JPH0943650A

JPH0943650A - レーザ光発生装置

Info

Publication number: JPH0943650A
Application number: JP19844195A
Authority: JP
Inventors: Minehiro Sotozaki; 峰広外崎
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1995-08-03
Filing date: 1995-08-03
Publication date: 1997-02-14

Abstract

(57)【要約】【課題】潮解により破壊され難い非線形光学結晶素
子、及び安定した高反射率及び低反射率の反射面によ
り、高調波のレーザ光を効率良く発生し、信頼性の高い
レーザ光発生装置を提供する。【解決手段】励起用光源により励起用の光ビームを発
生させる。基本波発振手段２は、上記励起用光源からの
光ビームにより励起されて基本波のレーザ光を発振す
る。波長変換手段５，１０は、非線形光学結晶素子５
２，１０２により基本波発振手段２からの基本波のレー
ザの波長を変換し、共振器により非線形光学結晶素子５
２，１０２で発生した光を反射面で繰り返し反射させる
ことにより、基本波発振手段２からの基本波のレーザ光
を高調波のレーザ光に波長変換して出力する。非線形光
学結晶素子５２，１０２及び上記共振器の反射面は、プ
ラズマ中でイオンプレーティングにより成膜された酸化
薄膜Ｍ１〜Ｍ１０からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光発生装置
に関するものであり、特に、非線形光学結晶素子により
高調波のレーザ光を発生するレーザ光発生装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、レーザ光を発振する共振器で
は、レーザ物質内で誘導放出により発生された光を共振
器の反射面により繰り返し反射させて、レーザ物質内を
多数回通過させることにより、光の強度の増大が行われ
る。そして、その光の強度の増大が反射面での回折や吸
収、散乱等の損失を補うようになった時、レーザ発振が
起こる。

【０００３】ここで、レーザ光を効率良く発生させるた
めに、共振器の反射面での光の損失はできるだけ少なく
することが望まれる。そのため、レーザ波長域での反射
面の反射率は、非常に高いものでなくてはならない。そ
こで、共振器の反射面には、反射膜が設けられている。
この反射膜に対しても、熱的な膜の破壊及び劣化による
反射率の低下が起こらないような膜が望まれている。

【０００４】例えば、反射膜として、１００％近い反射
率まで得られる非金属の多層蒸着膜がある。この多層蒸
着膜とは、ガラス等の光学材料の研磨面を基板とし、そ
の表面に基板材料の屈折率よりも高い屈折率の物質と、
低い屈折率の物質を光学的な厚さ、すなわち屈折率と厚
さの積が１／４λ波長となるように交互に重ねて蒸着し
たものである。

【０００５】上述のように、より高い反射面の反射率を
得るための反射膜に用いる材料として、光学薄膜の材料
等で効率よく不純物を除去することができ光の吸収の少
ない材料の開発が行われている。

【０００６】ところで、例えば、上述のような共振器内
に非線形光学結晶素子を配し、非線形光学結晶素子に基
本波となるレーザ光を照射することにより、基本波とな
るレーザ光の波長変換を行って高調波のレーザ光を発生
するレーザ光発生装置がある。このレーザ光発生装置に
おいては、パルス発振での高調波発生のみではなく、持
続して一様の強さの光を発する連続発振（ＣＷ：ｃｏｎ
ｔｉｎｕｏｕｓｗａｖｅ）での高調波発生も行われて
いる。

【０００７】また、上述したように、共振器の反射面に
反射膜が用いられているのと同様に、非線形光学結晶素
子の表面にも反射膜が設けられている。この反射膜は、
真空蒸着により薄膜形成を行った無反射コーティング膜
からなる紫外用低反射膜である。しかし、この紫外用低
反射膜は、水分を通過し易く保護膜として機能しない。
すなわち、膜内に空気中の水分が侵入してしまうため、
結晶表面に潮解が発生し、結晶表面が破壊され凹凸状態
になってしまう。そこで、非線形光学結晶素子は、密閉
容器に封入され、窒素ガス中で使用されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のような
レーザ発生装置において、連続発振で高調波発生が行わ
れる場合、共振器の反射面に用いられる反射膜は、レー
ザ波長での光の吸収が少ないのはもちろんのこと、熱伝
導等も良好で高温度でも安定な膜が要求されるにもかか
わらず、連続的に出力される高調波のレーザ光に対し反
射膜の割れ及び劣化等の破壊が生じてしまっていた。こ
のため、反射膜の反射率が低下してしまい、高調波のレ
ーザ光を効率良く発生することができなかった。

