JPH093692A - 軟磁性鉄電析膜の製造方法および軟磁性鉄被覆線の製造方法 - Google Patents
軟磁性鉄電析膜の製造方法および軟磁性鉄被覆線の製造方法Info
- Publication number
- JPH093692A JPH093692A JP15940695A JP15940695A JPH093692A JP H093692 A JPH093692 A JP H093692A JP 15940695 A JP15940695 A JP 15940695A JP 15940695 A JP15940695 A JP 15940695A JP H093692 A JPH093692 A JP H093692A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic iron
- soft magnetic
- iron
- copper wire
- coated copper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids
- H01F41/26—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids using electric currents, e.g. electroplating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/143—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of wires
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 保磁力が４０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒
径が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜を短時間で製造す
る。 【構成】 電気メッキにより厚さ２μｍ以下の鉄被覆を
施した鉄被覆銅線８Ａを、高温の窒素ガス２を充填した
電気炉１中を通過させて、鉄被覆の温度が５００℃以上
８００℃以下で１秒以上１０秒以下の熱処理を施し、軟
磁性鉄被覆銅線８Ｂを製造する。 【効果】 保磁力が４０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒
径が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜で被覆した軟磁性鉄
被覆線を短時間で製造することが出来る。
径が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜を短時間で製造す
る。 【構成】 電気メッキにより厚さ２μｍ以下の鉄被覆を
施した鉄被覆銅線８Ａを、高温の窒素ガス２を充填した
電気炉１中を通過させて、鉄被覆の温度が５００℃以上
８００℃以下で１秒以上１０秒以下の熱処理を施し、軟
磁性鉄被覆銅線８Ｂを製造する。 【効果】 保磁力が４０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒
径が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜で被覆した軟磁性鉄
被覆線を短時間で製造することが出来る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、軟磁性鉄電析膜の製
造方法および軟磁性鉄被覆線の製造方法に関し、さらに
詳しくは、保磁力が４０Ｏｅ（エールステッド）以下で
あり且つ平均結晶粒径が５００Å（オングストローム）
以下の軟磁性鉄電析膜を短時間で製造しうる軟磁性鉄電
析膜の製造方法および導線を前記軟磁性鉄電析膜で被覆
した軟磁性鉄被覆線を短時間で製造しうる軟磁性鉄被覆
線の製造方法に関する。
造方法および軟磁性鉄被覆線の製造方法に関し、さらに
詳しくは、保磁力が４０Ｏｅ（エールステッド）以下で
あり且つ平均結晶粒径が５００Å（オングストローム）
以下の軟磁性鉄電析膜を短時間で製造しうる軟磁性鉄電
析膜の製造方法および導線を前記軟磁性鉄電析膜で被覆
した軟磁性鉄被覆線を短時間で製造しうる軟磁性鉄被覆
線の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の軟磁性鉄電析膜の製造方法として
は、基体に電気メッキにより鉄電析膜を形成し、その鉄
電析膜に４００℃〜８００℃で２時間程度の熱処理を施
し、保磁力が２０Ｏｅ以下の軟磁性鉄電析膜を形成する
方法が知られている。
は、基体に電気メッキにより鉄電析膜を形成し、その鉄
電析膜に４００℃〜８００℃で２時間程度の熱処理を施
し、保磁力が２０Ｏｅ以下の軟磁性鉄電析膜を形成する
方法が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の軟磁性鉄電
析膜の製造方法では、熱処理に要する時間が長いため、
生産性が低い問題点がある。また、温度を６００℃〜８
００℃にすると、保磁力は１０Ｏｅ以下にできるが、平
均結晶粒径が１０００Å以上になり、厚さ２μｍ以下の
薄膜では機械的強度に欠ける問題点がある。そこで、こ
の発明の第１の目的は、保磁力が４０Ｏｅ以下であり且
つ平均結晶粒径が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜を短時
間で製造しうる軟磁性鉄電析膜の製造方法を提供するこ
とにある。また、この発明の第２の目的は、保磁力が１
