JPH09315813A - シリカ微小球状粒子とその製造方法 - Google Patents

シリカ微小球状粒子とその製造方法

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JPH09315813A
JPH09315813A JP8354101A JP35410196A JPH09315813A JP H09315813 A JPH09315813 A JP H09315813A JP 8354101 A JP8354101 A JP 8354101A JP 35410196 A JP35410196 A JP 35410196A JP H09315813 A JPH09315813 A JP H09315813A
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silica
particles
average particle
particle diameter
sol
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Yusaku Arima
悠策 有馬
Koichi Ohama
孝一 大浜
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JGC Catalysts and Chemicals Ltd
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Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 リンやホウ素を含むことがなく、また高温度
で焼成することなく、比表面積が小さく、細孔容積が小
さく、嵩比重が高いシリカ微小球状粒子を製造する新規
な方法の提供。 【解決手段】 下記(a)(b)(c)の少なくとも3
種のシリカゾルを混合し、得られた混合物を噴霧乾燥す
ることを特徴とするシリカ微小球状粒子の製造方法およ
び該製造方法により得られたシリカ微小球状粒子。 (a)シリカコロイド粒子の平均粒子径(Da)が10
nmより小さい範囲にあるシリカゾル、(b)シリカコ
ロイド粒子の平均粒子径(Db)が10nm以上である
シリカゾルおよび(c)シリカコロイド粒子の平均粒子
径(Dc)が(Dc)/(Db)の粒子径比で2〜20
の範囲にあるシリカゾル。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はシリカ微小球状粒子
の製造方法に関し、更に詳しくは、嵩比重が高く、細孔
容積の小さい触媒、触媒担体、希釈剤および熱媒体など
としての用途に適したシリカ微小球状粒子の製造方法に
関する。
【0002】
【従来技術】シリカ微粒子を触媒、触媒担体、希釈剤な
どの用途として用いる場合、通常、形状、粒子径、比表
面積、細孔容積、平均細孔径、強度などの性状を厳密に
制御することが要求される。そのためこのような用途に
用いられるシリカ微粒子の製造方法については、種々の
提案がされている。
【0003】シリカゾルを出発原料として使用したシリ
カ微粒子の製造方法としては、例えば、特開平3−17
0318号公報にはシリカゾルに酸とアルカリを添加し
た後、pH9.0以上で熟成して嵩比重が0.3〜0.
4g/mlで細孔容積が1.0ml/g以上のシリカ粉
末を得る方法が開示されているが、この方法は大きい細
孔容積の担体を得る方法である。
【0004】一方、嵩比重の大きなシリカ微粒子を得る
方法としては、特開平7−138015号公報記載の発
明があり、そこには、シリカヒドロゾルとシリカヒドロ
ゲルにリンまたはホウ素を混合し、得られた混合物を、
噴霧乾燥した後、500℃以上の温度で焼成することに
より比表面積が50m2/g以下、細孔容積が0.3m
l/g以下、嵩比重が、0.6〜1.3g/mlの性状
を有するシリカ微小球状粒子を得る方法が記載されてい
る。しかしながら、この方法ではリンまたはホウ素を加
えないと目的の性状が得られないし、これにより得られ
る粒子はリンまたはホウ素を含むため用途が非常に制限
