルカルバミル若しくはジエチ
ルカルバミル）、ベンジル基、テトラヒドロピラニル
基、及び炭素原子数３〜２０個のトリアルキルシリル
基、又はＣＯＲ9 （Ｒ9 はメチル、エチル若しくはフェ
ニルである）、フェニル基、ピリジニル、イミダゾイ
ル、ピロリル、フリル及びチエニルの中から選ばれる、
前記〔１〕項に記載の方法。 〔７〕ＰＧ及びＰＧ1 が、各々独立に、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、
ｔ−ブチル、ｔ−アミル、メトキシメチル、メトキシエ
トキシメチル、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、ＳＯ
2 Ｒ10（Ｒ10はメチル、エチル、フェニル若しくはｐ−
トルエンスルホニルから選ばれる）、炭素原子数１〜１
２個のジアルキルカルバミル（例、ジメチルカルバミル
若しくはジエチルカルバミル）、ベンジル基、テトラヒ
ドロピラニル基、及び炭素原子数３〜２０個のトリアル
キルシリル基、又はＣＯＲ9 （Ｒ9 はメチル、エチル若
しくはフェニルである）、フェニル基、ピリジニル、イ
ミダゾイル、ピロリル、フリル及びチエニルの中から選
ばれる、前記〔２〕項に記載の方法。
【００８７】〔８〕Ｒ7 がＯＨである場合、式（ＩＶ）
上のそのＯＨもまた閉環工程前に保護されて−Ｏ（ＰＧ
1 ）を形成し、その際、ＰＧ1 は続く閉環工程中には除
去されないＨ以外の基であるか、又は炭素原子数１〜１
２個のアシル基、炭素原子数１〜２４個のカルバミル基
若しくは炭素原子数１〜１２個のスルホニル基である、
前記〔１〕項に記載の方法。
上のそのＯＨもまた閉環工程前に保護されて−Ｏ（ＰＧ
1 ）を形成し、その際、ＰＧ1 は続く閉環工程中には除
去されないＨ以外の基であるか、又は炭素原子数１〜１
２個のアシル基、炭素原子数１〜２４個のカルバミル基
若しくは炭素原子数１〜１２個のスルホニル基である、
前記〔１〕項に記載の方法。
〔９〕Ｒ7 がＯＨである場合、式（ＩＶ）上のそのＯＨ
もまた閉環工程前に保護されて−Ｏ（ＰＧ1 ）を形成
し、その際、ＰＧ1 は続く閉環工程中には除去されない
Ｈ以外の基であるか、又は炭素原子数１〜１２個のアシ
ル基、炭素原子数１〜２４個のカルバミル基若しくは炭
素原子数１〜１２個のスルホニル基である、前記〔２〕
項に記載の方法。
もまた閉環工程前に保護されて−Ｏ（ＰＧ1 ）を形成
し、その際、ＰＧ1 は続く閉環工程中には除去されない
Ｈ以外の基であるか、又は炭素原子数１〜１２個のアシ
ル基、炭素原子数１〜２４個のカルバミル基若しくは炭
素原子数１〜１２個のスルホニル基である、前記〔２〕
項に記載の方法。
【００８８】〔１０〕ＰＧ及びＰＧ1 が、各々独立に、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、ペンチル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、メトキシメチ
ル、メトキシエトキシメチル、ホルミル、アセチル、ベ
ンゾイル、ＳＯ2 Ｒ10（Ｒ10はメチル、エチル、フェニ
ル若しくはｐ−トルエンスルホニルから選ばれる）、炭
素原子数１〜１２個のジアルキルカルバミル（例、ジメ
チルカルバミル若しくはジエチルカルバミル）、ベンジ
ル基、テトラヒドロピラニル基、及び炭素原子数３〜２
０個のトリアルキルシリル基、又はＣＯＲ9 （Ｒ9 はメ
チル、エチル若しくはフェニルである）、フェニル基、
ピリジニル、イミダゾイル、ピロリル、フリル及びチエ
ニルの中から選ばれる、前記