０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒径が５００Å以下の軟
磁性鉄電析膜を短時間で製造しうる軟磁性鉄電析膜の製
造方法および導線を前記軟磁性鉄電析膜で被覆した軟磁
性鉄被覆線を短時間で製造しうる軟磁性鉄被覆線の製造
方法を提供することにある。
析膜の製造方法では、熱処理に要する時間が長いため、
生産性が低い問題点がある。また、温度を６００℃〜８
００℃にすると、保磁力は１０Ｏｅ以下にできるが、平
均結晶粒径が１０００Å以上になり、厚さ２μｍ以下の
薄膜では機械的強度に欠ける問題点がある。そこで、こ
の発明の第１の目的は、保磁力が４０Ｏｅ以下であり且
つ平均結晶粒径が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜を短時
間で製造しうる軟磁性鉄電析膜の製造方法を提供するこ
とにある。また、この発明の第２の目的は、保磁力が１
０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒径が５００Å以下の軟
磁性鉄電析膜を短時間で製造しうる軟磁性鉄電析膜の製
造方法および導線を前記軟磁性鉄電析膜で被覆した軟磁
性鉄被覆線を短時間で製造しうる軟磁性鉄被覆線の製造
方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】第１の観点では、この発
明は、基体に電気メッキにより形成した厚さ２μｍ以下
の鉄電析膜に５００℃以上８００℃以下で１秒以上１０
秒以下の熱処理を施すことを特徴とする軟磁性鉄電析膜
の製造方法を提供する。
明は、基体に電気メッキにより形成した厚さ２μｍ以下
の鉄電析膜に５００℃以上８００℃以下で１秒以上１０
秒以下の熱処理を施すことを特徴とする軟磁性鉄電析膜
の製造方法を提供する。
【０００５】第２の観点では、この発明は、基体に電気
メッキにより形成した厚さ２μｍ以下の鉄電析膜に６５
０℃以上８００℃以下で１秒以上１０秒以下の熱処理を
施すことを特徴とする軟磁性鉄電析膜の製造方法を提供
する。
メッキにより形成した厚さ２μｍ以下の鉄電析膜に６５
０℃以上８００℃以下で１秒以上１０秒以下の熱処理を
施すことを特徴とする軟磁性鉄電析膜の製造方法を提供
する。
【０００６】第３の観点では、この発明は、導線に電気
メッキにより厚さ２μｍ以下の鉄被覆を施した鉄被覆線
を、高温の不活性ガスを充填した炉中を通過させて、前
記鉄被覆の温度が６５０℃以上８００℃以下で１秒以上
１０秒以下の熱処理を施すことを特徴とする軟磁性鉄被
覆線の製造方法を提供する。
メッキにより厚さ２μｍ以下の鉄被覆を施した鉄被覆線
を、高温の不活性ガスを充填した炉中を通過させて、前
記鉄被覆の温度が６５０℃以上８００℃以下で１秒以上
１０秒以下の熱処理を施すことを特徴とする軟磁性鉄被
覆線の製造方法を提供する。
【０００７】
【作用】この発明の発明者が鋭意研究したところ、電気
メッキにより形成した厚さ２μｍ以下の鉄電析膜に５０
０℃以上８００℃以下で１秒以上１０秒以下の熱処理を
施すと、保磁力が４０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒径
が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜を製造しうることを見
出した。これにより、保磁力は従来より高くなってしま
う場合もあるが、従来よりも著しく短時間で軟磁性鉄電
析膜を製造でき、生産性を格段に向上できるようにな
る。
メッキにより形成した厚さ２μｍ以下の鉄電析膜に５０
０℃以上８００℃以下で１秒以上１０秒以下の熱処理を
施すと、保磁力が４０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒径
が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜を製造しうることを見
出した。これにより、保磁力は従来より高くなってしま
う場合もあるが、従来よりも著しく短時間で軟磁性鉄電
析膜を製造でき、生産性を格段に向上できるようにな
る。
【０００８】また、この発明の発明者が鋭意研究したと
ころ、電気メッキにより形成した厚さ２μｍ以下の鉄電
析膜に６５０℃以上８００℃以下で１秒以上１０秒以下
の熱処理を施すと、保磁力が１０Ｏｅ以下であり且つ平
均結晶粒径が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜を製造しう
ることを見出した。これにより、保磁力は従来と同程度
であるが、平均結晶粒径は従来より小さくなり、機械的
強度に優れた軟磁性鉄電析膜を製造できる。また、従来
よりも著しく短時間で製造でき、生産性を格段に向上で
きる。
ころ、電気メッキにより形成した厚さ２μｍ以下の鉄電
析膜に６５０℃以上８００℃以下で１秒以上１０秒以下
の熱処理を施すと、保磁力が１０Ｏｅ以下であり且つ平
均結晶粒径が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜を製造しう
ることを見出した。これにより、保磁力は従来と同程度
であるが、平均結晶粒径は従来より小さくなり、機械的
強度に優れた軟磁性鉄電析膜を製造できる。また、従来
よりも著しく短時間で製造でき、生産性を格段に向上で
きる。
【０００９】また、この発明の発明者が鋭意研究したと
ころ、電気メッキにより厚さ２μｍ以下の鉄被覆を施し
た鉄被覆線を、高温の不活性ガスを充填した炉中を通過
させて、前記鉄被覆の温度が６５０℃以上８００℃以下
で１秒以上１０秒以下の熱処理を施すと、保磁力が１０
Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒径が５００Å以下の軟磁
性鉄電析膜で被覆した軟磁性鉄被覆線を製造しうること
を見出した。この軟磁性鉄被覆の保磁力は従来と同程度
であるが、平均結晶粒径は従来より小さくなり、機械的
強度は従来より優れたものとなる。また、従来よりも著
しく短時間で製造でき、生産性を格段に向上できるよう
になる。
ころ、電気メッキにより厚さ２μｍ以下の鉄被覆を施し
た鉄被覆線を、高温の不活性ガスを充填した炉中を通過
させて、前記鉄被覆の温度が６５０℃以上８００℃以下
で１秒以上１０秒以下の熱処理を施すと、保磁力が１０
Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒径が５００Å以下の軟磁
性鉄電析膜で被覆した軟磁性鉄被覆線を製造しうること
を見出した。この軟磁性鉄被覆の保磁力は従来と同程度
であるが、平均結晶粒径は従来より小さくなり、機械的
強度は従来より優れたものとなる。また、従来よりも著
しく短時間で製造でき、生産性を格段に向上できるよう
になる。
【００１０】
【実施例】以下、図に示す実施例によりこの発明をさら
に詳細に説明する。なお、これによりこの発明が限定さ
れるものではない。
に詳細に説明する。なお、これによりこの発明が限定さ
れるものではない。
【００１１】［実施例１］外径０．０８０ｍｍの銅線
（銅９９．９％）を炉中で焼鈍し、ＮａＯＨ溶液で電解
脱脂し、ＨＣｌ溶液でエッチングした。この銅線に電気
メッキにより厚さ０．８μｍの鉄被覆を形成した。電気
メッキには、ＨＣｌ溶液を用いてＰＨ２に調整したＦｅ
Ｃｌ2（１.５７mol／ｄｍ3）とＣａＣｌ2（２.０４mol
／ｄｍ3）の組成のメッキ液を用いた。液温は６０℃と
した。陽極には、高純度鉄を用いた。電流密度は１０Ａ
／ｄｍ2とした。電気メッキにより得られた鉄被覆銅線
を、窒素ガスを流した電気炉を通過させ、焼鈍を行い、
軟磁性鉄被覆銅線とした。焼鈍温度は、７００℃とし
た。焼鈍時間は、２秒とした。図１に、焼鈍装置１００
を示す。電気炉１は長さ２ｍの管状であり、この電気炉
１内は窒素ガス２の雰囲気で満たされている。電気炉１
の一方側１ａから入った鉄被覆銅線８Ａは、軟磁性鉄被
覆銅線８Ｂとなって他方側１ｂから出る。焼鈍温度は、
電流調節器（図示省略）により調節しうる。なお、焼鈍
温度は、電気炉１の設定温度ではなく、炉径，窒素ガス
熱伝導度などから算出した鉄被覆の温度である。焼鈍時
間は、ローラ４の送り速度により調節しうる。 ［比較例１］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍は行わなかった。 ［実施例１と比較例１のＢＨ特性の比較］振動試料型磁
力計（玉川製作所製：ＴＭ−ＶＳＭ１５５０ＨＧＣ）を
使用し、実施例１の軟磁性鉄被覆銅線のＢＨ特性を測定
した。測定結果を、図２に実線で示す。また、同様に、
比較例１の鉄被覆銅線のＢＨ特性を測定した。測定結果
を、図２に破線で示す。図２から、実施例１の軟磁性鉄
被覆銅線の方が軟磁性になっていることが判る。
（銅９９．９％）を炉中で焼鈍し、ＮａＯＨ溶液で電解
脱脂し、ＨＣｌ溶液でエッチングした。この銅線に電気
メッキにより厚さ０．８μｍの鉄被覆を形成した。電気
メッキには、ＨＣｌ溶液を用いてＰＨ２に調整したＦｅ
Ｃｌ2（１.５７mol／ｄｍ3）とＣａＣｌ2（２.０４mol
／ｄｍ3）の組成のメッキ液を用いた。液温は６０℃と
した。陽極には、高純度鉄を用いた。電流密度は１０Ａ
／ｄｍ2とした。電気メッキにより得られた鉄被覆銅線
を、窒素ガスを流した電気炉を通過させ、焼鈍を行い、
軟磁性鉄被覆銅線とした。焼鈍温度は、７００℃とし
た。焼鈍時間は、２秒とした。図１に、焼鈍装置１００
を示す。電気炉１は長さ２ｍの管状であり、この電気炉
１内は窒素ガス２の雰囲気で満たされている。電気炉１
の一方側１ａから入った鉄被覆銅線８Ａは、軟磁性鉄被
覆銅線８Ｂとなって他方側１ｂから出る。焼鈍温度は、
電流調節器（図示省略）により調節しうる。なお、焼鈍
温度は、電気炉１の設定温度ではなく、炉径，窒素ガス
熱伝導度などから算出した鉄被覆の温度である。焼鈍時
間は、ローラ４の送り速度により調節しうる。 ［比較例１］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍は行わなかった。 ［実施例１と比較例１のＢＨ特性の比較］振動試料型磁
力計（玉川製作所製：ＴＭ−ＶＳＭ１５５０ＨＧＣ）を
使用し、実施例１の軟磁性鉄被覆銅線のＢＨ特性を測定
した。測定結果を、図２に実線で示す。また、同様に、
比較例１の鉄被覆銅線のＢＨ特性を測定した。測定結果
を、図２に破線で示す。図２から、実施例１の軟磁性鉄
被覆銅線の方が軟磁性になっていることが判る。
【００１２】［実施例２］実施例１と同様にして鉄被覆
銅線を作製し、焼鈍温度を５００℃〜８００℃の範囲で
変化させた。焼鈍時間は２秒とした。 ［比較例２ａ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を２００℃〜５００℃の範囲で変化させ、
焼鈍時間は２秒とした。 ［比較例２ｂ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を２００℃〜８００℃の範囲で変化させ、
焼鈍時間は２時間とした。 ［実施例２と比較例２ａ，２ｂの保磁力，平均結晶粒
径，残留応力の比較］振動試料型磁力計（玉川製作所
製：ＴＭ−ＶＳＭ１５５０ＨＧＣ）を使用し、実施例２
の軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結果
を、図３に点入り白丸で示す。また、同様に、比較例２