される。
【0005】また、特開平7−257919号公報に
は、シリカゾルに硝酸を添加し、さらにシリカヒドロゲ
ルと硝酸アンモニウムを加えた懸濁液を噴霧乾燥して球
状の粒子を得、次いでこれを250℃で3時間加熱処理
した後、さらに400℃で2時間仮焼成し、最後に11
00℃で4時間焼成して、比表面積が56m2/g、嵩
比重が0.90g/ml、平均粒径が43μmの球状シ
リカ粒子を得る方法が開示されてる。しかしながら、こ
の方法では、シリカヒドロゲルを原料に用いているため
噴霧乾燥して得られた粒子を1000℃以下の温度で焼
成しても、粒子は非常に軽質であり、1000℃以上の
高温で焼成することにより、はじめて重質の粒子が得ら
れる。1000℃以上の高温で焼成するため粒子の大き
な収縮が生じるが、均一に収縮させることが困難である
ため粒子に亀裂が生じやすく、強度(Attritio
n Resistance)が低下する傾向がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、リン
やホウ素を含むことがなく、また高温度で焼成すること
なく、比表面積が小さく、細孔容積が小さく、嵩比重が
高いシリカ微小球状粒子を製造する新規な方法を提供す
る点にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、下記
(a)(b)(c)の少なくとも3種のシリカゾルを混
合し、得られた混合物を噴霧乾燥することを特徴とする
シリカ微小球状粒子の製造方法に関する。 (a)シリカコロイド粒子の平均粒子径(Da)が10
nmより小さい範囲にあるシリカゾル、(b)シリカコ
ロイド粒子の平均粒子径(Db)が10nm以上である
シリカゾルおよび(c)シリカコロイド粒子の平均粒子
径(Dc)が(Dc)/(Db)の粒子径比で2〜20
の範囲にあるシリカゾル。
【0008】本発明では、シリカコロイド粒子の平均粒
子径が異なる少なくとも前記(a)、(b)、(c)で
規定される3種のシリカゾルが使用され、該平均粒子径
は前述の範囲にあることが必要である。シリカコロイド
粒子の平均粒子径が前述の範囲から外れたシリカゾルを
混合したものでは所望の性状を有するシリカ微小球状粒
子が得られない。
【0009】本発明における前記(a)のシリカコロイ
ド粒子の平均粒子径(Da)が10nmより小さい範囲
にあるシリカゾルは、通常の市販のゾルまたは水ガラス
を硫酸などの鉱酸で中和して得られるゾルあるいは水ガ
ラスをイオン交換樹脂で処理して得られるゾル(珪酸
液)などが使用可能である。前記(a)のシリカゾルの
シリカコロイド粒子の平均粒子径(Da)は、好ましく
は1〜10nm、更に好ましくは1〜5nmの範囲が望
ましい。
【0010】また、前記(b)、(c)のシリカゾル
は、シリカコロイド粒子の平均粒子径が所望の範囲にあ
る市販のゾルが使用可能である。前記(b)の平均粒子
径(Db)は、好ましくは10〜100nm、更に好ま
しくは15〜80nmの範囲であり、前記(c)の平均
粒子径(Dc)は、(Dc)/(Db)の粒子径比が2
〜20の範囲であり、好ましくは3〜15nm、更に好
ましくは4〜8nmの範囲である。
【0011】各シリカゾルのシリカコロイド粒子の平均
粒子径が前述の範囲より外れると、所望の性状のシリカ
微小球状粒子は得られない。前記(b)、(c)のシリ
カゾルについては各ゾルのコロイド粒子の間に前述の関
係が必要である。例えば、前記(b)のゾルのシリカコ
ロイド粒子の平均粒子径(Db)が15nmであり、前
記(c)のゾルのシリカコロイド粒子の平均粒子径(D
c)が20nmの場合は前記(b)と(c)のコロイド
粒子の大きさの違いが小さいため、前記(a)と前記
(b)のみを混合したのと実質的に変わりがなく、この
場合は球形状の粒子が得られにくく、嵩比重が低く、強
度の弱い粒子しか得られない。逆に、前記(b)のゾル
のシリカコロイド粒子の平均粒子径(Db)が15nm
であり、前記(c)のゾルのシリカコロイド粒子の平均
粒子径(Dc)が300nm以上の場合は球形状の粒子
