JPH093218A - 複合材料の製造方法 - Google Patents

複合材料の製造方法

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JPH093218A
JPH093218A JP15572495A JP15572495A JPH093218A JP H093218 A JPH093218 A JP H093218A JP 15572495 A JP15572495 A JP 15572495A JP 15572495 A JP15572495 A JP 15572495A JP H093218 A JPH093218 A JP H093218A
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JP15572495A
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Akiyoshi Nozue
明義 野末
Kiyotaka Komori
清孝 古森
Hiroki Tamiya
裕記 田宮
Seishiro Yamakawa
清志郎 山河
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0373Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 補強材に、平均粒径1000nm以下の無機
粒子を含ませた後、エポキシ樹脂ワニスを含浸し、次い
で乾燥して得られるプリプレグを成形して製造する複合
材料の製造方法であって、吸湿処理後の絶縁抵抗及び吸
湿処理後の半田耐熱性が優れている複合材料を得ること
のできる方法を提供する。 【構成】 モノフィラメントが集束されてなるストラン
ドからなる補強材に、平均粒径1000nm以下の無機
粒子を前記補強材100重量部に対して1〜30重量部
の割合で含ませ、次いでこの無機粒子を含む補強材にエ
ポキシ樹脂ワニスを含浸、乾燥してプリプレグを得、次
いでこのプリプレグを成形して複合材料を製造する複合
材料の製造方法において、無機粒子を含む補強材をアミ
ノシラン系カップリング剤を含む表面処理剤を使用して
表面処理することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、補強材に樹脂ワニスを
含浸し、次いで乾燥して得られるプリプレグを成形して
製造される複合材料の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電子機器に使用される材料の最近の動向
として、小型化、軽量化と同時に、高速化、高密度化も
実現しようとする試みがある。その目的達成のための一
つの手段として、リードレスチップキャリア(LCC)
の表面実装技術(SMT)が挙げられる。例えばアルミ
ナのLCCをプリント回路基板に直接実装する場合、ア
ルミナとプリント回路基板との熱膨張係数が異なると、
接合部の半田に熱履歴によって亀裂が生じる。そのた
め、直接実装をする場合には、プリント回路基板の熱膨
張係数をLCCの熱膨張係数(アルミナの場合7ppm
/℃)にできるだけ近づけることが望ましい。さらに、
シリコンのベアチップをリードレスで直接実装しようと
する試みもあるが、そのためには、プリント回路基板の
熱膨張係数をシリコンの熱膨張係数(3〜4ppm/
℃)にできるだけ近づけることが望ましい。
【0003】本発明者らは、プリント回路基板の熱膨張
係数を小さくするための手段として、特願平6−108
816号において、モノフィラメントが集束されてなる
ストランドからなる補強材により樹脂が強化されてなる
複合材料であって、ストランドに平均粒径1000nm
以下の無機粒子が補強材100重量部に対して1重量部
以上の割合で含まれている低熱膨張複合材料を提案して
いる。しかし、この複合材料では、PCT処理等の吸湿
処理後に半田試験を行うとふくれが生じる場合があるこ
とが判明した。この理由の一つは、ストランド中に無機
粒子を含ませたことにより、ストランド中に樹脂が侵入
しにくい隙間ができ、ポアが生じるためと考えられる。
そこで、本発明者らは、含浸方法や成形方法を改良する
ことにより、ポアがなく、吸湿処理後の半田耐熱性に優
れた複合材料を製造できることを見出し、特願平7−1
51850号及び特願平7−151869号として新た
な製造方法を提案している。しかし、さらに検討を進め
ると、このような含浸方法や成形方法を改良した場合で
も、無機粒子を含む補強材の表面処理の方法によって
は、得られる複合材料の吸湿処理後の絶縁抵抗や、吸湿