【０００９】また、非線形光学結晶素子を封入する密閉
容器の窓材についても同様に、連続的に出力される高調
波のレーザ光に対して高耐力としなければならず、さら
に、窓材自体に高性能の反射膜を設けなければならなか
った。

【００１０】さらに、非線形光学結晶素子には、熱膨張
に異方性があり、連続的に出力される高調波のレーザ光
により、非線形光学結晶素子上の反射膜が割れてしまう
虞れがあった。このため、装置の信頼性に欠けるという
問題点があった。

【００１１】そこで、本発明は、上述の如き従来の実情
に鑑みてなされたものであり、次のような目的を有する
ものである。

【００１２】即ち、本発明の目的は、潮解により破壊さ
れ難い非線形光学結晶素子、及び安定した高反射率及び
低反射率の反射面により、高調波のレーザ光を効率良く
発生し、信頼性の高いレーザ光発生装置を提供すること
にある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明に係るレーザ光発生装置は、励起用の光ビ
ームを発生する励起用光源と、上記励起用光源からの光
ビームにより励起されて基本波のレーザ光を発振する基
本波発振手段と、上記基本波発振手段からの基本波のレ
ーザ光を高調波のレーザ光に波長変換して出力する波長
変換手段とを備える。また、上記波長変換手段は、上記
基本波のレーザが入射される非線形光学結晶素子と、上
記非線形光学結晶素子により発生した光を反射面で繰り
返し反射させる共振器とからなる。そして、上記非線形
光学結晶素子及び上記共振器の反射面は、プラズマ中で
イオンプレーティングにより成膜された酸化薄膜からな
ることを特徴とする。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るレーザ光発生
装置について図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１５】上記レーザ光発生装置は、図１に示すよう
なレーザ光発生装置１００に適用され、レーザ光発生装
置１００は、励起用のレーザ光により励起されて基本波
のレーザ光を発振するレーザ媒体２と、レーザ媒体２で
発振した基本波のレーザ光を２次高調波のレーザ光に波
長変換して出力する第１の共振器５と、第１の共振器５
からの２次高調波のレーザ光を基本波のレーザ光に対し
て４次高調波のレーザ光に波長変換して出力する第２の
共振器１０とを備えている。

【００１６】また、励起用のレーザ光は、１／４λ板１
を介してレーザ媒体２に入射するようになされている。
そして、凹面鏡４は、レーザ媒体２で発振した基本波の
レーザ光がエタロン３を介して共振器５に入射するよう
に設けられている。

【００１７】また、ミラー７は、第１の共振器５から出
力される２次高調波のレーザ光が集光レンズ６を介して
ミラー８に対して出射するように、ミラー８は、ミラー
８で反射した２次高調波のレーザ光が集光レンズ９を介
して第２の共振器１０に入射するように設けられてい
る。

【００１８】以下、上述のように構成されたレーザ光発
生装置１００を具体的に説明する。

【００１９】先ず、波長８０８ｎｍの励起用のレーザ光
は、１／４λ板１により、直線偏光の状態から円偏光の
状態に変換される。そして、１／４λ板１から出力され
たレーザ光は、レーザ媒体２へ入射する。

【００２０】レーザ媒体２は、Ｎｄ：ＹＡＧからなり、
１／４λ板１を介したレーザ光により励起されて、波長
１０６４ｎｍの基本波のレーザ光を発振する。そして、
レーザ媒体２で発振した基本波のレーザ光は、エタロン
３により、帯域が狭められる。エタロン３によって帯域
が狭められた基本波のレーザ光は、凹面鏡４４で反射さ
れ、第１の共振器５へ入射する。

【００２１】第１の共振器５は、図２に示すように、平
面鏡５１と、例えば、ＫＴｉＯＰＯ₄（ＫＴＰ）からな
る非線形光学結晶素子５２とで構成されている。また、
非線形光学結晶素子（ＫＴＰ）５２において、基本波の
レーザ光の入射面には、基本波のレーザ光及び２次高調
波のレーザ光に対して低反射率の光学膜Ｍ３が設けられ
ている。一方、レーザ光の入射面に対向した面には、基
本波のレーザ光に対して高反射率の光学膜Ｍ４が設けら
れている。そして、平面鏡５１と光学膜Ｍ４により基本
波のレーザ光の波長で共振するようになされている。