は得られるが、前記(b)のシリカコロイド粒子が前記
(c)のシリカコロイド粒子の空隙を埋め尽くすにいた
らず細孔容積が大きくて強度が弱く、嵩比重の小さい粒
子しか得られない。また、前記(a)のシリカゾルのシ
リカコロイド粒子の平均粒子径(Da)はとくにシリカ
微小球状粒子の強度に影響し、平均粒子径(Da)が1
0nmを越えると球形粒子は得られやすくなるが、得ら
れた微小球状粒子の強度が弱くなるという欠点をもつ。
【0012】(a)、(b)、(c)のシリカゾルの混
合順序は任意に行うことができる。
【0013】得られたシリカ微小球状粒子がアルカリの
含有を望まない場合は、必要に応じて原料シリカゾルを
陽イオン交換樹脂で処理してアルカリを予め除去する
か、噴霧乾燥して得られた粒子を洗浄するとよい。
【0014】前述のシリカゾルの混合割合は、SiO2
として (a) 10〜40 wt%とくに20〜35 wt% (b) 20〜50 wt%とくに30〜40 wt% (c) 10〜60 wt%とくに20〜55 wt% の範囲にあることが好ましい。各シリカゾルの混合割合
が前述の範囲外では、得られたシリカ微小球状粒子の形
状、粒子径、比表面積、細孔容積、平均細孔径、強度な
どの性状のすべてを満足させることが困難になることが
ある。
【0015】本発明では、(a)、(b)、(c)の少
なくとも3種のシリカゾルが使用されるが、例えば、
(c)のシリカゾルとして、シリカコロイド粒子の平均
粒子径(Dc)が前記粒子径比〔(Dc)/(Db)〕
の範囲内であれば該平均粒子径の異なる2種類のシリカ
ゾルを用いてもよい。その場合も混合割合は、2種の合
計が10〜60wt%の範囲にあることが好ましい。
【0016】本発明では、前述の(a)、(b)、
(c)の混合物を噴霧乾燥するには通常の方法が採用で
き、また得られた球状粒子は通常の方法で焼成できる。
【0017】本発明の第二は、下記の性状を有するシリ
カ微小球状粒子に関する。 嵩比重(CBD);0.80〜1.20g/ml、好
ましくは0.85〜1.15g/ml、 比表面積(SA);100m2/g以下、好ましくは
1〜80m2/g、 細孔容積(PV);0.30ml/g以下、好ましく
は0〜0.20ml/g、 平均粒子径(Av.Size);20〜200μm、
好ましくは40〜100μm、 耐摩耗性(Att.Res.);5.0wt%/15
hr以下、好ましくは0〜3.0wt%/15hr。
【0018】該シリカ微小球状粒子の性状が、前述の範
囲外の場合には、触媒、触媒担体、希釈剤などの用途と
して使用できないことがあるので好ましくない。本発明
の前述の性状を有するシリカ微小球状粒子は、第一の発
明により製造されるが、該製造方法に限定されるもので
はない。
【0019】本発明の第一によれば、400℃以上、1
000℃未満、好ましくは500℃〜700℃の低い温
度で1〜5時間の焼成をすることにより嵩比重が高く、
比表面積が小さく、細孔容積が小さいシリカ微小球状粒
子を得ているので、高温焼成により粒子に亀裂が入ら
ず、そのため粒子の耐摩耗性が優れているという特徴を
有するものである。本発明の方法が前述の性状を有する
シリカ微小球状粒子を得るのに高温度焼成を必要としな
い理由は、粒径の小さなコロイド粒子が粒径の大きなコ
ロイド粒子の隙間に配合され、密に充填されるため、細
孔容積が小さく、重質で硬い粒子が生成すると推定さ
れ、また比較的低い温度で粒径の小さいコロイド状シリ
カが容易に溶融してガラス化するためと推定される。
【0020】前述の(a)、(b)、(c)の各々のシ
リカゾルを単独で噴霧乾燥、1000℃以下の焼成によ
り得られるシリカ微粒子は、所望の性状のものが得られ
ず、(a)のシリカゾル単独の場合および(b)のシリ
カゾル単独の場合は、粒子形状が悪く球形状の物は得ら
れず、また嵩比重が低く、耐摩耗性が悪い。(c)のシ
リカゾル単独の場合は、球形状の物は得られるが嵩比重
が低く、強度が弱くなる。(a)のシリカゾルと(b)
のシリカゾルを混合した場合は、球形状の粒子が得難
く、嵩比重が低く、強度が弱くなる。(a)のシリカゾ