処理後の半田耐熱性に問題が生じる場合があることが明
らかになった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の事情
に鑑みてなされたものであって、その目的とするところ
は、モノフィラメントが集束されてなるストランドから
なる補強材に、平均粒径1000nm以下の無機粒子を
含ませた後、前記補強材にエポキシ樹脂ワニスを含浸
し、次いで乾燥して得られるプリプレグを成形して製造
する複合材料の製造方法であって、吸湿処理後の絶縁抵
抗及び吸湿処理後の半田耐熱性が優れている複合材料を
得ることのできる方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明の複
合材料の製造方法は、モノフィラメントが集束されてな
るストランドからなる補強材に、平均粒径1000nm
以下の無機粒子を前記補強材100重量部に対して1〜
30重量部の割合で含ませ、次いでこの無機粒子を含む
補強材にエポキシ樹脂ワニスを含浸、乾燥してプリプレ
グを得、次いでこのプリプレグを成形して複合材料を製
造する複合材料の製造方法において、無機粒子を含む補
強材をアミノシラン系カップリング剤を含む表面処理剤
を使用して、表面処理することを特徴とする。
【0006】請求項2に係る発明の複合材料の製造方法
は、請求項1記載の製造方法において、アミノシラン系
カップリング剤が下記一般式で表されるカップリング
剤であることを特徴とする。
【0007】 H2 N−C3 6 SiX3 −−− (XはOCH3 、OC2 5 、OC3 7 又はClを表
す。) 請求項3に係る発明の複合材料の製造方法は、請求項1
又は請求項2記載の製造方法において、表面処理剤が、
下記一般式で表されるシラン系化合物をも含有してい
ることを特徴とする。
【0008】 Cn m SiY3 −−− (nは10以下の自然数、mは自然数、YはOCH3
OC2 5 、OC3 7又はClを表す。) 請求項4に係る発明の複合材料の製造方法は、請求項1
から請求項3までの何れかに記載の製造方法において、
前記一般式で表されるシラン系化合物が下記一般式
で表されるフェニルシラン系化合物であることを特徴と
する。
【0009】 C6 5 SiY3 −−− (YはOCH3 、OC2 5 、OC3 7 又はClを表
す。) 請求項5に係る発明の複合材料の製造方法は、請求項4
記載の製造方法において、表面処理剤中のシラン系化合
物全量に対し、アミノシラン系カップリング剤の量が3
0重量%以上であって、前記一般式で表されるフェニ
ルシラン系化合物の量が70重量%以下であることを特
徴とする。
【0010】請求項6に係る発明の複合材料の製造方法
は、請求項1から請求項5までの何れかに記載の製造方
法において、無機粒子を含む補強材の表面処理を、補強
材への表面処理剤の付着量が、表面処理後の無機粒子を
含む補強材100重量部に対し、0.05〜1.0重量
部となるように施すことを特徴とする。
【0011】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おける補強材としては、モノフィラメントが集束されて
なるストランドからなるものが用いられる。モノフィラ
メントとしては、低熱膨張のものが好ましいが、特に限
定はされない。モノフィラメントの素材は、特に限定す
るものではないが、ガラス(例えば、Eガラス、Dガラ
ス、Qガラス、Sガラス、Tガラス等)やアラミド樹脂
の1種又は複数種であることが好ましい。ストランドの
長さについては、長繊維で用いてもよいし、短繊維で用
いてもよい。補強材の形態としては、低熱膨張の観点か
ら、樹脂含有量ができるだけ少なくてすむような形態が
好ましい。このような形態の補強材としては、特に限定
はされないが、マット、シート、クロス(例えば、平
織、ななこ織等の織り方がある)及びこれらの複合物等
の繊維成形体等が例示される。上に挙げた補強材の中で
も、ガラスクロスが特に好ましい。その理由は、クロス
形状は緻密であるため樹脂含有量を低くできることや、
フィラメントの連続性が高いことにより、複合材料の低
熱膨張化に有効だからである。また、ガラスが好ましい
のは、安価で、かつ、安定に長繊維を得ることができる
からである。
【0012】補強材に含ませる平均粒径1000nm以
下の無機粒子は、それ自身、低熱膨張の材料である。そ
の熱膨張係数は、特に限定されるわけではないが、10
ppm/℃以下であることが好ましい。無機粒子の熱膨
張係数が10ppm/℃より大きいと、複合材料の熱膨
張係数がアルミナ(7ppm/℃)やシリコン(3〜4
ppm/℃)に比べて大きくなりすぎるからである。ま