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、ペンチル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、メトキシメチ
ル、メトキシエトキシメチル、ホルミル、アセチル、ベ
ンゾイル、ＳＯ2 Ｒ10（Ｒ10はメチル、エチル、フェニ
ル若しくはｐ−トルエンスルホニルから選ばれる）、炭
素原子数１〜１２個のジアルキルカルバミル（例、ジメ
チルカルバミル若しくはジエチルカルバミル）、ベンジ
ル基、テトラヒドロピラニル基、及び炭素原子数３〜２
０個のトリアルキルシリル基、又はＣＯＲ9 （Ｒ9 はメ
チル、エチル若しくはフェニルである）、フェニル基、
ピリジニル、イミダゾイル、ピロリル、フリル及びチエ
ニルの中から選ばれる、前記
〔９〕項に記載の方法。 〔１１〕Ｒ7 がＨ又はＯＨである、前記
〔９〕項に記載
の方法。 〔１２〕下式（ＶＩＩ）：
の方法。 〔１２〕下式（ＶＩＩ）：
【００８９】
【化３４】
【００９０】〔上式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 、Ｒ6 及びＲ7 は、各々独立に、Ｈ、ハロゲン、シ
アノ、−ＣＯ2 Ｙ（但し、ＹはＨ又は炭素原子数１〜１
２個のアルキル若しくは炭素原子数６〜１２個のアリー
ル基である）、炭素原子数１〜１２個のカルバモイル
基、炭素原子数０〜１２個のスルホキシド基、炭素原子
数０〜１２個のスルホニル基、炭素原子数０〜１２個の
スルホナト基、炭素原子数０〜１２個のスルホンアミド
基、炭素原子数１〜１８個のアルキル基、炭素原子数１
〜１８個のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０個のアリ
ール基、Ｏ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１〜４
個を含む原子数５〜２０個のヘテロアリール基、又は炭
素原子数６〜２０個のアリールオキシ基であるか、或い
はＲ1 〜Ｒ4 のうち隣接しているいずれか２個以上の基
が、又は互いに隣接している場合のＲ6 とＲ7 若しくは
Ｒ6 とＲ5 が、一緒になって炭素原子数１〜１０個の脂
環式基を形成するか、又はそれらが結合しているベンゼ
ン環の炭素原子と一緒になって炭素原子数６〜２０個の
芳香族基又はＯ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１
〜４個を含む原子数５〜２０個のヘテロアリール基を完
成することができ、或いはＲ 7 はＯＨであり、ＸはＯ、
Ｓ又はＮＲ8 であるが、但しＲ8 はＨ、炭素原子数１〜
１２個のアルキル若しくはアリール基、又はＯ、Ｎ若し
くはＳから選ばれた異種原子１〜４個を含む原子数５〜
２０個のヘテロアリール基である〕で示される化合物の
合成方法であって、下記合成経路：
Ｒ5 、Ｒ6 及びＲ7 は、各々独立に、Ｈ、ハロゲン、シ
アノ、−ＣＯ2 Ｙ（但し、ＹはＨ又は炭素原子数１〜１
２個のアルキル若しくは炭素原子数６〜１２個のアリー
ル基である）、炭素原子数１〜１２個のカルバモイル
基、炭素原子数０〜１２個のスルホキシド基、炭素原子
数０〜１２個のスルホニル基、炭素原子数０〜１２個の
スルホナト基、炭素原子数０〜１２個のスルホンアミド
基、炭素原子数１〜１８個のアルキル基、炭素原子数１
〜１８個のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０個のアリ
ール基、Ｏ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１〜４
個を含む原子数５〜２０個のヘテロアリール基、又は炭
素原子数６〜２０個のアリールオキシ基であるか、或い
