JPH0944094A - エンブレム及びその製造方法 - Google Patents
エンブレム及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0944094A JPH0944094A JP21650195A JP21650195A JPH0944094A JP H0944094 A JPH0944094 A JP H0944094A JP 21650195 A JP21650195 A JP 21650195A JP 21650195 A JP21650195 A JP 21650195A JP H0944094 A JPH0944094 A JP H0944094A
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- Japan
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- etching
- relief
- emblem
- titanium
- masking
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 造形性・意匠性に優れたチタン製エンブレム
及びその製造方法を提供する。 【構成】 本発明のエンブレム１は、チタン又はチタン
合金の基体の表面にエッチングによって文字及び／又は
図形が形成されており、既表面に陽極酸化発色処理が施
されていることを特徴とする。
及びその製造方法を提供する。 【構成】 本発明のエンブレム１は、チタン又はチタン
合金の基体の表面にエッチングによって文字及び／又は
図形が形成されており、既表面に陽極酸化発色処理が施
されていることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はチタン又はチタン合
金製のエンブレムに関する。ここでエンブレムとは、銘
板等をも含み、平面的・立体的であるとを問わず、広く
記章全体を指す意味である。
金製のエンブレムに関する。ここでエンブレムとは、銘
板等をも含み、平面的・立体的であるとを問わず、広く
記章全体を指す意味である。
【０００２】
【従来の技術】チタン又はチタン合金（以下チタンと総
称することもある）の基体表面に文字等を描こうとする
場合、プレス等により凹部を刻印することは従来よりな
されていた。しかし、比較的狭い凸部を浮き上がらせる
ような加工（レリーフ、コイニング）は、複雑なものに
ついては、チタンではなされていなった。チタンはプレ
ス加工性が悪く、また金型の加工に限界があったからで
ある。
称することもある）の基体表面に文字等を描こうとする
場合、プレス等により凹部を刻印することは従来よりな
されていた。しかし、比較的狭い凸部を浮き上がらせる
ような加工（レリーフ、コイニング）は、複雑なものに
ついては、チタンではなされていなった。チタンはプレ
ス加工性が悪く、また金型の加工に限界があったからで
ある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、造形性・意
匠性に優れたチタン製エンブレム及びその製造方法を提
供することを目的とする。
匠性に優れたチタン製エンブレム及びその製造方法を提
供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のエンブレムは、チタン又はチタン合金の基
体の表面にエッチングによって文字及び／又は図形が形
成されており、既表面の全部又は一部に陽極酸化発色処
理が施されていることを特徴とする。
め、本発明のエンブレムは、チタン又はチタン合金の基
体の表面にエッチングによって文字及び／又は図形が形
成されており、既表面の全部又は一部に陽極酸化発色処
理が施されていることを特徴とする。
【０００５】また、本発明のエンブレムの製造方法は、
以下の工程を含む；チタン又はチタン合金の基体を選択
的にエッチングして基体表面に凹凸を付与するエッチン
グ工程；エッチング後、基体表面を陽極酸化発色させる
発色工程；発色部の一部を選択的にマスクするマスキン
グ工程；マスクした部分以外の基体表面を再度エッチン
グする脱色工程；脱色後にマスクを剥離するマスク剥離
工程。
以下の工程を含む；チタン又はチタン合金の基体を選択
的にエッチングして基体表面に凹凸を付与するエッチン
グ工程；エッチング後、基体表面を陽極酸化発色させる
発色工程；発色部の一部を選択的にマスクするマスキン
グ工程；マスクした部分以外の基体表面を再度エッチン
グする脱色工程；脱色後にマスクを剥離するマスク剥離
工程。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ説明す
る。図１は、本発明の一実施例に係るエンブレムを示す
図である。（Ａ）は製造工程最終段階における平面図、