た、平均粒径1000nm以下の無機粒子の量は、無機
粒子を含ませる前の補強材100重量部に対して1〜3
0重量部の範囲内であることが重要である。この量が1
重量部未満であると、熱膨張係数の小さい複合材料が得
られず、また、上記無機粒子の量が無機粒子を含ませる
前の補強材100重量部に対して30重量部を越える
と、複合材料としたときの耐湿性が悪くなりやすいとい
う問題が生じるからである。
【0013】無機粒子として平均粒径1000nm以下
のものを用いる理由は、以下の通りである。ストランド
を構成するモノフィラメントは、通常、数μmの太さで
あるため、モノフィラメント間の隙間はミクロンオーダ
ーになるので、ストランドの内部まで無機粒子を容易に
含ませるためには、その平均粒径が1μm(=1000
nm)以下であることが好ましいからである。さらに、
このように平均粒径の小さい無機粒子は、水等を媒体と
する処理液中で容易に単分散するので好ましい。
【0014】なお、前記無機粒子としては、平均粒径1
〜100nmのコロイド粒子がさらに好ましい。このよ
うな無機粒子は、その粒径がさらに小さいので、より狭
いストランドの隙間にも入っていけるからである。しか
し、コロイド粒子の平均粒径は、小さければ小さいほど
よいわけではなく、1nm未満になると、コロイド粒子
の比表面積が非常に大きくなるため、樹脂との界面制御
が困難になるので、コロイド粒子の平均粒径の下限は1
nmである。
【0015】平均粒径1000nm以下の無機粒子とし
ては、特に限定されるわけではないが、溶融シリカや微
粒子アルミナ等のサブミクロンオーダーの市販粒子等が
好ましい。粒径のさらに小さい前記コロイド粒子として
は、特に限定されるわけではないが、シリカゾル、アル
ミナゾル、チタニアゾル等のゾル、超微粒子シリカ、超
微粒子チタニア等が好ましい。これらのコロイド粒子の
中でもシリカが特に好ましい。その理由は、シリカは、
容易に入手できる粒子の中では、熱膨張係数が低い
(0.55ppm/℃)からである。上述した粒子以外
にも、径の小さいボールを用いれば、ボールミル等の機
械的粉砕によってもサブミクロン粒子やコロイド粒子を
得ることができる。ここで、粉砕する材料は、低熱膨張
材料であることが望まれるので、シリカガラス、Eガラ
ス、Tガラス等のガラス、β−スポジュメンを析出させ
た結晶化ガラス、窒化ほう素、窒化珪素、ムライト、窒
化アルミニウム、コージェライト、チタン酸アルミニウ
ム(Al2 3 ・TiO2 )、β−ユークリプタイト等
の結晶が好ましい。
【0016】ストランドには、低熱膨張化材として平均
粒径1000nm以下の無機粒子のみを含ませるように
してもよいが、この無機粒子に加え、金属アルコキシド
の反応生成物をも低熱膨張化材として含ませることも可
能である。金属アルコキシドは、アルコール等の溶媒に
完全に溶解する。そのため、金属アルコキシドは、上記
無機粒子と同様に、それを含む処理液を補強材に含浸さ
せることにより、ストランドの内部まで容易に入ってい
くことができる性質を有している。なお、金属アルコキ
シドの反応生成物は、一般に連続相である無機膜を形成
するため、本発明における平均粒径1000nm以下の
無機粒子とは異なるものである。この金属アルコキシド
としては、特に限定するものではないが、シリコンアル
コキシド、チタニウムアルコキシド、アルミニウムアル
コキシド、マグネシウムアルコキシド、リチウムアルコ
キシド等が好ましい。その理由は、これらの原料を用い
れば、金属アルコキシドの反応生成物を容易に得ること
ができるからである。これらの、金属アルコキシドの中
でも、シリコンアルコキシドがより好ましい。シリコン
アルコキシドは、上記金属アルコキシドの中では、安価
であり、安定性も高いとともに、その反応生成物である
シリカの熱膨張係数が低い(0.55ppm/℃)から
である。
【0017】補強材で強化される樹脂(樹脂ワニスを構
成する樹脂)としては、エポキシ樹脂を含有するもので
あればよく、エポキシ樹脂の種類や硬化剤の種類等につ
いては特に限定はない。
【0018】本発明における、平均粒径1000nm以
下の無機粒子を補強材に含ませる方法については、特に
限定はされないが、例えば、水、アルコール等の媒体中
に無機粒子を分散させて、処理液を調整し、この処理液
を補強材に含浸した後、乾燥する方法が挙げられる。本
発明では、無機粒子を含む補強材を、アミノシラン系カ
ップリング剤を含む表面処理剤を使用して、表面処理す
る。その方法については、特に限定はされないが、例え
ば、アミノシラン系カップリング剤等のシラン系化合物
を水、アルコール等の媒体中に溶解した溶液を、無機粒