ルまたは(b)のシリカゾルと(c)のシリカゾルを混
合した場合は、球形状の粒子は得られるが嵩比重が低
く、強度が弱くなる。いずれにしろ、前述の(a)、
(b)、(c)のシリカゾルのうち1種でも欠いたシリ
カゾルの混合物を噴霧乾燥した場合には、前述のような
所望の性状を有するシリカ微小球状粒子が得られない。
【0021】本発明の方法で得られるシリカ微小球状粒
子は、前述の特定の性状を有するので特に流動床用の触
媒担体や希釈剤として好適である。
【0022】
【実施例】以下に実施例を示し、本発明を説明するが、
本発明はこれにより限定されるものではない。
【0023】実施例1 平均粒子径(Da)が4nmのシリカコロイド粒子が分
散したシリカゾル(濃度11%)1800gと、平均粒
子径(Db)が20nmのシリカコロイド粒子が分散し
たシリカゾル(濃度20%)2500gおよび平均粒子
径(Dc)が80nmのシリカコロイド粒子〔(Dc)
/(Db)が4に相当する〕が分散したシリカゾル(濃
度40%)750gの3種のシリカゾルをよく混合し
た。得られた混合物スラリーをスプレードライヤーの入
り口温度を250℃、出口温度を130℃にして噴霧乾
燥した。得られた微小球状粒子を洗浄した後、110℃
で乾燥し、次いで、600℃で2時間焼成して表1に示
す性状を有するシリカ微小球状粒子を得た。なお、性状
の測定はつぎの方法でおこなった。
【0024】測定法 嵩比重(CBD);100mlのメスシリンダーに約1
00mlの触媒を入れ、自動震盪機で30分震盪してよ
く詰まらせた後に、その体積と重量より求めた。 比表面積(SA);BET法による測定 細孔容積(PV);窒素ガス吸着法による測定 平均粒子径(Av.Size);マイクロメッシュシー
ブによる測定 耐摩耗性(Att.Res.);英国特許737429号
記載の方法による測定
【0025】比較例1 平均粒子径が4nmのシリカコロイド粒子が分散したシ
リカゾル(濃度11%)3600gと平均粒子径が80
nmのシリカコロイド粒子が分散したシリカゾル(濃度
40%)1500gとの2種のシリカゾルを混合した以
外は、実施例1と同様にしてシリカ微小球状粒子を得
た。その性状を表1に示す。
【0026】
【表1】 注)※1 顕微鏡観察 ○・・・良好 △・・・やや良好 ×・・・悪い
【0027】実施例2 平均粒子径(Da)が4nmのシリカコロイド粒子が分
散したシリカゾル(濃度11%)3600gと、平均粒
子径(Db)が17nmのシリカコロイド粒子が分散し
たシリカゾル(濃度30%)1250gおよび平均粒子
径(Dc)が80nmのシリカコロイド粒子〔(Dc)
/(Db)が4.7に相当する〕が分散したシリカゾル
(濃度40%)500gとを混合した以外は、実施例1
と同様にしてシリカ微小球状粒子を得た。その性状を表
3に示す。
【0028】実施例3〜7 実施例2の各々の平均粒子径を有するコロイド粒子が分
散したシリカゾルを表2に示す混合割合で混合して、実
施例2と同様にしてシリカ微小球状粒子を得た。その性
状を表3に示す。
【0029】比較例2〜4 実施例2の各々の平均粒子径を有するコロイド粒子が分
散したシリカゾルを単独で用いて噴霧乾燥し、得られた
微小球状粒子を洗浄した後、110℃で乾燥し、次い
で、600℃で2時間焼成した。シリカ微小球状粒子の
性状を表3に示す。
【0030】
【表2】
【0031】
【表3】 注)※1 顕微鏡観察 ○・・・良好 ×・・・悪い
【0032】実施例8〜12および比較例5〜8 表4〜5に示す平均粒子径を有する各々のシリカゾルを
表4〜5に示す混合割合で混合し実施例1と同様にし
て、シリカ微小球状粒子を調製した。夫々の性状を表6
〜7に示す。表6〜7から分かるように本発明の方法で
得られるシリカ微小球状粒子は、形状が良くて、嵩比重
が高く、比表面積、細孔容積が小さく、耐摩耗性に優れ
ている。
【0033】
【表4】
【0034】
【表5】
【0035】
【表6】
【0036】
【表7】 * : 形状以外の個所の ○、× は、 請求項の要件を満たすものは ………… ○ 請求項の要件を満たさないものは …… × と表示した。