（Ｂ）は断面図（（Ａ）のＢ−Ｂ）、（Ｃ）はレリーフ
部の拡大断面図である。図１（Ａ）に示されているよう
に、本実施例のエンブレムの製造工程においては、多数
のエンブレム１を、原板３中に多数個取り式に作成す
る。そして、工程の最後において、抜きスリット５の一
部に残されている連結部７を切り離して１個のエンブレ
ム１を取り出す。
る。図１は、本発明の一実施例に係るエンブレムを示す
図である。（Ａ）は製造工程最終段階における平面図、
（Ｂ）は断面図（（Ａ）のＢ−Ｂ）、（Ｃ）はレリーフ
部の拡大断面図である。図１（Ａ）に示されているよう
に、本実施例のエンブレムの製造工程においては、多数
のエンブレム１を、原板３中に多数個取り式に作成す
る。そして、工程の最後において、抜きスリット５の一
部に残されている連結部７を切り離して１個のエンブレ
ム１を取り出す。
【０００７】エンブレム１の上面に描かれている文字
（ホリエＢＥＳＴ）は、図１（Ｂ）に示されているよう
に、浮き彫り（レリーフ１１、高さ例０．２〜０．４ｍ
ｍ）となっている。すなわち、レリーフ１１以外のエン
ブレム１の上面は、後述する工程によって、一段低くエ
ッチングされている。なお、原板３から各エンブレム１
を切り離すための抜きスリット５は、原板３の表裏面か
らエッチングされて貫通孔となっている。エッチングの
際は、原板３表面のレリーフ１１、及び、裏面の抜きス
リット５以外の部分はマスクされている。したがって、
１回のエッチングでレリーフ１１及び抜きスリット５が
形成される。なお、エッチングを２回に分けてもよい
が、１回のほうが製造コストが安くなる。
（ホリエＢＥＳＴ）は、図１（Ｂ）に示されているよう
に、浮き彫り（レリーフ１１、高さ例０．２〜０．４ｍ
ｍ）となっている。すなわち、レリーフ１１以外のエン
ブレム１の上面は、後述する工程によって、一段低くエ
ッチングされている。なお、原板３から各エンブレム１
を切り離すための抜きスリット５は、原板３の表裏面か
らエッチングされて貫通孔となっている。エッチングの
際は、原板３表面のレリーフ１１、及び、裏面の抜きス
リット５以外の部分はマスクされている。したがって、
１回のエッチングでレリーフ１１及び抜きスリット５が
形成される。なお、エッチングを２回に分けてもよい
が、１回のほうが製造コストが安くなる。
【０００８】図１（Ｃ）にしめされているように、レリ
ーフ１１の上面には陽極酸化発色皮膜１３が形成されて
いる。この皮膜の厚さによって様々な色彩を発現でき
る。例えば、膜厚数十オングストロームで黄金色、４０
０オングストロームで青色色である。この実施例のエン
ブレム１では、レリーフ１１の上面（エッチング残り凸
面）のみに陽極酸化発色処理がなされている。
ーフ１１の上面には陽極酸化発色皮膜１３が形成されて
いる。この皮膜の厚さによって様々な色彩を発現でき
る。例えば、膜厚数十オングストロームで黄金色、４０
０オングストロームで青色色である。この実施例のエン
ブレム１では、レリーフ１１の上面（エッチング残り凸
面）のみに陽極酸化発色処理がなされている。
【０００９】このようにするには、詳しくは後述する
が、レリーフ１１形成のエッチング後にまずエンブレム
１全面を陽極酸化発色処理し、その後レリーフ１１の上
面のみをマスクし、次いで再度軽くエッチングすること
によりレリーフ１１の上面以外を脱色する処理を行う。
このようにすれば、エッチング凹部である地９やレリー
フ１１の側壁面１５を、チタン地肌色に保ってレリーフ
上面のみをくっきりと発色させることができ、美しいエ
ンブレムが得られる。
が、レリーフ１１形成のエッチング後にまずエンブレム
１全面を陽極酸化発色処理し、その後レリーフ１１の上
面のみをマスクし、次いで再度軽くエッチングすること
によりレリーフ１１の上面以外を脱色する処理を行う。
このようにすれば、エッチング凹部である地９やレリー
フ１１の側壁面１５を、チタン地肌色に保ってレリーフ
上面のみをくっきりと発色させることができ、美しいエ
ンブレムが得られる。
【００１０】本発明のエンブレムにおいては、上述の実
施例の他、レリーフ１１以外の地９のみを発色させるこ
とも当然できる。その際は、発色工程前に、レリーフ１
１上面にマスクをすればよい。また、マスキング・発色
工程を繰り返すことにより、多色発色も可能である。さ
らに、陽極酸化時のエンブレム各部の電圧を変化させる
ことによりグラデーション発色を行うことも可能であ
る。
施例の他、レリーフ１１以外の地９のみを発色させるこ
とも当然できる。その際は、発色工程前に、レリーフ１
１上面にマスクをすればよい。また、マスキング・発色
工程を繰り返すことにより、多色発色も可能である。さ
らに、陽極酸化時のエンブレム各部の電圧を変化させる
ことによりグラデーション発色を行うことも可能であ
る。
【００１１】次に、図１のエンブレムの製造方法につい