子を含む補強材に含浸した後、熱処理する方法が挙げら
れる。
【0019】本発明における、アミノシラン系カップリ
ング剤としては、下記式(a)、(b)、(c)、
(d)で表されるものが例示されるが、少なくともアミ
ノ基を1つ有するものであればよく、側鎖の数、種類、
アルコキシ基の種類については特に限定はない。
【0020】
【化1】
【0021】本発明では表面処理を施した補強材にエポ
キシ樹脂ワニスを含浸、乾燥してプリプレグを得、次い
で、このプリプレグを成形して複合材料を製造するが、
含浸方法、成形方法、成形条件等については、特に限定
はなく、用途に応じて適宜決定すればよい。ただし、成
形については、吸湿処理後の半田耐熱性を優れたものと
する点から、減圧条件下で成形することが好ましく、減
圧条件を1〜300Torrとして成形することがより
好ましい。
【0022】
【作用】請求項1〜請求項6に係る発明において、無機
粒子を含む補強材をアミノシラン系カップリング剤を含
む表面処理剤を使用して表面処理することは、エポキシ
樹脂との密着性が改善されるためと考えられるが、得ら
れる複合材料の、吸湿処理後の絶縁抵抗及び吸湿処理後
の半田耐熱性を優れたものとする作用がある。
【0023】また、請求項2に係る発明において、アミ
ノシラン系カップリング剤として、前記一般式で表さ
れるカップリング剤を使用することは、得られる複合材
料の、吸湿処理後の絶縁抵抗及び吸湿処理後の半田耐熱
性をより優れたものとする作用がある。
【0024】また、請求項3及び請求項4に係る発明に
おいて、前記一般式で表される炭化水素基を有するシ
ラン系化合物をも含有している表面処理剤を使用するこ
とは、炭化水素基を有するシラン系化合物が吸湿後のプ
ロトン伝導を抑えるためであると考えられるが、得られ
る複合材料の、吸湿処理後の絶縁抵抗及び吸湿処理後の
半田耐熱性をより優れたものとする作用がある。
【0025】また、請求項5に係る発明において、表面
処理剤中のシラン系化合物全量に対し、アミノシラン系
カップリング剤の量が30重量%以上であって、前記一
般式で表されるフェニルシラン系化合物の量が70重
量%以下であるようにすることは、特に、得られる複合
材料の吸湿処理後の絶縁抵抗を良好にする作用がある。
【0026】また、請求項6に係る発明において、無機
粒子を含む補強材の表面処理を、補強材への表面処理剤
の付着量が、表面処理後の無機粒子を含む補強材100
重量部に対し、0.05〜1.0重量部となるように施
すことは、得られる複合材料の、吸湿処理後の絶縁抵抗
及び吸湿処理後の半田耐熱性を確実に優れたものとする
作用がある。
【0027】
【実施例】以下、本発明の実施例と比較例を説明する
が、本発明は下記実施例に限定されない。
【0028】(実施例1)Eガラスの平織クロス(旭シ
ュエーベル社製、品番216AS450、厚み100μ
m、繊維径7μm、打ち込み密度(ストランド本数/2
5mm):縦60本/25mm・横55本/25mm)
を、まずコロイダルシリカ水溶液(日産化学工業社製、
商品名スノーテックスOL、コロイダルシリカの平均粒
径45nm、コロイダルシリカ含有率20重量%)に含
浸した後、3cm/秒の速度で引き上げた。その後、1
50℃で5分間熱処理を行った。このコーティングの作
業を2回繰り返すことにより、コロイダルシリカの付着
量が、コロイダルシリカを含ませる前の補強材100重
量部に対し15重量部である補強材を得た。
【0029】その後、コロイダルシリカを含ませた補強
材を、アミノシラン系カップリング剤であるN−フェニ
ル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学
工業社製、品番KBM573)の濃度1重量%水溶液に
浸漬し、絞りロールを通した後、110℃で5分間熱処
理することにより、補強材への表面処理剤の付着量が、
表面処理後の無機粒子を含む補強材100重量部に対
し、0.52重量部である補強材を得た。
【0030】次に、エポキシ樹脂ワニス(ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂とジシアンジアミド(硬化剤)を主
成分とする組成物)を、前記で得られた表面処理を施し
た補強材に含浸させ、間隔0.2mmのロールで絞った
後、150℃で5分間乾燥してプリプレグを得た。ここ
で樹脂ワニスの含浸は大気圧中で行った。次に、得られ
たプリプレグを10枚重ね、20Torrの減圧条件下
で、170℃、30kg/cm2 の成形条件で90分間
プレス成形して、基板(複合材料)を得た。