ａの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結
果を、図３に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例
２ｂの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定
結果を、図３に黒丸で示す。なお、点入り白丸および点
無し白丸は、焼鈍時間が短時間（２秒）であるため、
「フラッシュ焼鈍」と呼ぶ。一方、黒丸は、焼鈍時間が
従来と同じ（２時間）であるため、「通常の焼鈍」と呼
ぶ。図３から、実施例２の軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈ
ｃは、比較例２ａより軟磁性的に優れているが、比較例
２ｂよりは軟磁性的に劣っていることが判る（但し、焼
鈍時間は著しく短時間になる利点がある）。なお、６５
０℃〜８００℃の範囲では、実施例２の軟磁性鉄被覆銅
線の保磁力Ｈｃは１０Ｏｅ以下であり、特に好ましい軟
磁性となっている。
銅線を作製し、焼鈍温度を５００℃〜８００℃の範囲で
変化させた。焼鈍時間は２秒とした。 ［比較例２ａ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を２００℃〜５００℃の範囲で変化させ、
焼鈍時間は２秒とした。 ［比較例２ｂ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を２００℃〜８００℃の範囲で変化させ、
焼鈍時間は２時間とした。 ［実施例２と比較例２ａ，２ｂの保磁力，平均結晶粒
径，残留応力の比較］振動試料型磁力計（玉川製作所
製：ＴＭ−ＶＳＭ１５５０ＨＧＣ）を使用し、実施例２
の軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結果
を、図３に点入り白丸で示す。また、同様に、比較例２
ａの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結
果を、図３に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例
２ｂの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定
結果を、図３に黒丸で示す。なお、点入り白丸および点
無し白丸は、焼鈍時間が短時間（２秒）であるため、
「フラッシュ焼鈍」と呼ぶ。一方、黒丸は、焼鈍時間が
従来と同じ（２時間）であるため、「通常の焼鈍」と呼
ぶ。図３から、実施例２の軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈ
ｃは、比較例２ａより軟磁性的に優れているが、比較例
２ｂよりは軟磁性的に劣っていることが判る（但し、焼
鈍時間は著しく短時間になる利点がある）。なお、６５
０℃〜８００℃の範囲では、実施例２の軟磁性鉄被覆銅
線の保磁力Ｈｃは１０Ｏｅ以下であり、特に好ましい軟
磁性となっている。
【００１３】Ｘ線回析装置（理学電機製）を使用し、Ｃ
ｕ−Ｋα線を用いたＸ線回析法により、実施例２の軟磁
性鉄被覆銅線の（110）面の回析線の半値幅を測定し、
Ｓcherrerの式により平均結晶粒径Ｄを算出した。測定
結果を、図３に点入り白丸で示す。また、同様に、比較
例２ａの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを測定し
た。測定結果を、図３に点無し白丸で示す。また、同様
に、比較例２ｂの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを
測定した。測定結果を、図３に黒丸で示す。図３から、
実施例２の軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄは、比較
例２ａより少し大きくなっているが５００Å以下であ
り、比較例２ｂよりは常に小さいことが判る。なお、６
５０℃〜８００℃の範囲では、比較例２ｂの軟磁性鉄被
覆銅線の平均結晶粒径Ｄは１０００Å以上に大きくなっ
ており、機械的強度の観点から好ましくない。
ｕ−Ｋα線を用いたＸ線回析法により、実施例２の軟磁
性鉄被覆銅線の（110）面の回析線の半値幅を測定し、
Ｓcherrerの式により平均結晶粒径Ｄを算出した。測定
結果を、図３に点入り白丸で示す。また、同様に、比較
例２ａの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを測定し
た。測定結果を、図３に点無し白丸で示す。また、同様
に、比較例２ｂの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを
測定した。測定結果を、図３に黒丸で示す。図３から、
実施例２の軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄは、比較
例２ａより少し大きくなっているが５００Å以下であ
り、比較例２ｂよりは常に小さいことが判る。なお、６
５０℃〜８００℃の範囲では、比較例２ｂの軟磁性鉄被
覆銅線の平均結晶粒径Ｄは１０００Å以上に大きくなっ
ており、機械的強度の観点から好ましくない。
【００１４】Ｘ線応力測定装置（理学電機製：ＰＳＰＣ
−ＭＳＦ−２）を使用し、実施例２の軟磁性鉄被覆銅線
の鉄被覆の残留応力σを測定した。測定結果を、図３に
点入り白丸で示す。また、同様に、比較例２ａの軟磁性
鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図３