て説明する。図２は、図１のエンブレムの製造方法のフ
ローを示す図である。なお、各工程間で適当な処理品洗
浄や乾燥を行う必要があることは言うまでもない。純Ｔ
ｉの薄板（厚さ０．６mm）を適当な寸法に切断して原板
を得る。次に、この原板をアルカリ液中で洗浄・脱脂す
る。次に、エッチングをしない部分（レリーフ部及び裏
面の抜きスリット以外）をマスクで覆う一次マスキング
を行う。マスキング材はビニール系樹脂等を使用する。
マスキングの方法は、フォトリソグラフィーやスクリー
ン印刷の技術を応用できる。次に、フッ酸水溶液（５
％）等でエッチングを行う。抜きスリットは、表裏両面
からエッチングすることにより得られる。レリーフは表
面からエッチングすることにより得られる。
て説明する。図２は、図１のエンブレムの製造方法のフ
ローを示す図である。なお、各工程間で適当な処理品洗
浄や乾燥を行う必要があることは言うまでもない。純Ｔ
ｉの薄板（厚さ０．６mm）を適当な寸法に切断して原板
を得る。次に、この原板をアルカリ液中で洗浄・脱脂す
る。次に、エッチングをしない部分（レリーフ部及び裏
面の抜きスリット以外）をマスクで覆う一次マスキング
を行う。マスキング材はビニール系樹脂等を使用する。
マスキングの方法は、フォトリソグラフィーやスクリー
ン印刷の技術を応用できる。次に、フッ酸水溶液（５
％）等でエッチングを行う。抜きスリットは、表裏両面
からエッチングすることにより得られる。レリーフは表
面からエッチングすることにより得られる。
【００１２】次に、水酸化ナトリウム水溶液（３％、８
０℃）等により、一次マスキングをはがす。次に、酸洗
を行う。用いる酸の一例として、硫酸、硝酸、フッ酸、
及びそれらの混合液があげられる。さらにこれらと、過
酸化水素水等との混合液も使用できる。
０℃）等により、一次マスキングをはがす。次に、酸洗
を行う。用いる酸の一例として、硫酸、硝酸、フッ酸、
及びそれらの混合液があげられる。さらにこれらと、過
酸化水素水等との混合液も使用できる。
【００１３】次に、陽極酸化を行う。塩化ビニール製の
陽極酸化処理槽中に、電解液（硫酸３％水溶液）を張り
処理品ホルダーを兼ねる陽極に原板を接続して、電解液
内に浸す。この状態で、両極間に所要の電圧を必要時間
かけて陽極酸化発色処理する。例えば、青色とする場合
は、電圧２１Ｖ、時間２０秒である。
陽極酸化処理槽中に、電解液（硫酸３％水溶液）を張り
処理品ホルダーを兼ねる陽極に原板を接続して、電解液
内に浸す。この状態で、両極間に所要の電圧を必要時間
かけて陽極酸化発色処理する。例えば、青色とする場合
は、電圧２１Ｖ、時間２０秒である。
【００１４】次に、チタン地色で残す部分をマスクで覆
う二次マスキングを行う。マスキングキング材及びその
方法は一次マスキングと同様である。次に、チタン地色
で残す部分のＴｉＯ2 皮膜を溶解除去する部分脱色工程
を行う。具体的には、硝フッ酸又は硫フッ酸を用いて、
６０秒（一例）エッチングを行う。
う二次マスキングを行う。マスキングキング材及びその
方法は一次マスキングと同様である。次に、チタン地色
で残す部分のＴｉＯ2 皮膜を溶解除去する部分脱色工程
を行う。具体的には、硝フッ酸又は硫フッ酸を用いて、
６０秒（一例）エッチングを行う。
【００１５】部分脱色処理後、エンブレムから二次マス
キングをはがす。その方法は一次マスキングはがしと同
様である。なお、多重発色させる場合は、部分脱色エッ
チング後に陽極酸化及び二次マスキング、部分脱色エッ
チング等を繰り返す。
キングをはがす。その方法は一次マスキングはがしと同
様である。なお、多重発色させる場合は、部分脱色エッ
チング後に陽極酸化及び二次マスキング、部分脱色エッ
チング等を繰り返す。
【００１６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
は、レリーフや発色処理によってすぐれた意匠性を付与
されたエンブレムを提供することができる。また、文字
等がくっきりと発色されたエンブレムを提供することも
できる。特に、エッチングによって文字や模様を形成す
るので、金型を用いるコイニングなどでは到底表現しえ
ない筆文字のかすれや、微妙なニュアンスの曲線など、
様々な表現形態の文字等を実現できる。その結果、きわ
めて斬新な趣に満ちた、今までにない高級感にあふれた
エンブレムを提供することができる。
は、レリーフや発色処理によってすぐれた意匠性を付与
されたエンブレムを提供することができる。また、文字
等がくっきりと発色されたエンブレムを提供することも
できる。特に、エッチングによって文字や模様を形成す
るので、金型を用いるコイニングなどでは到底表現しえ
ない筆文字のかすれや、微妙なニュアンスの曲線など、
様々な表現形態の文字等を実現できる。その結果、きわ
めて斬新な趣に満ちた、今までにない高級感にあふれた