はＲ1 〜Ｒ4 のうち隣接しているいずれか２個以上の基
が、又は互いに隣接している場合のＲ6 とＲ7 若しくは
Ｒ6 とＲ5 が、一緒になって炭素原子数１〜１０個の脂
環式基を形成するか、又はそれらが結合しているベンゼ
ン環の炭素原子と一緒になって炭素原子数６〜２０個の
芳香族基又はＯ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１
〜４個を含む原子数５〜２０個のヘテロアリール基を完
成することができ、或いはＲ 7 はＯＨであり、ＸはＯ、
Ｓ又はＮＲ8 であるが、但しＲ8 はＨ、炭素原子数１〜
１２個のアルキル若しくはアリール基、又はＯ、Ｎ若し
くはＳから選ばれた異種原子１〜４個を含む原子数５〜
２０個のヘテロアリール基である〕で示される化合物の
合成方法であって、下記合成経路：
【００９１】
【化３５】
【００９２】（上式中、Ｒ1 〜Ｒ7 及びＸは先に式（Ｖ
ＩＩ）について定義したとおり）に示すように、式
（Ｉ）の化合物を酸性亜硝酸塩水溶液でジアゾ化して式
（ＩＩ）の化合物を得、その式（ＩＩ）の化合物に式
（ＩＩＩ）の化合物をカップリングさせて式（ＩＶ）の
化合物を得るジアゾ化工程と、式（ＩＶ）で示される化
合物上の少なくとも−ＸＨ基を、−Ｘ（ＰＧ）基〔ここ
で、ＰＧ基はＨ以外の基であって、続く閉環工程では除
去されない〕の形成により保護して、保護形の式（Ｉ
Ｖ）の化合物を生成させる保護工程と、前記保護形の式
（ＩＶ）の化合物を還元剤と反応させて下式（ＶＩ）：
ＩＩ）について定義したとおり）に示すように、式
（Ｉ）の化合物を酸性亜硝酸塩水溶液でジアゾ化して式
（ＩＩ）の化合物を得、その式（ＩＩ）の化合物に式
（ＩＩＩ）の化合物をカップリングさせて式（ＩＶ）の
化合物を得るジアゾ化工程と、式（ＩＶ）で示される化
合物上の少なくとも−ＸＨ基を、−Ｘ（ＰＧ）基〔ここ
で、ＰＧ基はＨ以外の基であって、続く閉環工程では除
去されない〕の形成により保護して、保護形の式（Ｉ
Ｖ）の化合物を生成させる保護工程と、前記保護形の式
（ＩＶ）の化合物を還元剤と反応させて下式（ＶＩ）：
【００９３】
【化３６】
【００９４】〔上式中、ＺはＨ又は保護基である〕で示
される化合物を生成させる閉環工程と、前記式（ＶＩ）
の化合物を、ＰＧをＨで置換し且つＺがＨでない場合に
はＺもＨで置換することにより脱保護して、前記式（Ｖ
ＩＩ）の化合物を生成させる脱保護工程とを含む合成方
法。 〔１３〕前記閉環工程が、保護形の式（ＩＶ）の化合物
に、チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド及び亜ジチオン酸
塩から選ばれた還元剤を塩基性水溶液中で反応させる工
程を含む、前記〔１〕項に記載の方法。 〔１４〕前記水溶液がアルコール溶液である、前記〔１
３〕項に記載の方法。
される化合物を生成させる閉環工程と、前記式（ＶＩ）
の化合物を、ＰＧをＨで置換し且つＺがＨでない場合に
はＺもＨで置換することにより脱保護して、前記式（Ｖ
ＩＩ）の化合物を生成させる脱保護工程とを含む合成方
法。 〔１３〕前記閉環工程が、保護形の式（ＩＶ）の化合物
に、チオウレア−Ｓ，Ｓ−ジオキシド及び亜ジチオン酸
塩から選ばれた還元剤を塩基性水溶液中で反応させる工
程を含む、前記〔１〕項に記載の方法。 〔１４〕前記水溶液がアルコール溶液である、前記〔１
３〕項に記載の方法。
【００９５】〔１５〕前記温度を６０〜８０℃に維持す
る、前記〔１４〕項に記載の方法。 〔１６〕前記閉環工程を２〜３時間実施する、前記〔１
４〕項に記載の方法。 〔１７〕前記閉環工程が、保護形の式（ＩＶ）の化合物