【0031】(実施例2)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をアミノシラン系カ
ップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン(信越化学工業社製、品番KBE903)の濃度
0.1重量%水溶液に浸漬し、絞りロールを通した後、
110℃で5分間熱処理することにより、補強材への表
面処理剤の付着量が、表面処理後の無機粒子を含む補強
材100重量部に対し、0.03重量部である表面処理
済の補強材を得るようにした以外は、実施例1と同様の
操作を行って、基板(複合材料)を得た。
【0032】(実施例3)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をアミノシラン系カ
ップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン(信越化学工業社製、品番KBE903)の濃度1
重量%水溶液に浸漬し、絞りロールを通した後、110
℃で5分間熱処理することにより、補強材への表面処理
剤の付着量が、表面処理後の無機粒子を含む補強材10
0重量部に対し、0.51重量部である表面処理済の補
強材を得るようにした以外は、実施例1と同様の操作を
行って、基板(複合材料)を得た。
【0033】(実施例4)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をアミノシラン系カ
ップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン(信越化学工業社製、品番KBE903)の濃度2
重量%水溶液に浸漬し、絞りロールを通した後、110
℃で5分間熱処理することにより、補強材への表面処理
剤の付着量が、表面処理後の無機粒子を含む補強材10
0重量部に対し、0.91重量部である表面処理済の補
強材を得るようにした以外は、実施例1と同様の操作を
行って、基板(複合材料)を得た。
【0034】(実施例5)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をアミノシラン系カ
ップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン(信越化学工業社製、品番KBE903)の濃度7
重量%水溶液に浸漬し、絞りロールを通した後、110
℃で5分間熱処理することにより、補強材への表面処理
剤の付着量が、表面処理後の無機粒子を含む補強材10
0重量部に対し、3.4重量部である表面処理済の補強
材を得るようにした以外は、実施例1と同様の操作を行
って、基板(複合材料)を得た。
【0035】(実施例6)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をアミノシラン系カ
ップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン(信越化学工業社製、品番KBE903)とシラン
系化合物であるメチルトリメトキシシラン(東芝シリコ
ーン社製、品番TSL8123)を重量比で1:1に混
合したものの、濃度2重量%水溶液に浸漬し、絞りロー
ルを通した後、110℃で5分間熱処理することによ
り、補強材への表面処理剤の付着量が、表面処理後の無
機粒子を含む補強材100重量部に対し、0.85重量
部である表面処理済の補強材を得るようにした以外は、
実施例1と同様の操作を行って、基板(複合材料)を得
た。
【0036】(実施例7)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をアミノシラン系カ
ップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン(信越化学工業社製、品番KBE903)とシラン
系化合物であるヘキシルトリメトキシシラン(東芝シリ
コーン社製、品番TSL8241)を重量比で1:1に
混合したものの、濃度2重量%水溶液に浸漬し、絞りロ
ールを通した後、110℃で5分間熱処理することによ
り、補強材への表面処理剤の付着量が、表面処理後の無
機粒子を含む補強材100重量部に対し、0.89重量
部である表面処理済の補強材を得るようにした以外は、
実施例1と同様の操作を行って、基板(複合材料)を得
た。
【0037】(実施例8)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をアミノシラン系カ