【００２２】また、平面鏡５１の反射面には、基本波の
レーザに対して高反射率であり、２次高調波のレーザ光
に対して低反射率の光学膜Ｍ２が設けられており、上述
した凹面鏡４の反射面には、基本波のレーザに対して高
反射率の光学膜Ｍ１が設けられている。

【００２３】ここで、非線形光学結晶素子（ＫＴＰ）５
２上に設けられた光学膜Ｍ３，Ｍ４は、プラズマ中でイ
オンプレーティングにより成膜されたものである。ま
た、平面鏡５１及び凹面鏡４の各反射面に設けられた光
学膜Ｍ１，Ｍ２についても光学膜Ｍ３，Ｍ４と同様に、
プラズマ中でイオンプレーティングにより成膜されたも
のである。尚、光学膜Ｍ１〜Ｍ４についての詳細な説明
は後述する。

【００２４】上述のような第１の共振器５は、平面鏡５
１と非線形光学結晶素子（ＫＴＰ）５２上に設けられた
光学膜Ｍ４により凹面鏡４４で反射された基本波のレー
ザ光の波長で共振する。また、基本波のレーザ光の波長
（１０６４ｎｍ）は、非線形光学結晶素子（ＫＴＰ）５
２の非線形光学効果により波長５３２ｎｍの２次高調波
のレーザ光に変換される。そして、２次高調波のレーザ
光が平面鏡５１を介して出力される。

【００２５】第１の共振器５から出力された２次高調波
のレーザ光は、集光レンズ６を介して、ミラー７で光路
が９０゜折り曲げられ、さらにミラー８で光路が９０゜
折り曲げられて集光レンズ９を介して第２の共振器１０
に入射する。

【００２６】第２の共振器１０は、図３に示すように、
２次高調波のレーザ光の波長で共振させる凹面鏡１０
１，１０３及び平面鏡１０４，１０５と、凹面鏡１０１
と凹面鏡１０３の間に設けられた、例えば、バリウムボ
レート（ＢＢＯ）からなる非線形光学結晶素子１０２と
を備えている。そして、平面鏡１０４と平面鏡１０５
は、第２の共振器１０の共振におけるレーザ光の光路長
が大きくなるように凹面鏡１０１と凹面鏡１０３に対す
るように設けられている。

【００２７】また、凹面鏡１０１と、平面鏡１０４及び
平面鏡１０５の各反射面には、２次高調波のレーザ光に
対して高反射率の光学膜Ｍ５，Ｍ７，Ｍ８が各々設けら
れている。また、凹面鏡１０３の反射面には、２次高調
波のレーザ光に対して高反射率であり、４次高調波のレ
ーザ光に対して低反射率の光学膜Ｍ６が設けられてお
り、非線形光学結晶素子（ＢＢＯ）１０２のレーザ光の
通過面には、２次高調波のレーザ光及び４次高調波のレ
ーザ光に対して低反射率の光学膜Ｍ９，Ｍ１０が設けら
れている。

【００２８】上述のような第２の共振器１０は、２枚の
凹面鏡１０１，１０３が対向してなる所謂ファブリーペ
ロー共振器である。これにより、第２の共振器１０は、
光路位相差が２πのとき共振し、共振位相付近で反射位
相が大きく変化する。この位相変化を利用して第２の共
振器１０の周波数制御が図示していない制御部により行
われるようになされている。

【００２９】ここで、上述した非線形光学結晶素子（Ｋ
ＴＰ）５２と同様に、非線形光学結晶素子（ＢＢＯ）１
０２上に設けられた光学膜Ｍ９，Ｍ１０は、プラズマ中
でイオンプレーティングにより成膜されたものである。
また、凹面鏡１０１，１０３及び平面鏡１０４，１０５
の各反射面に設けられた光学膜Ｍ５，Ｍ６及び光学膜Ｍ
７，Ｍ８についても光学膜Ｍ９，Ｍ１０と同様に、プラ
ズマ中でイオンプレーティングにより成膜されたもので
ある。尚、光学膜Ｍ５〜Ｍ１０についての詳細な説明は
後述する。