エンブレムを提供することができる。
【図１】本発明の一実施例に係るエンブレムを示す図で
ある。（Ａ）は製造工程最終段階における平面図、
（Ｂ）は断面図（（Ａ）のＢ−Ｂ）、（Ｃ）はレリーフ
部の拡大断面図である。
ある。（Ａ）は製造工程最終段階における平面図、
（Ｂ）は断面図（（Ａ）のＢ−Ｂ）、（Ｃ）はレリーフ
部の拡大断面図である。
【図２】図１のエンブレムの製造方法のフローを示す図
である。
である。
１． エンブレム ３． 原板 ５． 抜きスリット ７． 連結部 ９． 地 １１． レリー
フ １３． 陽極酸化発色皮膜 １５． 側壁
面
フ １３． 陽極酸化発色皮膜 １５． 側壁
面
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年３月２５日
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】次に、発色状態で残す部分をマスクで覆う
二次マスキングを行う。マスキング材及びその方法は一
次マスキングと同様である。次に、チタン地色で残す部
分のＴｉＯ２皮膜を溶解除去する部分脱色工程を行う。
具体的には、硝フッ酸又は硫フッ酸を用いて、６０秒
（一例）エッチングを行う。
二次マスキングを行う。マスキング材及びその方法は一
次マスキングと同様である。次に、チタン地色で残す部
分のＴｉＯ２皮膜を溶解除去する部分脱色工程を行う。
具体的には、硝フッ酸又は硫フッ酸を用いて、６０秒
（一例）エッチングを行う。
Claims (5)
- 【請求項１】 チタン又はチタン合金の基体の表面にエ
ッチングによって文字及び／又は図形（以下文字等とい
う）が形成されており、既表面の全部又は一部に陽極酸
化発色処理が施されていることを特徴とするエンブレ
ム。 - 【請求項２】 上記文字等がレリーフ（浮き彫り）とな
っている請求項１記載のエンブレム。 - 【請求項３】 上記表面の内、エッチング残りの凸面上
に陽極酸化発色処理が施されている請求項１又は２記載
のエンブレム。 - 【請求項４】 以下の工程を含むエンブレムの製造方
法；チタン又はチタン合金の基体を選択的にエッチング
して基体表面に凹凸を付与するエッチング工程；エッチ
ング後、基体表面を陽極酸化発色させる発色工程；発色
部の一部を選択的にマスクするマスキング工程；マスク
した部分以外の基体表面を再度エッチングする脱色工
程；脱色後にマスクを剥離するマスク剥離工程。 - 【請求項５】 上記マスキング工程において、エッチン
グ残りの凸面をマスキングし、エッチング凹部及び凹凸
境界壁面をマスキングしない請求項４記載のエンブレム
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21650195A JPH0944094A (ja) | 1995-08-03 | 1995-08-03 | エンブレム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21650195A JPH0944094A (ja) | 1995-08-03 | 1995-08-03 | エンブレム及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0944094A true JPH0944094A (ja) | 1997-02-14 |
Family
ID=16689422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21650195A Pending JPH0944094A (ja) | 1995-08-03 | 1995-08-03 | エンブレム及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0944094A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115091888A (zh) * | 2022-07-11 | 2022-09-23 | 西安秦钛思捷科技有限公司 | 一种钛合金彩色浮雕板画的制备方法 |
-
1995
- 1995-08-03 JP JP21650195A patent/JPH0944094A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115091888A (zh) * | 2022-07-11 | 2022-09-23 | 西安秦钛思捷科技有限公司 | 一种钛合金彩色浮雕板画的制备方法 |
| CN115091888B (zh) * | 2022-07-11 | 2023-12-29 | 西安秦钛思捷科技有限公司 | 一种钛合金彩色浮雕板画的制备方法 |
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