ップリング剤であるN−フェニル−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン(信越化学工業社製、品番KBM5
73)とシラン系化合物であるフェニルトリメトキシシ
ラン(東芝シリコーン社製、品番TSL8173)を重
量比で1:1に混合したものの、濃度2重量%水溶液に
浸漬し、絞りロールを通した後、110℃で5分間熱処
理することにより、補強材への表面処理剤の付着量が、
表面処理後の無機粒子を含む補強材100重量部に対
し、0.87重量部である表面処理済の補強材を得るよ
うにした以外は、実施例1と同様の操作を行って、基板
(複合材料)を得た。
【0038】(実施例9)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をアミノシラン系カ
ップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン(信越化学工業社製、品番KBE903)とシラン
系化合物であるフェニルトリメトキシシラン(東芝シリ
コーン社製、品番TSL8173)を重量比で3:1に
混合したものの、濃度2重量%水溶液に浸漬し、絞りロ
ールを通した後、110℃で5分間熱処理することによ
り、補強材への表面処理剤の付着量が、表面処理後の無
機粒子を含む補強材100重量部に対し、0.89重量
部である表面処理済の補強材を得るようにした以外は、
実施例1と同様の操作を行って、基板(複合材料)を得
た。
【0039】(実施例10)コロイダルシリカを含ませ
た補強材の表面処理について、補強材をアミノシラン系
カップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン(信越化学工業社製、品番KBE903)とシラ
ン系化合物であるフェニルトリメトキシシラン(東芝シ
リコーン社製、品番TSL8173)を重量比で1:1
に混合したものの、濃度2重量%水溶液に浸漬し、絞り
ロールを通した後、110℃で5分間熱処理することに
より、補強材への表面処理剤の付着量が、表面処理後の
無機粒子を含む補強材100重量部に対し、0.87重
量部である表面処理済の補強材を得るようにした以外
は、実施例1と同様の操作を行って、基板(複合材料)
を得た。
【0040】(実施例11)コロイダルシリカを含ませ
た補強材の表面処理について、補強材をアミノシラン系
カップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン(信越化学工業社製、品番KBE903)とシラ
ン系化合物であるフェニルトリメトキシシラン(東芝シ
リコーン社製、品番TSL8173)を重量比で1:4
に混合したものの、濃度2重量%水溶液に浸漬し、絞り
ロールを通した後、110℃で5分間熱処理することに
より、補強材への表面処理剤の付着量が、表面処理後の
無機粒子を含む補強材100重量部に対し、0.83重
量部である表面処理済の補強材を得るようにした以外
は、実施例1と同様の操作を行って、基板(複合材料)
を得た。
【0041】(比較例1)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理を行わないようにした以外は、実施例
1と同様の操作を行って、基板(複合材料)を得た。
【0042】(比較例2)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をγ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、品番
KBM403)の、濃度1重量%水溶液に浸漬し、絞り
ロールを通した後、110℃で5分間熱処理することに
より、補強材への表面処理剤の付着量が、表面処理後の
無機粒子を含む補強材100重量部に対し、0.91重
量部である表面処理済の補強材を得るようにした以外
は、実施例1と同様の操作を行って、基板(複合材料)
を得た。
【0043】(比較例3)コロイダルシリカを含ませた
補強材の表面処理について、補強材をシラン系化合物で
あるフェニルトリメトキシシラン(東芝シリコーン社
製、品番TSL8173)の、濃度1重量%水溶液に浸
漬し、絞りロールを通した後、110℃で5分間熱処理
することにより、補強材への表面処理剤の付着量が、表
面処理後の無機粒子を含む補強材100重量部に対し、
0.49重量部である表面処理済の補強材を得るように
した以外は、実施例1と同様の操作を行って、基板(複
合材料)を得た。
【0044】なお、上記の各実施例及び各比較例におけ
る、補強材への表面処理剤の付着量の測定は次のように
して行った。まず、表面処理後の無機粒子を含む補強材