【００３０】上述のような第２の共振器１０は、凹面鏡
１０１，１０３及び平面鏡１０４，１０５により、レン
ズ９を介した２次高調波のレーザ光の波長で共振する。
また、２次高長波のレーザ光は、非線形光学結晶素子
（ＢＢＯ）１０２の非線形光学効果により、基本波のレ
ーザ光に対して波長２６６ｎｍの４次高調波のレーザ光
に変換される。そして、４次高調波のレーザ光が凹面鏡
１０３を介して出力される。

【００３１】以下、上述した光学膜Ｍ１〜Ｍ４、及び光
学膜Ｍ５〜Ｍ１０について具体的に説明する。

【００３２】まず、例えば、通常の蒸着で作成された厚
い膜（以下、通常蒸着膜と言う。）を電気炉で６００度
Ｃで３時間程保持して冷却し、常温に戻した場合、通常
蒸着膜の内部の結晶粒形が大きくなり、膜厚が変わって
しまう。これは、図４に示すアニーリング前と後での通
常蒸着膜の分光光度特性の変化からあきらかである。ま
た、通常蒸着膜は、再アニーリングに対して不安定、す
なわち熱的に不安定である。さらに、通常蒸着膜は、熱
伝導が悪く、レーザ光があたると部分的にアニーリング
された状態が起こり、膜の一部の内部の結晶粒形が増大
してしまう。このため、通常蒸着膜では、レーザ光があ
たった部分のかたちが変わるため、光の散乱が起こり、
反射率の低下につながる劣化を起こしてしまう。

【００３３】したがって、上述ような通常蒸着膜を第１
の共振器５で反射膜として使用すると、２次高調波のレ
ーザ光、すなわち波長５３２ｎｍの強力で連続したグリ
ーン光により、反射膜は、破損劣化することとなる。

【００３４】そこで、本実施例では、上述したように、
例えば、第１の共振器５において、平面鏡５１の反射面
に設けられている光学膜Ｍ２、及び非線形光学結晶素子
（ＫＴＰ）５２上に設けられている光学膜Ｍ３，Ｍ４
は、プラズマ中でイオンプレーティングにより成膜した
ものである。

【００３５】プラズマ中でイオンプレーティングにより
成膜した膜（以下、イオンプレーティング膜と言う。）
は、例えば、酸素欠陥を補正するために、６００度で３
時間程アニーリングされている。これにより、イオンプ
レーティング膜は、安定化される。また、イオンプレー
ティング膜は、上述した通常蒸着膜に比べて熱伝導がよ
い。

【００３６】尚、イオンプレーティング膜は、図５に示
すように、アニーリングを行ってもアニーリング前後の
分光光度特性の変化がない。これは、イオンプレーティ
ング膜が再アニーリングに対して安定している、すなわ
ち熱的に安定していることを示している。

【００３７】特に、本実施例では、酸化物膜をプラズマ
中でイオンプレーティングにより成膜することにより、
高密度な酸化物膜を作成し、この酸化物膜を光学膜Ｍ２
〜Ｍ４として使用している。これにより、光学膜Ｍ２〜
Ｍ４を熱的に安定した膜とし、レーザ光に対し高耐光性
という特徴を光学膜Ｍ２〜Ｍ４に持たせている。また、
光学膜Ｍ２〜Ｍ４以外の光学膜Ｍ１，Ｍ５〜Ｍ１０につ
いても光学膜Ｍ２〜Ｍ４と同様に、プラズマ中でイオン
プレーティングにより成膜された酸化物膜である。

【００３８】具体的に説明すると、例えば、非線形光学
結晶素子（ＫＴＰ）５２上に設けられている光学膜Ｍ３
と光学膜Ｍ４は、高屈折率材料であるＨｆＯ２及びＴａ
２Ｏ５と、低屈折率材料であるＳｉＯ２とを用いて作成
されている。

【００３９】すなわち、光学膜Ｍ４は、高屈折率材料で
あるＨｆＯ２及びＴａ２Ｏ５から形成された多層のコー
ティング膜であり、図６に示すように、波長１０６４ｎ
ｍの基本波のレーザ光に対して透過率が「０」であり、
波長５３２ｎｍの２次高調波のレーザ光に対して透過率
が極めて高い膜である。すなわち、光学膜Ｍ４は、波長
１０６４ｎｍの基本波のレーザ光に対して全反射膜であ
る。