に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例２ｂの軟磁
性鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図
３に黒丸で示す。図３から、実施例２の軟磁性鉄被覆銅
線の残留応力σは、比較例２ａより小さく、比較例２ｂ
と同程度であることが判る。
−ＭＳＦ−２）を使用し、実施例２の軟磁性鉄被覆銅線
の鉄被覆の残留応力σを測定した。測定結果を、図３に
点入り白丸で示す。また、同様に、比較例２ａの軟磁性
鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図３
に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例２ｂの軟磁
性鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図
３に黒丸で示す。図３から、実施例２の軟磁性鉄被覆銅
線の残留応力σは、比較例２ａより小さく、比較例２ｂ
と同程度であることが判る。
【００１５】［実施例３］実施例１と同様にして鉄被覆
銅線を作製し、焼鈍温度を５００℃とし、焼鈍時間を１
秒〜１０秒の範囲で変化させた。 ［比較例３ａ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を５００℃とし、焼鈍時間を０．６秒とし
た。 ［比較例３ｂ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を５００℃とし、焼鈍時間を０．５時間〜
５時間に変化させた。 ［実施例３と比較例３ａ，３ｂの保磁力，平均結晶粒
径，残留応力の比較］振動試料型磁力計（玉川製作所
製：ＴＭ−ＶＳＭ１５５０ＨＧＣ）を使用し、実施例３
の軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結果
を、図４に点入り白丸で示す。また、同様に、比較例３
ａの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結
果を、図４に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例
３ｂの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定
結果を、図４に黒丸で示す。図４から、実施例３の軟磁
性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃは、比較例３ａより軟磁性的
に優れているが、比較例３ｂよりは軟磁性的に劣ってい
る（但し、焼鈍時間は著しく短時間になる利点がある）
ことが判る。
銅線を作製し、焼鈍温度を５００℃とし、焼鈍時間を１
秒〜１０秒の範囲で変化させた。 ［比較例３ａ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を５００℃とし、焼鈍時間を０．６秒とし
た。 ［比較例３ｂ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を５００℃とし、焼鈍時間を０．５時間〜
５時間に変化させた。 ［実施例３と比較例３ａ，３ｂの保磁力，平均結晶粒
径，残留応力の比較］振動試料型磁力計（玉川製作所
製：ＴＭ−ＶＳＭ１５５０ＨＧＣ）を使用し、実施例３
の軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結果
を、図４に点入り白丸で示す。また、同様に、比較例３
ａの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結
果を、図４に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例
３ｂの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定
結果を、図４に黒丸で示す。図４から、実施例３の軟磁
性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃは、比較例３ａより軟磁性的
に優れているが、比較例３ｂよりは軟磁性的に劣ってい
る（但し、焼鈍時間は著しく短時間になる利点がある）
ことが判る。
【００１６】Ｘ線回析装置（理学電機製）を使用し、Ｃ
ｕ−Ｋα線を用いたＸ線回析法により、実施例３の軟磁
性鉄被覆銅線の（110）面の回析線の半値幅を測定し、
Ｓcherrerの式により平均結晶粒径Ｄを算出した。測定
結果を、図４に点入り白丸で示す。また、同様に、比較
例３ａの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを測定し
た。測定結果を、図４に点無し白丸で示す。また、同様
に、比較例３ｂの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを
測定した。測定結果を、図４に黒丸で示す。図４から、
実施例３の軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄは、比較
例３ａより少し大きくなっているが５００Å以下であ
り、比較例３ｂよりは格段に小さいことが判る。
ｕ−Ｋα線を用いたＸ線回析法により、実施例３の軟磁
性鉄被覆銅線の（110）面の回析線の半値幅を測定し、
Ｓcherrerの式により平均結晶粒径Ｄを算出した。測定
結果を、図４に点入り白丸で示す。また、同様に、比較
例３ａの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを測定し