を90℃、1時間乾燥して水分を除去する。次いで、こ
の水分を除去した補強材の重量を測定した後、この補強
材を300℃で2時間、加熱処理して、再度その重量を
測定し、300℃、2時間の加熱処理により減少した重
量を算出する。この加熱処理により減少した重量をシラ
ン系化合物のSi以外の成分の重量と見なし、この重量
と、原料として用いたアミノシラン系カップリング剤や
シラン系化合物の構造式とに基づいて、表面処理剤(ア
ミノシラン系カップリング剤やシラン系化合物)の付着
量を算出することにより、補強材への表面処理剤の付着
量求めた。
【0045】また、各実施例及び各比較例で得られた基
板について、吸湿処理後の絶縁抵抗試験及び吸湿処理後
の半田耐熱試験を下記のようにして行い、その結果を表
1に示した。吸湿処理後の絶縁抵抗については、JIS
C6481に準じて、100℃の沸騰水中で2時間浸
漬した後の絶縁抵抗を測定した。吸湿処理後の半田耐熱
については、試料を135℃の飽和水蒸気中に2時間さ
らした(PCT処理)後、直ちに260℃の半田浴中に
60秒間浸漬し、ふくれが生じるかどうかを調べた。試
料5個についてこの試験を行い、5個全てにふくれが生
じなかった場合には○、5個全てにふくれが発生した場
合は×、5個中にふくれが生じたものとふくれが生じな
かったものとが混在する場合は△として表1に示した。
【0046】
【表1】
【0047】表1の結果から、本発明の実施例では、比
較例に比べ吸湿処理後の絶縁抵抗及び吸湿処理後の半田
耐熱性の優れた基板が得られていることが確認できた。
【0048】
【発明の効果】請求項1〜請求項6に係る発明では、無
機粒子を含む補強材をアミノシラン系カップリング剤を
含む表面処理剤を使用して表面処理するので、請求項1
〜請求項6に係る発明によれば、吸湿処理後の絶縁抵抗
及び吸湿処理後の半田耐熱性が優れる複合材料が得られ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山河 清志郎 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 モノフィラメントが集束されてなるスト
    ランドからなる補強材に、平均粒径1000nm以下の
    無機粒子を前記補強材100重量部に対して1〜30重
    量部の割合で含ませ、次いでこの無機粒子を含む補強材
    にエポキシ樹脂ワニスを含浸、乾燥してプリプレグを
    得、次いでこのプリプレグを成形して複合材料を製造す
    る複合材料の製造方法において、無機粒子を含む補強材
    をアミノシラン系カップリング剤を含む表面処理剤を使
    用して、表面処理することを特徴とする複合材料の製造
    方法。
  2. 【請求項2】 アミノシラン系カップリング剤が下記一
    般式で表されるカップリング剤であることを特徴とす
    る請求項1記載の複合材料の製造方法。 H2 N−C3 6 SiX3 −−− (XはOCH3 、OC2 5 、OC3 7 又はClを表
    す。)
  3. 【請求項3】 前記表面処理剤が、下記一般式で表さ
    れるシラン系化合物をも含有していることを特徴とする
    請求項1又は請求項2記載の複合材料の製造方法。 Cn m SiY3 −−− (nは10以下の自然数、mは自然数、YはOCH3
    OC2 5 、OC3 7又はClを表す。)
  4. 【請求項4】 前記一般式で表されるシラン系化合物
    が下記一般式で表されるフェニルシラン系化合物であ
    ることを特徴とする請求項1から請求項3までの何れか
    に記載の複合材料の製造方法。 C6 5 SiY3 −−− (YはOCH3 、OC2 5 、OC3 7 又はClを表
    す。)
  5. 【請求項5】 表面処理剤中のシラン系化合物全量に対
    し、アミノシラン系カップリング剤の量が30重量%以
    上であって、前記一般式で表されるフェニルシラン系
    化合物の量が70重量%以下であることを特徴とする請
    求項4記載の複合材料の製造方法。
  6. 【請求項6】 無機粒子を含む補強材の表面処理を、補
    強材への表面処理剤の付着量が、表面処理後の無機粒子
    を含む補強材100重量部に対し、0.05〜1.0重
    量部となるように施すことを特徴とする請求項1から請
    求項5までの何れかに記載の複合材料の製造方法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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