の接触水素添加法を含む、前記〔１〕項に記載の方法。 〔１８〕前記閉環工程が、触媒の存在下、ギ酸塩との反
応を含む、前記〔１〕項に記載の方法。 〔１９〕前記触媒がパラジウム−炭素系触媒である、前
記〔１８〕項に記載の方法。
る、前記〔１４〕項に記載の方法。 〔１６〕前記閉環工程を２〜３時間実施する、前記〔１
４〕項に記載の方法。 〔１７〕前記閉環工程が、保護形の式（ＩＶ）の化合物
の接触水素添加法を含む、前記〔１〕項に記載の方法。 〔１８〕前記閉環工程が、触媒の存在下、ギ酸塩との反
応を含む、前記〔１〕項に記載の方法。 〔１９〕前記触媒がパラジウム−炭素系触媒である、前
記〔１８〕項に記載の方法。
【００９６】〔２０〕ＰＧが、炭素原子数１〜１８個の
アルキル基又はベンジル基の中から選ばれ、且つ式（Ｖ
Ｉ）の化合物がハロゲン化炭化水素系溶剤中で三ハロゲ
ン化ホウ素の存在下で脱保護される、前記〔１〕項に記
載の方法。 〔２１〕ＰＧが、炭素原子数１〜１８個のアシル基、炭
素原子数１〜２４個のカルバミル基、又は炭素原子数１
〜１８個のスルホニル基の中から選ばれ、且つ式（Ｖ
Ｉ）の化合物が水性の酸加水分解又は塩基加水分解によ
って脱保護される、前記〔１〕項に記載の方法。 〔２２〕ＰＧが、ベンジル基又はテトラヒドロピラニル
基の中から選ばれ、且つ式（ＶＩ）の化合物が鉱酸水溶
液との反応によって脱保護される、前記〔１〕項に記載
の方法。
アルキル基又はベンジル基の中から選ばれ、且つ式（Ｖ
Ｉ）の化合物がハロゲン化炭化水素系溶剤中で三ハロゲ
ン化ホウ素の存在下で脱保護される、前記〔１〕項に記
載の方法。 〔２１〕ＰＧが、炭素原子数１〜１８個のアシル基、炭
素原子数１〜２４個のカルバミル基、又は炭素原子数１
〜１８個のスルホニル基の中から選ばれ、且つ式（Ｖ
Ｉ）の化合物が水性の酸加水分解又は塩基加水分解によ
って脱保護される、前記〔１〕項に記載の方法。 〔２２〕ＰＧが、ベンジル基又はテトラヒドロピラニル
基の中から選ばれ、且つ式（ＶＩ）の化合物が鉱酸水溶
液との反応によって脱保護される、前記〔１〕項に記載
の方法。
【００９７】〔２３〕前記鉱酸が塩酸である、前記〔２
２〕項に記載の方法。 〔２４〕ＰＧが、炭素原子数３〜２０個のトリアルキル
シリル基の中から選ばれ、且つ式（ＶＩ）の化合物が、
有機共溶剤の存在下、水性フッ化物塩との反応によって
脱保護される、前記〔１〕項に記載の方法。 〔２５〕Ｒ3 がＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ、炭素原子数１
〜１８個のアルコキシ基又は炭素原子数０〜１２個のス
ルホニル基であり、Ｒ7 がＨ又はＯＨであり、Ｒ5 及び
Ｒ6 が各々独立に炭素原子数１〜１２個のアルキル又は
Ｈであり、そしてＲ1 及びＲ2 が各々独立にＨ、Ｃｌ又
は炭素原子数１〜１８個のアルコキシ基である、前記
〔１〕項に記載の方法。
２〕項に記載の方法。 〔２４〕ＰＧが、炭素原子数３〜２０個のトリアルキル
シリル基の中から選ばれ、且つ式（ＶＩ）の化合物が、
有機共溶剤の存在下、水性フッ化物塩との反応によって
脱保護される、前記〔１〕項に記載の方法。 〔２５〕Ｒ3 がＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、シアノ、炭素原子数１
〜１８個のアルコキシ基又は炭素原子数０〜１２個のス
ルホニル基であり、Ｒ7 がＨ又はＯＨであり、Ｒ5 及び
Ｒ6 が各々独立に炭素原子数１〜１２個のアルキル又は
Ｈであり、そしてＲ1 及びＲ2 が各々独立にＨ、Ｃｌ又
は炭素原子数１〜１８個のアルコキシ基である、前記
〔１〕項に記載の方法。
【００９８】〔２６〕前記反応工程のすべてを式（ＶＩ
Ｉ）の化合物以外の生成物を単離することなく実施す