【００４０】また、光学膜Ｍ３は、高屈折率材料である
ＨｆＯ２及びＴａ２Ｏ５と、低屈折率材料であるＳｉＯ
２とから形成された多層のコーティング膜であり、図７
に示すように、波長１０６４ｎｍの基本波のレーザ光及
び波長５３２ｎｍの２次高調波のレーザ光に対して反射
率が「０」である。すなわち、光学膜Ｍ３は、波長１０
６４ｎｍの基本波のレーザ光及び波長５３２ｎｍの２次
高調波のレーザ光に対して無反射膜である。

【００４１】また、例えば、非線形光学結晶素子（ＢＢ
Ｏ）１０２上に設けられている光学膜Ｍ９と光学膜Ｍ１
０は、高屈折率材料であるＨｆＯ２と、低屈折率材料で
あるＳｉＯ２及びＡｌ２Ｏ３から形成された多層のコー
ティング膜であり、図８に示すように、波長５３２ｎｍ
の２次高調波のレーザ光に対して反射率が「０」であ
り、波長２６６ｎｍの４次高調波のレーザ光に対して反
射率が極めて低い膜である。すなわち、光学膜Ｍ９と光
学膜Ｍ１０は、波長５３２ｎｍの２次高調波のレーザ光
及び波長２６６ｎｍの４次高調波のレーザ光に対して無
反射膜である。

【００４２】さらに、例えば、凹面鏡１０１，１０３及
び平面鏡１０４，１０５、すなわちレーザ光の入力及び
出力部である合成石英には、高屈折率材料であるＨｆＯ
２及びＳｃ２Ｏ３と、低屈折率材料であるＳｉＯ２及び
Ａｌ２Ｏ３とを用いて形成された図９に示すような分光
光度特性を有する片面高反射膜がイオンプレーティング
により成膜されている。すなわち、波長５３２ｎｍの２
次高調波のレーザ光に対して透過率が「０」であり、波
長２６６ｎｍの４次高調波のレーザ光に対して透過率が
極めて高い膜が成膜されている。換言すると、波長２６
６ｎｍの４次高調波のレーザ光に対して低反射率であ
り、波長５３２ｎｍの２次高調波のレーザ光に対して高
反射率の膜が成膜されている。これにより、波長２６６
ｎｍの強力な遠紫外光である４次高調波のレーザ光によ
る反射膜の劣化を防ぐようになされている。

【００４３】上述のように、本実施例では、光学膜Ｍ１
〜Ｍ１０にプラズマ中でイオンプレーティングにより成
膜された酸化物膜を用いているため、光学膜Ｍ１〜Ｍ１
０を高密度で熱的に安定した膜とすることができる。こ
れにより、光学膜Ｍ１〜Ｍ１０は、レーザ光に対し高耐
光性という特徴を有することとなり、レーザ光による反
射膜の破壊や劣化等を防ぐことができる。したがって、
基本波のレーザ光に対して４次高調波のレーザ光を第２
の共振器１０から効率良く出力することができる。ま
た、装置の信頼性を向上することができる。

【００４４】また、非線形光学結晶素子（ＫＴＰ）５２
及び非線形光学結晶素子（ＢＢＯ）１０２を高密度な膜
で保護することができるため、各非線形光学結晶素子を
潮解による破壊から保護することができる。したがっ
て、各非線形光学結晶素子を封入する密閉容器を必要と
することなく、基本波のレーザ光に対して４次高調波の
レーザ光を第２の共振器１０からさらに効率良く出力す
ることができる。また、装置の信頼性をさらに向上する
ことができる。

【００４５】尚、第１の共振器５を図１０に示すような
第１の共振器２０としてもよい。すなわち、第１の共振
器２０は、第１の共振器５の構成要件に加えて凹面鏡２
１１を備えている。そして、第１の共振器２０は、平面
鏡５１と凹面鏡２１１により、基本波のレーザ光の波長
で共振する。