た。測定結果を、図４に点無し白丸で示す。また、同様
に、比較例３ｂの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを
測定した。測定結果を、図４に黒丸で示す。図４から、
実施例３の軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄは、比較
例３ａより少し大きくなっているが５００Å以下であ
り、比較例３ｂよりは格段に小さいことが判る。
【００１７】Ｘ線応力測定装置（理学電機製：ＰＳＰＣ
−ＭＳＦ−２）を使用し、実施例３の軟磁性鉄被覆銅線
の鉄被覆の残留応力σを測定した。測定結果を、図４に
点入り白丸で示す。また、同様に、比較例３ａの軟磁性
鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図４
に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例３ｂの軟磁
性鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図
４に黒丸で示す。図４から、実施例３の軟磁性鉄被覆銅
線の残留応力σは、比較例３ａより小さく、比較例３ｂ
と同程度であることが判る。
−ＭＳＦ−２）を使用し、実施例３の軟磁性鉄被覆銅線
の鉄被覆の残留応力σを測定した。測定結果を、図４に
点入り白丸で示す。また、同様に、比較例３ａの軟磁性
鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図４
に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例３ｂの軟磁
性鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図
４に黒丸で示す。図４から、実施例３の軟磁性鉄被覆銅
線の残留応力σは、比較例３ａより小さく、比較例３ｂ
と同程度であることが判る。
【００１８】［実施例４］実施例１と同様にして鉄被覆
銅線を作製し、焼鈍温度を７００℃とし、焼鈍時間を１
秒〜１０秒の範囲で変化させた。 ［比較例４ａ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を７００℃とし、焼鈍時間を０．６秒とし
た。 ［比較例４ｂ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を７００℃とし、焼鈍時間を０．５時間〜
５時間に変化させた。 ［実施例４と比較例４ａ，４ｂの保磁力，平均結晶粒
径，残留応力の比較］振動試料型磁力計（玉川製作所
製：ＴＭ−ＶＳＭ１５５０ＨＧＣ）を使用し、実施例４
の軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結果
を、図５に点入り白丸で示す。また、同様に、比較例４
ａの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結
果を、図５に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例
４ｂの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定
結果を、図５に黒丸で示す。図５から、実施例４の軟磁
性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃは、比較例４ａより軟磁性的
に優れているが、比較例３ｂよりは軟磁性的にわずかに
劣っている（但し、焼鈍時間は著しく短時間になる利点
がある）ことが判る。
銅線を作製し、焼鈍温度を７００℃とし、焼鈍時間を１
秒〜１０秒の範囲で変化させた。 ［比較例４ａ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を７００℃とし、焼鈍時間を０．６秒とし
た。 ［比較例４ｂ］実施例１と同様にして鉄被覆銅線を作製
し、焼鈍温度を７００℃とし、焼鈍時間を０．５時間〜
５時間に変化させた。 ［実施例４と比較例４ａ，４ｂの保磁力，平均結晶粒
径，残留応力の比較］振動試料型磁力計（玉川製作所
製：ＴＭ−ＶＳＭ１５５０ＨＧＣ）を使用し、実施例４
の軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結果
を、図５に点入り白丸で示す。また、同様に、比較例４
ａの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定結
果を、図５に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例
４ｂの軟磁性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃを測定した。測定
結果を、図５に黒丸で示す。図５から、実施例４の軟磁
性鉄被覆銅線の保磁力Ｈｃは、比較例４ａより軟磁性的
に優れているが、比較例３ｂよりは軟磁性的にわずかに
劣っている（但し、焼鈍時間は著しく短時間になる利点
がある）ことが判る。
【００１９】Ｘ線回析装置（理学電機製）を使用し、Ｃ
ｕ−Ｋα線を用いたＸ線回析法により、実施例４の軟磁
性鉄被覆銅線の（110）面の回析線の半値幅を測定し、
Ｓcherrerの式により平均結晶粒径Ｄを算出した。測定
結果を、図５に点入り白丸で示す。また、同様に、比較
例４ａの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを測定し