る、前記〔１〕項に記載の方法。 〔２７〕前記反応工程のすべてを式（ＶＩＩ）の化合物
以外の生成物を単離することなく実施する、前記〔２〕
項に記載の方法。 〔２８〕前記反応工程のすべてを式（ＶＩＩ）の化合物
以外の生成物を単離することなく実施する、前記〔１
２〕項に記載の方法。
Ｉ）の化合物以外の生成物を単離することなく実施す
る、前記〔１〕項に記載の方法。 〔２７〕前記反応工程のすべてを式（ＶＩＩ）の化合物
以外の生成物を単離することなく実施する、前記〔２〕
項に記載の方法。 〔２８〕前記反応工程のすべてを式（ＶＩＩ）の化合物
以外の生成物を単離することなく実施する、前記〔１
２〕項に記載の方法。
【００９９】上記実施例は本発明の具体的実施態様を例
示するためのものであって、本発明の組成物又は物質の
範囲を限定する意図はまったくない。本発明の精神及び
範囲内の変更が可能であることを理解されたい。
示するためのものであって、本発明の組成物又は物質の
範囲を限定する意図はまったくない。本発明の精神及び
範囲内の変更が可能であることを理解されたい。
Claims (1)
- 【請求項１】 下式（ＶＩＩ）： 【化１】 〔上式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 及びＲ
7 は、各々独立に、Ｈ、ハロゲン、シアノ、−ＣＯ2 Ｙ
（但し、ＹはＨ又は炭素原子数１〜１２個のアルキル若
しくは炭素原子数６〜１２個のアリール基である）、炭
素原子数１〜１２個のカルバモイル基、炭素原子数０〜
１２個のスルホキシド基、炭素原子数０〜１２個のスル
ホニル基、炭素原子数０〜１２個のスルホナト基、炭素
原子数０〜１２個のスルホンアミド基、炭素原子数１〜
１８個のアルキル基、炭素原子数１〜１８個のアルコキ
シ基、炭素原子数６〜２０個のアリール基、Ｏ、Ｎ若し
くはＳから選ばれた異種原子１〜４個を含む原子数５〜
２０個のヘテロアリール基、又は炭素原子数６〜２０個
のアリールオキシ基であるか、或いはＲ1 〜Ｒ4 のうち
隣接しているいずれか２個以上の基が、又は互いに隣接
している場合のＲ6 とＲ7 若しくはＲ6 とＲ5 が、一緒
になって炭素原子数１〜１０個の脂環式基を形成する
か、又はそれらが結合しているベンゼン環の炭素原子と
一緒になって炭素原子数６〜２０個の芳香族基又はＯ、
Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１〜４個を含む原子
数５〜２０個のヘテロアリール基を完成することがで
き、或いはＲ 7 はＯＨであり、 ＸはＯ、Ｓ又はＮＲ8 であるが、但しＲ8 はＨ、炭素原
子数１〜１２個のアルキル若しくはアリール基、又は
Ｏ、Ｎ若しくはＳから選ばれた異種原子１〜４個を含む
原子数５〜２０個のヘテロアリール基である〕で示され
る化合物の合成方法であって、下式（ＩＶ）： 【化２】 〔上式中、Ｒ1 〜Ｒ7 及びＸは前記式（ＶＩＩ）で定義
した通り〕で示される化合物上の少なくとも−ＸＨ基
を、−Ｘ（ＰＧ）基〔ここで、ＰＧ基はＨ以外の基であ
って、続く閉環工程では除去されない〕の形成により保
護して、保護形の式（ＩＶ）の化合物を生成させる保護
工程と、 前記保護形の式（ＩＶ）の化合物を還元剤と反応させて
下式（ＶＩ）： 【化３】 〔上式中、ＺはＨ又は保護基である〕で示される化合物
を生成させる閉環工程と、 前記式（ＶＩ）の化合物を、ＰＧをＨで置換し且つＺが
Ｈでない場合にはＺもＨで置換することにより脱保護し
て、前記式（ＶＩＩ）の化合物を生成させる脱保護工程
とを含む合成方法。
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