【００４６】このため、凹面鏡２１１の反射面には、上
述した光学膜Ｍ４と同様な分光光度特性を有する光学膜
Ｍ１２が設けられている。すなわち、基本波のレーザ光
に対して高反射率の光学膜Ｍ１２が設けられている。ま
た、第１の共振器５において、非線形光学結晶素子（Ｋ
ＴＰ）５２上に設けられている光学膜Ｍ４の替わりに、
上述した光学膜Ｍ３と同様な分光光度特性を有する光学
膜Ｍ１１が設けられている。すなわち、基本波のレーザ
光及び２次高調波のレーザ光に対して低反射率の光学膜
Ｍ１１が設けられている。これらの光学膜Ｍ１１と光学
膜Ｍ１２も上述した光学膜Ｍ１〜Ｍ１０と同様に、プラ
ズマ中でイオンプレーティングにより成膜された酸化物
膜である。

【００４７】したがって、この場合も、基本波のレーザ
光に対して２次高調波のレーザ光を第１の共振器５から
効率良く出力することができ、基本波のレーザ光に対し
て４次高調波のレーザ光を第２の共振器１０から効率良
く出力することができる。

【００４８】

【発明の効果】本発明に係るレーザ光発生装置では、先
ず、励起用光源により励起用の光ビームを発生させる。
基本波発振手段は、上記励起用光源からの光ビームによ
り励起されて基本波のレーザ光を発振する。そして、波
長変換手段は、非線形光学結晶素子により上記基本波発
振手段からの基本波のレーザの波長を変換し、共振器に
より上記非線形光学結晶素子で発生した光を反射面で繰
り返し反射させることにより、上記基本波発振手段から
の基本波のレーザ光を高調波のレーザ光に波長変換して
出力する。上記非線形光学結晶素子及び上記共振器の反
射面は、プラズマ中でイオンプレーティングにより成膜
された酸化薄膜からなるため、レーザ光が照射される面
を高密度で熱的に安定した面にすることができる。これ
により、レーザ光が照射される面にレーザ光に対し高耐
光性という特徴を持たせることができ、レーザ光による
破壊や劣化等を防ぐことができる。したがって、高調波
のレーザ光を効率良く出力することができる。また、装
置の信頼性を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るレーザ光発生装置の構成を示すブ
ロック図である。

【図２】第１の共振器の構成を示すブロック図である。

【図３】第２の共振器の構成を示すブロック図である。

【図４】通常の蒸着で作成された膜の分光光度特性の変
化を説明するための図である。

【図５】イオンプレーティングで作成された膜の分光光
度特性の変化を説明するための図である。

【図６】非線形結晶素子（ＫＴＰ）上の基本波のレーザ
光に対して高反射膜の分光光度特性を示すグラフであ
る。

【図７】非線形結晶素子（ＫＴＰ）上の基本波及び２次
高調波のレーザ光に対して低反射膜の分光光度特性を示
すグラフである。

【図８】非線形結晶素子（ＢＢＯ）上の２次高調波のレ
ーザ光に対して低反射膜の分光光度特性を示すグラフで
ある。

【図９】非線形結晶素子（ＢＢＯ）上の２次高調波のレ
ーザ光に対して片面高反射膜の分光光度特性を示すグラ
フである。

【図１０】平面鏡と凹面鏡により共振する第１の共振器
の構成を示すブロック図である。

【符号の説明】

１・・・１／４λ板２・・・レーザ媒体３・・・エタロン４・・・凹面鏡５・・・第１の共振器６，９・・・集光レンズ７，８・・・ミラー１０・・・第２の共振器５１・・・平面鏡５２・・・非線形光学結晶素子（ＫＴＰ）１００・・・レーザ光発生装置１０１，１０３・・・凹面鏡１０２・・・非線形光学結晶素子（ＢＢＯ）１０４，１０５・・・平面鏡

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】励起用の光ビームを発生する励起用光源
と、上記励起用光源からの光ビームにより励起されて基本波
のレーザ光を発振する基本波発振手段と、上記基本波発振手段からの基本波のレーザ光を高調波の
レーザ光に波長変換して出力する波長変換手段とを備
え、上記波長変換手段は、上記基本波のレーザが入射される
非線形光学結晶素子と、上記非線形光学結晶素子により
発生した光を反射面で繰り返し反射させる共振器とから
なり、上記非線形光学結晶素子及び上記共振器の反射面は、プ
ラズマ中でイオンプレーティングにより成膜された酸化
薄膜からなることを特徴とするレーザ光発生装置。