た。測定結果を、図５に点無し白丸で示す。また、同様
に、比較例４ｂの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを
測定した。測定結果を、図５に黒丸で示す。図５から、
実施例４の軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄは、比較
例４ａより少し大きくなっているが５００Å以下であ
り、比較例４ｂよりは格段に小さいことが判る。
ｕ−Ｋα線を用いたＸ線回析法により、実施例４の軟磁
性鉄被覆銅線の（110）面の回析線の半値幅を測定し、
Ｓcherrerの式により平均結晶粒径Ｄを算出した。測定
結果を、図５に点入り白丸で示す。また、同様に、比較
例４ａの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを測定し
た。測定結果を、図５に点無し白丸で示す。また、同様
に、比較例４ｂの軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄを
測定した。測定結果を、図５に黒丸で示す。図５から、
実施例４の軟磁性鉄被覆銅線の平均結晶粒径Ｄは、比較
例４ａより少し大きくなっているが５００Å以下であ
り、比較例４ｂよりは格段に小さいことが判る。
【００２０】Ｘ線応力測定装置（理学電機製：ＰＳＰＣ
−ＭＳＦ−２）を使用し、実施例４の軟磁性鉄被覆銅線
の鉄被覆の残留応力σを測定した。測定結果を、図５に
点入り白丸で示す。また、同様に、比較例４ａの軟磁性
鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図５
に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例４ｂの軟磁
性鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図
５に黒丸で示す。図５から、実施例４の軟磁性鉄被覆銅
線の残留応力σは、比較例４ａより小さく、比較例４ｂ
と同程度であることが判る。
−ＭＳＦ−２）を使用し、実施例４の軟磁性鉄被覆銅線
の鉄被覆の残留応力σを測定した。測定結果を、図５に
点入り白丸で示す。また、同様に、比較例４ａの軟磁性
鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図５
に点無し白丸で示す。また、同様に、比較例４ｂの軟磁
性鉄被覆銅線の残留応力σを測定した。測定結果を、図
５に黒丸で示す。図５から、実施例４の軟磁性鉄被覆銅
線の残留応力σは、比較例４ａより小さく、比較例４ｂ
と同程度であることが判る。
【００２１】
【発明の効果】この発明の軟磁性鉄電析膜の製造方法に
よれば、第１の観点では、保磁力が４０Ｏｅ以下であり
且つ平均結晶粒径が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜を短
時間で製造することが出来る。また、第２の観点では、
保磁力が１０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒径が５００
Å以下の軟磁性鉄電析膜を短時間で製造することが出来
る。また、この発明の軟磁性鉄被覆線の製造方法によれ
ば、保磁力が１０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒径が５
００Å以下の軟磁性鉄電析膜で被覆した軟磁性鉄被覆線
を短時間で製造することが出来る。
よれば、第１の観点では、保磁力が４０Ｏｅ以下であり
且つ平均結晶粒径が５００Å以下の軟磁性鉄電析膜を短
時間で製造することが出来る。また、第２の観点では、
保磁力が１０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒径が５００
Å以下の軟磁性鉄電析膜を短時間で製造することが出来
る。また、この発明の軟磁性鉄被覆線の製造方法によれ
ば、保磁力が１０Ｏｅ以下であり且つ平均結晶粒径が５
００Å以下の軟磁性鉄電析膜で被覆した軟磁性鉄被覆線
を短時間で製造することが出来る。
【図１】焼鈍装置を示す簡略構成図である。
【図２】実施例１と比較例１のＢＨ特性図である。
【図３】実施例２と比較例２ａ，２ｂの保磁力Ｈｃ，平
均結晶粒径Ｄ，残留応力σの特性図である。
均結晶粒径Ｄ，残留応力σの特性図である。
【図４】実施例３と比較例３ａ，３ｂの保磁力Ｈｃ，平
均結晶粒径Ｄ，残留応力σの特性図である。
均結晶粒径Ｄ，残留応力σの特性図である。
【図５】実施例４と比較例４ａ，４ｂの保磁力Ｈｃ，平
均結晶粒径Ｄ，残留応力σの特性図である。
均結晶粒径Ｄ，残留応力σの特性図である。
１００ 焼鈍装置 １ 電気炉 ２ 窒素ガス ４ ローラ ８Ａ 鉄被覆銅線 ８Ｂ 軟磁性鉄被覆銅線
Claims (3)
- 【請求項１】 基体に電気メッキにより形成した厚さ２
μｍ以下の鉄電析膜に５００℃以上８００℃以下で１秒
以上１０秒以下の熱処理を施すことを特徴とする軟磁性
鉄電析膜の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の軟磁性鉄電析膜の製造
方法において、前記鉄電析膜に６５０℃以上８００℃以
下で１秒以上１０秒以下の熱処理を施すことを特徴とす
る軟磁性鉄電析膜の製造方法。 - 【請求項３】 導線に電気メッキにより厚さ２μｍ以下
の鉄被覆を施した鉄被覆線を、高温の不活性ガスを充填
した炉中を通過させて、前記鉄被覆の温度が６５０℃以
上８００℃以下で１秒以上１０秒以下の熱処理を施すこ