【0037】本発明の実施態様を以下に列挙する。 (1) 下記(a)(b)(c)の少なくとも3種のシ
リカゾルを混合し、得られた混合物を噴霧乾燥すること
を特徴とするシリカ微小球状粒子の製造方法。(a)シ
リカコロイド粒子の平均粒子径(Da)が10nmより
小さい範囲にあるシリカゾル、(b)シリカコロイド粒
子の平均粒子径(Db)が10nm以上であるシリカゾ
ルおよび(c)シリカコロイド粒子の平均粒子径(D
c)が(Dc)/(Db)の粒子径比で2〜20の範囲
にあるシリカゾル。 (2) 前記シリカゾルの混合割合がSiO2として (a)10〜40wt% (b)20〜50wt% (c)10〜60wt% の範囲である前項(1)記載のシリカ微小球状粒子の製
造方法。 (3) (a)シリカコロイド粒子の平均粒子径(D
a)が10nmより小さい範囲にあるシリカゾル、
(b)シリカコロイド粒子の平均粒子径(Db)が10
nm以上であるシリカゾルおよび(c)シリカコロイド
粒子の平均粒子径(Dc)が(Dc)/(Db)の粒子
径比で2〜20の範囲にあるシリカゾル、以上少なくと
も3種のシリカゾルを混合し、得られた混合物を噴霧乾
燥し、ついで400℃以上1000℃未満の温度で焼成
することを特徴とするシリカ微小球状粒子の製造方法。 (4) 前記焼成温度が、500〜700℃である前項
(3)記載のシリカ微小球状粒子の製造方法。 (5) 下記の性状を有することを特徴とするシリカ微
小球状粒子。 嵩比重(CBD);0.80〜1.20g/ml、 比表面積(SA);100m2/g以下、 細孔容積(PV);0.30ml/g以下、 平均粒子径(Av.Size);20〜200μm、 耐摩耗性(Att.Res.);5.0wt%/15
hr以下。 (6) 下記の性状を有することを特徴とするシリカ微
小球状粒子。 嵩比重(CBD);0.85〜1.15g/ml、 比表面積(SA);1〜80m2/g、 細孔容積(PV);0〜0.20ml/g、 平均粒子径(Av.Size);40〜100μm、 耐摩耗性(Att.Res.);0〜3.0wt%/
15hr。
【0038】
【効果】本発明により、リンやホウ素を含むことなく、
嵩比重が高く、細孔容積が小さく、形状が球形で、かつ
耐摩耗性の高いシリカ微小球状粒子を提供することがで
きた。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記(a)(b)(c)の少なくとも3
    種のシリカゾルを混合し、得られた混合物を噴霧乾燥す
    ることを特徴とするシリカ微小球状粒子の製造方法。 (a)シリカコロイド粒子の平均粒子径(Da)が10
    nmより小さい範囲にあるシリカゾル、(b)シリカコ
    ロイド粒子の平均粒子径(Db)が10nm以上である
    シリカゾルおよび(c)シリカコロイド粒子の平均粒子
    径(Dc)が(Dc)/(Db)の粒子径比で2〜20
    の範囲にあるシリカゾル。
  2. 【請求項2】 前記シリカゾルの混合割合がSiO2
    して (a) 10〜40 wt% (b) 20〜50 wt% (c) 10〜60 wt% の範囲である請求項1記載のシリカ微小球状粒子の製造
    方法。
  3. 【請求項3】 下記の性状を有することを特徴とするシ
    リカ微小球状粒子。 嵩比重(CBD);0.80〜1.20g/ml、 比表面積(SA);100m2/g以下、 細孔容積(PV);0.30ml/g以下、 平均粒子径(Av.Size);20〜200μm、 耐摩耗性(Att.Res.);5.0wt%/15
    hr以下。
  4. 【請求項4】 下記の性状を有することを特徴とするシ
    リカ微小球状粒子。 嵩比重(CBD);0.85〜1.15g/ml、 比表面積(SA);1〜80m2/g、 細孔容積(PV);0〜0.20ml/g、 平均粒子径(Av.Size);40〜100μm、 耐摩耗性(Att.Res.);0〜3.0wt%/
    15hr。
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