とを特徴とする軟磁性鉄被覆線の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15940695A JPH093692A (ja) | 1995-06-26 | 1995-06-26 | 軟磁性鉄電析膜の製造方法および軟磁性鉄被覆線の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15940695A JPH093692A (ja) | 1995-06-26 | 1995-06-26 | 軟磁性鉄電析膜の製造方法および軟磁性鉄被覆線の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH093692A true JPH093692A (ja) | 1997-01-07 |
Family
ID=15693075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15940695A Pending JPH093692A (ja) | 1995-06-26 | 1995-06-26 | 軟磁性鉄電析膜の製造方法および軟磁性鉄被覆線の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH093692A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012136754A1 (en) * | 2011-04-07 | 2012-10-11 | Abb Research Ltd | Cable and electromagnetic device comprising the same |
-
1995
- 1995-06-26 JP JP15940695A patent/JPH093692A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012136754A1 (en) * | 2011-04-07 | 2012-10-11 | Abb Research Ltd | Cable and electromagnetic device comprising the same |
| US9013260B2 (en) | 2011-04-07 | 2015-04-21 | Abb Research Ltd. | Cable and electromagnetic device comprising the same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4025379A (en) | Method of making laminated magnetic material | |
| JP4990389B2 (ja) | 分布ギャップ電気チョーク | |
| JPH0734207A (ja) | パルス減衰特性に優れたナノ結晶合金ならびにチョークコイルならびにこれを用いたノイズフィルタおよびその製法 | |
| US4208254A (en) | Method of plating an iron-cobalt alloy on a substrate | |
| TW201817895A (zh) | 軟磁性合金及磁性部件 | |
| CN1100838A (zh) | 用于脉冲变压器的磁芯及其脉冲变压器 | |
| KR20190107476A (ko) | 나노스케일 금속 나노선 및 제조방법 | |
| JPWO2018062409A1 (ja) | 磁心 | |
| JPH02167810A (ja) | ε’炭化鉄からなる磁性超微粒子及びその製造法 | |
| JPH093692A (ja) | 軟磁性鉄電析膜の製造方法および軟磁性鉄被覆線の製造方法 | |
| JPS59179756A (ja) | 電磁気装置用の非晶質合金 | |
| Frindt et al. | Exfoliated MoS2 monolayers as substrates for magnetic materials | |
| JP5112179B2 (ja) | Ｆｅ基非晶質合金及びそれを用いた磁気シート | |
| JP4566667B2 (ja) | めっき液、めっき液を用いた構造体の製造方法、めっき液を用いた装置 | |
| JP2005085967A (ja) | 複合磁性粒子および複合磁性材料 | |
| JP4190973B2 (ja) | 電析法によるコバルト−白金合金磁性膜の製造方法 | |
| US4215158A (en) | Magnetic recording medium and process for producing the same | |
| Uehara | Electrodeposited nickel-iron thin films | |
| US3292164A (en) | Coating product | |
| JP2003288816A (ja) | 超伝導コイルの交流損失を低減する方法 | |
| JP2001052933A (ja) | 磁気コアおよび磁気コアを用いた電流センサ | |
| JP3089428B2 (ja) | 絶縁性高透磁率合金の製造方法 | |
| Yamashiro et al. | Thickness dependence of magnetic properties in rapidly quenched 6.5 percent silicon iron thin ribbons | |
| JP5334118B2 (ja) | Ｆｅ‐Ｐｔ合金めっき方法およびＦｅ‐Ｐｔ合金めっき液 | |
| US5830587A (en) | Magnetic devices with enhanced poles |